JP2017171995A - Plating device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、めっき装置に関する。 The present invention relates to a plating apparatus.
めっき装置には、めっき液にアノード電極とカソード電極としての被めっき品を浸漬し、アノード電極と被めっき品間に通電して、被めっき品の表面に金属を析出させるものがある。 In some plating apparatuses, a product to be plated as an anode electrode and a cathode electrode is immersed in a plating solution, and a current is applied between the anode electrode and the product to be plated to deposit a metal on the surface of the product to be plated.
この種のめっき装置では、被めっき品の表面に均一にめっき層を形成するため、従来より種々の手段が提案されている。 In this type of plating apparatus, various means have been proposed in the past in order to uniformly form a plating layer on the surface of the product to be plated.
例えば、被めっき品から所定距離だけ離間して被めっき品と平行にアノード電極をめっき液に浸漬して配置し、被めっき品に対しアノード電極の離間距離を徐々に離間方向に移動させながら通電する手段が提案されている(特許文献1参照)。 For example, the anode electrode is immersed in the plating solution in parallel with the product to be plated, separated from the product to be plated, and energized while gradually moving the distance of the anode electrode away from the product to be plated. Means to do this has been proposed (see Patent Document 1).
また、アノード電極のほかに、被めっき品とほぼ同じ電位となるように配置される補助カソード電極と共に電流遮蔽板を設け、補助カソード電極及び電流遮蔽板を被めっき品のエッジ部の表面段差付近に配置して被めっき品のエッジ部付近の電流集中若しくは電流遮断を緩和する手段が提案されている(特許文献2参照)。 In addition to the anode electrode, a current shielding plate is provided together with an auxiliary cathode electrode arranged so as to have substantially the same potential as the product to be plated, and the auxiliary cathode electrode and the current shielding plate are provided near the surface step at the edge of the product to be plated. A means for relaxing current concentration or current interruption in the vicinity of an edge portion of a product to be plated has been proposed (see Patent Document 2).
しかしながら、前者の従来例では、被めっき品の表面に凹凸がある場合には、アノード電極との距離が被めっき品の位置によって異なるため、均一なめっき層を形成することができない。 However, in the former conventional example, when the surface of the product to be plated is uneven, the distance from the anode electrode varies depending on the position of the product to be plated, and thus a uniform plating layer cannot be formed.
後者の従来例では、被めっき品のエッジ部に表面段差がある場合には、対応可能であるが、それ以外の被めっき品の形態では均一なめっき層を形成することができない。 In the latter conventional example, it is possible to cope with the case where there is a surface step at the edge portion of the product to be plated, but a uniform plating layer cannot be formed in other forms of the product to be plated.
つまり、従来のめっき装置では、被めっき品の表面が平面であったり、被めっき品のエッジに表面段差があるものには対応できるが、表面が複数の異なる向きの面より形成される被めっき品にあっては、均一なめっき層を形成することができない。 In other words, in the conventional plating apparatus, the surface of the product to be plated is flat or the surface of the product to be plated has a level difference, but the surface to be plated is formed from a plurality of differently oriented surfaces. In a product, a uniform plating layer cannot be formed.
そこで、本発明は、前記した課題を解決すべくなされたものであり、複数の異なる向きの表面を有する被めっき品でも、極力均一なめっき層を形成できるめっき装置を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a plating apparatus capable of forming a uniform plating layer as much as possible even for a product to be plated having a plurality of differently oriented surfaces. .
本発明は、めっき液が入れられためっき槽と、前記めっき液に浸漬された被めっき品と、前記めっき液に浸漬され、前記被めっき品に間隔を置いて配置可能なアノード電極とを備えためっき装置において、前記アノード電極は、複数の部分アノード電極に分割されており、前記各部分アノード電極が前記被めっき品の表面に対向する面の向きをそれぞれ可変自在に設けられていることを特徴とするめっき装置である。 The present invention includes a plating tank in which a plating solution is placed, a product to be plated that is immersed in the plating solution, and an anode electrode that is immersed in the plating solution and that can be disposed at an interval from the product to be plated. In the plating apparatus, the anode electrode is divided into a plurality of partial anode electrodes, and each of the partial anode electrodes is provided so that the direction of the surface facing the surface of the product to be plated can be varied. This is a characteristic plating apparatus.
本発明によれば、各部分アノード電極の向きを変更可能であるため、各部分アノード電極の向きを被めっき品の異なる向きの表面に対してそれぞれできるだけ平行に対向配置できるため、各部分アノード電極と被めっき品の異なる向きの表面との距離をできるだけ均一にできる。従って、複数の異なる向きの表面を有する被めっき品でも、極力均一なめっき層を形成できる。 According to the present invention, since the orientation of each partial anode electrode can be changed, the orientation of each partial anode electrode can be arranged opposite to each other in parallel as much as possible with respect to the surface of the product to be plated. And the surface of the object to be plated in different directions can be made as uniform as possible. Therefore, a uniform plating layer can be formed as much as possible even with a product to be plated having a plurality of surfaces in different directions.
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1〜図6は本発明の一実施形態を示す。図1に示すように、被めっき品1は、合成樹脂材の車両外装品である。被めっき品1は、長尺状であり、長手方向の直交方向(幅方向)のほぼ中央を頂点とし、頂点を境として左右の表面が異なる向きの傾斜面1a,1bに形成され、各傾斜面1a,1bの長手方向がほぼフラットな面に形成されている。
1 to 6 show an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the article to be plated 1 is a vehicle exterior product made of a synthetic resin material. The article to be plated 1 has a long shape, and is formed on
図2に示すように、被めっき品1は、ハンガー13に取り付けされる。この実施形態では、ハンガー13には、その両面で4つの被めっき品1が取り付けされる。
As shown in FIG. 2, the article to be plated 1 is attached to a
図3〜図5に示すように、めっき装置10は、めっき液(電解液)12が入れられためっき槽11と、被めっき品1を取付けたハンガー13と、複数のアノード電極14とを備えている。ハンガー13は、めっき槽11の上方位置と前工程の作業位置及び次工程の作業位置(例えば次工程のめっき槽)に移動できるよう水平移動可能であると共に、めっき槽11のめっき液12に浸漬したり、引き揚げたりできるよう上下方向に移動可能に構成されている。
As shown in FIGS. 3 to 5, the
各アノード電極14は、複数(この実施形態では4つ)の部分アノード電極14aに分割されている。複数の部分アノード電極14aは、各支持ロッド15によって電極台座16にそれぞれ支持されている。電極台座16は、ハンガー13に取り付けされた被めっき品1に対して遠近方向(離間・近接方向)Aに移動自在に設けられている。
Each
各支持ロッド15の先端は、各部分アノード電極14aの回転軸15aを中心に回転自在(図5のB矢印方向)に支持されている。回転軸15aは、部分アノード電極14aの中心に設けられている。各部分アノード電極14aは、被めっき品1に対向する面の向きを変更できるようになっている。
The tip of each
具体的には、図6に示すように、電極台座16には、部分アノード電極14a毎にアクチュエータ17と、各アクチュエータ17で回転され、突出するストローク量を可変可能なボールねじ18とが設けられている。各ボールねじ18の先端は、各部分アノード電極14aに回転フローの状態で支持されている。ボールねじ18のストローク量を可変することで部分アノード電極14aの向きを可変できる。
Specifically, as shown in FIG. 6, the
次に、めっき装置1によるめっき工程を説明する。先ず、図4に示すように、複数の部分アノード電極14aは、一列に並んだ状態で、被めっき品1の位置より十分に遠いアノード原点位置に位置する。ハンガー13がハンガー浸漬位置で降下され、ハンガー13に取り付けられた被めっき品1がめっき液12に浸漬される。次に、図5に示すように、複数の部分アノード電極14aは、被めっき品1に近接する位置まで直線移動され、その後、各部分アノード電極14aは、被めっき品1の各対向する傾斜面1a,1bに対してほぼ平行に対向配置されるように、被めっき品1に対向する面の向きがそれぞれ調整される。
Next, the plating process by the plating
次に、被めっき品1と複数の部分アノード電極14aとの間に電圧を印加し、所定時間だけ通電する。これにより、被めっき品1の表面(傾斜面1a,1bを含む)に金属が析出し、被めっき品1の表面(傾斜面1a,1bを含む)にめっき層(図示せず)が形成される。所定時間の通電が終了すると、ハンガー13を引き上げ、被めっき品1がめっき槽11より引き上げられる。これで、当該めっき工程が完了する。
Next, a voltage is applied between the article to be plated 1 and the plurality of
以上説明したように、各部分アノード電極14aの向きを変更可能であるため、各部分アノード電極14aの向きを被めっき品1の異なる向きの各傾斜面1a,1bに対してそれぞれできるだけ平行に対向配置できるため、各部分アノード電極14aと被めっき品1の異なる向きの各傾斜面1a,1bとの距離をできるだけ均一にできる。従って、複数の異なる向きの表面を有する被めっき品1において、極力均一なめっき層(図示せず)を形成できる。
As described above, since the orientation of each
各部分アノード電極14aは、回転自在に設けられ、回転によって被めっき品1の表面の傾斜面1a,1bに平行に対向するよう向きをそれぞれ可変自在である。従って、部分アノード電極14aに回転機構を適用すれば良いため、簡単な構造によって部分アノード電極14aの向きを可変できる。
Each
各部分アノード電極14aは、被めっき品1の表面に対する向きを二次元で可変可能に設けられている。従って、被めっき品1の表面が二次元で異なる向きを有する場合に、ほぼ平行配置できる。各部分アノード電極14aは、被めっき品1の表面に対する向きを三次元で可変可能に設けても良い。このように構成すれば、被めっき品1の表面が三次元で異なる向きを有する場合にも、ほぼ平行配置できる。
Each
この実施形態では、複数の部分アノード電極14aは、被めっき品1との間隔を一律に可変できるため、単一の駆動機構によって複数の部分アノード電極14aを移動できる。各部分アノード電極14aは、被めっき品1との間隔を可変する方向にそれぞれ個々に移動可能に設けても良い。このようにすれば、各部分アノード電極14a毎に被めっき品1の対向表面との間隔を自由に調整できる。
In this embodiment, since the space | interval with the to-
この実施形態では、アノード電極14は、4つの部分アノード電極14aに分割されているが、分割個数を問わない。アノード電極14aの分割数が多ければ多いほど、被めっき品1の異なる向きの表面が複雑なものに対応でき、ほぼ均一厚みでめっき処理が可能である。
In this embodiment, the
この実施形態では、複数の部分アノード電極14aに同一電圧を印加するよう構成されているが、各部分アノード電極14a毎に異なる電圧を印加できるよう構成しても良い。このように構成すれば、被めっき品1の対向する表面の状況等によって、均一なめっき厚形成のために、更にきめ細かい制御が可能である。
In this embodiment, the same voltage is applied to the plurality of
この実施形態では、従来のように補助カソード電極を用いないため、めっき液12の組成が徐々に悪化したり、めっき液12の管理が面倒になったり、コストが高くなったりという不具合が生じない。
In this embodiment, since the auxiliary cathode electrode is not used as in the prior art, there is no problem that the composition of the
1 被めっき品
1a,1b 傾斜面
10 めっき装置
11 めっき槽
12 めっき液
14 アノード電極
14a 部分アノード電極
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記アノード電極は、複数の部分アノード電極に分割されており、前記各部分アノード電極が前記被めっき品の表面に対する向きをそれぞれ可変自在に設けられていることを特徴とするめっき装置。 In a plating apparatus comprising: a plating tank in which a plating solution is placed; a product to be plated immersed in the plating solution; and an anode electrode which is immersed in the plating solution and can be arranged at intervals on the product to be plated ,
2. The plating apparatus according to claim 1, wherein the anode electrode is divided into a plurality of partial anode electrodes, and each of the partial anode electrodes is provided so that its direction relative to the surface of the article to be plated can be varied.
前記各部分アノード電極は、回転自在に設けられ、回転によって前記被めっき品の表面に対する向きをそれぞれ可変自在であることを特徴とするめっき装置。 The plating apparatus according to claim 1,
Each said partial anode electrode is provided rotatably, The direction with respect to the surface of the said to-be-plated goods can be each changed by rotation, The plating apparatus characterized by the above-mentioned.
前記各部分アノード電極は、前記被めっき品の表面に対する向きを二次元で可変可能に設けられていることを特徴とするめっき装置。 The plating apparatus according to claim 1 or 2,
Each said partial anode electrode is provided with the direction with respect to the surface of the said to-be-plated goods so that variable in two dimensions is possible.
前記各部分アノード電極は、前記被めっき品の表面に対する向きを三次元で可変可能に設けられていることを特徴とするめっき装置。 The plating apparatus according to claim 1 or 2,
Each said partial anode electrode is provided with the direction with respect to the surface of the said to-be-plated goods so that variable in three dimensions is possible.
前記各部分アノード電極は、前記被めっき品との間隔を可変する方向にそれぞれ移動可能に設けられていることを特徴とするめっき装置。 The plating apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein
Each of the partial anode electrodes is provided so as to be movable in a direction in which the distance from the article to be plated is variable.
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