JP2017171972A - 塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法 - Google Patents
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Abstract
Description
第2発明の塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法は、第1発明において、最終段の前記反応槽において、塩化ニッケル水溶液の酸化還元電位(Ag/AgCl電極基準)を1,000mV以上、1,100mV以下に調整し、pHを4.3以上、4.7以下に調整することを特徴とする。
第3発明の塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法は、第1または第2発明において、最終段の前記反応槽から排出された前記澱物を含むスラリーを固液分離して得られた前記澱物の一部を第一段の前記反応槽に供給することを特徴とする。
第4発明の塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法は、第3発明において、前記澱物を含むスラリーを固液分離して得られた前記澱物の水分率は70重量%以上、80重量%以下であることを特徴とする。
第5発明の塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法は、第3または第4発明において、第一段の前記反応槽に供給する前記澱物の量を、第一段の前記反応槽に供給される塩化ニッケル水溶液から得られる澱物の量に対して、重量比で50%以上、100%以下とすることを特徴とする。
本発明の一実施形態に係る塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法は、ニッケルの湿式製錬プロセスの脱鉛工程に好適に適用される。なお、本実施形態の不純物除去方法は、不純物を含む塩化ニッケル水溶液に酸化剤および中和剤を添加して、酸化中和反応により不純物を含む澱物を生成する工程であれば、いかなるプロセスの工程にも適用し得る。以下、ニッケルの湿式製錬プロセスの脱鉛工程を例に説明する。
まず、図3に基づき、ニッケルの湿式製錬プロセスを説明する。
湿式製錬プロセスでは、原料であるニッケル硫化物として、ニッケルマットとニッケル・コバルト混合硫化物(MS:ミックスドサルファイド)との2種類が用いられる。
つぎに、図1に基づき、脱鉛工程を説明する。
脱鉛工程は酸化中和工程と、固液分離工程とからなる。
実施例1および比較例1、2の共通の条件は以下の通りである。
ニッケルの湿式製錬プロセスの脱鉛工程を以下の条件で操業した。
塩化ニッケル水溶液の組成:ニッケルが165〜175g/L、鉛が1〜3mg/L、コバルトが5〜10mg/L、亜鉛が0.05〜0.1mg/Lである。
塩化ニッケル水溶液の供給量:2,000〜3,000L/分
酸化剤:純度100体積%の塩素ガス
中和剤:固形分濃度が約200g/Lの炭酸ニッケルスラリー
固液分離装置:チューブフィルター28基
酸化中和工程から得られる澱物スラリーの水分率:99重量%
固液分離工程から得られる脱鉛澱物の水分率:70〜80重量%
固液分離工程から得られた脱鉛澱物の粒度分布をレーザー回折・散乱方式の粒度分布測定装置(日機装株式会社製 型番:HRA9320−X100)で測定した。
酸化中和工程において4槽の反応槽を直列に接続した設備を用いた。第一段から第三段の反応槽には酸化剤および中和剤を添加し、塩化ニッケル水溶液の酸化還元電位(Ag/AgCl電極基準)を980〜1,050mVに調整し、pHを4.3〜5.1に調整した。最終段の反応槽には酸化剤のみを添加し、塩化ニッケル水溶液の酸化還元電位(Ag/AgCl電極基準)を1,000〜1,050mVに調整し、pHを4.3〜4.7に調整した。また、固液分離工程から得られた脱鉛澱物を流量50L/分で第一段の反応槽に供給した。
酸化中和工程において3槽の反応槽を直列に接続した設備を用いた。第一段から第三段の反応槽には酸化剤および中和剤を添加し、塩化ニッケル水溶液の酸化還元電位(Ag/AgCl電極基準)を980〜1,050mVに調整し、pHを4.3〜5.1に調整した。また、固液分離工程から得られた脱鉛澱物を流量50L/分で第一段の反応槽に供給した。
酸化中和工程において3槽の反応槽を直列に接続した設備を用いた。第一段から第三段の反応槽には酸化剤および中和剤を添加し、塩化ニッケル水溶液の酸化還元電位(Ag/AgCl電極基準)を980〜1,050mVに調整し、pHを4.3〜5.1に調整した。脱鉛澱物の第一段の反応槽への供給を行わなかった。
Claims (5)
- 不純物を含む塩化ニッケル水溶液に酸化剤および中和剤を添加して、酸化中和反応により前記不純物を含む澱物を生成するにあたり、
直列に接続された複数の反応槽に塩化ニッケル水溶液を流して、段階的に酸化中和反応を行い、
最終段の前記反応槽において、塩化ニッケル水溶液に前記酸化剤として塩素ガスを添加し、前記中和剤を添加しない
ことを特徴とする塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法。 - 最終段の前記反応槽において、塩化ニッケル水溶液の酸化還元電位(Ag/AgCl電極基準)を1,000mV以上、1,100mV以下に調整し、pHを4.3以上、4.7以下に調整する
ことを特徴とする請求項1記載の塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法。 - 最終段の前記反応槽から排出された前記澱物を含むスラリーを固液分離して得られた前記澱物の一部を第一段の前記反応槽に供給する
ことを特徴とする請求項1または2記載の塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法。 - 前記澱物を含むスラリーを固液分離して得られた前記澱物の水分率は70重量%以上、80重量%以下である
ことを特徴とする請求項3記載の塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法。 - 第一段の前記反応槽に供給する前記澱物の量を、第一段の前記反応槽に供給される塩化ニッケル水溶液から得られる澱物の量に対して、重量比で50%以上、100%以下とする
ことを特徴とする請求項3または4記載の塩化ニッケル水溶液の不純物除去方法。
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