JP2017112588A - Power amplifier circuit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電力増幅回路に関する。 The present invention relates to a power amplifier circuit.
携帯電話等の移動体通信機においては、基地局へ送信する無線周波数(RF:Radio Frequency)信号の電力を増幅するために電力増幅回路が用いられる。電力増幅回路では、増幅素子として、ヘテロ接合バイポーラトランジスタ(HBT:Heterojunction Bipolar Transistor)等のバイポーラトランジスタが用いられる。 In a mobile communication device such as a mobile phone, a power amplifier circuit is used to amplify the power of a radio frequency (RF) signal transmitted to a base station. In the power amplifier circuit, a bipolar transistor such as a heterojunction bipolar transistor (HBT) is used as an amplifying element.
バイポーラトランジスタでは、ベース・エミッタ間電圧を一定で駆動すると、温度上昇に伴ってコレクタ電流が増加していくことが知られている。コレクタ電流の増加によって消費電力が増加すると、素子の温度が上昇し、これによってさらにコレクタ電流が増加するという正帰還(熱暴走)が発生し得る。そのため、電力増幅回路にバイポーラトランジスタを用いる場合、バイポーラトランジスタの熱暴走を抑制することが求められる。例えば、特許文献1には、バイポーラトランジスタの温度変化を温度制御素子に伝達するために、熱伝導の良好な金属を使用した熱伝導配線を使用し、バイポーラトランジスタに供給されるバイアス電圧を制御することによって熱暴走を抑制する構成が開示されている。
In bipolar transistors, it is known that when the base-emitter voltage is driven at a constant level, the collector current increases as the temperature rises. When the power consumption increases due to the increase in the collector current, the temperature of the element rises, which may cause a positive feedback (thermal runaway) in which the collector current further increases. Therefore, when using a bipolar transistor in the power amplifier circuit, it is required to suppress thermal runaway of the bipolar transistor. For example, in
特許文献1に開示された構成では、温度制御素子に伝達する時間を早くするため、熱伝導配線を使用し、熱暴走を抑制しているが、この構成の対策は、コストアップにつながる。加えて、電力増幅回路では、複数の単位トランジスタ(「フィンガー」ともいう。)により構成されるバイポーラトランジスタが用いられることがある。このようなバイポーラトランジスタでは、素子内の温度分布が不均一になることがある。具体的には、素子の中心付近の温度が高くなる一方、素子の外縁付近の温度が低くなる。そのため、素子の中心付近に形成された単位トランジスタの動作特性と、素子の外縁付近に形成された単位トランジスタの動作特性とに差異が生じ、バイポーラトランジスタの歪み特性が劣化することとなる。特許文献1には、このように複数の単位トランジスタにより構成されるバイポーラトランジスタにおいて、素子内の温度分布を均一化する手法は開示されていない。
In the configuration disclosed in
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、複数の単位トランジスタにより構成されるバイポーラトランジスタを備える電力増幅回路において、バイポーラトランジスタにおける温度分布の均一性を向上させることを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to improve the uniformity of temperature distribution in a bipolar transistor in a power amplifier circuit including a bipolar transistor composed of a plurality of unit transistors.
本発明の一側面に係る電力増幅回路は、第1の信号を増幅して第2の信号を出力する第1の増幅トランジスタと、第1の増幅トランジスタにバイアス電圧又はバイアス電流を供給するバイアス回路と、を備え、第1の増幅トランジスタは、矩形領域に形成された複数の単位トランジスタを含み、バイアス回路は、複数の単位トランジスタのうちの第1のグループの単位トランジスタのベースに第1のバイアス電圧又は第1のバイアス電流を供給する第1のバイアストランジスタと、複数の単位トランジスタのうちの第2のグループの単位トランジスタのベースに第2のバイアス電圧又は第2のバイアス電流を供給する第2のバイアストランジスタと、温度の上昇に伴って低下する第1の電圧を第1のバイアストランジスタのベースに供給する第1の電圧供給回路と、温度の上昇に伴って低下する第2の電圧を第2のバイアストランジスタのベースに供給する第2の電圧供給回路と、を含み、第2の電圧供給回路は、矩形領域の内部に形成される。 A power amplifier circuit according to one aspect of the present invention includes a first amplifier transistor that amplifies a first signal and outputs a second signal, and a bias circuit that supplies a bias voltage or a bias current to the first amplifier transistor And the first amplifying transistor includes a plurality of unit transistors formed in a rectangular region, and the bias circuit includes a first bias at a base of the first group of unit transistors of the plurality of unit transistors. A first bias transistor that supplies a voltage or a first bias current, and a second bias transistor that supplies a second bias voltage or a second bias current to the base of a second group of unit transistors of the plurality of unit transistors. And a first voltage that decreases with increasing temperature are supplied to the base of the first bias transistor. 1 voltage supply circuit, and a second voltage supply circuit that supplies a second voltage that decreases as the temperature rises to the base of the second bias transistor. The second voltage supply circuit is rectangular. It is formed inside the region.
本発明によれば、複数の単位トランジスタにより構成されるバイポーラトランジスタを備える電力増幅回路において、バイポーラトランジスタにおける温度分布の均一性を向上させることが可能となる。 According to the present invention, in a power amplifier circuit including a bipolar transistor composed of a plurality of unit transistors, it is possible to improve the uniformity of temperature distribution in the bipolar transistor.
以下、図面を参照して本発明の一実施形態について説明する。図1は、本発明の一実施形態である電力増幅回路100の構成を示す図である。電力増幅回路100は、例えば、携帯電話等の移動体通信機において、基地局に送信するRF信号の電力を増幅するための集積回路である。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a
図1に示すように、電力増幅回路100は、電力増幅器110,120A,120B、バイアス回路130,140A,140B、整合回路(MN:Matching Network)150,160、及びインダクタ170,180を備える。
As shown in FIG. 1, the
電力増幅器110,120A,120Bは、二段の増幅回路を構成している。電力増幅器110には、インダクタ170を介して電源電圧Vccが供給される。また、電力増幅器120A,120Bには、インダクタ180を介して電源電圧Vccが供給される。電力増幅器110は、RF信号RFin1(第3の信号)を増幅し、増幅信号RFout1(第1の信号)を出力する。電力増幅器120A,120Bは、RF信号RFin2(RFout1)(第1の信号)を増幅し、増幅信号RFout2(第2の信号)を出力する。電力増幅器120A,120Bは、並列に接続されている。電力増幅器120Aは、比較的低い電力レベルで動作するローパワーモード(LPM)(第1の電力モード)及び比較的高い電力レベルで動作するハイパワーモード(HPM)(第2の電力モード)のいずれにおいてもオンとなる。他方、電力増幅器120Bは、ローパワーモードの場合はオフとなり、ハイパワーモードの場合にオンとなる。従って、電力増幅回路100では、ローパワーモードの場合は、電力増幅器110,120Aによって増幅が行われ、ハイパワーモードの場合は、電力増幅器110,120A,120Bによって増幅が行われる。電力増幅器120A,120Bは、複数の単位トランジスタ(「フィンガー」ともいう。)を備えるバイポーラトランジスタ(例えばHBT)を用いて構成されている。当該バイポーラトランジスタは、例えば、16個の単位トランジスタを備え、電力増幅器120Aは4個の単位トランジスタにより構成され、電力増幅器120Bは12個の単位トランジスタにより構成される。なお、ここで示した単位トランジスタの数は一例であり、これに限定されない。
The
バイアス回路130,140A,140Bは、それぞれ、電力増幅器110,120A,120Bにバイアス電圧又はバイアス電流を供給するための回路である。バイアス回路130,140A,140Bには、バッテリ電圧Vbatが供給される。バイアス回路130は、バイアス制御電圧Vbias1に基づいて、電力増幅器110にバイアス電圧又はバイアス電流を供給する。同様に、バイアス回路140A,140Bは、それぞれ、バイアス制御電圧Vbias2,Vbias3に基づいて、電力増幅器120A,120Bにバイアス電圧又はバイアス電流を供給する。ローパワーモードの場合、バイアス回路140Bが電力増幅器120Bにバイアス電圧又はバイアス電流を供給しないことにより、電力増幅器120Bがオフとなる。なお、電力増幅器120Bをオフとするための仕組みはこれに限られない。例えば、電力増幅器120Bへの電源電圧又は接地電圧の供給を停止することにより、電力増幅器120Bをオフとしてもよい。
The
整合回路150,160は、回路間のインピーダンスを整合させるために設けられている。整合回路150,160は、例えば、インダクタやキャパシタを用いて構成される。
Matching
図2は、電力増幅器120A,120B及びバイアス回路140A,140Bの構成例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of the
電力増幅器120A,120Bは、複数の単位トランジスタにより構成されるバイポーラトランジスタ200(第1の増幅トランジスタ)を用いて構成されている。電力増幅器120Aは、複数の単位トランジスタのうちの第1のグループ(例えば4個)の単位トランジスタ210A、抵抗器211A、及びキャパシタ212Aを備える。同様に、電力増幅器120Bは、複数の単位トランジスタのうちの第2のグループ(例えば12個)の単位トランジスタ210B、抵抗器211B、及びキャパシタ212Bを備える。
The
第1のグループの単位トランジスタ210Aは、コレクタに、インダクタ180を介して電源電圧Vccが供給され、ベースに、キャパシタ212Aを介してRF信号RFin2が供給され、エミッタが接地される。また、第1のグループの単位トランジスタ210Aのベースには、抵抗器211Aを介してバイアス電圧又はバイアス電流が供給される。第2のグループの単位トランジスタ210Bは、コレクタに、インダクタ180を介して電源電圧Vccが供給され、ベースに、キャパシタ212Bを介してRF信号RFin2が供給され、エミッタが接地される。また、第2のグループの単位トランジスタ210Bのベースには、抵抗器211Bを介してバイアス電圧又はバイアス電流が供給される。これにより、バイポーラトランジスタ200のコレクタから増幅信号RFout2が出力される。
In the first group of
バイアス回路140Aは、バイポーラトランジスタ220A(例えばHBT)、電圧供給回路221A、キャパシタ222A、及び抵抗器223Aを備える。
The
バイポーラトランジスタ220A(第1のバイアストランジスタ)は、コレクタにバッテリ電圧Vbatが供給され、ベースに電圧供給回路221Aから電圧(第1の電圧)が供給され、エミッタから、抵抗器211Aを介して、第1のグループの単位トランジスタ210Aのベースにバイアス電圧(第1のバイアス電圧)又はバイアス電流(第1のバイアス電流)を供給する。
In the
電圧供給回路221A(第1の電圧供給回路)は、バイアス制御電圧Vbias2に基づいて、バイポーラトランジスタ220Aのベース電圧を制御する。具体的には、電圧供給回路221Aは、ダイオード230A(第1のダイオード)及びダイオード231A(第2のダイオード)を備える。ダイオード230A,231Aは直列接続され、ダイオード230Aのアノードがバイポーラトランジスタ220Aのベースに接続され、ダイオード231Aのカソードが接地される。キャパシタ222Aは、ダイオード230A,231Aと並列に接続される。また、ダイオード230Aのアノードには、抵抗器223Aを介してバイアス制御電圧Vbias2が供給される。これにより、ダイオード230Aのアノードには、ダイオード230A,231Aの順方向電圧に応じた電圧(第1の電圧)が生成され、この電圧が、バイポーラトランジスタ220Aのベースに供給される。この電圧は、ダイオード230A,231Aの順方向電圧の特性により、温度の上昇に伴い低下する。キャパシタ222Aは、電圧供給回路221Aにより供給される電圧を安定させるために設けられている。なお、電圧供給回路221Aにおけるダイオード230A,231Aを、それぞれ、D1,D2と表記することがある。ダイオード230A,231Aは、それぞれ、ダイオード接続されたバイポーラトランジスタにより構成することができる。ここでは、電圧供給回路221Aを、ダイオードを用いて構成する例を示したが、電圧供給回路221Aを構成する素子はこれに限られない。
The
バイアス回路140Bは、バイポーラトランジスタ220B(例えばHBT)、電圧供給回路221B、キャパシタ222B、及び抵抗器223Bを備える。
The
バイポーラトランジスタ220B(第2のバイアストランジスタ)は、コレクタにバッテリ電圧Vbatが供給され、ベースに電圧供給回路221Bから電圧(第2の電圧)が供給され、エミッタから、抵抗器211Bを介して、第2のグループの単位トランジスタ210Bのベースにバイアス電圧(第2のバイアス電圧)又はバイアス電流(第2のバイアス電流)を供給する。
In the
電圧供給回路221B(第2の電圧供給回路)は、バイアス制御電圧Vbias3に基づいて、バイポーラトランジスタ220Bのベース電圧を制御する。具体的には、電圧供給回路221Bは、ダイオード230B(第3のダイオード)及びダイオード231B(第4のダイオード)を備える。ダイオード230B,231Bは直列接続され、ダイオード230Bのアノードがバイポーラトランジスタ220Bのベースに接続され、ダイオード231Bのカソードが接地される。キャパシタ222Bは、ダイオード230B,231Bと並列に接続される。また、ダイオード230Bのアノードには、抵抗器223Bを介してバイアス制御電圧Vbias3が供給される。これにより、ダイオード230Bのアノードには、ダイオード230B,231Bの順方向電圧に応じた電圧(第2の電圧)が生成され、この電圧が、バイポーラトランジスタ220Bのベースに供給される。この電圧は、ダイオード230B,231Bの順方向電圧の特性により、温度の上昇に伴い低下する。キャパシタ222Bは、電圧供給回路221Bにより供給される電圧を安定させるために設けられている。なお、電圧供給回路221Bにおけるダイオード230B,231Bを、それぞれ、D1,D2と表記することがある。ダイオード230B,231Bは、それぞれ、ダイオード接続されたバイポーラトランジスタにより構成することができる。ここでは、電圧供給回路221Bを、ダイオードを用いて構成する例を示したが、電圧供給回路221Bを構成する素子はこれに限られない。
The
図2では、電力増幅器120A,120B及びバイアス回路140A,140Bの構成を説明したが、電力増幅器110及びバイアス回路130も同様の構成である。即ち、電力増幅器110は、電力増幅器120A,120Bと同様に、増幅素子としてバイポーラトランジスタ(第2の増幅トランジスタ)を備える。
Although the configuration of the
図3Aは、電力増幅回路100のレイアウトの一例を示す図である。なお、図3に示すレイアウトは概略であり、電力増幅回路100の全ての構成を示しているものではない。
FIG. 3A is a diagram illustrating an example of the layout of the
図3Aに示すように、電力増幅回路100では、バイアス回路140Aの一部である電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外部に設けられている。他方、バイアス回路140Bの一部である電圧供給回路221Bは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の内部に設けられている。また、詳細は後述するが、電力増幅器120Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心(矩形領域の2つの対角線の交点)を含まない領域(第1のサブ領域)に形成され、電力増幅器120Bは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心を含む領域(第2のサブ領域)に形成されている。なお、電力増幅器120Aが矩形領域の中心を含まない領域に形成されているとは、電力増幅器120Aを構成するバイポーラトランジスタの一部が矩形領域の中心に形成されていないことである。また、電力増幅器120Bが矩形領域の中心を含む領域に形成されているとは、電力増幅器120Bを構成するバイポーラトランジスタの一部が矩形領域の中心に形成されていることとする。
As shown in FIG. 3A, in the
バイポーラトランジスタ200は、動作に伴い温度が上昇する。温度上昇は、特に、ハイパワーモードの動作時に顕著である。温度上昇により、バイポーラトランジスタ200のコレクタ電流が増加すると、さらにバイポーラトランジスタ200の温度が上昇し、熱暴走を引き起こす可能性がある。そこで、電力増幅回路100では、電圧供給回路221A,221Bによって熱暴走を抑制している。
The temperature of the
バイポーラトランジスタ200の温度が上昇すると、電圧供給回路221Bの温度が上昇する。それに伴い、ダイオード230B,231Bの順方向電圧が下がり、バイポーラトランジスタ220Bのベースに供給される電圧が下がる。これにより、電力増幅器120Bに供給されるバイアス電圧又はバイアス電流が低下し、バイポーラトランジスタ200の温度上昇が抑制される。熱によるダイオード230B,231Bの順方向電圧が下がることを増幅器と電圧供給回路との熱結合と呼ぶ。
When the temperature of the
ここで、バイポーラトランジスタ200の温度分布は、電圧供給回路221A,221Bによる制御を無視すると、素子の中心付近の温度が高くなる一方、素子の外縁付近の温度が低くなる。即ち、バイポーラトランジスタ200では、電力増幅器120Aの温度が比較的低くなる。そこで、本実施形態では、電圧供給回路221Bをバイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の内部に設ける一方、電圧供給回路221Aをバイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外部に設けている。このようなレイアウトにより、電圧供給回路221Aの温度は、電圧供給回路221Bの温度よりも低くなる。従って、電力増幅器120Bと比較して、電力増幅器120Aに供給されるバイアス電圧又はバイアス電流の低下が抑制される。これにより、電力増幅器120Aが形成されている領域の温度低下が抑制され、バイポーラトランジスタ200全体における温度分布の均一性を向上させることができる。
Here, in the temperature distribution of the
特に、電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域に隣接して形成されると好ましい。例えば、図3Aに示すレイアウトでは、電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外縁と、バイアス回路140Aのバイポーラトランジスタ220Aとの間に形成されている。バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域に隣接する領域は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域内よりは低温であるものの、バイポーラトランジスタ200の温度上昇に伴い、温度が上昇する。これにより、電圧供給回路221Aの温度が上昇し、電力増幅器120Aに供給されるバイアス電圧又はバイアス電流が低下し、熱暴走を抑制することができる。
In particular, the
電圧供給回路221Aは、図3Aに示す領域に限られず、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域に隣接する任意の領域に形成してもよい。例えば、図3Bに示すように、電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外縁と、電力増幅器110等の他の素子との間の領域300に形成してもよい。また例えば、図3Cに示すように、電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外縁と、ワイヤボンディング用の端子310〜313との間の領域320に形成してもよい。なお、電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域に隣接する領域とは別の領域に形成されてもよい。例えば、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域と、電圧供給回路221が形成された領域との間に、別の素子が形成されてもよい。
The
図4は、電力増幅器120A,120B及びバイアス回路140A,140Bの詳細レイアウトの一例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a detailed layout of the
図4には、バイポーラトランジスタ200を構成する16個の単位トランジスタ(フィンガー)F1〜F16が示されている。16個の単位トランジスタは、2列(F1〜F8及びF9〜F16)に整列されて形成されている。電力増幅器120Aは、4個の単位トランジスタF1,F2,F9,F10を含む。電力増幅器120Bは、12個の単位トランジスタF3〜F8,F11〜F16を含む。単位トランジスタF1,F2,F9,F10は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心を含まない領域(第1のサブ領域)に形成されている。単位トランジスタF3〜F8,F11〜F16は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心を含む領域(第2のサブ領域)に形成されている。
FIG. 4 shows 16 unit transistors (fingers) F1 to F16 constituting the
各単位トランジスタのベースには、RF入力配線400を介してRF信号RFin2が供給される。電力増幅器120Aの単位トランジスタF1,F2,F9,F10のベースには、バイポーラトランジスタ220Aから、配線410を介してバイアス電圧又はバイアス電流が供給される。電力増幅器120Bの単位トランジスタF3〜F8,F11〜F16のベースには、バイポーラトランジスタ220Bから、配線420を介してバイアス電圧又はバイアス電流が供給される。各単位トランジスタのコレクタは、コレクタ配線430に接続される。各単位トランジスタのエミッタは、エミッタ配線440に接続され、バイアホール450を介して接地される。なお、ここに示した単位トランジスタの数や列数は一例であり、これに限定されない。
An RF signal RFin2 is supplied to the base of each unit transistor via the
前述したように、電圧供給回路221A(ダイオード230A,231A)は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外部に形成されている。より具体的には、電圧供給回路221A(ダイオード230A,231A)は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外縁から距離dの位置に形成されている。他方、電圧供給回路221B(ダイオード230B,231B)は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の内部に形成されている。このようなレイアウトにより、前述のとおり、バイポーラトランジスタ200の温度分布の均一性を向上させることが可能となる。
As described above, the
また、図4に示すように、電圧供給回路221Aが形成されていない側の列の単位トランジスタF1〜F8は、電圧供給回路221Aが形成されている側の列の単位トランジスタF9〜F16と対称の配列とすることができる。これにより、熱源である単位トランジスタF1〜F16が、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心を基準として略点対称に配置され、バイポーラトランジスタ200の温度分布の均一性を向上させることが可能となる。2列以上の構成においても同様である。
Further, as shown in FIG. 4, the unit transistors F1 to F8 in the column where the
また、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域内の空き領域に他の素子を形成してもよい。例えば、単位トランジスタF4,F5の間の領域に、保護素子を形成してもよい。このように、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域内の空き領域に他の素子を形成することにより、電力増幅回路100のチップサイズを小さくすることが可能となる。
Further, another element may be formed in an empty area in the rectangular area where the
図5は、図4に示すA−A’線での断面(単位トランジスタの断面)の一例を示す図である。単位トランジスタは、サブコレクタ500、コレクタ510、コレクタ電極511、ベース520、ベース電極521、エミッタ530、及びエミッタ電極531を含む。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a cross section (cross section of a unit transistor) taken along line A-A ′ illustrated in FIG. 4. The unit transistor includes a
サブコレクタ500は、例えば、ヒ化ガリウム(GaAs)基板540上に形成されている。コレクタ510及びコレクタ電極511は、サブコレクタ500上に形成されている。ベース520は、コレクタ510上に形成されている。ベース電極521は、ベース520上に形成されている。コレクタ電極511上には、コレクタ配線550及び図4に示したコレクタ配線430が積層されている。エミッタ電極531は、エミッタ530上に形成されている。エミッタ電極531上には、図4に示したエミッタ配線440が積層されている。
The
図6は、図4に示すB−B’線での断面の一例を示す図である。エミッタ配線440は、基板540の表面上に形成されている。絶縁樹脂膜600は、エミッタ配線440上に形成されている。コレクタ配線430は、絶縁樹脂膜600上に形成されている。バイアホール450は、基板540の裏面からエミッタ配線440に達するように形成されている。そして、バイアホール450には、接地に接続される配線610が形成されている。
FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a cross section taken along line B-B ′ illustrated in FIG. 4. The
図7及び図8は、電力増幅回路100における温度分布のシミュレーション結果の一例を示す図である。
7 and 8 are diagrams illustrating examples of simulation results of temperature distribution in the
図7は、各単位トランジスタの温度を示す図である。図7に示すように、16個の単位トランジスタ(F1〜F16)が、2列(F1〜F8及びF9〜F16)に配列されている。このうち、単位トランジスタF1,F2,F9,F10が、電力増幅器120A用の単位トランジスタである。電圧供給回路221A(ダイオード230A,231A)は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外縁から40μmの位置に形成されている。電圧供給回路221B(ダイオード230B,231B)は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心付近(単位トランジスタF12,F13の間)に形成されている。
FIG. 7 is a diagram showing the temperature of each unit transistor. As shown in FIG. 7, 16 unit transistors (F1 to F16) are arranged in two rows (F1 to F8 and F9 to F16). Among these, the unit transistors F1, F2, F9, and F10 are unit transistors for the
図7には、電力増幅回路100をハイパワーモードで動作させた場合(室温25度)の各単位トランジスタの温度が示されている。図7に示すように、単位トランジスタF1,F2,F9,F10の温度は、中心付近の単位トランジスタ(例えば、F4,F5,F12,F13)の温度と同程度となっている。
FIG. 7 shows the temperature of each unit transistor when the
図8は、各単位トランジスタの熱抵抗を示す図である。横軸は単位トランジスタの位置、縦軸は熱抵抗(℃/W)を示している。なお、図8において、「分割あり」と示されているグラフが、電力増幅回路100のシミュレーション結果である。また、図8において、「分割なし」と示されているグラフは、電圧供給回路221A(ダイオード230A,231A)を、電圧供給回路221B(ダイオード230B,231B)と同様にバイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の内部に形成した場合(比較例)のシミュレーション結果である。図8に示すように、電力増幅回路100では、比較例よりも、単位トランジスタF1〜F16における熱抵抗のばらつきが低減されていることがわかる。
FIG. 8 is a diagram showing the thermal resistance of each unit transistor. The horizontal axis indicates the position of the unit transistor, and the vertical axis indicates the thermal resistance (° C./W). In FIG. 8, a graph indicated as “with division” is a simulation result of the
図9は、電力増幅回路100における温度分布のシミュレーション結果の他の一例を示す図である。図9には、電力増幅回路100をハイパワーモードで動作させた場合(室温25度)の各単位トランジスタの温度が示されている。図9では、16個の単位トランジスタ(F1〜F16)が、1列に配列されている。このうち、単位トランジスタF1,F2,F15,F16が、電力増幅器120A用の単位トランジスタである。電圧供給回路221A(ダイオード230A,231A)は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外縁から150μmの位置に形成されている。電圧供給回路221B(ダイオード230B,231B)は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心付近(単位トランジスタF8,F9の間)に形成されている。この例においても、単位トランジスタF1,F2,F15,F16の温度は、中心付近の単位トランジスタ(例えば、F8,F9)の温度と同程度となっている。
FIG. 9 is a diagram illustrating another example of the simulation result of the temperature distribution in the
図10は、電力増幅回路100における温度分布のシミュレーション結果の他の一例を示す図である。図10には、電力増幅回路100をハイパワーモードで動作させた場合(室温25度)の各単位トランジスタの温度が示されている。図10では、16個の単位トランジスタ(F1〜F16)が、4列(F1〜F4、F5〜F8、F9〜F12、及びF13〜F16)に配列されている。このうち、単位トランジスタF1,F2,F13,F14が、電力増幅器120A用の単位トランジスタである。電圧供給回路221A(ダイオード230A,231A)は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外縁から60μmの位置に形成されている。電圧供給回路221B(ダイオード230B,231B)は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心付近(単位トランジスタF6,F7の間)に形成されている。この例においても、単位トランジスタF1,F2,F13,F14の温度は、中心付近の単位トランジスタ(例えば、F6,F7,F10,F11)の温度と同程度となっている。
FIG. 10 is a diagram illustrating another example of the simulation result of the temperature distribution in the
図11は、図7、図9、及び図10に示した配列(2列配置、1列配置、及び4列配置)において、電圧供給回路221A(ダイオード230A,231A)の位置を変化させた場合のシミュレーション結果の一例を示す図である。
FIG. 11 shows a case where the position of the
図11において、横軸は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域における最高温度Tmaxに対する、電圧供給回路221A(ダイオード230A,231A)が形成された位置の温度(Tave(D1,D2))の割合(%)を示している。また、縦軸は、単位トランジスタの熱抵抗の平均(ave)に対する、単位トランジスタの熱抵抗の標準偏差(σ)の割合(%)を示している。なお、図11において、横軸の値が90%付近のデータは、図8と同様に「分割なし」(比較例)のシミュレーション結果である。
In FIG. 11, the horizontal axis represents the ratio of the temperature (Tave (D1, D2)) at the position where the
図11のシミュレーション結果からも、単位トランジスタの配列によらず、比較例の場合よりも、熱抵抗のばらつきが低減されている、即ち、温度分布の均一性が向上していることがわかる。特に、横軸の値が60%以上75%以下の範囲において、良好な結果が得られていることがわかる。 From the simulation results of FIG. 11, it can be seen that the variation in thermal resistance is reduced, that is, the uniformity of the temperature distribution is improved, compared to the comparative example, regardless of the arrangement of the unit transistors. In particular, it can be seen that good results are obtained when the value on the horizontal axis is in the range of 60% to 75%.
図12は、図9に示した配列(1列配置)において、単位トランジスタ間の距離(ピッチ)を変化させた場合のシミュレーション結果の一例を示す図である。横軸及び縦軸は、図11と同じである。図12には、ピッチが30μm、35μm、及び40μmの3種類の場合のシミュレーション結果が示されている。いずれのピッチにおいても、横軸の値が60%以上75%以下の範囲において、良好な結果が得られていることがわかる。 FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a simulation result when the distance (pitch) between unit transistors is changed in the array (arranged in one row) illustrated in FIG. 9. The horizontal and vertical axes are the same as in FIG. FIG. 12 shows simulation results for three types of pitches of 30 μm, 35 μm, and 40 μm. It can be seen that good results are obtained at any pitch when the value on the horizontal axis is in the range of 60% to 75%.
以上、本発明の例示的な実施形態について説明した。電力増幅回路100では、電力増幅器120Aを構成する第1のグループの単位トランジスタ210Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域において、当該領域の中心を含まない領域(第1のサブ領域)に形成されている。また、電力増幅器120Bを構成する第2のグループの単位トランジスタ210Bは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域において、当該領域の中心を含む領域(第2のサブ領域)に形成されている。そして、電力増幅器120Aに供給されるバイアス電圧又はバイアス電流を制御する電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外部に形成され、電力増幅器120Bに供給されるバイアス電圧又はバイアス電流を制御する電圧供給回路221Bは、当該領域の内部に形成されている。
The exemplary embodiments of the present invention have been described above. In the
このようなレイアウトにより、電圧供給回路221Aの温度は、電圧供給回路221Bの温度よりも低くなる。従って、電力増幅器120Bと比較して、電力増幅器120Aに供給されるバイアス電圧又はバイアス電流の低下が抑制される。これにより、電力増幅器120Aが形成されている領域(バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心を含まない領域)の温度低下が抑制され、バイポーラトランジスタ200における温度分布の均一性を向上させることができる。
With such a layout, the temperature of the
また、電力増幅回路100では、電圧供給回路221Bは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心を含む領域(第2のサブ領域)に形成されている。バイポーラトランジスタ200では、特に中心付近が高温となる傾向にある。そのため、電圧供給回路221Bをバイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の中心付近に形成することにより、バイポーラトランジスタ200の熱暴走の抑制効果を高めることができる。
In the
また、電力増幅回路100では、電力増幅器120Aを構成する単位トランジスタ(フィンガー)の数が、電力増幅器120Bを構成する単位トランジスタ(フィンガー)の数より少ない。そのため、温度低下が抑制される単位トランジスタ(フィンガー)の数が比較的少ないため、バイポーラトランジスタ200全体における熱暴走の抑制効果の維持が容易となる。
In the
また、電力増幅回路100では、電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域に隣接して形成される。バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域に隣接する領域は、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域内部よりは低温であるものの、バイポーラトランジスタ200の温度上昇に伴い、温度が上昇する。これにより、電圧供給回路221Aの温度が上昇し、電力増幅器120Aに供給されるバイアス電圧が低下し、熱暴走を抑制することができる。
In the
例えば、図3Aに示したように、電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外縁と、バイアス回路140Aのバイポーラトランジスタ220Aとの間に形成することができる。
For example, as shown in FIG. 3A, the
また例えば、図3Bに示したように、電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外縁と、電力増幅器110等の他の素子との間の領域300に形成することができる。
For example, as shown in FIG. 3B, the
また例えば、図3Cに示したように、電圧供給回路221Aは、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域の外縁と、ワイヤボンディング用の端子310〜313との間の領域320にすることができる。
Further, for example, as shown in FIG. 3C, the
特に、図11及び図12に示したように、電圧供給回路221Aを、バイポーラトランジスタ200が形成された矩形領域における最高温度の60%以上75%以下の温度となる位置に形成することにより、温度分布の均一性を向上させることができる。
In particular, as shown in FIGS. 11 and 12, the
また、電力増幅回路100では、電圧供給回路221Aを、直列接続されたダイオード230A,231Aにより構成することができる。同様に、電圧供給回路221Bを、直列接続されたダイオード230B,231Bにより構成することができる。これにより、例えば、抵抗値の大きい抵抗器を用いることなく、熱暴走を抑制することが可能となる。
In the
以上説明した各実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更/改良され得るととともに、本発明にはその等価物も含まれる。即ち、各実施形態に当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。例えば、各実施形態が備える各要素およびその配置、材料、条件、形状、サイズなどは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。また、各実施形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。 Each embodiment described above is for facilitating understanding of the present invention, and is not intended to limit the present invention. The present invention can be changed / improved without departing from the spirit thereof, and the present invention includes equivalents thereof. In other words, those obtained by appropriately modifying the design of each embodiment by those skilled in the art are also included in the scope of the present invention as long as they include the features of the present invention. For example, each element included in each embodiment and its arrangement, material, condition, shape, size, and the like are not limited to those illustrated, and can be changed as appropriate. In addition, each element included in each embodiment can be combined as much as technically possible, and combinations thereof are included in the scope of the present invention as long as they include the features of the present invention.
100 電力増幅回路
110,120A,120B 電力増幅器
130,140A,140B バイアス回路
150,160 整合回路
170,180 インダクタ
200,220A,220B バイポーラトランジスタ
210A 第1のグループの単位トランジスタ
210B 第2のグループの単位トランジスタ
211A,211B,223A,223B 抵抗器
212A,212B,222A,222B キャパシタ
221A,221B 電圧供給回路
230A,230B,231A,231B ダイオード
310,311,312,313 端子
400 RF入力配線
410,420,610 配線
430 コレクタ配線
440,550 エミッタ配線
450 バイアホール
500 サブコレクタ
510 コレクタ
511 コレクタ電極
520 ベース
521 ベース電極
530 エミッタ
531 エミッタ電極
540 基板
600 絶縁樹脂膜
DESCRIPTION OF
Claims (11)
前記第1の増幅トランジスタにバイアス電圧又はバイアス電流を供給するバイアス回路と、
を備え、
前記第1の増幅トランジスタは、矩形領域に形成された複数の単位トランジスタを含み、
前記バイアス回路は、
前記複数の単位トランジスタのうちの第1のグループの単位トランジスタのベースに第1のバイアス電圧又は第1のバイアス電流を供給する第1のバイアストランジスタと、
前記複数の単位トランジスタのうちの第2のグループの単位トランジスタのベースに第2のバイアス電圧又は第2のバイアス電流を供給する第2のバイアストランジスタと、
温度の上昇に伴って低下する第1の電圧を前記第1のバイアストランジスタのベースに供給する第1の電圧供給回路と、
温度の上昇に伴って低下する第2の電圧を前記第2のバイアストランジスタのベースに供給する第2の電圧供給回路と、
を含み、
前記第2の電圧供給回路は、前記矩形領域の内部に形成される、
電力増幅回路。 A first amplification transistor for amplifying the first signal and outputting a second signal;
A bias circuit for supplying a bias voltage or a bias current to the first amplification transistor;
With
The first amplification transistor includes a plurality of unit transistors formed in a rectangular region,
The bias circuit includes:
A first bias transistor for supplying a first bias voltage or a first bias current to a base of a first group of unit transistors of the plurality of unit transistors;
A second bias transistor for supplying a second bias voltage or a second bias current to a base of a second group of unit transistors of the plurality of unit transistors;
A first voltage supply circuit that supplies a first voltage that decreases with an increase in temperature to a base of the first bias transistor;
A second voltage supply circuit for supplying a second voltage, which decreases with increasing temperature, to the base of the second bias transistor;
Including
The second voltage supply circuit is formed inside the rectangular region.
Power amplifier circuit.
前記第1の電圧供給回路は、前記矩形領域の外部に形成される、
電力増幅回路。 The power amplifier circuit according to claim 1,
The first voltage supply circuit is formed outside the rectangular region;
Power amplifier circuit.
前記第1のグループの単位トランジスタは、前記矩形領域の中心を含まない第1のサブ領域に形成され、
前記第2のグループの単位トランジスタは、前記矩形領域の中心を含む第2のサブ領域に形成される、
電力増幅回路。 The power amplifier circuit according to claim 1 or 2,
The first group of unit transistors is formed in a first sub-region not including the center of the rectangular region,
The second group of unit transistors is formed in a second sub-region including the center of the rectangular region.
Power amplifier circuit.
前記第2の電圧供給回路は、前記第2のサブ領域の内部に形成される、
電力増幅回路。 The power amplifier circuit according to claim 3,
The second voltage supply circuit is formed in the second sub-region;
Power amplifier circuit.
前記第1のグループの単位トランジスタの数が、前記第2のグループの単位トランジスタの数より少ない、
電力増幅回路。 The power amplifier circuit according to any one of claims 1 to 4,
The number of unit transistors of the first group is less than the number of unit transistors of the second group;
Power amplifier circuit.
前記第1の電圧供給回路は、前記矩形領域に隣接して形成される、
電力増幅回路。 The power amplifier circuit according to any one of claims 1 to 5,
The first voltage supply circuit is formed adjacent to the rectangular region;
Power amplifier circuit.
前記第1の電圧供給回路は、前記矩形領域の外縁と、前記第1のバイアストランジスタとの間に形成される、
電力増幅回路。 The power amplifier circuit according to claim 6,
The first voltage supply circuit is formed between an outer edge of the rectangular region and the first bias transistor.
Power amplifier circuit.
第3の信号を増幅して前記第1の信号を出力する第2の増幅トランジスタをさらに備え、
前記第1の電圧供給回路は、前記矩形領域の外縁と、前記第2の増幅トランジスタとの間に形成される、
電力増幅回路。 The power amplifier circuit according to claim 6,
A second amplification transistor for amplifying a third signal and outputting the first signal;
The first voltage supply circuit is formed between an outer edge of the rectangular region and the second amplification transistor.
Power amplifier circuit.
ワイヤボンディング用の端子をさらに備え、
前記第1の電圧供給回路は、前記矩形領域の外縁と、前記ワイヤボンディング用の端子との間に形成される、
電力増幅回路。 The power amplifier circuit according to claim 6,
Further equipped with a wire bonding terminal,
The first voltage supply circuit is formed between an outer edge of the rectangular region and the wire bonding terminal.
Power amplifier circuit.
前記第1の電圧供給回路は、前記複数の単位トランジスタが動作している際の前記矩形領域における最高温度の60%以上75%以下の温度となる位置に形成される、
電力増幅回路。 A power amplifier circuit according to any one of claims 1 to 9,
The first voltage supply circuit is formed at a position where the temperature is 60% or more and 75% or less of the maximum temperature in the rectangular region when the plurality of unit transistors are operating.
Power amplifier circuit.
前記第1の電圧供給回路は、
アノードが前記第1のバイアストランジスタのベースに接続された第1のダイオードと、
アノードが前記第1のダイオードのカソードに接続され、カソードが接地される第2のダイオードと、
を含み、
前記第2の電圧供給回路は、
アノードが前記第2のバイアストランジスタのベースに接続された第3のダイオードと、
アノードが前記第3のダイオードのカソードに接続され、カソードが接地される第4のダイオードと、
を含む、
電力増幅回路。 The power amplifier circuit according to any one of claims 1 to 10,
The first voltage supply circuit includes:
A first diode having an anode connected to a base of the first bias transistor;
A second diode having an anode connected to the cathode of the first diode and a cathode grounded;
Including
The second voltage supply circuit includes:
A third diode having an anode connected to the base of the second bias transistor;
A fourth diode having an anode connected to the cathode of the third diode and a cathode grounded;
including,
Power amplifier circuit.
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