JP2017098413A - Repair method and connection method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a connection method with excellent repairability.SOLUTION: A connection method comprises: a temporal adhesion step; an arrangement step; a heating pressing step; and a repairing step of, when a displacement occurs at a fixed position of a thermal hardening type anisotropic conductive film fixed onto a first circuit member by the temporal adhesion step, performing a light irradiation to the thermal hardening type anisotropic conductive film through an adhesion tape, hardening the thermal hardening type anisotropic conductive film with a light, and further pealing the adhesion tape from the first circuit member with the thermal hardening type anisotropic conductive film after the adhesion tape is adhered to the thermal hardening type anisotropic conductive film.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、異方性導電フィルムを用いた接続におけるリペア方法、及び異方性導電フィルムを用いた接続方法に関する。   The present invention relates to a repair method in connection using an anisotropic conductive film and a connection method using an anisotropic conductive film.

従来より、電子部品を基板と接続する手段として、導電性粒子が分散された熱硬化性樹脂を剥離フィルムに塗布したテープ状の接続材料(例えば、異方性導電フィルム(ACF;Anisotropic Conductive Film))が用いられている。   Conventionally, as a means for connecting an electronic component to a substrate, a tape-like connection material in which a thermosetting resin in which conductive particles are dispersed is applied to a release film (for example, anisotropic conductive film (ACF)) ) Is used.

この異方性導電フィルムは、例えば、フレキシブルプリント基板(FPC)やIC(Integrated Circuit)チップの端子と、LCD(Liquid Crystal Display)パネルのガラス基板上に形成された電極とを接続する場合を始めとして、種々の端子同士を接着すると共に電気的に接続する場合に用いられている。   This anisotropic conductive film starts, for example, when connecting a terminal of a flexible printed circuit (FPC) or IC (Integrated Circuit) chip and an electrode formed on a glass substrate of an LCD (Liquid Crystal Display) panel. In other words, it is used when various terminals are bonded and electrically connected.

このような異方性導電フィルムを用いた接続方法においては、通常、基板に異方性導電フィルムを仮圧着し固定する仮貼工程を行う。そして、仮圧着後の異方性導電フィルムの固定位置に不具合が生じている場合には、異方性導電フィルムを除去して再度仮圧着するリペア処理を行う。   In the connection method using such an anisotropic conductive film, a temporary pasting step is usually performed in which the anisotropic conductive film is temporarily pressed and fixed to the substrate. And when the malfunction has arisen in the fixed position of the anisotropic conductive film after temporary crimping, the repair process which removes an anisotropic conductive film and carries out temporary crimping again is performed.

特に、近年、電気装置の小型化及び高性能化に伴い、電子部品や基板において電極のファインピッチ化が促進されているが、電子部品と基板とのファインピッチ接続においても、良好な接続信頼性を確保しつつ高い接続信頼性を得ることが求められている。   In particular, with recent miniaturization and higher performance of electrical devices, the fine pitch of electrodes has been promoted in electronic components and substrates, but good connection reliability is also achieved in the fine pitch connection between electronic components and substrates. It is required to obtain high connection reliability while securing the above.

ここで、ファインピッチ接続の場合、接続面積は極めて狭小となるため、異方性導電フィルムの仮貼工程においても、仮圧着位置ずれの発生が増え、そのため、仮貼りした異方性導電フィルムを引き剥がすリペア処理も多くなってきている。仮貼り後の段階でも異方性導電フィルムを機械的に引き剥がして配線板の表面を清浄化することができれば、不具合が発生した場合に配線板を再利用することが可能となる。しかし、仮圧着段階の異方性導電フィルムは、機械的に膜強度が充分ではなく、引き剥がしの途中で切断し、スムーズに引き剥がすことができない。   Here, in the case of fine pitch connection, since the connection area becomes extremely small, the occurrence of temporary crimping position shift also increases in the temporary bonding process of the anisotropic conductive film. The repair process to peel off is also increasing. If the anisotropic conductive film can be mechanically peeled off and the surface of the wiring board can be cleaned even after the temporary attachment, the wiring board can be reused when a problem occurs. However, the anisotropic conductive film in the temporary press bonding stage does not have sufficient mechanical strength, and cannot be peeled off smoothly by being cut during the peeling.

そこで、配線板上に接着フィルムを配置する第1の配置工程と、接着フィルムが熱硬化しない温度で加熱して配線板上に接着フィルムを固定する仮圧着工程と、配線板上に固定された接着フィルムの固定位置にずれが生じていない場合には、接着フィルム上に電子部材を配置する第2の配置工程と、接着フィルム上に配置された電子部材を熱加圧して接着フィルムを硬化させ、配線板と電子部材とを圧着させる本圧着工程とを有し、仮圧着工程にて配線板上に固定された接着フィルムの固定位置にずれが生じている場合、接着フィルムを光照射によって硬化させた後、配線板から接着フィルムを剥離し、配線板を第1の配置工程へ戻すリペア工程を有する接続方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかし、この提案の技術では、リペア性が十分ではないという問題がある。
Therefore, a first placement step of placing the adhesive film on the wiring board, a temporary crimping step of fixing the adhesive film on the wiring board by heating at a temperature at which the adhesive film is not thermally cured, and fixing on the wiring board When there is no deviation in the fixing position of the adhesive film, the second placement step of placing the electronic member on the adhesive film and the electronic member placed on the adhesive film are thermally pressed to cure the adhesive film. And a main crimping step for crimping the wiring board and the electronic member, and when the fixing position of the adhesive film fixed on the wiring board is shifted in the temporary crimping step, the adhesive film is cured by light irradiation. Then, a connection method has been proposed that includes a repair process in which the adhesive film is peeled off from the wiring board and the wiring board is returned to the first arrangement process (see, for example, Patent Document 1).
However, this proposed technique has a problem that repairability is not sufficient.

特開2014−096531号公報JP 2014-096531 A

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、リペア性に優れるリペア方法、及び前記リペア方法を含みリペア性に優れる接続方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide a repair method excellent in repairability, and a connection method including the repair method and excellent repairability.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 第1の回路部材の端子と第2の回路部材の端子とを異方性導電接続させる接続方法であって、
前記第1の回路部材の端子上に熱硬化型異方性導電フィルムを配置し、前記熱硬化型異方性導電フィルムを加圧しながら前記熱硬化型異方性導電フィルムが熱硬化しない温度で加熱して前記第1の回路部材上に前記熱硬化型異方性導電フィルムを固定する仮貼工程と、
前記仮貼工程により前記第1の回路部材上に固定された前記熱硬化型異方性導電フィルムの固定位置にずれが生じていない場合には、前記熱硬化型異方性導電フィルム上に前記第2の回路部材を、前記第2の回路部材の端子が前記熱硬化型異方性導電フィルムと接するように配置する配置工程と、
前記第2の回路部材を加熱押圧部材により加熱及び押圧する加熱押圧工程とを含み、
前記仮貼工程により前記第1の回路部材上に固定された前記熱硬化型異方性導電フィルムの固定位置にずれが生じている場合には、前記熱硬化型異方性導電フィルムに粘着テープを貼り付けた後、前記粘着テープ越しで前記熱硬化型異方性導電フィルムに光照射を行い、前記熱硬化型異方性導電フィルムを光硬化させ、更に、前記第1の回路部材から前記熱硬化型異方性導電フィルムとともに前記粘着テープを剥離するリペア工程を含む、
ことを特徴とする接続方法である。
<2> 前記熱硬化型異方性導電フィルムが、光硬化剤を含有する前記<1>に記載の接続方法である。
<3> 前記粘着テープの粘着層が、光硬化性である前記<1>から<2>のいずれかに記載の接続方法である。
<4> 前記熱硬化型異方性導電フィルムが、ラジカル硬化型の異方性導電フィルムである前記<1>から<3>のいずれかに記載の接続方法である。
<5> 前記粘着テープの粘着層が、光ラジカル硬化性である前記<1>から<4>のいずれかに記載の接続方法である。
<6> 仮貼工程により第1の回路部材上に固定された熱硬化型異方性導電フィルムに粘着テープを貼り付けた後、前記粘着テープ越しで前記熱硬化型異方性導電フィルムに光照射を行い、前記熱硬化型異方性導電フィルムを光硬化させ、更に、前記第1の回路部材から前記熱硬化型異方性導電フィルムとともに前記粘着テープを剥離するリペア方法であって、
前記仮貼工程が、前記第1の回路部材の端子上に前記熱硬化型異方性導電フィルムを配置し、前記熱硬化型異方性導電フィルムを加圧しながら前記熱硬化型異方性導電フィルムが熱硬化しない温度で加熱して前記第1の回路部材上に前記熱硬化型異方性導電フィルムを固定する工程である、
ことを特徴とするリペア方法である。
<7> 前記仮貼工程により前記第1の回路部材上に固定された前記熱硬化型異方性導電フィルムの固定位置にずれが生じている場合に行われる前記<6>に記載のリペア方法である。
<8> 前記熱硬化型異方性導電フィルムが、光硬化剤を含有する前記<6>から<7>のいずれかに記載のリペア方法である。
<9> 前記粘着テープの粘着層が、光硬化性である前記<6>から<8>のいずれかに記載のリペア方法である。
<10> 前記熱硬化型異方性導電フィルムが、ラジカル硬化型の異方性導電フィルムである前記<6>から<9>のいずれかに記載のリペア方法である。
<11> 前記粘着テープの粘着層が、光ラジカル硬化性である前記<6>から<10>のいずれかに記載のリペア方法である。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> A connection method for anisotropically connecting a terminal of a first circuit member and a terminal of a second circuit member,
A thermosetting anisotropic conductive film is disposed on a terminal of the first circuit member, and the thermosetting anisotropic conductive film is heated at a temperature at which the thermosetting anisotropic conductive film is not thermoset while pressing the thermosetting anisotropic conductive film. A temporary pasting step of heating and fixing the thermosetting anisotropic conductive film on the first circuit member;
When there is no shift in the fixing position of the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member by the temporary pasting step, the thermosetting anisotropic conductive film is An arrangement step of arranging a second circuit member so that a terminal of the second circuit member is in contact with the thermosetting anisotropic conductive film;
A heating and pressing step of heating and pressing the second circuit member with a heating and pressing member,
When there is a shift in the fixing position of the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member by the temporary pasting step, an adhesive tape is applied to the thermosetting anisotropic conductive film. Then, the thermosetting anisotropic conductive film is irradiated with light through the adhesive tape, the thermosetting anisotropic conductive film is photocured, and further from the first circuit member, A repair step of peeling the adhesive tape together with the thermosetting anisotropic conductive film,
It is the connection method characterized by this.
<2> The connection method according to <1>, wherein the thermosetting anisotropic conductive film contains a photocuring agent.
<3> The connection method according to any one of <1> to <2>, wherein the adhesive layer of the adhesive tape is photocurable.
<4> The connection method according to any one of <1> to <3>, wherein the thermosetting anisotropic conductive film is a radical curable anisotropic conductive film.
<5> The connection method according to any one of <1> to <4>, wherein the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape is photoradical curable.
<6> After sticking the adhesive tape to the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member by the temporary sticking step, light is applied to the thermosetting anisotropic conductive film through the adhesive tape. Irradiation, photocuring the thermosetting anisotropic conductive film, and further repairing the adhesive tape together with the thermosetting anisotropic conductive film from the first circuit member,
The temporary pasting step includes disposing the thermosetting anisotropic conductive film on a terminal of the first circuit member, and pressing the thermosetting anisotropic conductive film while pressing the thermosetting anisotropic conductive film. Heating the film at a temperature at which the film is not thermally cured, and fixing the thermosetting anisotropic conductive film on the first circuit member.
It is the repair method characterized by this.
<7> The repair method according to <6>, which is performed when a shift occurs in a fixing position of the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member by the temporary sticking step. It is.
<8> The repair method according to any one of <6> to <7>, wherein the thermosetting anisotropic conductive film contains a photocuring agent.
<9> The repair method according to any one of <6> to <8>, wherein the adhesive layer of the adhesive tape is photocurable.
<10> The repair method according to any one of <6> to <9>, wherein the thermosetting anisotropic conductive film is a radical curable anisotropic conductive film.
<11> The repair method according to any one of <6> to <10>, wherein the adhesive layer of the adhesive tape is photoradical curable.

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、リペア性に優れるリペア方法、及び前記リペア方法を含みリペア性に優れる接続方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the said various problems in the past can be solved, the said objective can be achieved, and the repair method which is excellent in repair property, and the connection method which is excellent in repair property including the said repair method can be provided.

図1は、本発明の接続方法の一例を説明するためのフローチャートである。FIG. 1 is a flowchart for explaining an example of the connection method of the present invention. 図2Aは、本発明の接続方法の一例を説明するための断面概略図である(その1)。FIG. 2A is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a connection method of the present invention (part 1). 図2Bは、本発明の接続方法の一例を説明するための断面概略図である(その2)。FIG. 2B is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the connection method of the present invention (part 2). 図2Cは、本発明の接続方法の一例を説明するための断面概略図である(その3)。FIG. 2C is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the connection method of the present invention (part 3). 図2Dは、本発明の接続方法の一例を説明するための断面概略図である(その4)。FIG. 2D is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the connection method of the present invention (part 4). 図2Eは、本発明の接続方法の一例を説明するための断面概略図である(その5)。FIG. 2E is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the connection method of the present invention (part 5). 図2Fは、本発明の接続方法の一例を説明するための断面概略図である(その6)。FIG. 2F is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the connection method of the present invention (No. 6). 図2Gは、本発明の接続方法の一例を説明するための断面概略図である(その7)。FIG. 2G is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the connection method of the present invention (No. 7). 図2Hは、本発明の接続方法の一例を説明するための断面概略図である(その8)。FIG. 2H is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the connection method of the present invention (No. 8). 図2Iは、本発明の接続方法の一例を説明するための断面概略図である(その9)。FIG. 2I is a schematic cross-sectional view for explaining an example of the connection method of the present invention (No. 9).

(接続方法)
本発明の接続方法は、仮貼工程と、配置工程と、加熱押圧工程と、リペア工程とを含み、更に必要に応じて、位置ずれ判定工程などのその他の工程を含む。
前記接続方法は、第1の回路部材の端子と第2の回路部材の端子とを異方性導電接続させる方法である。
(Connection method)
The connection method of the present invention includes a temporary sticking step, an arrangement step, a heating and pressing step, and a repair step, and further includes other steps such as a misalignment determination step as necessary.
The connection method is a method in which the terminal of the first circuit member and the terminal of the second circuit member are anisotropically conductively connected.

<第1の回路部材、第2の回路部材>
前記第1の回路部材、及び前記第2の回路部材としては、端子を有し、前記異方性導電フィルムを用いた異方性導電接続の対象となる回路部材であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、端子を有するガラス基板、端子を有するプラスチック基板、IC(Integrated Circuit)、TAB(Tape Automated Bonding)テープ、Flex−on−Glass(フレックスオンガラス、FOG)、Chip−on−Glass(チップオンガラス、COG)、Chip−on−Flex(チップオンフレックス、COF)、Flex−on−Board(フレックスオンボード、FOB)、Flex−on−Flex(フレックスオンフレックス、FOF)、液晶パネルなどが挙げられる。
<First circuit member, second circuit member>
The first circuit member and the second circuit member are not particularly limited as long as they are terminals that have terminals and are subjected to anisotropic conductive connection using the anisotropic conductive film. , Can be appropriately selected according to the purpose, for example, a glass substrate having a terminal, a plastic substrate having a terminal, IC (Integrated Circuit), TAB (Tape Automated Bonding) tape, Flex-on-Glass (flex-on-glass, FOG), Chip-on-Glass (Chip on Glass, COG), Chip-on-Flex (Chip on Flex, COF), Flex-on-Board (Flex-on-Board, FOB), Flex-on-Flex (Flex-on-Flex) Flex, FOF), liquid crystal panel, etc. And the like.

前記端子を有するガラス基板としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)ガラス基板、IZO(Indium Zinc Oxide)ガラス基板、その他のガラスパターン基板などが挙げられる。これらの中でも、ITOガラス基板、IZOガラス基板が好ましい。
前記端子を有するプラスチック基板の材質、構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、端子を有するリジット基板、端子を有するフレキシブル基板などが挙げられる。
前記ICとしては、例えば、フラットパネルディスプレイ(FPD)における液晶画面制御用ICチップなどが挙げられる。
Examples of the glass substrate having the terminal include an ITO (Indium Tin Oxide) glass substrate, an IZO (Indium Zinc Oxide) glass substrate, and other glass pattern substrates. Among these, an ITO glass substrate and an IZO glass substrate are preferable.
There is no restriction | limiting in particular as a material and structure of the plastic substrate which has the said terminal, According to the objective, it can select suitably, For example, the rigid substrate which has a terminal, the flexible substrate which has a terminal, etc. are mentioned.
Examples of the IC include a liquid crystal screen control IC chip in a flat panel display (FPD).

前記第1の回路部材、及び前記第2の回路部材の形状、大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記第1の回路部材、及び前記第2の回路部材は、同じ回路部材であってもよいし、異なる回路部材であってもよい。
There is no restriction | limiting in particular as a shape and a magnitude | size of a said 1st circuit member and a said 2nd circuit member, According to the objective, it can select suitably.
The first circuit member and the second circuit member may be the same circuit member or different circuit members.

<仮貼工程>
前記第1の回路部材の端子上に熱硬化型異方性導電フィルムを配置し、前記熱硬化型異方性導電フィルムを加圧しながら前記熱硬化型異方性導電フィルムが熱硬化しない温度で加熱して前記第1の回路部材上に前記熱硬化型異方性導電フィルムを固定する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Temporary sticking process>
A thermosetting anisotropic conductive film is disposed on a terminal of the first circuit member, and the thermosetting anisotropic conductive film is heated at a temperature at which the thermosetting anisotropic conductive film is not thermoset while pressing the thermosetting anisotropic conductive film. If it is the process of heating and fixing the thermosetting anisotropic conductive film on the first circuit member, there is no particular limitation and it can be appropriately selected according to the purpose.

<<熱硬化型異方性導電フィルム>>
前記熱硬化型異方性導電フィルムとしては、加熱されることにより硬化し、加熱による接続に使用される異方性導電フィルムであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<< Thermosetting anisotropic conductive film >>
The thermosetting anisotropic conductive film is not particularly limited as long as it is an anisotropic conductive film that is cured by heating and used for connection by heating, and can be appropriately selected according to the purpose. it can.

前記熱硬化型異方性導電フィルムは、例えば、膜形成樹脂と、硬化性樹脂と、熱硬化剤と、導電性粒子とを少なくとも含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する。
前記熱硬化型異方性導電フィルムは、光硬化剤を含有することが好ましい。
The thermosetting anisotropic conductive film contains, for example, at least a film-forming resin, a curable resin, a thermosetting agent, and conductive particles, and further contains other components as necessary.
The thermosetting anisotropic conductive film preferably contains a photocuring agent.

前記熱硬化型異方性導電フィルムは、ラジカル硬化型の異方性導電フィルムであることが好ましい。   The thermosetting anisotropic conductive film is preferably a radical curable anisotropic conductive film.

−膜形成樹脂−
前記膜形成樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フェノキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ブタジエン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂などが挙げられる。前記膜形成樹脂は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、製膜性、加工性、接続信頼性の点からフェノキシ樹脂が好ましい。
前記フェノキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンより合成される樹脂などが挙げられる。
前記フェノキシ樹脂は、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。
-Film forming resin-
There is no restriction | limiting in particular as said film formation resin, According to the objective, it can select suitably, For example, phenoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, urethane resin, butadiene resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin Resin etc. are mentioned. The film forming resin may be used alone or in combination of two or more. Among these, phenoxy resin is preferable from the viewpoint of film forming property, processability, and connection reliability.
Examples of the phenoxy resin include a resin synthesized from bisphenol A and epichlorohydrin.
As the phenoxy resin, an appropriately synthesized product or a commercially available product may be used.

前記熱硬化型異方性導電フィルムにおける前記膜形成樹脂の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、20質量%〜70質量%が好ましく、30質量%〜60質量%がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said film formation resin in the said thermosetting anisotropic conductive film, Although it can select suitably according to the objective, 20 mass%-70 mass% are preferable, and 30 mass% -60 mass% is more preferable.

−硬化性樹脂−
前記硬化性樹脂(硬化成分)としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラジカル重合性化合物、エポキシ樹脂などが挙げられる。
-Curable resin-
There is no restriction | limiting in particular as said curable resin (curing component), According to the objective, it can select suitably, For example, a radically polymerizable compound, an epoxy resin, etc. are mentioned.

−−ラジカル重合性化合物−−
前記ラジカル重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、エポキシアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、テトラメチレングリコールテトラアクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシエトキシ)フェニル]プロパン、ジシクロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ウレタンアクリレートなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、前記アクリレートをメタクリレートにしたものが挙げられ、これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
--Radically polymerizable compound--
The radical polymerizable compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, epoxy acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, Trimethylolpropane triacrylate, dimethyloltricyclodecane diacrylate, tetramethylene glycol tetraacrylate, 2-hydroxy-1,3-diaacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, tris (acryloxyethyl) Isocyanurate, and urethane acrylate. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Moreover, what made the said acrylate into the methacrylate is mentioned, These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

−−エポキシ樹脂−−
前記エポキシ樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、それらの変性エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
--- Epoxy resin--
There is no restriction | limiting in particular as said epoxy resin, According to the objective, it can select suitably, For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolak type epoxy resin, those modified epoxy resins, alicyclic type An epoxy resin etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記熱硬化型異方性導電フィルムにおける前記硬化性樹脂の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、20質量%〜70質量%が好ましく、30質量%〜60質量%がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said curable resin in the said thermosetting anisotropic conductive film, Although it can select suitably according to the objective, 20 mass%-70 mass% are preferable, and 30 mass% -60 mass% is more preferable.

−熱硬化剤−
前記熱硬化剤としては、熱により前記硬化性樹脂を硬化させる作用を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱ラジカル系硬化剤、熱カチオン系硬化剤などが挙げられる。
-Thermosetting agent-
The thermosetting agent is not particularly limited as long as it has an effect of curing the curable resin by heat, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, a thermal radical curing agent, a thermal cationic curing agent Etc.

−−熱ラジカル系硬化剤−−
前記熱ラジカル系硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機過酸化物などが挙げられる。
前記有機過酸化物としては、例えば、ラウロイルパーオキサイド、ブチルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジブチルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、ベンゾイルパーオキサイドなどが挙げられる。
前記熱ラジカル系硬化剤は、前記硬化性樹脂としてのラジカル重合性化合物と併用することが好ましい。
--- Heat radical curing agent--
There is no restriction | limiting in particular as said thermal radical type | system | group hardening | curing agent, According to the objective, it can select suitably, For example, an organic peroxide etc. are mentioned.
Examples of the organic peroxide include lauroyl peroxide, butyl peroxide, dilauroyl peroxide, dibutyl peroxide, peroxydicarbonate, and benzoyl peroxide.
The thermal radical curing agent is preferably used in combination with a radical polymerizable compound as the curable resin.

−−熱カチオン系硬化剤−−
前記熱カチオン系硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スルホニウム塩、オニウム塩などが挙げられる。これらの中でも、芳香族スルホニウム塩が好ましい。
前記熱カチオン系硬化剤は、前記硬化性樹脂としてのエポキシ樹脂と併用することが好ましい。
--Thermal cationic curing agent--
There is no restriction | limiting in particular as said thermal cationic hardening | curing agent, According to the objective, it can select suitably, For example, a sulfonium salt, onium salt, etc. are mentioned. Among these, aromatic sulfonium salts are preferable.
The thermal cationic curing agent is preferably used in combination with an epoxy resin as the curable resin.

前記熱硬化型異方性導電フィルムにおける前記熱硬化剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、1質量%〜10質量%が好ましく、3質量%〜7質量%がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said thermosetting agent in the said thermosetting anisotropic conductive film, According to the objective, it can select suitably, 1 mass%-10 mass% are preferable, and 3 mass%- 7 mass% is more preferable.

−導電性粒子−
前記導電性粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属粒子、金属被覆樹脂粒子などが挙げられる。
-Conductive particles-
There is no restriction | limiting in particular as said electroconductive particle, According to the objective, it can select suitably, For example, a metal particle, a metal covering resin particle, etc. are mentioned.

前記金属粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ニッケル、コバルト、銀、銅、金、パラジウム、半田などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、ニッケル、銀、銅が好ましい。これらの金属粒子は、表面酸化を防ぐ目的で、その表面に金、パラジウムを施していてもよい。更に、表面に金属突起や有機物で絶縁皮膜を施したものを用いてもよい。
There is no restriction | limiting in particular as said metal particle, According to the objective, it can select suitably, For example, nickel, cobalt, silver, copper, gold | metal | money, palladium, solder etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
Among these, nickel, silver, and copper are preferable. These metal particles may be provided with gold or palladium on the surface for the purpose of preventing surface oxidation. Furthermore, you may use what gave the insulating film with the metal protrusion and organic substance on the surface.

前記金属被覆樹脂粒子としては、樹脂粒子の表面を金属で被覆した粒子であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、樹脂粒子の表面をニッケル、銀、半田、銅、金、及びパラジウムの少なくともいずれかの金属で被覆した粒子などが挙げられる。更に、表面に金属突起や有機物で絶縁皮膜を施したものを用いてもよい。低抵抗を考慮した接続の場合、樹脂粒子の表面を銀で被覆した粒子が好ましい。
前記樹脂粒子への金属の被覆方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無電解めっき法、スパッタリング法などが挙げられる。
前記樹脂粒子の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、ベンゾグアナミン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−シリカ複合樹脂などが挙げられる。
The metal-coated resin particles are not particularly limited as long as the surfaces of the resin particles are coated with metal, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the surface of the resin particles is nickel, silver, solder , Particles coated with at least one of copper, gold, and palladium. Furthermore, you may use what gave the insulating film with the metal protrusion and organic substance on the surface. In the case of connection considering low resistance, particles in which the surface of resin particles is coated with silver are preferable.
There is no restriction | limiting in particular as the coating method of the metal to the said resin particle, According to the objective, it can select suitably, For example, an electroless-plating method, sputtering method, etc. are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as a material of the said resin particle, According to the objective, it can select suitably, For example, a styrene- divinylbenzene copolymer, a benzoguanamine resin, a crosslinked polystyrene resin, an acrylic resin, a styrene-silica composite resin etc. Is mentioned.

前記導電性粒子は、異方性導電接続の際に、導電性を有していればよい。例えば、金属粒子の表面に絶縁皮膜を施した粒子であっても、異方性導電接続の際に前記粒子が変形し、前記金属粒子が露出するものであれば、前記導電性粒子である。   The conductive particles only need to have conductivity during anisotropic conductive connection. For example, even if the surface of the metal particle is an insulating film, the conductive particle may be used as long as the particle is deformed during the anisotropic conductive connection and the metal particle is exposed.

前記導電性粒子の平均粒子径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1μm〜50μmが好ましく、2μm〜30μmがより好ましく、3μm〜15μmが特に好ましい。
前記平均粒子径は、任意に10個の導電性粒子について測定した粒子径の平均値である。
前記粒子径は、例えば、走査型電子顕微鏡観察により測定できる。
There is no restriction | limiting in particular as an average particle diameter of the said electroconductive particle, Although it can select suitably according to the objective, 1 micrometer-50 micrometers are preferable, 2 micrometers-30 micrometers are more preferable, and 3 micrometers-15 micrometers are especially preferable.
The average particle diameter is an average value of particle diameters measured for 10 conductive particles arbitrarily.
The particle diameter can be measured, for example, by observation with a scanning electron microscope.

前記熱硬化型異方性導電フィルムにおける前記導電性粒子の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.5質量%〜10質量%が好ましく、3質量%〜8質量%がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said electroconductive particle in the said thermosetting type anisotropic conductive film, Although it can select suitably according to the objective, 0.5 mass%-10 mass% are preferable, and 3 A mass% to 8 mass% is more preferable.

−光硬化剤−
前記光硬化剤としては、光により前記硬化性樹脂を硬化させる作用を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光ラジカル系硬化剤、光カチオン系硬化剤などが挙げられる。
-Light curing agent-
The photocuring agent is not particularly limited as long as it has an action of curing the curable resin with light, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, a photoradical curing agent or a photocationic curing agent. Etc.

−−光ラジカル系硬化剤−−
前記光ラジカル系硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アシルフォスフィンオキシド系光ラジカル硬化剤、アセトフェノン系光ラジカル硬化剤、ケタール系光ラジカル硬化剤などが挙げられる。これらは、紫外線などの活性エネルギー線の照射によりラジカル活性種を生成する、所謂光重合開始剤である。
前記アシルフォスフィンオキシド系光ラジカル硬化剤としては、例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキシド、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、ビス4−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキシドなどが挙げられる。
前記アセトフェノン系光ラジカル硬化剤としては、例えば、α−ヒドロキシ−α,α′−ジメチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトン、2−ヒドロキシ−2−シクロヘキシルアセトフェノンなどが挙げられる。
前記ケタール系光ラジカル硬化剤としては、例えば、ベンジルジメチルケタールなどが挙げられる。
前記光ラジカル系硬化剤は、前記硬化性樹脂としてのラジカル重合性化合物と併用することが好ましい。
-Photo radical curing agent-
The photo radical curing agent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include acylphosphine oxide photo radical curing agents, acetophenone photo radical curing agents, and ketal photo radical curing agents. Etc. These are so-called photopolymerization initiators that generate radical active species upon irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.
Examples of the acyl phosphine oxide photo radical curing agent include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, Bis 4- (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide and the like can be mentioned.
Examples of the acetophenone photoradical curing agent include α-hydroxy-α, α'-dimethylacetophenone, methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetone, 2-hydroxy-2-cyclohexylacetophenone, and the like. .
Examples of the ketal photo radical curing agent include benzyl dimethyl ketal.
The photo radical curing agent is preferably used in combination with a radical polymerizable compound as the curable resin.

−−光カチオン系硬化剤−−
前記光カチオン系硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などが挙げられる。これらの中でも、芳香族スルホニウム塩が好ましい。
前記光カチオン系硬化剤は、前記硬化性樹脂としてのエポキシ樹脂と併用することが好ましい。
--Photocationic curing agent--
There is no restriction | limiting in particular as said photocationic hardening | curing agent, According to the objective, it can select suitably, For example, a sulfonium salt, an iodonium salt, etc. are mentioned. Among these, aromatic sulfonium salts are preferable.
The photocationic curing agent is preferably used in combination with an epoxy resin as the curable resin.

なお、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などは、熱及び光のいずれでも前記硬化性樹脂を硬化させる作用を有する場合がある。即ち、熱カチオン系硬化剤が、光カチオン系硬化剤を兼用する場合がある。   In addition, a sulfonium salt, an iodonium salt, etc. may have the effect | action which hardens the said curable resin by both heat and light. That is, the thermal cationic curing agent may also be used as the photocationic curing agent.

前記熱硬化型異方性導電フィルムにおける前記光硬化剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1質量%〜5質量%が好ましく、0.2質量%〜3質量%がより好ましく、0.3質量%〜2質量%が特に好ましい。
また、前記熱硬化型異方性導電フィルムにおける前記光硬化剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記硬化性樹脂100質量部に対して、0.2質量部〜10質量部が好ましく、0.4質量部〜6質量部がより好ましく、0.6質量部〜4質量部が特に好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as content of the said photocuring agent in the said thermosetting anisotropic conductive film, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 mass%-5 mass% are preferable, 0 More preferably, the content is 2% by mass to 3% by mass, and particularly preferably 0.3% by mass to 2% by mass.
Further, the content of the photocuring agent in the thermosetting anisotropic conductive film is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, but with respect to 100 parts by mass of the curable resin, 0.2 mass part-10 mass parts are preferable, 0.4 mass part-6 mass parts are more preferable, and 0.6 mass part-4 mass parts are especially preferable.

−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シランカップリング剤などが挙げられる。
-Other ingredients-
There is no restriction | limiting in particular as said other component, According to the objective, it can select suitably, For example, a silane coupling agent etc. are mentioned.

−−シランカップリング剤−−
前記シランカップリング剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エポキシ系シランカップリング剤、アクリル系シランカップリング剤、チオール系シランカップリング剤、アミン系シランカップリング剤などが挙げられる。
前記シランカップリング剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
--Silane coupling agent--
The silane coupling agent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include an epoxy silane coupling agent, an acrylic silane coupling agent, a thiol silane coupling agent, and an amine silane. A coupling agent etc. are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as content of the said silane coupling agent, According to the objective, it can select suitably.

前記熱硬化型異方性導電フィルムの平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1μm〜50μmが好ましく、5μm〜40μmがより好ましく、10μm〜30μmが特に好ましい。
ここで、本明細書において平均厚みとは、任意の箇所を10箇所測定した際の算術平均値である。
There is no restriction | limiting in particular as average thickness of the said thermosetting anisotropic conductive film, Although it can select suitably according to the objective, 1 micrometer-50 micrometers are preferable, 5 micrometers-40 micrometers are more preferable, and 10 micrometers-30 micrometers are especially. preferable.
Here, the average thickness in this specification is an arithmetic average value when 10 arbitrary positions are measured.

前記仮貼工程においては、前記熱硬化型異方性導電フィルムを加圧しながら前記熱硬化型異方性導電フィルムが熱硬化しない温度で加熱する。
前記加圧の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、0.1MPa〜10MPaなどが挙げられる。
前記加熱の温度としては、例えば、70℃〜100℃などが挙げられる。なお、この温度は、前記熱硬化型異方性導電フィルムの熱硬化剤の熱分解温度を参考にして、決定してもよい。
前記加圧及び加熱の時間としては、例えば、0.5秒間〜10秒間などが挙げられる。
In the temporary sticking step, the thermosetting anisotropic conductive film is heated at a temperature at which the thermosetting anisotropic conductive film is not thermoset while pressurizing the thermosetting anisotropic conductive film.
There is no restriction | limiting in particular as said pressurization pressure, According to the objective, it can select suitably, For example, 0.1 MPa-10 MPa etc. are mentioned.
Examples of the heating temperature include 70 ° C. to 100 ° C. This temperature may be determined with reference to the thermal decomposition temperature of the thermosetting agent of the thermosetting anisotropic conductive film.
Examples of the pressurizing and heating time include 0.5 seconds to 10 seconds.

<配置工程>
前記配置工程としては、前記熱硬化型異方性導電フィルム上に前記第2の回路部材を、前記第2の回路部材の端子が前記異方性導電フィルムと接するように配置する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Arrangement process>
The placement step is a step of placing the second circuit member on the thermosetting anisotropic conductive film so that the terminals of the second circuit member are in contact with the anisotropic conductive film. There is no particular limitation, and it can be appropriately selected according to the purpose.

前記配置工程は、前記仮貼工程により前記第1の回路部材上に固定された前記熱硬化型異方性導電フィルムの固定位置にずれが生じていない場合に行われる。   The arrangement step is performed when there is no deviation in the fixing position of the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member by the temporary sticking step.

<加熱押圧工程>
前記加熱押圧工程としては、前記第2の回路部材を加熱押圧部材により加熱及び押圧する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Heat pressing process>
The heating and pressing step is not particularly limited as long as it is a step of heating and pressing the second circuit member with a heating and pressing member, and can be appropriately selected according to the purpose.

前記加熱押圧部材としては、例えば、加熱機構を有する押圧部材などが挙げられる。前記加熱機構を有する押圧部材としては、例えば、ヒートツールなどが挙げられる。
前記加熱の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、150℃〜200℃が好ましい。
前記押圧の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1MPa〜50MPaが好ましい。
前記加熱及び押圧の時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、0.5秒間〜120秒間が挙げられる。
Examples of the heating and pressing member include a pressing member having a heating mechanism. Examples of the pressing member having the heating mechanism include a heat tool.
There is no restriction | limiting in particular as the temperature of the said heating, Although it can select suitably according to the objective, 150 to 200 degreeC is preferable.
There is no restriction | limiting in particular as the pressure of the said press, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 MPa-50 MPa are preferable.
There is no restriction | limiting in particular as time of the said heating and press, According to the objective, it can select suitably, For example, 0.5 second-120 second is mentioned.

<リペア工程>
前記リペア工程としては、前記熱硬化型異方性導電フィルムに粘着テープを貼り付けた後、前記粘着テープ越しで前記熱硬化型異方性導電フィルムに光照射を行い、前記熱硬化型異方性導電フィルムを光硬化させ、更に、前記第1の回路部材から前記熱硬化型異方性導電フィルムとともに前記粘着テープを剥離する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
<Repair process>
As the repair process, after sticking an adhesive tape to the thermosetting anisotropic conductive film, the thermosetting anisotropic conductive film is irradiated with light through the adhesive tape, and the thermosetting anisotropic The conductive conductive film is photocured, and there is no particular limitation as long as it is a step of peeling the adhesive tape together with the thermosetting anisotropic conductive film from the first circuit member. be able to.

前記リペア工程は、前記仮貼工程により前記第1の回路部材上に固定された前記熱硬化型異方性導電フィルムの固定位置にずれが生じている場合に行われる。   The repair process is performed when there is a shift in the fixing position of the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member by the temporary sticking process.

前記粘着テープは、前記熱硬化型異方性導電フィルムの全面に貼り付けることが好ましい。   The adhesive tape is preferably attached to the entire surface of the thermosetting anisotropic conductive film.

<<粘着テープ>>
前記粘着テープとしては、粘着性を有するテープである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光透過性基材と、粘着層とを有する。
<< Adhesive tape >>
The adhesive tape is not particularly limited as long as it is an adhesive tape, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the adhesive tape includes a light-transmitting substrate and an adhesive layer.

−光透過性基材−
前記光透過性基材としては、前記リペア工程において照射される光を透過できる限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどが挙げられる。
前記光透過性基材の平均厚みとしては、例えば、10μm〜50μmなどが挙げられる。
-Light transmissive substrate-
The light-transmitting substrate is not particularly limited as long as it can transmit the light irradiated in the repair process, and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include a polyethylene terephthalate film.
Examples of the average thickness of the light transmissive substrate include 10 μm to 50 μm.

−粘着層−
前記粘着層としては、粘着性を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル樹脂と、架橋剤と、好ましくは硬化性樹脂と、光硬化剤とを含有し、更に必要に応じて、粘着付与剤などのその他の成分を含有する。
-Adhesive layer-
The adhesive layer is not particularly limited as long as it has adhesiveness, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, an acrylic resin, a crosslinking agent, preferably a curable resin, and a photocuring agent. And, if necessary, other components such as a tackifier.

前記粘着層は、光硬化性であることが好ましく、光ラジカル硬化性であることがより好ましい。   The adhesive layer is preferably photocurable, and more preferably photoradical curable.

−−アクリル樹脂−−
前記アクリル樹脂としては、粘着剤として使用可能な樹脂であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水酸基及びカルボキシル基含有アクリル樹脂などが挙げられる。
--Acrylic resin--
If it is resin which can be used as an adhesive as said acrylic resin, there will be no restriction | limiting in particular, According to the objective, it can select suitably, For example, a hydroxyl group and a carboxyl group-containing acrylic resin etc. are mentioned.

−−架橋剤−−
前記架橋剤としては、熱により前記アクリル樹脂を硬化する作用を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリイソシアネート化合物、ポリエポキシ化合物、ポリアジリジン化合物、メラミンホルムアルデヒド縮合物、金属塩、金属キレート化合物などが挙げられる。
-Crosslinking agent-
The crosslinking agent is not particularly limited as long as it has an effect of curing the acrylic resin by heat, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, polyisocyanate compound, polyepoxy compound, polyaziridine compound, melamine Formaldehyde condensates, metal salts, metal chelate compounds and the like can be mentioned.

前記ポリイソシアネート化合物としては、例えば、芳香族ポリイソシアネート化合物、脂肪族又は脂環族ポリイソシアネート化合物、それらポリイソシアネート化合物の2量体もしくは3量体、これらポリイソシアネート化合物と、トリメチロールプロパンなどのポリオール化合物とのアダクト体などが挙げられる。   Examples of the polyisocyanate compound include aromatic polyisocyanate compounds, aliphatic or alicyclic polyisocyanate compounds, dimers or trimers of these polyisocyanate compounds, and polyisocyanate compounds and polyols such as trimethylolpropane. Examples thereof include adducts with compounds.

−−硬化性樹脂−−
前記硬化性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記熱硬化型異方性導電フィルムの説明で挙げたラジカル重合性化合物などが挙げられる。
--Curable resin--
There is no restriction | limiting in particular as said curable resin, According to the objective, it can select suitably, For example, the radically polymerizable compound etc. which were mentioned by description of the said thermosetting anisotropic conductive film are mentioned.

−−光硬化剤−−
前記光硬化剤としては、光により前記硬化性樹脂を硬化させる作用を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記熱硬化型異方性導電フィルムの説明で挙げた光ラジカル系硬化剤などが挙げられる。
--Photocuring agent--
The photo-curing agent is not particularly limited as long as it has an action of curing the curable resin with light, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, description of the thermosetting anisotropic conductive film And the photo-radical curing agent mentioned in the above.

<<光照射>>
前記光照射に使用される光としては、前記熱硬化型異方性導電フィルムを光硬化させる限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、紫外線が好ましい。
前記光の照射量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記熱硬化型異方性導電フィルムが光硬化することで、膜強度が強くなり、粘着テープとともに剥離する際に、前記熱硬化型異方性導電フィルムがちぎれて、前記第1の回路部材に残るのを防ぐことができる。
<< light irradiation >>
The light used for the light irradiation is not particularly limited as long as the thermosetting anisotropic conductive film is photocured, and can be appropriately selected according to the purpose, but ultraviolet light is preferable.
There is no restriction | limiting in particular as the irradiation amount of the said light, According to the objective, it can select suitably.
When the thermosetting anisotropic conductive film is photocured, the film strength is increased, and when the thermosetting anisotropic conductive film is peeled off together with the adhesive tape, the thermosetting anisotropic conductive film is torn off and becomes the first circuit member. It can be prevented from remaining.

前記光照射は、前記粘着テープ越しに行う。この際、前記粘着テープの前記粘着層が光硬化性であれば、前記粘着テープの前記粘着層も光硬化される。   The light irradiation is performed through the adhesive tape. At this time, if the adhesive layer of the adhesive tape is photocurable, the adhesive layer of the adhesive tape is also photocured.

前記粘着テープの前記粘着層は、光硬化性であることが好ましい。また、前記熱硬化型異方性導電フィルムの光硬化タイプと、前記粘着層の光硬化タイプは同じであることがより好ましい。即ち、前記熱硬化型異方性導電フィルムの光硬化タイプがラジカル硬化型である場合、前記粘着層の光硬化タイプもラジカル硬化型であることがより好ましい。そうすることにより、光照射後に、前記熱硬化型異方性導電フィルムと前記粘着層との接着性がより大きくなり、リペア性がより優れる。   The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape is preferably photocurable. More preferably, the photocuring type of the thermosetting anisotropic conductive film and the photocuring type of the adhesive layer are the same. That is, when the photocurable type of the thermosetting anisotropic conductive film is a radical curable type, it is more preferable that the photocurable type of the adhesive layer is also a radical curable type. By doing so, the adhesiveness of the said thermosetting anisotropic conductive film and the said adhesion layer becomes larger after light irradiation, and repair property is more excellent.

<位置ずれ判定工程>
前記位置ずれ判定工程としては、前記第1の回路部材上に固定された前記熱硬化型異方性導電フィルムの固定位置にずれが生じているか否かを判定する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カメラを用いた画像認識により行うことができる。
前記位置ずれ判定工程では、例えば、あらかじめ設定された許容範囲内の所定値と測定値とを比較し、測定値が所定値を越えた場合に位置ずれが生じていると判定する。
<Position displacement determination process>
The position shift determination step is not particularly limited as long as it is a step for determining whether or not a shift occurs in the fixed position of the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member. However, it can be appropriately selected according to the purpose, and for example, it can be performed by image recognition using a camera.
In the positional deviation determination step, for example, a predetermined value within a preset allowable range is compared with a measured value, and it is determined that a positional deviation has occurred when the measured value exceeds the predetermined value.

ここで、本発明の接続方法を図を用いて説明する。図1は、本発明の接続方法の一例を説明するためのフローチャートである。図2A〜図2Iは、本発明の接続方法の一例を説明するための概略断面図である。   Here, the connection method of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a flowchart for explaining an example of the connection method of the present invention. 2A to 2I are schematic cross-sectional views for explaining an example of the connection method of the present invention.

まず、第1の回路部材1を用意する(図2A)。第1の回路部材1は、端子1Aを有している。   First, the first circuit member 1 is prepared (FIG. 2A). The first circuit member 1 has a terminal 1A.

〔仮貼工程〕
次に、第1の回路部材1の端子1A上に熱硬化型異方性導電フィルム2を配置する(図2B)。
次に、熱硬化型異方性導電フィルム2を加圧しながら熱硬化型異方性導電フィルム2が熱硬化しない温度で加熱して第1の回路部材1上に熱硬化型異方性導電フィルム2を固定する(図2C)。
[Temporary sticking process]
Next, the thermosetting anisotropic conductive film 2 is disposed on the terminal 1A of the first circuit member 1 (FIG. 2B).
Next, the thermosetting anisotropic conductive film 2 is heated at a temperature at which the thermosetting anisotropic conductive film 2 is not thermoset while pressurizing the thermosetting anisotropic conductive film 2, and is applied onto the first circuit member 1. 2 is fixed (FIG. 2C).

〔位置ずれ判定工程〕
次に、仮貼工程により第1の回路部材1上に固定された熱硬化型異方性導電フィルム2の固定位置にずれが生じているか否かを判定する。
[Position deviation determination process]
Next, it is determined whether or not there is a shift in the fixing position of the thermosetting anisotropic conductive film 2 fixed on the first circuit member 1 by the temporary pasting step.

〔配置工程〕
次に、仮貼工程により第1の回路部材1上に固定された熱硬化型異方性導電フィルム2の固定位置にずれが生じていない場合には、熱硬化型異方性導電フィルム2上に第2の回路部材3を、第2の回路部材3の端子3Aが熱硬化型異方性導電フィルム2と接するように配置する(図2D)。
[Placement process]
Next, when there is no shift in the fixing position of the thermosetting anisotropic conductive film 2 fixed on the first circuit member 1 by the temporary pasting step, the thermosetting anisotropic conductive film 2 The second circuit member 3 is disposed so that the terminals 3A of the second circuit member 3 are in contact with the thermosetting anisotropic conductive film 2 (FIG. 2D).

〔加熱押圧工程〕
次に、第2の回路部材3を加熱押圧部材により加熱及び押圧する(図2E)。
[Heat pressing process]
Next, the second circuit member 3 is heated and pressed by the heating pressing member (FIG. 2E).

固定位置にずれが生じていない場合には、以上の方法により接合体が得られるが、固定位置にずれが生じている場合には、リペア工程を行う。   When there is no deviation in the fixed position, the joined body can be obtained by the above method. When there is a deviation in the fixed position, a repair process is performed.

〔リペア工程〕
仮貼工程により第1の回路部材1上に固定された熱硬化型異方性導電フィルム2の固定位置にずれが生じている場合には、熱硬化型異方性導電フィルム2に粘着テープ11を貼り付ける(図2F)。
次に、粘着テープ11越しで熱硬化型異方性導電フィルム2にUV照射を行い、熱硬化型異方性導電フィルム2を光硬化させる(図2G)。
次に、第1の回路部材1から熱硬化型異方性導電フィルム2とともに粘着テープ11を剥離する(図2H)。
そうすることにより、熱硬化型異方性フィルム2が付着していない第1の回路部材1が再生される(図2I)。この第1の回路部材1は、仮貼工程に再利用される。
[Repair process]
If there is a shift in the fixing position of the thermosetting anisotropic conductive film 2 fixed on the first circuit member 1 by the temporary sticking step, the adhesive tape 11 is attached to the thermosetting anisotropic conductive film 2. Is pasted (FIG. 2F).
Next, UV irradiation is performed to the thermosetting anisotropic conductive film 2 through the adhesive tape 11, and the thermosetting anisotropic conductive film 2 is photocured (FIG. 2G).
Next, the adhesive tape 11 is peeled from the first circuit member 1 together with the thermosetting anisotropic conductive film 2 (FIG. 2H).
By doing so, the 1st circuit member 1 which the thermosetting anisotropic film 2 has not adhered is reproduced | regenerated (FIG. 2I). The first circuit member 1 is reused in the temporary pasting process.

(リペア方法)
本発明のリペア方法は、仮貼工程により第1の回路部材上に固定された熱硬化型異方性導電フィルムに粘着テープを貼り付けた後、前記粘着テープ越しで前記熱硬化型異方性導電フィルムに光照射を行い、前記熱硬化型異方性導電フィルムを光硬化させ、更に、前記第1の回路部材から前記熱硬化型異方性導電フィルムとともに前記粘着テープを剥離する方法である。この方法により、再利用可能な第1の回路部材が得られる。
(Repair method)
In the repair method of the present invention, after sticking an adhesive tape to the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member by the temporary sticking step, the thermosetting anisotropy is passed through the adhesive tape. In this method, the conductive film is irradiated with light, the thermosetting anisotropic conductive film is photocured, and the adhesive tape is peeled off from the first circuit member together with the thermosetting anisotropic conductive film. . By this method, a reusable first circuit member is obtained.

前記仮貼工程は、前記第1の回路部材の端子上に前記熱硬化型異方性導電フィルムを配置し、前記熱硬化型異方性導電フィルムを加圧しながら前記熱硬化型異方性導電フィルムが熱硬化しない温度で加熱して前記第1の回路部材上に前記熱硬化型異方性導電フィルムを固定する工程である。   In the temporary pasting step, the thermosetting anisotropic conductive film is disposed on a terminal of the first circuit member, and the thermosetting anisotropic conductive film is pressed while pressing the thermosetting anisotropic conductive film. It is a step of fixing the thermosetting anisotropic conductive film on the first circuit member by heating at a temperature at which the film is not thermoset.

前記リペア方法の詳細は、前記接続方法における前記リペア工程と同様であり、例示及び好ましい態様も同様である。   The details of the repair method are the same as those of the repair step in the connection method, and the examples and preferred embodiments are also the same.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

(製造例1)
<異方性導電フィルムの作製>
以下の配合を均一に混合し、混合物を作製した。
−配合−
フェノキシ樹脂(商品名:YP−50、新日鉄住金化学社製)50質量部
ウレタンアクリレート(商品名:M−1600、東亞合成社製)25質量部
多官能アクリレート(商品名:M−315、東亞合成社製)25質量部
熱硬化剤(商品名:パーロイルL、日油社製)4質量部
光硬化剤(商品名:IRG184、BASF社製)1質量部
導電性粒子(商品名:ミクロパールAU、積水化学工業社製、平均粒子径4μm)3質量部
得られた混合物をシリコーン処理したPET(ポリエチレンテレフタレート)上に乾燥後の平均厚みが20μmとなるようにバーコーターで塗布し、70℃で5分間乾燥し、異方性導電フィルムを作製した。
(Production Example 1)
<Preparation of anisotropic conductive film>
The following formulations were mixed uniformly to prepare a mixture.
-Formulation-
Phenoxy resin (trade name: YP-50, manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.) 50 parts by mass Urethane acrylate (trade name: M-1600, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 25 parts by mass Polyfunctional acrylate (trade name: M-315, Toagosei Co., Ltd.) 25 parts by mass Thermosetting agent (trade name: Parroyl L, manufactured by NOF Corporation) 4 parts by mass Photocuring agent (trade name: IRG184, manufactured by BASF) Conductive particles (trade name: Micropearl AU) 3 parts by mass of Sekisui Chemical Co., Ltd., average particle size 4 μm) The obtained mixture was applied to a silicone-treated PET (polyethylene terephthalate) with a bar coater so that the average thickness after drying was 20 μm, and 70 ° C. It dried for 5 minutes and produced the anisotropic conductive film.

(製造例2)
製造例1において、フェノキシ樹脂を、ポリエステルウレタン樹脂(商品名:UR4410、東洋紡社製)に代えた以外は、製造例1と同様にして、異方性導電フィルムを得た。
(Production Example 2)
In Production Example 1, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the phenoxy resin was replaced with a polyester urethane resin (trade name: UR4410, manufactured by Toyobo Co., Ltd.).

(製造例3)
製造例1において、光硬化剤を、Darocur 1173(BASF社製)に代えた以外は、製造例1と同様にして、異方性導電フィルムを得た。
(Production Example 3)
In Production Example 1, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the photocuring agent was changed to Darocur 1173 (manufactured by BASF).

(製造例4)
製造例1において、光硬化剤の配合量を、0.5質量部に変えた以外は、製造例1と同様にして、異方性導電フィルムを得た。
(Production Example 4)
In Production Example 1, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as Production Example 1 except that the amount of the photocuring agent was changed to 0.5 parts by mass.

(製造例5)
製造例1において、光硬化剤の配合量を、2質量部に変えた以外は、製造例1と同様にして、異方性導電フィルムを得た。
(Production Example 5)
In Production Example 1, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the blending amount of the photocuring agent was changed to 2 parts by mass.

(比較製造例1)
製造例1において、光硬化剤を配合しなかった以外は、製造例1と同様にして、異方性導電フィルムを得た。
(Comparative Production Example 1)
In Production Example 1, an anisotropic conductive film was obtained in the same manner as Production Example 1 except that no photocuring agent was added.

(製造例6)
<アクリル樹脂の製造>
以下のアクリル系モノマーを、以下のモル比率で配合し、重合して、粘着剤用のアクリル樹脂を合成した。
−モノマー−
BA:n−ブチルアクリレート
2EHA:2−エチルヘキシルアクリレート
MMA:メタクリル酸メチル
AA:アクリル酸
HEMA:ヒドロキシエチルメタクリレート
−モル比率−
BA/2EHA/MMA/AA/HEMA=30/53/9/7.5/0.5
(Production Example 6)
<Manufacture of acrylic resin>
The following acrylic monomers were blended in the following molar ratio and polymerized to synthesize an acrylic resin for pressure-sensitive adhesive.
-Monomer-
BA: n-butyl acrylate 2EHA: 2-ethylhexyl acrylate MMA: methyl methacrylate AA: acrylic acid HEMA: hydroxyethyl methacrylate-molar ratio-
BA / 2EHA / MMA / AA / HEMA = 30/53/9 / 7.5 / 0.5

(製造例7)
<光硬化型粘着テープの製造>
以下の配合を均一に混合し、混合物を作製した。
−配合−
製造例6で製造したアクリル樹脂 80質量部
多官能アクリレート(商品名:M−450、東亞合成社製)20質量部
硬化剤(商品名:コロネートL、東ソー社製)2質量部
光硬化剤(商品名:IRG184、BASF社製)0.5質量部
(Production Example 7)
<Manufacture of photocurable adhesive tape>
The following formulations were mixed uniformly to prepare a mixture.
-Formulation-
80 parts by mass of acrylic resin produced in Production Example 6 20 parts by mass of polyfunctional acrylate (trade name: M-450, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 2 parts by mass of curing agent (trade name: Coronate L, manufactured by Tosoh Corporation) (Product name: IRG184, manufactured by BASF) 0.5 parts by mass

得られた混合物を平均厚み25μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)上に乾燥後の平均厚みが5μmとなるようにバーコーターで塗布し、70℃で5分間乾燥し、光硬化型粘着テープを作製した。   The obtained mixture was coated on a PET (polyethylene terephthalate) having an average thickness of 25 μm with a bar coater so that the average thickness after drying was 5 μm, and dried at 70 ° C. for 5 minutes to prepare a photocurable pressure-sensitive adhesive tape.

(製造例8)
<粘着テープの製造>
以下の配合を均一に混合し、混合物を作製した。
−配合−
製造例6で製造したアクリル樹脂 80質量部
硬化剤(商品名:コロネートL、東ソー社製)2質量部
(Production Example 8)
<Manufacture of adhesive tape>
The following formulations were mixed uniformly to prepare a mixture.
-Formulation-
80 parts by mass of acrylic resin produced in Production Example 6 2 parts by mass of curing agent (trade name: Coronate L, manufactured by Tosoh Corporation)

得られた混合物を平均厚み25μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)上に乾燥後の平均厚みが5μmとなるようにバーコーターで塗布し、70℃で5分間乾燥し、粘着テープを作製した。   The obtained mixture was coated on a PET (polyethylene terephthalate) having an average thickness of 25 μm with a bar coater so that the average thickness after drying was 5 μm, and dried at 70 ° C. for 5 minutes to prepare an adhesive tape.

<接合体の製造>
以下の方法により接合体を製造した。
第2の回路部材として、評価用COF(チップオンフレックス)(デクセリアルズ株式会社評価用基材、50μmP(ピッチ)、Cu8μmt(厚み)−Snめっき、PI(ポリイミド)38μmt(厚み)−S’perflex基材)を用いた。
第1の回路部材として、ITOコーティングガラス(デクセリアルズ株式会社評価用基材、全表面ITOコート、ガラス厚み0.7mm)を用いた。
前記第1の回路部材上に、幅1.5mmにスリットした異方性導電フィルムを配置した。配置する際、80℃、1MPa、1秒間で貼り付けて固定した。続いて、前記異方性導電フィルム上に、前記第2の回路部材を前記異方性導電フィルムからはみ出さないように配置した。続いて、緩衝材(テフロン(登録商標)、厚み0.15mm)を介して、加熱ツール(幅1.5mm)により170℃、4MPa、5秒間にて圧着し、接合体を得た。
得られた接合体の導通抵抗を以下の方法で評価した。結果を表1に示した。
<Manufacture of joined body>
The joined body was manufactured by the following method.
As the second circuit member, COF for evaluation (chip on flex) (Dexerials Corporation evaluation base material, 50 μm P (pitch), Cu 8 μmt (thickness) -Sn plating, PI (polyimide) 38 μmt (thickness) -S'perflex group Material).
As the first circuit member, ITO coating glass (Dexerials Corporation evaluation base material, full surface ITO coating, glass thickness 0.7 mm) was used.
An anisotropic conductive film slit to a width of 1.5 mm was disposed on the first circuit member. When arranging, it was fixed by attaching at 80 ° C., 1 MPa, and 1 second. Subsequently, the second circuit member was disposed on the anisotropic conductive film so as not to protrude from the anisotropic conductive film. Subsequently, it was pressure-bonded with a heating tool (width 1.5 mm) at 170 ° C. and 4 MPa for 5 seconds through a buffer material (Teflon (registered trademark), thickness 0.15 mm) to obtain a joined body.
The conduction resistance of the obtained joined body was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1.

<<導通抵抗>>
接合体について、初期の導通抵抗値(Ω)を以下の方法で測定した。
具体的には、デジタルマルチメータ(品番:デジタルマルチメータ7555、横河電機株式会社製)を用いて4端子法にて電流1mAを流したときの抵抗値を測定した。30チャンネルについて抵抗値を測定し、最大の抵抗値を測定値とした。以下の評価基準で評価した。
〔評価基準〕
○:5Ω未満
×:5Ω以上
<< Conduction resistance >>
For the joined body, the initial conduction resistance value (Ω) was measured by the following method.
Specifically, the resistance value was measured when a current of 1 mA was passed by a four-terminal method using a digital multimeter (product number: digital multimeter 7555, manufactured by Yokogawa Electric Corporation). The resistance value was measured for 30 channels, and the maximum resistance value was taken as the measured value. Evaluation was made according to the following evaluation criteria.
〔Evaluation criteria〕
○: Less than 5Ω ×: 5Ω or more

(実施例1〜6、比較例1)
上記製造例で製造した、異方性導電フィルムと、粘着テープとを用いて、以下の方法でリペア性を評価した。異方性導電フィルムと粘着テープとの組合せ、及び結果を、表3−1、及び表3−2に示した。
(Examples 1-6, Comparative Example 1)
The repair property was evaluated by the following method using the anisotropic conductive film and the adhesive tape produced in the above production example. The combinations of anisotropic conductive film and adhesive tape and the results are shown in Tables 3-1 and 3-2.

〔リペア性〕
以下の方法によりリペア性を評価した。
(工程1)ITOが形成されたガラス基板に異方性導電フィルムを80℃、1MPa、1秒で仮貼りした。
(工程2)次に、異方性導電フィルムに粘着テープを貼り付けた。
(工程3)次に、粘着テープ上から、以下のUV照射条件で3秒間UV照射を行った。
<<UV照射条件>>
・UV照射機:SP−9、ウシオ電機社製
・UV強度:365nmで300mW/cm
(工程4)次に、異方性導電フィルムから粘着テープを剥離した。
そして、ガラス基板上に異方性導電フィルムの残渣があるかどうかを目視により確認し、以下の評価基準で評価した。
〔評価基準〕
○:残渣が10%未満
△:残渣が10%以上50%未満
×:残渣が50%以上
[Repairability]
Repairability was evaluated by the following method.
(Step 1) An anisotropic conductive film was temporarily attached to a glass substrate on which ITO was formed at 80 ° C., 1 MPa, and 1 second.
(Process 2) Next, the adhesive tape was affixed on the anisotropic conductive film.
(Step 3) Next, UV irradiation was performed for 3 seconds from the top of the adhesive tape under the following UV irradiation conditions.
<< UV irradiation conditions >>
UV irradiation machine: SP-9, manufactured by USHIO INC. UV intensity: 300 mW / cm 2 at 365 nm
(Step 4) Next, the adhesive tape was peeled from the anisotropic conductive film.
And it was confirmed by visual observation whether there was a residue of an anisotropic conductive film on a glass substrate, and the following evaluation criteria evaluated.
〔Evaluation criteria〕
○: Residue is less than 10% Δ: Residue is 10% or more and less than 50% ×: Residue is 50% or more

(比較例2)
実施例6において、UV照射を行わなかった(工程3を行わなかった)以外は、実施例6と同様にして、リペア性の評価を行った。結果を、表3−2に示した。
(Comparative Example 2)
In Example 6, repairability was evaluated in the same manner as in Example 6 except that UV irradiation was not performed (Step 3 was not performed). The results are shown in Table 3-2.

(比較例3)
実施例6において、粘着テープを異方性導電フィルムに貼り付ける前にUV照射を行った(工程2と工程3の順番を入れ替えた)以外は、実施例6と同様にして、リペア性の評価を行った。結果を、表3−2に示した。
(Comparative Example 3)
In Example 6, repair property evaluation was performed in the same manner as in Example 6 except that UV irradiation was performed before the adhesive tape was attached to the anisotropic conductive film (the order of Step 2 and Step 3 was changed). Went. The results are shown in Table 3-2.

製造例1〜5の異方性導電フィルムはいずれも、接合体としたときの導通抵抗は、比較製造例1の異方性導電フィルムと同様に、問題なかった。即ち、異方性導電フィルムに光硬化剤を配合しても、接合体としたときの性能に影響はなかった。
また、製造例1〜5の異方性導電フィルムと、光硬化性の粘着テープとを用いた実施例1〜5では、非光硬化性の粘着テープを用いた実施例6よりも、リペア性がより優れていた。これは、光照射により異方性導電フィルムと粘着テープの粘着層とがともに光硬化することで、異方性導電フィルムと粘着テープの粘着層との界面の接着性がより大きくなったためと考えられる。
As with the anisotropic conductive film of Comparative Production Example 1, there was no problem in the conduction resistance when the anisotropic conductive films of Production Examples 1 to 5 were joined. That is, even when a photocuring agent was added to the anisotropic conductive film, there was no effect on the performance when a joined body was obtained.
Further, in Examples 1 to 5 using the anisotropic conductive films of Production Examples 1 to 5 and the photocurable adhesive tape, the repairability is higher than that in Example 6 using the non-photocurable adhesive tape. Was better. This is thought to be due to the fact that both the anisotropic conductive film and the adhesive layer of the adhesive tape were photocured by light irradiation, resulting in greater adhesion at the interface between the anisotropic conductive film and the adhesive layer of the adhesive tape. It is done.

一方、異方性導電フィルムが光で硬化しない場合、異方性導電フィルムの膜強度が弱いため、リペア性が不十分であった(比較例1)。
リペア工程においてUV照射を行わなかった場合、異方性導電フィルムの膜強度が弱いため、リペア性が不十分であった(比較例2)。
リペア工程においてUV照射を行った後に、異方性導電フィルムに粘着テープを貼り付けても、リペア性が不十分であった(比較例3)。これは、異方性導電フィルムが粘着テープで覆われていないために、酸素による硬化阻害が生じ、異方性導電フィルムの膜強度が強くならなかったためと考えられる。
On the other hand, when the anisotropic conductive film was not cured by light, the repair strength was insufficient because the film strength of the anisotropic conductive film was weak (Comparative Example 1).
When UV irradiation was not performed in a repair process, since the film | membrane intensity | strength of an anisotropic conductive film was weak, repair property was inadequate (comparative example 2).
After UV irradiation in the repair process, even when an adhesive tape was attached to the anisotropic conductive film, the repairability was insufficient (Comparative Example 3). This is presumably because the anisotropic conductive film was not covered with the adhesive tape, so that the inhibition of curing by oxygen occurred, and the film strength of the anisotropic conductive film did not increase.

1 第1の回路部材
1A 端子
2 熱硬化型異方性導電フィルム
3 第2の回路部材
3A 端子
11 粘着テープ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st circuit member 1A terminal 2 Thermosetting anisotropic conductive film 3 2nd circuit member 3A terminal 11 Adhesive tape

Claims (11)

第1の回路部材の端子と第2の回路部材の端子とを異方性導電接続させる接続方法であって、
前記第1の回路部材の端子上に熱硬化型異方性導電フィルムを配置し、前記熱硬化型異方性導電フィルムを加圧しながら前記熱硬化型異方性導電フィルムが熱硬化しない温度で加熱して前記第1の回路部材上に前記熱硬化型異方性導電フィルムを固定する仮貼工程と、
前記仮貼工程により前記第1の回路部材上に固定された前記熱硬化型異方性導電フィルムの固定位置にずれが生じていない場合には、前記熱硬化型異方性導電フィルム上に前記第2の回路部材を、前記第2の回路部材の端子が前記熱硬化型異方性導電フィルムと接するように配置する配置工程と、
前記第2の回路部材を加熱押圧部材により加熱及び押圧する加熱押圧工程とを含み、
前記仮貼工程により前記第1の回路部材上に固定された前記熱硬化型異方性導電フィルムの固定位置にずれが生じている場合には、前記熱硬化型異方性導電フィルムに粘着テープを貼り付けた後、前記粘着テープ越しで前記熱硬化型異方性導電フィルムに光照射を行い、前記熱硬化型異方性導電フィルムを光硬化させ、更に、前記第1の回路部材から前記熱硬化型異方性導電フィルムとともに前記粘着テープを剥離するリペア工程を含む、
ことを特徴とする接続方法。
A connection method for anisotropic conductive connection between a terminal of a first circuit member and a terminal of a second circuit member,
A thermosetting anisotropic conductive film is disposed on a terminal of the first circuit member, and the thermosetting anisotropic conductive film is heated at a temperature at which the thermosetting anisotropic conductive film is not thermoset while pressing the thermosetting anisotropic conductive film. A temporary pasting step of heating and fixing the thermosetting anisotropic conductive film on the first circuit member;
When there is no shift in the fixing position of the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member by the temporary pasting step, the thermosetting anisotropic conductive film is An arrangement step of arranging a second circuit member so that a terminal of the second circuit member is in contact with the thermosetting anisotropic conductive film;
A heating and pressing step of heating and pressing the second circuit member with a heating and pressing member,
When there is a shift in the fixing position of the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member by the temporary pasting step, an adhesive tape is applied to the thermosetting anisotropic conductive film. Then, the thermosetting anisotropic conductive film is irradiated with light through the adhesive tape, the thermosetting anisotropic conductive film is photocured, and further from the first circuit member, A repair step of peeling the adhesive tape together with the thermosetting anisotropic conductive film,
A connection method characterized by that.
前記熱硬化型異方性導電フィルムが、光硬化剤を含有する請求項1に記載の接続方法。   The connection method according to claim 1, wherein the thermosetting anisotropic conductive film contains a photocuring agent. 前記粘着テープの粘着層が、光硬化性である請求項1から2のいずれかに記載の接続方法。   The connection method according to claim 1, wherein the adhesive layer of the adhesive tape is photocurable. 前記熱硬化型異方性導電フィルムが、ラジカル硬化型の異方性導電フィルムである請求項1から3のいずれかに記載の接続方法。   The connection method according to claim 1, wherein the thermosetting anisotropic conductive film is a radical curable anisotropic conductive film. 前記粘着テープの粘着層が、光ラジカル硬化性である請求項1から4のいずれかに記載の接続方法。   The connection method according to claim 1, wherein the adhesive layer of the adhesive tape is photoradical curable. 仮貼工程により第1の回路部材上に固定された熱硬化型異方性導電フィルムに粘着テープを貼り付けた後、前記粘着テープ越しで前記熱硬化型異方性導電フィルムに光照射を行い、前記熱硬化型異方性導電フィルムを光硬化させ、更に、前記第1の回路部材から前記熱硬化型異方性導電フィルムとともに前記粘着テープを剥離するリペア方法であって、
前記仮貼工程が、前記第1の回路部材の端子上に前記熱硬化型異方性導電フィルムを配置し、前記熱硬化型異方性導電フィルムを加圧しながら前記熱硬化型異方性導電フィルムが熱硬化しない温度で加熱して前記第1の回路部材上に前記熱硬化型異方性導電フィルムを固定する工程である、
ことを特徴とするリペア方法。
After sticking the adhesive tape to the thermosetting anisotropic conductive film fixed on the first circuit member by the temporary sticking step, the thermosetting anisotropic conductive film is irradiated with light through the adhesive tape. The repair method of photocuring the thermosetting anisotropic conductive film and further peeling the adhesive tape together with the thermosetting anisotropic conductive film from the first circuit member,
The temporary pasting step includes disposing the thermosetting anisotropic conductive film on a terminal of the first circuit member, and pressing the thermosetting anisotropic conductive film while pressing the thermosetting anisotropic conductive film. Heating the film at a temperature at which the film is not thermally cured, and fixing the thermosetting anisotropic conductive film on the first circuit member.
A repair method characterized by that.
前記仮貼工程により前記第1の回路部材上に固定された前記熱硬化型異方性導電フィルムの固定位置にずれが生じている場合に行われる請求項6に記載のリペア方法。   The repair method of Claim 6 performed when the shift | offset | difference has arisen in the fixing position of the said thermosetting anisotropic conductive film fixed on the said 1st circuit member by the said temporary sticking process. 前記熱硬化型異方性導電フィルムが、光硬化剤を含有する請求項6から7のいずれかに記載のリペア方法。   The repair method according to claim 6, wherein the thermosetting anisotropic conductive film contains a photocuring agent. 前記粘着テープの粘着層が、光硬化性である請求項6から8のいずれかに記載のリペア方法。   The repair method according to claim 6, wherein the adhesive layer of the adhesive tape is photocurable. 前記熱硬化型異方性導電フィルムが、ラジカル硬化型の異方性導電フィルムである請求項6から9のいずれかに記載のリペア方法。   The repair method according to claim 6, wherein the thermosetting anisotropic conductive film is a radical curable anisotropic conductive film. 前記粘着テープの粘着層が、光ラジカル硬化性である請求項6から10のいずれかに記載のリペア方法。   The repair method according to claim 6, wherein the adhesive layer of the adhesive tape is photoradical curable.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006203097A (en) * 2005-01-24 2006-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Apparatus and method for sticking tape
JP2010056531A (en) * 2008-07-28 2010-03-11 Sekisui Chem Co Ltd Method of manufacturing semiconductor chip laminated body
WO2010035551A1 (en) * 2008-09-29 2010-04-01 シャープ株式会社 Substrate module and method for manufacturing the same
JP2011233708A (en) * 2010-04-27 2011-11-17 Hitachi High-Technologies Corp Assembling device for fpd module
JP2014096531A (en) * 2012-11-12 2014-05-22 Dexerials Corp Method for manufacturing connection structure and connection method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006203097A (en) * 2005-01-24 2006-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Apparatus and method for sticking tape
JP2010056531A (en) * 2008-07-28 2010-03-11 Sekisui Chem Co Ltd Method of manufacturing semiconductor chip laminated body
WO2010035551A1 (en) * 2008-09-29 2010-04-01 シャープ株式会社 Substrate module and method for manufacturing the same
JP2011233708A (en) * 2010-04-27 2011-11-17 Hitachi High-Technologies Corp Assembling device for fpd module
JP2014096531A (en) * 2012-11-12 2014-05-22 Dexerials Corp Method for manufacturing connection structure and connection method

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