JP2017084563A - 電磁石制御装置および電磁石システム - Google Patents
電磁石制御装置および電磁石システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017084563A JP2017084563A JP2015210872A JP2015210872A JP2017084563A JP 2017084563 A JP2017084563 A JP 2017084563A JP 2015210872 A JP2015210872 A JP 2015210872A JP 2015210872 A JP2015210872 A JP 2015210872A JP 2017084563 A JP2017084563 A JP 2017084563A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- function
- value
- flux density
- current
- magnetic flux
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 204
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 61
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 39
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 13
- 238000012886 linear function Methods 0.000 claims description 10
- 230000004044 response Effects 0.000 claims 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 36
- 230000009467 reduction Effects 0.000 abstract description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 39
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 35
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 26
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 15
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 11
- 230000005347 demagnetization Effects 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 10
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
【解決手段】電磁石制御装置は、磁束密度指令値、または、磁束密度指令値を特定可能な情報を取得するように構成された指令値取得部と、磁束密度指令値に基づいてコイルに流す電流の値を決定する電流値決定部と、を備えている。電流値決定部は、継鉄の消磁状態から磁束密度の絶対値を増加させる場合に、第1の関数に基づいてコイルに流す電流の値を決定する第1の処理と、継鉄の着磁状態から磁束密度の絶対値を減少させる場合に、第2の関数に基づいてコイルに流す電流の値を決定する第2の処理と、継鉄の着磁状態から磁束密度の絶対値を増加させる場合に、第3の関数に基づいてコイルに流す電流の値を決定する第3の処理と、を実行するように構成される。
【選択図】図3
Description
かる電磁石システムによれば、第1ないし第10のいずれかの形態と同様の効果を奏する。
図1は、本発明の一実施例としてのプラズマ処理システム20の概略構成を示すブロック図である。プラズマ処理システム20は、本実施例では、プラズマエッチングを行うためのシステムであり、例えば、半導体製造工程において基板(例えば、ウェハ)をエッチングするために使用される。図1に示すように、プラズマ処理システム20は、プラズマエッチング装置21と指令部22と電磁石システム30と、を備えている。プラズマエッ
チング装置21は、チャンバ(図示省略)を備えている。チャンバ内でプラズマが発生させられ、それによって生成されるイオンやラジカルによって処理対象物がエッチングされる。指令部22は、本実施例では、パーソナルコンピュータであり、電磁石システム30(より具体的には、後述する電磁石制御装置50)に通信可能に接続されている。指令部22は、電磁石システム30に指令を与える任意の装置とすることができ、例えば、シーケンサなどであってもよい。
れた制御電流値I’の電流を電磁石40のコイル41に流す。消磁部85は、継鉄42に対して消磁を行う。具体的には、本実施例では、消磁部85は、指令部22から消磁指令を受け付けると、記憶部90から消磁のパラメータ(例えば、交流消磁の振幅、周波数など)を取得する。そして、消磁部85は、取得したパラメータに応じた指令をドライバ80に出力する。ドライバ80は、入力された指令に基づいて、電流を所望の波形に変換して出力する。
インF3は、最大値Bmaxに対応する電流値から電流値ゼロまで電流を低下させた後に、再度、最大値Bmaxに対応する電流値まで電流を一定の幅で増加させる場合における、コイル41に流れる電流値と、測定点M1において得られる磁束密度と、の関係を近似的に表している。
を算出する(ステップS210)。そして、電流値決定部70は、制御電流値In’を記憶部90に記憶する(ステップS220)とともに、制御電流値In’をドライバ80に出力し(ステップS230)、電流値決定処理を終了する。
、理想直線F0を用いて電流指令値I4(点P8に対応)を算出する(ステップS110)。着磁状態において磁束密度指令値が減少から増加に再度切り替わるか否かは、関数フラグを参照して判断することができる。具体的には、関数フラグが値2に設定されている状態で、前回よりも大きな磁束密度指令値が入力された場合は、着磁状態において磁束密度指令値が減少から増加に再度切り替わると判断することができる。
再度減少に転じる場合(関数フラグによって判断できる)には、図7および図8に示したのと同様に、第2の関数ラインF2が変換されたライン上に制御電流値I’が位置するように、制御電流値I’が決定される。なお、磁束密度指令値が、第2の関数ラインF2の最小値(x軸上の点)に達した後で磁束密度指令値が減少から増加に切り替わる場合には、第3の関数変換ラインF3’,F3’’ではなく、第3の関数ラインF3上に制御電流値I’が位置するように、制御電流値I’が決定される。説明は、省略するが、第2ないし第4象限の各々においても、第1象限と同様にして、制御電流値I’が決定される。
本発明の第2実施例について説明する。第2実施例としてのプラズマ処理システム20は、電磁石40に代えて、電磁石240を備えている。以下、第2実施例について、第1
実施例と異なる点についてのみ説明する。第2実施例の言及しない構成については、第1実施例と同様である。図11に示すように、電磁石240は、4つのコイル41a〜41dと、継鉄242と、を備えている。コイルの数は、4つに限定されるものではなく、2以上の任意の数とすることができる。コイル41a〜41dは、上面視で円形を有しており、同心状に配置されているが、図11では、円の中心に対して片側のみを示している。電磁石240では、4つのコイル41a〜41dから所定距離だけ離れた測定点M1〜M4において所望の磁束密度が得られるように、コイル41a〜41dに流す電流が制御される。測定点M1〜M4は、それぞれ、コイル41a〜41dに対応している。電流値決定部70は、コイル41a〜41dの各々によって発生する磁界の影響を反映して、コイル41a〜41dに流す電流の値を決定するように構成される。換言すれば、電流値決定部70は、1つのコイルに対応する測定点において得られるべき磁束密度から、他のコイルから当該測定点に及ぼされる磁束密度を差し引いた磁束密度が、当該測定点において当該1つのコイルから得られるように、コイル41a〜41dに流す電流の値を決定するように構成される。
本発明の第3実施例について説明する。第3実施例としてのプラズマ処理システム20は、第2実施例と同様の構成を備えている。第3実施例が第2実施例と異なる点は、コイル41a〜41dの少なくとも2つが同一の磁路を形成する場合に、それによる磁界の相互干渉を反映して、コイル41a〜41dに流す電流を決定する点である。以下、この点についてのみ説明する。
本発明の第4実施例について説明する。図17は、第4実施例としてのプラズマ処理システム320の概略構成を示すブロック図である。図17において、第1実施例(図1参照)と同一の構成要素には、図1と同一の符号を付している。以下では、プラズマ処理システム320について、第1実施例と異なる点についてのみ説明する。図17に示すように、プラズマ処理システム320は、電磁石システム30に代えて、電磁石システム330を備えている。電磁石システム330は、電磁石40と電磁石制御装置350とセンサ345とを備えている。
補償部385を備えている。補償部385は、センサ345によって検出された磁束密度と、指令部22から入力される磁束密度指令値と、の差分に基づいて、当該差分が小さく(理想的には、ほぼゼロに)なるように、制御電流値I’を補償する。補償部385の出力は、制御電流値I’に加算され、この加算値がドライバ80に入力される。かかる構成によれば、フィードバック制御によって、磁束密度をさらに精度良く制御することができる。
E−1.変形例1:
上述したプラズマ処理システム20、320において、外部(本実施例では、指令部22)から入力される指令値は、磁束密度指令値に限定されない。例えば、指令部22において、磁束密度指令値が電流指令値Iに変換され、電流指令値Iが指令値取得部60に入力されてもよい。指令値取得部60が取得する情報は、磁束密度指令値を特定可能な任意の情報であってもよい。
上述したプラズマ処理システム20,320において、電流値決定部70は、指令値取得部60が新たな磁束密度指令値を取得した場合に、前回取得した磁束密度指令値と、新たに取得した磁束密度指令値と、の変化幅に応じて、第1の関数91、第2の関数92または第3の関数93の各項の少なくとも1つに所定の係数を乗じた関数を用いてコイルに流す電流の値を決定してもよい。この場合、所定の係数は、実測に基づいて予め設定されるものであるが、変化幅が大きいほど、小さく設定される。また、プラズマ処理システム320において、電流値決定部70は、指令値取得部60が新たな磁束密度指令値を取得した場合に、取得した磁束密度指令値と、新たに取得した磁束密度指令値と、の変化幅に応じて、第1の関数91、第2の関数92または第3の関数93に対して、所定の関数の乗算および加算のうちの少なくとも一方を施した関数を用いて、コイル41a〜41dに流す電流の値を決定してもよい。所定の関数は、実測に基づいて予め設定される。残留磁気は、磁束密度値(換言すれば、電流値)の変化幅に応じて変化するが、これらの構成によれば、このような変化を反映できるように所定の係数を設定することによって、磁束密度を精度良く制御することができる。
21…プラズマエッチング装置
22…指令部
30,330…電磁石システム
40,240…電磁石
41,41a,41b,41c,41d…コイル
42,242…継鉄
42b…コイル
50,350…電磁石制御装置
60…指令値取得部
70…電流値決定部
80…ドライバ
85…消磁部
90…記憶部
91…第1の関数
92…第2の関数
93…第3の関数
345…センサ
385…補償部
Claims (12)
- 継鉄とコイルとを有する電磁石の前記コイルに流す電流を制御するための電磁石制御装置であって、
前記コイルに電流を流すことによって得られる磁束密度の目標値に相当する磁束密度指令値、または、前記磁束密度指令値を特定可能な情報を取得するように構成された指令値取得部と、
前記磁束密度指令値に基づいて前記コイルに流す電流の値を決定する電流値決定部と、
を備え、
前記電流値決定部は、
前記継鉄の消磁状態から磁束密度の絶対値を増加させる場合に、第1の関数に基づいて前記コイルに流す電流の値を決定する第1の処理と、
前記継鉄の着磁状態から磁束密度の絶対値を減少させる場合に、第2の関数に基づいて前記コイルに流す電流の値を決定する第2の処理と、
前記継鉄の着磁状態から磁束密度の絶対値を増加させる場合に、第3の関数に基づいて前記コイルに流す電流の値を決定する第3の処理と
を実行するように構成された
電磁石制御装置。 - 請求項1に記載の電磁石制御装置であって、
前記第1の関数、前記第2の関数および前記第3の関数は、磁束密度と電流との関係を表す関数である
電磁石制御装置。 - 請求項1または請求項2に記載の電磁石制御装置であって、
前記第1の関数、前記第2の関数および前記第3の関数は、線形関数である
電磁石制御装置。 - 請求項3に記載の電磁石制御装置であって、
前記線形関数は、区分線形関数である
電磁石制御装置。 - 請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の電磁石制御装置であって、
さらに、前記継鉄に対して消磁を行う消磁部を備えた
電磁石制御装置。 - 請求項1ないし請求項5のいずれか一項に記載の電磁石制御装置であって、
前記電流値決定部は、前記コイルに流す電流の値を決定するための処理の内容を、前記第1の処理から前記第2の処理、前記第2の処理から前記第3の処理、または、前記3の処理から前記第2の処理に切り替える場合に、該切替時の電流値に応じて、前記第1の関数、前記第2の関数および前記第3の関数のうちの切替後の処理に対応する関数の各項の少なくとも1つに所定の係数を乗じた関数を用いて前記コイルに流す電流の値を決定するように構成された
電磁石制御装置。 - 請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載の電磁石制御装置であって、
前記電流値決定部は、前記指令値取得部が新たな磁束密度指令値を取得した場合に、前回取得した前記磁束密度指令値と、新たに取得した前記磁束密度指令値と、の変化幅に応じて、前記第1の関数、前記第2の関数または前記第3の関数の各項の少なくとも1つに所定の係数を乗じた関数を用いて前記コイルに流す電流の値を決定するように構成された
電磁石制御装置。 - 請求項1ないし請求項7のいずれか一項に記載の電磁石制御装置であって、
前記コイルは、複数のコイルを有しており、
前記電流値決定部は、前記複数のコイルの各々によって発生する磁界の影響を反映して、前記コイルに流す電流の値を決定するように構成された
電磁石制御装置。 - 請求項8に記載の電磁石制御装置であって、
前記電流値決定部は、前記指令値取得部が新たな磁束密度指令値を取得した場合に、前回取得した前記磁束密度指令値と、新たに取得した前記磁束密度指令値と、の変化幅に応じて、前記第1の関数、前記第2の関数または前記第3の関数の各項の少なくとも1つに所定の係数を乗じた関数を用いて、または、前記第1の関数、前記第2の関数または前記第3の関数に対して、所定の関数の乗算および加算のうちの少なくとも一方を施した関数を用いて、前記コイルに流す電流の値を決定するように構成された
電磁石制御装置。 - 請求項8または請求項9に記載の電磁石制御装置であって、
前記電流値決定部は、前記複数のコイルのうちの少なくとも2つが同一の磁路を形成する場合に、前記第1の関数、前記第2の関数または前記第3の関数に基づいて決定された電流値に対して所定の関数または係数を乗じることによって、前記コイルに流す電流を補正するように構成された
電磁石制御装置。 - 電磁石システムであって、
請求項1ないし請求項10のいずれか一項に記載の電磁石制御装置と、
前記電磁石と
を備える電磁石システム。 - 請求項11に記載の電磁石システムであって、
前記コイルによって発生する磁場の磁束密度を検出するセンサと、
前記センサによって検出された磁束密度値と、前記指令磁束密度値と、の差分に基づいて、該差分が小さくなるように前記コイルに流す電流を補償する補償部と
を備えた電磁石システム。
Priority Applications (12)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015210872A JP6530693B2 (ja) | 2015-10-27 | 2015-10-27 | 電磁石制御装置および電磁石システム |
CN201910379770.4A CN110213875A (zh) | 2015-05-11 | 2016-05-09 | 电磁铁控制装置、电磁铁、电磁铁控制方法及电磁铁系统 |
CN201680027481.2A CN107615890A (zh) | 2015-05-11 | 2016-05-09 | 电磁铁装置、电磁铁控制装置、电磁铁控制方法及电磁铁系统 |
KR1020177032782A KR102472651B1 (ko) | 2015-05-11 | 2016-05-09 | 전자석 장치, 전자석 제어 장치, 전자석 제어 방법 및 전자석 시스템 |
KR1020227024503A KR102518084B1 (ko) | 2015-05-11 | 2016-05-09 | 전자석, 전자석 제어 장치 및 전자석 제어 방법 |
PCT/JP2016/063698 WO2016181919A1 (ja) | 2015-05-11 | 2016-05-09 | 電磁石装置、電磁石制御装置、電磁石制御方法、および電磁石システム |
US15/572,319 US11295935B2 (en) | 2015-05-11 | 2016-05-09 | Electromagnet device, electromagnet controller, electromagnet control method, and electromagnet system |
KR1020227024501A KR102537164B1 (ko) | 2015-05-11 | 2016-05-09 | 전자석 제어 장치 및 전자석 시스템 |
CN202110262091.6A CN113035493B (zh) | 2015-05-11 | 2016-05-09 | 电磁铁控制装置及电磁铁系统 |
TW109107087A TWI735174B (zh) | 2015-05-11 | 2016-05-10 | 電磁鐵控制裝置及電磁鐵系統 |
TW105114385A TWI699141B (zh) | 2015-05-11 | 2016-05-10 | 電磁鐵裝置 |
TW109107086A TWI726643B (zh) | 2015-05-11 | 2016-05-10 | 電磁鐵控制裝置、電磁鐵及電磁鐵控制方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015210872A JP6530693B2 (ja) | 2015-10-27 | 2015-10-27 | 電磁石制御装置および電磁石システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017084563A true JP2017084563A (ja) | 2017-05-18 |
JP6530693B2 JP6530693B2 (ja) | 2019-06-12 |
Family
ID=58711209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015210872A Active JP6530693B2 (ja) | 2015-05-11 | 2015-10-27 | 電磁石制御装置および電磁石システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6530693B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110391062A (zh) * | 2018-04-20 | 2019-10-29 | 株式会社荏原制作所 | 电磁铁控制装置和电磁铁系统 |
JP2021034592A (ja) * | 2019-08-26 | 2021-03-01 | 株式会社荏原製作所 | 電磁石制御装置および電磁石システム |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5490492A (en) * | 1977-12-28 | 1979-07-18 | Toshiba Corp | Plasma control device |
JPS6098822A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-06-01 | 三菱電機株式会社 | 電磁機構の過熱検出器 |
JPH02195294A (ja) * | 1989-01-25 | 1990-08-01 | Hitachi Ltd | ヘリカル装置 |
JPH0772277A (ja) * | 1993-06-23 | 1995-03-17 | Toshiba Corp | プラズマ制御装置 |
JP2001165343A (ja) * | 1999-12-06 | 2001-06-22 | Fuji Koki Corp | 電磁アクチュエータ |
JP2002164229A (ja) * | 2000-11-29 | 2002-06-07 | Tokin Corp | 応力緩和トランスおよびその製造方法 |
JP2007132902A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Hitachi Ltd | 粒子線照射システム |
JP2012074972A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Ebara Corp | 電磁石制御装置 |
JP2012149618A (ja) * | 2011-01-21 | 2012-08-09 | Mitsubishi Electric Corp | 電源装置 |
JP2013102098A (ja) * | 2011-11-09 | 2013-05-23 | Toshiba Corp | センサ保持装置およびセンサ保持方法 |
JP2014158005A (ja) * | 2013-01-21 | 2014-08-28 | Tokyo Electron Ltd | 多層膜をエッチングする方法 |
-
2015
- 2015-10-27 JP JP2015210872A patent/JP6530693B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5490492A (en) * | 1977-12-28 | 1979-07-18 | Toshiba Corp | Plasma control device |
JPS6098822A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-06-01 | 三菱電機株式会社 | 電磁機構の過熱検出器 |
JPH02195294A (ja) * | 1989-01-25 | 1990-08-01 | Hitachi Ltd | ヘリカル装置 |
JPH0772277A (ja) * | 1993-06-23 | 1995-03-17 | Toshiba Corp | プラズマ制御装置 |
JP2001165343A (ja) * | 1999-12-06 | 2001-06-22 | Fuji Koki Corp | 電磁アクチュエータ |
JP2002164229A (ja) * | 2000-11-29 | 2002-06-07 | Tokin Corp | 応力緩和トランスおよびその製造方法 |
JP2007132902A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Hitachi Ltd | 粒子線照射システム |
JP2012074972A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Ebara Corp | 電磁石制御装置 |
JP2012149618A (ja) * | 2011-01-21 | 2012-08-09 | Mitsubishi Electric Corp | 電源装置 |
JP2013102098A (ja) * | 2011-11-09 | 2013-05-23 | Toshiba Corp | センサ保持装置およびセンサ保持方法 |
JP2014158005A (ja) * | 2013-01-21 | 2014-08-28 | Tokyo Electron Ltd | 多層膜をエッチングする方法 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110391062A (zh) * | 2018-04-20 | 2019-10-29 | 株式会社荏原制作所 | 电磁铁控制装置和电磁铁系统 |
KR20190122568A (ko) | 2018-04-20 | 2019-10-30 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 전자석 제어 장치 및 전자석 시스템 |
JP2019192387A (ja) * | 2018-04-20 | 2019-10-31 | 株式会社荏原製作所 | 電磁石制御装置および電磁石システム |
US11244812B2 (en) | 2018-04-20 | 2022-02-08 | Ebara Corporation | Electromagnet control device and electromagnet system |
JP2021034592A (ja) * | 2019-08-26 | 2021-03-01 | 株式会社荏原製作所 | 電磁石制御装置および電磁石システム |
KR20210024964A (ko) | 2019-08-26 | 2021-03-08 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 전자석 제어 장치 및 전자석 시스템 |
US11346896B2 (en) | 2019-08-26 | 2022-05-31 | Ebara Corporation | Electromagnet control device and electromagnet system |
JP7222848B2 (ja) | 2019-08-26 | 2023-02-15 | 株式会社荏原製作所 | 電磁石制御装置および電磁石システム |
US11662397B2 (en) | 2019-08-26 | 2023-05-30 | Ebara Corporation | Electromagnet control device and electromagnet system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6530693B2 (ja) | 2019-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI699141B (zh) | 電磁鐵裝置 | |
JP5308500B2 (ja) | 地磁気センサ | |
JP2013253920A (ja) | 磁気素子制御装置、磁気素子制御方法及び磁気検出装置 | |
JP2011203918A5 (ja) | ||
JP6530693B2 (ja) | 電磁石制御装置および電磁石システム | |
US20220236341A1 (en) | Electromagnet control device and electromagnet system | |
JP5997638B2 (ja) | ディジタル保護制御装置の入力変換基板 | |
TWI774948B (zh) | 電磁鐵控制裝置及電磁鐵系統 | |
JP2015143622A (ja) | 零磁束制御型電流センサおよび零磁束制御型電流センサに対する零調整方法 | |
EP3347726B1 (en) | Energizing coil wound on magnetic core and oscillatory testing of transformer | |
RU2756776C1 (ru) | Способ создания стабильного магнитного поля и система для его реализации | |
Wicks et al. | A dynamic circuit-based ferromagnetic model | |
KR20180002290A (ko) | 정현파 자속 밀도 측정을 위한 여자 전압의 고조파 위상 제어 방법 | |
JP2001143928A (ja) | 磁場発生コイルシステム | |
JP2006077898A (ja) | 磁歪制御装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190221 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190509 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190517 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6530693 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |