JP2017088775A - Curable composition and cured product thereof, and method for producing the same - Google Patents

Curable composition and cured product thereof, and method for producing the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable composition which can form a self-supporting film with a high refractive index.SOLUTION: A curable composition comprising a curable component represented by formula (1) and metal oxide nanoparticles is prepared (where ring Z is an aromatic hydrocarbon ring, Ris a substituent, Ris an alkylene group, Ris a substituent, X is a sulfur atom or an oxygen atom, k is an integer of 0-4, m is an integer of 1 or more, and n is an integer of 0 or more).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、フルオレン骨格とオキシラン環及び/又はチイラン環とを有する硬化性成分及び金属酸化物を含む硬化性組成物並びにその硬化物及び硬化物の製造方法に関する。   The present invention relates to a curable composition containing a curable component having a fluorene skeleton and an oxirane ring and / or thiirane ring and a metal oxide, and a cured product and a method for producing the cured product.

エポキシ樹脂は、種々の硬化剤で硬化させることにより、機械的性質、耐水性、耐薬品性、耐熱性、電気的性質などに優れた硬化物を形成する。そのため、エポキシ樹脂は、接着剤、塗料、積層板、成形材料、注型材料などの幅広い分野に利用されている。従来、工業的に最も使用されているエポキシ樹脂として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂などが知られているが、このようなエポキシ樹脂には、用途によっては、耐熱性が不十分な場合もあった。さらに、エポキシ樹脂は光学材料などにも利用されるが、近年の光学材料では、高度な光学特性が要求されるため、高屈折率なども要求される。そこで、このような要求を充足させるために、樹脂原料に9,9−ビスフェニルフルオレン骨格を導入するとともに、エポキシ化合物の代わりにエピスルフィド化合物を用いる試みも行われている。   The epoxy resin is cured with various curing agents to form a cured product having excellent mechanical properties, water resistance, chemical resistance, heat resistance, electrical properties, and the like. Therefore, epoxy resins are used in a wide range of fields such as adhesives, paints, laminates, molding materials and casting materials. Conventionally, bisphenol A-type epoxy resins and the like are known as the most commonly used epoxy resins in the industry, but such epoxy resins sometimes have insufficient heat resistance depending on applications. Furthermore, epoxy resins are also used for optical materials and the like. However, recent optical materials require high optical properties, and thus require a high refractive index. Therefore, in order to satisfy such requirements, attempts have been made to introduce a 9,9-bisphenylfluorene skeleton into a resin raw material and to use an episulfide compound instead of an epoxy compound.

特開2001−181276号公報(特許文献1)には、下記式で表されるエピスルフィド化合物が開示されている。   JP-A-2001-181276 (Patent Document 1) discloses an episulfide compound represented by the following formula.

Figure 2017088775
Figure 2017088775

(式中、Xは酸素原子又は硫黄原子を示し、少なくとも一つは硫黄原子である。また、R〜Rは水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、同じであっても、異なってもよい)。 (In the formula, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and at least one is a sulfur atom. R 1 to R 8 represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Or different.)

この文献には、前記エピスルフィド化合物の硬化剤として、公知のエポキシ樹脂の硬化剤が例示され、多価カルボン酸無水物、ポリフェノール類が好ましいと記載されている。さらに、この文献の実施例では、硬化剤として、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸又はテトラヒドロ無水フタル酸が使用されている。   In this document, as the episulfide compound curing agent, a known epoxy resin curing agent is exemplified, and it is described that polyvalent carboxylic acid anhydrides and polyphenols are preferable. Furthermore, in the examples of this document, methylhexahydrophthalic anhydride or tetrahydrophthalic anhydride is used as a curing agent.

しかし、このエピスルフィド化合物は、固体であり、溶融粘度も高いため、成形性やハンドリング性が十分でない。   However, since this episulfide compound is solid and has a high melt viscosity, moldability and handling properties are not sufficient.

そこで、優れたハンドリング性と、高耐熱性や高屈折率などとを両立できるフルオレン骨格含有エピスルフィド化合物として、特開2013−124339号公報(特許文献2)には、下記式(1)で表されるエピスルフィド化合物が開示されている。   Therefore, as a fluorene skeleton-containing episulfide compound capable of achieving both excellent handling properties, high heat resistance, a high refractive index, and the like, JP2013-124339A (Patent Document 2) is represented by the following formula (1). Episulfide compounds are disclosed.

Figure 2017088775
Figure 2017088775

(式中、環Zは芳香族炭化水素環、Rは置換基、Rはアルキレン基、Rは置換基を示し、kは0〜4の整数、mは1以上の整数、nは0以上の整数である)。 (In the formula, ring Z is an aromatic hydrocarbon ring, R 1 is a substituent, R 2 is an alkylene group, R 3 is a substituent, k is an integer of 0 to 4, m is an integer of 1 or more, and n is It is an integer greater than or equal to 0).

この文献には、前記エピスルフィド化合物をエポキシ樹脂と混合することで、硬化剤との反応性を向上でき、硬化剤として、アミン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤を利用できることが記載されている。   In this document, the reactivity with a curing agent can be improved by mixing the episulfide compound with an epoxy resin. As the curing agent, an amine curing agent, a polyaminoamide curing agent, an acid anhydride curing agent, phenol It describes that a system hardening agent can be used.

しかし、エポキシ樹脂と組み合わせると、優れたハンドリング性と、高耐熱性や高屈折率などとを両立させるのが困難となる。   However, when combined with an epoxy resin, it becomes difficult to achieve both excellent handling properties and high heat resistance and a high refractive index.

特に、近年の光学材料では、高度な高屈折率が要求される用途もあり、特許文献1及び2のいずれの硬化物でも、このような用途では屈折率が十分ではなかった。   In particular, in recent optical materials, there is an application that requires a high refractive index, and any of the cured products of Patent Documents 1 and 2 has an insufficient refractive index for such an application.

一方、「ネットワークポリマー」Vol.27 No.1(2006), p30-36(非特許文献1)には、水添ビスフェノールA型エピスルフィド樹脂に対して、チタニウムアルコキシドモノマー又はオリゴマー(チタニウムテトライソプロポキシド)を硬化剤として用いてハイブリッド化した高屈折材料が開示されている。この文献には、ハイブリッド体において、硬化剤の含有量を10重量%まで増加させ、屈折率を1.57まで増加できることが記載されている。   On the other hand, “Network Polymer” Vol.27 No.1 (2006), p30-36 (Non-patent Document 1) describes a titanium alkoxide monomer or oligomer (titanium tetraisopropoxide) for hydrogenated bisphenol A type episulfide resin. ) Is used as a curing agent, and a high refractive material is disclosed. This document describes that in the hybrid body, the content of the curing agent can be increased to 10% by weight and the refractive index can be increased to 1.57.

しかし、このハイブリッド体でも、高度な高屈折率が要求される用途では十分ではなかった。   However, even this hybrid body is not sufficient for applications that require a high refractive index.

特開2001−181276号公報(請求項1、段落[0026]、実施例)JP 2001-181276 A (Claim 1, paragraph [0026], Example) 特開2013−124339号公報(請求項1、段落[0082][0091]、実施例)JP 2013-124339 A (Claim 1, paragraphs [0082] [0091], Example)

「ネットワークポリマー」Vol.27 No.1(2006), p30-36"Network Polymer" Vol.27 No.1 (2006), p30-36

従って、本発明の目的は、高屈折率の自立膜を形成できる硬化性組成物並びにその硬化物及び硬化物の製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a curable composition capable of forming a self-supporting film having a high refractive index, a cured product thereof, and a method for producing the cured product.

本発明の他の目的は、透明性、耐熱性、高誘電性及び絶縁性に優れた自立膜を形成できる硬化性組成物並びにその硬化物及び硬化物の製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a curable composition capable of forming a self-supporting film excellent in transparency, heat resistance, high dielectric property and insulation, and a cured product thereof and a method for producing the cured product.

本発明のさらに他の目的は、耐光性に優れた自立膜を形成できる硬化性組成物並びにその硬化物及び硬化物の製造方法を提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a curable composition capable of forming a self-supporting film excellent in light resistance, a cured product thereof, and a method for producing the cured product.

本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、フルオレン骨格とオキシラン環及び/又はチイラン環とを有する硬化性成分と金属酸化物ナノ粒子とを組み合わせて熱硬化することにより、高屈折率の自立膜を形成できることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the inventors have carried out a combination of a curable component having a fluorene skeleton, an oxirane ring and / or a thiirane ring, and metal oxide nanoparticles to achieve high curing. The present invention was completed by finding that a free-standing film having a refractive index can be formed.

すなわち、本発明の硬化性組成物は、下記式(1)で表される硬化性成分と、金属酸化物ナノ粒子とを含む。   That is, the curable composition of the present invention includes a curable component represented by the following formula (1) and metal oxide nanoparticles.

Figure 2017088775
Figure 2017088775

(式中、環Zは芳香族炭化水素環、Rは置換基、Rはアルキレン基、Rは置換基、Xは硫黄原子又は酸素原子を示し、kは0〜4の整数、mは1以上の整数、nは0以上の整数である)。 (In the formula, ring Z is an aromatic hydrocarbon ring, R 1 is a substituent, R 2 is an alkylene group, R 3 is a substituent, X is a sulfur atom or an oxygen atom, k is an integer of 0 to 4, m Is an integer of 1 or more, and n is an integer of 0 or more).

前記金属酸化物ナノ粒子は、周期表第4A族金属酸化物ナノ粒子(特に、酸化ジルコニウムナノ粒子)であってもよい。前記金属酸化物ナノ粒子の平均粒径は30nm以下であってもよい。前記式(1)で表される硬化性成分と前記金属酸化物ナノ粒子との重量割合は、前者/後者=70/30〜5/95(特に30/70〜10/90)程度である。前記式(1)において、Rはアルキル基、kは0〜1、RはC2−4アルキレン基、mは1〜10、Rはアルキル基又はアリール基、nは0〜4、Xは硫黄原子であってもよい。 The metal oxide nanoparticles may be periodic table group 4A metal oxide nanoparticles (particularly zirconium oxide nanoparticles). The metal oxide nanoparticles may have an average particle size of 30 nm or less. The weight ratio between the curable component represented by the formula (1) and the metal oxide nanoparticles is about the former / the latter = 70/30 to 5/95 (particularly 30/70 to 10/90). In the formula (1), R 1 is an alkyl group, k is 0 to 1, R 2 is a C 2-4 alkylene group, m is 1 to 10, R 3 is an alkyl group or an aryl group, n is 0 to 4, X may be a sulfur atom.

本発明には、前記硬化性組成物を硬化させた硬化物も含まれる。この硬化物の屈折率は1.7以上であってもよい。また、本発明には、前記硬化性組成物を加熱処理して硬化させる硬化物の製造方法も含まれる。   The present invention also includes a cured product obtained by curing the curable composition. The refractive index of the cured product may be 1.7 or more. Moreover, the manufacturing method of the hardened | cured material which heat-processes and hardens the said curable composition is also contained in this invention.

本発明では、フルオレン骨格を有する(チオ)エポキシ化合物(エピスルフィド化合物及び/又はエポキシ化合物)と金属酸化物ナノ粒子とを組み合わせて熱硬化するため、高屈折率の自立膜を形成できる。また、透明性、耐熱性、高誘電性及び絶縁性に優れた自立膜を形成できる。さらに、金属酸化物ナノ粒子として、酸化ジルコニウムナノ粒子を用いると、自立膜の耐光性も向上でき、自立膜に高い屈折率を付与できるとともに、長期間光に曝されても、自立膜の機械的特性を維持できる。   In the present invention, since the (thio) epoxy compound (episulfide compound and / or epoxy compound) having a fluorene skeleton and the metal oxide nanoparticles are thermoset together, a self-supporting film having a high refractive index can be formed. In addition, a self-supporting film excellent in transparency, heat resistance, high dielectric property, and insulation can be formed. Furthermore, when zirconium oxide nanoparticles are used as the metal oxide nanoparticles, the light resistance of the self-supporting film can be improved, and a high refractive index can be imparted to the self-supporting film. Maintain the desired characteristics.

[式(1)で表される硬化性成分]
本発明の硬化性組成物は、式(1)で表される硬化性成分(硬化性成分(1))を含む。
[Curable component represented by formula (1)]
The curable composition of this invention contains the curable component (curable component (1)) represented by Formula (1).

前記式(1)において、環Zで表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環[例えば、縮合二環式炭化水素環(例えば、インデン環、ナフタレン環などのC8−20縮合二環式炭化水素環、好ましくはC10−16縮合二環式炭化水素環)、縮合三環式炭化水素環(例えば、アントラセン環、フェナントレン環など)などの縮合二乃至四環式炭化水素環など]などが挙げられる。好ましい芳香族炭化水素環は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などが挙げられ、特に、ベンゼン環又はナフタレン環(特にベンゼン環)が好ましい。なお、フルオレンの9位に置換する2つの環Zは同一の又は異なる環であってもよく、通常、同一の環であってもよい。 In the formula (1), examples of the aromatic hydrocarbon ring represented by the ring Z include a benzene ring, a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring [for example, a condensed bicyclic hydrocarbon ring (for example, an indene ring, naphthalene, C 8-20 condensed bicyclic hydrocarbon rings such as rings, preferably C 10-16 condensed bicyclic hydrocarbon rings), condensed tricyclic hydrocarbon rings (eg, anthracene ring, phenanthrene ring, etc.) Bi- to tetracyclic hydrocarbon rings, etc.]. Preferred aromatic hydrocarbon rings include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and the like, and a benzene ring or a naphthalene ring (particularly a benzene ring) is particularly preferable. The two rings Z substituted at the 9-position of fluorene may be the same or different rings, and may usually be the same ring.

なお、フルオレンの9位に置換する環Zの置換位置は、特に限定されず、例えば、フルオレンの9位に置換するナフチル基は、1−ナフチル基、2−ナフチル基などであってもよく、特に2−ナフチル基であるのが好ましい。   In addition, the substitution position of the ring Z substituted at the 9th position of fluorene is not particularly limited. For example, the naphthyl group substituted at the 9th position of fluorene may be a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, or the like. Particularly preferred is a 2-naphthyl group.

また、前記式(1)において、基Rで表される置換基としては、例えば、シアノ基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子など)、炭化水素基[例えば、アルキル基、アリール基(フェニル基などのC6−10アリール基)など]などの非反応性置換基(特に非エポキシ系置換基)が挙げられ、特に、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキル基(特にアルキル基)である場合が多い。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基などのC1−6アルキル基(例えば、C1−4アルキル基、特にメチル基)などが例示できる。なお、基Rが複数(2以上)である場合、基Rは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、フルオレン(又はフルオレン骨格)を構成する2つのベンゼン環に置換する基Rは同一であってもよく、異なっていてもよい。また、フルオレンを構成するベンゼン環に対する基Rの結合位置(置換位置)は、特に限定されず、例えば、フルオレン環の2位、7位、2及び7位などが挙げられる。好ましい置換数kは、0〜1、特に0である。なお、フルオレンを構成する2つのベンゼン環において、置換数kは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 In the formula (1), examples of the substituent represented by the group R 1 include a cyano group, a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), a hydrocarbon group [eg, alkyl group, aryl Non-reactive substituents (especially non-epoxy substituents) such as a group (C 6-10 aryl group such as a phenyl group), etc., especially a halogen atom, a cyano group or an alkyl group (especially an alkyl group) There are many cases. Examples of the alkyl group include C 1-6 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a t-butyl group (for example, a C 1-4 alkyl group, particularly a methyl group). . In addition, when the group R 1 is plural (two or more), the groups R 1 may be different from each other or the same. Further, the groups R 1 substituted on the two benzene rings constituting the fluorene (or fluorene skeleton) may be the same or different. Further, the bonding position (substitution position) of the group R 1 with respect to the benzene ring constituting the fluorene is not particularly limited, and examples thereof include the 2nd, 7th, 2nd and 7th positions of the fluorene ring. The preferred substitution number k is 0 to 1, in particular 0. In the two benzene rings constituting fluorene, the number of substitutions k may be the same or different from each other.

前記式(1)において、基Rで表されるアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、1,2−ブタンジイル基、テトラメチレン基などのC2−6アルキレン基、好ましくはC2−4アルキレン基、さらに好ましくはC2−3アルキレン基、特にエチレン基が挙げられる。なお、mが2以上であるとき、アルキレン基は異なるアルキレン基で構成されていてもよく、通常、同一のアルキレン基で構成されていてもよい。 In the formula (1), examples of the alkylene group represented by the group R 2 include C 2-6 alkylene groups such as ethylene group, propylene group, trimethylene group, 1,2-butanediyl group, and tetramethylene group, Is a C 2-4 alkylene group, more preferably a C 2-3 alkylene group, particularly an ethylene group. When m is 2 or more, the alkylene group may be composed of different alkylene groups, and usually may be composed of the same alkylene group.

オキシアルキレン基(基OR)の数(付加モル数)mは、1以上の整数であればよく、例えば、1〜25(例えば、1〜20)程度の範囲から選択でき、通常、1〜15、好ましくは1〜10、さらに好ましくは1〜8(例えば、1〜5)、特に1〜3(例えば、1〜2)程度であってもよい。なお、2つのmは、同一又は異なっていてもよい。 The number (addition mole number) m of the oxyalkylene group (group OR 2 ) may be an integer of 1 or more, and can be selected from a range of, for example, about 1 to 25 (for example, 1 to 20). 15, preferably 1 to 10, more preferably 1 to 8 (for example, 1 to 5), particularly about 1 to 3 (for example, 1 to 2). Two m's may be the same or different.

また、式(1)において、2つのmの合計は、例えば、2〜30(例えば、2〜20)、好ましくは2〜15(例えば、2〜10)、さらに好ましくは2〜6(例えば、2〜4)であってもよい。2つのmの合計により、硬化物における硬さや粘度などを調整でき、このような範囲に調整することにより、高屈折率、高耐熱性で硬質の硬化物を得やすい。また、より一層硬化性に優れた硬化性成分(1)を効率よく得ることができる。なお、2つのmは、同一であってもよく、異なっていてもよい。   In the formula (1), the sum of two m is, for example, 2 to 30 (for example, 2 to 20), preferably 2 to 15 (for example, 2 to 10), and more preferably 2 to 6 (for example, 2-4). The sum of the two m can adjust the hardness and viscosity of the cured product, and by adjusting to such a range, it is easy to obtain a hard cured product with a high refractive index and high heat resistance. Moreover, the sclerosing | hardenable component (1) which was further excellent in sclerosis | hardenability can be obtained efficiently. Two m's may be the same or different.

なお、硬化性成分(1)は、mの値が同一の化合物の集合体であってもよく、mの値が異なる化合物の集合体であってもよい。後者の場合、mの値及び2つのmの合計は、平均値(相加平均又は算術平均)である。   The curable component (1) may be an aggregate of compounds having the same value of m, or an aggregate of compounds having different values of m. In the latter case, the value of m and the sum of the two m are average values (arithmetic average or arithmetic average).

環Zに置換する置換基Rとしては、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などのC1−12アルキル基、好ましくはC1−8アルキル基、さらに好ましくはC1−6アルキル基など)、シクロアルキル基(シクロへキシル基などのC5−8シクロアルキル基、好ましくはC5−6シクロアルキル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基などのC6−14アリール基、好ましくはC6−10アリール基、さらに好ましくはC6−8アリール基など)、アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基などのC6−10アリール−C1−4アルキル基など)などの炭化水素基;アルコキシ基(メトキシ基などのC1−8アルコキシ基、好ましくはC1−6アルコキシ基など)、シクロアルコキシ基(C5−10シクロアルキルオキシ基など)、アリールオキシ基(C6−10アリールオキシ基など)などの基−OR[式中、Rは炭化水素基(前記例示の炭化水素基など)を示す];アルキルチオ基(メチルチオ基などのC1−8アルキルチオ基、好ましくはC1−6アルキルチオ基など)などの基−SR(式中、Rは前記と同じ);アシル基(アセチル基などのC1−6アシル基など);アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基などのC1−4アルコキシ−カルボニル基など);ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など);ヒドロキシル基;ニトロ基;シアノ基などの非エポキシ系置換基が挙げられる。 Examples of the substituent R 3 substituted on the ring Z include an alkyl group (for example, a C 1-12 alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, preferably a C 1-8 alkyl group). More preferably a C 1-6 alkyl group), a cycloalkyl group (C 5-8 cycloalkyl group such as a cyclohexyl group, preferably a C 5-6 cycloalkyl group etc.), an aryl group (for example, a phenyl group). , C 6-14 aryl groups such as tolyl group and xylyl group, preferably C 6-10 aryl group, more preferably C 6-8 aryl group, etc., aralkyl groups (C 6-10 such as benzyl group, phenethyl group, etc.) Hydrocarbon groups such as aryl-C 1-4 alkyl groups; alkoxy groups (C 1-8 alkoxy groups such as methoxy groups, preferably C 1-6 A group such as a alkoxy group), a cycloalkoxy group (such as a C 5-10 cycloalkyloxy group), and an aryloxy group (such as a C 6-10 aryloxy group) —OR 4 [wherein R 4 represents a hydrocarbon group ( The above-exemplified hydrocarbon groups, etc.]; groups such as alkylthio groups (C 1-8 alkylthio groups such as methylthio groups, preferably C 1-6 alkylthio groups) and the like —SR 4 (wherein R 4 represents An acyl group (C 1-6 acyl group such as acetyl group); alkoxycarbonyl group (C 1-4 alkoxy-carbonyl group such as methoxycarbonyl group); halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine) Atom, iodine atom, etc.); hydroxyl group; nitro group; non-epoxy substituents such as cyano group.

これらのうち、基Rは、炭化水素基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などであるのが好ましく、特に、好ましい基Rは、炭化水素基[例えば、アルキル基(例えば、C1−4アルキル基)]、アルコキシ基(C1−4アルコキシ基など)、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など)などである。 Of these, the group R 3 is preferably a hydrocarbon group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, and the like. R 3 represents a hydrocarbon group [eg, alkyl group (eg, C 1-4 alkyl group)], alkoxy group (C 1-4 alkoxy group, etc.), halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom). Etc.).

なお、同一の環Zにおいて、基Rが複数(2以上)である場合、基Rは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、2つの環Zにおいて、基Rは同一であってもよく、異なっていてもよい。また、好ましい置換数nは、0〜8、好ましくは0〜6(例えば、1〜5)、さらに好ましくは0〜4、特に0〜2(例えば、0〜1)であってもよい。なお、2つの環Zにおいて、置換数nは、互いに同一又は異なっていてもよい。 In addition, in the same ring Z, when the group R 3 is plural (two or more), the groups R 3 may be different from each other or the same. In the two rings Z, the groups R 3 may be the same or different. The preferred substitution number n may be 0 to 8, preferably 0 to 6 (for example, 1 to 5), more preferably 0 to 4, particularly 0 to 2 (for example, 0 to 1). In the two rings Z, the number of substitutions n may be the same or different from each other.

硬化性成分(1)は、式(1)において、Xが硫黄原子であるエピスルフィド化合物(エピスルフィド化合物(1))、式(1)において、Xが酸素原子であるエポキシ化合物(エポキシ化合物(1))のいずれであってもよい。さらに、硬化性成分(1)は、式(1)において、一方のXが硫黄原子であり、かつ他方Xが酸素原子である化合物であってもよく、エピスルフィド化合物(1)とエポキシ化合物(1)との混合物であってもよい。これらのうち、高度な光学特性と機械的特性とを両立できる点から、エピスルフィド化合物(1)を含むのが好ましく、エピスルフィド化合物(1)単独が特に好ましい。   The curable component (1) is an episulfide compound (episulfide compound (1)) in which X is a sulfur atom in the formula (1), and an epoxy compound (epoxy compound (1) in which X is an oxygen atom in the formula (1). ). Furthermore, in the formula (1), the curable component (1) may be a compound in which one X is a sulfur atom and the other X is an oxygen atom. The episulfide compound (1) and the epoxy compound (1) And a mixture thereof. Of these, the episulfide compound (1) is preferably contained, and the episulfide compound (1) alone is particularly preferred from the viewpoint that both high optical properties and mechanical properties can be achieved.

なお、式(1)において、下記式   In the formula (1), the following formula

Figure 2017088775
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で表される基[以下、単に「(チオ)エポキシ基含有基」という]の置換位置は、特に限定されず、環Zの適当な位置に置換していればよい。例えば、環Zがベンゼン環である場合、チオエポキシ基含有基は、3位又は4位、特に4位に置換していてもよい。また、環Zが縮合多環式芳香族炭化水素環である場合には、特に、フルオレンの9位に結合した炭化水素環とは別の炭化水素環(例えば、ナフタレン環の5位、6位など)に置換していてもよく、代表的には、ナフタレン環の(チオ)エポキシ基含有基とフルオレンの置換位置との組み合わせが、1,5位、又は2,6位である場合が多い。 The substitution position of the group represented by the formula [hereinafter simply referred to as “(thio) epoxy group-containing group”] is not particularly limited, and it may be substituted at an appropriate position on the ring Z. For example, when ring Z is a benzene ring, the thioepoxy group-containing group may be substituted at the 3-position or 4-position, particularly 4-position. Further, when the ring Z is a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon ring, in particular, a hydrocarbon ring different from the hydrocarbon ring bonded to the 9th position of fluorene (for example, the 5th and 6th positions of the naphthalene ring). Typically, the combination of the (thio) epoxy group-containing group of the naphthalene ring and the substitution position of fluorene is often in the 1,5-position or the 2,6-position. .

代表的な硬化性成分(1)には、下記式(1A)で表される化合物(式(1)において環Zがベンゼン環である化合物)、下記式(1B)で表される化合物(式(1)において環Zがナフタレン環である化合物)などが含まれる。   Representative curable components (1) include a compound represented by the following formula (1A) (a compound in which ring Z is a benzene ring in formula (1)), a compound represented by the following formula (1B) (formula And compounds in which ring Z is a naphthalene ring in (1).

Figure 2017088775
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(式中、n1は0〜4の整数、n2及びn3はそれぞれ0〜3の整数を示し、R、R、R、X、k、mは前記と同じ)。 (In the formula, n1 represents an integer of 0 to 4, n2 and n3 each represents an integer of 0 to 3, and R 1 , R 2 , R 3 , X, k and m are the same as above).

代表的な硬化性成分(1)には、9,9−ビス[(2,3−エピチオプロポキシ)(ポリ)アルコキシフェニル]フルオレン類(又は式(1A)において、Xが硫黄原子であるエピスルフィド化合物)、9,9−ビス[(2,3−エピチオプロポキシ)(ポリ)アルコキシナフチル]フルオレン類(式(1B)において、Xが硫黄原子であるエピスルフィド化合物など)、9,9−ビス[グリシジルオキシ(ポリ)アルコキシフェニル]フルオレン類(又は式(1A)においてXが酸素原子であるエポキシ化合物)、9,9−ビス[グリシジルオキシ(ポリ)アルコキシナフチル]フルオレン類(式(1B)においてXが酸素原子であるエポキシ化合物など)などが挙げられる。   Typical curable components (1) include 9,9-bis [(2,3-epithiopropoxy) (poly) alkoxyphenyl] fluorenes (or an episulfide in which X is a sulfur atom in formula (1A)) Compound), 9,9-bis [(2,3-epithiopropoxy) (poly) alkoxynaphthyl] fluorenes (such as an episulfide compound in which X is a sulfur atom in formula (1B)), 9,9-bis [ Glycidyloxy (poly) alkoxyphenyl] fluorenes (or an epoxy compound in which X is an oxygen atom in formula (1A)), 9,9-bis [glycidyloxy (poly) alkoxynaphthyl] fluorenes (in formula (1B), X And an epoxy compound in which is an oxygen atom.

9,9−ビス[(2,3−エピチオプロポキシ)(ポリ)アルコキシフェニル]フルオレン類としては、例えば、9,9−ビス{4−[2−(2,3−エピチオプロポキシ)エトキシ]フェニル}フルオレン(又は9,9−ビス{4−[2−(2,3−チオエポキシプロポキシ)エトキシ]フェニル}フルオレン、以下同じ)などの9,9−ビス[2−(2,3−エピチオプロポキシ)C2−4アルコキシフェニル]フルオレン;9,9−ビス{4−[2−(2,3−エピチオプロポキシ)エトキシ]−3−メチルフェニル}フルオレン、9,9−ビス{4−[2−(2,3−エピチオプロポキシ)エトキシ]−3,5−ジメチルフェニル}フルオレンなどの9,9−ビス[2−(2,3−エピチオプロポキシ)C2−4アルコキシ−モノ又はジアルキルフェニル]フルオレン;9,9−ビス{4−[2−(2,3−エピチオプロポキシ)エトキシ]−3−フェニルフェニル}フルオレンなどの9,9−ビス[2−(2,3−エピチオプロポキシ)C2−4アルコキシ−アリールフェニル]フルオレンなどの9,9−ビス[(2,3−エピチオプロポキシ)アルコキシフェニル]フルオレン類(式(1A)において、mが1である化合物)、これらの化合物に対応し、式(1A)において、2つのmの合計が2を超える化合物などが含まれる。 As 9,9-bis [(2,3-epithiopropoxy) (poly) alkoxyphenyl] fluorenes, for example, 9,9-bis {4- [2- (2,3-epithiopropoxy) ethoxy] 9,9-bis [2- (2,3-epi) such as phenyl} fluorene (or 9,9-bis {4- [2- (2,3-thioepoxypropoxy) ethoxy] phenyl} fluorene, the same applies hereinafter) thiopropoxy) C 2-4 alkoxyphenyl] fluorene; 9,9-bis {4- [2- (2,3-epithiopropyl propoxy) ethoxy] -3-methylphenyl} fluorene, 9,9-bis {4- [2- (2,3-epithiopropyl propoxy) ethoxy] -3,5-dimethylphenyl} fluorene 9,9-bis [2- (2,3-epithiopropyl propoxy) C 2-4 alkoxy - mono Is dialkylphenyl] fluorene; 9,9-bis {4- [2- (2,3-epithiopropoxy) ethoxy] -3-phenylphenyl} fluorene and other 9,9-bis [2- (2,3- Epithiopropoxy) 9,9-bis [(2,3-epithiopropoxy) alkoxyphenyl] fluorenes such as C 2-4 alkoxy-arylphenyl] fluorene (compound in which m is 1 in formula (1A)) In addition, in the formula (1A), a compound in which the sum of two m exceeds 2 is included.

9,9−ビス[グリシジルオキシ(ポリ)アルコキシフェニル]フルオレン類としては、これらのエピスルフィド化合物に対応するエポキシ化合物などが含まれる。   The 9,9-bis [glycidyloxy (poly) alkoxyphenyl] fluorenes include epoxy compounds corresponding to these episulfide compounds.

9,9−ビス[(2,3−エピチオプロポキシ)(ポリ)アルコキシナフチル]フルオレン類としては、例えば、9,9−ビス{6−[2−(2,3−エピチオプロポキシ)エトキシ]−2−ナフチル}フルオレン、9,9−ビス{5−[2−(2,3−エピチオプロポキシ)エトキシ]−1−ナフチル}フルオレンなどの9,9−ビス[2−(2,3−エピチオプロポキシ)C2−4アルコキシナフチル]フルオレンなどの9,9−ビス[(2,3−エピチオプロポキシ)アルコキシナフチル]フルオレン類(式(1B)において、mが1である化合物)、これらの化合物に対応し、式(1B)において、2つのmの合計が2を超える化合物などが含まれる。 Examples of 9,9-bis [(2,3-epithiopropoxy) (poly) alkoxynaphthyl] fluorenes include 9,9-bis {6- [2- (2,3-epithiopropoxy) ethoxy]. 9,9-bis [2- (2,3-), such as 2-naphthyl} fluorene, 9,9-bis {5- [2- (2,3-epithiopropoxy) ethoxy] -1-naphthyl} fluorene Epithiopropoxy) 9,9-bis [(2,3-epithiopropoxy) alkoxynaphthyl] fluorenes such as C 2-4 alkoxynaphthyl] fluorene (compounds in which m is 1 in formula (1B)), these In the formula (1B), a compound in which the sum of two m exceeds 2 is included.

9,9−ビス[グリシジルオキシ(ポリ)アルコキシナフチル]フルオレン類としては、これらのエピスルフィド化合物に対応するエポキシ化合物などが含まれる。   The 9,9-bis [glycidyloxy (poly) alkoxynaphthyl] fluorenes include epoxy compounds corresponding to these episulfide compounds.

(硬化性成分(1)の製造方法)
硬化成分(1)のうち、エポキシ化合物(1)は、市販品を用いてもよく、慣用の方法(例えば、下記式(A)で表される化合物と、エピクロロヒドリンとを反応させる方法など)により製造したものを用いてもよい。
(Method for producing curable component (1))
Of the curing component (1), a commercially available product may be used as the epoxy compound (1), and a conventional method (for example, a method of reacting a compound represented by the following formula (A) with epichlorohydrin). Etc.) may be used.

Figure 2017088775
Figure 2017088775

(式中、Z、R、R、R、k、m、nは前記と同じ)。 (In the formula, Z, R 1 , R 2 , R 3 , k, m, and n are the same as above).

なお、このエポキシ化合物(1)は、特開2009−155256号公報などを参照して製造することもできる。   In addition, this epoxy compound (1) can also be manufactured with reference to Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-155256.

一方、エピスルフィド化合物(1)は、例えば、エポキシ化合物(1)をエピスルフィド化することにより製造できる。   On the other hand, the episulfide compound (1) can be produced, for example, by episulfiding the epoxy compound (1).

なお、エポキシ化合物(1)を前記のようにして製造する場合、エポキシ化合物(1)の他に、エポキシ化合物(1)の多量体(下記式(B)で表される化合物)や、単官能性のエポキシ化合物(下記式(C)で表される化合物)が生成する場合がある。   When the epoxy compound (1) is produced as described above, in addition to the epoxy compound (1), a multimer of the epoxy compound (1) (compound represented by the following formula (B)) or monofunctional In some cases, a functional epoxy compound (compound represented by the following formula (C)) is produced.

Figure 2017088775
Figure 2017088775

(式中、pは1以上の整数を示し、Z、R、R、R、k、m、nは前記と同じ)。 (In the formula, p represents an integer of 1 or more, and Z, R 1 , R 2 , R 3 , k, m, and n are the same as above).

そして、エポキシ化合物(1)と、前記式(B)で表される多量体エポキシ化合物や、式(C)で表される単官能性エポキシ化合物を含むエポキシ組成物をエピスルフィド化すると、エピスルフィド化合物(1)を含むエピスルフィド組成物が得られる。   Then, when the epoxy compound (1) and the epoxy composition containing the multimeric epoxy compound represented by the formula (B) or the monofunctional epoxy compound represented by the formula (C) are episulfided, an episulfide compound ( An episulfide composition comprising 1) is obtained.

エポキシ化合物(1)をエピスルフィド化する方法としては、特に限定されないが、代表的には、エポキシ化合物(1)と硫黄含有化合物(チオ尿素、チオシアン酸)とを反応させる方法が挙げられる。   The method for episulfiding the epoxy compound (1) is not particularly limited, but representatively, a method of reacting the epoxy compound (1) with a sulfur-containing compound (thiourea, thiocyanic acid) can be mentioned.

硫黄含有化合物としては、エピスルフィド化可能であれば特に限定されず、例えば、チオ尿素、チオシアン酸又はその塩などが挙げられる。硫黄含有化合物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。代表的には、チオ尿素を使用してもよい。   The sulfur-containing compound is not particularly limited as long as it can be episulfidized, and examples thereof include thiourea, thiocyanic acid or a salt thereof. The sulfur-containing compounds may be used alone or in combination of two or more. Typically, thiourea may be used.

なお、硫黄含有化合物の割合は、エポキシ基の割合に応じて選択でき、エポキシ化合物(1)(又はエポキシ化合物(1)を含むエポキシ組成物)1モルに対して、例えば、2モル以上(例えば、2.1〜30モル)、好ましくは2.5〜20モル、さらに好ましくは3〜15モル(例えば、3〜10モル)程度であってもよい。   In addition, the ratio of a sulfur containing compound can be selected according to the ratio of an epoxy group, for example, 2 mol or more (for example, with respect to 1 mol of an epoxy compound (1) (or an epoxy composition containing an epoxy compound (1)) 2.1 to 30 mol), preferably 2.5 to 20 mol, more preferably about 3 to 15 mol (for example, 3 to 10 mol).

なお、反応は、溶媒中で行ってもよい。溶媒としては、アルコール類(エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどのアルキルアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類など)、炭化水素類(ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など)、ハロゲン化炭化水素類(塩化メチレン、クロロホルムなど)、エーテル類(ジメチルエーテル、ジエチルエーテルなどの鎖状エーテル類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類など)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど)、ケトン類(アセトン、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど)、セロソルブ類、カルビトール類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、グリコールエーテルエステル類(エチレングリコールモノメチルエーテルアセテートなど)、アミド類(N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなど)、スルホキシド類(ジメチルスルホキシドなど)、ニトリル類(アセトニトリル、ベンゾニトリルなど)などの有機溶媒が挙げられる。溶媒は、単独で又は混合溶媒として使用できる。   The reaction may be performed in a solvent. Solvents include alcohols (alkyl alcohols such as ethanol, propanol and isopropanol, glycols such as ethylene glycol and propylene glycol), hydrocarbons (aliphatic hydrocarbons such as hexane, cycloaliphatic carbons such as cyclohexane, etc. Hydrogen, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene), halogenated hydrocarbons (methylene chloride, chloroform, etc.), ethers (chain ethers such as dimethyl ether and diethyl ether), cyclic ethers such as dioxane and tetrahydrofuran Etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), ketones (acetone, ethyl methyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), cellosolves, carbitols, propylene glycol Monoalkyl ethers, glycol ether esters (such as ethylene glycol monomethyl ether acetate), amides (such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide), sulfoxides (such as dimethyl sulfoxide), nitriles (acetonitrile, Organic solvents such as benzonitrile). The solvent can be used alone or as a mixed solvent.

反応温度や反応時間は、使用する原料の種類に応じて適宜選択できる。反応温度は、例えば、30〜120℃、好ましくは35〜100℃、さらに好ましくは40〜70℃程度であってもよい。また、反応時間は、例えば、30分〜100時間、通常、1〜80時間、好ましくは2〜60時間程度であってもよい。   The reaction temperature and reaction time can be appropriately selected according to the type of raw material used. The reaction temperature may be, for example, 30 to 120 ° C, preferably 35 to 100 ° C, more preferably about 40 to 70 ° C. The reaction time may be, for example, 30 minutes to 100 hours, usually 1 to 80 hours, preferably about 2 to 60 hours.

反応は、還流しながら行ってもよく、副生成分を除去しながら行ってもよい。また、反応は、攪拌しながら行ってもよく、不活性雰囲気(窒素、希ガスなど)中で行ってもよく、常圧、加圧下又は減圧下で行ってもよい。   The reaction may be performed while refluxing or may be performed while removing by-products. The reaction may be performed with stirring, may be performed in an inert atmosphere (nitrogen, rare gas, etc.), or may be performed under normal pressure, increased pressure, or reduced pressure.

なお、生成した化合物(エピスルフィド化合物(1)又はエピスルフィド組成物)は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製してもよい。   The produced compound (episulfide compound (1) or episulfide composition) is separated by a conventional method, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination thereof. It may be separated and purified by means.

[金属酸化物ナノ粒子]
本発明の硬化性組成物は、前記硬化性成分(1)に加えて、硬化性成分(重合成分)として、さらに金属酸化物ナノ粒子を含む。本発明では、ナノメータサイズの金属酸化物粒子が、ナノサイズでの特異な挙動を示すためか、表面修飾されていなくても、加熱により前記硬化成分(1)と反応(重合)して、自立膜を形成できる。しかも、硬化性成分(1)に対する反応性に優れるため、前記硬化性成分(1)に対して多量に配合しても自立膜を形成でき、金属酸化物による特性(高屈折率など)を自立膜に付与できる。特に、金属酸化物ナノ粒子として、周期表第4A族金属酸化物ナノ粒子を用いると、屈折率1.7以上の高度な屈折率も実現できる。
[Metal oxide nanoparticles]
The curable composition of the present invention further contains metal oxide nanoparticles as a curable component (polymerization component) in addition to the curable component (1). In the present invention, the nanometer-sized metal oxide particles react with the curing component (1) by heating (polymerization) even if the nano-sized metal oxide particles exhibit a unique behavior in the nano-size, and are not self-supporting. A film can be formed. In addition, since it has excellent reactivity to the curable component (1), it can form a self-supporting film even if it is blended in a large amount with the curable component (1), and the characteristics (high refractive index, etc.) due to the metal oxide are self-supporting. Can be applied to the membrane. In particular, when the Group 4A metal oxide nanoparticles of the periodic table are used as the metal oxide nanoparticles, a high refractive index of 1.7 or more can be realized.

金属酸化物ナノ粒子を構成する金属酸化物としては、例えば、周期表第4A族金属酸化物(例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウムなど)、第5A族金属酸化物(酸化バナジウムなど)、第6A族金属酸化物(酸化モリブデン、酸化タングステンなど)、第7A族金属酸化物(酸化マンガンなど)、第8族金属酸化物(酸化ニッケル、酸化鉄など)、第1B族金属酸化物(酸化銅など)、第2B族金属酸化物(酸化亜鉛など)、第3B族金属酸化物(酸化アルミニウム、酸化インジウムなど)、第4B族金属酸化物(酸化錫など)、第5B族金属酸化物(酸化アンチモンなど)などが挙げられる。これらの金属酸化物で形成された金属酸化物ナノ粒子は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   Examples of the metal oxide constituting the metal oxide nanoparticles include a Group 4A metal oxide (for example, titanium oxide and zirconium oxide), a Group 5A metal oxide (for example, vanadium oxide), and Group 6A of the periodic table. Metal oxide (such as molybdenum oxide and tungsten oxide), Group 7A metal oxide (such as manganese oxide), Group 8 metal oxide (such as nickel oxide and iron oxide), Group 1B metal oxide (such as copper oxide) Group 2B metal oxides (such as zinc oxide), Group 3B metal oxides (such as aluminum oxide and indium oxide), Group 4B metal oxides (such as tin oxide), Group 5B metal oxides (such as antimony oxide) ) And the like. The metal oxide nanoparticles formed of these metal oxides can be used alone or in combination of two or more.

これらの金属酸化物ナノ粒子のうち、屈折率の向上効果が大きい点から、第4A族金属酸化物ナノ粒子、第2B族金属酸化物ナノ粒子が好ましく、第4A族金属酸化物ナノ粒子が特に好ましい。さらに、屈折率を向上させ、かつ自立膜の耐光性も向上できる点から、酸化ジルコニウムナノ粒子(特に二酸化ジルコニウムナノ粒子)が好ましい。   Of these metal oxide nanoparticles, Group 4A metal oxide nanoparticles and Group 2B metal oxide nanoparticles are preferable, and Group 4A metal oxide nanoparticles are particularly preferable because of the large effect of improving the refractive index. preferable. Furthermore, zirconium oxide nanoparticles (particularly zirconium dioxide nanoparticles) are preferable from the viewpoint that the refractive index can be improved and the light resistance of the free-standing film can be improved.

金属酸化物ナノ粒子は、溶媒中に分散された分散液の形態であってもよい。溶媒としては、例えば、水、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなどの低級アルコールなど)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、ギ酸メチル、ギ酸エチルなど)、エーテル類(ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど)、脂肪族炭化水素類(ヘキサンなど)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサンなど)、芳香族炭化水素類(ベンゼンなど)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタンなど)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど)、セロソルブアセテート類、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど)などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの溶媒のうち、メチルエチルケトンなどの脂肪族ケトン類が汎用される。分散液中の金属酸化物ナノ粒子の濃度は、例えば0.1〜50重量%、好ましくは1〜40重量%、さらに好ましくは5〜30重量%程度である。   The metal oxide nanoparticles may be in the form of a dispersion dispersed in a solvent. Examples of the solvent include water, alcohols (lower alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (methyl acetate, acetic acid, etc.). Ethyl, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, etc.), ethers (diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic Group hydrocarbons (such as benzene), halogenated carbons (such as dichloromethane and dichloroethane), cellosolves (such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve), cellosolve acetates, amides (dimethylformamide, di Such as chill acetamide), and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Of these solvents, aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone are widely used. The concentration of the metal oxide nanoparticles in the dispersion is, for example, about 0.1 to 50% by weight, preferably about 1 to 40% by weight, and more preferably about 5 to 30% by weight.

金属酸化物ナノ粒子の表面は、溶媒への分散性を向上できる点などから、シランカップリング剤などの表面処理剤によって慣用の表面処理がされていてもよいが、硬化性成分との反応性の点から、表面処理がされていないナノ粒子が好ましい。本発明では、(チオ)エポキシ基に対して反応性を有する慣用の反応性基を表面処理剤で導入していないにも拘わらず、ナノサイズでの特異な挙動を示すためか、前記硬化性成分(1)との反応性に優れている。   The surface of the metal oxide nanoparticles may be subjected to a conventional surface treatment with a surface treatment agent such as a silane coupling agent from the viewpoint of improving dispersibility in a solvent. From this point, nanoparticles that are not surface-treated are preferable. In the present invention, although the conventional reactive group having reactivity to the (thio) epoxy group is not introduced by the surface treatment agent, it exhibits the unique behavior at the nanosize, or the curability Excellent reactivity with component (1).

金属酸化物ナノ粒子の形状は、特に限定されず、例えば、球状、楕円体状、多角体形(多角錘状、正方体状、直方体状など)、板状、棒状、不定形などが挙げられるが、略球状などの等方形状が好ましい。   The shape of the metal oxide nanoparticles is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, an elliptical shape, a polygonal shape (polygonal pyramid shape, a rectangular parallelepiped shape, a rectangular parallelepiped shape, etc.), a plate shape, a rod shape, an indefinite shape, and the like. An isotropic shape such as a substantially spherical shape is preferred.

金属酸化物ナノ粒子の平均粒径(個数平均一次粒径)は、ナノメータサイズであればよいが、硬化性成分(1)との反応性に優れる点から、50nm以下(特に30nm以下)であってもよく、例えば1〜30nm、好ましくは5〜25nm、さらに好ましくは10〜23nm(特に15〜20nm)程度である。金属酸化物ナノ粒子の平均粒径が大きすぎると、硬化性成分(1)との反応性が低下し、自立膜を形成できなくなる虞がある。   The average particle size (number average primary particle size) of the metal oxide nanoparticles may be a nanometer size, but is 50 nm or less (particularly 30 nm or less) from the viewpoint of excellent reactivity with the curable component (1). For example, 1-30 nm, Preferably it is 5-25 nm, More preferably, it is a 10-23 nm (especially 15-20 nm) grade. When the average particle diameter of the metal oxide nanoparticles is too large, the reactivity with the curable component (1) is lowered, and there is a possibility that a self-supporting film cannot be formed.

本発明では、金属酸化物ナノ粒子の平均粒径は、慣用の方法、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)写真に基づいて測定できる。   In the present invention, the average particle diameter of the metal oxide nanoparticles can be measured based on a conventional method, for example, a scanning electron microscope (SEM) photograph.

前記硬化性成分(1)と金属酸化物ナノ粒子との重量割合は、前者/後者=90/10〜1/99程度の範囲から選択でき、金属酸化物ナノ粒子の割合が多くても、硬化性成分(1)との硬化物(又は重合体)を形成でき、例えば70/30〜5/95、好ましくは50/50〜7/93(例えば40/60〜15/85)、さらに好ましくは30/70〜10/90(特に25/75〜15/85)程度である。金属酸化物ナノ粒子の割合が少なすぎると、硬化膜の屈折率が低下する虞があり、多すぎると、硬化膜の機械的強度が低下する虞がある。   The weight ratio between the curable component (1) and the metal oxide nanoparticles can be selected from the range of the former / the latter = about 90/10/1/99. A cured product (or polymer) with the sex component (1) can be formed, for example 70/30 to 5/95, preferably 50/50 to 7/93 (for example 40/60 to 15/85), more preferably 30/70 to 10/90 (especially 25/75 to 15/85). If the ratio of the metal oxide nanoparticles is too small, the refractive index of the cured film may be lowered, and if it is too large, the mechanical strength of the cured film may be lowered.

[他の硬化性成分]
本発明の硬化性組成物は、硬化性成分(1)及び金属酸化物ナノ粒子に加えて、他の硬化性成分を含んでいてもよい。他の硬化性成分には、前記硬化成分(1)の製造過程で混入する(チオ)エポキシ化合物や、汎用のエポキシ樹脂などが含まれる。
[Other curable components]
The curable composition of the present invention may contain other curable components in addition to the curable component (1) and the metal oxide nanoparticles. The other curable component includes a (thio) epoxy compound mixed in the manufacturing process of the curable component (1), a general-purpose epoxy resin, and the like.

前記(チオ)エポキシ化合物は、エポキシ化合物(1)の製造過程で混入する前述のエポキシ化合物や、このエポキシ化合物をエピスルフィド化した化合物、すなわち、下記式(2)で表される(チオ)エポキシ化合物(多量体(チオ)エポキシ化合物)や下記式(3)で表される(チオ)エポキシ化合物(単官能性(チオ)エポキシ化合物)であってもよい。このような多量体(チオ)エポキシ化合物や単官能性(チオ)エポキシ化合物は、硬化性や硬化物の物性などを低下させる虞があるため、多量に含まれるのは好ましくないが、ハンドリング性の向上などの観点から微量であればむしろ含まれている方が好ましい場合もある。   The (thio) epoxy compound is the above-described epoxy compound mixed in the production process of the epoxy compound (1) or a compound obtained by episulfiding the epoxy compound, that is, the (thio) epoxy compound represented by the following formula (2) It may be a (multimeric (thio) epoxy compound) or a (thio) epoxy compound (monofunctional (thio) epoxy compound) represented by the following formula (3). Such multimeric (thio) epoxy compounds and monofunctional (thio) epoxy compounds may reduce curability and physical properties of the cured product, so it is not preferable that they are contained in large quantities. From the viewpoint of improvement or the like, it may be preferable that it is contained in a trace amount.

Figure 2017088775
Figure 2017088775

(式中、Z、R、R、R、X、k、m、n、pは前記と同じ)。 (In the formula, Z, R 1 , R 2 , R 3 , X, k, m, n, and p are the same as above).

前記式(2)において、pは、例えば、1〜10、好ましくは1〜4、さらに好ましくは1〜3、特に1〜2程度であってもよい。通常、式(2)で表される化合物は、式(2)において、pが1である化合物を少なくとも含んでいる。式(2)で表される化合物全体に対して、式(2)においてpが1である化合物の割合は、例えば、40モル%以上(例えば、45〜100モル%)、好ましくは50モル%以上(例えば、55〜99モル%)、さらに好ましくは60モル%以上(例えば、65〜97モル%)、特に70モル%以上(例えば、75〜95モル%)であってもよい。   In the formula (2), p may be, for example, 1 to 10, preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, particularly 1 to 2. Usually, the compound represented by the formula (2) includes at least a compound in which p is 1 in the formula (2). The ratio of the compound in which p is 1 in the formula (2) to the whole compound represented by the formula (2) is, for example, 40 mol% or more (for example, 45 to 100 mol%), preferably 50 mol%. It may be more (for example, 55 to 99 mol%), more preferably 60 mol% or more (for example, 65 to 97 mol%), particularly 70 mol% or more (for example, 75 to 95 mol%).

式(2)で表される化合物の割合は、(チオ)エポキシ化合物全体の50モル%以下(例えば、1〜45モル%)、好ましくは40モル%以下(例えば、2〜35モル%)、さらに好ましくは30モル%以下(例えば、3〜25モル%)であってもよい。   The proportion of the compound represented by the formula (2) is 50 mol% or less (for example, 1 to 45 mol%), preferably 40 mol% or less (for example, 2 to 35 mol%) of the entire (thio) epoxy compound, More preferably, it may be 30 mol% or less (for example, 3 to 25 mol%).

式(3)で表される化合物の割合は、(チオ)エポキシ化合物全体の30モル%以下(例えば、0.5〜25モル%)、好ましくは25モル%以下(例えば、1〜22モル%)、さらに好ましくは20モル%以下(例えば、2〜18モル%)であってもよい。   The proportion of the compound represented by formula (3) is 30 mol% or less (for example, 0.5 to 25 mol%), preferably 25 mol% or less (for example, 1 to 22 mol%) of the entire (thio) epoxy compound. ), More preferably 20 mol% or less (for example, 2 to 18 mol%).

また、式(2)で表される化合物及び式(3)で表される化合物の総量の割合は、(チオ)エポキシ化合物全体の50モル%以下(例えば、1〜45モル%)、好ましくは40モル%以下(例えば、3〜35モル%)、さらに好ましくは30モル%以下(例えば、5〜25モル%)であってもよく、通常3〜20モル%(例えば、5〜15モル%)程度であってもよい。   Moreover, the ratio of the total amount of the compound represented by Formula (2) and the compound represented by Formula (3) is 50 mol% or less (for example, 1-45 mol%) of the whole (thio) epoxy compound, Preferably It may be 40 mol% or less (for example, 3 to 35 mol%), more preferably 30 mol% or less (for example, 5 to 25 mol%), and usually 3 to 20 mol% (for example, 5 to 15 mol%). ) Degree.

なお、式(2)で表される化合物と式(3)で表される化合物との割合(モル比)は、例えば、前者/後者=99/1〜1/99(例えば、97/3〜10/90)、好ましくは95/5〜15/85(例えば、93/7〜20/80)、さらに好ましくは90/10〜30/70(例えば、85/15〜40/60)程度であってもよい。   The ratio (molar ratio) between the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the formula (3) is, for example, the former / the latter = 99/1 to 1/99 (for example, 97/3 to 3/3). 10/90), preferably 95/5 to 15/85 (for example, 93/7 to 20/80), more preferably about 90/10 to 30/70 (for example, 85/15 to 40/60). May be.

本発明では、式(1)〜(3)で表される(チオ)エポキシ化合物の割合は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度(面積比、面積%)を測定することにより求めることができる。   In the present invention, the proportion of the (thio) epoxy compound represented by the formulas (1) to (3) can be determined by measuring the purity (area ratio, area%) by high performance liquid chromatography (HPLC). .

なお、(チオ)エポキシ化合物において、式(2)で表される化合物や式(3)で表される化合物の割合は、原料となるエポキシ化合物の製造条件などにより容易に調整することができる。また、式(2)で表される化合物や式(3)で表される化合物を別途調製し、式(1)で表される化合物と混合して(チオ)エポキシ組成物を調製することもできる。   In the (thio) epoxy compound, the ratio of the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the formula (3) can be easily adjusted depending on the production conditions of the epoxy compound used as a raw material. Alternatively, a compound represented by formula (2) or a compound represented by formula (3) may be separately prepared and mixed with a compound represented by formula (1) to prepare a (thio) epoxy composition. it can.

汎用のエポキシ樹脂としては、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂など)、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール(又はクレゾール)ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェノールアルカン型エポキシ樹脂(トリフェノールメタン型エポキシ樹脂など)、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂(キサンテン単位を含むエポキシ樹脂を含む)、スチルベン型エポキシ樹脂、縮合環芳香族炭化水素変性エポキシ樹脂(1,6−ビス(グリシジルオキシ)ナフタレン、ビス(2,7−ビス(グリシジルオキシ)ナフチル)アルカンなどのナフタレン環含有エポキシ樹脂など)、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂などが挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   General-purpose epoxy resins include glycidyl ether type epoxy resins such as bisphenol type epoxy resins (bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, etc.), phenol novolac type epoxy resins, cresol novolak type epoxy resins, dicyclopentadiene modified Phenol (or cresol) novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, triphenolalkane type epoxy resin (such as triphenolmethane type epoxy resin), phenol aralkyl type epoxy resin, heterocyclic type epoxy resin (epoxy resin containing xanthene unit) ), Stilbene type epoxy resins, condensed ring aromatic hydrocarbon modified epoxy resins (1,6-bis (glycidyloxy) naphthalene, bis (2,7-bis (glycidylo)) Shi) naphthyl) naphthalene ring-containing epoxy resins such as alkanes), glycidyl ester type epoxy resins, and epoxy resins having a fluorene skeleton. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

汎用のエポキシ樹脂の割合は、硬化性成分全体に対して30モル%以下であってもよく、例えば、20モル%以下、好ましくは10モル%以下、さらに好ましくは5モル%以下(例えば、0.01〜5モル%)である。汎用のエポキシ樹脂の割合が多すぎると、硬化物の強度及び屈折率が低下する虞がある。   The proportion of the general-purpose epoxy resin may be 30 mol% or less, for example, 20 mol% or less, preferably 10 mol% or less, more preferably 5 mol% or less (for example, 0 mol% or less). 0.01 to 5 mol%). When there are too many ratios of a general purpose epoxy resin, there exists a possibility that the intensity | strength and refractive index of hardened | cured material may fall.

[他の添加剤]
本発明の硬化性組成物は、硬化性成分及び硬化剤に加えて、他の添加剤を含んでいてもよい。他の添加剤としては、例えば、溶媒、硬化剤(エピスルフィド化合物やエポキシ化合物の慣用の硬化剤、例えば、アミン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤など)、硬化促進剤、希釈剤(単官能性(チオ)エポキシ化合物などの反応性希釈剤など)、着色剤、安定剤(熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤など)、充填剤、帯電防止剤、難燃剤、難燃助剤などを含んでいてもよい。他の添加剤は、単独で又は2種以上組み合わせて使用してもよい。他の添加剤の割合は、硬化性組成物全体に対して、30重量%以下(例えば10重量%以下)であってもよい。
[Other additives]
The curable composition of the present invention may contain other additives in addition to the curable component and the curing agent. Other additives include, for example, solvents, curing agents (e.g., conventional curing agents for episulfide compounds and epoxy compounds, such as amine curing agents, polyaminoamide curing agents, acid anhydride curing agents, phenol curing agents, etc. ), Curing accelerators, diluents (reactive diluents such as monofunctional (thio) epoxy compounds), colorants, stabilizers (thermal stabilizers, antioxidants, UV absorbers, etc.), fillers, charging An inhibitor, a flame retardant, a flame retardant aid, and the like may be included. You may use another additive individually or in combination of 2 or more types. The ratio of other additives may be 30% by weight or less (for example, 10% by weight or less) with respect to the entire curable composition.

[硬化物]
硬化物は、前記硬化性組成物を反応させる(硬化処理する)ことにより得ることができる。このような硬化処理は、硬化物の所望の形状に応じて、硬化性組成物を成形しつつ又は成形(又は予備成形)した後、行ってもよい。なお、硬化物の形状としては、三次元的硬化物、硬化膜や硬化パターンなどの一次元又は二次元的硬化物、点又はドット状硬化物などが挙げられる。具体的には、前記成形体は、前記硬化性組成物の硬化物で形成された所望の形状の製品、基材上に形成された前記硬化性組成物の硬化物で形成された硬化膜(塗膜)などであってもよい。例えば、前記硬化性組成物を、加熱溶融し、所定の型に流し込んで加熱することにより硬化し、所望の形状の成形体を得ることができる。また、硬化膜は、液状の硬化性組成物を、基材上に塗布し、乾燥し、次いで加熱することにより、基材上に形成することができる。なお、硬化性組成物を溶媒に溶解又は分散し、液状の硬化性組成物を得てもよい。成形方法及び硬化条件は特に限定されないが、例えば、所定の金型を用いて成形する場合には、加熱加圧による成形法やコールドプレスと呼ばれる低温成形法が用いられる。
[Hardened product]
The cured product can be obtained by reacting (curing treatment) the curable composition. Such a curing treatment may be performed while molding or molding (or preforming) the curable composition according to the desired shape of the cured product. In addition, as a shape of hardened | cured material, one-dimensional or two-dimensional hardened | cured material, such as a three-dimensional hardened | cured material, a cured film, and a hardened pattern, a point or dot-shaped hardened | cured material, etc. are mentioned. Specifically, the molded body is a product having a desired shape formed from a cured product of the curable composition, a cured film formed from a cured product of the curable composition formed on a substrate ( Coating film) or the like. For example, the curable composition is melted by heating, poured into a predetermined mold and heated to be cured, and a molded body having a desired shape can be obtained. Moreover, a cured film can be formed on a base material by apply | coating a liquid curable composition on a base material, drying, and then heating. The curable composition may be dissolved or dispersed in a solvent to obtain a liquid curable composition. The molding method and the curing conditions are not particularly limited. For example, when molding using a predetermined mold, a molding method by heating and pressurization or a low-temperature molding method called cold press is used.

硬化処理は、加熱などにより行うことができ、これらを組み合わせて行ってもよい。通常、少なくとも加熱により硬化処理を行う場合が多い。   The curing treatment can be performed by heating or the like, and may be performed in combination. Usually, the curing treatment is often performed at least by heating.

硬化処理において、加熱温度としては、50℃以上であればよく、例えば50〜300℃、好ましくは80〜250℃、さらに好ましくは100〜200℃(特に150〜180℃)程度である。加熱温度が低すぎると、自立膜が形成できなくなる虞がある。   In the curing treatment, the heating temperature may be 50 ° C. or higher, for example, 50 to 300 ° C., preferably 80 to 250 ° C., more preferably about 100 to 200 ° C. (especially 150 to 180 ° C.). If the heating temperature is too low, a free-standing film may not be formed.

また、加熱時間(硬化処理時間)は、例えば10分〜24時間、好ましくは30分〜18時間、さらに好ましくは1〜12時間(特に2〜8時間)程度であってもよい。なお、硬化による内部応力を緩和するため、硬化処理は段階的に行ってもよく、例えば、比較的低温で加熱処理したのち、より高温で加熱処理してもよい。   The heating time (curing time) may be, for example, about 10 minutes to 24 hours, preferably 30 minutes to 18 hours, and more preferably about 1 to 12 hours (particularly 2 to 8 hours). In order to relieve internal stress due to curing, the curing process may be performed in stages, for example, after a heat treatment at a relatively low temperature, the heat treatment may be performed at a higher temperature.

なお、硬化処理(加熱処理)は、不活性ガス雰囲気中で行ってもよい。不活性ガス中で行うことで、硬化物の着色を効率よく抑制できる場合がある。また、硬化処理は、常圧下又は加圧下で行ってもよい。   The curing process (heat treatment) may be performed in an inert gas atmosphere. By performing in inert gas, coloring of hardened | cured material can be suppressed efficiently. Moreover, you may perform a hardening process under a normal pressure or pressurization.

また、硬化物を膜状(フィルム状、薄膜状)に形成する場合には、硬化性組成物を、基板(又は基体)に塗布することにより形成してもよい。基板は、例えば、樹脂、ガラス、セラミックなどの絶縁性基板、結晶シリコンやアモルファスシリコンなどの半導体基板、金属などの導体基板、これらの基板上に導体層を形成したもの、さらにはこれらを複合したものなどが挙げられる。   Moreover, when forming hardened | cured material in a film form (film form, thin film form), you may form by apply | coating a curable composition to a board | substrate (or base | substrate). The substrate is, for example, an insulating substrate such as resin, glass or ceramic, a semiconductor substrate such as crystalline silicon or amorphous silicon, a conductor substrate such as metal, a conductor layer formed on these substrates, or a composite of these. Things.

基板に塗膜(薄膜)を形成する塗布法としては、特に限定されないが、例えば、スピンコーティング法、ロールコーティング法、バーコーティング法、スリットコーティング法、グラビアコーティング法、スプレーコーティング法、ディッピング法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。   The coating method for forming a coating film (thin film) on the substrate is not particularly limited. For example, spin coating method, roll coating method, bar coating method, slit coating method, gravure coating method, spray coating method, dipping method, screen The printing method etc. can be mentioned.

塗膜(又は硬化物)の厚みは、硬化物の用途に応じて、例えば、0.01μm〜10mm、好ましくは0.05μm〜1mm、さらに好ましくは0.1〜100μm(特に0.5〜10μm)程度であってもよい。   The thickness of the coating film (or cured product) is, for example, 0.01 μm to 10 mm, preferably 0.05 μm to 1 mm, more preferably 0.1 to 100 μm (particularly 0.5 to 10 μm) depending on the use of the cured product. ) Degree.

基板に塗布した硬化性組成物は、必要に応じて、乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、公知の方法を用いて行うことができる。乾燥処理は、例えば、常圧下、加圧下又は減圧下において行ってもよい。また、乾燥処理は、室温で行ってもよく、加熱手段(ホットプレート、オーブンなど)により加温して行ってもよい。   The curable composition applied to the substrate may be subjected to a drying treatment as necessary. A drying process can be performed using a well-known method. You may perform a drying process under normal pressure, pressurization, or pressure reduction, for example. In addition, the drying treatment may be performed at room temperature, or may be performed by heating with a heating means (hot plate, oven, etc.).

基板に塗布された塗膜は、前述のように、必要に応じて乾燥処理された後、硬化処理される。硬化処理において、加熱温度や加熱時間は、前記と同様の範囲から選択できる。   As described above, the coating film applied to the substrate is subjected to a curing treatment after being dried as necessary. In the curing process, the heating temperature and the heating time can be selected from the same ranges as described above.

本発明の硬化物は、高屈折率であり、具体的に、硬化物の屈折率(光源波長632nm)は1.7以上であってもよく、例えば1.73以上(例えば1.73〜1.9)、好ましくは1.75以上(例えば1.75〜1.89)、さらに好ましくは1.8以上(例えば1.8〜1.88)であってもよい。   The cured product of the present invention has a high refractive index. Specifically, the cured product may have a refractive index (light source wavelength of 632 nm) of 1.7 or more, for example, 1.73 or more (for example, 1.73 to 1). .9), preferably 1.75 or more (for example, 1.75 to 1.89), more preferably 1.8 or more (for example, 1.8 to 1.88).

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、各種特性の測定や評価は以下の方法によって行った。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. Various characteristics were measured and evaluated by the following methods.

(GPC(ゲル浸透クロマトグラフィー))
高速GPC装置(東ソー(株)製「HLC−8320GPC」)を用い、試料をテトラヒドロフランに溶解させ、流量1.0mL/分、注入量100μL、温度40℃で測定した。
(GPC (gel permeation chromatography))
Using a high-speed GPC device (“HLC-8320GPC” manufactured by Tosoh Corporation), the sample was dissolved in tetrahydrofuran and measured at a flow rate of 1.0 mL / min, an injection amount of 100 μL, and a temperature of 40 ° C.

(HPLC)
高速液体クロマトグラフィー((株)日立ハイテクノロジーズ製「L−2000」)を用い、試料の希釈倍率2000倍(アセトニトリル)、温度30℃、波長254nm、流量0.5mL/分の条件下、水/アセトニトリル(重量比)=30/70で30分、その後、水/アセトニトリル(重量比)=0/100で30分測定した。
(HPLC)
Using high performance liquid chromatography (“L-2000” manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), the sample was diluted 2000 times (acetonitrile), temperature 30 ° C., wavelength 254 nm, flow rate 0.5 mL / min, water / Acetonitrile (weight ratio) = 30/70 was measured for 30 minutes, and then water / acetonitrile (weight ratio) = 0/100 was measured for 30 minutes.

(FT−IRスペクトル)
測定装置としてフーリエ変換赤外装置(PERKIN ELMER社製「Spectrum 100」)を用い、測定範囲:5000〜400cm−1、積算回数:4回、分解能:4cm−1の条件で測定した。
(FT-IR spectrum)
A Fourier transform infrared device (“Spectrum 100” manufactured by PERKIN ELMER) was used as a measurement device, and measurement was performed under the conditions of measurement range: 5000 to 400 cm −1 , integration count: 4 times, and resolution: 4 cm −1 .

(NMR)
核磁気共鳴装置(日本電子(株)製「AL−300」)を用い、サンプル0.02gを0.4mlの重クロロホルムに溶解し、サンプルのH−NMRスペクトルを測定した。
(NMR)
Using a nuclear magnetic resonance apparatus (“AL-300” manufactured by JEOL Ltd.), 0.02 g of the sample was dissolved in 0.4 ml of deuterated chloroform, and the 1 H-NMR spectrum of the sample was measured.

(屈折率)
比較例1及び2では、多波長アッベ屈折計「DR−M2/1550」((株)アタゴ製)を用いて、光源波長589nm、測定温度25℃で測定した。
(Refractive index)
In Comparative Examples 1 and 2, the measurement was performed at a light source wavelength of 589 nm and a measurement temperature of 25 ° C. using a multiwavelength Abbe refractometer “DR-M2 / 1550” (manufactured by Atago Co., Ltd.).

実施例1及び2では、エリプソメーター(ULVAC(株)製「ESM−1T」、回転検光子法)を用いて、測定光は波長632nmのHe−Neレーザーを使用し、入射角70°固定で測定した。   In Examples 1 and 2, an ellipsometer ("ESM-1T" manufactured by ULVAC, Inc., rotating analyzer method) is used, and a He-Ne laser having a wavelength of 632 nm is used as the measurement light, and the incident angle is fixed at 70 °. It was measured.

比較例1
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(大阪ガスケミカル(株)製、以下、BPEFという)42g(0.096モル)をクロロメチルオキシラン(特級、キシダ化学(株)製)88g(0.96モル)に溶解し、さらにベンジルトリエチルアンモニウムクロライド(特級、関東化学(株)製)2.0gを加え、60℃にて1時間攪拌した。次に、減圧下(650mmHg)、45℃にて40%水酸化ナトリウム水溶液30gを1.5時間かけて滴下した。その間、生成する水をクロロメチルオキシランとの共沸により系外に除き、留出したクロロメチルオキシランは系内に戻した。滴下終了後、さらに3時間反応を継続した。その後、濾過により生成した塩を取り除き、さらに水洗した後、クロロメチルオキシランを留去して粘性液体を得た。得られた粘性液体をHPLC及びGPCにて分析した結果、9,9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン[又は9,9−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)フルオレンのジグリシジルエーテル、BPF−2EOGという]を主として含むエポキシ化合物(エポキシ樹脂)であることを確認した。
Comparative Example 1
42 g (0.096 mol) of 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene (Osaka Gas Chemical Co., Ltd., hereinafter referred to as BPEF) was added to chloromethyloxirane (special grade, Kishida Chemical Co., Ltd.). The product was dissolved in 88 g (0.96 mol), and 2.0 g of benzyltriethylammonium chloride (special grade, manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) was further added, followed by stirring at 60 ° C. for 1 hour. Next, under reduced pressure (650 mmHg), 30 g of a 40% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise at 45 ° C. over 1.5 hours. Meanwhile, the water produced was removed from the system by azeotropy with chloromethyloxirane, and the distilled chloromethyloxirane was returned to the system. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for another 3 hours. Then, the salt produced | generated by filtration was removed, and also after washing with water, chloromethyl oxirane was distilled off and the viscous liquid was obtained. The obtained viscous liquid was analyzed by HPLC and GPC. As a result, 9,9-bis [4- (2-glycidyloxyethoxy) phenyl] fluorene [or 9,9-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) fluorene diene was analyzed. It was confirmed that it was an epoxy compound (epoxy resin) mainly containing glycidyl ether and BPF-2EOG].

得られた粘性液体60.46g及びテトラヒドロフラン(THF、ナカライテスク(株)製)567gを添加し、溶解させた。   60.46 g of the obtained viscous liquid and 567 g of tetrahydrofuran (THF, manufactured by Nacalai Tesque) were added and dissolved.

また、別の1Lのフラスコにチオ尿素(ナカライテスク(株)製)29.27g(385mmol)及びメタノール462gを添加し、チオ尿素のメタノール溶液を得た。   Further, 29.27 g (385 mmol) of thiourea (manufactured by Nacalai Tesque) and 462 g of methanol were added to another 1 L flask to obtain a methanol solution of thiourea.

2Lのフラスコに滴下ロートを取り付け、チオ尿素のメタノール溶液を入れ、室温にて0.5時間かけて滴下した。滴下終了後、40〜54℃に加熱して44時間反応させた。反応の進行は、HPLC分析により確認し、BPF−2EOGに対応するピークが消失するまで反応を行った。その後、室温に戻した反応液をロータリーエバポレーターで約100gまで濃縮し、蒸留水400mLを投入した後、酢酸エチルにて抽出(400mL及び200mLでそれぞれ一回抽出)し、ブライン洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。   A dropping funnel was attached to a 2 L flask, a methanol solution of thiourea was added, and the mixture was added dropwise at room temperature over 0.5 hours. After completion of the dropwise addition, the mixture was heated to 40 to 54 ° C. and reacted for 44 hours. The progress of the reaction was confirmed by HPLC analysis, and the reaction was continued until the peak corresponding to BPF-2EOG disappeared. Thereafter, the reaction solution returned to room temperature is concentrated to about 100 g with a rotary evaporator, and 400 mL of distilled water is added thereto, followed by extraction with ethyl acetate (each extraction with 400 mL and 200 mL each), brine washing, and magnesium sulfate. Dried.

その後、溶媒を留去し、粘性液体(66.39g)を得た。なお、粘性液体には、酢酸エチルが5.3重量%残っており、固形分の収率は99.1重量%であった。得られた粘性液体をHPLC、GPC、FT−IR及びNMRにて分析した結果、9−ビス[4−(2−グリシジルオキシエトキシ)フェニル]フルオレンのエピスルフィド化合物(下記式で表される化合物)を主として含む粘性液体であることを確認した。純度は96.2%であった。なお、純度はHPLCによる面積比で求めた。   Thereafter, the solvent was distilled off to obtain a viscous liquid (66.39 g). In the viscous liquid, 5.3% by weight of ethyl acetate remained, and the yield of the solid content was 99.1% by weight. As a result of analyzing the obtained viscous liquid by HPLC, GPC, FT-IR and NMR, an episulfide compound of 9-bis [4- (2-glycidyloxyethoxy) phenyl] fluorene (compound represented by the following formula) was obtained. It was confirmed that the liquid was mainly contained. The purity was 96.2%. Purity was determined by area ratio by HPLC.

Figure 2017088775
Figure 2017088775

H−NMR:δ(ppm)=7.7(d,2H)、7.2−7.4(m,6H)、7.1(d,4H)6.8(d,4H)、4.1(dd,2H)、3.8(dd,2H)、3.7(dd,2H)、3.5(dd、2H)、3.1(q、2H)、2.5(dd,2H)、2.2(dd,2H)。 1 H-NMR: δ (ppm) = 7.7 (d, 2H), 7.2-7.4 (m, 6H), 7.1 (d, 4H) 6.8 (d, 4H), 4 .1 (dd, 2H), 3.8 (dd, 2H), 3.7 (dd, 2H), 3.5 (dd, 2H), 3.1 (q, 2H), 2.5 (dd, 2H) 2H), 2.2 (dd, 2H).

さらに、得られたエピスルフィド化合物の屈折率(25℃、589nm)は、1.626であった。   Furthermore, the refractive index (25 degreeC, 589 nm) of the obtained episulfide compound was 1.626.

このエピスルフィド化合物3gをアルミカップに測り、110℃に設定したホットプレート上で完全に溶解させた後、硬化剤として1,3−BAC(東京化成工業(株)製「1,3−ビスアミノシクロヘキサン」)0.365gを添加し、110℃に設定したホットプレート上で均一になるまで攪拌した。この混合物を40℃で2時間、80℃で2時間、120℃で2時間加熱硬化して硬化物を得た。昇温速度は2℃/分とした。得られた硬化膜の屈折率は1.640であった。   After measuring 3 g of this episulfide compound in an aluminum cup and completely dissolving it on a hot plate set at 110 ° C., 1,3-BAC (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., “1,3-bisaminocyclohexane” ]) 0.365 g was added and stirred on a hot plate set at 110 ° C. until uniform. This mixture was heat-cured at 40 ° C. for 2 hours, 80 ° C. for 2 hours, and 120 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. The heating rate was 2 ° C./min. The obtained cured film had a refractive index of 1.640.

比較例2
比較例1で得られたフルオレンエピスルフィド化合物3gをアルミカップに測りとり、85℃で完全に溶解させた後に、硬化剤として2E4MZ(東京化成工業(株)製「2−エチル−4−メチルイミダゾール」)0.0075gを添加し、85℃に設定したホットプレート上で均一になるまで攪拌した。この混合物を40℃で2時間、80℃で2時間、120℃で2時間加熱硬化して硬化物を得た。昇温速度は2℃/分とした。得られた硬化膜の屈折率は1.652であった。
Comparative Example 2
After measuring 3 g of the fluorene episulfide compound obtained in Comparative Example 1 in an aluminum cup and completely dissolving it at 85 ° C., 2E4MZ (“2-ethyl-4-methylimidazole” manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used as a curing agent. ) 0.0075 g was added and stirred on a hot plate set at 85 ° C. until uniform. This mixture was heat-cured at 40 ° C. for 2 hours, 80 ° C. for 2 hours, and 120 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. The heating rate was 2 ° C./min. The obtained cured film had a refractive index of 1.652.

実施例1
酸化ジルコニウムナノ粒子分散液(ソーラー(株)製、溶媒:メチルエチルケトン、濃度:30重量%、ナノ粒子平均粒径:15〜20nm)10g中に、比較例1で得られたフルオレンエピスルフィド化合物2gを添加し、混合した。得られた混合液をスピンコーターを用いて、シリコーンウエハー上に塗布し、0.5μmの薄膜を得た。室温で1日間放置して溶媒を乾燥除去し、150℃で2時間、180℃で2時間加熱硬化して硬化膜を得た。昇温速度は2℃/分とした。得られた硬化膜の屈折率は1.747であった。また、得られた硬化膜は、フルオレンエピスルフィド化合物と酸化ジルコニウムナノ粒子とが重合し、自立膜としての強度を有していた。なお、硬化膜中の酸化ジルコニウムナノ粒子(酸化ジルコニウム単位)の重量割合は60重量%である。
Example 1
2 g of the fluorene episulfide compound obtained in Comparative Example 1 was added to 10 g of zirconium oxide nanoparticle dispersion (manufactured by Solar Co., Ltd., solvent: methyl ethyl ketone, concentration: 30 wt%, average particle size of nanoparticles: 15-20 nm). And mixed. The obtained mixed solution was applied onto a silicone wafer using a spin coater to obtain a 0.5 μm thin film. The solvent was removed by drying at room temperature for 1 day, and cured by heating at 150 ° C. for 2 hours and 180 ° C. for 2 hours to obtain a cured film. The heating rate was 2 ° C./min. The refractive index of the obtained cured film was 1.747. Further, the obtained cured film had a strength as a self-supporting film by polymerization of the fluorene episulfide compound and the zirconium oxide nanoparticles. In addition, the weight ratio of the zirconium oxide nanoparticles (zirconium oxide unit) in the cured film is 60% by weight.

実施例2
硬化膜中の酸化ジルコニウムナノ粒子の重量割合を80重量%に変更する以外は実施例1と同様にして硬化膜を得た。得られた硬化膜の屈折率は1.850であった。また、得られた硬化膜は、フルオレンエピスルフィド化合物と酸化ジルコニウムナノ粒子とが重合し、自立膜としての強度を有していた。
Example 2
A cured film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the weight ratio of the zirconium oxide nanoparticles in the cured film was changed to 80% by weight. The refractive index of the obtained cured film was 1.850. Further, the obtained cured film had a strength as a self-supporting film by polymerization of the fluorene episulfide compound and the zirconium oxide nanoparticles.

本発明の硬化性組成物は、電子部品の層間の絶縁材、プリント基板用のソルダーレジスト、カバーレイなどのレジスト材料などとして有用である他、カラーフィルター、インキ(印刷インキなど)、封止剤(半導体封止剤など)、塗料、コーティング剤、接着剤、粘着剤、アンダーフィル、帯電防止剤、充填材、導電部材又は導電材料、積層材料、感熱材料(感熱紙用材料など)、カーボン材料、絶縁材料、発泡体、感圧材料、燃料電池用膜、光学材料(透明材料)[例えば、レンズ(リフローレンズ、ピックアップレンズ、マイクロレンズなど)、偏光膜、反射防止フィルム、タッチパネル用フィルム、フレキシブル基板用フィルム、ディスプレイ用フィルム、光ファイバー、光導波路、ホログラム]などのあらゆる材料(電気・電子材料、光学材料など)として有用である。   The curable composition of the present invention is useful as an insulating material between layers of electronic components, a solder resist for printed circuit boards, a resist material such as a coverlay, etc., color filters, inks (printing inks, etc.), sealants (Semiconductor sealing agents, etc.), paints, coating agents, adhesives, adhesives, underfills, antistatic agents, fillers, conductive members or conductive materials, laminated materials, thermal materials (thermal paper materials, etc.), carbon materials , Insulating materials, foams, pressure sensitive materials, fuel cell membranes, optical materials (transparent materials) [eg lenses (reflow lenses, pickup lenses, micro lenses, etc.), polarizing films, antireflection films, touch panel films, flexible Substrate films, display films, optical fibers, optical waveguides, holograms], and other materials (electric and electronic materials) It is useful as an optical material).

Claims (10)

下記式(1)で表される硬化性成分と、金属酸化物ナノ粒子とを含む硬化性組成物。
Figure 2017088775
(式中、環Zは芳香族炭化水素環、Rは置換基、Rはアルキレン基、Rは置換基、Xは硫黄原子又は酸素原子を示し、kは0〜4の整数、mは1以上の整数、nは0以上の整数である)
A curable composition comprising a curable component represented by the following formula (1) and metal oxide nanoparticles.
Figure 2017088775
(In the formula, ring Z is an aromatic hydrocarbon ring, R 1 is a substituent, R 2 is an alkylene group, R 3 is a substituent, X is a sulfur atom or an oxygen atom, k is an integer of 0 to 4, m Is an integer greater than or equal to 1, and n is an integer greater than or equal to 0)
金属酸化物ナノ粒子が、周期表第4A族金属酸化物ナノ粒子である請求項1記載の硬化性組成物。   The curable composition according to claim 1, wherein the metal oxide nanoparticles are Group 4A metal oxide nanoparticles of the periodic table. 金属酸化物ナノ粒子が、酸化ジルコニウムナノ粒子である請求項1又は2記載の硬化性組成物。   The curable composition according to claim 1 or 2, wherein the metal oxide nanoparticles are zirconium oxide nanoparticles. 金属酸化物ナノ粒子の平均粒径が30nm以下である請求項1〜3のいずれかに記載の硬化性組成物。   The curable composition according to claim 1, wherein the metal oxide nanoparticles have an average particle size of 30 nm or less. 式(1)で表される硬化性成分と金属酸化物ナノ粒子との重量割合が、前者/後者=70/30〜5/95である請求項1〜4のいずれかに記載の硬化性組成物。   The curable composition according to any one of claims 1 to 4, wherein a weight ratio of the curable component represented by the formula (1) and the metal oxide nanoparticles is the former / the latter = 70/30 to 5/95. object. 式(1)で表される硬化性成分と金属酸化物ナノ粒子との重量割合が、前者/後者=30/70〜10/90である請求項1〜5のいずれかに記載の硬化性組成物。   The curable composition according to any one of claims 1 to 5, wherein a weight ratio of the curable component represented by the formula (1) and the metal oxide nanoparticles is the former / the latter = 30/70 to 10/90. object. 式(1)において、Rがアルキル基、kが0〜1、RがC2−4アルキレン基、mが1〜10、Rがアルキル基又はアリール基、nが0〜4、Xが硫黄原子である請求項1〜6のいずれかに記載の硬化性組成物。 In Formula (1), R 1 is an alkyl group, k is 0 to 1, R 2 is a C 2-4 alkylene group, m is 1 to 10, R 3 is an alkyl group or an aryl group, n is 0 to 4, X Is a sulfur atom, The curable composition in any one of Claims 1-6. 請求項1〜7のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化させた硬化物。   Hardened | cured material which hardened the curable composition in any one of Claims 1-7. 屈折率が1.7以上である請求項8記載の硬化物。   The cured product according to claim 8, wherein the refractive index is 1.7 or more. 請求項1〜7のいずれかに記載の硬化性組成物を加熱処理して硬化させる硬化物の製造方法。   The manufacturing method of the hardened | cured material which heat-processes and cures the curable composition in any one of Claims 1-7.
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