JP2017161681A - Photosensitive resin composition - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition whose cured product has high reflectance, less yellowness, high resolution, and excellent adhesion.SOLUTION: The alkali-developable photosensitive resin composition is used which contains a hydrophilic resin (A) having a radically polymerizable group, a polyfunctional (meth)acrylate monomer (B), a photopolymerization initiator (C), and titanium oxide (D) as essential components. The titanium oxide (D) contains titanium oxide (D1) having a primary particle diameter of 10 nm or more and 100 nm or less and titanium oxide (D2) having a primary particle diameter of 100 nm or more and 500 nm or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は感光性樹脂組成物に関する。
詳しくは、タッチパネル用ベゼルなどの不透明なタッチパネル用部材や反射板などのバックライト用部材の感光性樹脂組成物に関する。
The present invention relates to a photosensitive resin composition.
Specifically, the present invention relates to a photosensitive resin composition for an opaque touch panel member such as a touch panel bezel or a backlight member such as a reflector.

近年、タッチパネル使用が普遍化しつつある。特に、スマートフォンとタブレットパソコンの商用化および急激な発展は、タッチパネルの大衆化および発展を牽引してきた。タッチパネル装置は、タッチして入力する概念以外にも、インターフェースにユーザーの直観的経験を反映しかつタッチに対するフィードバックをより多様化する概念が含まれる。タッチパネル装置は、空間の節約が可能であるうえ、操作性の向上及び簡便性を実現することができ、仕様の変更が容易で、利用者の認識が高いという点の他にも、IT機器との連動が容易であるという多くの長所がある。 In recent years, the use of touch panels has become common. In particular, the commercialization and rapid development of smartphones and tablet computers have led to the popularization and development of touch panels. In addition to the concept of touching and inputting, the touch panel device includes a concept that reflects the user's intuitive experience in the interface and further diversifies feedback for touch. In addition to being able to save space, touch panel devices can improve operability and simplicity, can easily change specifications, and are highly recognized by users. There are many advantages of being easily linked.

このような長所により、タッチパネルを用いて電子機器を容易かつ速く利用することができるため、産業、交通、サービス、医療、モバイルなどの様々な分野で幅広く用いられている。このようなタッチパネル装置は、近年薄膜化が進められており、例えばベゼルと呼ばれる前面遮光層においても薄膜化が進められている(特許文献1)。 Due to such advantages, electronic devices can be used easily and quickly using a touch panel, and thus are widely used in various fields such as industry, transportation, service, medical care, and mobile. Such a touch panel device has been thinned in recent years, and for example, a front light-shielding layer called a bezel has also been thinned (Patent Document 1).

ベゼル部のコーティング素材として、光遮蔽率が低い白色、ピンク色などの明るいカラーのコーティング組成物が使用される場合、ベゼル部を通してディスプレイの内部が露出しやすいため、十分な光遮蔽率を得るために、膜を厚くする工程を加える方法が開発されている(特許文献2)が、この方法では余分な工程が加わるために通常のタッチパネルの製造プロセスには不向きであり、かつ塗膜が黄色くなるという問題がある。
従って、従来の方法では塗膜の黄色度低減と白色度で示される光隠蔽率の向上を両立は困難である。
When a coating composition with a light color such as white or pink with low light shielding is used as the coating material for the bezel, the interior of the display is easily exposed through the bezel, so that sufficient light shielding is obtained. In addition, a method of adding a step of thickening a film has been developed (Patent Document 2). However, since this method adds an extra step, it is not suitable for a normal touch panel manufacturing process and the coating film becomes yellow. There is a problem.
Therefore, it is difficult for the conventional method to reduce both the yellowness of the coating film and improve the light hiding ratio indicated by the whiteness.

特開2012−145699号公報JP 2012-145699 A 特開2013−152639号公報JP 2013-152039 A

本発明は、硬化物が高い反射率を有し、黄味が少なく、高解像度であり、さらに密着性に優れる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition in which a cured product has a high reflectance, a little yellowishness, a high resolution, and excellent adhesion.

本発明者らは、上記の目的を達成するべく検討を行った結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、ラジカル重合性基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、光重合開始剤(C)、および酸化チタン(D)を必須成分として含有する感光性樹脂組成物であって、酸化チタン(D)として一次粒子の体積平均粒子径が10nm以上100nm未満の酸化チタン(D1)と一次粒子径が100nm以上500nm以下の酸化チタン(D2)を併用することを特徴とするアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物である。
The inventors of the present invention have reached the present invention as a result of studies to achieve the above object.
That is, the present invention contains a hydrophilic resin (A) having a radical polymerizable group, a polyfunctional (meth) acrylate monomer (B), a photopolymerization initiator (C), and titanium oxide (D) as essential components. A photosensitive resin composition comprising titanium oxide (D1) having a primary particle volume average particle diameter of 10 nm or more and less than 100 nm and titanium oxide (D2) having a primary particle diameter of 100 nm or more and 500 nm or less as titanium oxide (D). A photosensitive resin composition capable of alkali development.

本発明の感光性樹脂組成物は、粒子径の大きい酸化チタンと粒子径の小さい酸化チタンを併用しているため高い反射率を有するため白色度(L*値)と低い黄色度(b*値)の両立を達成しており、さらに、高密着性および高解像度であるパターンを形成することができるという効果を奏する。   Since the photosensitive resin composition of the present invention uses titanium oxide having a large particle size and titanium oxide having a small particle size in combination, it has a high reflectance and therefore has a whiteness (L * value) and a low yellowness (b * value). ), And a pattern with high adhesion and high resolution can be formed.

本発明のアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物は、ラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、光重合開始剤(C)、および酸化チタン(D)を必須成分として含有する。その際に、一次粒子の体積平均径が10nm以上100nm未満の酸化チタン(D1)と、一次粒子の体積平均径が100nm以上500nm以下の酸化チタン(D2)の粒径が異なる少なくとも2種以上の酸化チタン(D)を併用することを特徴とする。 The alkali-developable photosensitive resin composition of the present invention comprises a radically polymerizable organic group-containing hydrophilic resin (A), a polyfunctional (meth) acrylate monomer (B), a photopolymerization initiator (C), and titanium oxide. (D) is contained as an essential component. At that time, at least two or more kinds of titanium oxide (D1) having a volume average diameter of primary particles of 10 nm or more and less than 100 nm and titanium oxide (D2) having a volume average diameter of primary particles of 100 nm to 500 nm are different. Titanium oxide (D) is used in combination.

なお、本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは「アクリレートまたはメタクリレート」を、「(メタ)アクリル酸」とは「アクリル酸またはメタクリル酸」を、「(メタ)アクリル樹脂」とは「アクリル樹脂またはメタクリル樹脂」を、「(メタ)アクリロイル基」とは「アクリロイル基またはメタクリロイル基」を、「(メタ)アクリロイロキシ基」とは「アクリロイロキシ基またはメタクリロイロキシ基」を意味する。 In this specification, “(meth) acrylate” means “acrylate or methacrylate”, “(meth) acrylic acid” means “acrylic acid or methacrylic acid”, and “(meth) acrylic resin” means “ “Acrylic resin or methacrylic resin”, “(meth) acryloyl group” means “acryloyl group or methacryloyl group”, and “(meth) acryloyloxy group” means “acryloyloxy group or methacryloyloxy group”.

また、アルカリ現像可能とは、現像液を用いて未硬化部を除去する工程で、現像液のアルカリ性水溶液で未硬化部分が除去できることを意味する。   The term “alkaline developable” means that the uncured portion can be removed with an alkaline aqueous solution of the developer in the step of removing the uncured portion using a developer.

以下において、本発明の感光性樹脂組成物の必須構成成分である(A)〜(D)について順に説明する。 Below, (A)-(D) which is an essential structural component of the photosensitive resin composition of this invention is demonstrated in order.

本発明における第1の必須成分であるラジカル重合性基を有する親水性樹脂(A)における親水性の指標はHLBにより規定され、一般にこの数値が大きいほど親水性が高いことを示す。
本発明の親水性樹脂(A)のHLB値は、好ましくは4〜19、さらに好ましくは5〜19、特に好ましくは6〜19である。4以上であればフォトスペーサーの現像を行う際に、現像性がさらに良好であり、19以下であれば硬化物の耐水性がさらに良好である。
The hydrophilicity index in the hydrophilic resin (A) having a radically polymerizable group, which is the first essential component in the present invention, is defined by HLB. Generally, the larger this value, the higher the hydrophilicity.
The HLB value of the hydrophilic resin (A) of the present invention is preferably 4 to 19, more preferably 5 to 19, and particularly preferably 6 to 19. When it is 4 or more, the developing property is further improved when developing the photospacer, and when it is 19 or less, the water resistance of the cured product is further improved.

ここでの「HLB」とは、親水性と親油性のバランスを示す指標であって、例えば「界面活性剤入門」〔2007年三洋化成工業株式会社発行、藤本武彦著〕212頁に記載されている小田法による計算値として知られているものであり、グリフィン法による計算値ではない。
HLB値は有機化合物の有機性の値と無機性の値との比率から計算することができる。
HLB=10×無機性/有機性
HLBを導き出すための有機性の値及び無機性の値については前記「界面活性剤入門」213頁に記載の表の値を用いて算出できる。
Here, “HLB” is an index indicating a balance between hydrophilicity and lipophilicity, and is described in, for example, “Introduction to Surfactants” (published by Sanyo Chemical Industries, Ltd., 2007, Takehiko Fujimoto), page 212. It is known as the calculated value by the Oda method, not the calculated value by the Griffin method.
The HLB value can be calculated from the ratio between the organic value and the inorganic value of the organic compound.
The organic value and the inorganic value for deriving HLB = 10 × inorganic / organic HLB can be calculated by using the values in the table described in “Introduction of Surfactant” on page 213.

また、親水性樹脂(A)の溶解度パラメーター(以下、SP値という。)[(単位は(cal/cm1/2]は、好ましくは7〜14、さらに好ましくは8〜13、特に好ましくは9〜13である。7以上であるとさらに現像性が良好に発揮でき、14以下であれば硬化物の耐水性がさらに良好である。 Further, the solubility parameter (hereinafter referred to as SP value) [(unit is (cal / cm 3 ) 1/2 ]) of the hydrophilic resin (A) is preferably 7 to 14, more preferably 8 to 13, particularly preferably. Is from 9 to 13. If it is 7 or more, the developability can be further improved, and if it is 14 or less, the water resistance of the cured product is further improved.

なお、本発明におけるSP値は、Fedorsらが提案した下記の文献に記載の方法によって計算されるものである。
「POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE,February,1974,Vol.14,No.2,Robert F. Fedors(147〜154頁)」
The SP value in the present invention is calculated by the method described in the following document proposed by Fedors et al.
"POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE, February, 1974, Vol. 14, No. 2, Robert F. Fedors (pp. 147-154)"

本発明の親水性樹脂(A)は、分子内にラジカル重合性基を有するが、そのラジカル重合性基としては、光硬化性の観点から、(メタ)アクリロイル基、ビニル基およびアリル基が好ましく、より好ましくは(メタ)アクリロイル基である。   The hydrophilic resin (A) of the present invention has a radical polymerizable group in the molecule, and the radical polymerizable group is preferably a (meth) acryloyl group, a vinyl group or an allyl group from the viewpoint of photocurability. More preferably, it is a (meth) acryloyl group.

また、本発明のラジカル重合性基を有する親水性樹脂(A)が分子内に含有する親水性に寄与する官能基は、アルカリ現像性の観点から、カルボキシル基、エポキシ基、スルホン酸基、リン酸基が好ましく、より好ましくはカルボキシル基である。   In addition, the functional group contributing to the hydrophilicity contained in the molecule of the hydrophilic resin (A) having a radical polymerizable group of the present invention is a carboxyl group, an epoxy group, a sulfonic acid group, a phosphorus group from the viewpoint of alkali developability. An acid group is preferable, and a carboxyl group is more preferable.

本発明のラジカル重合性基を有する親水性樹脂(A)としては、例えば親水性エポキシ樹脂(A1)、親水性アクリル樹脂(A2)などが挙げられる。
親水性エポキシ樹脂(A1)としては、市販品のエポキシ樹脂にラジカル重合性基を有する化合物を反応させ、さらにカルボキシル基などの親水性の官能基を有する化合物を反応することによって合成することができる。
例えば、分子中にエポキシ基を有するノボラック型のエポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させ、さらにフタル酸や無水フタル酸などの多価カルボン酸や多価カルボン酸無水物を反応させて製造する方法が挙げられる。
Examples of the hydrophilic resin (A) having a radical polymerizable group of the present invention include a hydrophilic epoxy resin (A1) and a hydrophilic acrylic resin (A2).
The hydrophilic epoxy resin (A1) can be synthesized by reacting a commercially available epoxy resin with a compound having a radical polymerizable group and further reacting with a compound having a hydrophilic functional group such as a carboxyl group. .
For example, it is produced by reacting (meth) acrylic acid with a novolak type epoxy resin having an epoxy group in the molecule, and further reacting polycarboxylic acid such as phthalic acid or phthalic anhydride or polycarboxylic acid anhydride. A method is mentioned.

また、親水性アクリル樹脂(A2)は既存の方法により(メタ)アクリル酸誘導体を重合させ、さらにラジカル重合性基を有する化合物を反応することで得ることができる。   The hydrophilic acrylic resin (A2) can be obtained by polymerizing a (meth) acrylic acid derivative by an existing method and further reacting a compound having a radical polymerizable group.

親水性(メタ)アクリル樹脂(A2)の製造方法としてはラジカル重合が好ましく、溶液重合法が分子量を調節しやすいため好ましい。   As a method for producing the hydrophilic (meth) acrylic resin (A2), radical polymerization is preferable, and a solution polymerization method is preferable because the molecular weight can be easily adjusted.

親水性(メタ)アクリル樹脂(A2)を製造するために使用するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸(a21)、(メタ)アクリル酸エステル(a22)があげられる。   Examples of the monomer used for producing the hydrophilic (meth) acrylic resin (A2) include (meth) acrylic acid (a21) and (meth) acrylic acid ester (a22).

(メタ)アクリル酸エステル(a22)としては(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸イソボルニル等が挙げられ、好ましくは(メタ)アクリル酸メチルである。   Examples of the (meth) acrylate ester (a22) include methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, (meth) acrylate-2-ethylhexyl, hydroxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and the like. Preferably, it is methyl (meth) acrylate.

親水性(メタ)アクリル樹脂(A2)を構成するモノマーとしては、感光性樹脂組成物の弾性回復特性の観点から、芳香環含有ビニル化合物(a23)を、(a21)、(a22)と併用してもよい。このような(a23)としてはスチレンが挙げられる。   As a monomer constituting the hydrophilic (meth) acrylic resin (A2), an aromatic ring-containing vinyl compound (a23) is used in combination with (a21) and (a22) from the viewpoint of elastic recovery characteristics of the photosensitive resin composition. May be. Examples of such (a23) include styrene.

親水性(メタ)アクリル樹脂(A2)は、さらにフォトスペーサーの弾性回復特性を向上させる目的で必要により(メタ)アクリロイル基を側鎖または末端に導入させることが好ましい。   In the hydrophilic (meth) acrylic resin (A2), it is preferable to introduce a (meth) acryloyl group into a side chain or a terminal as necessary for the purpose of further improving the elastic recovery property of the photospacer.

側鎖に(メタ)アクリロイル基を導入する方法としては、例えば下記の(1)及び(2)の方法が挙げられる。   Examples of the method for introducing a (meth) acryloyl group into the side chain include the following methods (1) and (2).

(1)(a21)または(a22)のうちの少なくとも一部にイソシアネート基と反応しうる基(水酸基または1級もしくは2級アミノ基など)を有するモノマーを使用して重合体を製造し、その後(メタ)アクリロイル基とイソシアネート基を有する化合物[(メタ)アクリロイロキシエチルイソシアネート等]を反応させる方法。 (1) A polymer is produced using a monomer having a group capable of reacting with an isocyanate group (such as a hydroxyl group or a primary or secondary amino group) in at least a part of (a21) or (a22); A method of reacting a compound [(meth) acryloyloxyethyl isocyanate etc.] having a (meth) acryloyl group and an isocyanate group.

(2)(a21)または(a22)のうちの少なくとも一部にエポキシ基と反応しうる官能基(水酸基、カルボキシル基又は1級もしくは2級アミノ基など)を有するモノマーを使用して重合体を製造し、その後(メタ)アクリロイル基とエポキシ基を有する化合物(グリシジル(メタ)アクリレート等)を反応させる方法。 (2) A polymer using a monomer having a functional group capable of reacting with an epoxy group (hydroxyl group, carboxyl group, primary or secondary amino group, etc.) in at least a part of (a21) or (a22) A method of producing and then reacting a compound having a (meth) acryloyl group and an epoxy group (such as glycidyl (meth) acrylate).

本発明の親水性樹脂(A)の数平均分子量は、1,000〜100,000であり、好ましくは2,000〜50,000である。 The number average molecular weight of the hydrophilic resin (A) of the present invention is 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 50,000.

本発明の感光性樹脂組成物中の親水性樹脂(A)の含有量は、解像性の観点から(A)〜(D)の合計重量に基づいて、5〜62重量%、好ましくは15〜60重量%である。   The content of the hydrophilic resin (A) in the photosensitive resin composition of the present invention is 5 to 62% by weight, preferably 15 based on the total weight of (A) to (D) from the viewpoint of resolution. ~ 60% by weight.

本発明の第2の必須成分である多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)としては、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーであれば、特に限定されずに用いられる。
このような多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)としては、2官能(メタ)アクリレート(B1)、3官能(メタ)アクリレート(B2)、4〜6官能(メタ)アクリレート(B3)及び7〜10官能(メタ)アクリレート(B4)が挙げられる。
一方、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)を含有しない場合や、(B)ではなく単官能(メタ)アクリレートモノマーを用いると、解像度が悪化する。
The polyfunctional (meth) acrylate monomer (B) which is the second essential component of the present invention is not particularly limited as long as it is a monomer having two or more (meth) acryloyl groups.
As such polyfunctional (meth) acrylate monomer (B), bifunctional (meth) acrylate (B1), trifunctional (meth) acrylate (B2), 4-6 functional (meth) acrylate (B3) and 7- A 10 functional (meth) acrylate (B4) is mentioned.
On the other hand, when the polyfunctional (meth) acrylate monomer (B) is not contained, or when a monofunctional (meth) acrylate monomer is used instead of (B), the resolution deteriorates.

2官能(メタ)アクリレート(B1)としては、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸のエステル化物[例えば、グリコールのジ(メタ)アクリレート、グリセリンのジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのジ(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシ−1,5−ペンタンジオールのジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−2−エチル−1,3−プロパンジオールのジ(メタ)アクリレート];多価アルコールのアルキレンオキサイド付加物と(メタ)アクリル酸のエステル化物[例えばトリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレート、グリセリンのエチレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレート];OH基含有両末端エポキシアクリレート;多価アルコールと(メタ)アクリル酸とヒドロキシカルボン酸のエステル化物[例えばヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート]等が挙げられる。
なお、多価アルコールの水酸基のすべてを(メタ)アクリル酸、アルキレンオキサイド付加物などと反応させる必要はなく、未反応の水酸基が残っていてもよい。
Examples of the bifunctional (meth) acrylate (B1) include esterified products of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid [for example, di (meth) acrylate of glycol, di (meth) acrylate of glycerin, dimethyl methacrylate). (Meth) acrylate, di (meth) acrylate of 3-hydroxy-1,5-pentanediol, di (meth) acrylate of 2-hydroxy-2-ethyl-1,3-propanediol]; alkylene oxide of polyhydric alcohol Adducts and esterified products of (meth) acrylic acid [for example, di (meth) acrylate of trimethylolpropane ethylene oxide adduct, di (meth) acrylate of glycerin ethylene oxide adduct]; OH group-containing both-end epoxy acrylate; Polyhydric alcohol and (meth) acryl Esters of acids and hydroxy carboxylic acids [e.g. hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate], and the like.
In addition, it is not necessary to make all the hydroxyl groups of a polyhydric alcohol react with (meth) acrylic acid, an alkylene oxide adduct, etc., and unreacted hydroxyl groups may remain.

3官能(メタ)アクリレート(B2)としては、グリセリンのトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールのトリ(メタ)アクリレート;及びトリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のトリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Trifunctional (meth) acrylate (B2) includes tri (meth) acrylate of glycerol, tri (meth) acrylate of trimethylolpropane, tri (meth) acrylate of pentaerythritol; and trioxide of ethylene oxide adduct of trimethylolpropane. (Meth) acrylate etc. are mentioned.

4〜6官能(メタ)アクリレート(B3)としては、ペンタエリスリトールのテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールのヘキサ(メタ)アクリレート;ジペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加物のテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加物のペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのプロピレンオキサイド付加物のペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of tetra to hexafunctional (meth) acrylate (B3) include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; dipentaerythritol ethylene oxide addition Tetra (meth) acrylate of a product, penta (meth) acrylate of an ethylene oxide adduct of dipentaerythritol, penta (meth) acrylate of a propylene oxide adduct of dipentaerythritol, and the like.

7〜10官能の(メタ)アクリレート化合物(B4)としては例えばジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応により得られる化合物など、ジイソシアネート化合物と水酸基含有多官能(メタ)アクリレート化合物との反応により得ることができる。   Examples of 7-10 functional (meth) acrylate compounds (B4) include diisocyanate compounds and hydroxyl group-containing polyfunctional (meth) acrylate compounds such as compounds obtained by reaction of dipentaerythritol penta (meth) acrylate and hexamethylene diisocyanate. It can obtain by reaction of.

多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)のうち、硬化性の観点から好ましくは3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーであり、さらに好ましくはグリセリン、ペンタエリスリトールまたはジペンタエリスリトール骨格を有する3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーである。   Of the polyfunctional (meth) acrylate monomer (B), from the viewpoint of curability, it is preferably a trifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer, and more preferably a trifunctional or higher functional group having a glycerin, pentaerythritol or dipentaerythritol skeleton. It is a (meth) acrylate monomer.

本発明の感光性樹脂組成物中の多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)の含有量は、硬化性の観点から(A)〜(D)の合計重量に基づいて5〜62重量%、好ましくは20〜60重量%である。   The content of the polyfunctional (meth) acrylate monomer (B) in the photosensitive resin composition of the present invention is preferably 5 to 62% by weight based on the total weight of (A) to (D) from the viewpoint of curability. Is 20 to 60% by weight.

本発明の第3の必須成分である光重合開始剤(C)として、可視光線、紫外線、遠赤外線、荷電粒子線及びX線等の放射線の露光により、重合性不飽和化合物の重合を開始しうるラジカルを発生する成分であればどのようなものでもよい。 As the photoinitiator (C) which is the third essential component of the present invention, polymerization of the polymerizable unsaturated compound is initiated by exposure to radiation such as visible light, ultraviolet light, far infrared light, charged particle beam and X-ray. Any component that can generate a free radical may be used.

光重合開始剤(C)としては、α−ヒドロキシアルキルフェノン型(C−1)(例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等);α−アミノアルキルフェノン型(C−2)(例えば、(2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1等);チオキサントン化合物型(C−3)(例えば、(イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン等);リン酸エステル型(C−4)(例えば、(2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド等);アシルオキシム系型(C−5)(例えば、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)等);ベンジルジメチルケタール型(C−6)等;ベンゾフェノン型(C−7)(例えば、ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4‘−メチルジフェニルスルフィド等)が挙げられる。 As the photopolymerization initiator (C), α-hydroxyalkylphenone type (C-1) (for example, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, etc.); α-aminoalkylphenone type (C-2) (for example, (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1 -(4-morpholinophenyl) -butanone-1 etc.); thioxanthone compound type (C-3) (eg, (isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone etc.); phosphate ester type (C-4) (eg, (2, 4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine Oxides); acyloxime type (C-5) (for example, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone, 1- [9- Ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) etc.); benzyldimethyl ketal type (C-6) etc .; benzophenone type (C-7) (For example, benzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, etc.).

光重合開始剤(C)は、硬化性の観点から、そのうち少なくとも1種が400nm以上の波長で吸光度を有するものであることが好ましい。例えば、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン〔イルガキュア369(BASF社製、405nmでの吸光係数:280)〕、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド〔イルガキュア819(BASF社製、405nmでの吸光係数:899)〕、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド〔ルシリンTPO(BASF社製、405nmでの吸光係数:165)〕、1,2−オクタンジオン 1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]〔イルガキュアOXE01(BASF社製、405nmでの吸光係数:102)〕等が挙げられる。 It is preferable that at least one of the photopolymerization initiators (C) has absorbance at a wavelength of 400 nm or more from the viewpoint of curability. For example, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one [Irgacure 369 (manufactured by BASF, extinction coefficient at 405 nm: 280)], bis (2, 4, 6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide [Irgacure 819 (manufactured by BASF, extinction coefficient at 405 nm: 899)], 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide [lucillin TPO (manufactured by BASF, Extinction coefficient at 405 nm: 165)], 1,2-octanedione 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)] [Irgacure OXE01 (manufactured by BASF, extinction coefficient at 405 nm: 102 )] And the like.

これらのうち硬化物の硬化性の観点から好ましいのはリン酸エステル型開始剤であり、さらに好ましいのは2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドである。   Of these, from the viewpoint of curability of the cured product, a phosphate ester type initiator is preferable, and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-) is more preferable. Trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide.

光重合開始剤(C)の使用量は、(A)〜(D)の合計に基づいて硬化性および硬化物の着色の観点から3〜20重量%、好ましくは5〜15重量%である。   The usage-amount of a photoinitiator (C) is 3-20 weight% from a viewpoint of sclerosis | hardenability and coloring of hardened | cured material based on the sum total of (A)-(D), Preferably it is 5-15 weight%.

本発明の感光性樹脂組成物における第4の必須成分である酸化チタン(D)は、反射率を高めるための白色度の観点から必須成分である。   Titanium oxide (D), which is the fourth essential component in the photosensitive resin composition of the present invention, is an essential component from the viewpoint of whiteness for increasing the reflectance.

酸化チタンはその製法により白色度が異なるので、反射率向上のため白色度の高い酸化チタンの選定が好ましい。酸化チタンの精製途中で混入する重金属、金属酸化物の不純物が白色度に悪影響を及ぼし、なかでもFe,Cr,Cu,Mn,V,Nb等による着色は有害である。そのため、不純物として重金属、金属酸化物の不純物を0.1重量%以下に規制することが好ましい。 Since titanium oxide has different whiteness depending on its production method, it is preferable to select titanium oxide having high whiteness in order to improve reflectivity. Impurities of heavy metals and metal oxides mixed during the purification of titanium oxide have an adverse effect on whiteness, and coloring with Fe, Cr, Cu, Mn, V, Nb, etc. is particularly harmful. Therefore, it is preferable to limit heavy metal and metal oxide impurities to 0.1 wt% or less as impurities.

不純物が0.1重量%以下の酸化チタンは、好ましくは塩素法で作られたルチル型酸化チタンをアルミナ、シリカ、ジルコニア、チタニア、有機物等で表面処理することにより用意できる。   Titanium oxide having an impurity content of 0.1% by weight or less can be prepared by surface-treating rutile titanium oxide preferably made by a chlorine method with alumina, silica, zirconia, titania, organic matter, or the like.

本発明において、酸化チタン(D)は一次粒子の体積平均径が10nm以上100nm未満の酸化チタン(D1)と、一次粒子径が100nm以上500nm以下の酸化チタン(D2)を併用する。酸化チタン(D1)の一次粒子径はさらに30nm以上100nm未満が好ましく、一方、酸化チタン(D2)の一次粒子径はさらに100nm以上400nm以下の併用が好ましい。 In the present invention, titanium oxide (D) is a combination of titanium oxide (D1) having a primary particle volume average diameter of 10 nm or more and less than 100 nm and titanium oxide (D2) having a primary particle diameter of 100 nm or more and 500 nm or less. The primary particle diameter of titanium oxide (D1) is further preferably 30 nm or more and less than 100 nm, while the primary particle diameter of titanium oxide (D2) is more preferably 100 nm or more and 400 nm or less.

一次粒子径が10nm以上100nm未満の酸化チタン(D1)だけでは隠蔽性が不足するため白色度が未達であり、一次粒子径が100nm以上500nm以下の酸化チタン(D2)だけで白色度を達成させると黄色度が未達となる。
なお、この一次粒子径は、電子顕微鏡(VE−9800、キーエンス社製)を用いて観察した時の単一粒子径を測定し、画像解析ソフトでその体積平均粒子径を算出する。
Only titanium oxide (D1) with a primary particle diameter of 10 nm or more and less than 100 nm has insufficient concealment, so whiteness has not been achieved. Whiteness is achieved only with titanium oxide (D2) with a primary particle diameter of 100 nm or more and 500 nm or less. If you do, the yellowness will not be achieved.
In addition, this primary particle diameter measures the single particle diameter when observed using an electron microscope (VE-9800, Keyence Corporation make), and calculates the volume average particle diameter with image analysis software.

塩素法酸化チタンとしては、タイピュアーR900及びR920(デュポン製)並びにタイペークCR50、CR58、CR67、PFC−105及びPFC−107(石原産業製)等が挙げられる。 Examples of the chlorinated titanium oxide include Taipur R900 and R920 (manufactured by DuPont), Taipaque CR50, CR58, CR67, PFC-105 and PFC-107 (manufactured by Ishihara Sangyo).

本発明の感光性樹脂組成物中の(A)〜(D)の合計重量に基づいて酸化チタン(D1)と(D2)の合計の(D)の含有量は、30〜87重量%、好ましくは35〜85重量%である。
30重量%以上であれば反射率が良好であり、90重量%以下であれば塗工時のハンドリング性が更に良好に発揮できる。
Based on the total weight of (A) to (D) in the photosensitive resin composition of the present invention, the total content of (D) of titanium oxides (D1) and (D2) is 30 to 87% by weight, preferably Is 35 to 85% by weight.
If it is 30% by weight or more, the reflectance is good, and if it is 90% by weight or less, the handling property during coating can be further improved.

また、酸化チタン(D)のうちの(D1)と(D2)の含有比率は、白色度および黄色度の観点から、重量比(D1)/(D2)は1/99〜50/50、好ましくは2/98〜45/55である。
重量比(D1)/(D2)が1/99未満なら黄色度が悪化し、50/50を超えると白色度が悪化する。
Further, the content ratio of (D1) and (D2) in titanium oxide (D) is preferably 1/99 to 50/50 in weight ratio (D1) / (D2) from the viewpoint of whiteness and yellowness. Is 2/98 to 45/55.
If the weight ratio (D1) / (D2) is less than 1/99, the yellowness deteriorates, and if it exceeds 50/50, the whiteness deteriorates.

本発明にかかる感光性樹脂組成物は、必要によりさらにその他の成分を含有していてもよい。
その他の成分としては、(A)と(B)以外の単官能(メタ)アクリレート(E)、レベリング剤(F)、酸化防止剤(G)、体質顔料(硫酸バリウム及びタイク)、増感剤、重合禁止剤、溶剤、顔料分散剤、増粘剤及びその他の添加剤(例えば、蛍光増白剤、黄変防止剤)が挙げられる。
The photosensitive resin composition according to the present invention may further contain other components as necessary.
Other components include monofunctional (meth) acrylates (E) other than (A) and (B), leveling agents (F), antioxidants (G), extender pigments (barium sulfate and tie), sensitizers , Polymerization inhibitors, solvents, pigment dispersants, thickeners and other additives (for example, fluorescent brighteners and yellowing inhibitors).

本発明における単官能(メタ)アクリレート(E)としては、密着性の観点から、リン酸基、カルボキシル基、又は水酸基を有する(メタ)アクリレートが好ましく、更に好ましくはリン酸基を有する(メタ)アクリレートである。
水酸基を含有する(メタ)アクリレートとしては、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート及びヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられ、リン酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート等が挙げられる。
The monofunctional (meth) acrylate (E) in the present invention is preferably a (meth) acrylate having a phosphate group, a carboxyl group or a hydroxyl group, more preferably a (meth) having a phosphate group, from the viewpoint of adhesion. Acrylate.
Examples of the (meth) acrylate containing a hydroxyl group include hydroxyethyl (meth) acrylate and hydroxypropyl (meth) acrylate, and examples of the (meth) acrylate having a phosphate group include 2- (meth) acryloyloxyethyl acid. A phosphate etc. are mentioned.

本発明の感光性樹脂組成物中の(A)〜(D)の合計重量に基づいて単官能(メタ)アクリレート(E)の含有量は、0〜20重量%が好ましく、更に好ましくは0.5〜15重量%、特に好ましくは1〜10重量%である。   The content of the monofunctional (meth) acrylate (E) is preferably 0 to 20% by weight based on the total weight of (A) to (D) in the photosensitive resin composition of the present invention, more preferably 0.8. 5 to 15% by weight, particularly preferably 1 to 10% by weight.

レベリング剤(F)としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びシリコン系界面活性剤等が挙げられる。これらのうちで塗布性の観点から、フッ素系界面活性剤及びシリコン系界面活性剤が好ましく、相溶性の観点からオキシアルキル鎖を有する界面活性剤が好ましい。   Examples of the leveling agent (F) include anionic surfactants, cationic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants, fluorine surfactants, and silicon surfactants. Of these, fluorine surfactants and silicon surfactants are preferable from the viewpoint of coatability, and surfactants having an oxyalkyl chain are preferable from the viewpoint of compatibility.

酸化防止剤(G)としては、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤等が挙げられる。これらのうち、光硬化性と酸化防止能の観点から、好ましくはフェノール系酸化防止剤であり、特に好ましくは2,6−ジーt−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4、6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレート、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート(イルガノックス1076)、チオジエチエレンビス[3−(3,5−ジーt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート(イルガノックス1035)、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート](イルガノックス245)、ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(イルガノックス259)、ペンタエリスリトール・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](イルガノックス1010)である。   Examples of the antioxidant (G) include phenol-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, and amine-based antioxidants. Among these, from the viewpoint of photocurability and antioxidant ability, phenolic antioxidants are preferable, and 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol (BHT) and 2-t-butyl are particularly preferable. -6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl]- 4,6-di-t-pentylphenyl acrylate, octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate (Irganox 1076), thiodiethylene bis [3- (3 , 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate (Irganox 1035), ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-tert Butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate] (Irganox 245), hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate (Irganox 259), pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (Irganox 1010).

溶剤としては、ケトン溶剤(シクロヘキサノン等)、エーテル溶剤(エーテルエステル溶剤及びエーテルアルコール溶剤を含む)(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びメトキシブチルアセテート等)、エステル溶剤(酢酸ブチル等)、エーテル溶剤(エーテルエステル溶剤及びエーテルアルコール溶剤等)、アルコール溶剤(ケトンアルコール溶剤を含む)(1.3−ブチレングリコール及びジアセトンアルコール等)、エステル溶剤(乳酸エチル等)、ケトン溶剤(アセトン及びメチルエチルケトン等)等が挙げられる。   Solvents include ketone solvents (such as cyclohexanone), ether solvents (including ether ester solvents and ether alcohol solvents) (such as propylene glycol monomethyl ether acetate and methoxybutyl acetate), ester solvents (such as butyl acetate), ether solvents (ether ester) Solvents, ether alcohol solvents, etc.), alcohol solvents (including ketone alcohol solvents) (1.3-butylene glycol and diacetone alcohol, etc.), ester solvents (ethyl lactate, etc.), ketone solvents (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), etc. It is done.

以下、実施例及び比較例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に定めない限り、%は重量%、部は重量部を示す。   Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention further, the present invention is not limited to these. Hereinafter, unless otherwise specified, “%” represents “% by weight” and “parts” represents “parts by weight”.

製造例1 [ラジカル重合性有機基を有する親水性エポキシ樹脂(A−1)の製造]
加熱冷却・攪拌装置、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えたガラス製コルベンに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂「EOCN―102S」(日本化薬(株)製 エポキシ当量200)200部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート245部を仕込み、110℃まで加熱して均一に溶解させた。続いて、アクリル酸76部(1.07モル部)、トリフェニルホスフィン2部及びp−メトキシフェノール0.2部を仕込み、110℃にて10時間反応させた。
反応物にさらにテトラヒドロ無水フタル酸91部(0.60モル部)を仕込み、90℃にて5時間反応させ、その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで親水性樹脂含有量が50重量%となるように希釈して、本発明のアクリロイル基とカルボキシル基を有する親水性樹脂として、カルボキシル基含有クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(A−1)の50%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。SP値は11.3、HLB値は6.4であった。
Production Example 1 [Production of hydrophilic epoxy resin (A-1) having a radical polymerizable organic group]
A glass Kolben equipped with a heating / cooling / stirring device, a reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, cresol novolac type epoxy resin “EOCN-102S” (Epoxy equivalent 200 from Nippon Kayaku Co., Ltd.) and propylene 245 parts of glycol monomethyl ether acetate was charged and heated to 110 ° C. to dissolve uniformly. Subsequently, 76 parts of acrylic acid (1.07 mol part), 2 parts of triphenylphosphine and 0.2 part of p-methoxyphenol were charged and reacted at 110 ° C. for 10 hours.
The reaction product was further charged with 91 parts (0.60 mole part) of tetrahydrophthalic anhydride, reacted at 90 ° C. for 5 hours, and then the hydrophilic resin content was adjusted to 50% by weight with propylene glycol monomethyl ether acetate. Dilution was performed to obtain a 50% propylene glycol monomethyl ether acetate solution of a carboxyl group-containing cresol novolac epoxy resin (A-1) as a hydrophilic resin having an acryloyl group and a carboxyl group of the present invention. The SP value was 11.3 and the HLB value was 6.4.

製造例2 [ラジカル重合性有機基を有する親水性アクリル樹脂(A−2)の製造]
加熱冷却・攪拌装置、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えたガラス製コルベンに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート172部を仕込み、90℃まで加熱した。ここにメタクリル酸177部、メタクリル酸メチル13部、スチレン395部、さらにプロピレングリコーツモノメチルエーテルアセテート207部を均一混合した溶液と、ジメチル−2,2‘−アゾビス(2−メチルプロピオネート)5部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート12部を均一混合した溶液をそれぞれ滴下し、ガラス製コルベン中でラジカル重合を行い、アクリル樹脂を得た。
このアクリル樹脂にさらにグリシジルメタクリレート19部を仕込み、90℃にて5時間反応させ、その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで親水性樹脂含有量が30重量%となるように希釈して、本発明のメタクロイル基を有するアクリル樹脂(A−2)の30%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。
この樹脂のSP値は10.5、HLB値は5.8であった。
Production Example 2 [Production of hydrophilic acrylic resin (A-2) having radical polymerizable organic group]
172 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was charged into a glass Kolben equipped with a heating / cooling / stirring device, a reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen introduction tube, and heated to 90 ° C. A solution in which 177 parts of methacrylic acid, 13 parts of methyl methacrylate, 395 parts of styrene, and 207 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were uniformly mixed, and dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) 5 A solution in which 12 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were uniformly mixed was dropped, and radical polymerization was performed in glass Kolben to obtain an acrylic resin.
The acrylic resin was further charged with 19 parts of glycidyl methacrylate, reacted at 90 ° C. for 5 hours, and then diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate so that the hydrophilic resin content was 30% by weight. A 30% propylene glycol monomethyl ether acetate solution of an acrylic resin (A-2) having a group was obtained.
The SP value of this resin was 10.5, and the HLB value was 5.8.

比較製造例1 [ラジカル重合性有機基を有さない親水性アクリル樹脂(A’−1)の製造]
加熱冷却・攪拌装置、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えたガラス製コルベンに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート172部を仕込み、90℃まで加熱した。ここにメタクリル酸177部、メタクリル酸メチル13部、スチレン395部、さらにプロピレングリコーツモノメチルエーテルアセテート207部を均一混合した溶液と、ジメチル−2,2‘−アゾビス(2−メチルプロピオネート)5部とプロピレングリコーツモノメチルエーテルアセテート12部を均一混合した溶液をそれぞれ滴下し、ガラス製コルベン中でラジカル重合を行った。その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで親水性樹脂含有量が30重量%となるように希釈して、比較例に用いるラジカル重合性基を有さないアクリル樹脂(A’−1)の30%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。
この樹脂のSP値は11.0、HLB値は6.1であった。
Comparative Production Example 1 [Production of hydrophilic acrylic resin (A′-1) having no radically polymerizable organic group]
172 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was charged into a glass Kolben equipped with a heating / cooling / stirring device, a reflux condenser, a dropping funnel, and a nitrogen introduction tube, and heated to 90 ° C. A solution in which 177 parts of methacrylic acid, 13 parts of methyl methacrylate, 395 parts of styrene, and 207 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were uniformly mixed, and dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate) 5 Part of the solution and 12 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were added dropwise, and radical polymerization was performed in glass Kolben. Thereafter, the resin is diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate so that the hydrophilic resin content is 30% by weight, and 30% propylene glycol of an acrylic resin (A′-1) having no radical polymerizable group used in the comparative example. A monomethyl ether acetate solution was obtained.
The SP value of this resin was 11.0, and the HLB value was 6.1.

製造例3 [体積平均粒子径が40nmの酸化チタン(D1−1)の分散液の製造]
攪拌装置を備えたSUS製フラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート500部、分散剤としてリン酸ポリエステル(商品名:DISPERBYK−111、ビックケミージャパン(株)製)80部を仕込み均一化した。ここに、一次粒子径が40nmの酸化チタン(商品名:TTO−55、カタログ記載値による一次粒子の体積平均粒子径40nm、石原産業(株)製)420部を仕込み攪拌し、分散させた。
この分散させた液を250mLのポリ容器に移し、さらにここに粒径0.5mmのジルコニアビーズを仕込み、ペイントシェーカーで1時間分散させた。
分散終了後、300メッシュでのろ過にてジルコニアビーズを除去し、酸化チタン(D−1)の50%分散液を得た。
Production Example 3 [Production of Titanium Oxide (D1-1) Dispersion with Volume Average Particle Diameter of 40 nm]
A SUS flask equipped with a stirrer was charged with 500 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate and 80 parts of phosphoric acid polyester (trade name: DISPERBYK-111, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) as a dispersing agent. Here, 420 parts of titanium oxide having a primary particle diameter of 40 nm (trade name: TTO-55, volume average particle diameter of primary particles according to catalog values 40 nm, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) was charged and stirred and dispersed.
This dispersed liquid was transferred to a 250 mL plastic container, and zirconia beads having a particle size of 0.5 mm were further charged therein and dispersed for 1 hour using a paint shaker.
After the completion of dispersion, zirconia beads were removed by filtration through 300 mesh to obtain a 50% dispersion of titanium oxide (D-1).

製造例4 [体積平均粒子径が250nmの酸化チタン(D2−1)の分散液の製造]
製造例4の酸化チタンを一次粒子径250nmの酸化チタン(商品名:CR−57、一次粒子の体積平均粒子径250nmm、石原産業(株)製)に、分散剤としてリン酸ポリエステル(商品名:ソルスパーズ36000、ルーブリゾール社製)に、変更した以外は製造例3と同様の方法で、酸化チタン(D−2)の50%分散液を得た。
Production Example 4 [Production of Titanium Oxide (D2-1) Dispersion with Volume Average Particle Diameter of 250 nm]
The titanium oxide of Production Example 4 was converted to titanium oxide having a primary particle diameter of 250 nm (trade name: CR-57, volume average particle diameter of primary particles: 250 nm, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), and phosphoric acid polyester (trade name: A 50% dispersion of titanium oxide (D-2) was obtained in the same manner as in Production Example 3, except that the solvent was changed to Solsperz 36000, manufactured by Lubrizol Corporation.

製造例5[体積平均粒子径が280nmの酸化チタン(D2−2)の分散液の製造]
製造例4の酸化チタンを一次粒子径が280nmの酸化チタン(商品名:PFC−105、一次粒子径280nmm、石原産業(株)製)に、変更した以外は製造例3と同様の方法で、酸化チタン(D−3)の50%分散液を得た。
Production Example 5 [Production of a dispersion of titanium oxide (D2-2) having a volume average particle diameter of 280 nm]
Except for changing the titanium oxide of Production Example 4 to titanium oxide having a primary particle size of 280 nm (trade name: PFC-105, primary particle size of 280 nm, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), the same method as in Production Example 3, A 50% dispersion of titanium oxide (D-3) was obtained.

実施例1
表1の配合部数(重量部)に従い、ガラス製の容器に製造例1で製造した親水性エポキシ樹脂(A−1)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート50%溶液、(B−1)、イルガキュア819(C−1)、製造例3で製造した酸化チタン(D1−1)分散液、製造例4で製造した酸化チタン(D2−2)分散液、ライトアクリレートP−1A(E−1)、レベリング剤としてのポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン「KF−352A」(F−1)、酸化防止剤としてのイルガノックス1010(G−1)を仕込み、25℃で2時間攪拌し、さらに追加の溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)を添加して、30分攪拌し、実施例1の感光性樹脂組成物を得た。
Example 1
According to the number of parts (parts by weight) in Table 1, a 50% propylene glycol monomethyl ether acetate solution of the hydrophilic epoxy resin (A-1) produced in Production Example 1 in a glass container, (B-1), Irgacure 819 ( C-1), titanium oxide (D1-1) dispersion produced in Production Example 3, titanium oxide (D2-2) dispersion produced in Production Example 4, light acrylate P-1A (E-1), leveling agent As a polyether-modified polydimethylsiloxane “KF-352A” (F-1) as an antioxidant and Irganox 1010 (G-1) as an antioxidant, followed by stirring at 25 ° C. for 2 hours, and additional solvent (propylene glycol) Monomethyl ether acetate) was added and stirred for 30 minutes to obtain a photosensitive resin composition of Example 1.

実施例2〜6および比較例1〜6
実施例1と同様の操作で、表1の配合部数で、実施例2〜6、および比較例1〜6の感光性樹脂組成物を得た。
Examples 2-6 and Comparative Examples 1-6
By the same operation as Example 1, the photosensitive resin composition of Examples 2-6 and Comparative Examples 1-6 was obtained by the mixing | blending part number of Table 1.

なお、表1中の略称の化学品の詳細は以下の通りである。
(B−1):「ネオマーDA−600」(ジペンタエリスリトールペンタアクリレート:三洋化成工業(株)社製;官能基数が6個)
(B−2):「ネオマーEA−300」(ペンタエリスリトールテトラアクリレート:三洋化成工業(株)社製;官能基数が4個)
(B‘−1):「ライトアクリレートPO−A」(フェノキシエチルアクリレート:共栄社化学(株)社製;官能基数が1個)
(C−1):「イルガキュア819」(ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド:BASF(株)社製))
(C−2):「イルガキュア907」(2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン:BASF(株)社製)
(C−3):「ルシリンTPO」((2,4,6−トリメチルベンゾイル)−ジフェニルフォスフィンオキサイド:BASF(株)社製))
(E−1):「ライトアクリレートP−1A」(2−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート:共栄社化学(株)社製)
(E−2):「KBM−5103」(アクリル変性アルコキシシラン:信越化学(株)社製)
(F−1):ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン(「KF−352A」:信越化学(株)社製)
(F−2):ポリエーテル変性フッ素化合物(「メガファックTF−2066」:DIC(株)社製)
(G−1):ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ―t―ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](「イルガノックス1010」:BASFジャパン(株)社製)
The details of the abbreviated chemicals in Table 1 are as follows.
(B-1): “Neomer DA-600” (dipentaerythritol pentaacrylate: manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd .; 6 functional groups)
(B-2): “Neomer EA-300” (pentaerythritol tetraacrylate: Sanyo Chemical Industries, Ltd .; 4 functional groups)
(B′-1): “Light acrylate PO-A” (phenoxyethyl acrylate: manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; one functional group)
(C-1): “Irgacure 819” (bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide: manufactured by BASF Corporation))
(C-2): “Irgacure 907” (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one: manufactured by BASF Corporation)
(C-3): “Lucirin TPO” ((2,4,6-trimethylbenzoyl) -diphenylphosphine oxide: manufactured by BASF Corporation))
(E-1): “Light acrylate P-1A” (2-acryloyloxyethyl acid phosphate: manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
(E-2): “KBM-5103” (acrylic-modified alkoxysilane: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(F-1): Polyether-modified polydimethylsiloxane (“KF-352A”: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(F-2): Polyether-modified fluorine compound (“Megafac TF-2066”: manufactured by DIC Corporation)
(G-1): Pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] (“Irganox 1010”: manufactured by BASF Japan Ltd.)

以下に、硬化物の白色度、黄色度、密着性および解像性の性能評価の方法を説明する。 Hereinafter, a method for evaluating the whiteness, yellowness, adhesion, and resolution of the cured product will be described.

<白色度と黄色度の評価>
[白色度および黄色度測定用の基板の作成]
10cm×10cm四方のガラス基板上にスピンコーターにより塗布し、乾燥膜厚20μmの塗膜を形成した。この塗膜を減圧下で完全に乾燥した後、ホットプレート上で80℃、3分間加熱した。
得られた塗膜に対し、超高圧水銀灯の光を100mJ/cm照射した(i線換算で照度22mW/cm)し、さらに230℃、30分間加熱して、白色度および黄色度測定用の基板を作成した。
<Evaluation of whiteness and yellowness>
[Creation of substrates for measuring whiteness and yellowness]
It apply | coated with the spin coater on the 10 cm x 10 cm square glass substrate, and the coating film with a dry film thickness of 20 micrometers was formed. This coating film was completely dried under reduced pressure and then heated on a hot plate at 80 ° C. for 3 minutes.
The obtained coating film was irradiated with light of an ultrahigh pressure mercury lamp at 100 mJ / cm 2 (illuminance 22 mW / cm 2 in terms of i-line), and further heated at 230 ° C. for 30 minutes to measure whiteness and yellowness. The board of was made.

上記の硬化物をJIS Z 8722に準拠した物体色の測定に使用される分光測色計(コニカミノルタ社製「CM3700d」、光源Cを使用)を用い、白色度(L*)と黄色度(b*)を測定した。
タッチパネルのベゼル部分に使用するには、この評価条件における白色度は一般には90以上、黄色度は0以下が必要とされる。
Using a spectrocolorimeter ("Konica Minolta" CM3700d ", light source C is used) used for measuring the object color in accordance with JIS Z 8722, the above cured product is measured for whiteness (L *) and yellowness ( b *) was measured.
In order to be used for the bezel portion of the touch panel, the whiteness under this evaluation condition is generally required to be 90 or more and the yellowness is 0 or less.

<密着性の評価>
白色度を測定した硬化物をJIS K 5600−5−6に準拠し、100個(10個×10個)のマスができるよう1mm幅にカッターナイフで切込みを入れ、樹脂密着性を測定する。
測定結果は「試験後に基材フィルム上に残ったマス目/100」で表す。
この評価条件では、一般に100/100が必要とされる。
<Evaluation of adhesion>
In accordance with JIS K 5600-5-6, the cured product whose whiteness is measured is cut into a 1 mm width with a cutter knife so as to form 100 (10 × 10) cells, and the resin adhesion is measured.
The measurement result is expressed as “the grid remaining on the base film after the test / 100”.
In this evaluation condition, 100/100 is generally required.

[解像性確認硬化パターンの作製]
10cm×10cm四方のガラス基板上にスピンコーターにより塗布し、乾燥し、乾燥膜厚5μmの塗膜を形成した。この塗膜をホットプレート上で80℃、3分間加熱して溶媒をは完全に揮散させた。
得られた乾燥塗膜に対し、長さが約2cmで幅が50μmの開口部を100μmおきに有する複数のライン形成用のマスクを通して超高圧水銀灯の光を100mJ/cm照射した(i線換算で照度22mW/cm)。
なお、マスクと基板の間隔(露光ギャップ)は100μmで露光した。
その後0.05%KOH水溶液を用いてアルカリ現像した。水洗したのち、230℃で30分間ポストベークを行い、ガラス基板上に2cm×50μmの長方形のパターンを100μmおきに100本形成した。
なお、マスク開口径を調整することにより所望の幅を有する長方形のパターンを形成することができる。
[Preparation of resolution confirmation cured pattern]
A 10 cm × 10 cm square glass substrate was coated with a spin coater and dried to form a coating film having a dry film thickness of 5 μm. This coating film was heated on a hot plate at 80 ° C. for 3 minutes to completely evaporate the solvent.
The obtained dried coating film was irradiated with light of an ultrahigh pressure mercury lamp at 100 mJ / cm 2 through a plurality of line forming masks having an opening having a length of about 2 cm and a width of 50 μm every 100 μm (i-line conversion) Illuminance of 22 mW / cm 2 ).
In addition, the exposure (exposure gap) between the mask and the substrate was 100 μm.
Thereafter, alkali development was performed using a 0.05% aqueous KOH solution. After washing with water, post-baking was performed at 230 ° C. for 30 minutes, and 100 rectangular patterns of 2 cm × 50 μm were formed on a glass substrate every 100 μm.
A rectangular pattern having a desired width can be formed by adjusting the mask opening diameter.

<解像性の評価>
タッチパネルの狭額縁化が進んでいることから、高精細なパターンを形成することができる、すなわち解像度として、50μmあるいはそれ以下のサイズでのパターニングが要求されるようになってきた。
すなわち解像度が高いパターンほど、マスクの開口径が小さくなっても、マスクの開口径と同じ大きさのパターンを形成できる性能に優れる。
そこで解像度は、マスクの開口径を50μmに設定し、上記の方法によりパターンを形成したときのパターンの幅を測定することで評価した。
下底径が小さいほど解像度が高い。この評価方法と条件においては、一般には80μm以下が好ましいとされる。
<Evaluation of resolution>
As the touch panel has become narrower, high-definition patterns can be formed. That is, patterning with a resolution of 50 μm or less has been required.
That is, the higher the resolution, the better the performance of forming a pattern having the same size as the mask opening diameter even if the mask opening diameter is reduced.
Therefore, the resolution was evaluated by setting the opening diameter of the mask to 50 μm and measuring the width of the pattern when the pattern was formed by the above method.
The smaller the bottom diameter, the higher the resolution. In this evaluation method and conditions, generally 80 μm or less is preferable.

本発明の実施例1〜6の感光性樹脂組成物は、表1に示す通り、白色度、黄色度、密着性および解像度のすべての点で優れている。
その一方で、本発明のラジカル重合性基を有する親水性樹脂(A)を使用しない比較例1では密着性と解像性を満足しない。また、多官能アクリレート(B)を使用しない比較例2および多官能アクリレート(B)の代わりに単官能アクリレートを使用する比較例3では解像性を満足しない。さらに、一次粒子径が10nm以上100nm以下の酸化チタン(D1)を使用しない比較例4および5では白色度と黄色度が悪化し、一次粒子径が100nm以上500nm以下の酸化チタン(D2)を使用しない比較例6では白色度が悪化する
As shown in Table 1, the photosensitive resin compositions of Examples 1 to 6 of the present invention are excellent in all points of whiteness, yellowness, adhesion, and resolution.
On the other hand, in Comparative Example 1 in which the hydrophilic resin (A) having a radical polymerizable group of the present invention is not used, adhesion and resolution are not satisfied. Moreover, the comparative example 2 which does not use a polyfunctional acrylate (B) and the comparative example 3 which uses a monofunctional acrylate instead of a polyfunctional acrylate (B) do not satisfy resolution. Furthermore, in Comparative Examples 4 and 5 in which titanium oxide (D1) having a primary particle size of 10 nm to 100 nm is not used, whiteness and yellowness are deteriorated, and titanium oxide (D2) having a primary particle size of 100 nm to 500 nm is used. In Comparative Example 6, the whiteness deteriorates

本発明の感光性樹脂組成物は、硬化後の白色度と黄色度、密着性および解像度に優れるため、タッチパネル用ベゼルやフレキシブルディスプレイのベゼルなどの不透明なタッチパネル用部材や、ディスプレイに使用する反射板などのバックライト用部材として好適に使用できる。   The photosensitive resin composition of the present invention is excellent in whiteness and yellowness after curing, adhesion and resolution, so that it is an opaque touch panel member such as a touch panel bezel or a flexible display bezel, or a reflector used in a display It can be suitably used as a backlight member.

Claims (6)

ラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)と、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)と、光重合開始剤(C)と、酸化チタン(D)とを必須成分として含有する感光性樹脂組成物であって、酸化チタン(D)として一次粒子の体積平均粒子径が10nm以上100nm未満の酸化チタン(D1)と一次粒子径が100nm以上500nm以下の酸化チタン(D2)を併用することを特徴とするアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物。   Photosensitivity containing, as essential components, a hydrophilic resin (A) having a radical polymerizable organic group, a polyfunctional (meth) acrylate monomer (B), a photopolymerization initiator (C), and titanium oxide (D). It is a resin composition, and titanium oxide (D1) whose primary particles have a volume average particle diameter of 10 nm or more and less than 100 nm and titanium oxide (D2) whose primary particle diameter is 100 nm or more and 500 nm or less are used in combination as titanium oxide (D). A photosensitive resin composition capable of alkali development. 酸化チタン(D)の含有量が、(A)〜(D)の合計重量に基づいて30〜87重量%である請求項1記載の感光性樹脂組成物。   The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the content of titanium oxide (D) is 30 to 87% by weight based on the total weight of (A) to (D). 酸化チタン(D1)と酸化チタン(D2)の重量比(D1)/(D2)が1/99〜50/50である請求項1または2記載の感光性樹脂組成物。 The photosensitive resin composition according to claim 1 or 2, wherein the weight ratio (D1) / (D2) of titanium oxide (D1) to titanium oxide (D2) is 1/99 to 50/50. 光重合開始剤(C)のうち少なくとも1種が、400nm以上の波長で吸光度を有する光重合開始剤である請求項1〜3いずれか記載の感光性樹脂組成物。   The photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein at least one of the photopolymerization initiators (C) is a photopolymerization initiator having absorbance at a wavelength of 400 nm or more. 光重合開始剤(C)の含有量が、(A)〜(D)の合計重量に基づいて3〜20重量%である請求項1〜4いずれか記載の感光性樹脂組成物。 The photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of the photopolymerization initiator (C) is 3 to 20% by weight based on the total weight of (A) to (D). 親水性樹脂(A)の含有量が、(A)〜(D)の合計重量に基づいて5〜62重量%である請求項1〜5いずれか記載の感光性樹脂組成物。 The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the content of the hydrophilic resin (A) is 5 to 62% by weight based on the total weight of (A) to (D).
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014130313A (en) * 2012-12-28 2014-07-10 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Photosensitive resin composition for bezel of touch screen module and bezel for touch screen module manufactured by using the composition
JP2015022030A (en) * 2013-07-16 2015-02-02 東洋インキScホールディングス株式会社 Resin composition for light-scattering layer, light-scattering layer, and organic electroluminescence device
JP2015022029A (en) * 2013-07-16 2015-02-02 東洋インキScホールディングス株式会社 Photosensitive resin composition, light-scattering layer, and organic electroluminescence device
JP2015028619A (en) * 2013-07-30 2015-02-12 東友ファインケム株式会社 Photosensitive resin composition for forming front light-shielding layer of display device
JP2015073468A (en) * 2013-10-08 2015-04-20 独立行政法人産業技術総合研究所 Cell culture apparatus, and cell culture method
JP2016027384A (en) * 2014-06-25 2016-02-18 Jsr株式会社 Photosensitive composition for bezel formation, bezel, and display device
JP2017044976A (en) * 2015-08-28 2017-03-02 三洋化成工業株式会社 Photosensitive resin composition
JP2017068007A (en) * 2015-09-30 2017-04-06 三洋化成工業株式会社 Photosensitive resin composition
JP2017116787A (en) * 2015-12-25 2017-06-29 三洋化成工業株式会社 Photosensitive resin composition

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014130313A (en) * 2012-12-28 2014-07-10 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Photosensitive resin composition for bezel of touch screen module and bezel for touch screen module manufactured by using the composition
JP2015022030A (en) * 2013-07-16 2015-02-02 東洋インキScホールディングス株式会社 Resin composition for light-scattering layer, light-scattering layer, and organic electroluminescence device
JP2015022029A (en) * 2013-07-16 2015-02-02 東洋インキScホールディングス株式会社 Photosensitive resin composition, light-scattering layer, and organic electroluminescence device
JP2015028619A (en) * 2013-07-30 2015-02-12 東友ファインケム株式会社 Photosensitive resin composition for forming front light-shielding layer of display device
JP2015073468A (en) * 2013-10-08 2015-04-20 独立行政法人産業技術総合研究所 Cell culture apparatus, and cell culture method
JP2016027384A (en) * 2014-06-25 2016-02-18 Jsr株式会社 Photosensitive composition for bezel formation, bezel, and display device
JP2017044976A (en) * 2015-08-28 2017-03-02 三洋化成工業株式会社 Photosensitive resin composition
JP2017068007A (en) * 2015-09-30 2017-04-06 三洋化成工業株式会社 Photosensitive resin composition
JP2017116787A (en) * 2015-12-25 2017-06-29 三洋化成工業株式会社 Photosensitive resin composition

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