JP2017168857A - プローバ - Google Patents
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Abstract
Description
2 ・・・ チャンバ
2a・・・ 吸気口
2b・・・ 排気口
21・・・ ウェハチャック
22・・・ プローブカード
22a・・・プローブ
23・・・ X軸移動ステージ
24・・・ Y軸移動ステージ
25・・・ Z軸移動ステージ
3 ・・・ 循環ダクト
4 ・・・ 空気循環手段
41・・・ 吸引ファン
42・・・ FFU
43・・・ 排気ファン
5 ・・・ 乾燥空気供給手段
51・・・ ノズル
6 ・・・ 撹拌手段
61・・・ 温度検知部
62・・・ 速度検知部
63・・・ 演算部
64・・・ 制御部
65・・・ 撹拌溝
66・・・ 撹拌壁
D ・・・ 乾燥空気供給位置
R ・・・ 循環経路
W ・・・ ウェハ
Claims (3)
- ウェハチャックとプローブカードとを収容するチャンバと、該チャンバに吸気口と排気口とを介して接続されて空気の循環経路を形成する循環ダクトと、前記空気を前記循環経路内で循環させる空気循環手段と、を備えたプローバであって、
前記循環ダクトの上流側に配置され、前記空気の露点を低下させる乾燥空気を前記循環ダクト内に供給する乾燥空気供給手段を備えていることを特徴とするプローバ。 - 前記循環ダクト内に設けられて、前記空気と前記乾燥空気とを撹拌する撹拌手段を備えていることを特徴とする請求項1記載のプローバ。
- 前記撹拌手段は、
前記循環ダクト内を流れる空気の温度を検知する温度検知部と、
前記空気の温度に基づいて、前記循環ダクト内の前記空気及び前記乾燥空気を撹拌可能な臨界レイノルズ数と該臨界レイノルズ数以上を維持可能な空気の乱流維持可能流量とを導出する演算部と、
前記空気の乱流維持可能流量に応じて前記空気循環手段の循環流量を制御する制御部と、
を備えていることを特徴とする請求項2記載のプローバ。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020010006A (ja) * | 2018-07-12 | 2020-01-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 検査装置及び検査装置の清浄化方法 |
US20200194280A1 (en) * | 2018-12-12 | 2020-06-18 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and processing liquid concentration method |
JP2020143923A (ja) * | 2019-03-04 | 2020-09-10 | 株式会社日立ハイテク | 自動分析装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01157544A (ja) * | 1987-09-02 | 1989-06-20 | Tokyo Electron Ltd | プローブ装置 |
JPH01158372A (ja) * | 1987-12-15 | 1989-06-21 | Tokyo Electron Ltd | プローブ装置 |
JP2010087090A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Tokyo Electron Ltd | 検査装置及び検査方法 |
-
2017
- 2017-05-09 JP JP2017093284A patent/JP6379253B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01157544A (ja) * | 1987-09-02 | 1989-06-20 | Tokyo Electron Ltd | プローブ装置 |
JPH01158372A (ja) * | 1987-12-15 | 1989-06-21 | Tokyo Electron Ltd | プローブ装置 |
JP2010087090A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Tokyo Electron Ltd | 検査装置及び検査方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020010006A (ja) * | 2018-07-12 | 2020-01-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 検査装置及び検査装置の清浄化方法 |
KR20200007664A (ko) * | 2018-07-12 | 2020-01-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 검사 장치 및 검사 장치의 청정화 방법 |
CN110780176A (zh) * | 2018-07-12 | 2020-02-11 | 东京毅力科创株式会社 | 检查装置和检查装置的清洁化方法 |
KR102257733B1 (ko) * | 2018-07-12 | 2021-05-28 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 검사 장치 및 검사 장치의 청정화 방법 |
US11181573B2 (en) | 2018-07-12 | 2021-11-23 | Tokyo Electron Limited | Inspection apparatus and cleaning method of inspection apparatus |
JP7018368B2 (ja) | 2018-07-12 | 2022-02-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 検査装置及び検査装置の清浄化方法 |
US20200194280A1 (en) * | 2018-12-12 | 2020-06-18 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and processing liquid concentration method |
US11615971B2 (en) * | 2018-12-12 | 2023-03-28 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and processing liquid concentration method |
JP2020143923A (ja) * | 2019-03-04 | 2020-09-10 | 株式会社日立ハイテク | 自動分析装置 |
JP7261616B2 (ja) | 2019-03-04 | 2023-04-20 | 株式会社日立ハイテク | 自動分析装置 |
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