JP2017076174A - 表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】検出電極と画素との干渉に起因したモアレを抑制する。
【解決手段】一実施形態に係る表示装置は、複数の画素を有する表示領域と、上記表示領域に重なって設けられる複数の導電線を含む検出電極と、上記検出電極からの信号に基づき、上記表示領域に近接する物体を検出する検出モジュールと、を備えている。上記画素は、第1副画素と、第1方向において上記第1副画素と隣り合う第2副画素と、上記第1方向と交わる第2方向において上記第1副画素と隣り合う第3副画素と、上記第1方向において上記第3副画素と隣り合い且つ上記第2方向において上記第2副画素と隣り合う第4副画素と、を含む。上記複数の画素は、第1ピッチで上記第1方向に並び、上記複数の導電線は、上記第1ピッチの2.2倍以上かつ3.2倍以下の範囲にある第2ピッチで上記第1方向に並んでいる。
【選択図】図9
【解決手段】一実施形態に係る表示装置は、複数の画素を有する表示領域と、上記表示領域に重なって設けられる複数の導電線を含む検出電極と、上記検出電極からの信号に基づき、上記表示領域に近接する物体を検出する検出モジュールと、を備えている。上記画素は、第1副画素と、第1方向において上記第1副画素と隣り合う第2副画素と、上記第1方向と交わる第2方向において上記第1副画素と隣り合う第3副画素と、上記第1方向において上記第3副画素と隣り合い且つ上記第2方向において上記第2副画素と隣り合う第4副画素と、を含む。上記複数の画素は、第1ピッチで上記第1方向に並び、上記複数の導電線は、上記第1ピッチの2.2倍以上かつ3.2倍以下の範囲にある第2ピッチで上記第1方向に並んでいる。
【選択図】図9
Description
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
表示領域に近接する物体を検出する機能を備えた表示装置が実用化されている。検出方式としては、誘電体を介して向い合う検出電極と駆動電極との間の容量の変化や、検出電極自体が有する容量の変化に基づいて物体の近接を検出する方式がある。
検出電極は、例えば金属線などの導電線によって形成される(例えば特許文献1を参照)。このような検出電極が表示領域と重なるように配置されると、導電線と表示領域に含まれる画素とが干渉し、縞状の模様(いわゆるモアレ)が発生することがある。
検出電極は、例えば金属線などの導電線によって形成される(例えば特許文献1を参照)。このような検出電極が表示領域と重なるように配置されると、導電線と表示領域に含まれる画素とが干渉し、縞状の模様(いわゆるモアレ)が発生することがある。
本開示の一態様における目的は、検出電極と画素との干渉に起因したモアレを抑制することが可能な表示装置を提供することである。
一実施形態に係る表示装置は、複数の画素を有する表示領域と、上記表示領域に重なって設けられる複数の第1導電線を含む検出電極と、上記検出電極からの信号に基づき、上記表示領域に近接する物体を検出する検出モジュールと、を備えている。上記画素は、第1副画素と、第1方向において上記第1副画素と隣り合う第2副画素と、上記第1方向と交わる第2方向において上記第1副画素と隣り合う第3副画素と、上記第1方向において上記第3副画素と隣り合い且つ上記第2方向において上記第2副画素と隣り合う第4副画素と、を含む。上記複数の画素は、第1ピッチで上記第1方向に並び、上記複数の第1導電線は、上記第1ピッチの2.2倍以上かつ3.2倍以下の範囲にある第2ピッチで上記第1方向に並んでいる。
一実施形態につき、図面を参照しながら説明する。
なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有される。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。各図において、連続して配置される同一又は類似の要素については符号を省略することがある。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を省略することがある。
なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有される。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。各図において、連続して配置される同一又は類似の要素については符号を省略することがある。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を省略することがある。
以下の実施形態においては、表示装置の一例として、液晶表示素子を用いて画像を表示する機能と、ユーザの指などの物体を検出する機能とを備えた表示装置を開示する。ただし、当該実施形態は、液晶表示素子以外の表示素子を用いた表示装置に対する、当該実施形態にて開示される個々の技術的思想の適用を妨げるものではない。このような表示装置としては、有機エレクトロルミネッセンス表示素子等を有する自発光型の表示装置、或いは電気泳動素子等を有する電子ペーパ型の表示装置などが想定される。また、物体を検出する機能を有する装置と、画像を表示する機能を有する装置とを別に設けても良い。
図1は、本実施形態に係る表示装置1の概略的な構成を示す平面図である。表示装置1は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話端末、パーソナルコンピュータ、テレビ受像装置、車載装置、ゲーム機器等の種々の装置に用いることができる。
表示装置1は、表示パネル2を有し、表示パネル2は、複数の駆動電極TX(TX1〜TXn)と、各駆動電極TXと対向する複数の検出電極RX(RX1〜RXm)と、ドライバモジュールとして機能するドライバIC3と、検出モジュールとして機能するタッチ検出IC4とを備えている。n及びmは、例えば2以上の整数である。駆動電極は、共通電極と呼ばれる場合もある。タッチ検出IC4を表示パネル2外に設けても良い。また、複数の駆動電極TX(TX1〜TXn)と、各駆動電極TXと対向する複数の検出電極RX(RX1〜RXm)と、検出モジュールとして機能するタッチ検出IC4と、からなるタッチ検出パネルを表示パネルとは別に設けても良い。
表示パネル2は、矩形状のアレイ基板AR(第1基板)と、このアレイ基板ARよりも外形が小さい矩形状の対向基板CT(第2基板)とを備えている。図1の例において、アレイ基板AR及び対向基板CTは、3辺を重ねて貼り合わされている。アレイ基板ARは、対向基板CTと対向しない端子領域NA(非対向領域)を有している。
アレイ基板AR及び対向基板CTが対向する領域において、表示パネル2は、画像を表示する表示領域(アクティブエリア)DAを有している。図1の例において、表示領域DAは、第1方向Xに沿う短辺と、第2方向Yに沿う長辺とを有する矩形状である。但し、表示領域DAの形状はこれに限られず、正方形、円形、或いは楕円形などの他種の形状であっても良い。本実施形態においては、第1方向X及び第2方向Yが直交するが、第1方向X及び第2方向Yは他の角度で交わっても良い。
表示領域DAにおいて、駆動電極TX1〜TXnは、第1方向Xに延びるとともに第2方向Yに並んでいる。駆動電極TX1〜TXnは、例えばインジウム・ティン・オキサイド(ITO)などの透明導電材料で形成することができる。表示領域DAにおいて、検出電極RX1〜RXmは、第2方向Yに延びるとともに第1方向Xに並んでいる。なお、駆動電極TX1〜TXnが第2方向Yに延びるとともに第1方向Xに並び、検出電極RX1〜RXmが第1方向Xに延びるとともに第2方向Yに並んでも良い。
ドライバIC3は、画像表示に関する制御を実行するものであり、端子領域NAに実装されている。端子領域NAには、実装端子5が形成されている。実装端子5には、画像データを表示パネル2に供給する第1フレキシブル配線基板6が接続されている。
端子領域NAに沿う対向基板CTの端部には、実装端子7が形成されている。実装端子7は、検出電極RX1〜RXmと電気的に接続されている。実装端子7には、検出電極RX1〜RXmからの検出信号を出力する第2フレキシブル配線基板8が接続されている。タッチ検出IC4は、例えば第2フレキシブル配線基板8に実装されている。
端子領域NAに沿う対向基板CTの端部には、実装端子7が形成されている。実装端子7は、検出電極RX1〜RXmと電気的に接続されている。実装端子7には、検出電極RX1〜RXmからの検出信号を出力する第2フレキシブル配線基板8が接続されている。タッチ検出IC4は、例えば第2フレキシブル配線基板8に実装されている。
図1の例においては、2つの検出電極RXの間にダミー電極DXが配置されている。隣り合う検出電極RXとダミー電極DXの間には隙間が設けられている。ダミー電極DXは、実装端子7に接続されず、電気的にフローティングな状態にある。このようなダミー電極DXは、検出電極RXが設けられた位置と設けられていない位置とで表示領域DAを視認する場合に表示が光学的に不均一となることを防ぐ役割を担う。なお、図1においては図示の簡略化のために帯状の検出電極RX1〜RXm及びダミー電極DXを示しているが、実際には図6等で後述するように、検出電極RX1〜RXm及びダミー電極DXは金属線である導電線にて形成されている。
図2は、表示領域DAにおける表示装置1の断面の一例を模式的に示す図である。この図に示す断面は、1つの副画素SPXに着目したものである。それぞれ異なる色に対応する複数の副画素SPXにより、カラー画像を表示するための1つの画素が形成される。
図2の例において、アレイ基板ARは、第1絶縁基板10と、第1絶縁層11と、第2絶縁層12と、第1配向膜13と、画素電極PEと、駆動電極TXとを備えている。第1絶縁層11は、第1絶縁基板10の対向基板CT側の面に形成されている。駆動電極TXは、第1絶縁層11の上に形成されている。第2絶縁層12は、駆動電極TXを覆っている。画素電極PEは、副画素SPXごとに設けられ、第2絶縁層12の上に形成されている。例えば画素電極PEは、1又は複数のスリットSLを有している。なお、画素電極PEは、図中の第2方向Yに延び、スリットを有さない1本の線状のものであっても良い。第1配向膜13は、画素電極PEを覆っている。
対向基板CTは、第2絶縁基板20と、遮光層21と、カラーフィルタ22と、オーバーコート層23と、第2配向膜24とを備えている。遮光層21は、第2絶縁基板20のアレイ基板AR側の面に形成され、副画素SPXを区画している。カラーフィルタ22は、第2絶縁基板20のアレイ基板AR側の面に形成され、副画素SPXに対応する色に着色されている。但し、白色を表示する副画素SPX(後述の副画素SPXW)については、カラーフィルタ22を設けなくても良い。オーバーコート層23は、カラーフィルタ22を覆っている。第2配向膜24は、オーバーコート層23を覆っている。第1配向膜13と第2配向膜24との間には、液晶分子を含む液晶層LCが形成されている。
検出電極RXは、第2絶縁基板20のアレイ基板ARと対向しない側の面に形成されている。ダミー電極DXも、第2絶縁基板20のアレイ基板ARと対向しない側の面に形成されている。なお、図2の例においては駆動電極TXがアレイ基板ARに形成されているが、駆動電極TXは対向基板CTに形成されても良い。その他、表示パネル2の内部構造はここに示したものに限られず、種々の構造を適用することができる。
続いて、駆動電極TX及び検出電極RXにより表示領域DAに近接する物体を検出する原理の一例につき、図3を用いて説明する。互いに対向する駆動電極TXと検出電極RXとの間には、容量Ccが存在する。駆動電極TXに駆動信号Stxが供給されると、容量Ccを介して検出電極RXに電流が流れるため、検出電極RXから検出信号Srxが得られる。
表示装置1にユーザの指などの導体である物体Oが近づくと、物体Oに近接する検出電極RXと物体Oとの間に容量Cxが生じる。駆動電極TXに駆動信号Stxが供給されたとき、物体Oに近接する検出電極RXから得られる検出信号Srxの波形は、容量Cxの影響を受けて変化する。すなわち、各検出電極RXから得られる検出信号Srxに基づけば、タッチ検出IC4は、表示装置1に近接する物体Oを検出することができる。また、各駆動電極TXに駆動信号Stxを時分割で順次供給した際に各時相にて各検出電極RXから得られる検出信号Srxに基づけば、タッチ検出IC4は、物体Oの第1方向X及び第2方向Yにおける位置を検出することができる。以上説明した方式は、相互容量方式、又は、ミューチャル検出方式などと呼ばれる。
次に、表示装置1による画像表示について説明する。図4は、画像表示に関わる概略的な等価回路を示す図である。表示装置1は、ゲートドライバGDと、ソースドライバSDと、ゲートドライバGDに接続された複数の走査線Gと、ソースドライバSDに接続され各走査線Gと交差する複数の信号線Sと、を備えている。
各走査線Gは、表示領域DAにおいて第1方向Xに延びるとともに第2方向Yに並んでいる。各信号線Sは、表示領域DAにおいて第2方向Yに延びるとともに第1方向Xに並んでいる。各走査線G及び各信号線Sは、アレイ基板ARに形成されている。
図4の例においては、各走査線G及び各信号線Sによって区画された領域が1つの副画素SPXに相当する。本実施形態においては、赤色を表示する副画素SPXRと、緑色を表示する副画素SPXGと、青色を表示する副画素SPXBと、白色を表示する副画素SPXWとで1つの画素PXが構成される。
各副画素SPXは、アレイ基板ARに形成された薄膜トランジスタTFT(スイッチング素子)を備えている。薄膜トランジスタTFTは、走査線G、信号線S、及び画素電極PEと電気的に接続されている。表示に際して、駆動電極TXは共通電位に設定され、いわゆる共通電極として機能する。
ゲートドライバGDは、各走査線Gに対して走査信号を順次供給する。ソースドライバSDは、各信号線Sに対して映像信号を選択的に供給する。ある薄膜トランジスタTFTに接続された走査線Gに走査信号が供給され、かつこの薄膜トランジスタTFTに接続された信号線Sに映像信号が供給されると、この映像信号に応じた電圧が画素電極PEに印加される。このとき画素電極PEと駆動電極TXとの間に生じる電界によって、液晶層LCの液晶分子の配向が電圧の印加されていない初期配向状態から変化する。このような動作により、表示領域DAに画像が表示される。
以上のような構成の表示装置1は、アレイ基板ARの裏面(対向基板CTと対向しない側の面)に配置されたバックライトからの光を利用して画像を表示する透過型の表示装置、対向基板CTの外面(アレイ基板ARと対向しない側の面)から入射する光の反射光を利用して画像を表示する反射型の表示装置、或いはこれら透過型及び反射型の双方の機能を備えた表示装置のいずれであっても良い。
副画素SPXの平面的なレイアウトについて説明する。図5は、表示領域DAに含まれる複数の画素PXの一部を概略的に示す図である。各画素PXは、第1方向XにピッチPxで並んでいる。また、各画素PXは、第2方向YにピッチPyで並んでいる。ピッチPx,Pyは、例えば同じ長さとすることができる。但し、ピッチPx,Pyは、異なる長さであっても良い。
各画素PXにおいては、副画素SPXRと副画素SPXGとが第1方向Xに隣り合い、副画素SPXWと副画素SPXBとが第1方向Xに隣り合う。さらに、副画素SPXRと副画素SPXWとが第2方向Yに隣り合い、副画素SPXGと副画素SPXBとが第2方向Yに隣り合う。副画素SPXR,SPXG,SPXB,SPXWの第1方向Xにおける幅、及び、第2方向Yにおける幅は、例えば同じである。但し、これらの幅は異なっていても良い。例えば、副画素SPXRの第2方向Yにおける幅が副画素SPXWの幅よりも大きくても良い。また、副画素SPXGの第1方向Xにおける幅が副画素SPXWの幅よりも大きくても良い。各副画素の面積についても、4つの副画素全てが同じ面積であっても良いが異なっていても良い。例えば、副画素SPXGの面積が、副画素SPXWの面積、或いは、副画素SPXBの面積よりも大きいものであっても良い。
このように、図5の例においては、副画素SPXG,SPXWが画素PXにおいて対角の位置関係となる。図5に示した画素PXにおいて、副画素SPXG,SPXWの位置を入れ替えても良い。また、副画素SPXR,SPXBの位置を入れ替えても良い。さらに、副画素SPXG,SPXWのいずれか一方の位置と副画素SPXRの位置とを入れ替え、残りの一方の位置と副画素SPXBの位置とを入れ替えても良い。これらの場合であっても、副画素SPXG,SPXWを対角の位置関係とすることができる。
図5の例においては副画素SPXR,SPXG,SPXB,SPXWの位置関係がいずれの画素PXにおいても同じであるが、隣り合う画素PXでこれら副画素の位置関係が異なっていても良い。例えば、第1方向Xに隣り合う画素PXにおいて、副画素SPXG,SPXWの位置が逆であっても良い。同様に、第2方向Yに隣り合う画素PXにおいて、副画素SPXG,SPXWの位置が逆であっても良い。
続いて、検出電極RXの平面的な形状について説明する。図6は、検出電極RXの一部を概略的に示す図である。本実施形態において、検出電極RXは、メッシュ状の電極パターンを有している。具体的には、検出電極RXは、互いに平行に延びる複数の第1導電線CL1と、互いに平行に延びる複数の第2導電線CL2とを含む。各第1導電線CL1と、各第2導電線CL2とは交差している。各導電線CL1,CL2は、例えばアルミニウム(Al)、銅(Cu)、銀(Ag)、又はこれらの合金の少なくとも1つの金属材料にて形成された層を含んだ単層構造或いは多層構造を有している。各導電線CL1,CL2に金属材料を用いることで、ITOなどの透明導電材料のみで形成する場合に比べ、各導電線CL1,CL2を低抵抗化できる。なお、各導電線CL1,CL2を形成する金属材料は、金属による光の反射の低減、各導電線CL1,CL2を形成する上でのプロセスの効率化等の目的で適宜変更可能である。
第1導電線CL1は、第2方向Yに対し時計回りに角度θ1で傾いた第1延出方向D1に延びている。第2導電線CL2は、第2方向Yに対し反時計回りに角度θ2で傾いた第2延出方向D2に延びている。図6の例においては角度θ1,θ2が同じである。但し、角度θ1,θ2は異なっていても良い。
各第1導電線CL1は、ピッチPc1で第1方向Xに並んでいる。各第2導電線CL2は、ピッチPc2で第1方向Xに並んでいる。図6の例においてはピッチPc1,Pc2が同じである。但し、ピッチPc1,Pc2は異なっていても良い。
なお、図1に示したダミー電極DXは、例えば図6に示した検出電極RXと同様のパターンを有している。このダミー電極DXのパターンは、例えば第1導電線CL1と第2導電線CL2との交点上、或いは、交点と交点とを結ぶ線上において第1導電線CL1及び第2導電線CL2がそれぞれ切断されたものであっても良い。
なお、図1に示したダミー電極DXは、例えば図6に示した検出電極RXと同様のパターンを有している。このダミー電極DXのパターンは、例えば第1導電線CL1と第2導電線CL2との交点上、或いは、交点と交点とを結ぶ線上において第1導電線CL1及び第2導電線CL2がそれぞれ切断されたものであっても良い。
検出電極RX及びダミー電極DXに含まれる第1導電線CL1及び第2導電線CL2は、平面視で表示領域DAと重なっている。したがって、副画素SPXR,SPXG,SPXB,SPXWにより表示領域DAに形成される画素パターンと、第1導電線CL1及び第2導電線CL2により形成される電極パターンとが干渉し、モアレが発生し得る。
しかしながら、本実施形態における画素レイアウトであれば、このようなモアレを抑制することが可能である。以下に、この効果について、比較例を交えて説明する。
図7は、本実施形態との比較例に係る画素レイアウトを示す図である。この図の例において、画素PXは、赤色を表示する副画素SPXRと、緑色を表示する副画素SPXGと、青色を表示する副画素SPXBとを含む。副画素SPXR,SPXG,SPXBはこの順で第1方向Xに並び、いずれも第2方向Yに長尺である。画素PXは、第1方向XにピッチPxで並び、第2方向YにピッチPyで並んでいる。
図7は、本実施形態との比較例に係る画素レイアウトを示す図である。この図の例において、画素PXは、赤色を表示する副画素SPXRと、緑色を表示する副画素SPXGと、青色を表示する副画素SPXBとを含む。副画素SPXR,SPXG,SPXBはこの順で第1方向Xに並び、いずれも第2方向Yに長尺である。画素PXは、第1方向XにピッチPxで並び、第2方向YにピッチPyで並んでいる。
一般に、副画素SPXR,SPXBの表示色よりも副画素SPXG,SPXWの表示色の方が高輝度である。したがって、副画素SPXG,SPXWと検出電極RX及びダミー電極DXとの干渉がモアレ発生の重大な要因となる。
図8は、図7の画素レイアウトにおいて、副画素SPXGを白の領域に、副画素SPXR,SPXBを黒の領域にそれぞれ置き換えたモデルM1を示す。また、図9は、図5の画素レイアウトにおいて、副画素SPXG,SPXWを白の領域に、副画素SPXR,SPXBを黒の領域にそれぞれ置き換えたモデルM2を示す。
図8のモデルM1おいては、第2方向Yに延びる白の領域と黒の領域とが第1方向Xに交互に並んだストライプパターンが現れる。モデルM1において、白の領域の第1方向Xにおけるピッチは、画素PXのピッチPxと同じである。すなわち、モデルM1は第1方向XにピッチPxの周期性を有するが、第2方向Yには周期性を有さない。
一方、図9のモデルM2においては、白の領域と黒の領域とが第1方向X及び第2方向Yの双方において交互に並んだチェックパターンが現れる。副画素SPXR,SPXG,SPXB,SPXWの第1方向Xにおける幅が同じであれば、モデルM2において、白の領域の第1方向Xにおけるピッチは、画素PXのピッチPxの半分(Px/2)である。また、副画素SPXR,SPXG,SPXB,SPXWの第2方向Yにおける幅が同じであれば、モデルM2において、白の領域の第2方向Yにおけるピッチは、画素PXのピッチPyの半分(Py/2)である。
図10に、(a)モデルM1について空間周波数を解析した結果を表すグラフと、(b)モデルM2について空間周波数を解析した結果を表すグラフとを示す。各グラフの空間周波数fxは、各モデルM1,M2をフーリエ変換することで得られる。いずれのグラフにおいても、横軸は第1方向Xにおける空間周波数fxであり、縦軸は振幅である。
第1方向Xにおける1次元の周期性を有するモデルM1は、図10(a)に示すように第1方向Xの周波数分布を有するが、他の方向の周波数分布を殆ど有さない。一方で、第1方向X及び第2方向Yにおける2次元の周期性を有するモデルM2は、図10(b)に示すような第1方向Xの周波数分布だけでなく、第2方向Yの周波数分布や、第1方向X及び第2方向Yに交差する方向の周波数分布も有している。
周期性を有するパターンは、その空間周波数が低く且つ振幅が大きいほど人の目で認識され易い。図10(a)(b)における破線は、低周波領域の一部を囲ったものである。モデルM1,M2のそれぞれの低周波領域を比較すると、モデルM2の方が周波数成分の振幅が低いことが判る。なお、高周波領域においても、モデルM1よりモデルM2の方が、周波数成分の振幅が全体的に低くなっている。これらの相違は、モデルM1においては周波数成分が一方向に集中するのに対しモデルM2においては周波数成分が種々の方向へ分散していることや、図8,図9に示した白の領域のピッチがモデルM1よりもモデルM2の方が小さいこと(換言すれば白の領域が高周波であること)に起因する。
図11に、(a)モデルM1と図6に示した電極パターンとを重ね合わせた画像について空間周波数を解析した結果を表すグラフと、(b)モデルM2と図6に示した電極パターンとを重ね合わせた画像について空間周波数を解析した結果を表すグラフとを示す。モデルM1と重ね合わせた電極パターンと、モデルM2と重ね合わせた電極パターンとは、ピッチPc1,Pc2及び角度θ1,θ2が同一である。
図11(a)(b)のグラフに示された周波数成分は、各モデルM1,M2と検出電極RXとの重ね合わせにより生じるモアレに相当する。そして、個々の周波数成分の振幅は、モアレの強さに相当する。ここでも、各グラフにおいて破線で囲った低周波領域を比べると、図11(b)の方が周波数成分の振幅が小さいことが判る。これは、図10に示したように、モデルM2の方が周波数成分の振幅が小さいことに起因する。
このように、本実施形態に係る画素レイアウトであれば、図7の比較例に係る画素レイアウトに比べて、検出電極RXとの干渉に起因したモアレを抑制することができる。ダミー電極DXと画素レイアウトとの干渉に起因したモアレについても同様である。なお、図7の比較例に限られず、例えば一方向に並ぶ副画素SPXR,SPXG,SPXB,SPXWを含む画素PXなどと比べた場合であっても、同様の効果を得ることができる。
モアレを抑制する効果は、ピッチPc1,Pc2及び角度θ1,θ2を最適化することで、一層高めることができる。図12は、図5に示した画素パターンと図6に示した電極パターンとを重ね合わせてモアレを評価した結果を示す表である。この評価では、ピッチPc1とピッチPxとの比(Pc1/Px)を1.8から6.0まで0.2刻みで変化させ、さらに角度θ1を5°から36°まで変化させ、モアレの程度に応じてレベル1〜3のいずれかを与えた。レベル1はモアレが目立たない最も良好な結果であり、レベル2はレベル1に次いで良好な結果であり、レベル3はレベル2を下回る結果である。なお、ピッチPx,Py、ピッチPc1,Pc2、角度θ1,θ2はそれぞれ同一とした(Px=Py,Pc1=Pc2,θ1=θ2)。
この評価結果によれば、ピッチPc1をピッチPxの約2.2倍以上かつ3.2倍以下の範囲で定めることで、モアレを比較的良好に抑制できることが判る。さらに、ピッチPc1をピッチPxの約2.6倍以上かつ2.8倍以下の範囲で定めることで、モアレを一層良好に抑制できることが判る。
また、他の観点から言えば、角度θ1を10°以上かつ31°以下の範囲で定めることで、モアレを比較的良好に抑制できることが判る。さらに、角度θ1を13°以上かつ27°以下の範囲で定めることで、モアレを一層良好に抑制できることが判る。
以上説明したように、本実施形態においては、比較的高輝度な副画素SPXG,SPXWを対角の位置関係で配置することによりモアレを抑制している。さらに、このような画素レイアウトを用いる場合には、ピッチPc1,Pc2及び角度θ1,θ2を上述の範囲で定めることによってモアレを一層良好に抑制することができる。
モアレを抑制するための他の手法としては、例えば、検出電極RX及びダミー電極DXに含まれる導電線の延出方向やピッチなどをランダム化することが考えられる。このようにすれば、導電線と画素との干渉の規則性が失われるのでモアレが抑制され得るが、ランダム化された電極パターンは多数の空間周波数成分を含むことになる。このような検出電極RX及びダミー電極DXを備える表示装置1において、外光が検出電極RX及びダミー電極DXにより反射されると、その反射光は検出電極RX及びダミー電極DXに起因したぎらつき(グレア)として視認され、表示品位が低下し得る。これに対し、本実施形態においては電極パターンがランダム化されていないので、検出電極RX及びダミー電極DXに起因したぎらつきが殆ど発生しない。なお、グレアの強度とモアレの強度とに応じ、表示領域DAの一部に本願発明を適用し、他の部分では電極パターンをランダム化することも可能である。また、本願発明の範囲内において、各導電線CL1,CL2のピッチと角度とを表示領域DA内で適宜範囲を持たせて設ける(ランダム化させる、或いは、不均一化させる)ことも可能である。
以上説明した他にも、本実施形態からは種々の好適な効果を得ることができる。
以上説明した他にも、本実施形態からは種々の好適な効果を得ることができる。
本発明の一実施形態を説明したが、この実施形態は例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。この実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
例えば、上記実施形態においては、第1導電線CL1及び第2導電線CL2により構成されるメッシュ状の電極パターンを有する検出電極RXを例示した。しかしながら、検出電極RXとしては、その他にも種々の形態を採用し得る。例えば、検出電極RXは、波形に屈曲しながら所定方向へ延びる導電線により構成される電極パターン、導電線にて囲われた4角形以外の多角形状を含む電極パターン、導電線が所定方向へ曲線状に延びる電極パターンなどを含んでも良い。検出電極RXがこれらの電極パターンを有する場合であっても、上記実施形態にて開示した画素レイアウトを採用することで、モアレを抑制することができる。
また、図12の評価は、ピッチPc1,Pc2が同一であり、かつ角度θ1,θ2が同一である場合を対象として実施した。しかしながら、ピッチPc1,Pc2が異なる場合や角度θ1,θ2が異なる場合においても、ピッチPc1,Pc2及び角度θ1,θ2を調整することでモアレを抑制できる。例えば、ピッチPc1,Pc2が異なる場合においては、これらピッチをいずれもピッチPxの約2.2倍以上かつ3.2倍以下の範囲、より好ましくは約2.6倍以上かつ2.8倍以下の範囲で定めることで、モアレを抑制する効果が期待できる。また、角度θ1,θ2が異なる場合においても、これら角度をいずれも10°以上かつ31°以下の範囲、より好ましくは13°以上かつ27°以下の範囲で定めることで、モアレを抑制する効果が期待できる。
また、上記実施形態では、画素PXが赤色、緑色、青色、白色をそれぞれ表示する副画素を備える例を示した。しかしながら、副画素の表示色はこれらの色に限定されない。副画素の表示色を上記実施形態と異ならせる場合であっても、例えば各副画素のうちで表示色の輝度が最も高い副画素と、2番目に高い副画素とを上述の対角の位置関係で配置することにより、上記実施形態と同様にモアレを抑制する効果が期待できる。例えば、上述の1画素に対応する領域の中に赤色の副画素を1つ、青色の副画素を1つ、緑色の副画素を2つ設けるような場合、2つの緑色の副画素を対角の位置関係で配置することで本願発明を適用することができる。
また、上記実施形態では、駆動電極TXを物体の検出と画像の表示の双方に利用する構成を開示した。しかしながら、物体を検出するための電極と、画像を表示するための電極とが別々に設けられても良い。この場合においては、例えば、ガラス基板などの透明基板の一方の主面に駆動電極TXを形成し、他方の主面に検出電極RXを形成しても良い。
また、上記実施形態においては、検出電極RXと駆動電極TXとを用いて物体を検出する相互容量方式に係る構成を開示した。しかしながら、物体の検出方式は、例えば検出電極RX自体が有する容量を利用して物体を検出する方式(セルフ容量検出方式などと呼ばれる)など、他種の方式であっても良い。
1…表示装置、2…表示パネル、TX…駆動電極、RX…検出電極、DX…ダミー電極、PX…画素、SPXR…赤色の副画素、SPXG…緑色の副画素、SPXB…青色の副画素、SPXW…白色の副画素、Px,Py…画素のピッチ、CL1,CL2…導電線、θ1,θ2…導電線の角度、Pc1,Pc2…導電線のピッチ。
Claims (13)
- 複数の画素を有する表示領域と、
前記表示領域に重なって設けられる複数の第1導電線を含む検出電極と、
前記検出電極からの信号に基づき、前記表示領域に近接する物体を検出する検出モジュールと、
を備え、
前記画素は、第1副画素と、第1方向において前記第1副画素と隣り合う第2副画素と、前記第1方向と交わる第2方向において前記第1副画素と隣り合う第3副画素と、前記第1方向において前記第3副画素と隣り合い且つ前記第2方向において前記第2副画素と隣り合う第4副画素と、を含み、
前記複数の画素は、第1ピッチで前記第1方向に並び、
前記複数の第1導電線は、前記第1ピッチの2.2倍以上かつ3.2倍以下の範囲にある第2ピッチで前記第1方向に並ぶ、表示装置。 - 前記第2ピッチは、前記第1ピッチの2.6倍以上かつ2.8倍以下の範囲にある、
請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1導電線と前記第2方向とが10°以上かつ31°以下の角度を成す、
請求項1又は2に記載の表示装置。 - 前記第1導電線と前記第2方向とが13°以上かつ27°以下の角度を成す、
請求項3に記載の表示装置。 - 前記第2副画素及び前記第3副画素の各々が表示する色は、前記第1副画素及び前記第4副画素の各々が表示する色よりも輝度が高い、
請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の表示装置。 - 前記第1副画素及び前記第4副画素の各々が表示する色は、赤色又は青色であり、
前記第2副画素及び前記第3副画素の各々が表示する色は、緑色又は白色である、
請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の表示装置。 - 前記第1副画素及び前記第4副画素の各々が表示する色は、赤色又は青色であり、
前記第2副画素及び前記第3副画素の各々が表示する色は、緑色である、
請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の表示装置。 - 前記検出電極は、前記表示領域に重なって互いに平行に延びるとともに前記複数の第1導電線と交差する複数の第2導電線を含み、
前記複数の第2導電線は、前記第1ピッチの2.2倍以上かつ3.2倍以下の範囲にある第3ピッチで前記第1方向に並ぶ、
請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の表示装置。 - 前記第2導電線と前記第2方向とが10°以上かつ31°以下の角度を成す、
請求項8に記載の表示装置。 - 前記第1副画素、前記第2副画素、前記第3副画素、及び前記第4副画素のそれぞれに対して設けられた画素電極と、
前記画素電極との間で画像表示のための電界を形成する駆動電極と、
を備え、
前記検出電極は、前記駆動電極との間で容量を形成し、前記容量の変化に応じた前記信号を出力する、
請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の表示装置。 - マトリクス状に並ぶ複数の画素を有した表示領域を備え、
前記画素は、第1副画素と、第1方向において前記第1副画素と隣り合う第2副画素と、前記第1方向と交わる第2方向において前記第1副画素と隣り合う第3副画素と、前記第1方向において前記第3副画素と隣り合い且つ前記第2方向において前記第2副画素と隣り合う第4副画素と、を含み、
前記第2副画素及び前記第3副画素の各々が表示する色は、前記第1副画素及び前記第4副画素の各々が表示する色よりも輝度が高い、表示装置。 - 前記第1副画素及び前記第4副画素の各々が表示する色は、赤色又は青色であり、
前記第2副画素及び前記第3副画素の各々が表示する色は、緑色又は白色である、
請求項11に記載の表示装置。 - 前記第1副画素及び前記第4副画素の各々が表示する色は、赤色又は青色であり、
前記第2副画素及び前記第3副画素の各々が表示する色は、緑色である、
請求項11に記載の表示装置。
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