JP2017122042A - Infrared-shielding transparent substrate and infrared-shielding optical member - Google Patents

Infrared-shielding transparent substrate and infrared-shielding optical member Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an infrared-shielding transparent substrate using a boride particle which can be easily pulverized.SOLUTION: The present invention provides an infrared-shielding transparent substrate that has a coating layer on at least one side of a transparent substrate, where the coating layer has an infrared-shielding particle and a binder. The infrared-shielding particle is a boride particle represented by general formula XB(where, X is one or more metal element selected from Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Sr, and Ca, and m is a number showing an amount of boron in the composition formula) and has an amount of carbon of 0.2 mass% or less when measured by a combustion-infrared absorption method.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、赤外線遮蔽透明基材、赤外線遮蔽光学部材に関する。   The present invention relates to an infrared shielding transparent base material and an infrared shielding optical member.

従来、La等の希土類元素のホウ化物粒子は、固相反応法で合成された後、乾式粉砕法で粉砕されて製造され、特にジェットミル等の高速気流により粒子同士を衝突させて粉砕する方法が一般的である。希土類元素のホウ化物粒子のうち、例えば、六ホウ化ランタンは、ランタン酸化物とホウ素酸化物を炭素の存在下で高温に加熱することにより得られ、その後乾式粉砕装置で粉砕されている。なお、ジェットミルを用いた、粉体の微粉砕方法は、例えば特許文献1に開示されている。   Conventionally, rare earth element boride particles such as La are synthesized by a solid phase reaction method and then pulverized by a dry pulverization method, and in particular, a method of pulverizing particles by colliding with a high-speed air stream such as a jet mill. Is common. Among rare earth element boride particles, for example, lanthanum hexaboride is obtained by heating lanthanum oxide and boron oxide to a high temperature in the presence of carbon, and then pulverized by a dry pulverizer. A method for finely pulverizing powder using a jet mill is disclosed in Patent Document 1, for example.

これらホウ化物粒子は、従来から厚膜抵抗ペースト等に使用されており、また微細粒子にすると日射遮蔽用の光学材料として用いることが可能である。即ち、ホウ化物粒子を分散させた膜は、可視光線を透過し、熱エネルギーとして作用する近赤外線を効率よく遮蔽することができるため、住宅や自動車の窓などに適用する日射遮蔽材として好適であることが知られている(例えば、特許文献2、3を参照)。   These boride particles have been conventionally used in thick film resistance pastes and the like, and when fine particles are used, they can be used as an optical material for solar radiation shielding. That is, a film in which boride particles are dispersed is suitable as a solar radiation shielding material to be applied to a window of a house or a car because it can efficiently block near infrared rays that transmit visible light and act as heat energy. It is known (see, for example, Patent Documents 2 and 3).

しかし、La等の希土類元素のホウ化物は硬質であるため、ジェットミル等を用いた乾式粉砕法では微細な粒子に粉砕することが難しく、1μm〜3μm程度の比較的大きな粒子しか得られないという問題があった。また、乾式粉砕法で得たホウ化物粒子は、再凝集を抑えることが困難であった。   However, since borides of rare earth elements such as La are hard, it is difficult to pulverize them into fine particles by a dry pulverization method using a jet mill or the like, and only relatively large particles of about 1 μm to 3 μm can be obtained. There was a problem. In addition, boride particles obtained by the dry pulverization method are difficult to suppress reaggregation.

その後の研究で、媒体撹拌ミルで処理することにより、ホウ化物粒子の平均分散粒子径を200nm以下にできることが見出された(例えば、特許文献4を参照)。これにより、経済的に平均分散粒子径が200nm程度のホウ化物粒子が得られるようになった。平均分散粒子径が200nm以下のホウ化物粒子を用いれば、粒子径が200nmよりも大きい時に起こる幾何学散乱又はミー散乱を低減できる。このため、400nm〜780nmの可視光線領域の光を散乱して曇りガラスのようになる現象が防げるようになり、透明性を重視した光学部材が得られるようになった。   In subsequent studies, it was found that the average dispersed particle diameter of boride particles can be reduced to 200 nm or less by treating with a medium stirring mill (see, for example, Patent Document 4). Thereby, boride particles having an average dispersed particle diameter of about 200 nm can be obtained economically. If boride particles having an average dispersed particle size of 200 nm or less are used, geometrical scattering or Mie scattering that occurs when the particle size is larger than 200 nm can be reduced. For this reason, the phenomenon which scatters the light of the visible light region of 400 nm-780 nm, and becomes like a frosted glass can be prevented, and the optical member which attached importance to transparency came to be obtained.

しかし、赤外線遮蔽粒子として、上記ホウ化物粒子が分散された赤外線遮蔽光学部材は、太陽光やスポットライト等の強い光が照射されたときに青白色に変色する現象(以下、係る現象を「ブルーヘイズ」と記載する場合がある)を生じる場合がある。このようなブルーヘイズを生じると、赤外線遮蔽光学部材の美観が損なわれる恐れがある等の問題があった。   However, as an infrared shielding particle, the infrared shielding optical member in which the boride particles are dispersed is a phenomenon that turns blue-white when irradiated with strong light such as sunlight or a spotlight (hereinafter referred to as “blue”). May be described as “haze”). When such blue haze is generated, there is a problem that the beauty of the infrared shielding optical member may be impaired.

ホウ化物粒子の平均分散粒子径が200nm以下になると、幾何学散乱またはミー散乱は低減し、散乱の大部分は散乱係数が下記式(1)で定義されるレイリー散乱に従うことが知られている。   It is known that when the average dispersed particle size of boride particles is 200 nm or less, geometrical scattering or Mie scattering is reduced, and most of the scattering follows Rayleigh scattering whose scattering coefficient is defined by the following formula (1). .

S=[16π/3λ]・[(m−1)/(m+2)]・[m] (1)
[但し、上記式(1)中、Sは散乱係数、λは波長、rは粒子径、m=n/n、nは基質の屈折率、および、nは分散物質の屈折率である]
上記レイリー散乱は、光の波長よりも小さいサイズの粒子による光の散乱である。上記式(1)から、レイリー散乱は波長(λ)の4乗に反比例するため、波長の短い青い光を多く散乱して青白色に変色させることが把握される。
S = [16π 5 r 6 / 3λ 4 ] · [(m 2 −1) / (m 2 +2)] 2 · [m] (1)
[In the above formula (1), S is the scattering coefficient, λ is the wavelength, r is the particle diameter, m = n 1 / n 0 , n 0 is the refractive index of the substrate, and n 1 is the refractive index of the dispersed material. Is]
The Rayleigh scattering is light scattering by particles having a size smaller than the wavelength of light. From the above formula (1), it is understood that Rayleigh scattering is inversely proportional to the fourth power of the wavelength (λ), and therefore, a large amount of blue light having a short wavelength is scattered and discolored to bluish white.

また、レイリー散乱領域では、上記式(1)から、散乱光は粒子径(r)の6乗に比例するため、粒子径を小さくすることで、レイリー散乱が低減して、ブルーヘイズの発生を抑制できる。その後の研究で、平均分散粒子径を85nm以下にすることでブルーヘイズは改善されることが分かっている。   In the Rayleigh scattering region, the scattered light is proportional to the sixth power of the particle diameter (r) from the above formula (1). Therefore, by reducing the particle diameter, the Rayleigh scattering is reduced and the generation of blue haze is reduced. Can be suppressed. Subsequent studies have shown that blue haze can be improved by reducing the average dispersed particle size to 85 nm or less.

特開2001−314776号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-314776 特開2000−096034号公報JP 2000-096034 A 特開平11−181336号公報JP-A-11-181336 特開2004−237250号公報JP 2004-237250 A

V. Domnich et al., J. Am. Ceram. Soc., (2011) vol.94, Issue 11, pp.3605-3628V. Domnich et al., J. Am. Ceram. Soc., (2011) vol.94, Issue 11, pp.3605-3628 X.H.Zhao et al., App. Mech. Mater., (2011) vol.55-57, pp.1436-1440X.H.Zhao et al., App. Mech. Mater., (2011) vol.55-57, pp.1436-1440

しかしながら、特許文献4に開示されている、媒体撹拌ミルを用いた粉砕方法により、従来用いられていたホウ化物粒子を、平均分散粒子径が85nm以下になるまで粉砕しようとすると、スラリーの粘度が高くなり粉砕処理が困難な場合があった。   However, if the conventionally used boride particles are pulverized until the average dispersed particle diameter is 85 nm or less by the pulverization method using a medium stirring mill disclosed in Patent Document 4, the viscosity of the slurry becomes In some cases, the pulverization was difficult due to the increase in the height.

そのため、粉砕処理を続けて更に平均分散粒子径を小さくし、ブルーヘイズを抑えるためには、スラリー中のホウ化物粒子の濃度を極端に下げて粘度を下げる必要があり、粉砕効率が悪く非経済的であるという問題があった。   Therefore, in order to continue the pulverization process to further reduce the average dispersed particle size and suppress blue haze, it is necessary to extremely reduce the concentration of boride particles in the slurry to lower the viscosity, resulting in poor pulverization efficiency and uneconomical efficiency. There was a problem that it was.

そこで上記従来技術が有する問題に鑑み、本発明の一側面では、容易に微粉砕することができるホウ化物粒子を用いた赤外線遮蔽透明基材を提供することを目的とする。   Then, in view of the problem of the above-described conventional technology, an object of one aspect of the present invention is to provide an infrared shielding transparent base material using boride particles that can be easily pulverized.

上記課題を解決するため本発明の一態様によれば、
透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有し、
前記コーティング層は赤外線遮蔽粒子とバインダーとを含み、
前記赤外線遮蔽粒子は、一般式XB(但し、Xは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sr、Caから選ばれる1種類以上の金属元素、mは一般式におけるホウ素量を示す数字)で表され、燃焼−赤外線吸収法で測定したときの炭素量が0.2質量%以下のホウ化物粒子である赤外線遮蔽透明基材を提供する。
In order to solve the above problems, according to one aspect of the present invention,
Having a coating layer on at least one surface of the transparent substrate;
The coating layer includes infrared shielding particles and a binder,
The infrared shielding particles have the general formula XB m (where X is Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Sr, and Ca. Infrared which is a boride particle represented by one or more selected metal elements, m is a number indicating the amount of boron in the general formula), and the carbon content is 0.2% by mass or less as measured by a combustion-infrared absorption method A shielding transparent substrate is provided.

本発明の一態様によれば、容易に微粉砕することができるホウ化物粒子を用いた赤外線遮蔽透明基材を提供することができる。   According to one embodiment of the present invention, an infrared shielding transparent base material using boride particles that can be easily pulverized can be provided.

本発明の実施形態に係る赤外線遮蔽透明基材等の拡散透過プロファイルの測定原理の説明図(その1)。Explanatory drawing (the 1) of the measurement principle of diffuse transmission profiles, such as an infrared shielding transparent base material which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る赤外線遮蔽透明基材等の拡散透過プロファイルの測定原理の説明図(その2)。Explanatory drawing (the 2) of the measurement principle of diffuse transmission profiles, such as an infrared shielding transparent base material concerning embodiment of this invention.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
(赤外線遮蔽透明基材、赤外線遮蔽光学部材)
本実施形態ではまず、赤外線遮蔽透明基材の一構成例について説明する。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and the following embodiments are not departed from the scope of the present invention. Various modifications and substitutions can be made.
(Infrared shielding transparent base material, infrared shielding optical member)
In the present embodiment, first, a configuration example of the infrared shielding transparent base material will be described.

本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有し、コーティング層は赤外線遮蔽粒子とバインダーとを含むことができる。
そして、赤外線遮蔽粒子は、一般式XB(但し、Xは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sr、Caから選ばれる1種類以上の金属元素、mは一般式におけるホウ素量を示す数字)で表され、燃焼−赤外線吸収法で測定したときの炭素量が0.2質量%以下であるホウ化物粒子を用いることができる。
The infrared shielding transparent substrate of the present embodiment has a coating layer on at least one surface of the transparent substrate, and the coating layer can contain infrared shielding particles and a binder.
The infrared shielding particles have the general formula XB m (where X is Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Sr, Ca 1 or more types of metal elements selected from the above, m is a number representing the boron content in the general formula), and boride particles having a carbon content of 0.2% by mass or less as measured by a combustion-infrared absorption method. Can be used.

本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、上述のように、透明基材と、透明基材の少なくとも一方の面上に配置されたコーティング層とを有することができる。そして、コーティング層は赤外線遮蔽粒子と、バインダーとを含むことができる。   As described above, the infrared shielding transparent substrate of the present embodiment can have a transparent substrate and a coating layer disposed on at least one surface of the transparent substrate. The coating layer can include infrared shielding particles and a binder.

そこでまず、赤外線遮蔽粒子、及びその製造方法について説明する。
(1)赤外線遮蔽粒子、及びその製造方法について
赤外線遮蔽粒子としては、上述のように一般式XB(但し、Xは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sr、Caから選ばれる1種類以上の金属元素、mは一般式におけるホウ素量を示す数字)で表され、燃焼−赤外線吸収法で測定したときの炭素量が0.2質量%以下であるホウ化物粒子を用いることができる。
First, the infrared shielding particles and the production method thereof will be described.
(1) Infrared shielding particles and production method thereof As the infrared shielding particles, as described above, the general formula XB m (where X is Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, One or more metal elements selected from Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Sr, and Ca, m is a number indicating the amount of boron in the general formula), and measured by a combustion-infrared absorption method Boride particles having a carbon content of 0.2% by mass or less can be used.

本発明の発明者らは、容易に微粉砕、すなわち微細な粒子に粉砕することができるホウ化物粒子について、鋭意検討を行った。そして、ホウ化物粒子の炭素量(炭素濃度)を所定値以下にすることで、容易に微粉砕できるホウ化物粒子にできることを見出し、本発明を完成させた。   The inventors of the present invention have intensively studied boride particles that can be easily pulverized, that is, pulverized into fine particles. The inventors have found that boride particles that can be easily finely pulverized can be obtained by setting the carbon content (carbon concentration) of the boride particles to a predetermined value or less, thereby completing the present invention.

本実施形態のホウ化物粒子は、上述のように一般式XBで表されるホウ化物の粒子とすることができる。 Boride particles of this embodiment may be particles of boride of the general formula XB m as described above.

上述の一般式XBで表される本実施形態のホウ化物粒子において、金属元素(X)に対するホウ素(B)の元素比(モル比)(B/X)であるmは、特に限定されるものではないが、3.0以上20.0以下であることが好ましい。 In the boride particles of the present embodiment represented by the above general formula XBm, m , which is the elemental ratio (molar ratio) (B / X) of boron (B) to metal element (X), is particularly limited. Although it is not a thing, it is preferable that it is 3.0-20.0.

一般式XBで表されるホウ化物粒子を構成するホウ化物としては、例えばXB、XB、XB12等が挙げられる。しかし、波長1000nm付近における近赤外領域の光の透過率を選択的に効率よく低下させる観点から、本実施形態のホウ化物粒子は、XB、またはXBが主体となっていることが好ましく、一部にXB12を含んでいてもよい。 The boride constituting the boride particles represented by the general formula XB m, e.g. XB 4, XB 6, XB 12, and the like. However, from the viewpoint of selectively and efficiently reducing the light transmittance in the near-infrared region near the wavelength of 1000 nm, the boride particles of the present embodiment are preferably mainly composed of XB 4 or XB 6. , XB 12 may be partially included.

このため、上記一般式XBにおける、金属元素(X)に対するホウ素(B)の元素比(B/X)であるmは、4.0以上6.2以下であることがより好ましい。 For this reason, in the general formula XBm, m , which is an element ratio (B / X) of boron (B) to metal element (X), is more preferably 4.0 or more and 6.2 or less.

なお、上記(B/X)が4.0以上の場合、XBや、XB等の生成を抑制することができ、理由は明らかではないが、日射遮蔽特性を向上させることができる。また、上記(B/X)が6.2以下の場合には、特に日射遮蔽特性に優れた六ホウ化物の含有割合を増加させることができ、日射遮蔽特性が向上するため好ましい。 The above (B / X) if there is a 4.0 or higher, XB and, it is possible to suppress the formation of such XB 2, the reason is not clear, it is possible to improve the solar radiation shielding properties. Moreover, when (B / X) is 6.2 or less, the content ratio of hexaboride having particularly excellent solar radiation shielding properties can be increased, and the solar radiation shielding properties are improved, which is preferable.

特に、ホウ化物の中で近赤外線の吸収能が高いことから、本実施形態のホウ化物粒子はXBが主体になっていることが好ましい。 In particular, the boride particles of the present embodiment are preferably mainly composed of XB 6 because of the high absorption ability of near infrared rays in borides.

このため、一般式XBで表される本実施形態のホウ化物粒子において、金属元素(X)に対するホウ素(B)の元素比(B/X)であるmは、5.8以上6.2以下であることがさらに好ましい。 Therefore, in the boride particles of the present embodiment represented by the general formula XBm, m , which is the element ratio (B / X) of boron (B) to metal element (X), is 5.8 or more and 6.2. More preferably, it is as follows.

なお、ホウ化物粒子を製造した場合、得られるホウ化物粒子を含む粉体は、単一の組成のホウ化物の粒子のみから構成されるものではなく、複数の組成のホウ化物を含む粒子とすることができる。具体的には例えばXB、XB、XB12等のホウ化物の混合物の粒子とすることができる。 In addition, when boride particles are produced, the obtained powder containing boride particles is not composed only of boride particles having a single composition, but is a particle containing boride having a plurality of compositions. be able to. Specifically, for example, particles of a mixture of borides such as XB 4 , XB 6 , and XB 12 can be used.

従って、例えば、代表的なホウ化物粒子である六ホウ化物の粒子について、X線回折の測定を行った場合に、X線回折の分析上、単一相であっても、実際には微量に他相を含んでいると考えられる。   Therefore, for example, when X-ray diffraction measurement is performed on hexaboride particles, which are typical boride particles, even in the case of a single phase, a very small amount is actually measured. It is thought that other phases are included.

そこで、本実施形態のホウ化物粒子の一般式XBにおけるmは、例えば得られたホウ化物粒子を含む粉体をICP発光分光分析法(高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法)等により化学分析した場合の、X元素1原子に対するホウ素(B)の原子数比とすることができる。 Therefore, m in the general formula XB m of the boride particles of the present embodiment is, for example, obtained by chemical analysis of the obtained powder containing boride particles by ICP emission spectroscopy (high frequency inductively coupled plasma emission spectroscopy) or the like. In this case, the atomic ratio of boron (B) to one atom of X element can be used.

本実施形態のホウ化物粒子の金属元素(X)は上記一般式に示したように特に限定されるものではなく、例えばY、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sr、Caから選ばれる1種類以上の金属元素とすることができる。   The metal element (X) of the boride particles of the present embodiment is not particularly limited as shown in the general formula. For example, Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy , Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Sr, Ca can be used as one or more metal elements.

ただし、ランタンの六ホウ化物である、六ホウ化ランタンは特に近赤外線の吸収能が高いことから、本実施形態のホウ化物粒子は、六ホウ化ランタン粒子を含むことが好ましい。   However, since lanthanum hexaboride, which is a hexaboride of lanthanum, has particularly high near-infrared absorptivity, the boride particles of this embodiment preferably include lanthanum hexaboride particles.

そして、既述のように、本発明の発明者らの検討によれば、ホウ化物粒子中の炭素量(炭素濃度)を所定値以下とすることで、容易に微粉砕できるホウ化物粒子とすることができる。この理由について以下に説明する。   As described above, according to the study by the inventors of the present invention, boride particles that can be easily pulverized can be obtained by setting the carbon amount (carbon concentration) in the boride particles to a predetermined value or less. be able to. The reason for this will be described below.

本発明の発明者らの検討によれば、ホウ化物粒子中に含まれる炭素が、ホウ化物粒子の成分と炭素化合物を形成する、あるいは原料に含まれる炭素化合物が残留することがある。   According to the study of the inventors of the present invention, the carbon contained in the boride particles may form a carbon compound with the component of the boride particles, or the carbon compound contained in the raw material may remain.

このような、炭素化合物としては、例えばLaB、LaB、BC、B4.5C、B5.6C、B6.5C、B7.7C、BCなどが挙げられる。 Examples of such a carbon compound include LaB 2 C 2 , LaB 2 C 4 , B 4 C, B 4.5 C, B 5.6 C, B 6.5 C, B 7.7 C, and B 9. C etc. are mentioned.

非特許文献1によると、上述の炭素化合物のうち、BC、B4.5C、B5.6C、B6.5C、B7.7C、BCは、硬さの指標となるヤング率はそれぞれ472GPa、463GPa、462GPa、446GPa、352GPa、348GPaと高硬度の炭素化合物となっている。 According to Non-Patent Document 1, among the above-mentioned carbon compounds, B 4 C, B 4.5 C, B 5.6 C, B 6.5 C, B 7.7 C, and B 9 C The Young's modulus as an index is a high hardness carbon compound of 472 GPa, 463 GPa, 462 GPa, 446 GPa, 352 GPa, and 348 GPa, respectively.

一方、非特許文献2には、例えば六ホウ化ランタンのヤング率は、194GPaと報告されている。また、その他のホウ化物粒子についても同程度のヤング率を有するものと推認される。   On the other hand, Non-Patent Document 2 reports that, for example, the Young's modulus of lanthanum hexaboride is 194 GPa. In addition, it is presumed that other boride particles have similar Young's modulus.

このように、目的とするホウ化物粒子と比較して、不純物として混入する炭素化合物の方がヤング率が高い場合がある。このため、容易に微粉砕できるホウ化物粒子とするためには、これらの炭素化合物の混入を抑制することが求められる。   As described above, the carbon compound mixed as an impurity may have a higher Young's modulus than the target boride particles. For this reason, in order to obtain boride particles that can be easily pulverized, it is required to suppress the mixing of these carbon compounds.

そして、これらの炭素化合物の混入量(含有量)は、ホウ化物粒子中の炭素量と相関があるため、既述のように、ホウ化物粒子中の炭素量を所定値以下とすることで、容易に微粉砕できるホウ化物粒子とすることができると考えられる。   And since the mixing amount (content) of these carbon compounds has a correlation with the carbon amount in the boride particles, as described above, the carbon amount in the boride particles is set to a predetermined value or less, It is believed that boride particles can be easily pulverized.

本実施形態のホウ化物粒子中に含まれる炭素量は、燃焼−赤外線吸収法により測定することができる。そして、燃焼−赤外線吸収法により測定した、本実施形態のホウ化物粒子に含まれる炭素量は、0.2質量%以下であることが好ましく、0.1質量%以下であることがより好ましい。   The amount of carbon contained in the boride particles of the present embodiment can be measured by a combustion-infrared absorption method. And it is preferable that it is 0.2 mass% or less, and, as for the carbon content contained in the boride particle | grains of this embodiment measured by the combustion-infrared absorption method, it is more preferable that it is 0.1 mass% or less.

また、特にホウ化物粒子中には、上述の炭素化合物のうちBC(炭化ホウ素)が生成し易いことから、本実施形態のホウ化物粒子は含有するBC量についても抑制することが好ましい。例えば、本実施形態のホウ化物粒子のBCの含有量(含有割合)は1.0質量%以下であることが好ましい。 Particularly, in the boride particles, B 4 C (boron carbide) among the above-mentioned carbon compounds is easily generated, and therefore the boride particles of the present embodiment can suppress the amount of B 4 C contained. preferable. For example, the B 4 C content (content ratio) of the boride particles of the present embodiment is preferably 1.0% by mass or less.

本実施形態のホウ化物粒子に含まれるBCの量、すなわちBCの含有割合を1.0質量%以下とすることで、他の炭素化合物の含有量も抑制でき、特に容易に微粉砕できるホウ化物粒子とすることができ、好ましい。 By setting the amount of B 4 C contained in the boride particles of the present embodiment, that is, the content ratio of B 4 C to 1.0% by mass or less, the content of other carbon compounds can also be suppressed. The boride particles can be pulverized, which is preferable.

本実施形態のホウ化物粒子中に含まれるBC量は、硝酸溶解と濾過分離の前処理を施すことでICP分析によって測定することができる。 The amount of B 4 C contained in the boride particles of the present embodiment can be measured by ICP analysis by performing a pretreatment of nitric acid dissolution and filtration separation.

Cは硝酸にはほとんど溶解しないことが知られている。一方、ホウ化物粒子は硝酸に溶解することが知られている。 It is known that B 4 C hardly dissolves in nitric acid. On the other hand, boride particles are known to dissolve in nitric acid.

よって、ホウ化物粒子中のBC量を評価する場合、ホウ化物粒子を硝酸に添加し、ホウ化物粒子を溶解させた後、未溶解残渣を濾過分離することで、ホウ化物粒子中のBC粒子のみを取り出すことができる。そして、分離したBC粒子を炭酸ナトリウムにより溶解し、ICP分析によってホウ素濃度を測定することで、BC濃度を算出することができる。 Therefore, when evaluating the amount of B 4 C in the boride particles, the boride particles are added to nitric acid, the boride particles are dissolved, and then the undissolved residue is separated by filtration, whereby the B in the boride particles is separated. Only 4 C particles can be removed. Then, the separated B 4 C particles were dissolved by sodium carbonate, by measuring the boron concentration by ICP analysis, it is possible to calculate the B 4 C concentration.

このとき、濾過分離後に得られた未溶解残渣がBCであることを確認するため、並行して濾過分離までを同様に処理を施した試料を用意し、濾過分離後に得られた試料の未溶解残渣をXRD測定してBC単相であることを確認することが望ましい。 At this time, in order to confirm that the undissolved residue obtained after the filtration and separation is B 4 C, a sample that was processed in the same way until the filtration and separation was prepared in parallel, and the sample obtained after the filtration and separation was prepared. It is desirable to confirm that the undissolved residue is a B 4 C single phase by XRD measurement.

ところで、六ホウ化物粒子等のホウ化物粒子は暗い青紫等に着色した粉末であるが、粒径が可視光波長に比べて十分小さくなるように粉砕し、膜中に分散した状態においては膜に可視光透過性が生じる。同時に、赤外線遮蔽機能が発現する。   By the way, boride particles such as hexaboride particles are a powder colored dark blue-purple, etc., but pulverized so that the particle size is sufficiently smaller than the wavelength of visible light, and in the state dispersed in the film, Visible light transparency occurs. At the same time, an infrared shielding function appears.

この理由については詳細に解明されていないが、これらのホウ化物材料は自由電子を比較的多く保有し、4f−5d間のバンド間遷移や電子−電子、電子−フォノン相互作用による吸収が近赤外領域に存在することに由来すると考えられる。   Although the reason for this has not been elucidated in detail, these boride materials have a relatively large number of free electrons, and absorption due to interband transition between 4f-5d and electron-electron and electron-phonon interaction is near-red. It is thought that it originates in existing in an outside field.

実験によれば、これらのホウ化物粒子を十分細かくかつ均一に分散した膜では、膜の透過率が、波長400nm以上700nm以下の領域内に極大値をもち、かつ波長700nm以上1800nm以下の領域に極小値をもつことが確認される。可視光波長が380nm以上780nm以下であり、視感度が550nm付近をピークとする釣鐘型であることを考慮すると、このような膜では可視光を有効に透過し、それ以外の日射光を有効に吸収・反射することが理解できる。   According to the experiment, in a film in which these boride particles are sufficiently finely and uniformly dispersed, the transmittance of the film has a maximum value in a wavelength range of 400 nm to 700 nm and a wavelength range of 700 nm to 1800 nm. It is confirmed to have a local minimum. Considering that the visible light wavelength is 380 nm or more and 780 nm or less and the visibility is a bell-shaped peak with a peak at around 550 nm, such a film effectively transmits visible light and other sunlight is effectively used. It can be understood that it absorbs and reflects.

本実施形態のホウ化物粒子の平均分散粒子径は100nm以下であることが好ましく、85nm以下であることがより好ましい。   The average dispersed particle size of the boride particles of this embodiment is preferably 100 nm or less, and more preferably 85 nm or less.

ホウ化物粒子の平均分散粒子径の下限値は特に限定されないが、例えば1nm以上であることが好ましい。これは、ホウ化物粒子の平均分散粒子径を1nm未満とするのは工業的に困難だからである。   The lower limit of the average dispersed particle size of the boride particles is not particularly limited, but is preferably 1 nm or more, for example. This is because it is industrially difficult to make the average dispersed particle diameter of boride particles less than 1 nm.

なお、ここでいう平均分散粒子径とは動的光散乱法に基づく粒径測定装置により測定することができる。   The average dispersed particle diameter here can be measured by a particle size measuring apparatus based on a dynamic light scattering method.

以上に説明した本実施形態のホウ化物粒子は、炭素の含有量が所定値以下であるため、容易に例えば平均分散粒子径が100nm以下、特に85nm以下となるように微粉砕することができる。このため、本実施形態のホウ化物粒子が分散された赤外線遮蔽光学部材は、太陽光やスポットライト等の強い光が照射された場合でもブルーヘイズが生じることを抑制できる。   Since the boride particles of the present embodiment described above have a carbon content of a predetermined value or less, they can be easily pulverized so that, for example, the average dispersed particle diameter is 100 nm or less, particularly 85 nm or less. For this reason, the infrared shielding optical member in which the boride particles of the present embodiment are dispersed can suppress the occurrence of blue haze even when strong light such as sunlight or spotlight is irradiated.

次に、本実施形態のホウ化物粒子の製造方法の一構成例について説明する。   Next, one structural example of the boride particle manufacturing method of the present embodiment will be described.

本実施形態のホウ化物粒子の製造方法としては、得られるホウ化物粒子が一般式XB(但し、Xは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sr、Caから選ばれる1種類以上の金属元素)で表され、該ホウ化物粒子を燃焼−赤外線吸収法で測定した時の上記ホウ化物粒子に含まれる炭素量(炭素濃度)が0.2質量%以下であれば特に限定されない。 As a method for producing boride particles of the present embodiment, the obtained boride particles are represented by the general formula XB m (where X is Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho). , Er, Tm, Yb, Lu, Sr, Ca), and the amount of carbon contained in the boride particles when the boride particles are measured by a combustion-infrared absorption method If (carbon concentration) is 0.2 mass% or less, it will not specifically limit.

本実施形態のホウ化物粒子の製造方法の一構成例として、例えば、炭素又は炭化ホウ素を還元剤として用いた固相反応法が挙げられる。以下、金属元素としてランタンを用いたホウ化物粒子を製造する場合を例に説明する。   As one configuration example of the method for producing boride particles of the present embodiment, for example, a solid phase reaction method using carbon or boron carbide as a reducing agent can be mentioned. Hereinafter, a case where boride particles using lanthanum as a metal element is manufactured will be described as an example.

例えば、金属元素としてランタンを用いたホウ化物粒子は、ホウ素源と、還元剤と、ランタン源との混合物を焼成することによって製造できる。   For example, boride particles using lanthanum as a metal element can be produced by firing a mixture of a boron source, a reducing agent, and a lanthanum source.

具体的には、例えばホウ素源及び還元剤として炭化ホウ素を、ランタン源として酸化ランタンを用いて、ホウ化ランタン粒子を製造する場合、まず炭化ホウ素と、酸化ランタンとの原料混合物を調製する。次いで、該原料混合物を不活性雰囲気中で1500℃以上の温度で焼成することにより、炭化ホウ素中の炭素によってランタン酸化物が還元され、一酸化炭素および二酸化炭素が発生して炭素は除去される。さらに、残ったランタンとホウ素からホウ化ランタンが得られる。   Specifically, for example, when producing lanthanum boride particles using boron carbide as a boron source and a reducing agent and lanthanum oxide as a lanthanum source, first, a raw material mixture of boron carbide and lanthanum oxide is prepared. Next, the raw material mixture is baked at a temperature of 1500 ° C. or higher in an inert atmosphere, whereby lanthanum oxide is reduced by carbon in boron carbide, carbon monoxide and carbon dioxide are generated, and carbon is removed. . Furthermore, lanthanum boride is obtained from the remaining lanthanum and boron.

なお、炭化ホウ素由来の炭素は、一酸化炭素及び二酸化炭素として完全に除去されるのではなく、一部がホウ化ランタン粒子中に残留して不純物炭素となる。そのため、原料中の炭化ホウ素の割合を増加させると得られるホウ化ランタン粒子中の不純物炭素濃度が増大する。   In addition, carbon derived from boron carbide is not completely removed as carbon monoxide and carbon dioxide, but part of it remains in the lanthanum boride particles and becomes impurity carbon. Therefore, when the proportion of boron carbide in the raw material is increased, the impurity carbon concentration in the obtained lanthanum boride particles is increased.

既述のように、得られるホウ化物粒子を含む粉体は、単一の組成のホウ化物の粒子のみから構成されるものではなく、LaB、LaB、LaB12等との混合物の粒子となる。従って、得られるホウ化物粒子を含む粉体について、X線回折の測定を行った場合に、X線回折の分析上、ホウ化物について単一相であっても、実際には微量に他相を含んでいると考えられる。 As described above, the obtained powder containing boride particles is not composed only of boride particles having a single composition, but particles of a mixture with LaB 4 , LaB 6 , LaB 12 and the like. Become. Therefore, when X-ray diffraction measurement is performed on the obtained powder containing boride particles, even if it is a single phase of boride in the analysis of X-ray diffraction, the other phase is actually contained in a trace amount. It is considered to contain.

ここで、上述のように金属元素としてランタンを用いたホウ化物粒子を製造する場合、原料のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタンの元素比B/Laは、特に限定されるものではないが、3.0以上20.0以下であることが好ましい。   Here, when producing boride particles using lanthanum as a metal element as described above, the element ratio B / La of boron in the raw material boron source and lanthanum in the lanthanum source is not particularly limited. However, it is preferably 3.0 or more and 20.0 or less.

特に、原料のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタン元素の元素比B/Laが4.0以上の場合、LaB、LaB等の生成を抑制できる。また、理由は明らかではないが、日射遮蔽特性を向上することができる。 In particular, when the element ratio B / La of boron in the source boron source and the lanthanum element in the lanthanum source is 4.0 or more, the production of LaB, LaB 2 and the like can be suppressed. Moreover, although the reason is not clear, the solar radiation shielding characteristic can be improved.

一方、原料のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタンの元素比B/Laが6.2以下の場合、ホウ化物粒子以外に酸化ホウ素粒子が生成することが抑制される。酸化ホウ素粒子は吸湿性があるため、ホウ化物粒子を含む粉体中に酸化ホウ素粒子が混入するとホウ化物粒子を含む粉体の耐湿性が低下し、日射遮蔽特性の経時劣化が大きくなってしまう。   On the other hand, when the element ratio B / La of boron in the raw material boron source and lanthanum in the lanthanum source is 6.2 or less, generation of boron oxide particles in addition to boride particles is suppressed. Since boron oxide particles are hygroscopic, if boron oxide particles are mixed into the powder containing boride particles, the moisture resistance of the powder containing boride particles decreases, and the solar radiation shielding characteristics deteriorate over time. .

このため、原料のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタンの元素比B/Laを6.2以下として酸化ホウ素粒子の生成を抑制することが好ましい。また、元素比B/Laが6.2以下の場合には、特に日射遮蔽特性に優れた六ホウ化物の含有割合を増加させることができ、日射遮蔽特性が向上するため好ましい。   For this reason, it is preferable to suppress the generation of boron oxide particles by setting the element ratio B / La of boron in the raw material boron source and lanthanum in the lanthanum source to 6.2 or less. Further, when the element ratio B / La is 6.2 or less, the content ratio of the hexaboride having particularly excellent solar radiation shielding characteristics can be increased, and the solar radiation shielding characteristics are improved, which is preferable.

さらに不純物炭素濃度を低減するためには、可能な限り原料中の炭化ホウ素の割合を低下させることが有効である。そこで、例えばB/Laを6.2以下としてホウ化ランタンの粒子を生成することで、より確実に不純物炭素濃度が0.2質量%以下のホウ化ランタンの粒子を含む粉体が得られる。   In order to further reduce the impurity carbon concentration, it is effective to reduce the proportion of boron carbide in the raw material as much as possible. Thus, for example, by generating lanthanum boride particles with B / La of 6.2 or less, a powder containing lanthanum boride particles having an impurity carbon concentration of 0.2 mass% or less can be obtained more reliably.

以上に説明したように、金属元素としてランタンを用いたホウ化物粒子を製造する場合、ホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタンの元素比(モル比)B/Laは4.0以上6.2以下とすることがより好ましい。原料の組成を上記範囲とすることで、得られるホウ化ランタンの粒子を含む粉体中の、不純物炭素濃度を低く抑制すると同時に高い日射遮蔽特性を示すホウ化ランタン粒子を含有する粉体を得ることができる。   As described above, when boride particles using lanthanum as a metal element are produced, the element ratio (molar ratio) B / La between boron in the boron source and lanthanum in the lanthanum source is 4.0 or more and 6 .2 or less is more preferable. By making the composition of the raw material within the above range, the powder containing lanthanum boride particles that can suppress the impurity carbon concentration in the powder containing the lanthanum boride particles obtained and at the same time exhibits high solar shading properties is obtained. be able to.

また、特に、得られるホウ化ランタンの粒子は、LaBが主体になっていることが好ましい。これは、LaBは特に近赤外線の吸収能が高いからである。 In particular, the particles of lanthanum boride obtained is preferably LaB 6 is in principal. This is because LaB 6 has particularly high near infrared absorption ability.

このため、原料のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタン元素の元素比B/Laは、5.8以上6.2以下であることがさらに好ましい。   For this reason, the element ratio B / La of boron in the source boron source and the lanthanum element in the lanthanum source is more preferably 5.8 or more and 6.2 or less.

なお、ここでは、ホウ素源及び還元剤として炭化ホウ素を、ランタン源として酸化ランタンを用いて、ホウ化ランタン粒子を製造する場合を例に説明したが、係る形態に限定されるものではない。例えばホウ素源としてホウ素や、酸化ホウ素を、還元剤として炭素を、ランタン源として酸化ランタンをそれぞれ用いることもできる。この場合、生成物中に、余剰の炭素や、酸素が残留しないように、予備試験等を行い、各成分の混合比率を選択することが好ましい。   In addition, although the case where the boron source and the reducing agent were used to produce the lanthanum boride particles by using boron carbide as the lanthanum source and the lanthanum oxide as the lanthanum source was described as an example, the embodiment is not limited thereto. For example, boron or boron oxide can be used as the boron source, carbon can be used as the reducing agent, and lanthanum oxide can be used as the lanthanum source. In this case, it is preferable to perform a preliminary test or the like so as to select a mixing ratio of each component so that excess carbon or oxygen does not remain in the product.

また、例えば、製造するホウ化物粒子が含有する金属元素Xに応じて、酸化ランタンに替えて金属元素Xを含む化合物を用いることもできる。金属元素Xを含む化合物としては例えば、金属元素Xの水酸化物、金属元素Xの水和物、金属元素Xの酸化物から選択された1種類以上が挙げられる。該金属元素Xを含む化合物の製造方法は特に限定されないが、例えば金属元素Xを含む化合物を含有する溶液と、アルカリ溶液とを撹拌しながら反応させて沈殿物を生成し、該沈殿物から得ることができる。   For example, according to the metal element X which the boride particle | grains to manufacture contain, the compound containing the metal element X instead of a lanthanum oxide can also be used. Examples of the compound containing the metal element X include one or more selected from a hydroxide of the metal element X, a hydrate of the metal element X, and an oxide of the metal element X. The method for producing the compound containing the metal element X is not particularly limited. For example, a solution containing the compound containing the metal element X and an alkaline solution are reacted with stirring to generate a precipitate, and the precipitate is obtained from the precipitate. be able to.

上述のように、酸化ランタンに替えて金属元素Xを含む化合物を用いる場合においても、生成物中に、余剰の炭素や、酸素が残留しないように、予備試験等を行い、各成分の混合比率を選択することが好ましい。例えば、ホウ素源中のホウ素、及び金属元素X源中の金属元素Xの元素比を、既述のホウ素源中のホウ素、及びランタン源中のランタン元素の元素比と同様の比とすることもできる。   As described above, even in the case of using a compound containing the metal element X instead of lanthanum oxide, a preliminary test or the like is performed so that excess carbon or oxygen does not remain in the product, and the mixing ratio of each component Is preferably selected. For example, the element ratio of boron in the boron source and the metal element X in the metal element X source may be the same as the element ratio of the boron in the boron source and the lanthanum element in the lanthanum source. it can.

得られたホウ化物粒子は、例えば湿式粉砕等を行うことで、所望の平均分散粒子径を有するホウ化物粒子とすることができる。
(2)バインダー
既述のようにコーティング層はバインダーを含有することができるため、次にバインダーについて説明する。
The obtained boride particles can be formed into boride particles having a desired average dispersed particle size by, for example, wet grinding.
(2) Binder Since the coating layer can contain a binder as described above, the binder will be described next.

バインダーとしては、例えば、紫外線(UV)硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化樹脂、常温硬化樹脂等が目的に応じて選定可能である。特に、バインダーとしては、紫外線(UV)硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、常温硬化樹脂から選択された1種類以上を含むことが好ましい。   As the binder, for example, an ultraviolet (UV) curable resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, a room temperature curable resin, or the like can be selected according to the purpose. In particular, the binder preferably contains one or more selected from ultraviolet (UV) curable resins, thermoplastic resins, thermosetting resins, and room temperature curable resins.

バインダーとしては、具体的には、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ふっ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等が挙げられる。   Specific examples of the binder include polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl alcohol resin, polystyrene resin, polypropylene resin, ethylene vinyl acetate copolymer, polyester resin, polyethylene terephthalate resin, fluorine resin, polycarbonate. Resin, acrylic resin, polyvinyl butyral resin, etc. are mentioned.

バインダーとしては、例えば上述樹脂群の中から、選択された1種類、または2種類以上を組み合わせて用いることができる。ただし、上述のコーティング層用のバインダーとしては、上述の樹脂群の中でも、生産性や装置コストなどの観点からUV硬化樹脂を用いることが特に好ましい。   As the binder, for example, one type selected from the above resin group, or a combination of two or more types can be used. However, as the binder for the coating layer, it is particularly preferable to use a UV curable resin from the viewpoints of productivity, apparatus cost, and the like among the resin group described above.

また、上記樹脂系のバインダーに替えて、金属アルコキシドを用いた無機バインダーを用いることもできる。金属アルコキシドとしては、Si、Ti、Al、Zr等のアルコキシドを代表的な材料として挙げることができる。これら金属アルコキシドを用いた無機バインダーは、加熱等により加水分解・縮重合させることで、酸化物膜のコーティング層を形成することが可能である。   Further, an inorganic binder using a metal alkoxide can be used instead of the resin-based binder. Examples of the metal alkoxide include alkoxides such as Si, Ti, Al, and Zr as typical materials. An inorganic binder using these metal alkoxides can be subjected to hydrolysis and polycondensation by heating or the like to form a coating layer of an oxide film.

さらに、上記樹脂系のバインダーと上記無機バインダーとは、混合して用いてもよい。
(3)透明基材
本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有することができる。そこで、次に透明基材の構成例について説明する。
Further, the resin binder and the inorganic binder may be mixed and used.
(3) Transparent base material The infrared shielding transparent base material of this embodiment can have a coating layer on at least one surface of a transparent base material. Then, the structural example of a transparent base material is demonstrated next.

透明基材としては、例えば透明フィルム基材、または透明ガラス基材を好ましく用いることができる。   As the transparent substrate, for example, a transparent film substrate or a transparent glass substrate can be preferably used.

透明フィルム基材は、フィルム形状に限定されることはなく、例えば、ボード状でもシート状でも良い。透明フィルム基材の材料としては、特に限定されるものではないが、例えばポリエステル、アクリル、ウレタン、ポリカーボネート、ポリエチレン、エチレン酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル、ふっ素樹脂等から選択された1種類以上を用いることができる。透明フィルム基材としては、ポリエステルフィルムであることが好ましく、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムであることがより好ましい。   The transparent film substrate is not limited to a film shape, and may be, for example, a board shape or a sheet shape. The material of the transparent film substrate is not particularly limited, but for example, one or more selected from polyester, acrylic, urethane, polycarbonate, polyethylene, ethylene vinyl acetate copolymer, vinyl chloride, fluorine resin, etc. Can be used. The transparent film substrate is preferably a polyester film, and more preferably a polyethylene terephthalate (PET) film.

また、透明ガラス基材についても特に限定されるものではなく、シリカガラス、ソーダガラス等の透明ガラス基材を用いることができる。   The transparent glass substrate is not particularly limited, and a transparent glass substrate such as silica glass or soda glass can be used.

また、透明基材の表面は赤外線遮蔽粒子分散液の塗布性や、コーティング層との密着性を改善するため、表面処理がなされていることが好ましい。また、透明基材とコーティング層との接着性を向上させるために、透明基材上に中間層を形成し、中間層上にコーティング層を形成することもできる。中間層の構成は特に限定されるものではなく、例えばポリマフィルム、金属層、無機層(例えば、シリカ、チタニア、ジルコニア等の無機酸化物層)、有機/無機複合層等により構成することができる。   The surface of the transparent substrate is preferably subjected to a surface treatment in order to improve the coating property of the infrared shielding particle dispersion and the adhesion to the coating layer. Moreover, in order to improve the adhesiveness of a transparent base material and a coating layer, an intermediate | middle layer can be formed on a transparent base material and a coating layer can also be formed on an intermediate | middle layer. The configuration of the intermediate layer is not particularly limited, and may be composed of, for example, a polymer film, a metal layer, an inorganic layer (for example, an inorganic oxide layer such as silica, titania, zirconia), an organic / inorganic composite layer, or the like. .

本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、既述のように、透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有し、コーティング層は赤外線遮蔽粒子とバインダーとを含むことができる。   As described above, the infrared shielding transparent substrate of the present embodiment has a coating layer on at least one surface of the transparent substrate, and the coating layer can include infrared shielding particles and a binder.

コーティング層は、赤外線遮蔽粒子とバインダーとのみから構成されていてもよいが、他の成分を含有することもできる。例えば、後述のようにコーティング層は赤外線遮蔽粒子分散液を用いて製造することができるところ、赤外線遮蔽粒子分散液中には、溶媒や、分散剤、カップリング剤、界面活性剤等を添加することができる。このため、コーティング層には、赤外線遮蔽粒子分散液への添加成分や、該添加成分に由来する成分が含有されていてもよい。   Although a coating layer may be comprised only from the infrared shielding particle and the binder, it can also contain another component. For example, as described later, the coating layer can be manufactured using an infrared shielding particle dispersion, and a solvent, a dispersant, a coupling agent, a surfactant, and the like are added to the infrared shielding particle dispersion. be able to. For this reason, the coating layer may contain an additive component to the infrared shielding particle dispersion and a component derived from the additive component.

また、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材へさらに紫外線遮蔽機能を付与させるため、コーティング層に無機系の酸化チタンや酸化亜鉛、酸化セリウムなどの粒子、有機系のベンゾフェノンやベンゾトリアゾール等から選択される少なくとも1種類以上の紫外線遮蔽材を添加してもよい。   Further, in order to further impart an ultraviolet shielding function to the infrared shielding transparent substrate of the present embodiment, the coating layer is selected from particles such as inorganic titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, organic benzophenone, benzotriazole, and the like. At least one kind of ultraviolet shielding material may be added.

なお、上記紫外線遮蔽材は、コーティング層に添加する形態に限定されるものではなく、別途紫外線遮蔽材を含有する層を形成することもできる。紫外線遮蔽材を含有する層を形成する場合、その層の配置は特に限定されるものではないが、例えばコーティング層上に形成することができる。   In addition, the said ultraviolet shielding material is not limited to the form added to a coating layer, The layer containing a ultraviolet shielding material can also be formed separately. In the case of forming a layer containing an ultraviolet shielding material, the arrangement of the layer is not particularly limited. For example, the layer can be formed on a coating layer.

また、本実施形態に係る赤外線遮蔽透明基材の可視光透過率を向上させるために、コーティング層へATO、ITO、アルミニウム添加酸化亜鉛、インジウム錫複合酸化物から選択された1種類以上の粒子を、さらに混合してもよい。これらの透明粒子がコーティング層へ添加されることで、波長750nm付近の透過率が増加する一方、1200nmより長波長の赤外光を遮蔽するため、近赤外光の透過率が高く、且つ熱線遮蔽特性の高い熱線遮蔽体が得られる。なお、上記ATO等から選択される1種類以上の粒子についても、コーティング層に添加する形態に限定されるものではなく、コーティング層とは別に、係る粒子を含有する層を形成することもできる。   In addition, in order to improve the visible light transmittance of the infrared shielding transparent base material according to this embodiment, one or more kinds of particles selected from ATO, ITO, aluminum-added zinc oxide, and indium tin composite oxide are applied to the coating layer. Further, it may be mixed. By adding these transparent particles to the coating layer, the transmittance near a wavelength of 750 nm is increased, while infrared light having a wavelength longer than 1200 nm is shielded, so that the transmittance of near infrared light is high, and heat rays A heat ray shield with high shielding properties can be obtained. Note that one or more types of particles selected from the ATO and the like are not limited to the form added to the coating layer, and a layer containing such particles can be formed separately from the coating layer.

透明基材上のコーティング層の厚さは、特に限定されないが、実用上は20μm以下であることが好ましく、6μm以下であることがより好ましい。これはコーティング層の厚さが20μm以下であれば、十分な鉛筆硬度を発揮して耐擦過性を有することに加えて、コーティング層における溶媒の揮散およびバインダーの硬化の際に、基板フィルムの反り発生等の工程異常発生を回避できるからである。   Although the thickness of the coating layer on a transparent base material is not specifically limited, It is preferable that it is 20 micrometers or less practically, and it is more preferable that it is 6 micrometers or less. If the thickness of the coating layer is 20 μm or less, in addition to exhibiting sufficient pencil hardness and scratch resistance, the substrate film warps when the coating layer is stripped of the solvent and the binder is cured. This is because occurrence of process abnormality such as occurrence can be avoided.

なお、コーティング層の厚さの下限値は特に限定されないが、例えば10nm以上であることが好ましく、50nm以上であることがより好ましい。   In addition, the lower limit value of the thickness of the coating layer is not particularly limited, but for example, is preferably 10 nm or more, and more preferably 50 nm or more.

コーティング層に含まれる赤外線遮蔽粒子の含有量は、特に限定されないが、透明基材/コーティング層の投影面積あたりの含有量は、0.01g/m以上1.0g/m以下であることが好ましい。これは、含有量が0.01g/m以上であれば赤外線遮蔽粒子を含有しない場合と比較して有意に熱線遮蔽特性を発揮でき、含有量が1.0g/m以下であれば赤外線遮蔽透明基材が可視光の透過性を十分に保つことができるからである。 The content of the infrared shielding particles contained in the coating layer is not particularly limited, but the content per projected area of the transparent substrate / coating layer is 0.01 g / m 2 or more and 1.0 g / m 2 or less. Is preferred. If the content is 0.01 g / m 2 or more, the heat ray shielding characteristic can be exhibited significantly as compared with the case where the infrared shielding particles are not contained, and if the content is 1.0 g / m 2 or less, the infrared ray is exhibited. This is because the shielding transparent substrate can sufficiently maintain the transmittance of visible light.

また、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、コーティング層の可視光(波長400nm以上780nm以下)透過率を45%以上55%以下となるように設定した場合の、波長360nm以上500nm以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値が1.5%以下となっていることが好ましい。   In addition, the infrared shielding transparent base material of the present embodiment has a wavelength region of 360 nm to 500 nm when the visible light (wavelength 400 nm to 780 nm) transmittance of the coating layer is set to 45% to 55%. It is preferable that the maximum value of the diffuse transmission profile is 1.5% or less.

なお、十分な可視光透過率を有する透明基材を用い、透明基材が赤外線遮蔽透明基材の可視光透過率にほとんど影響を与えない場合、すなわち、例えば90%以上の可視光透過率を有する透明基材を用いている場合、上記コーティング層の可視光透過率は、赤外線遮蔽透明基材の可視光透過率と読み替えてもよい。   In addition, when a transparent base material having sufficient visible light transmittance is used and the transparent base material hardly affects the visible light transmittance of the infrared shielding transparent base material, that is, for example, a visible light transmittance of 90% or more. When using the transparent base material which has, you may read the visible light transmittance | permeability of the said coating layer with the visible light transmittance | permeability of an infrared shielding transparent base material.

ここで、ブルーヘイズの評価方法について説明する。   Here, a blue haze evaluation method will be described.

ブルーヘイズを、直接測定する方法は知られていない。しかし、本発明の出願人は、試料である赤外線遮蔽粒子分散体に光を当てたときの透過光の成分として直線入射光と散乱光とに着目し、波長毎の拡散透過率を求めることにより「ブルーヘイズ」を評価する方法を既に提案している(特開2009−150979号公報を参照)。以下、波長毎の拡散透過率、すなわち、拡散透過プロファイルを測定する原理を図1および図2を用いて説明する。   There is no known method for directly measuring blue haze. However, the applicant of the present invention pays attention to linear incident light and scattered light as components of transmitted light when light is applied to the infrared shielding particle dispersion as a sample, and obtains diffuse transmittance for each wavelength. A method for evaluating "blue haze" has already been proposed (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-150979). Hereinafter, the principle of measuring the diffuse transmittance for each wavelength, that is, the diffuse transmission profile will be described with reference to FIGS.

まず、拡散透過プロファイルを測定する測定装置について、図1および図2を用いて説明する。   First, a measuring apparatus for measuring a diffuse transmission profile will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

図1、図2に示すように該測定装置10は、積分球14を備えている。そして、積分球14は、球状本体内面が拡散反射性を有し、かつ測定試料12(図2参照)が取り付けられる第一開口部141、標準反射板15またはライトトラップ部品16が取り付けられる第二開口部142、及び受光器13が取り付けられる第三開口部143を有している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the measuring apparatus 10 includes an integrating sphere 14. The integrating sphere 14 has a diffused reflectivity on the inner surface of the spherical body, and a second opening 141 to which the measurement sample 12 (see FIG. 2) is attached, the standard reflector 15 or the light trap component 16 is attached. It has the opening part 142 and the 3rd opening part 143 to which the light receiver 13 is attached.

また、第一開口部141を介して球状空間内に入射される直線光を出射する光源11と、上記受光器13に取り付けられかつ受光された反射光または散乱光を分光する図示しない分光器と、上記分光器に接続されかつ分光された反射光または散乱光の分光データを保存する図示しないデータ保存手段と、保存されたブランク透過光強度と拡散透過光強度の各分光データから拡散透過光強度とブランク透過光強度の波長毎の比をそれぞれ演算して波長毎の拡散透過率を得る図示しない演算手段を具備している。   A light source 11 that emits linear light that enters the spherical space through the first opening 141; and a spectroscope (not shown) that is attached to the light receiver 13 and that separates the received reflected or scattered light. A data storage means (not shown) that is connected to the spectrometer and stores spectral data of the reflected or scattered light that is spectrally dispersed, and the diffuse transmitted light intensity from the stored spectral data of the blank transmitted light intensity and the diffuse transmitted light intensity. And a calculation means (not shown) that obtains the diffuse transmittance for each wavelength by calculating the ratio of each of the transmitted light intensity and the blank transmitted light intensity.

ここで、積分球14は、球状本体内面に硫酸バリウム若しくはスペクトラロン(SPECTRALON:登録商標)等が塗布されて拡散反射性を有するもので、標準反射板15への入射角は、標準側、対照側とも例えば10°とすることができる。また、上記受光器13としては、例えば、光電子倍増管(紫外・可視領域)や、冷却硫化鉛(近赤外領域)を使用したものを用いることができる。また、受光器13に取り付けられる図示しない分光器については、紫外・可視領域の波長測定範囲、測光正確さ(±0.002Abs)が必要である。   Here, the integrating sphere 14 has a diffuse reflection property by applying barium sulfate or Spectralon (registered trademark) or the like to the inner surface of the spherical main body, and the incident angle to the standard reflector 15 is the standard side, the control. Both sides can be, for example, 10 °. As the light receiver 13, for example, a photomultiplier tube (ultraviolet / visible region) or a cooled lead sulfide (near infrared region) can be used. In addition, a spectroscope (not shown) attached to the light receiver 13 requires a wavelength measurement range in the ultraviolet / visible region and photometric accuracy (± 0.002 Abs).

次に、球状空間内に入射される直線光を出射する光源11としては、例えば、紫外領域は重水素ランプ、可視・近赤外領域は50Wハロゲンランプを適用できる。   Next, as the light source 11 that emits linear light that enters the spherical space, for example, a deuterium lamp can be applied in the ultraviolet region, and a 50 W halogen lamp can be applied in the visible / near infrared region.

また、標準反射板15には、例えば材質がスペクトラロン(SPECTRALON)の白板を用いることができ、上記ライトトラップ部品16には、入射された直線光を反射させずにトラップする機能が必要で、例えば、入射された直線光をほぼ完全に吸収するダークボックスが用いられる。   The standard reflector 15 can be a white plate made of, for example, Spectralon, and the light trap component 16 must have a function of trapping incident linear light without reflecting it. For example, a dark box that absorbs incident linear light almost completely is used.

そして、上記拡散透過プロファイルの測定装置を用いて、測定試料である赤外線遮蔽透明基材等の拡散透過プロファイルの極大値を、ブランク透過光強度測定工程と、拡散透過光強度測定工程と、拡散透過率演算工程との各工程により評価できる。   Then, using the diffuse transmission profile measuring device, the maximum value of the diffuse transmission profile of the infrared shielding transparent base material or the like that is the measurement sample is determined as the blank transmitted light intensity measuring step, the diffuse transmitted light intensity measuring step, and the diffuse transmission. It can evaluate by each process with a rate calculation process.

まず、ブランク透過光強度測定工程においては、図1に示すように積分球14の第二開口部142に標準反射板15を取り付け、第一開口部141に測定試料を取り付けない状態で光源11からの直線光を第一開口部141を介し球状空間内に入射させる。そして、標準反射板15で反射された反射光を受光器13で受光し、かつ、受光器13に取り付けられた図示しない分光器により分光して反射光の分光データを得る。この際の分光データが、ブランク透過光強度となる。   First, in the blank transmitted light intensity measurement step, the standard reflector 15 is attached to the second opening 142 of the integrating sphere 14 and the measurement sample is not attached to the first opening 141 as shown in FIG. Are incident on the spherical space through the first opening 141. Then, the reflected light reflected by the standard reflecting plate 15 is received by the light receiver 13 and dispersed by a spectroscope (not shown) attached to the light receiver 13 to obtain spectral data of the reflected light. The spectral data at this time is the blank transmitted light intensity.

次に、上記拡散透過光強度測定工程においては、図2に示すように積分球14の第二開口部142にライトトラップ部品16を取り付ける。そして、第一開口部141に測定試料12を取り付けた状態で光源11からの直線光を測定試料12と第一開口部141を介し、球状空間内に入射させると共に、ライトトラップ部品16でトラップされた光以外の散乱光を受光器13で受光する。この際、受光器13に取り付けられた図示しない分光器により分光して散乱光の分光データを得る。この際の分光データが、拡散透過光強度となる。   Next, in the diffuse transmitted light intensity measurement step, the light trap component 16 is attached to the second opening 142 of the integrating sphere 14 as shown in FIG. Then, with the measurement sample 12 attached to the first opening 141, linear light from the light source 11 enters the spherical space through the measurement sample 12 and the first opening 141 and is trapped by the light trap component 16. The scattered light other than the received light is received by the light receiver 13. At this time, the spectral data of the scattered light is obtained by performing spectroscopy with a spectroscope (not shown) attached to the light receiver 13. The spectral data at this time is the diffused transmitted light intensity.

そして、上記拡散透過率演算工程において、図示しないデータ保存手段(図示せず)により保存されたブランク透過光強度と拡散透過光強度の各分光データに基づき、図示しない演算手段により拡散透過光強度とブランク透過光強度の波長毎の比をそれぞれ演算して波長毎の拡散透過率を求めると共に、得られた波長毎の拡散透過率から、測定試料12の拡散透過プロファイルにおける波長360nm〜500nm領域の極大値を求めることができる。   Then, in the diffuse transmittance calculation step, based on the spectral data of the blank transmitted light intensity and the diffuse transmitted light intensity stored by the data storage means (not shown) not shown, While calculating the ratio of the blank transmitted light intensity for each wavelength to obtain the diffuse transmittance for each wavelength, the maximum in the wavelength range of 360 nm to 500 nm in the diffuse transmission profile of the measurement sample 12 from the obtained diffuse transmittance for each wavelength. The value can be determined.

ここで、拡散透過プロファイルを測定する測定装置においては、上記光源11と測定試料12との間に光線調整用の光学系を設けてもよい。そして、この光学系では、例えば複数枚のレンズを組み合わせて平行光を調整し、絞りにより光量の調整を行う。場合によっては、フィルターによって特定波長のカットを行ってもよい。   Here, in the measuring apparatus that measures the diffuse transmission profile, an optical system for adjusting the light beam may be provided between the light source 11 and the measurement sample 12. In this optical system, for example, parallel light is adjusted by combining a plurality of lenses, and the amount of light is adjusted by a diaphragm. In some cases, a specific wavelength may be cut by a filter.

そして、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、既述のようにコーティング層の可視光(波長400nm以上780nm以下)透過率を45%以上55%以下のいずれかに設定した場合の、波長360nm以上500nm以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値が1.5%以下となっていることが好ましい。これは、上記条件を満たす赤外線遮蔽透明基材ではブルーヘイズがほとんど観測されないことが確認されているからである。   And the infrared shielding transparent base material of this embodiment has a wavelength of 360 nm when the visible light (wavelength of 400 nm or more and 780 nm or less) transmittance of the coating layer is set to any of 45% or more and 55% or less as described above. The maximum value of the diffuse transmission profile in the region of 500 nm or less is preferably 1.5% or less. This is because it has been confirmed that almost no blue haze is observed in the infrared shielding transparent base material that satisfies the above conditions.

なお、コーティング層の可視光透過率が45%以上55%以下に設定されているのは、拡散透過率(拡散透過プロファイル)の測定条件を特定するためであり、拡散透過率が可視光透過率に比例するため範囲が設定されている。また、波長360nm以上500nm以下の領域における拡散透過率(拡散透過プロファイル)を測定するのは、その領域での散乱がまさしくブルーヘイズの原因であるからである。上記範囲での拡散透過率の極大値が1.5%以下であれば実験的に目視でブルーヘイズは観測されない。   The reason why the visible light transmittance of the coating layer is set to 45% or more and 55% or less is to specify the measurement condition of the diffuse transmittance (diffuse transmittance profile), and the diffuse transmittance is the visible light transmittance. The range is set to be proportional to. The reason why the diffuse transmittance (diffuse transmittance profile) in the region of wavelength 360 nm or more and 500 nm or less is measured is that scattering in that region is the cause of blue haze. If the maximum value of the diffuse transmittance in the above range is 1.5% or less, no blue haze is experimentally observed.

本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、例えば各種光学部材に用いることができ、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材を含む赤外線遮蔽光学部材とすることができる。   The infrared shielding transparent substrate of the present embodiment can be used for various optical members, for example, and can be an infrared shielding optical member including the infrared shielding transparent substrate of the present embodiment.

ここでいう赤外線遮蔽光学部材としては、例えば建物の窓や、自動車の窓等が挙げられる。   As an infrared shielding optical member here, the window of a building, the window of a motor vehicle, etc. are mentioned, for example.

以上に説明した、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材、及び該赤外線遮蔽透明基材を含む赤外線遮蔽光学部材によれば、容易に微粉砕することができるホウ化物粒子を用いた赤外線遮蔽透明基材とすることができる。このため、コーティング層に含まれる赤外線遮蔽粒子の平均分散粒子径を十分に小さくすることができ、ブルーヘイズの発生を抑制できる。
(赤外線遮蔽透明基材の製造方法)
本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、例えば赤外線遮蔽粒子分散液を用いて製造することができる。このため、ここではまず赤外線遮蔽粒子分散液、及びその製造方法について説明する。
(1)赤外線遮蔽粒子分散液、及びその製造方法
上述のように、本実施形態赤外線遮蔽透明基材は、ここまで説明した赤外線遮蔽粒子であるホウ化物粒子を含有する赤外線遮蔽粒子分散液を用いて製造できる。このため、ここでは赤外線遮蔽粒子分散液、及びその製造方法の一構成例について説明する。
According to the infrared shielding transparent base material of the present embodiment described above and the infrared shielding optical member including the infrared shielding transparent base material, the infrared shielding transparent base using boride particles that can be easily pulverized. It can be a material. For this reason, the average dispersed particle diameter of the infrared shielding particles contained in the coating layer can be made sufficiently small, and the occurrence of blue haze can be suppressed.
(Infrared shielding transparent substrate manufacturing method)
The infrared shielding transparent base material of this embodiment can be manufactured using, for example, an infrared shielding particle dispersion. Therefore, here, the infrared shielding particle dispersion and the manufacturing method thereof will be described first.
(1) Infrared shielding particle dispersion and method for producing the same As described above, the infrared shielding transparent substrate according to the present embodiment uses an infrared shielding particle dispersion containing boride particles, which are infrared shielding particles described so far. Can be manufactured. For this reason, here, a configuration example of the infrared shielding particle dispersion and the manufacturing method thereof will be described.

赤外線遮蔽粒子分散液は、既述の赤外線遮蔽粒子を溶媒中に分散させたものである。赤外線遮蔽粒子分散液は、既述の赤外線遮蔽粒子、すなわちホウ化物粒子と、所望により適量の分散剤と、カップリング剤と、界面活性剤等とを、溶媒へ添加し分散処理を行い、当該赤外線遮蔽粒子を溶媒へ分散することで得られる。   The infrared shielding particle dispersion is obtained by dispersing the aforementioned infrared shielding particles in a solvent. The infrared shielding particle dispersion is prepared by adding the above-described infrared shielding particles, that is, boride particles, an appropriate amount of a dispersant, a coupling agent, a surfactant, and the like to a solvent for dispersion treatment. It can be obtained by dispersing the infrared shielding particles in a solvent.

赤外線遮蔽粒子分散液の溶媒には、赤外線遮蔽粒子の分散性を保つための機能と、分散液を塗布する際に塗布欠陥を生じさせないための機能が要求される。   The solvent of the infrared shielding particle dispersion liquid is required to have a function for maintaining the dispersibility of the infrared shielding particles and a function for preventing application defects when the dispersion liquid is applied.

具体的には、メタノール(MA)、エタノール(EA)、1−プロパノール(NPA)、イソプロパノール(IPA)、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系溶媒、3−メチル−メトキシ−プロピオネート(MMP)等のエステル系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル(MCS)、エチレングリコールモノエチルエーテル(ECS)、エチレングリコールイソプロピルエーテル(IPC)、プロピレングリコールメチルエーテル(PGM)、プロピレングリコールエチルエーテル(PE)、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート(PE−AC)等のグリコール誘導体、フォルムアミド(FA)、N−メチルフォルムアミド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)等のアミド類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチレンクロライド、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素類等を挙げることができ、これらの中から選択した1種類、または2種類以上を組みあわせて用いることができる。   Specifically, alcohol solvents such as methanol (MA), ethanol (EA), 1-propanol (NPA), isopropanol (IPA), butanol, pentanol, benzyl alcohol, diacetone alcohol, acetone, methyl ethyl ketone (MEK) , Ketone solvents such as methyl propyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone, isophorone, ester solvents such as 3-methyl-methoxy-propionate (MMP), ethylene glycol monomethyl ether (MCS), ethylene glycol monoethyl ether (ECS), ethylene glycol isopropyl ether (IPC), propylene glycol methyl ether (PGM), propylene glycol ethyl ether (PE), propylene glycol methyl Glycol derivatives such as ether acetate (PGMEA), propylene glycol ethyl ether acetate (PE-AC), formamide (FA), N-methylformamide, dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone ( Amides such as NMP), aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and halogenated hydrocarbons such as ethylene chloride and chlorobenzene, etc., one or more selected from these Can be used in combination.

上記した中でも、溶媒としては、特にMIBK、MEK等のケトン類や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、PGMEA、PE−AC等のグリコールエーテルアセテート類等、疎水性の高いものがより好ましい。このため、これらの中から選択した1種類または2種類以上を組みあわせて用いることがより好ましい。   Among the above, as the solvent, those having high hydrophobicity such as ketones such as MIBK and MEK, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, glycol ether acetates such as PGMEA and PE-AC are more preferable. . For this reason, it is more preferable to use a combination of one or more selected from these.

また、透明フィルム基材や透明ガラス基材等の透明基材上にコーティング層を形成するためには、溶媒として低沸点の有機溶媒を選択することが好ましい。これは、溶媒が低沸点の有機溶媒であると、コーティング後の乾燥工程で溶媒を容易に取り除くことができ、コーティング層の特性、例えば硬度や透明性などを損なうことがないからである。   In order to form a coating layer on a transparent substrate such as a transparent film substrate or a transparent glass substrate, it is preferable to select an organic solvent having a low boiling point as a solvent. This is because if the solvent is an organic solvent having a low boiling point, the solvent can be easily removed in the drying step after coating, and properties of the coating layer, such as hardness and transparency, are not impaired.

具体的には、例えばメチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類から選択した1種類、または2種類以上を組みあわせて用いることが好ましい。   Specifically, it is preferable to use one kind selected from ketones such as methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, or a combination of two or more kinds.

分散剤、カップリング剤、界面活性剤は、用途に合わせて選定可能であるが、アミンを含有する基、水酸基、カルボキシル基、または、エポキシ基を、官能基として有しているものであることが好ましい。これらの官能基は赤外線遮蔽粒子の表面に吸着し、当該赤外線遮蔽粒子の凝集を防ぐことで、透明基材上にコーティング層を形成した場合に、該コーティング層中において、赤外線遮蔽粒子を均一に分散させる効果を発揮する。   Dispersing agents, coupling agents, and surfactants can be selected according to the application, but have amine-containing groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, or epoxy groups as functional groups. Is preferred. These functional groups are adsorbed on the surface of the infrared shielding particles and prevent aggregation of the infrared shielding particles, so that when the coating layer is formed on the transparent substrate, the infrared shielding particles are uniformly distributed in the coating layer. Demonstrate the effect of dispersing.

分散剤、カップリング剤、界面活性剤としては、リン酸エステル化合物、高分子系分散剤、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、等を好適に用いることができる。   As a dispersant, a coupling agent, and a surfactant, a phosphate ester compound, a polymer dispersant, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, and the like can be suitably used. .

なお、高分子系分散剤としては、アクリル系高分子分散剤、ウレタン系高分子分散剤、アクリル・ブロックコポリマー系高分子分散剤、ポリエーテル類分散剤、ポリエステル系高分子分散剤などが挙げられる。   Examples of the polymer dispersant include acrylic polymer dispersants, urethane polymer dispersants, acrylic / block copolymer polymer dispersants, polyether dispersants, and polyester polymer dispersants. .

ただし、分散剤、カップリング剤、界面活性剤としては、これらに限定されるものではなく、各種分散剤、カップリング剤、界面活性剤を用いることができる。   However, the dispersant, the coupling agent, and the surfactant are not limited to these, and various dispersants, coupling agents, and surfactants can be used.

赤外線遮蔽粒子分散液への分散剤、カップリング剤、界面活性剤から選択された1種類以上の材料の添加量は、赤外線遮蔽粒子である、ホウ化物粒子100重量部に対し10重量部以上1000重量部以下の範囲であることが好ましく、20重量部以上200重量部以下の範囲であることがより好ましい。   The addition amount of one or more materials selected from a dispersant, a coupling agent, and a surfactant to the infrared shielding particle dispersion is 10 parts by weight or more and 1000 parts by weight per 100 parts by weight of boride particles that are infrared shielding particles. The range is preferably not more than parts by weight, more preferably not less than 20 parts by weight and not more than 200 parts by weight.

分散剤等の添加量が上記範囲にあれば、赤外線遮蔽粒子が分散液中で凝集を起こすことがなく、分散安定性が保たれる。   If the added amount of the dispersant or the like is within the above range, the infrared shielding particles will not aggregate in the dispersion, and dispersion stability is maintained.

液状媒体中に、赤外線遮蔽粒子であるホウ化物粒子を分散する方法は特に限定されるものではない。例えば赤外線遮蔽粒子分散液の原料混合物を、ビーズミル、ボールミル、サンドミルなどの湿式媒体ミルを用いて分散処理する方法が挙げられる。特に、本実施形態の赤外線遮蔽粒子分散液は、平均分散粒子径が100nm以下の赤外線遮蔽粒子を液状媒体中に分散させた状態を有することが好ましく、該赤外線遮蔽粒子の平均分散粒子径は85nm以下であることがより好ましい。このためビーズミル等の媒体撹拌ミルを用いた湿式粉砕法により、ホウ化物粒子を分散して分散液を調製することが好ましい。   The method for dispersing boride particles, which are infrared shielding particles, in the liquid medium is not particularly limited. For example, a method of dispersing the raw material mixture of the infrared shielding particle dispersion using a wet medium mill such as a bead mill, a ball mill, or a sand mill can be used. In particular, the infrared shielding particle dispersion of the present embodiment preferably has a state in which infrared shielding particles having an average dispersed particle diameter of 100 nm or less are dispersed in a liquid medium, and the average dispersed particle diameter of the infrared shielding particles is 85 nm. The following is more preferable. Therefore, it is preferable to prepare a dispersion by dispersing boride particles by a wet pulverization method using a medium stirring mill such as a bead mill.

均一な赤外線遮蔽粒子分散液を得るために、各種添加剤や分散剤を添加したり、pH調整したりしても良い。   In order to obtain a uniform infrared shielding particle dispersion, various additives and dispersants may be added or the pH may be adjusted.

上述した赤外線遮蔽粒子分散液中における赤外線遮蔽粒子の含有量は、0.01質量%以上30質量%以下であることが好ましい。赤外線遮蔽粒子の含有量が0.01質量%以上であれば、透明基材上に赤外線遮蔽能を有するコーティング層を形成することができるからである。また、赤外線遮蔽粒子の含有量が30質量%以下であれば、透明基材上に赤外線遮蔽分散液の塗布を容易に行うことができ、コーティング層の生産性を高めることができるからである。   The content of the infrared shielding particles in the infrared shielding particle dispersion described above is preferably 0.01% by mass or more and 30% by mass or less. This is because if the content of the infrared shielding particles is 0.01% by mass or more, a coating layer having an infrared shielding ability can be formed on the transparent substrate. Moreover, if the content of the infrared shielding particles is 30% by mass or less, the infrared shielding dispersion liquid can be easily applied onto the transparent substrate, and the productivity of the coating layer can be increased.

また、赤外線遮蔽粒子分散液中の赤外線遮蔽粒子は、平均分散粒子径が100nm以下で分散していることが好ましく、85nm以下で分散していることがより好ましい。赤外線遮蔽粒子の平均分散粒子径が100nm以下であれば、本実施形態に係る赤外線遮蔽粒子分散液を用いて製造された赤外線遮蔽透明基材におけるブルーヘイズの発生を抑制し、光学特性を向上させることができるからである。また、該平均分散粒子径が85nm以下の場合、赤外線遮蔽透明基材におけるブルーヘイズの発生を特に抑制できるからである。   The infrared shielding particles in the infrared shielding particle dispersion are preferably dispersed with an average dispersed particle size of 100 nm or less, and more preferably 85 nm or less. If the average dispersed particle diameter of the infrared shielding particles is 100 nm or less, the generation of blue haze in the infrared shielding transparent substrate produced using the infrared shielding particle dispersion according to the present embodiment is suppressed, and the optical characteristics are improved. Because it can. Moreover, it is because generation | occurrence | production of the blue haze in an infrared shielding transparent base material can be suppressed especially when this average dispersed particle diameter is 85 nm or less.

なお、既述のホウ化物粒子を用いて赤外線遮蔽粒子分散液を作製した場合に、赤外線遮蔽粒子分散液(スラリー)のゲル化等の問題が発生することなく効率的に平均分散粒子径が100nm以下、特に85nm以下まで粉砕が可能になる理由について、本発明の発明者らは以下のように推察している。   When an infrared shielding particle dispersion is prepared using the boride particles described above, the average dispersed particle size is 100 nm efficiently without causing problems such as gelation of the infrared shielding particle dispersion (slurry). In the following, the inventors of the present invention infer that the reason why pulverization is possible to 85 nm or less is as follows.

ホウ化物粒子は硬質なために、湿式媒体撹拌ミルを用いて粉砕する際に、メディアビーズが摩耗した微粉やメディアビーズが破砕した細かなビーズ片などの摩耗カスがスラリー中に混入してしまう。このとき、炭素濃度の増大に伴いホウ化物粒子の硬度が増大するため、含有する炭素濃度が0.2質量%よりも高いホウ化物粒子を原料とした場合、大量のメディアビーズの摩耗カスがスラリー中へ混入してしまう。係るメディアビーズの摩耗カス混入がスラリーの粘度を上昇させる原因となっている。   Since the boride particles are hard, when they are pulverized using a wet medium agitation mill, wear debris such as fine powder with worn media beads and fine bead pieces with broken media beads are mixed in the slurry. At this time, since the hardness of boride particles increases with an increase in carbon concentration, when boride particles having a carbon concentration higher than 0.2% by mass are used as raw materials, a large amount of media beads wear residue is slurried. It gets mixed in. The wear debris of the media beads increases the viscosity of the slurry.

これに対して、含有する炭素濃度が0.2質量%以下のホウ化物粒子を原料として用いることで、平均分散粒子径が100nm以下、特に85nm以下まで粉砕する場合、メディアビーズの摩耗カスの混入量が大きく減少するので、スラリーの粘度が悪化することなく効率的に粉砕が可能であると推察している。但し、スラリーの粘度上昇化については未解明な点も多く、上記以外の作用が働いている可能性もあるため、上記作用に限定されるわけではない。
(2)赤外線遮蔽透明基材の製造方法
次に、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材の製造方法の一構成例について説明する。
On the other hand, by using boride particles having a carbon concentration of 0.2% by mass or less as a raw material, when the average dispersed particle size is pulverized to 100 nm or less, particularly 85 nm or less, media beads wear debris is mixed. Since the amount is greatly reduced, it is assumed that the slurry can be efficiently pulverized without deteriorating the viscosity of the slurry. However, there are many unexplained points about the increase in the viscosity of the slurry, and there is a possibility that actions other than those described above are working, and therefore, it is not limited to the above actions.
(2) Manufacturing method of infrared shielding transparent base material Next, one structural example of the manufacturing method of the infrared shielding transparent base material of this embodiment is demonstrated.

本実施形態の赤外線遮蔽透明基材は、上述した赤外線遮蔽粒子分散液を用いて、透明基材上へ、赤外線遮蔽粒子を含有するコーティング層を形成することで、製造することができる。以下に具体的な手順の例について説明する。   The infrared shielding transparent substrate of the present embodiment can be produced by forming a coating layer containing infrared shielding particles on the transparent substrate using the above-described infrared shielding particle dispersion. An example of a specific procedure will be described below.

上述した赤外線遮蔽粒子分散液にバインダーを添加し、塗布液を得る。   A binder is added to the above-described infrared shielding particle dispersion to obtain a coating solution.

得られた塗布液を透明基材表面にコーティングした後、溶媒を蒸発させ所定の方法でバインダーを硬化させれば、当該赤外線遮蔽粒子が媒体中に分散したコーティング層を形成できる。   After coating the obtained coating liquid on the surface of the transparent substrate, the coating layer in which the infrared shielding particles are dispersed in the medium can be formed by evaporating the solvent and curing the binder by a predetermined method.

また、赤外線遮蔽粒子分散液にバインダーを添加せず、濃度調整した塗布液を作製し、透明基材上にコーティングした後、溶媒を蒸発させ、その後、バインダーを含む塗布液をオーバーコートして、溶媒を蒸発させすることによりコーティング層を形成してもよい。   In addition, without adding a binder to the infrared shielding particle dispersion, to prepare a coating solution having a concentration adjusted, coated on a transparent substrate, evaporate the solvent, and then overcoat the coating solution containing the binder, The coating layer may be formed by evaporating the solvent.

コーティング層に好適に用いることができるバインダーや、透明基材については既述のため、ここでは説明を省略する。   Since the binder and the transparent substrate that can be suitably used for the coating layer have already been described, the description thereof is omitted here.

なお、透明基材の表面は赤外線遮蔽粒子分散液の塗布性や、コーティング層との密着性を改善するため、表面処理がなされていることが好ましい。また、透明基材とコーティング層との接着性を向上させるために、透明基材上に中間層を形成し、中間層上にコーティング層を形成することもできる。中間層の構成は特に限定されるものではなく、例えばポリマフィルム、金属層、無機層(例えば、シリカ、チタニア、ジルコニア等の無機酸化物層)、有機/無機複合層等により構成することができる。   The surface of the transparent substrate is preferably subjected to a surface treatment in order to improve the coating property of the infrared shielding particle dispersion and the adhesion to the coating layer. Moreover, in order to improve the adhesiveness of a transparent base material and a coating layer, an intermediate | middle layer can be formed on a transparent base material and a coating layer can also be formed on an intermediate | middle layer. The configuration of the intermediate layer is not particularly limited, and may be composed of, for example, a polymer film, a metal layer, an inorganic layer (for example, an inorganic oxide layer such as silica, titania, zirconia), an organic / inorganic composite layer, or the like. .

透明基材上にコーティング層を設ける方法は、透明基材表面へ赤外線遮蔽粒子分散液が均一に塗布できる方法であればよく、特に限定されない。例えば、バーコート法、グラビヤコート法、スプレーコート法、ディップコート法等を挙げることができる。   The method of providing the coating layer on the transparent substrate is not particularly limited as long as the infrared shielding particle dispersion can be uniformly applied to the surface of the transparent substrate. Examples thereof include a bar coating method, a gravure coating method, a spray coating method, and a dip coating method.

例えば赤外線遮蔽粒子に含まれるバインダーとしてUV硬化樹脂を用い、バーコート法を用いてコーティング層を形成する場合、赤外線遮蔽粒子分散液について、適度なレベリング性をもつよう液濃度及び添加剤を適宜調整しておくことが好ましい。そして、コーティング層の厚み、及び赤外線遮蔽粒子の含有量が、得られる赤外線遮蔽透明基材の目的を達成できるように、バー番号のワイヤーバーを選択し、透明基材上に塗膜を形成することができる。   For example, when a UV curable resin is used as the binder contained in the infrared shielding particles and the coating layer is formed using the bar coating method, the liquid concentration and additives are appropriately adjusted so that the infrared shielding particle dispersion has an appropriate leveling property. It is preferable to keep it. Then, the wire number of the bar number is selected so that the thickness of the coating layer and the content of the infrared shielding particles can achieve the purpose of the obtained infrared shielding transparent substrate, and a coating film is formed on the transparent substrate. be able to.

次いで、塗膜中に含まれる有機溶媒を乾燥により除去した後、紫外線を照射し硬化させることで、透明基材上にコーティング層を形成することができる。このとき、塗膜の乾燥条件としては、各成分、溶媒の種類や使用割合によっても異なるが、例えば60℃〜140℃の温度で20秒〜10分間程度加熱することで実施できる。紫外線の照射方法は特に制限はなく、例えば超高圧水銀灯などのUV露光機を好適に用いることができる。   Next, after removing the organic solvent contained in the coating film by drying, the coating layer can be formed on the transparent substrate by irradiating and curing with ultraviolet rays. At this time, although the drying conditions of the coating film vary depending on the components, the types of solvents and the use ratio, for example, the coating can be performed by heating at a temperature of 60 ° C. to 140 ° C. for about 20 seconds to 10 minutes. There is no restriction | limiting in particular in the irradiation method of an ultraviolet-ray, For example, UV exposure machines, such as an ultrahigh pressure mercury lamp, can be used suitably.

その他、コーティング層の形成の前後工程により、透明基材とコーティング層との密着性、コーティング時の塗膜の平滑性、有機溶媒の乾燥性などを操作することもできる。前記前後工程としては、例えば透明基材の表面処理工程、プリベーク(基板の前加熱)工程、ポストベーク(基板の後加熱)工程などが挙げられ、適宜選択することができる。プリベーク工程および/あるいはポストベーク工程における加熱温度は80℃以上200℃以下、加熱時間は30秒以上240秒以下であることが好ましい。   In addition, the adhesiveness between the transparent substrate and the coating layer, the smoothness of the coating film during coating, the drying property of the organic solvent, and the like can be manipulated by the steps before and after the formation of the coating layer. Examples of the pre- and post-process include a surface treatment process for a transparent substrate, a pre-bake (substrate pre-heating) process, a post-bake (substrate post-heating) process, and the like, and can be selected as appropriate. The heating temperature in the pre-bake process and / or the post-bake process is preferably 80 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, and the heating time is preferably 30 seconds or longer and 240 seconds or shorter.

形成するコーティング層の厚さや、コーティング層中の赤外線遮蔽粒子の含有量の好適な範囲については既述のため、ここでは説明を省略する。   Since the preferred range of the thickness of the coating layer to be formed and the content of the infrared shielding particles in the coating layer has already been described, the description thereof is omitted here.

なお、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材へさらに紫外線遮蔽機能を付与させるため、コーティング層に無機系の酸化チタンや酸化亜鉛、酸化セリウムなどの粒子、有機系のベンゾフェノンやベンゾトリアゾールなどの少なくとも1種類以上を添加してもよい。   In addition, in order to further impart an ultraviolet shielding function to the infrared shielding transparent base material of this embodiment, the coating layer has at least one particle such as inorganic titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, organic benzophenone, benzotriazole, or the like. More than one type may be added.

また、本実施形態に係る赤外線遮蔽透明基材の可視光透過率を向上させるために、コーティング層へATO、ITO、アルミニウム添加酸化亜鉛、インジウム錫複合酸化物から選択された1種類以上の粒子を、さらに混合してもよい。これらの透明粒子がコーティング層へ添加されることで、波長750nm付近の透過率が増加する一方、1200nmより長波長の赤外光を遮蔽するため、近赤外光の透過率が高く、且つ熱線遮蔽特性の高い熱線遮蔽体が得られる。   In addition, in order to improve the visible light transmittance of the infrared shielding transparent base material according to this embodiment, one or more kinds of particles selected from ATO, ITO, aluminum-added zinc oxide, and indium tin composite oxide are applied to the coating layer. Further, it may be mixed. By adding these transparent particles to the coating layer, the transmittance near a wavelength of 750 nm is increased, while infrared light having a wavelength longer than 1200 nm is shielded, so that the transmittance of near infrared light is high, and heat rays A heat ray shield with high shielding properties can be obtained.

以上に説明した、本実施形態の赤外線遮蔽透明基材の製造方法によれば、容易に微粉砕することができるホウ化物粒子を用いた赤外線遮蔽透明基材を製造することができる。係る赤外線遮蔽透明基材によれば、コーティング層に含まれる赤外線遮蔽粒子の平均分散粒子径を十分に小さくすることができ、ブルーヘイズの発生を抑制できる。   According to the manufacturing method of the infrared shielding transparent base material of this embodiment demonstrated above, the infrared shielding transparent base material using the boride particle | grains which can be pulverized easily can be manufactured. According to the infrared shielding transparent base material, the average dispersed particle diameter of the infrared shielding particles contained in the coating layer can be sufficiently reduced, and the generation of blue haze can be suppressed.

以下、実施例を参照しながら本発明をより具体的に説明する。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

ここでまず以下の実施例、比較例における試料の評価方法について説明する。
(ホウ化物粒子の組成)
以下の実施例、比較例で得られたホウ化物粒子について、ICP(島津製作所製 型式:ICPE9000)を用いて分析を行い、一般式XBで表した場合の金属元素Xに対するホウ素(B)の元素比すなわちホウ化物粒子中のホウ素(B)と金属元素Xとの元素比(B/X)であるmの値を算出した。
(ホウ化物粒子中の炭素濃度)
以下の実施例、比較例で作製したホウ化物粒子中の炭素量(炭素濃度)は、燃焼−赤外線吸収法で測定した。
(ホウ化物粒子中のBC濃度)
得られたホウ化物粒子のうち、BC濃度測定用の試料を2つに分け、それぞれ白金坩堝中に計り取り、7N硝酸を添加して50℃まで加温してホウ化物粒子を溶解した。放冷後、純水を加えてから、孔径0.2μmのセルロースアセテート製メンブランフィルターにより未溶解残渣(BC)を濾過分離した。
Here, first, evaluation methods of samples in the following examples and comparative examples will be described.
(Boride particle composition)
The following examples, the boride particles obtained in Comparative Example, ICP (Shimadzu Model: ICPE9000) was analyzed using a boron to metal element X when expressed by the general formula XB m in (B) The value of m, which is the element ratio (B / X) of boron (B) and metal element X in the boride particles, was calculated.
(Carbon concentration in boride particles)
The amount of carbon (carbon concentration) in the boride particles produced in the following examples and comparative examples was measured by a combustion-infrared absorption method.
(B 4 C concentration in boride particles)
Among the obtained boride particles, the sample for measuring the B 4 C concentration was divided into two, each weighed in a platinum crucible, 7N nitric acid was added and heated to 50 ° C. to dissolve the boride particles. . After standing to cool, pure water was added, and the undissolved residue (B 4 C) was separated by filtration through a cellulose acetate membrane filter having a pore size of 0.2 μm.

得られた一方の未溶解残渣を、元の白金坩堝に入れ、ホウ素の揮散を防止するために水酸化カルシウム飽和水溶液で湿らせた後に約80℃の乾燥機中で乾燥した。乾燥後は炭酸ナトリウムを加えて十分に混和してから加熱融解した。放冷後,坩堝内の溶融塩を温水で溶解しテフロン(登録商標)ビーカーに移した。硝酸を添加後、加熱沸騰させて炭酸ガスを除去してからICP用の試料溶液とした。得られた試料溶液中のホウ素濃度をICPにより分析した。   One undissolved residue obtained was put in the original platinum crucible, wetted with a saturated aqueous solution of calcium hydroxide to prevent volatilization of boron, and then dried in a dryer at about 80 ° C. After drying, sodium carbonate was added and mixed well before melting. After standing to cool, the molten salt in the crucible was dissolved in warm water and transferred to a Teflon (registered trademark) beaker. After adding nitric acid, the sample was heated and boiled to remove carbon dioxide, and then used as a sample solution for ICP. The boron concentration in the obtained sample solution was analyzed by ICP.

また、得られたもう一方の未溶解残渣についてXRD測定を行い、未溶解残渣がBC単相であるかを確認した。BC単相であった場合、ICPにより分析したホウ素濃度からBC濃度を算出した。
(可視光透過率)
以下の実施例、比較例中の可視光透過率とは、試料に垂直入射する昼光の光束について透過光束の入射光束に対する比である。ここで、上記昼光とは、国際照明委員会が定めたCIE昼光を意味する。このCIE昼光では、観測データに基づき黒体放射の色温度と同じ色温度の昼光の分光照度分布を波長560nmの値に対する相対値で示している。また、上記光束とは、放射の波長ごとの放射束と視感度(人の目の光に対する感度)の値の積の数値を波長について積分したものである。つまり、可視光透過率とは、波長380nm以上780nm以下の領域の光透過量を人の目の視感度で規格化した透過光量の積算値で人の目の感じる明るさを意味する値である。
Also, other undissolved residue obtained subjected to XRD measurement for undissolved residue was confirmed whether the B 4 C single phase. When it was a B 4 C single phase, the B 4 C concentration was calculated from the boron concentration analyzed by ICP.
(Visible light transmittance)
The visible light transmittance in the following examples and comparative examples is the ratio of the transmitted light beam to the incident light beam with respect to the daylight beam perpendicularly incident on the sample. Here, the daylight means CIE daylight defined by the International Lighting Commission. In this CIE daylight, the spectral illuminance distribution of daylight having the same color temperature as the color temperature of blackbody radiation is shown as a relative value with respect to the value of wavelength 560 nm based on the observation data. The luminous flux is obtained by integrating the numerical value of the product of the value of the radiant flux for each wavelength of radiation and the visibility (sensitivity to the light of the human eye) with respect to the wavelength. That is, the visible light transmittance is a value that means the brightness perceived by the human eye by the integrated value of the transmitted light amount obtained by standardizing the light transmission amount in the wavelength region of 380 nm or more and 780 nm or less by the visibility of the human eye. .

透過率測定は、分光光度計(日立製作所製 型式:U−4100)を使用して、波長300nm以上2600nm以下の範囲において1nmの間隔で測定している。
(拡散透過プロファイルの極大値)
以下の実施例、比較例で作製した赤外線遮蔽透明基材について、分光器として、分光光度計(日立製作所製 型式:U−4100)を使用し、図1、図2を用いて説明した方法により波長300nm以上800nm以下の範囲で1nmの間隔で拡散透過率を測定した。そして、得られた拡散透過プロファイルから極大値を求めた。
(ヘイズ)
赤外線遮蔽透明基材のヘイズ値はヘイズメーター(村上色彩技術研究所製 型式:HM−150)を用い、JIS K 7105−1981に基づき測定を行なった。
(平均分散粒子径)
平均分散粒子径は動的光散乱法に基づく粒径測定装置(大塚電子(株)製 型式:ELS−8000)により測定した。粒子屈折率は1.81とし、粒子形状は非球形を用いた。バックグラウンドはトルエンで測定し、溶媒屈折率は1.50とした。
(ブルーヘイズ)
ブルーヘイズは、以下の実施例、比較例で作製した赤外線遮蔽透明基材に人口太陽光ランプ[セリック(株)社製 XC-100]を照射し目視で確認した。
The transmittance is measured using a spectrophotometer (Model: U-4100 manufactured by Hitachi, Ltd.) at an interval of 1 nm in a wavelength range of 300 nm to 2600 nm.
(Maximum diffuse transmission profile)
About the infrared shielding transparent base materials produced in the following examples and comparative examples, a spectrophotometer (Hitachi, Ltd. model: U-4100) was used as a spectroscope, and the method described with reference to FIGS. The diffuse transmittance was measured at intervals of 1 nm in the wavelength range of 300 nm to 800 nm. And the maximum value was calculated | required from the obtained diffuse transmission profile.
(Haze)
The haze value of the infrared shielding transparent base material was measured based on JIS K 7105-1981 using a haze meter (Murakami Color Research Laboratory Model: HM-150).
(Average dispersed particle size)
The average dispersed particle size was measured by a particle size measuring device based on a dynamic light scattering method (model: ELS-8000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). The particle refractive index was 1.81, and the particle shape was non-spherical. The background was measured with toluene, and the solvent refractive index was 1.50.
(Blue haze)
The blue haze was confirmed by irradiating an artificial solar lamp [XC-100 manufactured by Celic Co., Ltd.] to the infrared shielding transparent base material produced in the following examples and comparative examples.

以下に各実施例、比較例での試料の作製条件、及び評価結果について説明する。
[実施例1]
ホウ素源及び還元剤として炭化ホウ素、ランタン源として酸化ランタンを用い、これらをランタンとホウ素の元素比であるB/Laが5.90となるように秤量、混合した。その後、アルゴン雰囲気中、1600±50℃の温度条件で6時間焼成し、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
Hereinafter, sample preparation conditions and evaluation results in each example and comparative example will be described.
[Example 1]
Boron carbide was used as a boron source and a reducing agent, and lanthanum oxide was used as a lanthanum source. These were weighed and mixed so that B / La, which is the element ratio of lanthanum and boron, was 5.90. Thereafter, it was calcined for 6 hours under a temperature condition of 1600 ± 50 ° C. in an argon atmosphere to obtain a powder containing lanthanum hexaboride particles.

得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.05質量%であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式LaBにおける、ランタン元素(La)に対するホウ素(B)の元素比(B/La)であるmは、5.8であることが確認できた。 The carbon content of the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, and the carbon content was 0.05% by mass. Further, when the composition of the obtained lanthanum hexaboride particles was evaluated by ICP, m, which is the elemental ratio (B / La) of boron (B) to lanthanum element (La) in the general formula LaB m , It was confirmed that it was 5.8.

さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、0.2質量%であった。 Further, the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured for the B 4 C concentration of the lanthanum hexaboride particle-containing powder by the method for evaluating the B 4 C concentration in the boride particles described above. It was 2 mass%.

次に、作製した六ホウ化ランタン粒子含有粉末(赤外線遮蔽材料)を10重量部、トルエン80重量部、分散剤(アミノ基を有するアクリル系高分子分散剤)10重量部の割合となるように秤量、混合し、3kgのスラリーを調製した。このスラリーをビーズと共に媒体撹拌ミルに投入し、スラリーを循環させて、20時間粉砕分散処理を行った。   Next, the produced lanthanum hexaboride particle-containing powder (infrared shielding material) is in a ratio of 10 parts by weight, toluene 80 parts by weight, and dispersant (acrylic polymer dispersant having an amino group) 10 parts by weight. Weighed and mixed to prepare 3 kg slurry. This slurry was put into a medium stirring mill together with the beads, and the slurry was circulated, and pulverized and dispersed for 20 hours.

使用した媒体撹拌ミルは横型円筒形のアニュラータイプ(アシザワ株式会社製)であり、ベッセル内壁とローター(回転撹拌部)の材質はZrOとした。また、上記ビーズには、直径0.3mmのYSZ(Yttria−Stabilized Zirconia:イットリア安定化ジルコニア)製のビーズを使用した。ローターの回転速度は13m/秒とし、スラリー流量1kg/分にて粉砕した。得られた分散液中のホウ化物粒子の平均分散粒子径を測定したところ70nmであった。 The medium stirring mill used was a horizontal cylindrical annular type (manufactured by Ashizawa Corporation), and the material of the inner wall of the vessel and the rotor (rotating stirring portion) was ZrO 2 . In addition, beads made of YSZ (Ytria-Stabilized Zirconia) having a diameter of 0.3 mm were used as the beads. The rotation speed of the rotor was 13 m / sec, and the slurry was pulverized at a slurry flow rate of 1 kg / min. The average dispersed particle size of boride particles in the obtained dispersion was measured and found to be 70 nm.

さらに、得られた分散液、紫外線硬化樹脂、及びトルエンを、重量比で分散液:紫外線硬化樹脂:トルエン=2:1:1の割合で混合して塗布液を作製した。これを透明ガラス基材上にバーコーターで塗布して塗布膜を形成した。このとき、得られるコーティング層の可視光透過率が50%程度となるようにコーティングに用いるバーを選択した。なお、バーコーターとしては井元製作所製IMC−700を用いており、得られるコーティング層の厚さは約10μmとなった。   Furthermore, the obtained dispersion, UV curable resin, and toluene were mixed at a weight ratio of dispersion: UV curable resin: toluene = 2: 1: 1 to prepare a coating solution. This was coated on a transparent glass substrate with a bar coater to form a coating film. At this time, the bar used for coating was selected so that the visible light transmittance of the resulting coating layer was about 50%. The IMC-700 manufactured by Imoto Seisakusho was used as the bar coater, and the thickness of the coating layer obtained was about 10 μm.

次に、70℃において1分間保持することでこの塗布膜から溶媒を蒸発させた後、紫外線照射して塗布膜を硬化させた。そして、得られた赤外線遮蔽透明基材の光学特性を測定した。測定結果を以下の表1に示す。   Next, the solvent was evaporated from the coating film by holding at 70 ° C. for 1 minute, and then the coating film was cured by irradiation with ultraviolet rays. And the optical characteristic of the obtained infrared shielding transparent base material was measured. The measurement results are shown in Table 1 below.

得られた赤外線遮蔽透明基材のヘイズは0.2%であり、透明性が極めて高いことが確認された。また、波長360nm以上500nm以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値は0.6%であり、また、人口太陽光を照射したときのブルーヘイズは観測されなかった。
[実施例2]
ランタンとホウ素の元素比B/Laが5.95となるように炭化ホウ素、及び酸化ランタンを秤量、混合した点以外は、実施例1と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
The haze of the obtained infrared shielding transparent base material was 0.2%, and it was confirmed that the transparency was extremely high. Moreover, the maximum value of the diffuse transmission profile in the region of wavelengths from 360 nm to 500 nm was 0.6%, and no blue haze was observed when artificial sunlight was irradiated.
[Example 2]
A lanthanum hexaboride particle-containing powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that boron carbide and lanthanum oxide were weighed and mixed so that the element ratio B / La between lanthanum and boron was 5.95. .

得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.1質量%であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式LaBにおける、ランタン元素(La)に対するホウ素(B)の元素比(B/La)であるmは、5.9であることが確認できた。 When the carbon content of the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, the carbon content was 0.1% by mass. Further, when the composition of the obtained lanthanum hexaboride particles was evaluated by ICP, m, which is the elemental ratio (B / La) of boron (B) to lanthanum element (La) in the general formula LaB m , It was confirmed that it was 5.9.

さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、0.5質量%であった。 Further, the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured for the B 4 C concentration of the lanthanum hexaboride particle-containing powder by the method for evaluating the B 4 C concentration in the boride particles described above. It was 5 mass%.

そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例1と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。   A boride particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lanthanum hexaboride particle-containing powder was used. Moreover, the infrared shielding transparent base material was produced using the obtained dispersion liquid.

得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
[実施例3]
ランタンとホウ素の元素比B/Laが6.00となるように炭化ホウ素、及び酸化ランタンを秤量、混合した点以外は、実施例1と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained dispersion liquid and an infrared shielding transparent base material. The results are shown in Table 1.
[Example 3]
A lanthanum hexaboride particle-containing powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that boron carbide and lanthanum oxide were weighed and mixed so that the element ratio B / La of lanthanum and boron was 6.00. .

得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.2質量%であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式LaBにおける、ランタン元素(La)に対するホウ素(B)の元素比(B/La)であるmは、5.9であることが確認できた。 When the carbon concentration of the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, the carbon content was 0.2% by mass. Further, when the composition of the obtained lanthanum hexaboride particles was evaluated by ICP, m, which is the elemental ratio (B / La) of boron (B) to lanthanum element (La) in the general formula LaB m , It was confirmed that it was 5.9.

さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、0.9質量%であった。 Further, the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured for the B 4 C concentration of the lanthanum hexaboride particle-containing powder by the method for evaluating the B 4 C concentration in the boride particles described above. It was 9% by mass.

そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例1と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。   A boride particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lanthanum hexaboride particle-containing powder was used. Moreover, the infrared shielding transparent base material was produced using the obtained dispersion liquid.

得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
[実施例4]
ランタンとホウ素の元素比B/Laが6.10となるように炭化ホウ素、及び酸化ランタンを秤量、混合した点以外は、実施例1と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained dispersion liquid and an infrared shielding transparent base material. The results are shown in Table 1.
[Example 4]
A lanthanum hexaboride particle-containing powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that boron carbide and lanthanum oxide were weighed and mixed so that the element ratio B / La of lanthanum and boron was 6.10. .

得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.2質量%であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式LaBにおける、ランタン元素(La)に対するホウ素(B)の元素比(B/La)であるmは、6.0であることが確認できた。 When the carbon concentration of the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, the carbon content was 0.2% by mass. Further, when the composition of the obtained lanthanum hexaboride particles was evaluated by ICP, m, which is the elemental ratio (B / La) of boron (B) to lanthanum element (La) in the general formula LaB m , It was confirmed that it was 6.0.

さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、0.9質量%であった。 Further, the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured for the B 4 C concentration of the lanthanum hexaboride particle-containing powder by the method for evaluating the B 4 C concentration in the boride particles described above. It was 9% by mass.

そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例1と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。   A boride particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lanthanum hexaboride particle-containing powder was used. Moreover, the infrared shielding transparent base material was produced using the obtained dispersion liquid.

得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
[実施例5]
ランタンとホウ素の元素比B/Laが6.20となるように炭化ホウ素、及び酸化ランタンを秤量、混合し、1650±50℃の温度条件で焼成した点以外は、実施例1と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained dispersion liquid and an infrared shielding transparent base material. The results are shown in Table 1.
[Example 5]
Boron carbide and lanthanum oxide were weighed and mixed so that the element ratio B / La of lanthanum to boron was 6.20, and the same as in Example 1 except that it was fired at a temperature of 1650 ± 50 ° C. A powder containing lanthanum hexaboride particles was obtained.

得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.2質量%であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式LaBにおける、ランタン元素(La)に対するホウ素(B)の元素比(B/La)であるmは、6.0であることが確認できた。 When the carbon concentration of the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, the carbon content was 0.2% by mass. Further, when the composition of the obtained lanthanum hexaboride particles was evaluated by ICP, m, which is the elemental ratio (B / La) of boron (B) to lanthanum element (La) in the general formula LaB m , It was confirmed that it was 6.0.

さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、0.9質量%であった。 Further, the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured for the B 4 C concentration of the lanthanum hexaboride particle-containing powder by the method for evaluating the B 4 C concentration in the boride particles described above. It was 9% by mass.

そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例1と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。   A boride particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lanthanum hexaboride particle-containing powder was used. Moreover, the infrared shielding transparent base material was produced using the obtained dispersion liquid.

得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
[実施例6]
ホウ素源として酸化ホウ素、ランタン源として酸化ランタン、還元剤として炭素(黒鉛)を用い、ランタンとホウ素の元素比B/Laが6.10となるように秤量・混合したこと以外は、実施例1と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。ただし、酸化ホウ素100重量部に対して、炭素60重量部を秤量・混合した。
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained dispersion liquid and an infrared shielding transparent base material. The results are shown in Table 1.
[Example 6]
Example 1 except that boron oxide was used as the boron source, lanthanum oxide was used as the lanthanum source, carbon (graphite) was used as the reducing agent, and the element ratio B / La between lanthanum and boron was 6.10. In the same manner as above, a powder containing lanthanum hexaboride particles was obtained. However, 60 parts by weight of carbon was weighed and mixed with 100 parts by weight of boron oxide.

得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.1質量%であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式LaBにおける、ランタン元素(La)に対するホウ素(B)の元素比(B/La)であるmは、6.0であることが確認できた。 When the carbon content of the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, the carbon content was 0.1% by mass. Further, when the composition of the obtained lanthanum hexaboride particles was evaluated by ICP, m, which is the elemental ratio (B / La) of boron (B) to lanthanum element (La) in the general formula LaB m , It was confirmed that it was 6.0.

さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、0.4質量%であった。 Further, the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured for the B 4 C concentration of the lanthanum hexaboride particle-containing powder by the method for evaluating the B 4 C concentration in the boride particles described above. It was 4% by mass.

そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例1と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。   A boride particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lanthanum hexaboride particle-containing powder was used. Moreover, the infrared shielding transparent base material was produced using the obtained dispersion liquid.

得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
[実施例7]
セリウムとホウ素の元素比B/Ceが6.10となるように、さらに酸化ランタンの代わりに酸化セリウムを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、六ホウ化セリウム粒子含有粉末を得た。
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained dispersion liquid and an infrared shielding transparent base material. The results are shown in Table 1.
[Example 7]
A cerium hexaboride particle-containing powder was obtained in the same manner as in Example 1 except that cerium oxide was used instead of lanthanum oxide so that the element ratio B / Ce of cerium and boron was 6.10. It was.

得られた六ホウ化セリウム粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.2質量%であった。また、得られた六ホウ化セリウム粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式CeBにおける、セリウム元素(Ce)に対するホウ素(B)の元素比(B/Ce)であるmは、6.0であることが確認できた。 When the carbon concentration of the obtained cerium hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, the carbon content was 0.2% by mass. Also were evaluated by ICP for the composition of the obtained cerium hexaboride particles, in the general formula CeB m, an element ratio of boron (B) with respect to the cerium element (Ce) (B / Ce) m, It was confirmed that it was 6.0.

さらに、得られた六ホウ化セリウム粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化セリウム粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、0.9質量%であった。 Further, the cerium hexaboride particles containing powder obtained, where the evaluation method of B 4 C concentration in aforementioned boride particles were measured B 4 C concentration of cerium hexaboride particles containing powder, 0. It was 9% by mass.

そして、係る六ホウ化セリウム粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例1と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて赤外線遮蔽透明基材を作製した。   A boride particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that the cerium hexaboride particle-containing powder was used. Moreover, the infrared shielding transparent base material was produced using the obtained dispersion liquid.

得られた分散液、及び赤外線遮蔽透明基材について実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
[比較例1]
ホウ素源及び還元剤として炭化ホウ素、ランタン源として酸化ランタンを用い、これらをランタンとホウ素の元素比B/Laが6.10となるように秤量、混合した。その後、アルゴン雰囲気中、1480±50℃の温度条件で6時間焼成し、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained dispersion liquid and an infrared shielding transparent base material. The results are shown in Table 1.
[Comparative Example 1]
Boron carbide was used as a boron source and a reducing agent, and lanthanum oxide was used as a lanthanum source. These were weighed and mixed so that the element ratio B / La of lanthanum and boron was 6.10. Thereafter, it was calcined in an argon atmosphere at a temperature of 1480 ± 50 ° C. for 6 hours to obtain a lanthanum hexaboride particle-containing powder.

得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.6質量%であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式LaBにおける、ランタン元素(La)に対するホウ素(B)の元素比(B/La)であるmは、6.0であることが確認できた。 When the carbon content of the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, the carbon content was 0.6% by mass. Further, when the composition of the obtained lanthanum hexaboride particles was evaluated by ICP, m, which is the elemental ratio (B / La) of boron (B) to lanthanum element (La) in the general formula LaB m , It was confirmed that it was 6.0.

さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、2.6質量%であった。 Further, the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured for the B 4 C concentration of the lanthanum hexaboride particle-containing powder by the method for evaluating the B 4 C concentration in the boride particles described above. It was 6% by mass.

そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例1と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。   A boride particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lanthanum hexaboride particle-containing powder was used.

得られた分散液について実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。   Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained dispersion liquid. The results are shown in Table 1.

なお、分散液を調製するため、20時間粉砕処理を行った時点で平均分散粒子径が105nmであり100nmより大きかったが、スラリー粘度上昇のため粉砕効率が著しく低下したことから、これ以上粉砕処理を続けても100nm以下の粒子径を得ることは難しいと判断した。   In addition, in order to prepare the dispersion, the average dispersed particle size was 105 nm and larger than 100 nm at the time when the grinding treatment was performed for 20 hours. It was judged that it was difficult to obtain a particle size of 100 nm or less even if the process was continued.

得られた分散液を用いて実施例1の場合と同様にして透明ガラス基材上にコーティング層を形成し、赤外線遮蔽透明基材とした。そして、得られた赤外線遮蔽透明基材の光学特性を測定した。測定結果を以下の表1に示す。   Using the obtained dispersion, a coating layer was formed on a transparent glass substrate in the same manner as in Example 1 to obtain an infrared shielding transparent substrate. And the optical characteristic of the obtained infrared shielding transparent base material was measured. The measurement results are shown in Table 1 below.

得られた赤外線遮蔽透明基材のヘイズは1.6%であり、透明性が非常に低いことが確認された。また、波長360nm以上500nm以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値は1.9%であり、また、人口太陽光を照射したときに目視ではっきりとブルーヘイズが確認された。
[比較例2]
ランタンとホウ素の元素比B/Laが6.20となるように炭化ホウ素及び酸化ランタンを秤量、混合した点以外は、比較例1と同様の条件にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。
The haze of the obtained infrared shielding transparent base material was 1.6%, and it was confirmed that the transparency was very low. Moreover, the maximum value of the diffuse transmission profile in the wavelength region of 360 nm or more and 500 nm or less was 1.9%, and when the artificial sunlight was irradiated, blue haze was clearly confirmed visually.
[Comparative Example 2]
A lanthanum hexaboride particle-containing powder is obtained under the same conditions as in Comparative Example 1 except that boron carbide and lanthanum oxide are weighed and mixed so that the element ratio B / La between lanthanum and boron is 6.20. It was.

得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.8質量%であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式LaBにおける、ランタン元素(La)に対するホウ素(B)の元素比(B/La)であるmは、6.1であることが確認できた。 When the carbon content of the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, the carbon content was 0.8% by mass. Further, when the composition of the obtained lanthanum hexaboride particles was evaluated by ICP, m, which is the elemental ratio (B / La) of boron (B) to lanthanum element (La) in the general formula LaB m , It was confirmed to be 6.1.

さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、3.7質量%であった。 Further, the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured for the B 4 C concentration of the lanthanum hexaboride particle-containing powder by the method for evaluating the B 4 C concentration in the boride particles described above. It was 7 mass%.

そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例1と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて実施例1の場合と同様にしてガラス基板上にコーティング層を形成した。そして、得られた赤外線遮蔽透明基材の光学特性を測定した。測定結果を以下の表1に示す。   A boride particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lanthanum hexaboride particle-containing powder was used. Moreover, the coating layer was formed on the glass substrate similarly to the case of Example 1 using the obtained dispersion liquid. And the optical characteristic of the obtained infrared shielding transparent base material was measured. The measurement results are shown in Table 1 below.

得られた赤外線遮蔽透明基材のヘイズは1.8%であり、透明性が非常に低いことが確認された。また、波長360nm以上500nm以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値は2.4%であり、また、人口太陽光を照射したときに、比較例1の場合と同様に目視ではっきりとブルーヘイズが確認された。
[比較例3]
ホウ素源として酸化ホウ素、ランタン源として酸化ランタンを、還元剤として炭素(黒鉛)を用い、ランタンとホウ素の元素比B/Laが6.10となるように秤量・混合したこと以外は、比較例1と同様にして、六ホウ化ランタン粒子含有粉末を得た。ただし、酸化ホウ素100重量部に対して、炭素60重量部を秤量・混合した。
The haze of the obtained infrared shielding transparent base material was 1.8%, and it was confirmed that the transparency was very low. Moreover, the maximum value of the diffuse transmission profile in the wavelength region of 360 nm or more and 500 nm or less is 2.4%, and when irradiated with artificial sunlight, blue haze is clearly visible as in Comparative Example 1. confirmed.
[Comparative Example 3]
Comparative Example, except that boron oxide was used as the boron source, lanthanum oxide was used as the lanthanum source, carbon (graphite) was used as the reducing agent, and the element ratio B / La between lanthanum and boron was 6.10. In the same manner as in No. 1, a powder containing lanthanum hexaboride particles was obtained. However, 60 parts by weight of carbon was weighed and mixed with 100 parts by weight of boron oxide.

得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.7質量%であった。また、得られた六ホウ化ランタン粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式LaBにおける、ランタン元素(La)に対するホウ素(B)の元素比(B/La)であるmは、6.0であることが確認できた。 The carbon content of the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, and the carbon content was 0.7% by mass. Further, when the composition of the obtained lanthanum hexaboride particles was evaluated by ICP, m, which is the elemental ratio (B / La) of boron (B) to lanthanum element (La) in the general formula LaB m , It was confirmed that it was 6.0.

さらに、得られた六ホウ化ランタン粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化ランタン粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、3.4質量%であった。 Further, the obtained lanthanum hexaboride particle-containing powder was measured for the B 4 C concentration of the lanthanum hexaboride particle-containing powder by the method for evaluating the B 4 C concentration in the boride particles described above. It was 4% by mass.

そして、係る六ホウ化ランタン粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例1と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて実施例1の場合と同様にしてガラス基板上にコーティング層を形成した。そして、得られた赤外線遮蔽透明基材の光学特性を測定した。測定結果を以下の表1に示す。   A boride particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lanthanum hexaboride particle-containing powder was used. Moreover, the coating layer was formed on the glass substrate similarly to the case of Example 1 using the obtained dispersion liquid. And the optical characteristic of the obtained infrared shielding transparent base material was measured. The measurement results are shown in Table 1 below.

得られた赤外線遮蔽透明基材のヘイズは1.7%であり、透明性が非常に低いことが確認された。また、波長360nm以上500nm以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値は2.2%であり、また、人口太陽光を照射したときに、比較例1の場合と同様に目視ではっきりとブルーヘイズが確認された。
[比較例4]
セリウムとホウ素の元素比B/Ceが6.10となるように、さらに酸化ランタンの代わりに酸化セリウムを用いたこと以外は、比較例1と同様にして、六ホウ化セリウム粒子含有粉末を得た。
The haze of the obtained infrared shielding transparent base material was 1.7%, and it was confirmed that the transparency was very low. Moreover, the maximum value of the diffuse transmission profile in the wavelength region of 360 nm or more and 500 nm or less is 2.2%, and when irradiated with artificial sunlight, blue haze is clearly visible as in Comparative Example 1. confirmed.
[Comparative Example 4]
A cerium hexaboride particle-containing powder was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that cerium oxide was used instead of lanthanum oxide so that the element ratio B / Ce of cerium and boron was 6.10. It was.

得られた六ホウ化セリウム粒子含有粉末の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は0.9質量%であった。また、得られた六ホウ化セリウム粒子の組成についてICPにより評価を行ったところ、一般式CeBにおける、セリウム元素(Ce)に対するホウ素(B)の元素比(B/Ce)であるmは、6.0であることが確認できた。 When the carbon concentration of the obtained cerium hexaboride particle-containing powder was measured by a combustion-infrared absorption method, the carbon content was 0.9% by mass. Also were evaluated by ICP for the composition of the obtained cerium hexaboride particles, in the general formula CeB m, an element ratio of boron (B) with respect to the cerium element (Ce) (B / Ce) m, It was confirmed that it was 6.0.

さらに、得られた六ホウ化セリウム粒子含有粉末について、既述のホウ化物粒子中のBC濃度の評価方法により、六ホウ化セリウム粒子含有粉末のBC濃度を測定したところ、4.4質量%であった。 Furthermore, when the obtained cerium hexaboride particle-containing powder was measured for the B 4 C concentration of the cerium hexaboride particle-containing powder by the method for evaluating the B 4 C concentration in the boride particles described above, 4. It was 4% by mass.

そして、係る六ホウ化セリウム粒子含有粉末を用いた点以外は、実施例1と同様にして、ホウ化物粒子分散液を調製した。また、得られた分散液を用いて実施例1の場合と同様にしてガラス基板上にコーティング層を形成した。そして、得られた赤外線遮蔽透明基材の光学特性を測定した。測定結果を以下の表1に示す。   A boride particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1 except that the cerium hexaboride particle-containing powder was used. Moreover, the coating layer was formed on the glass substrate similarly to the case of Example 1 using the obtained dispersion liquid. And the optical characteristic of the obtained infrared shielding transparent base material was measured. The measurement results are shown in Table 1 below.

得られた赤外線遮蔽透明基材のヘイズは1.9%であり、透明性が非常に低いことが確認された。また、波長360nm以上500nm以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値は2.5%であり、また、人口太陽光を照射したときに、比較例1の場合と同様に目視ではっきりとブルーヘイズが確認された。   The haze of the obtained infrared shielding transparent base material was 1.9%, and it was confirmed that the transparency was very low. Moreover, the maximum value of the diffuse transmission profile in the wavelength region of 360 nm or more and 500 nm or less is 2.5%, and when irradiated with artificial sunlight, blue haze is clearly visible as in Comparative Example 1. confirmed.

Figure 2017122042
実施例1〜実施例7では、固相反応等により得られたホウ化物粒子を、比較的簡単かつ経済的に、平均分散粒子径を100nm以下、特に85nm以下にまで粉砕して微細化することができることが確認できた。また、実施例1〜実施例7では、得られるホウ化物粒子は平均分散粒子径が100nm以下、特に85nm以下となるため、その粒子または分散液を用いて作製したコーティング層を備えた赤外線遮蔽透明基材に人口太陽光を照射しても青白色に着色しない、すなわち、ブルーヘイズが抑制できることが確認される。
Figure 2017122042
In Examples 1 to 7, boride particles obtained by a solid phase reaction or the like are pulverized and refined relatively easily and economically to an average dispersed particle size of 100 nm or less, particularly 85 nm or less. I was able to confirm. In Examples 1 to 7, since the boride particles obtained have an average dispersed particle size of 100 nm or less, particularly 85 nm or less, the infrared shielding transparent provided with a coating layer prepared using the particles or dispersion liquid It is confirmed that even if artificial sunlight is applied to the base material, it is not colored bluish white, that is, blue haze can be suppressed.

従って、実施例1〜実施例7の赤外線遮蔽透明基材を有する赤外線遮蔽光学部材は、建材用の窓ガラスや車の窓ガラス等に適用できることが分かる。   Therefore, it turns out that the infrared shielding optical member which has the infrared shielding transparent base material of Example 1- Example 7 is applicable to the window glass for construction materials, the window glass of a car, etc.

なお、実施例1〜実施例7では、いずれもコーティング層の厚さは10μm程度であり、20μm以下となっている。   In all of Examples 1 to 7, the thickness of the coating layer is about 10 μm and is 20 μm or less.

一方、含有する炭素濃度が0.2質量%より高いホウ化物粒子を原料として用いた比較例1〜比較例4は、粉砕処理20時間では平均分散粒子径が100nmより大きく、拡散透過プロファイルの極大値も1.5%よりも高くなっている。そのため、ブルーヘイズが見られるなど、建材用の窓ガラスや車の窓ガラス等に適用するには問題があった。   On the other hand, in Comparative Examples 1 to 4 using boride particles having a carbon concentration higher than 0.2% by mass as a raw material, the average dispersed particle diameter is larger than 100 nm in 20 hours of pulverization, and the diffusion transmission profile is maximum The value is also higher than 1.5%. For this reason, there is a problem in applying it to window glass for building materials, window glass for cars, etc., such as blue haze.

Claims (9)

透明基材の少なくとも一方の面上にコーティング層を有し、
前記コーティング層は赤外線遮蔽粒子とバインダーとを含み、
前記赤外線遮蔽粒子は、一般式XB(但し、Xは、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sr、Caから選ばれる1種類以上の金属元素、mは一般式におけるホウ素量を示す数字)で表され、燃焼−赤外線吸収法で測定したときの炭素量が0.2質量%以下のホウ化物粒子である赤外線遮蔽透明基材。
Having a coating layer on at least one surface of the transparent substrate;
The coating layer includes infrared shielding particles and a binder,
The infrared shielding particles have the general formula XB m (where X is Y, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Sr, and Ca. Infrared which is a boride particle represented by one or more selected metal elements, m is a number indicating the amount of boron in the general formula), and the carbon content is 0.2% by mass or less as measured by a combustion-infrared absorption method Shielding transparent substrate.
前記一般式XBにおけるmが、4.0以上6.2以下である請求項1に記載の赤外線遮蔽透明基材。 The infrared shielding transparent substrate according to claim 1, wherein m in the general formula XBm is 4.0 or more and 6.2 or less. ホウ化物粒子に含まれるBCの量が1.0質量%以下である請求項1または2に記載の赤外線遮蔽透明基材。 The infrared shielding transparent substrate according to claim 1 or 2, wherein the amount of B 4 C contained in the boride particles is 1.0 mass% or less. 前記ホウ化物粒子の平均分散粒子径が1nm以上100nm以下である請求項1乃至3のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材。   4. The infrared shielding transparent base material according to claim 1, wherein the boride particles have an average dispersed particle diameter of 1 nm to 100 nm. 前記バインダーが、紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、常温硬化樹脂から選択される1種類以上を含む請求項1乃至4のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材。   The infrared shielding transparent substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein the binder includes one or more selected from an ultraviolet curable resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a room temperature curable resin. 前記コーティング層の厚さが20μm以下である請求項1乃至5のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材。   The infrared shielding transparent substrate according to claim 1, wherein the coating layer has a thickness of 20 μm or less. 前記コーティング層の可視光透過率を45%以上55%以下の範囲に設定した場合に、波長360nm以上500nm以下の領域における拡散透過プロファイルの極大値が1.5%以下である請求項1乃至6のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材。   The maximum value of the diffuse transmission profile in a region of a wavelength of 360 nm or more and 500 nm or less is 1.5% or less when the visible light transmittance of the coating layer is set in a range of 45% or more and 55% or less. The infrared shielding transparent base material according to any one of the above. 前記透明基材が、透明フィルム基材または透明ガラス基材である請求項1乃至7のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材。   The infrared shielding transparent substrate according to any one of claims 1 to 7, wherein the transparent substrate is a transparent film substrate or a transparent glass substrate. 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の赤外線遮蔽透明基材を含む赤外線遮蔽光学部材。   The infrared shielding optical member containing the infrared shielding transparent base material as described in any one of Claims 1 thru | or 8.
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