JP2017107179A5

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Publication number: JP2017107179A5
Application number: JP2016205699A
Authority: JP
Filing date: 2016-10-20
Publication date: 2018-08-02
Anticipated expiration: 2036-10-20

Description

更に別の実施形態により、マニピュレータ自由度の第１のセットとマニピュレータ自由度の第２のセットとは互いに素なセットである。更に別の実施形態により、第２のセットは、第１のセットよりも少ないマニピュレータ自由度を含む。

図１に記載の実施形態において、投影レンズ２２は１８個の光学要素Ｅ１からＥ１８を有する。光学要素Ｅ１からＥ７及びＥ１０からＥ１８は透過レンズ要素として構成され、光学要素Ｅ８及びＥ９はミラーとして構成される。光学要素Ｅ２、Ｅ３、Ｅ６、Ｅ８、Ｅ１１、及びＥ１６には、それぞれのマニピュレータＭ１からＭ６が割り当てられる。マニピュレータＭ１からＭ４は、いわゆる完全能動マニピュレータ（ＦＡ）であり、その駆動機能は、いかなる制限も受けず、マニピュレータＭ５及びＭ６は、いわゆる半能動的又は部分能動的なマニピュレータ（ＳＡ）である。既に上述のように、半能動マニピュレータは、その寿命にわたって非常に限られた回数の駆動しか実施できず、特に、投影レンズの寿命にわたって完全能動マニピュレータにより実施される予想行程調節回数（寿命性能）は、半能動マニピュレータの寿命性能よりも少なくとも１００倍高い。半能動マニピュレータは、可能なレンズ性能に対して限られた影響のみを有し、主としてレンズの寿命にわたって投影レンズ２２のマニピュレータシステムの範囲を拡張するために機能する。

Claims

マイクロリソグラフィ投影露光装置（１０）であって、
少なくとも１つの光学要素（Ｅ１〜Ｅ１８）及び少なくとも１つのマニピュレータ（Ｍ１〜Ｍ６）を含み、露光放射線（１４）を用いてマスク構造を結像するための投影レンズ（２２）と、
前記投影レンズへの入射時の前記露光放射線の角度分布の少なくとも１つの特性を定める用途特定構造情報（３２）を読み取るための読取デバイス（２８）と、
前記少なくとも１つの光学要素の光学効果に行程に沿った前記少なくとも１つのマニピュレータによる該光学要素の特性の操作によって加えられる変化を定める行程指令（５０）を確立するための、少なくとも２段の最適化で該行程指令を確立するように構成された行程確立デバイス（４０）と、
を含み、
前記最適化の第１の段が、前記投影レンズへの入射時の前記露光放射線の予め定められた標準角度分布に基づく第１の最適化アルゴリズム（７０，８０）を用いて該投影レンズの状態特徴付け（６４，６４ａ）から前記行程指令の近似（７４，８４）を確立するように構成され、
前記最適化の第２の段が、前記用途特定構造情報（３２）を考慮して前記行程指令の前記近似（７４，８４）から第２の最適化アルゴリズム（７６，８６）を用いて該行程指令の最適化結果（５０ａ，５０ｂ）を確立するように構成される、
ことを特徴とする投影露光装置（１０）。
前記用途特定構造情報（３２）は、前記マスク構造の前記結像中に使用される照明モードに関する指示（３６）及び／又は該マスク構造の構造タイプに関する指示（３８）を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。
前記行程指令（５０）は、前記少なくとも１つのマニピュレータ（Ｍ１〜Ｍ６）の複数のマニピュレータ自由度に割り当てられた行程設定値（ｘ₁〜ｘ₆）を含み、該マニピュレータ自由度の第１のセット（ｘ₁〜ｘ₄；ｘ₁〜ｘ₆）に割り当てられた行程設定値が、前記最適化の前記第１の段における最適化変数として機能し、該マニピュレータ自由度の第２のセット（ｘ₃〜ｘ₄；ｘ₁〜ｘ₄）に割り当てられた該行程設定値は、該最適化の前記第２の段における最適化変数として機能する、
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影露光装置。
前記マニピュレータ自由度の前記第１のセット及び該マニピュレータ自由度の前記第２のセットは、互いに素なセットである、
ことを特徴とする請求項３に記載の投影露光装置。
前記第２のセット（ｘ₃〜ｘ₄）は、前記第１のセット（ｘ₁〜ｘ₄）よりも少ないマニピュレータ自由度を含む、
ことを特徴とする請求項４に記載の投影露光装置。
前記第２のマニピュレータ自由度セットは、オーバーレイ自由度のうちの１つに沿った又は複数のオーバーレイ自由度の組合せに沿った前記少なくとも１つのマニピュレータを用いた操作が前記投影レンズ（２２）のオーバーレイ収差の変化をもたらすように選択された該投影レンズのオーバーレイ自由度（ｘ₃，ｘ₄）を含む、
ことを特徴とする請求項５に記載の投影露光装置。
前記投影レンズ（２２）の前記状態特徴付け（６４，６４ａ）は、該投影レンズの前記結像の品質を特徴付ける収差パラメータを含み、前記最適化の前記第２の段は、各場合に該投影レンズのオーバーレイ収差に関連する要素を有する該収差パラメータの部分集合に基づいて達成される、
ことを特徴とする請求項１又は請求項６に記載の投影露光装置。
前記第１の最適化アルゴリズム（７０）は、重み付けパラメータを用いて説明される暗黙制約を含有するチコノフ正則化におけるメリット関数に基づいており、
前記重み付けパラメータの値が、前記第１の最適化アルゴリズムが実行される時に変化しないままに残される、
ことを特徴とする請求項１又は請求項７に記載の投影露光装置。
前記行程確立デバイス（４０）は、前記行程指令（５０ａ）を１秒未満で確立するように構成される、
ことを特徴とする請求項８に記載の投影露光装置。
前記行程確立デバイス（４０）は、保守調節の関連では前記２段最適化を実施し、かつ用途特定構造情報（３２）の異なる項目に対して各場合に前記行程指令の前記近似（８４）から進めて該最適化の前記第２の段を実行するように構成される、
ことを特徴とする請求項９に記載の投影露光装置。
前記マニピュレータ自由度（ｘ₁〜ｘ₆）の各々には、前記投影レンズ（２２）の寿命にわたって性能を発揮することができる関連の該マニピュレータ自由度（ｘ₁〜ｘ₆）に沿った予想最大行程調節回数を指定する予想寿命性能が割り当てられ、該マニピュレータ自由度は、少なくとも１つの部分能動マニピュレータ自由度（ｘ₅，ｘ₆）と少なくとも１つの完全能動マニピュレータ自由度（ｘ₁〜ｘ₄）とを含み、
前記完全能動マニピュレータ自由度の予想寿命性能は、前記部分能動マニピュレータ自由度（ｘ₅，ｘ₆）の予想寿命性能よりも少なくとも１００倍高いという点で、該部分能動マニピュレータ自由度と該完全能動マニピュレータ自由度とが定義され、
前記少なくとも１つの部分能動マニピュレータ自由度は、前記マニピュレータ自由度の前記第１のセット（ｘ₁〜ｘ₆）によって含まれ、かつ該マニピュレータ自由度の前記第２のセット（ｘ₁〜ｘ₄）によっては含まれない、
ことを特徴とする請求項１０に記載の投影露光装置。
前記用途特定構造情報（３２）に基づいて前記第２の最適化アルゴリズム（８６）を発生させるように構成されたアルゴリズム発生器（９４）を更に含む、
ことを特徴とする請求項１１に記載の投影露光装置。
前記第２の最適化アルゴリズム（８６）は、少なくとも１つの暗黙制約（Ｈ_f，Ｈ_ovl，Ｈ_rms，Ｈ_bf）を含有するメリット関数（８８）に基づいている、
ことを特徴とする請求項１２に記載の投影露光装置。
前記少なくとも１つの暗黙制約は、１つのリソグラフィ像収差又は複数のリソグラフィ像収差の組合せに対する制限を含有し、
リソグラフィ像収差が、前記投影レンズを用いてリソグラフィで発生された前記マスク構造の少なくとも１つの像に基づいて決定可能である、
ことを特徴とする請求項１３に記載の投影露光装置。
マスク構造を結像するために少なくとも１つの光学要素（Ｅ１〜Ｅ１８）と少なくとも１つのマニピュレータ（Ｍ１〜Ｍ６）とを含む投影レンズ（２２）を含むマイクロリソグラフィ投影露光装置（１０）を制御する方法であって、
前記投影レンズへの入射時の露光放射線の角度分布の少なくとも１つの特性を定める用途特定構造情報（３２）を読み取る段階と、
少なくとも２段の最適化において、前記少なくとも１つの光学要素の光学効果に行程に沿った前記少なくとも１つのマニピュレータによる該光学要素の特性の操作によって加えられる変化を定める行程指令（５０）を確立する段階と、
を含み、
前記最適化の第１の段において、前記行程指令の近似（７４，８４）が、前記投影レンズへの入射時の前記露光放射線の予め定められた標準角度分布に基づく第１の最適化アルゴリズム（７０，８０）を用いて該投影レンズの状態特徴付け（６４，６４ａ）から確立され、
前記最適化の第２の段において、第２の最適化アルゴリズム（７６，８６）を用いて、前記行程指令の最適化結果（５０ａ，５０ｂ）が、前記用途特定構造情報（３２）を考慮して該行程指令の前記近似（７４，８４）から確立される、
ことを特徴とする方法。
前記２段最適化は、標準設定の関連では少なくとも１週間の時間間隔で繰り返される、ことを特徴とする請求項１５に記載の方法。
前記２段最適化の繰り返しの前に、該最適化の前記第２の段は、少なくとも一度個別に実施される、
ことを特徴とする請求項１６に記載の方法。