JP2017149933A - Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin and composition thereof - Google Patents

Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin and composition thereof Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin which is excellent in solvent solubility and has high gas barrier properties under high humidity, and a resin composition containing the same.SOLUTION: The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin contains 10 mol% or more of a dicarboxylic acid unit having a phenolic hydroxyl group and 20 mol% or more of an aromatic diamine unit and satisfies the following (1) and (2): (1) the phenolic hydroxyl group content is 500-6,000 eq/t; and (2) when a thin film having a film thickness of 1 μm is formed of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin, the thin film has an oxygen permeability of 1,000 ml/mday MPa or less at a temperature of 40°C and a humidity of 85% RH.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、高湿度下において高いガスバリア性を有するフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂、およびこれを含有するフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin having a high gas barrier property under high humidity, and a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin composition containing the same.

近年、ガスバリア性に優れた材料として、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)やポリアミド樹脂、特にメタキシレンジアミンとアジピン酸との重縮合で得られるMXD6が積極的に利用されている。しかしながら、EVOHは低湿度下での酸素バリア性は優れているものの、高湿度下においては酸素バリア性が大幅に低下するため、高湿度下で包装材料として使用することは不可能である。一方、MXD6は溶融時の熱安定性が良好である利点を活かし、ポリエチレンテレフタレート(以下PETと省略する)、ナイロン6及びポリプロピレン等の熱可塑性樹脂との共押出や共射出成形等による、多層構造物を構成するガスバリア層として用いられているが、アミド結合由来の吸水性の高さによる物性変化や酸化劣化などの問題点があり、また、EVOH同様、高湿度下のバリア性が低いことが指摘されている。さらに、アミド結合由来の高凝集力による汎用溶剤への溶解性の悪さが指摘されており、成型加工以外の加工用途に広く展開していくため、より耐薬品性や耐加水分解性、溶剤可溶性に優れたポリアミドの要求が高まっている。   In recent years, as a material excellent in gas barrier properties, ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH) and polyamide resin, particularly MXD6 obtained by polycondensation of metaxylenediamine and adipic acid has been actively used. However, although EVOH has an excellent oxygen barrier property under low humidity, it cannot be used as a packaging material under high humidity because the oxygen barrier property greatly decreases under high humidity. On the other hand, MXD6 utilizes the advantage of good thermal stability when melted, and has a multilayer structure by co-extrusion or co-injection molding with thermoplastic resins such as polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET), nylon 6 and polypropylene. Although it is used as a gas barrier layer that constitutes an object, there are problems such as a change in physical properties due to high water absorption derived from an amide bond and oxidative deterioration, and, like EVOH, it has a low barrier property under high humidity. It has been pointed out. In addition, poor solubility in general-purpose solvents due to high cohesive strength derived from amide bonds has been pointed out, and since it will be widely used in processing applications other than molding processing, it is more resistant to chemicals, hydrolysis, and solvent solubility. There is a growing demand for excellent polyamides.

非晶性でガスバリア性を示すポリアミド樹脂の例としては、特許文献1〜4を挙げることができる。特許文献1では、MXD6を芳香族ジカルボン酸で変性したポリアミド樹脂が用いられている。特許文献2、3では、メタキシリレンジアミンとヘキサメチレンジアミンをジアミン成分とすることで、疎水性を付与したポリアミド樹脂が提案されている。特許文献4では、炭素数9の脂肪族ジアミンの高い疎水性を活かし、高湿度下においてもガスバリア性を有するポリアミドが示されている。   Examples of the polyamide resin that is amorphous and exhibits gas barrier properties include Patent Documents 1 to 4. In Patent Document 1, a polyamide resin obtained by modifying MXD6 with an aromatic dicarboxylic acid is used. Patent Documents 2 and 3 propose polyamide resins imparted with hydrophobicity by using metaxylylenediamine and hexamethylenediamine as diamine components. Patent Document 4 discloses a polyamide having a gas barrier property even under high humidity by utilizing the high hydrophobicity of an aliphatic diamine having 9 carbon atoms.

特開昭63−267548号公報JP-A 63-267548 特開平1−319531号公報JP-A-1-319531 特開平2−60928号公報JP-A-2-60928 特開2001−302792号公報JP 2001-302792 A

前記背景技術について、本発明者らが検討したところ、以下のような課題があることが判明した。すなわち、特許文献1に開示されている発明においては、この樹脂も吸湿によってガスバリア性が低下する。特許文献2、3に開示されている発明においては、ヘキサメチレンジアミンの疎水性効果が小さいために、吸湿性が改善されるには至っていない。また特許文献4に開示されている発明においては、湿度依存性は改善されているものの、ガスバリア性自体が低いといった課題がある。   When the present inventors examined the background art, it was found that there were the following problems. That is, in the invention disclosed in Patent Document 1, the gas barrier property of this resin also decreases due to moisture absorption. In the inventions disclosed in Patent Documents 2 and 3, since the hydrophobic effect of hexamethylenediamine is small, the hygroscopicity has not been improved. Moreover, in the invention disclosed in Patent Document 4, although the humidity dependency is improved, there is a problem that the gas barrier property itself is low.

本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明が解決しようとする課題は、高湿度下においても高いガスバリア性を有するフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂、およびこれを含有するフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂組成物を提供することにある。   The present invention has been made against the background of such prior art problems. That is, the problem to be solved by the present invention is to provide a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin having a high gas barrier property even under high humidity, and a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin composition containing the same.

本発明者らは鋭意検討した結果、以下に示す手段により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明は、以下の構成からなる。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by the following means, and have reached the present invention. That is, this invention consists of the following structures.

フェノール性水酸基を有するジカルボン酸(A)単位を10モル%以上と、芳香族ジアミン(B)単位を20モル%以上含有し、下記(1)〜(2)を満足するフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂。
(1)フェノール性水酸基量が500〜6000eq/tである
(2)フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂で、膜厚1μmの薄膜を作製したときに、該薄膜の温度40℃、湿度85%RHでの酸素透過度が1000ml/m・day・MPa以下である
A phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin containing 10 mol% or more of a dicarboxylic acid (A) unit having a phenolic hydroxyl group and 20 mol% or more of an aromatic diamine (B) unit and satisfying the following (1) to (2): .
(1) The amount of phenolic hydroxyl group is 500 to 6000 eq / t. (2) When a thin film having a film thickness of 1 μm is prepared with a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin, the temperature of the thin film is 40 ° C. and the humidity is 85% RH. The oxygen permeability is 1000 ml / m 2 · day · MPa or less.

前記フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂は、有機溶剤を含有するフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂組成物であることが好ましい。さらに、硬化剤および/または層状無機物を含有することが好ましい。   The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin is preferably a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin composition containing an organic solvent. Furthermore, it is preferable to contain a hardening | curing agent and / or a layered inorganic substance.

前記フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂を含有する層(A層)とフィルム、シート、織布、不織布および紙からなる群から選ばれる1種以上の層(B層)とからなる積層体。   A laminate comprising a layer (A layer) containing the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin and one or more layers (B layer) selected from the group consisting of a film, a sheet, a woven fabric, a nonwoven fabric and paper.

前記積層体を構成要素として有する包装材料。   A packaging material having the laminate as a constituent element.

本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂およびこれを含有する樹脂組成物は、ポリアミド樹脂の従来の難しい課題であった、高湿度下でのガスバリア性が高く、工業用価値のある顕著な効果を奏すものである。また、溶剤溶解性に優れているため、コート層として種々フィルム基材へ塗布した積層体としても広く用いることが可能である。さらには、フェノール性水酸基の存在により層状無機物の分散性も良好であり、ガスバリア性をさらに高めることもできる。   The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention and the resin composition containing the phenolic resin have a high gas barrier property under high humidity, which has been a difficult problem in the past for polyamide resins, and have a remarkable effect with industrial value. Is. Moreover, since it is excellent in solvent solubility, it can be widely used also as a laminated body apply | coated to various film base materials as a coating layer. Furthermore, the dispersibility of the layered inorganic substance is good due to the presence of the phenolic hydroxyl group, and the gas barrier property can be further enhanced.

<フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂>
本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂は、フェノール性水酸基を有するジカルボン酸(A)単位と、芳香族ジアミン(B)単位を含有し、(1)フェノール性水酸基量が500〜6000eq/tであること、および(2)フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂で、膜厚1μmの薄膜を作製したときに、該薄膜の温度40℃、湿度85%RHでの酸素透過度が1000ml/m・day・MPa以下であることを満足するポリアミド樹脂である。
<Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin>
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention contains a dicarboxylic acid (A) unit having a phenolic hydroxyl group and an aromatic diamine (B) unit, and (1) the phenolic hydroxyl group amount is 500 to 6000 eq / t. And (2) when a thin film having a film thickness of 1 μm is produced with a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin, the oxygen permeability at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 85% RH is 1000 ml / m 2 · day · MPa It is a polyamide resin that satisfies the following conditions.

<フェノール性水酸基を有するジカルボン酸成分(A)>
フェノール性水酸基を有するジカルボン酸(A)単位は、全ジカルボン酸成分および全ジアミン成分の合計量を100モル%としたとき、10モル%以上であることが必要である。好ましくは15モル%以上であり、より好ましくは20モル%以上である。フェノール性水酸基を有するジカルボン酸(A)単位が少なすぎると、有機溶剤との親和性が悪くなる傾向にある。また、60モル%以下が好ましく、50モル%以下がより好ましく、45モル%以下がさらに好ましい。60モル%を超えると、全ジアミン成分量/全ジカルボン酸成分量が1から大きくずれるため、ガスバリア性を発揮するに十分な高分子量化が困難となることがある。また、ガスバリア性が低下することがある。
<Dicarboxylic acid component (A) having phenolic hydroxyl group>
The dicarboxylic acid (A) unit having a phenolic hydroxyl group needs to be 10 mol% or more when the total amount of all dicarboxylic acid components and all diamine components is 100 mol%. Preferably it is 15 mol% or more, More preferably, it is 20 mol% or more. When there are too few dicarboxylic acid (A) units which have a phenolic hydroxyl group, it exists in the tendency for affinity with an organic solvent to worsen. Moreover, 60 mol% or less is preferable, 50 mol% or less is more preferable, and 45 mol% or less is more preferable. If it exceeds 60 mol%, the total amount of diamine components / total amount of dicarboxylic acid components greatly deviates from 1, and it may be difficult to achieve a high molecular weight sufficient to exhibit gas barrier properties. In addition, gas barrier properties may be reduced.

本発明において、フェノール性水酸基を有するジカルボン酸(A)としては、例えば、5−ヒドロキシイソフタル酸(5H−IPA)、4−ヒドロキシイソフタル酸(4H−IPA)、2−ヒドロキシイソフタル酸(2H−IPA)、2−ヒドロキシテレフタル酸(5H−TPA)、2,3−ジヒドロキシテレフタル酸(2,3H−TPA)、2,5−ジヒドロキシテレフタル酸(2,5H−TPA)、3−ヒドロキシフタル酸(3H−OPA)、4−ヒドロキシフタル酸(3H−OPA)およびそのエステル誘導体等が用いられ、これらを単独で、または混合して使用することができる。好ましくは、5−ヒドロキシイソフタル酸、4−ヒドロキシイソフタル酸、2−ヒドロキシイソフタル酸、2−ヒドロキシテレフタル酸、2,5−ジヒドロキシテレフタル酸である。   In the present invention, examples of the dicarboxylic acid (A) having a phenolic hydroxyl group include 5-hydroxyisophthalic acid (5H-IPA), 4-hydroxyisophthalic acid (4H-IPA), and 2-hydroxyisophthalic acid (2H-IPA). ), 2-hydroxyterephthalic acid (5H-TPA), 2,3-dihydroxyterephthalic acid (2,3H-TPA), 2,5-dihydroxyterephthalic acid (2,5H-TPA), 3-hydroxyphthalic acid (3H) -OPA), 4-hydroxyphthalic acid (3H-OPA) and ester derivatives thereof are used, and these can be used alone or in combination. Preferable are 5-hydroxyisophthalic acid, 4-hydroxyisophthalic acid, 2-hydroxyisophthalic acid, 2-hydroxyterephthalic acid, and 2,5-dihydroxyterephthalic acid.

なお、その他のジカルボン酸成分も用いることができる。例えば、イソフタル酸、テレフタル酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸、3,3′−メチレン二安息香酸、4,4′−メチレン二安息香酸、4,4′−オキシ二安息香酸、3,4′−オキシ二安息香酸、4,4′−チオ二安息香酸、3,3′−カルボニル二安息香酸、4,4′−カルボニル二安息香酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、エチレンジアミンビスフタルイミド−4,4′−ジカルボン酸、3,3′−ビス(4−カルボキシルフェニル)プロパン、3,3′−ビス(4−カルボキシルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−カルボキシルフェニル)メタン、3,3′−ビス(4−カルボキシルフェニル)ヘキサフルオロプロパン等の芳香族ジカルボン酸及びその誘導体が例示できる。また、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸とその酸無水物などの脂環族ジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、ダイマー酸などの脂肪族ジカルボン酸を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。好ましくは、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸である。   Other dicarboxylic acid components can also be used. For example, isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 3,3'-methylene dibenzoic acid, 4,4'-methylene dibenzoic acid, 4,4'-oxydibenzoic acid, 3,4 '-Oxydibenzoic acid, 4,4'-thiodibenzoic acid, 3,3'-carbonyldibenzoic acid, 4,4'-carbonyldibenzoic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalene Dicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, ethylenediaminebisphthalimide-4,4'-dicarboxylic acid, 3,3'-bis (4-carboxylphenyl) propane, 3,3'-bis (4-carboxylphenyl) hexa Aromatic dica, such as fluoropropane, bis (4-carboxylphenyl) methane, 3,3'-bis (4-carboxylphenyl) hexafluoropropane Bon acid and its derivatives can be exemplified. In addition, alicyclic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid and its acid anhydride, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, Examples thereof include aliphatic dicarboxylic acids such as dodecanedioic acid and dimer acid, but are not limited thereto. Isophthalic acid, adipic acid, and sebacic acid are preferable.

<芳香族ジアミン成分(B)>
芳香族ジアミン(B)単位は、全ジカルボン酸成分および全ジアミン成分の合計量を100モル%としたとき、20モル%以上であることが必要である。好ましくは25モル%以上であり、より好ましくは30モル%以上である。芳香族ジアミン(B)単位が少なすぎると、機械特性が低下したり、ガスバリア性が低下する傾向にある。また、60モル%以下が好ましく、50モル%以下がより好ましい。60モル%を超えると、全ジカルボン酸成分の合計量が少なくなり、ガスバリア性を発揮するに十分な高分子量化が困難となることがある。
<Aromatic diamine component (B)>
The aromatic diamine (B) unit needs to be 20 mol% or more when the total amount of all dicarboxylic acid components and all diamine components is 100 mol%. Preferably it is 25 mol% or more, More preferably, it is 30 mol% or more. When there are too few aromatic diamine (B) units, it exists in the tendency for a mechanical characteristic to fall or for a gas barrier property to fall. Moreover, 60 mol% or less is preferable and 50 mol% or less is more preferable. When it exceeds 60 mol%, the total amount of all dicarboxylic acid components decreases, and it may be difficult to achieve a high molecular weight sufficient to exhibit gas barrier properties.

本発明において、芳香族ジアミン(B)としては、例えば、p−フェニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、メタトリレンジアミン、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルチオエーテル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルチオエーテル、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルチオエーテル、3,3′−ジアミノジフェニルチオエーテル、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラエチル−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,2′−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、2,2′−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、4,4′−ジアミノジフェニルスルホキシド、ベンチジン、3,3′−ジメチルベンチジン、3,3′−ジメトキシベンチジン、3,3′−ジアミノビフェニル、p−キシリレンジアミン、m−キシリレンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3,5−ジメチルフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3−エチルフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3,5−ジエチルフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3−プロピルフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3,5−ジプロピルフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3−イソプロピルフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3,5−ジイソプロピルフェニル)メタン、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ビス(4−ヒドロキシ−3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン等、およびこれらの誘導体が用いられ、これらを単独で、または混合して使用することができる。好ましくは、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、p−フェニレンジアミンである。   In the present invention, examples of the aromatic diamine (B) include p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminodiphenyl ether, and 3,3′-diaminodiphenyl ether. 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, metatolylenediamine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl thioether, 3, , 3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl thioether, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenyl thioether, 3,3'-diaminodiphenyl thioether, 4,4'-diaminobenzophenone, 3, 3'-dimethyl-4,4'-di Minobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetraethyl-4,4' -Diaminodiphenylmethane, 2,2'-bis (3-aminophenyl) propane, 2,2'-bis (4-aminophenyl) propane, 4,4'-diaminodiphenyl sulfoxide, benzidine, 3,3'-dimethyl bench Gin, 3,3'-dimethoxybenzidine, 3,3'-diaminobiphenyl, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine, bis (4-amino-3-methylphenyl) methane, bis (4-amino- 3,5-dimethylphenyl) methane, bis (4-amino-3-ethylphenyl) methane, bis (4-amino -3,5-diethylphenyl) methane, bis (4-amino-3-propylphenyl) methane, bis (4-amino-3,5-dipropylphenyl) methane, bis (4-amino-3-isopropylphenyl) Methane, bis (4-amino-3,5-diisopropylphenyl) methane, 3,3'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-bis (4-hydroxy-3-aminophenyl) hexafluoro Propane and the like and derivatives thereof are used, and these can be used alone or in combination. Preferred are m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, and p-phenylenediamine.

なお、その他のジアミン成分も用いることができ、例えば、エチレンジアミン、1,4−ジアミノブタン、ヘキサメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、メチルペンタメチレンジアミン、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ジアミン及びその誘導体、ビス−(4,4‘−アミノシクロヘキシル)メタン、イソホロンジアミン、ノルボルナンジアミン、ピペラジン等の脂環族ジアミン及びその誘導体を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Other diamine components can also be used, for example, ethylenediamine, 1,4-diaminobutane, hexamethylenediamine, nonamethylenediamine, undecamethylenediamine, dodecamethylenediamine, methylpentamethylenediamine, 2,2,4 -Aliphatic diamines such as trimethylhexamethylenediamine and 2,4,4-trimethylhexamethylenediamine and derivatives thereof, alicyclics such as bis- (4,4'-aminocyclohexyl) methane, isophoronediamine, norbornanediamine, piperazine Examples thereof include, but are not limited to, diamines and derivatives thereof.

<(1)を満足するフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂>
(1)について説明する。本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂中のフェノール性水酸基量は、500〜6000eq/tであることが必要である。好ましくは600eq/t以上であり、より好ましくは700eq/t以上である。また、5000eq/t以下が好ましく、4000eq/t以下がより好ましい。フェノール性水酸基量が少なすぎると、有機溶剤との親和性、および併用する層状無機物等の添加剤との分散性が不良になる傾向にある。またフェノール性水酸基量が高すぎると、吸湿性を示し、高湿度下でのバリア性が低下する可能性が高くなる。
<Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin satisfying (1)>
(1) will be described. The amount of phenolic hydroxyl group in the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention needs to be 500 to 6000 eq / t. Preferably it is 600 eq / t or more, More preferably, it is 700 eq / t or more. Moreover, 5000 eq / t or less is preferable and 4000 eq / t or less is more preferable. When the amount of the phenolic hydroxyl group is too small, the affinity with an organic solvent and the dispersibility with additives such as layered inorganic substances used in combination tend to be poor. On the other hand, if the amount of the phenolic hydroxyl group is too high, it exhibits hygroscopicity and increases the possibility that the barrier property under high humidity is reduced.

<(2)を満足するフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂>
(2)について説明する。本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂は、該樹脂で膜厚1μmの薄膜を作製したときに、該薄膜の温度40℃、湿度85%RHでの酸素透過度が1000ml/m・day・MPa以下であることが必要である。
<Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin satisfying (2)>
(2) will be described. The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention has an oxygen permeability of 1000 ml / m 2 · day · MPa at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 85% RH when a thin film having a film thickness of 1 μm is produced from the resin. It is necessary that:

薄膜の作製は、本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂組成物(樹脂ワニス)をPETフィルム基材(東洋紡(株)製の東洋紡エステル(登録商標)フィルムE5100、厚み50μm)のコロナ処理面に、乾燥後の膜厚が1μmとなるようにワイヤーバー(#10)で塗布する。次いで150℃で1分間、210℃で1分間乾燥させ、膜厚1μmのフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂層(以下、薄膜または塗布層ともいう。)が積層された薄膜/PETフィルム基材の積層体(以下、コートフィルムともいう。)を得る。   The thin film was prepared by applying the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin composition (resin varnish) of the present invention to a corona-treated surface of a PET film substrate (Toyobo Ester (registered trademark) film E5100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 50 μm), It coat | covers with a wire bar (# 10) so that the film thickness after drying may be set to 1 micrometer. Next, a laminate of a thin film / PET film substrate in which a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin layer (hereinafter also referred to as a thin film or a coating layer) having a thickness of 1 μm is laminated by drying at 150 ° C. for 1 minute and 210 ° C. for 1 minute. (Hereinafter also referred to as a coat film).

次に、酸素透過度測定装置(モコン社製、商品名:OX−TRAN2/21)を使用して、40℃、相対湿度85%の条件下での酸素透過度を測定する。なお、酸素透過度の測定は、薄膜(塗布層)側からPETフィルム側に酸素を透過させることにより行う。
コートフィルムの薄膜(塗布層)の酸素透過度は以下の式を用いて計算した。酸素透過度が低いほどガスバリア性が高いことを示す。
P=DFT/(1/R−1/Rcoat)
Rcoat=コートフィルムの酸素透過度(ml/m・day・MPa)
R=コートフィルムにおける基材(PET)フィルムの酸素透過度(ml/m・day・MPa)
DFT=薄膜(塗布層)の厚み(mm)
P=薄膜(塗布層)の酸素透過度(ml/m・day・MPa)
Next, the oxygen permeability under the conditions of 40 ° C. and 85% relative humidity is measured using an oxygen permeability measuring apparatus (trade name: OX-TRAN 2/21, manufactured by Mocon). The oxygen permeability is measured by allowing oxygen to permeate from the thin film (coating layer) side to the PET film side.
The oxygen permeability of the thin film (coating layer) of the coat film was calculated using the following formula. It shows that gas barrier property is so high that oxygen permeability is low.
P = DFT / (1 / R-1 / Rcoat)
Rcoat = Oxygen permeability of coated film (ml / m 2 · day · MPa)
R = Oxygen permeability of substrate (PET) film in coated film (ml / m 2 · day · MPa)
DFT = thin film (coating layer) thickness (mm)
P = Oxygen permeability of thin film (coating layer) (ml / m 2 · day · MPa)

酸素透過度は、1000ml/m・day・MPa以下であることが必要であり、好ましくは800ml/m・day・MPa以下であり、より好ましくは600ml/m・day・MPa以下であり、さらに好ましくは400ml/m・day・MPa以下である。酸素透過度が大きすぎるとガスバリア性が不足し、包装材料等への適用が困難となることがある。 The oxygen permeability needs to be 1000 ml / m 2 · day · MPa or less, preferably 800 ml / m 2 · day · MPa or less, more preferably 600 ml / m 2 · day · MPa or less. More preferably, it is 400 ml / m 2 · day · MPa or less. If the oxygen permeability is too high, the gas barrier property is insufficient, and application to packaging materials and the like may be difficult.

本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂は、上記方法でコートフィルムを作製したとき、薄膜の23℃、相対湿度65%の条件下での酸素透過度が1000ml/m・day・MPa以下であることが好ましい。より好ましくは800ml/m・day・MPa以下であり、さらに好ましくは600ml/m・day・MPa以下であり、特に好ましくは400ml/m・day・MPa以下である。相対湿度65%での酸素透過度を低くすることで、包装材料等への適用範囲を広げることができる。 The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention has an oxygen permeability of 1000 ml / m 2 · day · MPa or less under the conditions of a thin film at 23 ° C. and a relative humidity of 65% when a coated film is produced by the above method. It is preferable. More preferably, it is 800 ml / m < 2 > * day * MPa or less, More preferably, it is 600 ml / m < 2 > * day * MPa or less, Most preferably, it is 400 ml / m < 2 > * day * MPa or less. By reducing the oxygen permeability at a relative humidity of 65%, the range of application to packaging materials and the like can be expanded.

本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂は、前記ジアミン単位を構成しうる芳香族ジアミン成分(B)と、前記ジカルボン酸単位を構成しうるフェノール水酸基を有するジカルボン酸成分(A)とを重縮合させることで製造することができ、重縮合条件等を調整することで重合度を制御することができる。重縮合時に分子量調整剤として少量のモノアミンやモノカルボン酸を加えてもよい。また、重縮合反応を抑制して所望の重合度とするために、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂を構成するジアミン成分とカルボン酸成分との比率(モル比)を1からずらして調整してもよい。この際、前記成分以外に、(多価)アルコール成分、(多価)エポキシ成分等を共重合することも可能である。   The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention polycondenses the aromatic diamine component (B) capable of constituting the diamine unit and the dicarboxylic acid component (A) having a phenol hydroxyl group capable of constituting the dicarboxylic acid unit. The degree of polymerization can be controlled by adjusting polycondensation conditions and the like. A small amount of monoamine or monocarboxylic acid may be added as a molecular weight modifier during polycondensation. Further, in order to suppress the polycondensation reaction and obtain a desired degree of polymerization, the ratio (molar ratio) between the diamine component and the carboxylic acid component constituting the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin may be adjusted by shifting from 1. . In this case, in addition to the above components, a (polyhydric) alcohol component, a (polyhydric) epoxy component, and the like can be copolymerized.

<重合方法>
フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂は、公知のアミド化縮重合反応を行うことにより製造することができる。例えば、常圧滴下法が挙げられるが、これに限定されない。
<Polymerization method>
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin can be produced by performing a known amidation condensation polymerization reaction. For example, although a normal pressure dropping method is mentioned, it is not limited to this.

常圧滴下法では、常圧下にて、ジカルボン酸成分を加熱溶融した混合物に、ジアミン成分を連続的に滴下し、縮合水を除去しながら重縮合させる。なお、生成するポリアミド樹脂の融点よりも反応温度が下回らないように、反応系を昇温しながら重縮合反応を行う。   In the normal pressure dropping method, a diamine component is continuously dropped into a mixture obtained by heating and melting a dicarboxylic acid component under normal pressure, and polycondensation is performed while removing condensed water. The polycondensation reaction is performed while raising the temperature of the reaction system so that the reaction temperature does not fall below the melting point of the polyamide resin to be produced.

上記重縮合方法で製造されたポリアミド樹脂は、そのまま使用することもできるが、更に重合度を高めるための工程を経てもよい。更に重合度を高める工程としては、押出機内での反応押出や固相重合等が挙げられる。固相重合で用いられる加熱装置としては、連続式の加熱乾燥装置やタンブルドライヤー、コニカルドライヤー、ロータリードライヤー等と称される回転ドラム式の加熱装置およびナウタミキサーと称される内部に回転翼を備えた円錐型の加熱装置が好適に使用できるが、これらに限定されることなく公知の方法、装置を使用することができる。特にポリアミド樹脂の固相重合を行う場合は、上述の装置の中で回転ドラム式の加熱装置が、系内を密閉化でき、着色の原因となる酸素を除去した状態で重縮合を進めやすいことから好ましく用いられる。   The polyamide resin produced by the polycondensation method can be used as it is, but may be subjected to a step for further increasing the degree of polymerization. Further examples of the step of increasing the degree of polymerization include reactive extrusion in an extruder and solid phase polymerization. As a heating device used in solid phase polymerization, a continuous heating drying device, a tumble dryer, a conical dryer, a rotary drum heating device called a rotary dryer, etc., and a rotary blade inside a nauta mixer are provided. A conical heating device can be preferably used, but a known method and device can be used without being limited thereto. In particular, when solid-phase polymerization of polyamide resin is performed, the heating device of the rotating drum type among the above-mentioned devices can seal the inside of the system and facilitate polycondensation in a state where oxygen that causes coloring is removed. Are preferably used.

本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂の対数粘度は、0.05dl/g以上であることが好ましく、0.1dl/g以上であることがより好ましい。また、4.0dl/g以下であることが好ましく、3.5dl/g以下であることがより好ましい。対数粘度が0.05dl/g未満の場合には、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂の機械物性が低くなることがあり、4.0dl/g越の場合には、溶融時の粘度が高く加工性が悪くなったり、有機溶剤への溶解性が低下する傾向にある。   The logarithmic viscosity of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention is preferably 0.05 dl / g or more, and more preferably 0.1 dl / g or more. Moreover, it is preferable that it is 4.0 dl / g or less, and it is more preferable that it is 3.5 dl / g or less. When the logarithmic viscosity is less than 0.05 dl / g, the mechanical properties of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin may be low. When it exceeds 4.0 dl / g, the viscosity at the time of melting is high and the workability is high. It tends to be worse and the solubility in organic solvents tends to decrease.

本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂のガラス転移温度は、60℃以上であることが好ましく、70℃以上であることがより好ましい。また、200℃以下であることが好ましく、190℃以下であることがより好ましい。ガラス転移温度が60℃未満の場合には、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂の機械物性が低くなることがあり、200℃越の場合には、有機溶剤への溶解性が低下する傾向にある。   The glass transition temperature of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention is preferably 60 ° C. or higher, and more preferably 70 ° C. or higher. Moreover, it is preferable that it is 200 degrees C or less, and it is more preferable that it is 190 degrees C or less. When the glass transition temperature is less than 60 ° C, the mechanical properties of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin may be lowered, and when it exceeds 200 ° C, the solubility in an organic solvent tends to be lowered.

<有機溶剤>
本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂は、公知の有機溶剤を用いて任意の割合で希釈してもよい。これらは基材に塗布する際に、塗布可能な粘度に調整するためにも重要である。
<Organic solvent>
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention may be diluted at an arbitrary ratio using a known organic solvent. These are also important for adjusting the viscosity to be applicable when applied to the substrate.

用いる有機溶剤としては特に限定されないが、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルプロピオンアミド、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶剤や、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどのケトン系溶剤、γ−ブチロラクトンなどのラクトン系溶剤、フェノール、ベンジルアルコールといった公知の溶剤を利用することができる。中でもN,N−ジメチルアセトアミド、ベンジルアルコールが溶解性の観点から好ましい。これらの有機溶剤を単独で、または2種以上を併用することができる。   The organic solvent used is not particularly limited, but N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylpropionamide, 1,3-dimethylimidazolidinone, N-methyl-2-pyrrolidone, N Amide solvents such as ethyl-2-pyrrolidone, ketone solvents such as cyclohexanone and cyclopentanone, lactone solvents such as γ-butyrolactone, and known solvents such as phenol and benzyl alcohol can be used. Among these, N, N-dimethylacetamide and benzyl alcohol are preferable from the viewpoint of solubility. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

前記有機溶剤の含有量は、有機溶剤全体に対して80重量%以上であることが好ましく、90重量%以上であることがより好ましく、95重量%以上であることがさらに好ましく、100重量%であることが特に好ましい。少なすぎると、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂の溶解性が低下することがある。   The content of the organic solvent is preferably 80% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, still more preferably 95% by weight or more, and 100% by weight with respect to the whole organic solvent. It is particularly preferred. If the amount is too small, the solubility of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin may decrease.

また、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記溶剤の一部を、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族系溶剤、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤を混合させることもできる。   Further, as long as the effect of the present invention is not hindered, some of the above solvents are aromatic solvents such as toluene and xylene, aliphatic solvents such as hexane, heptane and octane, methanol, ethanol, propyl alcohol, butanol and the like. Alcohol solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ether and tetrahydrofuran, and ether solvents such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate can be mixed.

本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂は、上記有機溶媒に160℃で、10質量%以上溶解することが好ましい。より好ましくは15質量%以上であり、さらに好ましくは20質量%以上である。10質量%以上溶解することで、基材への塗布が容易となる。   The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention is preferably dissolved in the organic solvent at 160 ° C. by 10% by mass or more. More preferably, it is 15 mass% or more, More preferably, it is 20 mass% or more. By dissolving 10% by mass or more, application to the substrate becomes easy.

<硬化剤>
本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂は、耐薬品性、および接着性の向上を目的として、フェノール性水酸基、カルボキシル基、またはアミノ基に対して反応性を有する硬化剤を含有することができる。前記硬化剤としては、メラミン系、ベンゾグアナミン系等のアミノ樹脂、多価イソシアネート化合物、多価オキサゾリン化合物、多価エポキシ化合物、フェノール樹脂などの各種の硬化剤を使用することができる。特に、メラミン系のアミノ樹脂、多価イソシアネート化合物は反応性が高く、低温での硬化が可能となり、また高い接着力を得ることができ、好ましい。また多価金属塩も硬化剤として使用することができる。
<Curing agent>
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention can contain a curing agent having reactivity with a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, or an amino group for the purpose of improving chemical resistance and adhesion. As said hardening | curing agent, various hardening | curing agents, such as amino resins, such as a melamine type and a benzoguanamine type, a polyvalent isocyanate compound, a polyvalent oxazoline compound, a polyvalent epoxy compound, a phenol resin, can be used. In particular, melamine-based amino resins and polyisocyanate compounds are preferable because they have high reactivity, can be cured at low temperatures, and can provide high adhesive strength. Multivalent metal salts can also be used as curing agents.

これらの硬化剤を使用する場合、その含有量は本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂100質量部に対し、5〜50質量部であることが好ましく、10〜30質量部であることがより好ましい。硬化剤の配合量が5質量部を下回ると硬化性が不足する傾向にあり、50質量部を超えると塗膜が硬くなりすぎる傾向にある。   When using these hardening | curing agents, it is preferable that the content is 5-50 mass parts with respect to 100 mass parts of phenolic hydroxyl group containing polyamide resins of this invention, and it is more preferable that it is 10-30 mass parts. . When the blending amount of the curing agent is less than 5 parts by mass, the curability tends to be insufficient, and when it exceeds 50 parts by mass, the coating film tends to be too hard.

本発明に使用する硬化剤として適切な多価エポキシ化合物としては、ノボラック型多価エポキシ樹脂、ビスフェノール型多価エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型多価エポキシ樹脂、アミノ基含有多価エポキシ樹脂、共重合型多価エポキシ樹脂等を挙げることができる。ノボラック型多価エポキシ樹脂の例としては、フェノール、クレゾール、アルキルフェノールなどのフェノール類とホルムアルデヒドとを酸性触媒下で反応させて得られるノボラック類に、エピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンを反応させて得られるものを挙げることができる。ビスフェノール型多価エポキシ樹脂の例としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールSなどのビスフェノール類にエピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンを反応させて得られるものや、ビスフェノールAのジグリシジルエーテルと前記ビスフェノール類の縮合物にエピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンを反応させて得られるものを挙げることができる。トリスフェノールメタン型多価エポキシ樹脂の例としては、トリスフェノールメタン、トリスクレゾールメタン等とエピクロルヒドリン及び/又はメチルエピクロルヒドリンとを反応させて得られるものを挙げることができる。アミノ基含有多価エポキシ樹脂の例としては、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサノン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン等のグリシジルアミン系を挙げることができる。共重合型多価エポキシ樹脂の例としては、グリシジルメタクリレートとスチレンの共重合体、グリシジルメタクリレートとスチレンとメチルメタクリレートの共重合体、あるいは、グリシジルメタクリレートとシクロヘキシルマレイミドなどとの共重合体等を挙げることができる。   Suitable polyhydric epoxy compounds as curing agents for use in the present invention include novolac polyhydric epoxy resins, bisphenol polyhydric epoxy resins, trisphenolmethane polyhydric epoxy resins, amino group-containing polyhydric epoxy resins, and copolymers. Type polyvalent epoxy resin. Examples of novolak-type polyvalent epoxy resins are those obtained by reacting novolaks obtained by reacting phenols such as phenol, cresol, alkylphenol and formaldehyde in the presence of an acidic catalyst with epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin. Can be mentioned. Examples of bisphenol type polyvalent epoxy resins include those obtained by reacting bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, and bisphenol S with epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin, and diglycidyl ethers of bisphenol A and the bisphenols. The thing obtained by making epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin react with a condensate can be mentioned. Examples of the trisphenol methane type polyvalent epoxy resin include those obtained by reacting trisphenol methane, tris-resole methane and the like with epichlorohydrin and / or methyl epichlorohydrin. Examples of amino group-containing polyvalent epoxy resins include glycidylamines such as tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidylparaaminophenol, tetraglycidylbisaminomethylcyclohexanone, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine and the like. The system can be mentioned. Examples of copolymer type polyhydric epoxy resins include copolymers of glycidyl methacrylate and styrene, copolymers of glycidyl methacrylate and styrene and methyl methacrylate, or copolymers of glycidyl methacrylate and cyclohexylmaleimide, etc. Can do.

本発明に使用する多価エポキシ化合物の硬化反応に、硬化触媒を使用することができる。例えば2−メチルイミダゾールや1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールや2−フェニル−4−メチルイミダゾールや1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物やトリエチルアミンやトリエチレンジアミンやN’−メチル−N−(2−ジメチルアミノエチル)ピペラジンや1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7や1,5−ジアザビシクロ(4,3,0)−ノネン−5や6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7等の3級アミン類及びこれらの3級アミン類をフェノールやオクチル酸や4級化テトラフェニルボレート塩等でアミン塩にした化合物、トリアリルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネートやジアリルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート等のカチオン触媒、トリフェニルフォスフィン等が挙げられる。これらのうち、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7や1,5−ジアザビシクロ(4,3,0)−ノネン−5や6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7等の3級アミン類及びこれらの3級アミン類をフェノールやオクチル酸等や4級化テトラフェニルボレート塩でアミン塩にした化合物が熱硬化性及び耐熱性、金属への接着性、配合後の保存安定性の点で好ましい。その際の配合量はフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂100質量部に対して0.01〜1.0質量部の配合量であることが好ましい。この範囲であればフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂とエポキシ化合物の反応に対する効果が一段と増し、強固な塗膜を得ることができる。   A curing catalyst can be used for the curing reaction of the polyvalent epoxy compound used in the present invention. For example, imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, and triethylamine , Triethylenediamine, N'-methyl-N- (2-dimethylaminoethyl) piperazine, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) -undecene-7 and 1,5-diazabicyclo (4,3,0)- Tertiary amines such as nonene-5 and 6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo (5,4,0) -undecene-7, and tertiary amines such as phenol, octylic acid and quaternized tetraphenylborate Compounds converted to amine salts with salts, triallylsulfonium hexafluoroantimonate and dia Le iodonium hexafluoroantimonate Mona bets and cationic catalysts include triphenylphosphine and the like. Of these, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) -undecene-7, 1,5-diazabicyclo (4,3,0) -nonene-5 and 6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo (5 , 4,0) -undecene-7 and the like, and compounds obtained by converting these tertiary amines into amine salts with phenol, octylic acid or the like or quaternized tetraphenylborate salts are thermosetting and heat resistant, It is preferable in terms of adhesion to metal and storage stability after blending. It is preferable that the compounding quantity in that case is 0.01-1.0 mass part of compounding quantity with respect to 100 mass parts of phenolic hydroxyl group containing polyamide resins. If it is this range, the effect with respect to reaction of a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin and an epoxy compound will increase further, and a firm coating film can be obtained.

本発明に使用する硬化剤として適切なフェノール樹脂としては、たとえばアルキル化フェノール類および/またはクレゾール類とホルムアルデヒドとの縮合物を挙げることができる。具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等のアルキル基でアルキル化されたアルキル化フェノール、p-tert-アミルフェノール、4、4'-sec-ブチリデンフェノール、p-tert-ブチルフェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、p-シクロヘキシルフェノール、4,4'-イソプロピリデンフェノール、p-ノニルフェノール、p-オクチルフェノール、3-ペンタデシルフェノール、フェノール、フェニルo-クレゾール、p-フェニルフェノール、キシレノールなどとホルムアルデヒドとの縮合物を挙げることができる。   Examples of the phenol resin suitable as the curing agent used in the present invention include alkylated phenols and / or condensates of cresols and formaldehyde. Specifically, alkylated phenols alkylated with alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, p-tert-amylphenol, 4,4'-sec-butylidenephenol, p -tert-butylphenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, p-cyclohexylphenol, 4,4'-isopropylidenephenol, p-nonylphenol, p-octylphenol, 3-pentadecylphenol, phenol, phenyl o- Mention may be made of condensates of cresol, p-phenylphenol, xylenol and the like with formaldehyde.

本発明に使用する硬化剤として適切なアミノ樹脂としては、例えば尿素、メラミン、ベンゾグアナミンなどのホルムアルデヒド付加物、さらにこれらの化合物を炭素原子数が1〜6のアルコールによりアルコキシ化したアルキルエーテル化合物を挙げることができる。具体的にはメトキシ化メチロール尿素、メトキシ化メチロール−N,N−エチレン尿素、メトキシ化メチロールジシアンジアミド、メトキシ化メチロールメラミン、メトキシ化メチロールベンゾグアナミン、ブトキシ化メチロールメラミン、ブトキシ化メチロールベンゾグアナミンなどが挙げられる。好ましくはメトキシ化メチロールメラミン、ブトキシ化メチロールメラミンおよびメチロール化ベンゾグアナミンであり、それぞれ単独または併用して使用することができる。   Examples of suitable amino resins as curing agents used in the present invention include formaldehyde adducts such as urea, melamine, and benzoguanamine, and alkyl ether compounds obtained by alkoxylating these compounds with alcohols having 1 to 6 carbon atoms. be able to. Specific examples include methoxylated methylol urea, methoxylated methylol-N, N-ethyleneurea, methoxylated methylol dicyandiamide, methoxylated methylol melamine, methoxylated methylol benzoguanamine, butoxylated methylol melamine, butoxylated methylol benzoguanamine and the like. Preferred are methoxylated methylol melamine, butoxylated methylol melamine and methylolated benzoguanamine, each of which can be used alone or in combination.

本発明に使用する硬化剤として適切な多価イソシアネート化合物としては、低分子化合物、高分子化合物のいずれでもよい。低分子化合物としては、たとえば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート化合物、トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族多価イソシアネート化合物、水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族多価イソシアネートを挙げることができる。また、これらの多価イソシアネート化合物の3量体等を挙げることができる。また高分子化合物としては、複数の活性水素を有する化合物と前記低分子ポリイソシアネート化合物の過剰量とを反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物を挙げることができる。複数の活性水素を有する化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ソルビトール等の多価アルコール類、エチレンジアミン等の多価アミン類、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の水酸基とアミノ基を有する化合物、ポリエステルポリオール類、ポリエーテルポリオール類、ポリアミド類等の活性水素含有ポリマーを挙げることができる。   The polyvalent isocyanate compound suitable as the curing agent used in the present invention may be either a low molecular compound or a high molecular compound. Examples of the low molecular compound include aliphatic isocyanate compounds such as tetramethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, aromatic polyvalent isocyanate compounds such as toluene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, and hydrogenated xylylene diisocyanate. And alicyclic polyvalent isocyanates such as isophorone diisocyanate. Moreover, trimers of these polyvalent isocyanate compounds can be exemplified. Examples of the polymer compound include a terminal isocyanate group-containing compound obtained by reacting a compound having a plurality of active hydrogens with an excess of the low-molecular polyisocyanate compound. Examples of the compound having a plurality of active hydrogens include polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, trimethylolpropane, glycerin and sorbitol, polyhydric amines such as ethylenediamine, hydroxyl groups such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine And compounds having an amino group, polyester polyols, polyether polyols, polyamides, and other active hydrogen-containing polymers.

前記多価イソシアネート化合物はブロック化イソシアネートであってもよい。イソシアネートブロック化剤としては、例えばフェノール、チオフェノール、メチルチオフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシノール、ニトロフェノール、クロロフェノール等のフェノール類、アセトキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどのオキシム類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、エチレンクロルヒドリン、1,3-ジクロロ-2-プロパノールなどのハロゲン置換アルコール類、t-ブタノール、t-ペンタノールなどの第3級アルコール類、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム、β−プロピルラクタムなどのラクタム類が挙げられ、その他にも芳香族アミン類、イミド類、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル、マロン酸エチルエステルなどの活性メチレン化合物、メルカプタン類、イミン類、尿素類、ジアリール化合物類重亜硫酸ソーダなども挙げられる。ブロック化イソシアネートは上記イソシアネート化合物とイソシアネート化合物とイソシアネートブロック化剤とを従来公知の適宜の方法より付加反応させて得られる。   The polyvalent isocyanate compound may be a blocked isocyanate. Examples of the isocyanate blocking agent include phenols such as phenol, thiophenol, methylthiophenol, cresol, xylenol, resorcinol, nitrophenol, and chlorophenol, oximes such as acetoxime, methyl ethyl ketoxime, and cyclohexanone oxime, methanol, ethanol, propanol, Alcohols such as butanol, halogen-substituted alcohols such as ethylene chlorohydrin and 1,3-dichloro-2-propanol, tertiary alcohols such as t-butanol and t-pentanol, ε-caprolactam, δ-valero Examples include lactams such as lactam, γ-butyrolactam, β-propyllactam, and other aromatic amines, imides, acetylacetone, acetoacetate ester, ethyl malonate. Examples include active methylene compounds such as tellurium, mercaptans, imines, ureas, diaryl compounds and sodium bisulfite. The blocked isocyanate is obtained by subjecting the above isocyanate compound, isocyanate compound and isocyanate blocking agent to an addition reaction by a conventionally known appropriate method.

本発明に使用する硬化剤として適切な多価オキサゾリン化合物は、分子内にオキサゾリン基を有する化合物であり、特にオキサゾリン基を含有する重合体が好ましく、付加重合性オキサゾリン基含有モノマー単独もしくは他のモノマーとの重合によって作製できる。付加重合性オキサゾリン基含有モノマーは、2−ビニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−ビニル−5−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−5−エチル−2−オキサゾリン等を挙げることができ、これらの1種または2種以上の混合物を使用することができる。これらの中でも2−イソプロペニル−2−オキサゾリンが工業的にも入手しやすく好適である。他のモノマーは、付加重合性オキサゾリン基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば制限なく、例えばアルキル(メタ)アクリレート(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基)等の(メタ)アクリル酸エステル類;アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸およびその塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等)等の不飽和カルボン酸類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル類;(メタ)アクリルアミド、N−アルキル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミド、(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等)等の不飽和アミド類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル類;エチレン、プロピレン等のα−オレフィン類;塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル等の含ハロゲンα,β−不飽和モノマー類;スチレン、α−メチルスチレン、等のα,β−不飽和芳香族モノマー等を挙げることができ、これらの1種または2種以上のモノマーを使用することができる。   The polyvalent oxazoline compound suitable as a curing agent used in the present invention is a compound having an oxazoline group in the molecule, and a polymer containing an oxazoline group is particularly preferable, and an addition polymerizable oxazoline group-containing monomer alone or other monomer And can be prepared by polymerization. Addition polymerizable oxazoline group-containing monomers include 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-5-ethyl-2-oxazoline, and the like can be mentioned, and one or a mixture of two or more thereof can be used. Among these, 2-isopropenyl-2-oxazoline is preferred because it is easily available industrially. The other monomer is not limited as long as it is a monomer copolymerizable with an addition polymerizable oxazoline group-containing monomer. For example, alkyl (meth) acrylate (the alkyl group includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, (meth) acrylic acid esters such as n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, cyclohexyl group); acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, styrene Unsaturated carboxylic acids such as sulfonic acid and its salts (sodium salt, potassium salt, ammonium salt, tertiary amine salt, etc.); Unsaturated nitriles such as acrylonitrile, methacrylonitrile; (meth) acrylamide, N-alkyl ( (Meth) acrylamide, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, As the alkyl group, unsaturated amides such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group and cyclohexyl group); vinyl acetate Vinyl esters such as vinyl propionate; vinyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether; α-olefins such as ethylene and propylene; halogen-containing α, β-unsaturated monomers such as vinyl chloride, vinylidene chloride and vinyl fluoride And α, β-unsaturated aromatic monomers such as styrene and α-methylstyrene, and the like, and one or more of these monomers can be used.

本発明に使用する硬化剤としては、市販の硬化剤を使用することができ、旭化成(株)製デュラネート(登録商標)24A−100、TPA−100、TLA−100等のポリイソシアネート化合物、ナガセケミッテックス(株)製のデナコール(登録商標)EX−411、EX−321等の多価エポキシ樹脂を使用することができる。   As the curing agent used in the present invention, a commercially available curing agent can be used, such as polyisocyanate compounds such as Duranate (registered trademark) 24A-100, TPA-100, TLA-100, manufactured by Asahi Kasei Corporation, Nagaseke A polyvalent epoxy resin such as Denacor (registered trademark) EX-411 or EX-321 manufactured by Mitex Corporation can be used.

<層状無機物>
本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂は、層状無機物を含有することができる。層状化合物を含有することにより、ガスバリア性が向上したフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂組成物を提供することができる。層状無機物は天然品であっても合成品であっても良く、その代表例として層状珪酸塩が挙げられる。層状珪酸塩としては、例えばモンモリロナイト、ヘクトライト、フッ素ヘクトライト、サポナイト、ハイデライト、スチブンサイトなどのスメクタイト系粘土鉱物、Na型フッ素テニオライト、Na型四珪素フッ素雲母、Li型四珪素フッ素雲母などの膨潤性合成雲母、バーミキュライト、フッ素バーミキュライト、ハロイサイトなどが挙げられる。これらの中でも、Na型四珪素フッ素雲母、Li型四珪素フッ素雲母などの膨潤性合成雲母が特に好ましい。層状無機物の含有量は、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂100質量部に対して0.01〜10質量部の範囲とするのが好ましく、0.1〜5質量部の範囲とするのがより好ましい。含有量が少ないと、ガスバリア性の効果が低下することがある。含有量が多いと、塗膜強度が低下することがある。
<Layered inorganic material>
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention can contain a layered inorganic substance. By containing a layer compound, a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin composition having improved gas barrier properties can be provided. The layered inorganic substance may be a natural product or a synthetic product, and a typical example thereof is a layered silicate. Examples of layered silicates include swelling of smectite clay minerals such as montmorillonite, hectorite, fluorine hectorite, saponite, hydelite, stevensite, Na-type fluorine teniolite, Na-type tetrasilicon fluorine mica, Li-type tetrasilicon fluorine mica, etc. Sexual synthetic mica, vermiculite, fluorine vermiculite, halloysite and the like. Among these, swellable synthetic mica such as Na-type tetrasilicon fluorine mica and Li-type tetrasilicon fluorine mica is particularly preferable. The content of the layered inorganic substance is preferably in the range of 0.01 to 10 parts by mass, and more preferably in the range of 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin. When the content is small, the gas barrier effect may be lowered. When the content is large, the coating film strength may be lowered.

層状無機物としては、その粒径が10〜1000オングストロームの範囲にあるものを使用するのが好ましく、100〜500オングストロームであることがさらに好ましい。粒径が10オングストローム未満だと、層状無機物がポリアミド分子中に十分に分散することができず、また1000オングストロームを越えると、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂組成物の引張強度の低下に繋がることがあるので好ましくない。また、層状無機物としては、単位構造である一層(以下、これを単位層と称する)の厚みが10オングストローム程度であり、単位層間の距離が10オングストロームを越えるものが好適である。層状無機物は公知の方法によってフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂に配合される。例えば、所定量の層状無機物をフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂の重合工程で系内に添加してもよいし、またフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂を調製後、ドライブレンドする方法、押出機を用いて溶融混練する方法、樹脂ワニスを調整後に添加する方法が挙げられる。   As the layered inorganic material, those having a particle size in the range of 10 to 1000 angstroms are preferably used, and more preferably 100 to 500 angstroms. If the particle size is less than 10 angstroms, the layered inorganic substance cannot be sufficiently dispersed in the polyamide molecule, and if it exceeds 1000 angstroms, the tensile strength of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin composition may be reduced. Therefore, it is not preferable. Further, as the layered inorganic substance, a layer having a unit structure (hereinafter referred to as a unit layer) having a thickness of about 10 angstroms and a distance between unit layers exceeding 10 angstroms is preferable. The layered inorganic material is blended with the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin by a known method. For example, a predetermined amount of layered inorganic material may be added to the system in the polymerization step of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin, or after preparing the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin, dry blending, melting using an extruder Examples thereof include a kneading method and a method of adding a resin varnish after adjustment.

<添加剤>
本発明において、本発明の効果を損なわない範囲で塗布層に他の機能性を付与するために、各種の添加剤を含有させても構わない。前記添加剤としては、例えば、無機、もしくは有機の粒子、顔料、染料、帯電防止剤、レベリング剤、蛍光染料、蛍光増白剤、可塑剤、分散剤、紫外線吸収剤、顔料分散剤、沈降防止剤、抑泡剤、消泡剤、皮張り防止剤、たれ防止剤、つや消し剤、増粘剤、防カビ剤、防腐剤、導電剤、または難燃剤等が挙げられる。さらにフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂以外の樹脂、例えばポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、他のポリアミド樹脂等を適宜配合することができる。フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂のフェノール性水酸基価が大きいので各種顔料の分散性が大きく、高濃度の塗料の作製が可能である。
<Additives>
In the present invention, various additives may be contained in order to impart other functionality to the coating layer within a range not impairing the effects of the present invention. Examples of the additive include inorganic or organic particles, pigments, dyes, antistatic agents, leveling agents, fluorescent dyes, fluorescent whitening agents, plasticizers, dispersants, ultraviolet absorbers, pigment dispersants, and anti-settling agents. Agents, antifoaming agents, antifoaming agents, anti-skinning agents, anti-sagging agents, delustering agents, thickeners, fungicides, antiseptics, conductive agents, or flame retardants. Furthermore, a resin other than the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin, for example, a polyester resin, a polyurethane resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, another polyamide resin, or the like can be appropriately blended. Since the phenolic hydroxyl group value of the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin is large, the dispersibility of various pigments is large, and a paint having a high concentration can be produced.

本発明において、塗布層中に含有させることのできる粒子としては、シリカ、カオリナイト、タルク、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、硫酸バリウム、カーボンブラック、酸化亜鉛、硫酸亜鉛、炭酸亜鉛、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、水酸化アルミニウム、加水ハロイサイト、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、等の無機粒子、アクリルあるいはメタアクリル系、塩化ビニル系、酢酸ビニル系、ナイロン、スチレン/アクリル系、スチレン/ブタジエン系、ポリスチレン/アクリル系、ポリスチレン/イソプレン系、ポリスチレン/イソプレン系、メチルメタアクリレート/ブチルメタアクリレート系、メラミン系、ポリカーボネート系、尿素系、エポキシ系、ウレタン系、フェノール系、ジアリルフタレート系、ポリエステル系等の有機粒子が挙げられる。   In the present invention, particles that can be contained in the coating layer include silica, kaolinite, talc, light calcium carbonate, heavy calcium carbonate, zeolite, alumina, barium sulfate, carbon black, zinc oxide, zinc sulfate, carbonic acid. Inorganic particles such as zinc, zirconium dioxide, titanium dioxide, satin white, aluminum silicate, diatomaceous earth, calcium silicate, aluminum hydroxide, hydrous halloysite, magnesium carbonate, magnesium hydroxide, acrylic or methacrylic, vinyl chloride, acetic acid Vinyl, nylon, styrene / acrylic, styrene / butadiene, polystyrene / acrylic, polystyrene / isoprene, polystyrene / isoprene, methyl methacrylate / butyl methacrylate, melamine, poly Boneto system, urea, epoxy, urethane, phenolic, diallyl phthalate, and organic particles of a polyester or the like.

本発明において、本発明の効果を損なわない範囲で金属化合物等を含有させても構わない。金属化合物を構成する金属としては、特に限定されず、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム等の1価の金属や、マグネシウム、カルシウム、ジルコニウム、亜鉛、銅、コバルト、鉄、ニッケル、アルミニウム等の2価以上の金属が挙げられる。金属化合物は、上記金属を含有する化合物であり、化合物としては、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物や、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、硫酸塩等の無機塩や、酢酸塩、ギ酸塩、ステアリン酸塩、クエン酸塩、リンゴ酸塩、マレイン酸塩などのカルボン酸塩や、スルホン酸塩等の有機酸塩が挙げられ、酸化物、炭酸塩であることが好ましい。また、金属化合物として金属単体を用いてもよい。特に、フェノール性水酸基と反応しやすいという観点から塩化鉄等の鉄イオン化合物、カルボン酸と反応しやすいという観点から酸化マグネシウム等のマグネシウムイオン化合物が好ましい。これらの相互作用効果により、バリア性の向上が期待できる。   In this invention, you may contain a metal compound etc. in the range which does not impair the effect of this invention. The metal constituting the metal compound is not particularly limited, and monovalent metals such as lithium, sodium, potassium, rubidium, and cesium, and magnesium, calcium, zirconium, zinc, copper, cobalt, iron, nickel, aluminum, and the like. A bivalent or higher metal is mentioned. The metal compound is a compound containing the above metal, and examples of the compound include oxides, hydroxides, halides, inorganic salts such as carbonates, bicarbonates, phosphates, sulfates, acetates, Examples thereof include carboxylates such as formate, stearate, citrate, malate and maleate, and organic acid salts such as sulfonate, and oxides and carbonates are preferred. Moreover, you may use a metal simple substance as a metal compound. In particular, an iron ion compound such as iron chloride is preferable from the viewpoint of easy reaction with a phenolic hydroxyl group, and a magnesium ion compound such as magnesium oxide is preferable from the viewpoint of easy reaction with a carboxylic acid. Due to these interaction effects, an improvement in barrier properties can be expected.

<積層体>
本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂および組成物は、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂を含有する層(A層)とフィルム、シート、織布、不織布および紙からなる群から選ばれる層(B層)とを積層し、積層体とすることができる。前記積層体は、例えば、フィルム、シート、織布、不織布および紙からなる群から選ばれる層(B層)に、本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂組成物(樹脂ワニス)を塗布し乾燥させることにより容易に得ることができる。本発明の樹脂ワニスは、各種原料からなるフィルム、シート、織布、不織布および紙と強い接着性を示す。特に、ポリ乳酸、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、セルロース、デンプン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩素化ポリオレフィン及びこれらの化学改質物質から作製されるフィルム、シートに対して高い接着力を示す。また、各種金属蒸着フィルムにも高い接着力を示すので、前記A層/金属蒸着層/B層の3層構造の積層体として用いることも有用である。金属蒸着層に使用する金属およびB層は特に限定されないが、特にアルミ蒸着フィルムと本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂ワニスとの接着力が大きい。本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂ワニスが、各種金属蒸着フィルムに対して高い接着力を示すのは、本発明のポリエステル樹脂のフェノール性水酸基価が高いことの効果であると思われる。これらの積層体は、例えば包装材料としての使用に好適であり、特に食品包装材料として最適である。
<Laminated body>
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin and composition of the present invention are a layer (B layer) selected from the group consisting of a layer (A layer) containing a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin and a film, sheet, woven fabric, nonwoven fabric and paper. Can be laminated to form a laminate. For example, the laminate is applied with the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin composition (resin varnish) of the present invention on a layer (B layer) selected from the group consisting of a film, a sheet, a woven fabric, a nonwoven fabric, and paper and dried. Can be easily obtained. The resin varnish of the present invention exhibits strong adhesion to films, sheets, woven fabrics, nonwoven fabrics and papers made of various raw materials. In particular, it exhibits high adhesion to films and sheets made from polylactic acid, polyester, polyurethane, polyamide, cellulose, starch, vinyl chloride, vinylidene chloride, chlorinated polyolefin and these chemically modified substances. Moreover, since it shows high adhesive force also to various metal vapor deposition films, it is also useful to use it as a laminate having a three-layer structure of the A layer / metal vapor deposition layer / B layer. Although the metal and B layer used for a metal vapor deposition layer are not specifically limited, Especially the adhesive force of an aluminum vapor deposition film and the phenolic hydroxyl group containing polyamide resin varnish of this invention is large. It is considered that the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin varnish of the present invention exhibits high adhesion to various metal vapor deposited films because of the high phenolic hydroxyl value of the polyester resin of the present invention. These laminates are suitable for use as packaging materials, for example, and are particularly suitable as food packaging materials.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、もとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更を加えて実施することも可能であり、それらは、いずれも本発明の技術的範囲に含まれる。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples, but may be implemented with appropriate modifications within a scope that can meet the gist of the present invention. These are all included in the technical scope of the present invention.

なお、以下、特記のない場合、部は質量部を表す。また、本明細書中で採用した測定、評価方法は次の通りである。   Hereinafter, unless otherwise specified, “part” represents “part by mass”. The measurement and evaluation methods employed in the present specification are as follows.

<樹脂組成>
樹脂試料を、重クロロホルムまたは重ジメチルスルホキシドに溶解し、VARIAN社製 NMR装置400−MRを用いて、H−NMR分析、必要に応じて13C−NMR分析を行ってその積分比より、樹脂組成を求め、モル%で表示した。
また、上記樹脂組成を元に、フェノール性水酸基量(eq/t)を下記式により算出した。
フェノール性水酸基量(eq/t)=(Σ(P/100×Q))×10/(Σ(R/100)×Z)
P=各フェノール性水酸基含有成分の含有量(モル%)
Q=各フェノール性水酸基含有成分1分子中におけるフェノール性水酸基数
R=各構成成分の含有量(モル%)
Z=各構成成分の分子量
<Resin composition>
A resin sample was dissolved in deuterated chloroform or deuterated dimethyl sulfoxide, and 1 H-NMR analysis and 13 C-NMR analysis were performed as necessary using an NMR apparatus 400-MR manufactured by VARIAN. The composition was determined and expressed in mole%.
Moreover, the amount of phenolic hydroxyl groups (eq / t) was calculated by the following formula based on the resin composition.
Amount of phenolic hydroxyl group (eq / t) = (Σ (P / 100 × Q)) × 10 6 / (Σ (R / 100) × Z)
P = content of each phenolic hydroxyl group-containing component (mol%)
Q = number of phenolic hydroxyl groups in one molecule of each phenolic hydroxyl group-containing component R = content of each constituent component (mol%)
Z = molecular weight of each component

<ガラス転移温度>
JIS K7121(1987)に準拠し、示差走査熱量計DSC(セイコーインスツルメンツ株式会社製、DSC200)を使用し、DSC曲線からガラス転移温度を求めた。
<Glass transition temperature>
Based on JIS K7121 (1987), the glass transition temperature was calculated | required from the DSC curve using the differential scanning calorimeter DSC (the Seiko Instruments Inc. make, DSC200).

<コートフィルムサンプルの作製>
厚さ50μmの基材(PET)フィルム(東洋紡(株)製、東洋紡エステル(登録商標)フィルムE5100)のコロナ処理面に、実施例及び比較例で得られたフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂ワニスを、ワイヤーバー#10を用いて塗布した後、150℃で1分、210℃で1分乾燥し、コートフィルムサンプルを得た。
<Preparation of coated film sample>
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin varnish obtained in Examples and Comparative Examples was applied to the corona-treated surface of a 50 μm thick substrate (PET) film (Toyobo Co., Ltd., Toyobo Ester (registered trademark) film E5100). After coating using wire bar # 10, the coated film sample was obtained by drying at 150 ° C. for 1 minute and at 210 ° C. for 1 minute.

<対数粘度>
JIS K 7367−5(2000)に準拠し、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂を0.1gサンプリングし、1,1,2,2−テトラクロルエタン/フェノール = 40/60(重量比)混合溶液を用い、30℃で測定した。
<Logarithmic viscosity>
In accordance with JIS K 7367-5 (2000), 0.1 g of a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin was sampled, and a 1,1,2,2-tetrachloroethane / phenol = 40/60 (weight ratio) mixed solution was used. , Measured at 30 ° C.

作製したコートフィルムのガスバリア性能は、酸素透過度により評価した。
<酸素透過度>
コートフィルムについて、酸素透過度測定装置(モコン社製、商品名:OX−TRAN2/21)を使用して、23℃、相対湿度65%、あるいは23℃、相対湿度80%の条件下での酸素透過度を測定した。なお、酸素透過度の測定は、薄膜(塗布層)側からPETフィルム側に酸素を透過させることにより行った。
コートフィルムの薄膜(塗布層)の酸素透過度は以下の式を用いて計算した。酸素透過度が低いほどガスバリア性が高いことを示す。
P=DFT/(1/R−1/Rcoat)
Rcoat=コートフィルムの酸素透過度(ml/m・day・MPa)
R=コートフィルムにおける基材(PET)フィルムの酸素透過度(ml/m・day・MPa)
DFT=薄膜(塗布層)の厚み(mm)
P=薄膜(塗布層)の酸素透過度(ml/m・day・MPa)
The gas barrier performance of the produced coated film was evaluated by oxygen permeability.
<Oxygen permeability>
For the coated film, oxygen under the conditions of 23 ° C., relative humidity 65%, or 23 ° C., relative humidity 80% using an oxygen permeability measuring device (trade name: OX-TRAN 2/21, manufactured by Mocon) The transmittance was measured. The oxygen permeability was measured by transmitting oxygen from the thin film (coating layer) side to the PET film side.
The oxygen permeability of the thin film (coating layer) of the coat film was calculated using the following formula. It shows that gas barrier property is so high that oxygen permeability is low.
P = DFT / (1 / R-1 / Rcoat)
Rcoat = Oxygen permeability of coated film (ml / m 2 · day · MPa)
R = Oxygen permeability of substrate (PET) film in coated film (ml / m 2 · day · MPa)
DFT = thin film (coating layer) thickness (mm)
P = Oxygen permeability of thin film (coating layer) (ml / m 2 · day · MPa)

以下、実施例中の本文及び表に示した化合物の略号はそれぞれ以下の化合物を示す。
H−IPA:ヒドロキシイソフタル酸
H−TPA:ヒドロキシテレフタル酸
AA:アジピン酸
SA:セバシン酸
IPA:イソフタル酸
MXDA:メタキシレンジアミン
PXDA:パラキシレンジアミン
PPD:p−フェニレンジアミン
HMDA:ヘキサメチレンジアミン
DMAc:ジメチルアセトアミド
BzlOH:ベンジルアルコール
Hereinafter, the abbreviations of the compounds shown in the text and tables in the examples indicate the following compounds, respectively.
H-IPA: hydroxyisophthalic acid H-TPA: hydroxyterephthalic acid AA: adipic acid SA: sebacic acid IPA: isophthalic acid MXDA: metaxylenediamine PXDA: paraxylenediamine PPD: p-phenylenediamine HMDA: hexamethylenediamine DMAc: dimethyl Acetamide BzlOH: benzyl alcohol

<溶剤溶解性>
フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂を160℃で、樹脂濃度が20質量%となるように有機溶媒に溶解した。2時間かき混ぜた後、溶液状態を観察し、下記基準で評価した。
○:完全に溶解。
△:ほぼ溶解したが、わずかに濁りが残る。
×:ほとんど溶解しない。
<Solvent solubility>
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin was dissolved in an organic solvent at 160 ° C. so that the resin concentration was 20% by mass. After stirring for 2 hours, the solution state was observed and evaluated according to the following criteria.
○: Completely dissolved.
Δ: Almost dissolved, but slightly turbid.
X: Almost no dissolution.

実施例A−1
フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.1の製造
温度計、撹拌機、リービッヒ冷却管を具備した500mlガラスフラスコに5−ヒドロキシイソフタル酸25部、アジピン酸25部、メタキシリレンジアミン50部を仕込み、窒素ガスを流通しつつ重合系を170℃に昇温し、3℃/分の昇温速度で255℃まで昇温した。255℃で15分撹拌した後、内容物を取り出し冷却した。得られたフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.1の組成、対数粘度、フェノール性水酸基量等を表1に示した。
Example A-1
Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin no. Production of 1 A 500 ml glass flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a Liebig condenser was charged with 25 parts of 5-hydroxyisophthalic acid, 25 parts of adipic acid, and 50 parts of metaxylylenediamine, and the polymerization system was maintained while circulating nitrogen gas. The temperature was raised to 170 ° C., and the temperature was raised to 255 ° C. at a rate of 3 ° C./min. After stirring for 15 minutes at 255 ° C., the contents were taken out and cooled. The obtained phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin No. Table 1 shows the composition, logarithmic viscosity, phenolic hydroxyl group amount, and the like.

実施例A−1〜A−7、比較例B−1〜B−4
フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.2〜11の製造
フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.1と同様にして、但し、仕込み原料およびその比率を変更してフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.2〜11を合成し、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.1と同様の評価を行った。評価結果を表1〜表2に示した。
Examples A-1 to A-7, Comparative Examples B-1 to B-4
Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin no. Production of phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin No. 2-11 1 except that the raw materials and the ratios thereof were changed and the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin No. 1 was changed. 2 to 11 were synthesized, and phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin No. 2 was synthesized. Evaluation similar to 1 was performed. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.8は、フェノール性水酸基を有するジカルボン酸単位が10モル%未満、また、フェノール性水酸基量が500eq/t未満のため、本発明の範囲外である。フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.9は、フェノール性水酸基量が6000eq/t超のため、本発明の範囲外である。フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.10は、芳香族ジアミン単位が20モル%未満のため、本発明の範囲外である。フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.11は、酸素透過度が1000ml/m・day・MPa超のため、本発明の範囲外である。 Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin no. No. 8 is outside the scope of the present invention because the dicarboxylic acid unit having a phenolic hydroxyl group is less than 10 mol% and the phenolic hydroxyl group amount is less than 500 eq / t. Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin no. No. 9 is outside the scope of the present invention because the amount of phenolic hydroxyl group exceeds 6000 eq / t. Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin no. No. 10 is outside the scope of the present invention because the aromatic diamine unit is less than 20 mol%. Phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin no. No. 11 is out of the scope of the present invention because the oxygen permeability exceeds 1000 ml / m 2 · day · MPa.

実施例C−1
フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂ワニスの製造および評価
温度計、攪拌機、リービッヒ冷却管を具備した500mlガラスフラスコにフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂No.1を20部、ジメチルアセトアミド80部を仕込み、160℃に昇温し2時間攪拌した後、内容物を取り出し冷却し、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂ワニス1を製造した。得られたワニスを上述の方法でフィルム基材に塗布し、得られたコートフィルムサンプルの酸素透過度を評価した。結果を表3に示した。
Example C-1
Production and evaluation of phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin varnish A phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin No. 1 was added to a 500 ml glass flask equipped with a thermometer, a stirrer and a Liebig condenser. 20 parts of 1 and 80 parts of dimethylacetamide were charged, heated to 160 ° C. and stirred for 2 hours, and then the contents were taken out and cooled to produce a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin varnish 1. The obtained varnish was applied to a film substrate by the method described above, and the oxygen permeability of the obtained coated film sample was evaluated. The results are shown in Table 3.

実施例C−2〜C−7
実施例C−1と同様にして、但し、仕込み原料およびその比率を変更してフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂ワニスの製造を行ない、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂ワニスC−2〜C−7を製造した。さらに、実施例C−1と同様に、フィルム基材に塗布し、得られたコートフィルムサンプルの酸素透過度を評価した。結果を表3に示した。いずれも高い溶剤溶解性を示し、また高湿度下でも高いガスバリア性(低い酸素透過度)を示した。
Examples C-2 to C-7
In the same manner as in Example C-1, except that the raw materials and the ratios thereof were changed to produce a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin varnish to produce phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin varnishes C-2 to C-7. . Furthermore, it applied to the film base material similarly to Example C-1, and the oxygen permeability of the obtained coat film sample was evaluated. The results are shown in Table 3. All showed high solvent solubility and high gas barrier properties (low oxygen permeability) even under high humidity.

比較例C−8〜C−11
実施例C−1と同様にして、但し、仕込み原料およびその比率を変更してフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂ワニスの製造を試みた。ワニスが得られたものについてはさらに、実施例C−1と同様に、フィルム基材に塗布し、得られたコートフィルムサンプルの酸素透過度を評価した。結果を表4に示した。
Comparative Examples C-8 to C-11
In the same manner as in Example C-1, except that the raw materials and ratios thereof were changed, an attempt was made to produce a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin varnish. About what obtained the varnish, it apply | coated to the film base material similarly to Example C-1, and the oxygen permeability of the obtained coat film sample was evaluated. The results are shown in Table 4.

比較例C−8は2時間攪拌後も未溶解樹脂が大量に存在し、さらに1時間攪拌を続けてもなお大量の未溶解樹脂が残存していた。比較例C−8に使用したポリアミド樹脂は、フェノール性水酸基を有するジカルボン酸単位が10モル%未満、また、フェノール性水酸基量が500eq/t未満のため、本発明の範囲外である。ポリアミド樹脂に結晶性が見られ、溶解が殆ど進まなかったものと推定される。   In Comparative Example C-8, a large amount of undissolved resin was present even after 2 hours of stirring, and a large amount of undissolved resin remained even after stirring for 1 hour. The polyamide resin used in Comparative Example C-8 is out of the scope of the present invention because the dicarboxylic acid unit having a phenolic hydroxyl group is less than 10 mol% and the phenolic hydroxyl group amount is less than 500 eq / t. It is presumed that the polyamide resin has crystallinity and the dissolution hardly progressed.

比較例C−9は、溶剤溶解性は良かったものの、高湿度下でのバリア性が大幅に低下した。比較例C−9に使用したポリアミド樹脂No.9は、フェノール性水酸基量が6000eq/t超のため、本発明の範囲外である。フェノール性水酸基量が多すぎるため、湿度依存性を示したものと推定される。   In Comparative Example C-9, the solvent solubility was good, but the barrier property under high humidity was greatly reduced. Polyamide resin No. used in Comparative Example C-9 No. 9 is outside the scope of the present invention because the amount of phenolic hydroxyl group exceeds 6000 eq / t. It is presumed that the amount of phenolic hydroxyl group is too high, so that it shows humidity dependency.

比較例C−10は、溶剤溶解性は良かったものの、低湿度下、かつ高湿度下でのバリア性を示さなかった。比較例C−10に使用したポリアミド樹脂No.10は、芳香族ジアミン単位が20モル%未満のため、本発明の範囲外である。芳香族ジアミン単位が少ないため、得られた塗膜の機械特性が弱く、クラック等の発生によりガスバリア性が発揮されなかったものと推定される。   Although Comparative Example C-10 had good solvent solubility, it did not show barrier properties under low humidity and high humidity. Polyamide resin No. used in Comparative Example C-10 No. 10 is outside the scope of the present invention because the aromatic diamine unit is less than 20 mol%. Since there are few aromatic diamine units, it is estimated that the mechanical properties of the obtained coating film are weak, and gas barrier properties were not exhibited due to the occurrence of cracks and the like.

比較例C−11は、溶剤溶解性は良かったものの、酸素透過度が1000ml/m・day・MPa超であった。比較例C−11に使用したポリアミド樹脂No.11は、対数粘度が0.05dl/g未満のため、得られた塗膜の機械特性が弱く、酸素バリア性を発揮するに至らなかったためと推定される。 In Comparative Example C-11, although the solvent solubility was good, the oxygen permeability was more than 1000 ml / m 2 · day · MPa. Polyamide resin No. used in Comparative Example C-11 No. 11 is presumed to be because the logarithmic viscosity was less than 0.05 dl / g, the mechanical properties of the obtained coating film were weak, and oxygen barrier properties were not exhibited.

実施例D−1
100メッシュの濾布で濾過したC−1ワニス濾液100部に、ポリイソシアネート化合物である硬化剤(旭化成(株)製デュラネート(登録商標)TPA100)3.5部を添加し、D−1を得た。
Example D-1
To 100 parts of the C-1 varnish filtrate filtered through a 100 mesh filter cloth, 3.5 parts of a curing agent (Duranate (registered trademark) TPA100 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), a polyisocyanate compound, is added to obtain D-1. It was.

実施例D−2
100メッシュの濾布で濾過したC−2ワニス濾液100部に、ポリイソシアネート化合物である硬化剤(旭化成(株)製デュラネートTPA100)4.4部を添加し、D−2を得た。上記(D−1)、(D−2)を用いて密着性試験を行った。なお塗板の作製、評価は以下の方法に従った。この結果を表5に示す。
Example D-2
4.4 parts of a curing agent (Duranate TPA100 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), which is a polyisocyanate compound, was added to 100 parts of the C-2 varnish filtrate filtered through a 100 mesh filter cloth to obtain D-2. An adhesion test was performed using the above (D-1) and (D-2). In addition, preparation and evaluation of the coated plate followed the following method. The results are shown in Table 5.

塗板(試験板)の作製
溶融亜鉛メッキ鋼板に前記(D−1)、(D−2)を塗装後、150℃、10分乾燥後、次いで140℃で30分間焼き付けを行った。膜厚は5μmとした。
Preparation of coated plate (test plate) After coating (D-1) and (D-2) on a hot dip galvanized steel plate, it was dried at 150 ° C. for 10 minutes and then baked at 140 ° C. for 30 minutes. The film thickness was 5 μm.

<密着性の評価>
JIS−K5600−5−6(1999)碁盤目−テープ法に準じて、試験板の塗膜表面にカッターナイフで素地に達するように、直行する縦横6本ずつの平行な直線を1mm間隔で引いて、1mm×1mmのマス目を25個作成した。その表面にセロハン粘着テープを密着させ、テープを急激に剥離した際のマス目の剥がれ程度を観察し下記基準で評価した。
◎:塗膜剥離が全く見られない。
○:塗膜がわずかに剥離したが、マス目は20個以上残存。
△:塗膜が剥離し、マス目の残存数は10個以上で20個未満。
×:塗膜が剥離し、マス目の残存数は10個未満。
<Evaluation of adhesion>
According to JIS-K5600-5-6 (1999) grid pattern-tape method, parallel straight lines of 6 vertical and horizontal lines are drawn at 1 mm intervals so as to reach the substrate with a cutter knife on the coating film surface of the test plate. 25 squares of 1 mm × 1 mm were created. A cellophane pressure-sensitive adhesive tape was adhered to the surface, and the degree of cell peeling when the tape was rapidly peeled was observed and evaluated according to the following criteria.
(Double-circle): Coating film peeling is not seen at all.
○: The coating film was slightly peeled, but 20 or more squares remained.
(Triangle | delta): A coating film peels and the remaining number of squares is 10 or more and less than 20.
X: The coating film was peeled off, and the remaining number of cells was less than 10.

実施例E−1
100メッシュの濾布で濾過したC−1ワニス濾液100部に、層状無機物として、親油性板状合成マイカ(片倉コープ(株)製ソマシフ(登録商標)MEE)0.6部を添加し、E−1を得た。
Example E-1
To 100 parts of the C-1 varnish filtrate filtered through a 100-mesh filter cloth, 0.6 part of a lipophilic plate-like synthetic mica (Somasif (registered trademark) MEE manufactured by Katakura Corp.) is added as a layered inorganic substance. -1 was obtained.

実施例E−2
100メッシュの濾布で濾過したC−2ワニス濾液100部に、層状無機物として、親油性板状合成マイカ(片倉コープ(株)製ソマシフ(登録商標)MEE)1.2部を添加し、E−2を得た。上記(E−1)、(E−2)を用いて、上述の方法でフィルム基材に塗布し、得られたコートフィルムサンプルの酸素透過度を評価した。この結果を表6に示す。
Example E-2
To 100 parts of the C-2 varnish filtrate filtered through a 100-mesh filter cloth, 1.2 parts of lipophilic plate-like synthetic mica (Somasif (registered trademark) MEE manufactured by Katakura Corp.) is added as a layered inorganic substance. -2 was obtained. Using the above (E-1) and (E-2), it was applied to a film substrate by the method described above, and the oxygen permeability of the obtained coated film sample was evaluated. The results are shown in Table 6.

本発明のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂およびこれを含有する樹脂組成物は、高湿度下でのガスバリア性の高い塗布膜を提供することができる。   The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin of the present invention and the resin composition containing the same can provide a coating film having a high gas barrier property under high humidity.

Claims (6)

フェノール性水酸基を有するジカルボン酸(A)単位を10モル%以上と、芳香族ジアミン(B)単位を20モル%以上含有し、下記(1)〜(2)を満足するフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂。
(1)フェノール性水酸基量が500〜6000eq/tである
(2)フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂で、膜厚1μmの薄膜を作製したときに、該薄膜の温度40℃、湿度85%RHでの酸素透過度が1000ml/m・day・MPa以下である
A phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin containing 10 mol% or more of a dicarboxylic acid (A) unit having a phenolic hydroxyl group and 20 mol% or more of an aromatic diamine (B) unit and satisfying the following (1) to (2): .
(1) The amount of phenolic hydroxyl group is 500 to 6000 eq / t. (2) When a thin film having a film thickness of 1 μm is prepared with a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin, the temperature of the thin film is 40 ° C. and the humidity is 85% RH. The oxygen permeability is 1000 ml / m 2 · day · MPa or less.
請求項1に記載のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂および有機溶剤を含有するフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂組成物。   A phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin composition comprising the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin according to claim 1 and an organic solvent. さらに硬化剤を含有する請求項1または2に記載のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂組成物。   Furthermore, the phenolic hydroxyl group containing polyamide resin composition of Claim 1 or 2 containing a hardening | curing agent. さらに層状無機物を含有する請求項1〜3のいずれかに記載のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂組成物。   Furthermore, the phenolic hydroxyl group containing polyamide resin composition in any one of Claims 1-3 containing a layered inorganic substance. 請求項1に記載のフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂を含有する層(A層)とフィルム、シート、織布、不織布および紙からなる群から選ばれる1種以上の層(B層)とからなる積層体。   A laminate comprising a layer (A layer) containing the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin according to claim 1 and one or more layers (B layer) selected from the group consisting of a film, a sheet, a woven fabric, a nonwoven fabric and paper. body. 請求項5に記載の積層体を構成要素として有する包装材料。   The packaging material which has the laminated body of Claim 5 as a component.
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