JP2017076603A - プラズマ処理装置およびその方法 - Google Patents
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Abstract
Description
なお、図1、図10、図17中で矢印Fで示す方向を前方とし、矢印Lで示す方向を左方とし、更に図26中で矢印Tで示す方向を上方とし、以下で述べる各部の位置や方向等はこれら前方、左方、上方を基準とするものである。
図5(a)に示す副電極ユニット21Aは、前述したプラズマ処理装置1における副電極ユニット21の放電棒26の一部に代えて、冷却タイプの放電棒26Aを配置したものである。
図8に示す攪拌羽根60は、前述した攪拌羽根14に比べ、攪拌効率の向上とプラズマ照射時間の拡大を図ったものである。
支持構造体71は、筒状の放電容器3Aの軸心上に配置され、封止栓18の軸心を貫通して後端開口25bが放電容器3A内に挿入された軸パイプ25と、この軸パイプ25の前端部に設けられた前支持部72と、軸パイプ25の後端部に設けられた後支持部76とから構成される。
支持構造体110は、放電棒6の前端部を挿嵌固定すると共に、通電路、通気経路を有する本体部110aと、放電棒6の後端部を挿嵌固定する支持部材110bとから構成される。
図20、図21に示すように、この電極構造体142は、前述の電極ユニット2Aと、後端が閉塞された有底筒状の放電容器140の前端の開口140aを閉塞すると共に電極ユニット2Aを支持する蓋ユニット143と、電極ユニット2Aで隣接する放電棒6Aの間に介設される攪拌羽根144とが、一体的に組み込まれて構成されている。
図20、図26に示すように、回転装置5上に放電容器140を載置する前に、外側に金属フィルム109を巻いた放電容器140を、その開口140aが上方を向くようにして立設させる。
図20、図28に示すように、回転装置5上で放電容器140を略水平軸を中心に回転させながら粉体70にプラズマ処理を施した後、電極構造体142を挿着したままの放電容器140を、その開口140aが上方を向くようにして立設させる。
図10、図11に示すように、前述したプラズマ処理装置1Dを使い、放電容器3A内に、平均粒径300μm、1kgのポリプロピレン粉末(日本ポリプロ株式会社製、NOVATEC P8000S、以下「粉末」とする)を封入する(封入工程)。この際、粉末に施す表面処理や表面改質に応じて、支持構造体71から放電棒6を取り外してガラス管6bの種類を変更したり、別剤として粉末と一緒に放電容器3A内に投入することができる。なお、放電容器3A内の放電棒6の棒状電極6aはステンレス線(直径1.6mm)で形成し、ガラス管6bは石英ガラス管(外径4mm、内径2mm)で形成している。
図29に示すように、電極ユニット2において、隣り合うガラス管6bの周方向間隔yと、ガラス管6bとガラス製の容器本体12Aの内壁12Abとの間の径方向間隔xとを変化させて、グロー放電の放電状況を観察し、同時に、放電容器3A内を流れる粉末の流動性も観察した。
図30に示すように、径方向間隔x、周方向間隔yのいずれも2〜20mmの範囲において、発光むらが無く、粉末の流動性も良好となっている。これは、径方向間隔xが2mm未満では、径方向隙間136を粉末が通過する際の流動抵抗が大きくなり、放電域45内での粉末の流動が阻害され、一方、径方向間隔xが20mmを超えると、放電棒6と金網4との間の電極間距離が大きくなり、両電極間の放電に必要な電圧も高くなることから、アーク放電に移行しやすくなり、グロー放電が不安定となるためと考えられる。
42本の放電棒6を適正間隔(径方向間隔x=10mm、周方向間隔y=6mm)で配置した前述のプラズマ処理装置1Dにおいて、前述した処理方法と同様に、放電容器3A内に粉末(平均粒径300μm、1kg)を封入した後、ヘリウムガス(20l/min)と窒素ガス(2l/min)を含む混合ガス37を充填して不活性気体雰囲気とした放電容器3Aを回転(5〜8rpm)させつつ、交流電源23(15kHz、1000W)で5分間のプラズマ処理を行った。
入手したままの粉末(以下、「未処理粉末」とする)と、この未処理粉末に前述した処理方法でプラズマ処理を施した粉末(以下、「処理粉末」とする)について、その深さ数nmの表層部を、X線光電子分光装置(島津製作所製、ESCA3400)にて分析した。
表1に、粉末のXPSスペクトルから算出した、窒素と炭素の原子比N/Cと、酸素と炭素の原子比O/Cとを、未処理粉末と処理粉末との間で比較した結果を示す。
2、2A 電極ユニット
3、3A、140 放電容器
4 金網(外部電極体)
5 回転装置
6、6A、26 放電棒
6a、26a 棒状電極
6b、26b ガラス管(第一誘電体)
21、22 副電極ユニット
26A 放電棒(冷却タイプ放電棒)
26B 冷却管(第一誘電体単体)
45 放電域
47 放電筒(冷却タイプ放電筒)
48 筒状電極
49 ガラス筒(第三誘電体)
55 冷却筒(第三誘電体単体)
63 すくい部材
64 滞留排出部
64a 流入口
64b 滞留室
64c 排出口
66 孔付きすくい部材
66b ふるい排出部
66b1 排出孔
70 粉体(被処理物)
73、77 支持部材
74、78 取付部材
84、85 調整機構
140a 開口
140b 内壁
142 電極構造体
143 蓋ユニット
144 攪拌羽根
144a 前端部(軸方向端部)
144c 軸方向側縁部
179 円盤(蓋体)
179a 孔
146 プラグ部
173、174 通気経路
x 径方向間隔
y 周方向間隔
Claims (16)
- 棒状電極が第一誘電体で被覆されて形成される放電棒を互いに略平行に所定の周方向間隔で略円環状に配設した電極ユニットと、
該電極ユニットの外側に配置され、被処理物が内部に封入されると共に、第二誘電体を有する筒状の放電容器と、
該放電容器の外側に配置した外部電極体と、
前記電極ユニットと外部電極体との間に交流またはパルス電圧を印加してグロー放電を発生させた状態で、前記放電容器を回転させる回転装置と、
前記グロー放電の放電域を電極ユニットの内外に拡張可能な放電域拡張構造とを備えた
プラズマ処理装置。 - 前記放電棒は、
前記放電容器内で、前記第一誘電体と第二誘電体との間の径方向間隔、及び隣り合う前記第一誘電体の間の周方向間隔のいずれも2〜20mmとなるように配置する
請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記放電域拡張構造は、
前記電極ユニットよりも内側の空間に、前記放電棒を互いに略平行に所定の周方向間隔で略円環状に配設した副電極ユニットを、前記電極ユニットと略同心状に単一または複数有する
請求項1または請求項2に記載のプラズマ処理装置。 - 前記放電容器内で径方向最内側の副電極ユニットは、
所定の放電棒に代えて、
冷却媒体が棒状電極と第一誘電体との間の内部隙間を流動可能な冷却タイプ放電棒と、冷却媒体が内部を流動可能な前記第一誘電体単体の少なくとも一方を有する
請求項3に記載のプラズマ処理装置。 - 前記放電容器内の軸心上に配置され、冷却媒体が内部を流動可能な筒状電極が第三誘電体で被覆されて形成される冷却タイプ放電筒、または
前記軸心上に配置され、冷却媒体が内部を流動可能な前記第三誘電体単体を備える
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記放電域拡張構造は、
前記放電容器内で、前記放電棒の端部のみを軸方向端面に取り付けて該放電棒を支持すると共に、略同一円周上に配置されて略円環を形成可能な複数の円弧状の取付部材と、
前記略円環の軸心から複数の枝部が径方向に延びる放射状の支持部材と、
該枝部に対する前記取付部材の取付位置を変更して径方向間隔を拡大可能な調整機構とを有する
請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記放電容器と一緒に回転し、遠心方向外周側が回転方向に向かって湾曲するすくい部材と、
該すくい部材の回転方向前面で遠心方向内周側にある流入口、該流入口に連通する滞留室、及び該滞留室に連通すると共に滞留室よりも遠心方向外周側にあって前記流入口よりも小面積の排出口が設けられ、
すくい上げた前記被処理物が、前記流入口から途中の滞留室を介して排出口を通り、前記放電域に向かって徐々に流下する滞留排出部とを有する
攪拌羽根を備える
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記放電容器と一緒に回転し、遠心方向外周側が回転方向に向かって湾曲すると共に、回転方向に排出孔を穿孔したふるい排出部が遠心方向外周側に配置される孔付きすくい部材を有する
攪拌羽根を備える
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記電極ユニットと、
前記放電容器の開口を閉塞すると共に電極ユニットを支持する蓋ユニットと、
前記電極ユニットで隣接する放電棒の間に介設されると共に、軸方向端部が前記蓋ユニットに固設され、軸方向側縁部が前記放電容器の内壁に摺動可能に当接して支持される攪拌羽根とが、
一体的に組み込まれた電極構造体を備える
請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記蓋ユニットは、
前記開口を閉塞する蓋体に形成された孔に開閉可能に装着されると共に、前記グロー放電のための電流路と通気経路が一体的に組み込まれたプラグ部を有する
請求項9に記載のプラズマ処理装置。 - 棒状電極が第一誘電体で被覆されて形成される放電棒を互いに略平行に所定の周方向間隔で略円環状に配設した電極ユニットを内側に配置する一方、外部電極体を外側に配置し、前記電極ユニットと外部電極体との間に、第二誘電体を有する筒状の放電容器を介設し、該放電容器に被処理物を封入する封入工程と、
内部を不活性気体雰囲気にした放電容器を回転装置によって回転しつつ、前記電極ユニットと外部電極体との間に交流またはパルス電圧を印加してグロー放電を発生させることにより、放電域拡張構造で前記電極ユニットの内外に拡張したグロー放電の放電域内に、前記被処理物を流動させてプラズマ処理を行う処理工程とを備えた
プラズマ処理方法。 - 前記放電棒は、
前記放電容器内で、前記第一誘電体と第二誘電体との間の径方向間隔、及び隣り合う前記第一誘電体の間の周方向間隔のいずれも2〜20mmとなるように配置する
請求項11に記載のプラズマ処理方法。 - 前記放電域拡張構造は、
前記電極ユニットよりも内側の空間に、前記放電棒を互いに略平行に所定の周方向間隔で略円環状に配設した副電極ユニットを、前記電極ユニットと略同心状に単一または複数有する
請求項11または請求項12に記載のプラズマ処理方法。 - 前記放電容器内で径方向最内側の副電極ユニットは、
所定の放電棒に代えて、
冷却媒体が棒状電極と第一誘電体との間の内部隙間を流動可能な冷却タイプ放電棒と、冷却媒体が内部を流動可能な前記第一誘電体単体の少なくとも一方を有する
請求項11に記載のプラズマ処理方法。 - 前記放電容器内の軸心上に配置され、冷却媒体が内部を流動可能な筒状電極が第三誘電体で被覆されて形成される冷却タイプ放電筒、または
前記軸心上に配置され、冷却媒体が内部を流動可能な前記第三誘電体単体を備える
請求項11から請求項14のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法。 - 前記放電域拡張構造は、
前記放電容器内で、前記放電棒の端部のみを軸方向端面に取り付けて該放電棒を支持すると共に、略同一円周上に配置されて略円環を形成可能な複数の円弧状の取付部材と、
前記略円環の軸心から複数の枝部が径方向に延びる放射状の支持部材と、
該枝部に対する前記取付部材の取付位置を変更して径方向間隔を拡大可能な調整機構とを有する
請求項11から請求項15のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法。
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