JP2017190267A - Alumina particle material and production method of the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of an alumina particle material, with which a particle material can be phase-transferred to an α-phase while suppressing change of the shape.SOLUTION: A method to α-convert a particle material while mostly maintaining sphericity is disclosed. The method is completed by finding that when the speed of advance of α-conversion is equal to or larger than a specified value, the particle material is deformed and sphericity is deteriorated. For suppressing advance of α-conversion, (i) a method to lower heating temperature, and (ii) a method to use a silicon-containing compound which reduces the speed of advance of α-conversion are found to be effective. In the method to lower heating temperature (i), as it has been made apparent that α-conversion does not advance in a state of a low content of the α-phase by simply lowering the temperature, temperature is lowered after a portion of the particle material has been α-converted initially, and thereby α-conversion has advanced slowly thereafter. In the method (ii), the speed of advance of α-conversion can be suitably controlled by suitably controlling the content of the silicon-containing compound.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、真球性の高いアルミナ粒子材料及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a highly spherical alumina particle material and a method for producing the same.

半導体の封止材などの実装材料としては樹脂中にフィラーを分散させた樹脂組成物が汎用されている。フィラーを分散させることにより実装材料の物理的特性が向上する。   As a mounting material such as a semiconductor sealing material, a resin composition in which a filler is dispersed in a resin is widely used. Dispersing the filler improves the physical properties of the mounting material.

フィラーの形態としては真球に近い方が、流動性、充填性、摩耗性等の観点から好ましいことが知られている(従来のαアルミナの例として図3:スミコランダムAA3、住友化学工業株式会社製)。フィラーとしてはシリカやアルミナが汎用されるが、特にアルミナが熱伝導性に優れるという利点がある(特許文献1など)。   It is known that the shape of the filler is preferably closer to a true sphere from the viewpoint of fluidity, filling properties, wearability, etc. (As an example of conventional α-alumina, FIG. 3: Sumiko Random AA3, Sumitomo Chemical Co., Ltd. Company-made). Silica and alumina are commonly used as the filler, but alumina has an advantage that it has excellent thermal conductivity (Patent Document 1, etc.).

特開2001-019425号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-019425 特開2016-028993号公報JP2016-028993

ところで、アルミナの結晶構造としてはα相の熱伝導性が高いが、α相アルミナからなる真球状の粒子材料を製造することは困難である(特許文献2など)。真球のアルミナを製造するにはVMC法(爆燃法)による方法があるが、VMC法では非晶質のアルミナが形成されるため、α相への相転移を行う必要がある。α相に相転移させるためにはある温度以上に加熱する必要があるが、その相転移に伴って粒子材料の形状が変化して真球形状を保つことができなかったり、粒子材料間で融着したりする問題があった(代表的な例として図1)。特に粒径が小さい場合にはα化した後に真球度を向上することは不可能であった。   By the way, although the thermal conductivity of the α phase is high as the crystal structure of alumina, it is difficult to produce a true spherical particle material made of α phase alumina (Patent Document 2, etc.). There is a VMC method (deflagration method) for producing true spherical alumina. However, since the amorphous alumina is formed in the VMC method, it is necessary to perform a phase transition to the α phase. In order to make the phase transition to the α phase, it is necessary to heat it above a certain temperature. However, the shape of the particle material changes with the phase transition, so that the true spherical shape cannot be maintained or the particle material cannot be fused. There was a problem of wearing (as a typical example, FIG. 1). In particular, when the particle diameter is small, it was impossible to improve the sphericity after the formation of α.

本発明は上記実情に鑑み完成したものであり、形状の変化を抑制しながら粒子材料をα相に相転移できるアルミナ粒子材料の製造方法及び真球度とα化度が高いアルミナ粒子材料を提供することを解決すべき課題とする。   The present invention has been completed in view of the above circumstances, and provides an alumina particle material manufacturing method capable of phase transition of the particle material to an α phase while suppressing a change in shape, and an alumina particle material having a high sphericity and α conversion. It is a problem to be solved.

上記課題を解決する本発明のアルミナ粒子材料の製造方法は真球度が0.9以上であるアルミナ粒子材料を真球度を概ね保ったままα化する方法である(代表的な例として図2)。α化の進行速度が一定以上であると、粒子材料が変形し真球度が低下するとの知見に基づき完成したものである。   The method for producing an alumina particle material of the present invention that solves the above-mentioned problems is a method of aluminizing an alumina particle material having a sphericity of 0.9 or more while maintaining the sphericity substantially (as a representative example, FIG. 2). It was completed based on the knowledge that the particle material is deformed and the sphericity is lowered when the progress of the pregelatinization is above a certain level.

α化の進行速度を抑制する方法として(i)加熱温度を低くする方法と(ii)α化速度を低下する元素であるケイ素を含む化合物であるケイ素含有化合物を用いる方法とを見出した。   As a method for suppressing the progress rate of pregelatinization, (i) a method for lowering the heating temperature and (ii) a method using a silicon-containing compound, which is a compound containing silicon, which is an element that decreases the pregelatinization rate, were found.

(i)の加熱温度を低くする方法では単純に温度を低下させるとα相の割合が低い状態ではα化が進行しないことが明らかになったため最初に粒子材料の一部をα化した後に温度を低下させることによりその後のα化の進行をゆっくり行うことが可能になった。α化の進行は最初はゆっくり進むことを明らかにしており、α化が低い状態で中断することが可能であるが、そのままの条件で加熱を続けると一気にα化が進行してしまうことが分かったためα化の割合が低い状態でα化の進行を中断した後、それより低い温度にて加熱することでその後のα化の速度を制御可能な程度にまで低下することに成功した。中断後の温度としてはα相が存在しない場合では殆どα化が進行しない温度であったとしても、一度生成したα相を種としてα化が進行できる。   In the method of lowering the heating temperature of (i), it has been clarified that if the temperature is simply lowered, α-ization does not proceed in a state where the α phase ratio is low. It became possible to carry out the progress of the subsequent alpha-gradation slowly by reducing. It has been clarified that the progress of alpha conversion is slow at the beginning, and it is possible to interrupt the alpha production in a low state, but it is understood that if the heating is continued as it is, the alpha production will progress at once. Therefore, after the progress of the α-ization was interrupted at a low rate of α-ization, the subsequent α-ization rate was successfully reduced to a controllable level by heating at a lower temperature. As the temperature after the interruption, even if the α phase does not exist, the α formation can proceed using the α phase once generated as a seed, even if the α formation hardly proceeds.

(ii)の方法ではケイ素含有化合物の含有量を適正に制御することによりα化の進行速度を適正に制御することが可能になった。また、ケイ素含有化合物に加えて特定の窒素化合物を共存させることによりα化の進行速度を向上できるため、α化の進行を適正に制御することが可能である。
(1)本発明のアルミナ粒子材料の製造方法は特に上記(i)知見に基づき完成したものである。すなわち、本発明のアルミナ粒子材料の製造方法は、真球度が0.9以上でアルミナを主成分とする粒子材料と、1200℃超の温度でα相が10%以上40%以下になるまで加熱する前処理工程と、前記前処理工程での加熱温度より低く且つ1225℃未満1150℃超の温度で加熱して真球度が0.9以上のα化アルミナ粒子材料にするα化工程とを有する。
In the method (ii), it is possible to appropriately control the progress rate of pregelatinization by appropriately controlling the content of the silicon-containing compound. Moreover, since the progress rate of the α-ization can be improved by coexisting a specific nitrogen compound in addition to the silicon-containing compound, the progress of the α-ization can be appropriately controlled.
(1) The method for producing an alumina particle material of the present invention has been completed based on the above (i) knowledge. That is, the method for producing an alumina particle material according to the present invention includes a particle material whose sphericity is 0.9 or more and whose main component is alumina, and the α phase is 10% or more and 40% or less at a temperature exceeding 1200 ° C. A pretreatment step of heating, and an αization step of heating to a temperature lower than 1225 ° C. and higher than 1150 ° C. to obtain a pregelatinized alumina particle material having a sphericity of 0.9 or more. Have

前処理工程として1200℃以上の高温で加熱することにより速やかにアルミナ粒子材料のα化が進行する。ここで、前処理工程の終了条件として粒子材料の少しがα相になることを規定する。α化は初期段階では容易に停止できるからである。その後、α化工程として前処理工程よりも低い温度で加熱することでα化を更に進行させる。低い温度でもα化が進行するのは前処理工程で生成したα相が起点となって更なるα化が進行するからである。
(2)ここで(1)において前記前処理工程は1220℃以上の温度で加熱する工程であることが好ましい。この温度範囲にすることによりα相の生成が制御可能な範囲で確実に進行できる。
(3)先述の(1)及び/又は(2)において前記α化工程はα化率90%以下で終えることが好ましい。α化の進行をこの範囲にすることで粒子材料の変形が抑制できる。
(4)本発明のアルミナ粒子材料の製造方法は上記(ii)の知見に基づくものである。すなわち、本発明のアルミナ粒子材料の製造方法は、真球度が0.9以上でアルミナを主成分とする粒子材料と、前記粒子材料の表面積を基準として、6.4μmol/m未満0μmol/m超のケイ素原子を有するケイ素含有化合物とを混合して混合物とする混合工程と、前記混合物を1200℃超1325℃以下で加熱して真球度が0.9以上のα化アルミナ粒子材料にする第2α化工程とを有する。
By preheating at a high temperature of 1200 ° C. or more as a pretreatment step, the alumina particle material is promptly gelatinized. Here, it is defined that a small amount of the particulate material is in the α phase as the end condition of the pretreatment step. This is because the pregelatinization can be easily stopped at the initial stage. Then, pregelatinization is further advanced by heating at a temperature lower than that of the pretreatment step as the pregelatinization step. The reason why the pregelatinization progresses even at a low temperature is that the pretreatment step generates the pregelatinization and the further pregelatinization proceeds.
(2) Here, in (1), the pretreatment step is preferably a step of heating at a temperature of 1220 ° C. or higher. By setting this temperature range, the generation of the α phase can surely proceed within a controllable range.
(3) In the above-mentioned (1) and / or (2), the pregelatinization step is preferably completed at a pregelatinization rate of 90% or less. By making the progress of alpha conversion within this range, deformation of the particle material can be suppressed.
(4) The method for producing the alumina particle material of the present invention is based on the above knowledge (ii). That is, the method for producing an alumina particle material according to the present invention is based on a particle material mainly composed of alumina having a sphericity of 0.9 or more and a surface area of the particle material, and less than 6.4 μmol / m 2 and less than 0 μmol / m 2. a mixing step of mixing a silicon-containing compound having a silicon atom of more than m 2 to form a mixture; and heating the mixture at a temperature of more than 1200 ° C. and not more than 1325 ° C. to produce a pregelatinized alumina particle material having a sphericity of 0.9 or more A second alpha process.

ケイ素含有化合物を上述の範囲で含有させることでα化の進行速度を適正な速度に制御可能にできるから粒子材料の変形が抑制できる。
(5)本発明のアルミナ粒子材料の製造方法は上記(ii)の知見に基づくものである。すなわち、本発明のアルミナ粒子材料の製造方法は、真球度が0.9以上でアルミナを主成分とする粒子材料と、ケイ素原子を有するケイ素含有化合物と、前記ケイ素含有化合物と同一でもよく且つ加熱によりNH結合をもつ化合物を放出する含窒素化合物とを混合して混合物とする第2混合工程と、前記混合物を1200℃超1325℃以下で加熱して真球度が0.9以上のα化アルミナ粒子材料にする第2α化工程とを有する。
By including the silicon-containing compound in the above-described range, it is possible to control the progression rate of the α-ization to an appropriate rate, so that deformation of the particle material can be suppressed.
(5) The method for producing an alumina particle material of the present invention is based on the findings of (ii) above. That is, the method for producing an alumina particle material of the present invention may be the same as the above-mentioned silicon-containing compound, a particle material having a sphericity of 0.9 or more and mainly containing alumina, a silicon-containing compound having a silicon atom, and A second mixing step in which a nitrogen-containing compound that releases a compound having an NH bond by heating is mixed to form a mixture; and the mixture is heated to above 1200 ° C. and at most 1325 ° C. to obtain a α having a sphericity of 0.9 or more And a second alphatization step for making the alumina particle material.

ケイ素含有化合物を上述の範囲で含有させることでα化の進行速度を適正な速度に制御可能にできるから粒子材料の変形が抑制できるとの(4)に開示の発明の効果を発揮することができると共に、更に含窒素化合物を含有させることでα化の進行速度を精密に制御可能としたものである。
(6)ここで、上述の(4)、(5)の発明における前記ケイ素含有化合物は、側鎖の一部が水素であるポリシロキサン化合物、粒径が100nm以下のシリカ粒子、ヘキサメチルジシラザンのうちの1つ以上であることが好ましい。
(7)本発明のアルミナ粒子材料は、粒径が500μm以下且つ真球度が0.9以上であって、α相アルミナを主成分とするα化アルミナ粒子材料からなる。
By including the silicon-containing compound in the above-mentioned range, it is possible to control the progress rate of the alpha conversion to an appropriate rate, so that the deformation of the particulate material can be suppressed, and the effect of the invention disclosed in (4) can be exhibited. In addition, the addition of a nitrogen-containing compound makes it possible to precisely control the advancement rate of the pregelatinization.
(6) Here, the silicon-containing compound in the inventions of the above (4) and (5) is a polysiloxane compound in which a part of the side chain is hydrogen, silica particles having a particle size of 100 nm or less, hexamethyldisilazane It is preferable that it is one or more of these.
(7) The alumina particle material of the present invention is composed of an α-alumina particle material having a particle size of 500 μm or less and a sphericity of 0.9 or more and mainly containing α-phase alumina.

粒径が大きいアルミナ粒子材料であればα化した後に真球度を向上することも機械的な加工により可能かも知れないが、粒径が小さい(500μm以下)と真球度の向上は不可能である。特に粒径が50μm以下である場合は機械的加工による真球度の向上の実現可能性は考えられない。   If the alumina particle material has a large particle size, it may be possible to improve the sphericity after mechanical conversion by mechanical processing, but if the particle size is small (500 μm or less), the sphericity cannot be improved. It is. In particular, when the particle size is 50 μm or less, the feasibility of improving the sphericity by mechanical processing is not considered.

真球状のアルミナ粒子を加熱することで融着した試料についてのSEM写真である。It is a SEM photograph about the sample fuse | melted by heating a spherical alumina particle. 真球状のアルミナ粒子を加熱しても融着していない試料についてのSEM写真である。It is a SEM photograph about the sample which is not fused even if it heats true spherical alumina particles. 市販のアルミナ粒子のSEM写真である。It is a SEM photograph of commercially available alumina particles. 実施例の試験7における融着していないアルミナ粒子についてのSEM写真である。It is a SEM photograph about the alumina particle which is not fused in Test 7 of an example. 実施例の試験7における融着しているアルミナ粒子についてのSEM写真である。It is a SEM photograph about the alumina particle fused in Test 7 of an example.

本発明のアルミナ粒子材料及びその製造方法について以下実施形態に基づき詳細に説明を行う。なお、本実施形態のアルミナ粒子材料の製造方法は本実施形態のアルミナ粒子材料の製造に適した方法ではあるが本実施形態のアルミナ粒子材料のみを製造する方法ではない。例えば本実施形態のアルミナ粒子材料の粒径は500μm以下であるが、本実施形態のアルミナ粒子材料の製造方法は粒径500μm超の粒子材料に適用しても効果的にその形態を保ったままα化を進行することができる。   The alumina particle material and the production method thereof according to the present invention will be described in detail based on the following embodiments. In addition, although the manufacturing method of the alumina particle material of this embodiment is a method suitable for manufacture of the alumina particle material of this embodiment, it is not a method of manufacturing only the alumina particle material of this embodiment. For example, the particle size of the alumina particle material of the present embodiment is 500 μm or less, but the method for producing the alumina particle material of the present embodiment effectively maintains its form even when applied to a particle material having a particle size of more than 500 μm. α-ization can proceed.

本実施形態のアルミナ粒子材料はα化度が高いと共に真球度の高い材料である。樹脂組成物のフィラーに採用する場合に高い熱伝導性を発揮できるほか、フィラーの充填性、樹脂組成物の流動性の向上、フィラーによる摩耗性の低減といった効果等が期待される。   The alumina particle material of the present embodiment is a material having a high degree of alpha and a high sphericity. In addition to exhibiting high thermal conductivity when employed as a filler in a resin composition, effects such as filler filling properties, improvement in fluidity of the resin composition, and reduction in wearability due to the filler are expected.

本実施形態のアルミナ粒子材料の製造方法は上述した(i)及び(ii)の2つの形態に大きく分類される。真球度が高くα化度が低いアルミナからなる粒子材料から真球度は高いままα化度が高いアルミナ粒子材料を製造する方法である。なお、2つの形態は排他的なものでは無く両立可能である。最終的に製造されるアルミナ粒子材料のα化率は特に限定しないが50%以上、60%以上、70%以上とすることが好ましい。なお、本実施形態のアルミナ粒子材料の製造方法によれば形態の変化を少なくできる。僅かに形態が変化して粒子同士が固まっても簡単に解砕可能である。   The manufacturing method of the alumina particle material of this embodiment is roughly classified into the two forms (i) and (ii) described above. This is a method for producing an alumina particle material having a high degree of spheroidization and a high degree of spheroidization from a particulate material made of alumina having a low degree of sphericity. Note that the two forms are not exclusive and are compatible. The alpha conversion rate of the finally produced alumina particle material is not particularly limited, but is preferably 50% or more, 60% or more, or 70% or more. In addition, according to the manufacturing method of the alumina particle material of this embodiment, the change of a form can be decreased. Even if the shape slightly changes and the particles harden, they can be easily crushed.

真球度が高い粒子材料を製造する方法は特に限定しない。例えばVMC法が挙げられる。VMC法は金属アルミニウムの粉粒体を酸素と共に火炎中に投入することで燃焼させることで粒子材料を形成する方法である。金属アルミニウムの粒径、供給速度、酸素との混合比などを制御することで生成する粒子材料の粒径・真球度などを制御することができる。   A method for producing a particulate material having a high sphericity is not particularly limited. An example is the VMC method. The VMC method is a method of forming a particulate material by burning metal aluminum powder particles together with oxygen into a flame. By controlling the particle size of aluminum metal, the supply rate, the mixing ratio with oxygen, and the like, the particle size, sphericity, etc. of the generated particulate material can be controlled.

粒子材料の粒径は特に限定しないが、粒径が小さい粒子材料に適用する場合に効果を特に発揮する。粒径が小さいとα化に伴い融着の影響が大きいこと、加熱による熱伝導が速く加熱の制御が困難であることなどの理由からである。また、小さい粒子材料を適用すれば、実装材料の軽薄化が進む状況下、そのような実装材料にも本発明により得られたアルミナ粒子材料を利用することが可能となる。具体的には適用すると効果的な粒子材料の粒径の上限としては500μm、200μm、100μm、50μm、20μm、10μm、5μm、3μm、2μm、1μmなどが挙げられる。この粒径は個々の粒子の粒径にて判断できるほか、D50や体積平均粒径にて判断することもできる。また、本実施形態のアルミナ粒子材料の好ましい粒径として同様の範囲を採用することができる。   The particle size of the particle material is not particularly limited, but the effect is particularly exerted when applied to a particle material having a small particle size. This is because, when the particle size is small, the influence of fusion is large with the formation of α, heat conduction by heating is fast, and it is difficult to control heating. In addition, if a small particle material is applied, the alumina particle material obtained by the present invention can be used for such a mounting material in a situation where the mounting material is becoming lighter and thinner. Specifically, the upper limit of the particle diameter of the particle material that is effective when applied includes 500 μm, 200 μm, 100 μm, 50 μm, 20 μm, 10 μm, 5 μm, 3 μm, 2 μm, 1 μm, and the like. This particle size can be determined by the particle size of individual particles, or by D50 or volume average particle size. Moreover, the same range can be employ | adopted as a preferable particle size of the alumina particle material of this embodiment.

真球度の値としては0.95以上であることが好ましく、0.99以上であることが更に好ましい。真球度の測定はSEM写真から測定・算出する。具体的にはSEM写真から任意の粒子を選択し、その粒子の投影面積(A)と周囲長(M)を測定する。測定した周囲長(M)をもつ真球を想定するとその半径(r)はM/2πであり、想定した真球の面積(B)はπ×(M/2π)となる。こうして測定・算出した面積A、Bから真球度(A/B)=A×4π/Mを算出する。100個の粒子について真球度を測定し、その平均値を真球度として採用する。
(第1形態)
本実施形態のアルミナ粒子材料の製造方法は上述の(i)に相当し、前処理工程とα化工程とを有する。更に必要に応じて解砕工程を有することができる。
・前処理工程
前処理工程は1200℃超の温度で原料となる粒子材料を加熱する工程である。加熱温度の下限としては1210℃、1220℃、1225℃が採用できる。上限としてはα化の進行速度の制御の容易さから1275℃、1260℃、1250℃などが挙げられる。
The value of sphericity is preferably 0.95 or more, and more preferably 0.99 or more. The sphericity is measured and calculated from the SEM photograph. Specifically, arbitrary particles are selected from the SEM photograph, and the projected area (A) and circumference (M) of the particles are measured. Assuming a true sphere having the measured circumference (M), its radius (r) is M / 2π, and the assumed area (B) of the true sphere is π × (M / 2π) 2 . The sphericity (A / B) = A × 4π / M 2 is calculated from the areas A and B thus measured and calculated. The sphericity is measured for 100 particles, and the average value is adopted as the sphericity.
(First form)
The manufacturing method of the alumina particle material of this embodiment is equivalent to the above-mentioned (i), and has a pretreatment process and an alpha process. Furthermore, it can have a crushing process as needed.
-Pre-processing process A pre-processing process is a process of heating the particulate material used as a raw material at the temperature over 1200 degreeC. As the lower limit of the heating temperature, 1210 ° C., 1220 ° C., and 1225 ° C. can be adopted. Examples of the upper limit include 1275 ° C., 1260 ° C., and 1250 ° C. in view of the ease of controlling the progress of the pregelatinization.

加熱時間はα相が10%以上40%以下になるまで行う。アルミナ粒子材料の全体がα化していない(α相が50%未満)範囲で有り、加熱の停止によりα化の進行を停止できる範囲として設定された範囲である。下限値としては15%、20%が採用でき、上限値としては35%、30%が採用できる。
・α化工程
α化工程は前処理工程よりも低い温度で加熱する工程である。前処理工程よりも低い温度での加熱なので通常はα化の進行はしないか或いはしても遅いのであるが前処理工程により粒子の一部がα化されているために、そのα相を起点としてα化を進行することができる。また、上限としては1225℃未満の温度とし、下限としては1150℃超とする。本工程を行うと真球度は低下することが推測できる。本工程は真球度が0.9以上の範囲で行う。加熱を行う具体的な方法としては特に限定しないが、ロータリーキルンなどの公知の装置・方法が採用できる。
The heating time is performed until the α phase becomes 10% or more and 40% or less. This is a range in which the entire alumina particle material is not pregelatinized (the α phase is less than 50%) and is set as a range in which the progress of the pregelatinization can be stopped by stopping heating. As the lower limit value, 15% and 20% can be adopted, and as the upper limit value, 35% and 30% can be adopted.
-Alpha process The alpha process is a process of heating at a lower temperature than the pretreatment process. Since the heating is performed at a temperature lower than that in the pretreatment step, the α-formation usually does not proceed or is slow, but since some of the particles have been α-ized by the pretreatment step, the α-phase is the starting point. As shown in FIG. Further, the upper limit is a temperature lower than 1225 ° C., and the lower limit is more than 1150 ° C. It can be estimated that the sphericity decreases when this step is performed. This step is performed in a range where the sphericity is 0.9 or more. Although it does not specifically limit as a specific method of heating, Well-known apparatuses and methods, such as a rotary kiln, are employable.

本工程でのα化の程度としてはα相が90%以下で停止することが好ましく、80%以下とすることが更に好ましい。本工程の処理時間はα化の割合を予備的に行う試験で検討した結果に基づいて決定することが好ましい。
・解砕工程
前述したα化工程では一次粒子が凝集することがある。その場合には何らかの方法にて解砕することが好ましい。解砕工程を特に設けなくてもアルミナ粒子材料を取り扱ううちに解砕が進行することも充分に期待できるが解砕工程を採用することで速やかに一次粒子に近い状態まで解砕できる。具体的には好ましい解砕の方法は粉砕機、混合機を用いて凝集した一次粒子に剪断力を加える方法であり、例えばジェットミルにて処理する方法が挙げられる。
(第2形態)
本実施形態のアルミナ粒子材料の製造方法は(第2)混合工程と第2α化工程とを有する。必要に応じて第1形態で説明した解砕工程をそのまま採用することもできる。第1形態の製造方法と組み合わせる場合には第1形態のα化工程の前に第2形態の混合工程又は第2混合工程を採用することができる。
・混合工程
混合工程は粒子材料に対してケイ素含有化合物を混合する工程である。混合の方法は特に限定しないが、ケイ素含有化合物により粒子材料を被覆するように混合することが好ましい。つまり粒子材料の界面にケイ素含有化合物が配設されることが好ましい。粒子材料の界面にケイ素含有化合物が配設されるものが形成できるならば混合によらないで後述のα化工程に供したときに好ましいα化の挙動を示す組成物が得られる可能性がある(第2混合工程も同様である)。
The degree of pregelatinization in this step is preferably stopped when the α phase is 90% or less, and more preferably 80% or less. The treatment time of this step is preferably determined based on the result of examination in a test in which the pregelatinization rate is preliminary.
-Crushing process Primary particle | grains may aggregate in the pregelatinization process mentioned above. In that case, it is preferable to crush by some method. Even if a crushing step is not particularly provided, it can be sufficiently expected that crushing proceeds while handling the alumina particle material. However, by adopting the crushing step, it is possible to quickly crush to a state close to primary particles. Specifically, a preferable crushing method is a method of applying a shearing force to the aggregated primary particles using a pulverizer or a mixer, and examples thereof include a method of treating with a jet mill.
(Second form)
The manufacturing method of the alumina particle material of this embodiment has a (2nd) mixing process and a 2nd alpha formation process. If necessary, the crushing step described in the first embodiment can be employed as it is. When combined with the manufacturing method of the first form, the mixing process or the second mixing process of the second form can be adopted before the alpha conversion process of the first form.
-Mixing process A mixing process is a process of mixing a silicon containing compound with respect to particulate material. The mixing method is not particularly limited, but it is preferable to mix so that the particle material is coated with the silicon-containing compound. That is, it is preferable that a silicon-containing compound is disposed at the interface of the particle material. If a material in which a silicon-containing compound is disposed at the interface of the particle material can be formed, there is a possibility that a composition exhibiting favorable pregelatinization behavior when subjected to the pregelatinization step described below without depending on mixing may be obtained. (The second mixing step is the same).

ケイ素含有化合物は組成中にケイ素原子を含む化合物である。例えばポリシロキサン、シリカなどが例示できる。ポリシロキサンは側鎖の一部が水素化されていることが好ましい。シリカは粒径が小さいことが好ましい。例えば粒径が100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましく、20nm以下であることが更に好ましい。粒径が小さいシリカの製造方法としては特に限定されず、ゾルゲル法、VMC法などにより製造できる。粒径が小さいシリカはコロイダルシリカなどと称される水に分散された状態で混合工程に供しても良いほか、乾燥状態で用いても良い。乾燥状態で用いる場合には一次粒子にまで分離可能な状態で用いることが好ましい。後述する表面処理を行ったシリカ粒子を採用すると必要に応じて洗浄により不純物の量を低減可能になるため好ましい。   A silicon-containing compound is a compound containing a silicon atom in the composition. Examples thereof include polysiloxane and silica. The polysiloxane is preferably partially hydrogenated in the side chain. Silica preferably has a small particle size. For example, the particle size is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and even more preferably 20 nm or less. The method for producing silica having a small particle size is not particularly limited, and can be produced by a sol-gel method, a VMC method, or the like. Silica having a small particle size may be used for the mixing step in a state of being dispersed in water called colloidal silica or may be used in a dry state. When used in a dry state, it is preferably used in a state where it can be separated into primary particles. It is preferable to employ silica particles that have been subjected to a surface treatment described later because the amount of impurities can be reduced by washing as necessary.

ケイ素含有化合物は粒子材料の表面積を基準として6.4μmol/m未満0μmol/m超のケイ素原子を有するように混合することが好ましい。上限としては5μmol/m、4μmol/m、3μmol/m程度が例示でき、下限としては0.5μmol/m、1μmol/m、1.5μmol/m程度が例示できる。この範囲にすることでα化の進行速度が抑制されて制御が容易になる。
・第2混合工程
混合工程に代えて第2混合工程を採用することもできる。第2混合工程ではケイ素含有化合物に加えて加熱によりNH結合をもつ化合物を放出する含窒素化合物も混合する。含窒素化合物としては特に限定しないがケイ素含有化合物の分子内にNH結合をもつヘキサメチルジシラザン(HMDS)などのような化合物を単独で又は併せて採用することもできる。
The silicon-containing compound is preferably mixed so as to have silicon atoms of less than 6.4 μmol / m 2 and more than 0 μmol / m 2 on the basis of the surface area of the particulate material. 5 [mu] mol / m 2 as the upper limit, 4μmol / m 2, can be exemplified about 3μmol / m 2, 0.5μmol / m 2 as a lower limit, 1μmol / m 2, about 1.5μmol / m 2 can be exemplified. By making it within this range, the progress of the alpha conversion is suppressed and the control becomes easy.
-2nd mixing process It can replace with a mixing process and can also employ | adopt a 2nd mixing process. In the second mixing step, in addition to the silicon-containing compound, a nitrogen-containing compound that releases a compound having an NH bond by heating is also mixed. Although it does not specifically limit as a nitrogen-containing compound, Compounds, such as hexamethyldisilazane (HMDS) which has NH bond in the molecule | numerator of a silicon-containing compound, can also be employ | adopted individually or in combination.

含窒素化合物を含有させるとケイ素含有化合物がα化の進行を抑制するのとは反対にα化を促進する効果を発揮する。そのためにケイ素含有化合物を混合する適正量も含窒素化合物の添加量に従い増加するため上述の混合工程にて示した適正値をそのまま当てはめることが困難になる。HMDSによる知見によると、HMDSの添加量が少ない範囲ではα化の進行抑制効果が主たる効果になってα化の促進効果は目立たない。HMDSの添加量を増加させていくとα化の進行抑制効果よりも促進効果が主たる効果になる。そのためHMDSの添加量としてはケイ素原子の量として34.3μmol/m近傍(30〜40μmol/m程度)と85.7μmol/m近傍(75〜95μmol/m程度)とに好ましい添加量が認められる。
・第2α化工程
得られた混合物を1200℃超1325℃以下で加熱して真球度が0.9以上のα化アルミナ粒子材料にする。本工程を行うと真球度は低下することが推測できる。加熱温度の下限としては1220℃、1225℃、1250℃が例示できる。加熱を行う具体的な方法としては特に限定しないが、ロータリーキルンなどの公知の方法が採用できる。
(ケイ素含有化合物としてシリカ粒子を採用する場合の表面処理の一例:表面処理されたシリカ粒子の製造)
表面処理を行ったシリカ粒子を製造する方法を以下に例示する。表面処理されたシリカ粒子(表面処理済みシリカ粒子)は、式(1):−OSiXで表される官能基と、式(2):−OSiYで表される官能基とが表面に結合している。以下、式(1)で表される官能基を第1の官能基と呼び、式(2)で表される官能基を第2の官能基と呼ぶ。
When a nitrogen-containing compound is contained, the silicon-containing compound exerts an effect of accelerating the α-conversion as opposed to suppressing the progress of the α-ization. For this reason, the appropriate amount for mixing the silicon-containing compound also increases according to the amount of the nitrogen-containing compound added, so that it is difficult to apply the appropriate value shown in the above mixing step as it is. According to the findings by HMDS, in the range where the amount of HMDS added is small, the effect of suppressing the progress of pregelatinization is the main effect, and the effect of promoting pregelatinization is not noticeable. When the amount of HMDS added is increased, the promotion effect is the main effect rather than the progress inhibition effect of the pregelatinization. 34.3μmol / m 2 near (30~40μmol / m 2 or so) and 85.7μmol / m 2 near (75~95μmol / m 2 or so) in the preferred amount as the amount of silicon atoms as an additive amount of the order HMDS Is recognized.
-2nd gelatinization process The obtained mixture is heated above 1200 degreeC at 1325 degrees C or less, and it is set as the alpha alumina particle material whose sphericity is 0.9 or more. It can be estimated that the sphericity decreases when this step is performed. Examples of the lower limit of the heating temperature include 1220 ° C, 1225 ° C, and 1250 ° C. Although it does not specifically limit as a specific method of heating, Well-known methods, such as a rotary kiln, are employable.
(Example of surface treatment when silica particles are employed as the silicon-containing compound: production of surface-treated silica particles)
A method for producing the surface-treated silica particles is exemplified below. Surface-treated silica particles (surface-treated silica particles) are represented by the functional group represented by the formula (1): -OSiX 1 X 2 X 3 and the formula (2): -OSiY 1 Y 2 Y 3. Are attached to the surface. Hereinafter, the functional group represented by the formula (1) is referred to as a first functional group, and the functional group represented by the formula (2) is referred to as a second functional group.

第1の官能基におけるXは、フェニル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、又はアクリル基である。X、Xは、それぞれ、−OSiR3又は−OSiYである。YはRである。Y、Yは、それぞれ、R又は−OSiR3である。 X 1 in the first functional group is a phenyl group, vinyl group, epoxy group, methacryl group, amino group, ureido group, mercapto group, isocyanate group, or acrylic group. X 2 and X 3 are —OSiR 3 or —OSiY 4 Y 5 Y 6 , respectively. Y 4 is R. Y 5 and Y 6 are each R or —OSiR 3.

第2の官能基におけるYはRである。Y、Yは、それぞれ、−OSiR3又は−OSiYである。 Y 1 in the second functional group is R. Y 2 and Y 3 are each —OSiR 3 or —OSiY 4 Y 5 Y 6 .

第1の官能基および第2の官能基に含まれる−OSiR3が多い程、表面処理済みシリカ粒子の表面にRを多く持つ。第1の官能基および第2の官能基に含まれるR(炭素数1〜3のアルキル基)が多い程、表面処理済みシリカ粒子は凝集し難い。   The more -OSiR3 contained in the first functional group and the second functional group, the more R on the surface of the surface-treated silica particles. The more R (alkyl group having 1 to 3 carbon atoms) contained in the first functional group and the second functional group, the less the surface-treated silica particles are aggregated.

第1の官能基に関していえば、X、Xがそれぞれ−OSiR3である場合に、Rの数が最小となる。また、XおよびXがそれぞれ−OSiYであり、かつ、Y、Yがそれぞれ−OSiR3である場合に、Rの数が最大となる。 Regarding the first functional group, when X 2 and X 3 are each —OSiR 3 , the number of R is minimized. Further, X 2 and X 3 are each a -OSiY 4 Y 5 Y 6, and, if Y 5, Y 6 is -OSiR3 respectively, the number of R is maximized.

第2の官能基に関していえば、Y、Yがそれぞれ−OSiR3である場合に、Rの数が最小となる。また、YおよびYがそれぞれ−OSiYであり、かつ、Y、Yがぞれぞれ−OSiR3である場合に、Rの数が最大となる。 Regarding the second functional group, when Y 2 and Y 3 are each —OSiR 3 , the number of R is minimized. Further, Y 2 and Y 3 are -OSiY 4 Y 5 Y 6, respectively, and, in the case of Y 5, Y 6 Gazorezore -OSiR3, the number of R is maximized.

第1の官能基に含まれるXの数、第1の官能基に含まれるRの数、第2の官能基に含まれるRの数は、RとXとの存在数比や、シリカ粒子の粒径や用途に応じて適宜設定すれば良い。 The number of X 1 contained in the first functional group, the number of R contained in the first functional group, and the number of R contained in the second functional group are the abundance ratio of R and X 1 , silica What is necessary is just to set suitably according to the particle size and use of particle | grains.

なお、X、X、Y、Y、Y、及びYの何れかは、隣接する官能基のX、X、Y、Y、Y、及びYの何れかと−O−にて結合しても良い。例えば、第1の官能基のX、X、Y、及びYの何れかが、この第1の官能基に隣接する第1の官能基のX、X、Y、及びYの何れかと−O−にて結合していても良い。同様に、第2の官能基のY、Y、Y、及びYの何れかが、この第2の官能基に隣接する第2の官能基のY、Y、Y、及びYの何れかと−O−にて結合していても良い。さらには、第1の官能基のX、X、Y、及びYの何れかが、この第1の官能基に隣接する第2の官能基のY、Y、Y、及びYの何れかと−O−にて結合していても良い。 Incidentally, X 2, X 3, Y 2, Y 3, Y 5, and any of Y 6, X 2 of the adjacent functionality, X 3, Y 2, Y 3, Y 5, and any Y 6 You may combine with heel -O-. For example, any one of the first functional group X 2 , X 3 , Y 5 , and Y 6 is the first functional group adjacent to the first functional group X 2 , X 3 , Y 5 , and It may be bonded to any of Y 6 by —O—. Similarly, any of Y 2 , Y 3 , Y 5 , and Y 6 of the second functional group is replaced with Y 2 , Y 3 , Y 5 , Y 2 of the second functional group adjacent to the second functional group. And Y 6 may be bonded to each other by —O—. Furthermore, any one of the first functional groups X 2 , X 3 , Y 5 , and Y 6 is the second functional group adjacent to the first functional group, Y 2 , Y 3 , Y 5 , And Y 6 may be bonded to each other by —O—.

表面処理済みシリカ粒子において、第1の官能基と第2の官能基との存在数比が1:12〜1:60であれば、表面処理済みシリカ粒子の表面にXとRとがバランス良く存在する。このため、第1の官能基と第2の官能基との存在数比が1:12〜1:60である表面処理済みシリカ粒子は、樹脂に対する親和性および凝集抑制効果に特に優れる。また、Xが表面処理済みシリカ粒子の単位表面積(nm)あたり0.5〜2.5個であれば、表面処理済みシリカ粒子の表面に充分な数の第1の官能基が結合し、第1の官能基および第2の官能基に由来するRもまた充分な数存在する。したがってこの場合にも、樹脂に対する親和性およびシリカ粒子の凝集抑制効果が充分に発揮される。 In the surface-treated silica particles, if the abundance ratio of the first functional group to the second functional group is 1:12 to 1:60, X 1 and R are balanced on the surface of the surface-treated silica particles. It exists well. For this reason, the surface-treated silica particles having an abundance ratio of the first functional group to the second functional group of 1:12 to 1:60 are particularly excellent in the affinity for the resin and the aggregation suppressing effect. Moreover, X 1 is as long as 0.5 to 2.5 per unit surface area of the surface-treated silica particles (nm 2), surface-treated first functional groups of sufficient number to the surface of the silica particles are bonded There are also a sufficient number of R derived from the first functional group and the second functional group. Therefore, also in this case, the affinity for the resin and the effect of suppressing aggregation of the silica particles are sufficiently exhibited.

何れの場合にも、表面処理済みシリカ粒子の単位表面積(nm)あたりのRは、1個〜10個であるのが好ましい。この場合には、表面処理済みシリカ粒子の表面に存在するXの数とRの数とのバランスが良くなり、樹脂に対する親和性および表面処理済みシリカ粒子の凝集抑制効果との両方がバランス良く発揮される。 In any case, R per unit surface area (nm 2 ) of the surface-treated silica particles is preferably 1 to 10. In this case, the balance between the number of X 1 present on the surface of the surface-treated silica particles and the number of R is improved, and both the affinity for the resin and the aggregation suppressing effect of the surface-treated silica particles are well balanced. Demonstrated.

表面処理済みシリカ粒子においては、シリカ粒子の表面に存在していた水酸基の全部が第1の官能基または第2の官能基で置換されているのが好ましい。第1の官能基と第2の官能基との和が、表面処理済みシリカ粒子の単位表面積(nm)あたり2.0個以上であれば、表面処理済みシリカ粒子において、シリカ粒子の表面に存在していた水酸基のほぼ全部が第1の官能基または第2の官能基で置換されているといえる。 In the surface-treated silica particles, it is preferable that all of the hydroxyl groups present on the surface of the silica particles are substituted with the first functional group or the second functional group. When the sum of the first functional group and the second functional group is 2.0 or more per unit surface area (nm 2 ) of the surface-treated silica particles, the surface-treated silica particles have the surface of the silica particles It can be said that almost all of the existing hydroxyl groups are substituted with the first functional group or the second functional group.

表面処理済みシリカ粒子は、表面にRを持つ。これは、赤外線吸収スペクトルによって確認できる。詳しくは、表面処理済みシリカ粒子の赤外線吸収スペクトルを固体拡散反射法で測定すると、2962±2cm−1にC−H伸縮振動の極大吸収がある。このため、表面処理済みシリカ粒子であるか否かは、赤外線吸収スペクトルによって確認できる。 The surface-treated silica particles have R on the surface. This can be confirmed by an infrared absorption spectrum. Specifically, when the infrared absorption spectrum of the surface-treated silica particles is measured by a solid diffuse reflection method, there is a maximum absorption of C—H stretching vibration at 2962 ± 2 cm −1 . For this reason, it can be confirmed by the infrared absorption spectrum whether it is a surface-treated silica particle.

また、上述したように表面処理済みシリカ粒子は凝集し難い。したがって、表面処理済みシリカ粒子は粒径の小さいなシリカ粒子に適用できる。例えば、表面処理済みシリカ粒子は、平均粒径3nm〜5000nm程度にできる。平均粒径3〜200nmのシリカ粒子に適用するのが好ましい。   Further, as described above, the surface-treated silica particles hardly aggregate. Therefore, the surface-treated silica particles can be applied to silica particles having a small particle size. For example, the surface-treated silica particles can have an average particle size of about 3 nm to 5000 nm. It is preferable to apply to silica particles having an average particle diameter of 3 to 200 nm.

なお、表面処理済みシリカ粒子は、例え僅かに凝集した場合にも、超音波処理することによって再度分散可能である。詳しくは、表面処理済みシリカ粒子をメチルエチルケトンに分散させたものに、発振周波数39kHz、出力500Wの超音波を照射することで、表面処理済みシリカ粒子を実質的に一次粒子にまで分散できる。このときの超音波照射時間は10分間以下で良い。表面処理済みシリカ粒子が一次粒子にまで分散したか否かは、粒度分布を測定することで確認できる。詳しくは、このシリカ粒子のメチルエチルケトン分散材料をマイクロトラック装置等の粒度分布測定装置で測定し、シリカ粒子の粒度分布があれば、表面処理済みシリカ粒子が一次粒子にまで分散したといえる。   The surface-treated silica particles can be dispersed again by ultrasonic treatment even if they are slightly aggregated. Specifically, the surface-treated silica particles can be substantially dispersed into primary particles by irradiating the surface-treated silica particles dispersed in methyl ethyl ketone with ultrasonic waves having an oscillation frequency of 39 kHz and an output of 500 W. The ultrasonic irradiation time at this time may be 10 minutes or less. Whether or not the surface-treated silica particles are dispersed into primary particles can be confirmed by measuring the particle size distribution. Specifically, if the silica particle methyl ethyl ketone dispersion material is measured with a particle size distribution measuring device such as a microtrack device, and if there is a particle size distribution of the silica particles, it can be said that the surface-treated silica particles are dispersed to primary particles.

表面処理済みシリカ粒子は、凝集し難いため、水やアルコール等の液状媒体に分散されていないシリカ粒子として提供できる。この場合、液状媒体の持ち込みがないために、樹脂材料用のフィラーとして好ましく用いられる。   Since the surface-treated silica particles hardly aggregate, they can be provided as silica particles that are not dispersed in a liquid medium such as water or alcohol. In this case, since no liquid medium is brought in, it is preferably used as a filler for a resin material.

表面処理済みシリカ粒子は嵩密度が450g/L以下であることが望ましい。本明細書における嵩密度の測定は筒井理化学器械株式会社製:電磁振動式カサ密度測定器(MVD−86型)を使用して行う。具体的には試料槽としての上部500μm篩に測定対象のサンプルを投入し、加速度4Gの条件で電磁振動により上部・下部の2つの500μm篩を通してサンプルを分散させ100mLの試料容器に落下投入した後、質量を測定し、その質量と体積とからかさ密度を算出した。自重による嵩密度の低下を防止するため測定は落下投入後1時間以内に実施する。   The surface-treated silica particles preferably have a bulk density of 450 g / L or less. The measurement of the bulk density in this specification is performed using the Tsutsui RIKEN KIKAI CO., LTD .: electromagnetic vibration type | mold density measuring device (MVD-86 type | mold). Specifically, after the sample to be measured is put into the upper 500 μm sieve as the sample tank, the sample is dispersed through the two upper and lower 500 μm sieves under electromagnetic acceleration conditions, and dropped into a 100 mL sample container. The mass was measured, and the bulk density was calculated from the mass and volume. In order to prevent a decrease in bulk density due to its own weight, measurement should be performed within 1 hour after dropping.

好ましい上限としては400g/L、350g/L、300g/L、250g/Lが挙げられる。好ましい下限としては100g/Lが挙げられる。嵩密度をこれら上限よりも下の値にすることにより一次粒子の分離がより確実に行われる。また、嵩密度をこれら下限よりも上の値にすることで嵩が小さく取り扱いやすくなる。   Preferable upper limit is 400 g / L, 350 g / L, 300 g / L, 250 g / L. A preferred lower limit is 100 g / L. By setting the bulk density to a value below these upper limits, primary particles can be separated more reliably. Moreover, when the bulk density is set to a value higher than these lower limits, the bulk is small and the handling becomes easy.

シリカ粒子に表面処理を行って表面処理済みシリカ粒子を得る方法としては、水を含む液状媒体中で、シランカップリング剤およびオルガノシラザンによってシリカ粒子を表面処理する工程(表面処理工程)を持つ。シランカップリング剤は、3つのアルコキシ基と、フェニル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、又はアクリル基(すなわち上記のX)とを持つ。 As a method of obtaining surface-treated silica particles by subjecting the silica particles to surface treatment, there is a step of treating the silica particles with a silane coupling agent and an organosilazane (surface treatment step) in a liquid medium containing water. The silane coupling agent has three alkoxy groups and a phenyl group, a vinyl group, an epoxy group, a methacryl group, an amino group, a ureido group, a mercapto group, an isocyanate group, or an acrylic group (that is, X 1 described above).

シランカップリング剤で表面処理することで、シリカ粒子の表面に存在する水酸基がシランカップリング剤に由来する官能基で置換される。シランカップリング剤に由来する官能基は式(3);−OSiXで表される。式(3)で表される官能基を第3の官能基と呼ぶ。第3の官能基におけるXは式(1)で表される官能基におけるXと同じである。X、Xは、それぞれ、アルキコキシ基である。オルガノシラザンで表面処理することで、第3の官能基のX、Xがオルガノシラザンに由来する−OSiY(式(2)で表される官能基、第2の官能基)で置換される。シリカ粒子の表面に存在する水酸基の全てが第3の官能基で置換されていない場合には、シリカ粒子の表面に残存する水酸基が第2の官能基で置換される。このため、表面処理されたシリカ粒子の表面には、式(1):−OSiXで表される官能基(すなわち第1の官能基)と、式(2):−OSiYで表される官能基と(すなわち第2の官能基)が結合する。なお、シランカップリング剤とオルガノシラザンとのモル比は、シランカップリング剤:オルガノシラザン=1:2〜1:10であるため、得られた表面処理済みシリカ粒子における第1の官能基と第2の官能基との存在数比は理論上1:12〜1:60となる。 By performing the surface treatment with the silane coupling agent, the hydroxyl group present on the surface of the silica particles is substituted with a functional group derived from the silane coupling agent. The functional group derived from the silane coupling agent is represented by the formula (3); —OSiX 1 X 4 X 5 . The functional group represented by the formula (3) is referred to as a third functional group. X 1 in the third functional group is the same as X 1 in the functional group represented by the formula (1). X 4 and X 5 are each an alkoxy group. By surface-treating with organosilazane, the third functional group X 4 and X 5 are derived from organosilazane —OSiY 1 Y 2 Y 3 (the functional group represented by the formula (2), the second functional group ). When all of the hydroxyl groups present on the surface of the silica particles are not substituted with the third functional group, the hydroxyl groups remaining on the surface of the silica particles are substituted with the second functional group. Therefore, on the surface of the surface-treated silica particles, a functional group represented by the formula (1): —OSiX 1 X 2 X 3 (that is, the first functional group) and a formula (2): —OSiY 1 The functional group represented by Y 2 Y 3 is bonded to the functional group (that is, the second functional group). In addition, since the molar ratio of the silane coupling agent to the organosilazane is silane coupling agent: organosilazane = 1: 2 to 1:10, the first functional group and the first functional group in the obtained surface-treated silica particles The abundance ratio with the functional group of 2 is theoretically from 1:12 to 1:60.

表面処理工程においては、シリカ粒子をシランカップリング剤及びオルガノシラザンで同時に表面処理しても良い。または、先ずシリカ粒子をシランカップリング剤で表面処理し、次いでオルガノシラザンで表面処理しても良い。または、先ずシリカ粒子をオルガノシラザンで表面処理し、次いでシランカップリング剤で表面処理し、さらにその後にオルガノシラザンで表面処理しても良い。何れの場合にも、シリカ粒子の表面に存在する水酸基全てが第2の官能基で置換されないように、オルガノシラザンの量を調整すれば良い。なお、シリカ粒子の表面に存在する水酸基は、全てが第3の官能基で置換されても良いし、一部のみが第3の官能基で置換され、他の部分が第2の官能基で置換されても良い。第3の官能基に含まれるX、Xは、全て第2の官能基で置換されるのが良い。 In the surface treatment step, the silica particles may be simultaneously surface treated with a silane coupling agent and an organosilazane. Alternatively, the silica particles may first be surface treated with a silane coupling agent and then surface treated with organosilazane. Alternatively, the silica particles may be first surface treated with organosilazane, then surface treated with a silane coupling agent, and then surface treated with organosilazane. In any case, the amount of organosilazane may be adjusted so that all the hydroxyl groups present on the surface of the silica particles are not substituted with the second functional group. The hydroxyl groups present on the surface of the silica particles may all be substituted with the third functional group, or only a part may be substituted with the third functional group, and the other part may be substituted with the second functional group. It may be replaced. All of X 4 and X 5 contained in the third functional group may be substituted with the second functional group.

なお、オルガノシラザンの一部を、第2のシランカップリング剤で置き換えても良い。第2のシランカップリング剤としては、3つのアルコキシ基と、1つのアルキル基とを持つものを用いることができる。この場合には、第3の官能基に含まれるX、Xが、第2のシランカップリング剤に由来する第4の官能基で置換される。第4の官能基は式(4);−OSiYで表される。Yは第2の官能基におけるYと同じRであり、X、Xはそれぞれアルコキシ基または水酸基である。第4の官能基に含まれるX、Xは、オルガノシラザンに由来する第2の官能基で置換されるか、または、別の第4の官能基で置換される。この場合には、シリカ粒子の表面に存在するRの量をさらに多くする事ができる。なお、オルガノシラザンの一部を、第2のシランカップリング剤に置き換える場合、第2のシランカップリング剤で表面処理した後に、再度オルガノシラザンで表面処理する必要がある。第4の官能基に含まれるX、Xを、最終的にはオルガノシラザンに由来する第2の官能基で置換するためである。 A part of organosilazane may be replaced with the second silane coupling agent. As the second silane coupling agent, one having three alkoxy groups and one alkyl group can be used. In this case, X 4 and X 5 contained in the third functional group are substituted with the fourth functional group derived from the second silane coupling agent. The fourth functional group has the formula (4); - represented by OSiY 1 X 6 X 7. Y 1 is the same R as Y 1 in the second functional group, X 6, X 7 is an alkoxy group or a hydroxyl group, respectively. X 6 and X 7 contained in the fourth functional group are substituted with the second functional group derived from organosilazane, or are substituted with another fourth functional group. In this case, the amount of R present on the surface of the silica particles can be further increased. When a part of the organosilazane is replaced with the second silane coupling agent, it is necessary to surface-treat with the organosilazane again after the surface treatment with the second silane coupling agent. This is because X 6 and X 7 contained in the fourth functional group are finally substituted with the second functional group derived from organosilazane.

オルガノシラザンの一部を第2のシランカップリング剤で置き換える場合、上述した第1の官能基に含まれるX、Xは、オルガノシラザンに由来する第2の官能基で置換されるか、第2のシランカップリング剤に由来する第4の官能基で置換される。X、Xが第4の官能基で置換された場合、第4の官能基に含まれるX、Xは、第2の官能基で置換されるか、別の第4の官能基によって置換される。第4の官能基に含まれるX、Xが別の第4の官能基によって置換された場合、第4の官能基に含まれるX、Xは、第2の官能基で置換される。このため第2のシランカップリング剤は、第1のカップリング剤及びオルガノシラザンのみで表面処理する場合(オルガノシラザンを第2のシランカップリング剤で置き換えなかった場合)に設定されるオルガノシラザンの量(a)molに対して、最大限5a/3mol置き換えることができる。この場合に必要になるオルガノシラザンの量は、8a/3molである。 When a part of the organosilazane is replaced with the second silane coupling agent, X 4 and X 5 contained in the first functional group described above are substituted with the second functional group derived from the organosilazane, Substitution with a fourth functional group derived from the second silane coupling agent. When X 4 and X 5 are substituted with the fourth functional group, X 6 and X 7 contained in the fourth functional group are substituted with the second functional group or another fourth functional group. Is replaced by If X 6, X 7 contained in the fourth functional group has been replaced by another fourth functional group, X 6, X 7 contained in the fourth functional groups is substituted with the second functional group The For this reason, the second silane coupling agent is an organosilazane set when the surface treatment is performed only with the first coupling agent and the organosilazane (when the organosilazane is not replaced with the second silane coupling agent). A maximum of 5a / 3 mol can be substituted for the amount (a) mol. The amount of organosilazane required in this case is 8a / 3 mol.

シランカップリング剤および第2のシランカップリング剤のアルコキシ基は特に限定しないが、比較的炭素数の小さなものが好ましく、炭素数1〜12であることが好ましい。アルコキシ基の加水分解性を考慮すると、アルコキシ基はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基の何れかであることがより好ましい。   The alkoxy groups of the silane coupling agent and the second silane coupling agent are not particularly limited, but those having a relatively small carbon number are preferred, and those having 1 to 12 carbon atoms are preferred. Considering the hydrolyzability of the alkoxy group, the alkoxy group is more preferably any one of a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group.

シランカップリング剤として、具体的には、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランが挙げられる。   Specific examples of silane coupling agents include phenyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane. 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3 -Aminopropyltrimethoxysilane.

オルガノシラザンとしては、シリカ粒子の表面に存在する水酸基およびシランカップリング剤に由来するアルコキシ基を、上述した第2の官能基で置換できるものであれば良いが、分子量の小さなものを用いるのが好ましい。具体的には、テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、ペンタメチルジシラザン等が挙げられる。   Any organosilazane may be used as long as it can replace the hydroxyl group present on the surface of the silica particles and the alkoxy group derived from the silane coupling agent with the second functional group described above. preferable. Specific examples include tetramethyldisilazane, hexamethyldisilazane, pentamethyldisilazane, and the like.

第2のシランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the second silane coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, and hexyltriethoxysilane.

なお、表面処理工程において、シランカップリング剤の重合や第2のシランカップリング剤の重合を抑制するため、重合禁止剤を加えても良い。重合禁止剤としては、3,5−ジブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)、p−メトキシフェノール(メトキノン)等の一般的なものを用いることができる。   In the surface treatment step, a polymerization inhibitor may be added in order to suppress polymerization of the silane coupling agent or polymerization of the second silane coupling agent. As the polymerization inhibitor, common ones such as 3,5-dibutyl-4-hydroxytoluene (BHT) and p-methoxyphenol (methoquinone) can be used.

シリカ粒子の表面処理方法は、表面処理工程後に固形化工程を備えても良い。固形化工程は、表面処理後のシリカ粒子を鉱酸で沈殿させ、沈殿物を水で洗浄・乾燥して、シリカ粒子の固形物を得る工程である。上述したように、一般的なシリカ粒子は非常に凝集し易いため、一旦固形化したシリカ粒子を再度分散するのは非常に困難である。しかし、シリカ粒子は凝集し難いため、固形化しても凝集し難く、また、例え凝集しても再分散し易い。なお、上述したように、シリカ粒子を水で洗浄することで、電子部品等の用途に用いられるシリカ粒子を容易に製造できる。なお、洗浄工程においては、シリカ粒子の抽出水(詳しくは、シリカ粒子を121℃で24時間浸漬した水)の電気伝導度が50μS/cm以下となるまで、洗浄を繰り返すのが好ましい。   The surface treatment method for silica particles may include a solidification step after the surface treatment step. The solidification step is a step of precipitating the surface-treated silica particles with a mineral acid and washing and drying the precipitate with water to obtain a solid of silica particles. As described above, since general silica particles are very likely to aggregate, it is very difficult to disperse once solidified silica particles. However, since silica particles are difficult to aggregate, they are difficult to aggregate even when solidified, and are easily redispersed even when aggregated. In addition, as mentioned above, the silica particle used for uses, such as an electronic component, can be easily manufactured by wash | cleaning a silica particle with water. In the washing step, washing is preferably repeated until the electric conductivity of silica particle extraction water (specifically, water in which silica particles are immersed at 121 ° C. for 24 hours) is 50 μS / cm or less.

固形化工程で用いる鉱酸としては塩酸、硝酸、硫酸、リン酸などが例示でき、特に塩酸が望ましい。鉱酸はそのまま用いても良いが、鉱酸水溶液として用いるのが好ましい。鉱酸水溶液における鉱酸の濃度は0.1質量%以上が望ましく、0.5質量%以上が更に望ましい。鉱酸水溶液の量は、洗浄対象であるシリカ粒子の質量を基準として6〜12倍程度にすることができる。   Examples of the mineral acid used in the solidification step include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, and hydrochloric acid is particularly desirable. The mineral acid may be used as it is, but is preferably used as a mineral acid aqueous solution. The concentration of the mineral acid in the aqueous mineral acid solution is preferably 0.1% by mass or more, and more preferably 0.5% by mass or more. The amount of the mineral acid aqueous solution can be about 6 to 12 times based on the mass of the silica particles to be cleaned.

鉱酸水溶液による洗浄は複数回数行うことも可能である。鉱酸水溶液による洗浄は表面処理済みシリカ粒子を鉱酸水溶液に浸漬後、撹拌することが望ましい。また、浸漬した状態で1時間から24時間、更には72時間程度放置することができる。放置する際には撹拌を継続することもできるし、撹拌しないこともできる。鉱酸含有液中にて洗浄する際には常温以上に加熱することもできる。   The cleaning with the mineral acid aqueous solution can be performed a plurality of times. The washing with the mineral acid aqueous solution is preferably performed after the surface-treated silica particles are immersed in the mineral acid aqueous solution and then stirred. Further, it can be left in the immersed state for 1 to 24 hours, and further for about 72 hours. When it is allowed to stand, stirring can be continued or not stirred. When washing in the mineral acid-containing liquid, it can be heated to room temperature or higher.

その後、洗浄して懸濁させた表面処理済みシリカ粒子をろ取した後、水にて洗浄する。使用する水はアルカリ金属などのイオンを含まない(例えば質量基準で1ppm以下)ことが望ましい。例えば、イオン交換水、蒸留水、純水などである。水による洗浄は鉱酸水溶液による洗浄と同じく、表面処理済みシリカ粒子を分散、懸濁させた後、ろ過することもできるし、ろ取した表面処理済みシリカ粒子に対して水を継続的に通過させることによっても可能である。水による洗浄の終了時期は、上述した抽出水の電気伝導度で判断しても良いし、表面処理済みシリカ粒子を洗浄した後の排水中のアルカリ金属濃度が1ppm以下になった時点としても良いし、抽出水のアルカリ金属濃度が5ppm以下になった時点としても良い。なお、水で洗浄する際には常温以上に加熱することもできる。   Thereafter, the surface-treated silica particles washed and suspended are collected by filtration and then washed with water. It is desirable that the water used does not contain ions such as alkali metals (for example, 1 ppm or less on a mass basis). For example, ion exchange water, distilled water, pure water and the like. Washing with water is the same as washing with mineral acid aqueous solution. The surface-treated silica particles can be dispersed and suspended, and then filtered, or the filtered surface-treated silica particles can pass through water continuously. This is also possible. The end of washing with water may be determined by the electric conductivity of the extracted water described above, or may be the time when the alkali metal concentration in the waste water after washing the surface-treated silica particles becomes 1 ppm or less. And it is good also as the time of the alkali metal concentration of extraction water becoming 5 ppm or less. When washing with water, it can be heated to a room temperature or higher.

表面処理済みシリカ粒子の乾燥は、常法により行うことができる。例えば、加熱や、減圧(真空)下に放置する等である。   The surface-treated silica particles can be dried by a conventional method. For example, heating or leaving under reduced pressure (vacuum).

乾燥以外で表面処理済みシリカ粒子を脱水する方法として、含水している表面処理済みシリカ粒子に対して、水よりも沸点が高い水系有機溶媒を添加後、その水系有機溶媒に溶解可能な混合材料を混合し、水を除去する方法を用いることができる。水系有機溶媒としてはプロピレングリコールモノメチルエーテル(プロピレングリコール−1−メチルエーテル、沸点119℃程度;プロピレングリコール−2−メチルエーテル、沸点130℃程度)、ブタノール(沸点117.7℃)、N−メチル−2−ピロリドン(沸点204℃程度)、γ−ブチロラクトン(沸点204℃程度)などが例示できる。   As a method of dehydrating the surface-treated silica particles other than drying, a mixed material that can be dissolved in the water-based organic solvent after adding a water-based organic solvent having a boiling point higher than water to the water-treated surface-treated silica particles Can be used to remove water. Examples of aqueous organic solvents include propylene glycol monomethyl ether (propylene glycol-1-methyl ether, boiling point of about 119 ° C .; propylene glycol-2-methyl ether, boiling point of about 130 ° C.), butanol (boiling point of 117.7 ° C.), N-methyl- Examples include 2-pyrrolidone (boiling point of about 204 ° C.) and γ-butyrolactone (boiling point of about 204 ° C.).

(試験1:粒子材料への加熱によるα化:その1)
D50が0.58μm、当初のα化率2%のアルミナからなる粒子材料に対して種々の温度で加熱したときのα化率の時間依存性を検討した。同時に得られた加熱物の形態をSEMにて観察し融着の程度を評価した。
(Test 1: Alphaization by heating to particulate material: Part 1)
The time dependence of the alpha conversion rate when the particulate material made of alumina with D50 of 0.58 μm and an initial alpha conversion ratio of 2% was heated at various temperatures was examined. At the same time, the form of the heated product obtained was observed with an SEM to evaluate the degree of fusion.

加熱温度としては1225℃、1250℃、1275℃、1300℃、1325℃とした。加熱時間は3分、5分、10分、20分とした。結果を表1に示す。測定したD50は焼成後の試料を自動乳鉢にて一定の条件下で解砕したものについて測定した。D50が大きい方が融着の程度が大きいと考えられる。ここで1325℃で3分間処理したもののSEM写真を図1に示す。   The heating temperatures were 1225 ° C., 1250 ° C., 1275 ° C., 1300 ° C., and 1325 ° C. The heating time was 3 minutes, 5 minutes, 10 minutes, and 20 minutes. The results are shown in Table 1. The measured D50 was measured on a sample that had been baked under a certain condition in an automatic mortar. A larger D50 is considered to have a greater degree of fusion. Here, an SEM photograph of the sample treated at 1325 ° C. for 3 minutes is shown in FIG.

表より明らかなように、α化率が20%前後まで進んだ後、僅かな時間でα化率90%前後にまで進んでおり、又、融着の程度も進んでいることが分かった。α化率の変化は急激であり、途中の状態で止めることは困難であることが分かった(α化度30%〜80%の間に入るような条件が発見できなかった)。
(試験2:粒子材料への加熱によるα化:その2)
D50が8.8μm、当初のα化率19%のアルミナからなる粒子材料に対して種々の温度で加熱したときのα化率の時間依存性を検討した。同時に得られた加熱物の形態をSEMにて観察し融着の程度を評価した。
As is apparent from the table, it was found that after the alpha conversion rate progressed to around 20%, the alpha conversion rate progressed to around 90% in a short time, and the degree of fusion also advanced. It was found that the change in the pregelatinization rate was abrupt and it was difficult to stop in the middle of the state (conditions that fall between 30% and 80% of the pregelatinization degree could not be found).
(Test 2: Alpha conversion by heating to particulate material: Part 2)
The time dependence of the alpha conversion rate when the particulate material made of alumina with D50 of 8.8 μm and the original alpha conversion ratio of 19% was heated at various temperatures was examined. At the same time, the form of the heated product obtained was observed with an SEM to evaluate the degree of fusion.

加熱温度としては1225℃、1250℃、1275℃、1300℃、1325℃とした。加熱時間は3分、5分、10分とした。結果を表2に示す。   The heating temperatures were 1225 ° C., 1250 ° C., 1275 ° C., 1300 ° C., and 1325 ° C. The heating time was 3 minutes, 5 minutes, and 10 minutes. The results are shown in Table 2.

表より明らかなように、19%程度だったα化度は3分から5分で90%超える値となり「その1」の試験と同様にα化度の進行は速やかなものであることが分かった。なお、本条件下では融着の程度は弱かった。これは本条件では当初のD50が8.8μmと「その1」のD50よりも大きく、また、粒径も揃っていたために粒子同士の接触が少ないことが原因であると推測された。なお、表面に粒径が小さい粒子が当初から存在していたがその小さな粒子は加熱により大きな粒子に融着していた。なお、α化度が19%から速やかに(数分で)90%以上に変化しているおり、「その1」の試験と比べて変化が速いことから最初のα化度がある程度高いとそのα相を起点として相転移が速やかに進むことが推測された。
(試験3:粒子材料への加熱温度の多段階化の検討)
試験1にて1225℃で10分間加熱するとα化度が25%になることが分かった。その試料を原料として種々の温度で加熱したときのα化の進行を検討した。
As can be seen from the table, the degree of pregelatinization, which was about 19%, exceeded 90% in 3 minutes to 5 minutes, and it was found that the progress of the degree of pregelatinization was rapid as in the test of “Part 1”. . Note that the degree of fusion was weak under these conditions. This was presumed to be due to the fact that, under this condition, the initial D50 was 8.8 μm, which was larger than “Part 1” D50, and the particle diameters were uniform, so there was little contact between the particles. In addition, although the particle | grains with a small particle diameter existed on the surface from the beginning, the small particle | grain was fuse | melted to the large particle | grain by heating. It should be noted that the degree of pregelatinization changed rapidly from 19% to 90% or more (in a few minutes), and since the change was faster than in the “No. 1” test, It was speculated that the phase transition proceeded rapidly starting from the α phase.
(Test 3: Examination of multi-step heating temperature for particulate material)
In Test 1, it was found that when heated at 1225 ° C. for 10 minutes, the degree of pregelatinization was 25%. The progress of pregelatinization when the sample was heated at various temperatures as a raw material was examined.

D50が0.58μm、当初のα化率2%のアルミナからなる粒子材料に対して1225℃で10分間熱処理を行った。その結果、α化度が33%、D50が2.4となった。その試料について1100℃、1150℃、1200℃で加熱を行った。加熱時間は5分、10分、15分、20分としα化率の時間依存性を検討した。同時に得られた加熱物の形態をSEMにて観察し融着の程度を評価した。結果を表3に示す。ここで1200℃で20分間処理したもののSEM写真を図2に示す。   A particle material made of alumina having a D50 of 0.58 μm and an initial alpha conversion rate of 2% was heat-treated at 1225 ° C. for 10 minutes. As a result, the α degree was 33% and D50 was 2.4. The sample was heated at 1100 ° C., 1150 ° C., and 1200 ° C. The heating time was 5 minutes, 10 minutes, 15 minutes, and 20 minutes, and the time dependence of the pregelatinization rate was examined. At the same time, the form of the heated product obtained was observed with an SEM to evaluate the degree of fusion. The results are shown in Table 3. Here, an SEM photograph of the sample treated at 1200 ° C. for 20 minutes is shown in FIG.

表より明らかなように、1200℃以下の加熱では問題になるような融着は進行せずD50も余り大きくならなかった。1200℃での加熱では時間の経過と共にα化度が線形的に上昇し、α化度の制御が容易になった。また、1150℃でも僅かながらではあるがα化度の上昇が認められ、α化度の制御に利用することが期待できた。なお、本条件下では1100℃の加熱ではα化度の変動の傾向は分からなかった。なお、同じ試料を1125℃にて加熱すると10分間でα化度86%まで進行し、D50も16.0μm・融着度は強となり融着の程度が高くなることが分かった。
(試験4:ケイ素含有化合物の検討:一部の側鎖が水素置換されたポリシロキサン)
D50が0.58μm、当初のα化率2%のアルミナからなる粒子材料に対してケイ素含有化合物としての一部の側鎖が水素化されたポリシロキサン(信越化学工業製、KF9901)を種々の比率(粒子材料の質量を基準とした質量%:粒子材料の表面積を基準としたモル量)で混合し得られた混合物について1275℃で加熱したときのα化率の時間依存性を検討した。同時に得られた加熱物の形態をSEMにて観察し融着の程度を評価した。加熱時間は3分、5分、10分とした。結果を表4に示す。
As is apparent from the table, the fusion which causes a problem in heating at 1200 ° C. or less did not proceed, and D50 did not become too large. In the heating at 1200 ° C., the degree of alpha conversion increased linearly with the passage of time, and the control of the degree of alpha alpha became easy. In addition, a slight increase in the degree of α was observed even at 1150 ° C., which could be expected to be used for controlling the degree of α. Under these conditions, the tendency of change in the degree of alpha conversion was not known when heated at 1100 ° C. In addition, when the same sample was heated at 1125 degreeC, it progressed to the alpha degree of 86% in 10 minutes, and it turned out that D50 is also 16.0 micrometers and a fusion degree becomes strong and the grade of a fusion | melting becomes high.
(Test 4: Examination of silicon-containing compound: polysiloxane in which some side chains are hydrogen-substituted)
Various types of polysiloxanes (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KF9901) in which some side chains are hydrogenated as a silicon-containing compound with respect to a particle material made of alumina having a D50 of 0.58 μm and an initial alpha conversion rate of 2% The time dependency of the alpha conversion rate when the mixture obtained by mixing at a ratio (mass% based on the mass of the particulate material: molar amount based on the surface area of the particulate material) was heated at 1275 ° C. was examined. At the same time, the form of the heated product obtained was observed with an SEM to evaluate the degree of fusion. The heating time was 3 minutes, 5 minutes, and 10 minutes. The results are shown in Table 4.

表より明らかなように、ケイ素含有化合物の添加によりα化の進行速度を抑制できることが分かった。また添加量の増加に伴いα化の進行速度も低下する傾向が分かった。特に0.1%又は0.2%添加した試料のα化の進行速度が制御性に優れていることが分かった。
(試験5:ケイ素含有化合物の検討:シリカ)
D50が0.58μm、当初のα化率2%のアルミナからなる粒子材料に対してケイ素含有化合物としてのシリカ粒子(体積平均粒径10nm、表面にフェニル基を導入、アドマテックス製)を種々の比率(粒子材料の質量を基準とした質量%:粒子材料の表面積を基準としたモル量)で混合し得られた混合物について1275℃で加熱したときのα化率の時間依存性を検討した。同時に得られた加熱物の形態をSEMにて観察し融着の程度を評価した。加熱時間は3分、5分、10分とした。結果を表5に示す。
As is apparent from the table, it was found that the advancement rate of the pregelatinization can be suppressed by adding the silicon-containing compound. Moreover, it turned out that the progress rate of pregelatinization also falls with the increase in addition amount. In particular, it was found that the progress of the pregelatinization of the sample added with 0.1% or 0.2% is excellent in controllability.
(Test 5: Examination of silicon-containing compound: silica)
Various silica particles (volume average particle diameter 10 nm, phenyl group introduced on the surface, manufactured by Admatechs) as a silicon-containing compound with respect to the particle material made of alumina with D50 of 0.58 μm and an initial alpha conversion rate of 2% The time dependency of the alpha conversion rate when the mixture obtained by mixing at a ratio (mass% based on the mass of the particulate material: molar amount based on the surface area of the particulate material) was heated at 1275 ° C. was examined. At the same time, the form of the heated product obtained was observed with an SEM to evaluate the degree of fusion. The heating time was 3 minutes, 5 minutes, and 10 minutes. The results are shown in Table 5.

表より明らかなように、ケイ素含有化合物の添加によりα化の進行速度を抑制できることが分かった。また添加量の増加に伴いα化の進行速度も低下する傾向が分かった。特に0.1%〜0.5%の範囲で添加した試料のα化の進行速度が制御性に優れていることが分かった。
(試験6:ケイ素含有化合物及び含窒素化合物の検討:HMDS)
D50が0.58μm、当初のα化率2%のアルミナからなる粒子材料に対してケイ素含有化合物及び含窒素化合物としてのHMDSを種々の比率(粒子材料の質量を基準とした質量%:粒子材料の表面積を基準としたモル量)で混合し得られた混合物について1275℃で加熱したときのα化率の時間依存性を検討した。同時に得られた加熱物の形態をSEMにて観察し融着の程度を評価した。加熱時間は3分、5分、10分とした。結果を表6に示す。
As is apparent from the table, it was found that the advancement rate of the pregelatinization can be suppressed by adding the silicon-containing compound. Moreover, it turned out that the progress rate of pregelatinization also falls with the increase in addition amount. In particular, it has been found that the progress of the pregelatinization of the sample added in the range of 0.1% to 0.5% is excellent in controllability.
(Test 6: Examination of silicon-containing compound and nitrogen-containing compound: HMDS)
Various ratios of HMDS as a silicon-containing compound and a nitrogen-containing compound with respect to a particle material made of alumina with D50 of 0.58 μm and an initial alpha conversion rate of 2% (mass% based on the mass of the particle material: particle material The time dependence of the pregelatinization rate when heated at 1275 ° C. was examined for a mixture obtained by mixing at a molar amount based on the surface area of the slag. At the same time, the form of the heated product obtained was observed with an SEM to evaluate the degree of fusion. The heating time was 3 minutes, 5 minutes, and 10 minutes. The results are shown in Table 6.

表より明らかなように、ケイ素含有化合物に加えて含窒素化合物を添加することにより単純に添加量とα化の進行速度とが相関するような関係ではなく変動することが分かった。具体的にはHDMSにて処理した後、60℃で12時間熟成処理を行ったものについては5.0%の添加でα化の進行速度の制御性に優れていることが判った。熟成処理を行わないものについては2.0%の添加でα化の進行速度の制御性に優れていることが判った。つまり、熟成の有無により2.0%添加(熟成無し)と5.0%(熟成有り:アンモニア生成)とが同様のα化抑制効果を発揮したものと考えられた。なお、60℃12時間の熟成によりHMDSは加水分解されてアンモニアが生成するが、そのアンモニアが残存することで、アンモニアに起因するα化の促進効果が発揮されたために濃度が異なる試験同士で同様の抑制効果が認められたと考えられる。アンモニアによるα化の促進効果はアルミナのα相と類似の結晶構造をもつ窒化アルミニウム生成に関連することが推測された。
(試験7)
試験1〜6について得られたアルミナ粒子材料の真球度を測定した。真球度の測定は前述の方法にて行った。図4は融着が進んだ試料の一例、図5には融着が進んでいない試料の一例を示す。図4及び5には粒子の周囲を囲む線が描写されており、この線の長さと粒子の面積とを用いて先述の式により真球度を算出する。図4の試料では真球度0.67,図5の試料では真球度0.96であった。試験1〜6において融着度「弱」と判断して試料は全て真球度が0.9以上であった。
(試験8)
上述の試験1〜7において融着度が「強」のものと「弱」のものとについてジェットミルにて解砕した前後の様子を検討した。「弱」のものについては解砕後に真球度を保ったまま一次粒子に近い状態にすることができた。例えばKF9901を0.1%(Si量としては2.1μmol/m)で処理した後、1275℃で10分間加熱した試料を試験4と同等の条件にて作成したところ、加熱直後はD50が8.8μm、真比重が3.7g/mLであったところ、ジェットミルにて解砕後はD50が0.6、真比重が3.9と粒径を原料とした粒子材料の0.58μmと同程度の値まで解砕することができた。更に解砕後の真球度は原料の粒子材料とほぼ変わらない値であることが分かった上、α化度は83%と非常に高いものであった。
As is apparent from the table, it has been found that the addition amount and the advancement rate of the pregelatinization are not simply correlated with each other by adding a nitrogen-containing compound in addition to the silicon-containing compound. Specifically, it was found that, after the treatment with HDMS and the aging treatment at 60 ° C. for 12 hours, the addition rate of 5.0% is excellent in controllability of the progress of the α-formation. It was found that for those not subjected to aging treatment, the addition of 2.0% is excellent in controllability of the progression rate of pregelatinization. That is, it was considered that addition of 2.0% (without aging) and 5.0% (with aging: ammonia generation) exhibited the same effect of suppressing α-formation depending on the presence or absence of aging. In addition, HMDS is hydrolyzed by aging at 60 ° C. for 12 hours to produce ammonia, but since the ammonia remains, the effect of promoting α-ization due to ammonia is exerted, so that the test is different between different concentrations. It is considered that an inhibitory effect was observed. It was speculated that the promotion effect of ammonia-induced amination was related to the formation of aluminum nitride with a crystal structure similar to that of the α-phase of alumina.
(Test 7)
The sphericity of the alumina particle material obtained for Tests 1-6 was measured. The sphericity was measured by the method described above. FIG. 4 shows an example of a sample in which fusion has progressed, and FIG. 5 shows an example of a sample in which fusion has not progressed. 4 and 5 depict a line surrounding the periphery of the particle, and the sphericity is calculated by the above formula using the length of the line and the area of the particle. The sample of FIG. 4 has a sphericity of 0.67, and the sample of FIG. 5 has a sphericity of 0.96. In Tests 1 to 6, it was judged that the degree of fusion was “weak”, and all the samples had a sphericity of 0.9 or more.
(Test 8)
In the tests 1 to 7 described above, the state before and after crushing with a jet mill was examined for the case where the degree of fusion was “strong” and “weak”. The “weak” particles were able to be in a state close to primary particles while maintaining the sphericity after crushing. For example, when KF9901 was treated with 0.1% (Si content: 2.1 μmol / m 2 ) and heated at 1275 ° C. for 10 minutes under the same conditions as in Test 4, D50 was found immediately after heating. When the true specific gravity was 8.8 μm and the true specific gravity was 3.7 g / mL, after pulverizing with a jet mill, the D50 was 0.6, the true specific gravity was 3.9, and the particle material was 0.58 μm. It was possible to crush to the same level as. Further, it was found that the sphericity after pulverization was a value that was almost the same as that of the raw material particle material, and the α-degree was as high as 83%.

その他の融着度「弱」の試料も原料の粒子材料と同程度の粒径及び真球度にまで解砕することができた。融着度が「強」の試料では解砕ができても「弱」のものより解砕に必要なエネルギーが増えたり、解砕ができないものもあった。また、解砕ができたものでもα化度は高くできたものの真球度は原料の粒子材料よりも大きく低下することが明らかになった。   Other samples with a low degree of fusion were also able to be crushed to a particle size and sphericity comparable to that of the raw material. Some samples with a fusion strength of “strong” can be crushed, but some of the energy required for crushing is higher than that of “weak”, and some samples cannot be crushed. It was also found that the sphericity was significantly lower than that of the raw material particle material although the degree of alpha conversion could be increased even if the material could be crushed.

Claims (8)

真球度が0.9以上でアルミナを主成分とする粒子材料と、
1200℃超の温度でα相が10%以上40%以下になるまで加熱する前処理工程と、
前記前処理工程での加熱温度より低く且つ1225℃未満1150℃超の温度で加熱して真球度が0.9以上のα化アルミナ粒子材料にするα化工程と、
を有するアルミナ粒子材料の製造方法。
A particle material having a sphericity of 0.9 or more and mainly composed of alumina;
A pretreatment step of heating until the α phase becomes 10% or more and 40% or less at a temperature exceeding 1200 ° C .;
An alphatization step of heating to a temperature lower than 1225 ° C and greater than 1150 ° C to a pregelatinized alumina particle material having a sphericity of 0.9 or more,
The manufacturing method of the alumina particle material which has this.
前記前処理工程は1220℃以上の温度で加熱する工程である請求項1に記載のアルミナ粒子材料の製造方法。   The method for producing an alumina particle material according to claim 1, wherein the pretreatment step is a step of heating at a temperature of 1220 ° C or higher. 前記α化工程はα化率90%以下で終える請求項1又は2に記載のアルミナ粒子材料の製造方法。   The method for producing an alumina particle material according to claim 1 or 2, wherein the pregelatinization step is completed at a pregelatinization rate of 90% or less. 真球度が0.9以上でアルミナを主成分とする粒子材料と、前記粒子材料の表面積を基準として、6.4μmol/m未満0μmol/m超のケイ素原子を有するケイ素含有化合物とを混合して混合物とする混合工程と、
前記混合物を1200℃超1325℃以下で加熱して真球度が0.9以上のα化アルミナ粒子材料にする第2α化工程と、
を有するアルミナ粒子材料の製造方法。
A particle material having a sphericity of 0.9 or more and mainly composed of alumina, and a silicon-containing compound having a silicon atom of less than 6.4 μmol / m 2 and more than 0 μmol / m 2 based on the surface area of the particle material A mixing step of mixing into a mixture;
A second α-izing step in which the mixture is heated above 1200 ° C. and below 1325 ° C. to obtain an α-aluminized alumina particle material having a sphericity of 0.9 or more;
The manufacturing method of the alumina particle material which has this.
真球度が0.9以上でアルミナを主成分とする粒子材料と、ケイ素原子を有するケイ素含有化合物と、前記ケイ素含有化合物と同一でもよく且つ加熱によりNH結合をもつ化合物を放出する含窒素化合物とを混合して混合物とする第2混合工程と、
前記混合物を1200℃超1325℃以下で加熱して真球度が0.9以上のα化アルミナ粒子材料にする第2α化工程と、
を有するアルミナ粒子材料の製造方法。
Particulate material having a sphericity of 0.9 or more and mainly composed of alumina, a silicon-containing compound having a silicon atom, and a nitrogen-containing compound that releases the compound that may be the same as the silicon-containing compound and that has an NH bond by heating A second mixing step of mixing
A second α-izing step in which the mixture is heated above 1200 ° C. and below 1325 ° C. to obtain an α-aluminized alumina particle material having a sphericity of 0.9 or more;
The manufacturing method of the alumina particle material which has this.
前記ケイ素含有化合物は、側鎖の一部が水素であるポリシロキサン化合物、粒径が100nm以下のシリカ粒子、ヘキサメチルジシラザンのうちの1つ以上である請求項4又は5に記載のアルミナ粒子材料の製造方法。   The alumina particles according to claim 4 or 5, wherein the silicon-containing compound is one or more of a polysiloxane compound in which a part of a side chain is hydrogen, a silica particle having a particle size of 100 nm or less, and hexamethyldisilazane. Material manufacturing method. 粒径が500μm以下且つ真球度が0.9以上であって、α相アルミナを主成分とするα化アルミナ粒子材料からなるアルミナ粒子材料。   An alumina particle material having a particle size of 500 μm or less and a sphericity of 0.9 or more and comprising an α-alumina particle material mainly composed of α-phase alumina. 粒径が50μm以下である請求項7に記載のアルミナ粒子材料。   The alumina particle material according to claim 7, wherein the particle size is 50 μm or less.
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