JP2017061074A - オフセット印刷装置及び、オフセット印刷方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】印刷するパターンのパターン密度がどのようなものであっても、ブランケットを用いたオフセット印刷における初期印刷性を向上させ、印刷初期から安定した印刷品質を得ることのできる技術を提供する。【解決手段】版ステージユニット4に設置された版に形成されたパターンを被印刷体であるワーク17に印刷するオフセット印刷装置であって、インクペーストの溶媒成分を、連続印刷開始前に予めブランケット12に塗布する塗布ユニット18と、印刷するパターンにおけるパターン密度に応じて、パターン密度がより高い場合には、パターン密度がより低い場合と比較して、塗布手装置18により塗布される溶媒の量が少なくなるように塗布ユニット18を制御する制御部19と、をさらに備える。【選択図】図7
Description
本発明は、電子デバイスのパターンを印刷により形成するためのオフセット印刷装置及び、オフセット印刷方法に関する。
現在、電子デバイスの製造において、簡単な工程で回路パターンを形成でき、感光性樹脂を除去する必要もないことから、インクジェット印刷や、スクリーン印刷の技術を用いて回路パターンを形成する方法が用いられる場合がある。しかしながら、これらの印刷技術では印刷線幅の細線化に限界があるのが実情であった。また、回路パターン形成のために、フォトリソグラフィと呼ばれる技術が用いられる場合がある。このフォトリソグラフィにおいては、基板へのレジスト塗布、レジストの乾燥、露光、現像を行なうことで、レジストが所望の形状にパターニングされ、さらに、このレジスト膜をマスクとしてエッチング処理が行われる。従って、フォトリソグラフィにおいては、工程数が増加し、製造コストが高くなるという課題があった。
これに対し、数μm〜30μmの細線領域にも対応でき、工程が少なく低コストなパターン形成方法として、表面がシリコーンゴムからなる印刷用ブランケット(以下、単に「ブランケット」ともいう。)を用いたグラビアオフセット印刷技術が注目されている。このグラビアオフセット印刷においては、商用グラビアオフセット印刷とは異なり、ブランケット上に受理されたインクペーストを被印刷物であるワークに安定的に完全に転写する必要がある。そして、グラビアオフセット印刷においては、インクペースト中の特定の成分(例えば、溶媒など)がブランケットに吸収され、インクペーストのワークへの密着力>インクペーストの凝集力>インクペーストのブランケットへの密着力という関係が成り立つことにより、ブランケット上に受理されたインクペーストをワークに完全に転写することが可能となる。
しかしながら、ブランケットを用いたグラビアオフセット印刷技術には、印刷開始初期における印刷性が不安定になるという課題がある。これは、印刷を開始する前のブランケットにはインクペーストの溶媒が全く含まれていないことから、ブランケットが版からインクペーストを受理すると溶媒がブランケットの内部に素早く吸収され、ブランケット上のインクペーストが早い段階で乾燥し、ブランケットから被印刷体への転写性が低下することが原因と考えられる。
これに対し、ある程度印刷を繰り返すことでインクペーストの溶媒を適度にブランケットに吸収させ、溶媒の吸収速度を制限することにより、ブランケット上でインクペーストが早期に乾燥することを抑制でき、印刷性を安定させることができる。すなわち、ブランケットを用いる場合には、インクペーストの溶媒を適度にブランケットに吸収させるために数回〜数十回程度の印刷を繰り返せば良いことになる。しかしながら、特に、電子デバイスを製造する場合には、このような捨て印刷は許されず、初回の印刷から印刷性を安定させることが要求されている。
これに対し、例えば特許文献1にはシリコーンブランケットの表面全体に、インクペーストの溶剤と同じまたは同種の溶剤を用いたペーストを均一に塗布し、所定の時間放置した後でシリコーンブランケット表面から除去する技術が開示されている。これにより印刷初期からシリコーンブランケットに予め適量の溶媒を吸収させることが可能となる。
しかしながら、特許文献1に記載される技術のように、シリコーンブランケット表面に予めペーストを均一に塗布する印刷方法では、印刷されるパターンの密度が均一でない場合、シリコーンブランケット上のインクペーストの乾燥が不均一となりシリコーンブランケットから被印刷体への転写性が低下する問題があった。
本発明は、上記のような状況を鑑みて発明されたものであり、その目的は、印刷するパターンのパターン密度がどのようなものであっても、ブランケットを用いたオフセット印刷における初期印刷性を向上させ、印刷初期から安定した印刷品質を得ることのできる技術を提供することである。
上記課題を解決するための本発明は、印刷するパターンが形成された版が設置される版ステージユニットと、
円柱状の形状を有し、ブランケットが外周面に設けられるとともに、前記版上を回転しつつ相対移動することで前記ステージユニットに設置された版に充填されたインクを前記ブランケット上に受理するローラユニットと、
前記パターンが印刷される被印刷体が設置されるとともに、前記インクが前記ブランケット上に受理されたローラユニットが前記被印刷体上を回転しつつ相対移動することで前記被印刷体に前記インクを転写させるワークステージユニットと、を備え、
前記版に形成されたパターンを前記被印刷体に印刷するオフセット印刷装置であって、
前記インクから前記ブランケットに吸収される所定成分を、連続印刷開始前に予め前記ブランケットに塗布する塗布手段と、
印刷する前記パターンにおけるパターン密度に応じて、パターン密度がより高い場合には、パターン密度がより低い場合と比較して、前記塗布手段により塗布される前記所定成分の量が少なくなるように前記塗布手段を制御する塗布量制御手段と、をさらに備えることを特徴とする。
円柱状の形状を有し、ブランケットが外周面に設けられるとともに、前記版上を回転しつつ相対移動することで前記ステージユニットに設置された版に充填されたインクを前記ブランケット上に受理するローラユニットと、
前記パターンが印刷される被印刷体が設置されるとともに、前記インクが前記ブランケット上に受理されたローラユニットが前記被印刷体上を回転しつつ相対移動することで前記被印刷体に前記インクを転写させるワークステージユニットと、を備え、
前記版に形成されたパターンを前記被印刷体に印刷するオフセット印刷装置であって、
前記インクから前記ブランケットに吸収される所定成分を、連続印刷開始前に予め前記ブランケットに塗布する塗布手段と、
印刷する前記パターンにおけるパターン密度に応じて、パターン密度がより高い場合には、パターン密度がより低い場合と比較して、前記塗布手段により塗布される前記所定成分の量が少なくなるように前記塗布手段を制御する塗布量制御手段と、をさらに備えることを特徴とする。
これによれば、印刷するパターンのパターン密度まで考慮した上で、最適な量の前記所定成分を、連続印刷前に予めブランケットに吸収させておくことが可能である。その結果、印刷するパターンのパターン密度に拘わらず、オフセット印刷における初期印刷性を向上させて、印刷初期から安定した印刷品質を得ることが可能になる。
なお、上記において所定成分とは、インクが例えばシリコーンゴムからなるブランケットに受理された場合に、インクの成分のうちインクからブランケットに吸収される成分であり、例えば、インクとしての銀ペーストに含まれる溶媒である溶剤や、インクとしてのレジストに含まれる溶媒である溶剤、モノマー、オリゴマー、フィラー等がこれに相当する。
また、本発明においては、前記塗布量制御手段は、印刷する前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、前記塗布手段により塗布される前記所定成分の量が少なくなるように前記塗布手段を制御してもよい。
そうすれば、印刷するパターンにおいて、パターン密度の分布がある場合には、連続印
刷開始前に、ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、塗布される所定成分の量が少なくなるようにできる。その結果、印刷するパターンのパターン密度の分布がある場合でも、パターン密度に拘わらず、パターン全面において、オフセット印刷における初期印刷性を向上させて、印刷初期から安定した印刷品質を得ることが可能になる。
刷開始前に、ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、塗布される所定成分の量が少なくなるようにできる。その結果、印刷するパターンのパターン密度の分布がある場合でも、パターン密度に拘わらず、パターン全面において、オフセット印刷における初期印刷性を向上させて、印刷初期から安定した印刷品質を得ることが可能になる。
印刷する前記パターンにおけるパターン密度の分布を記憶する記憶手段をさらに備え、
前記塗布量制御手段は、予め前記記憶手段に記憶された前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、前記塗布手段により塗布される前記所定成分の量が少なくなるように前記塗布手段を制御するようにしてもよい。
前記塗布量制御手段は、予め前記記憶手段に記憶された前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、前記塗布手段により塗布される前記所定成分の量が少なくなるように前記塗布手段を制御するようにしてもよい。
これによれば、予め印刷するパターンにおけるパターン密度の分布を、例えばパターン設計時のCADデータなどから取得し、これを記憶しておくことができる。そして、塗布手段が所定成分をブランケットに塗布する際には、当該記憶されたデータに基づいて塗布量を制御することが可能である。その結果、版ステージユニットにおけるパターンのパターン密度や、ブランケットに受理されたインクのパターン密度を計測するというような手間をかけることなく、パターン密度を得ることが可能である。その結果、パターン密度に拘わらず、パターン全面においてより簡単に、より精度よく、オフセット印刷における初期印刷性を向上させて、印刷初期から安定した印刷品質を得ることが可能になる。
また、本発明においては、前記塗布手段は、前記ローラユニットの外周面に対向して配置されるとともに少なくとも該ローラユニットの軸方向に並べられた複数のノズルを有する吐出ユニットであり、前記塗布量制御手段は、前記パターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域に対向するノズルには、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域に対向するノズルと比較して、より少ない量の前記所定成分を塗布させてもよい。
また、本発明においては、前記塗布手段は、前記ローラユニットの外周面に対向して配置されるとともに少なくとも該ローラユニットの軸方向に移動可能な一つ以上のノズルを有する移動吐出ユニットであり、前記塗布量制御手段は、前記パターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、より少ない量の前記所定成分を塗布させてもよい。
また、本発明においては、前記塗布手段により前記ブランケットに塗布された前記所定成分を、前記ブランケットから蒸発させる蒸発手段をさらに備え、
前記塗布手段は前記所定成分を、連続印刷開始前に予め前記ブランケットに一様に塗布し、
前記塗布量制御手段は、前記ブランケットにおいて、前記塗布手段により一様に塗布された前記所定成分を前記蒸発手段により印刷する前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて蒸発させ、結果として、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、前記塗布手段により塗布された前記所定成分の量が少なくなるように制御してもよい。
前記塗布手段は前記所定成分を、連続印刷開始前に予め前記ブランケットに一様に塗布し、
前記塗布量制御手段は、前記ブランケットにおいて、前記塗布手段により一様に塗布された前記所定成分を前記蒸発手段により印刷する前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて蒸発させ、結果として、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、前記塗布手段により塗布された前記所定成分の量が少なくなるように制御してもよい。
すなわち、この場合には、塗布手段は所定成分を、連続印刷開始前に予め前記ブランケットに一様に塗布し、塗布量制御手段は、その後、やはり連続印刷開始前に蒸発手段によって、印刷するパターンのパターン密度の分布に応じた量の所定成分を蒸発させる。そし
て、結果として、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、前記塗布手段により塗布された前記所定成分の量が少なくなるように制御する。
て、結果として、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、前記塗布手段により塗布された前記所定成分の量が少なくなるように制御する。
このことによっても、印刷するパターンにおいて、パターン密度の分布がある場合には、連続印刷開始前に、ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、吸収された所定成分の量が少なくなるようにできる。その結果、印刷するパターンのパターン密度の分布がある場合でも、パターン密度に拘わらず、パターン全面において、オフセット印刷における初期印刷性を向上させて、印刷初期から安定した印刷品質を得ることが可能になる。この場合は、塗布手段は、蒸発手段の協働によって、結果として前記所定成分を、連続印刷開始前に予め前記ブランケットに塗布する(塗布されたものとして残す)手段ということになる。
また、本発明においては、前記インクから前記ブランケットに吸収された前記所定成分を、前記ブランケットから蒸発させる蒸発手段と、前記パターンの連続印刷中に、前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度が、パターン密度がより低い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度より低くなるように、前記ブランケットに吸収された前記所定成分の前記蒸発手段による蒸発量を制御する蒸発量制御手段と、をさらに備えるようにしてもよい。
ここで、オフセット印刷装置を用いて連続印刷を実施した場合、インクからブランケットに吸収される所定成分が連続印刷中にブランケット内に蓄積し、インクからブランケットへの所定成分の吸収速度が低下し、ブランケット上のインクのワークへの転写性が低下する場合があった。これに対し、本発明においては、インクからブランケットに吸収された所定成分を、ブランケットから蒸発させる蒸発手段を設ける。これにより、ブランケット中に蓄積された所定成分の濃度を低下させ、ブランケットからワークにインクを完全転写可能な状態に維持することが可能になる。
しかしながら、ブランケットからワークにインクを完全転写させるために適切な所定成分の濃度は通常、パターンのパターン密度によって異なる。よって、パターン内のパターン密度に拘わらず一様にブランケットから所定成分を蒸発させたとしても、パターン内の全ての部分について、ブランケットからワークにインクを完全転写可能な状態に維持することは困難である。
そこで、本発明においては、連続印刷開始前に、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケットに所定成分を塗布してブランケット内の所定成分の濃度を最適化することに加えて、連続印刷中には、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケットから所定成分を蒸発させてブランケット内の所定成分の濃度を最適化することとした。これによれば、印刷するパターンにパターン密度の分布がある場合でも、パターン密度に拘わらず、パターン全面において、オフセット印刷の連続印刷中におけるブランケットからワークへのインクの転写性を向上させて、連続印刷中の印刷品質を安定さえることが可能になる。
また、本発明においては、前記蒸発手段は、前記ローラユニットの外周面に対向して配置されるとともに、少なくとも該ローラユニットの軸方向に並べられた複数の光源または熱源を有する加熱ユニットであり、前記蒸発量制御手段は、前記パターン密度の分布に応じて、前記加熱ユニットにおける各光源からの光の照射量または各熱源からの発熱量を前記ローラユニットの回転に同期させて変化させることにより、前記ブランケットにおいて
、パターン密度がより高い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度が、パターン密度がより低い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度より低くなるように、前記ブランケットに吸収された前記所定成分の前記蒸発手段による蒸発量を制御するようにしてもよい。
、パターン密度がより高い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度が、パターン密度がより低い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度より低くなるように、前記ブランケットに吸収された前記所定成分の前記蒸発手段による蒸発量を制御するようにしてもよい。
また、本発明は、パターンが形成された版にインクを充填させるインク充填工程と、
前記版に充填された前記インクをブランケットに受理させる受理工程と、
前記ブランケットに受理された前記インクを被印刷体であるワークに転写する転写工程と、を備えたオフセット印刷方法において、
印刷の開始前に、前記インクのうち前記ブランケットに吸収される所定成分を予め前記ブランケットに塗布する塗布工程をさらに有し、
前記塗布工程においては、前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域では、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、塗布される前記所定成分の量をより少なくすることを特徴とするオフセット印刷方法であってもよい。
前記版に充填された前記インクをブランケットに受理させる受理工程と、
前記ブランケットに受理された前記インクを被印刷体であるワークに転写する転写工程と、を備えたオフセット印刷方法において、
印刷の開始前に、前記インクのうち前記ブランケットに吸収される所定成分を予め前記ブランケットに塗布する塗布工程をさらに有し、
前記塗布工程においては、前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域では、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、塗布される前記所定成分の量をより少なくすることを特徴とするオフセット印刷方法であってもよい。
その場合、前記パターンの連続印刷中に、前記インクから前記ブランケットに吸収される所定成分を、前記ブランケットから蒸発させる蒸発工程を、さらに有し、
前記蒸発工程においては、前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度が、パターン密度がより低い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度より低くなるように、前記ブランケットに吸収された前記所定成分の前記蒸発手段による蒸発量を制御するようにしてもよい。
前記蒸発工程においては、前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度が、パターン密度がより低い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度より低くなるように、前記ブランケットに吸収された前記所定成分の前記蒸発手段による蒸発量を制御するようにしてもよい。
なお、上述した、課題を解決するための手段は適宜組み合わせて使用することが可能である。
本発明によれば、印刷するパターンのパターン密度まで考慮した上で、最適な量の所定成分を、連続印刷前に予めブランケットに吸収させておくことが可能である。その結果、印刷するパターンのパターン密度に拘わらず、オフセット印刷における初期印刷性を向上させて、印刷初期から安定した印刷品質を得ることが可能になる。
<実施例1>
以下、本願発明の実施例について図を参照しながら説明する。以下に示す実施例は、本願発明の一態様であり、本願発明の技術的範囲を限定するものではない。図1には、先ず一般的なグラビアオフセット印刷装置1(以下、単に「オフセット印刷装置」または「印刷装置」ともいう。)の概略構成を示す。図1(a)は平面図、図1(b)は正面図である。なお、以下において図1(a)及び(b)において矢印で示す紙面左右方向を印刷装置1の左右方向、図1(b)において矢印で示す紙面上下方向を印刷装置1の上下方向と定義する。これは以下に示される他の印刷装置についても同様とする。
以下、本願発明の実施例について図を参照しながら説明する。以下に示す実施例は、本願発明の一態様であり、本願発明の技術的範囲を限定するものではない。図1には、先ず一般的なグラビアオフセット印刷装置1(以下、単に「オフセット印刷装置」または「印刷装置」ともいう。)の概略構成を示す。図1(a)は平面図、図1(b)は正面図である。なお、以下において図1(a)及び(b)において矢印で示す紙面左右方向を印刷装置1の左右方向、図1(b)において矢印で示す紙面上下方向を印刷装置1の上下方向と定義する。これは以下に示される他の印刷装置についても同様とする。
図1に示すように、印刷装置1は、ベースユニット2上に印刷のための版が設置される版ステージユニット4、版ステージユニット4に設置された版にインクペーストを供給するインク供給ユニット6、版ステージユニット4上のインクペーストを、外周面に巻かれたブランケット12上に一旦受理する回転可能なローラユニット8、ローラユニット8のブランケット12上に受理されたインクペーストを転写する被印刷体であるワークが設置されるワークステージユニット9等が載置されることにより構成されている。なお、版ステージユニット4、ワークステージユニット9はボールネジ、モータ等からなる図示を省略する駆動機構により左右方向に移動する。
次に、図2及び図3を用いて、印刷装置1の動作について説明する。まず、印刷のための準備として、版ステージユニット4に版14が設置される。版14はガラス、樹脂、金属などで作製されたグラビアオフセット印刷用の凹版である。そして、この凹版の凹部によって印刷するパターンが形成されている。ここで、電子デバイスのパターン印刷のように、印刷の目的が極めて微細なパターンを高い精度で形成することにある場合には凹版を用いるのが好ましい。凹版を用いることにより、凸版や平版を用いた場合よりも微細かつ高精度の印刷を実現することができる。また、凹部の深さを変えることでパターンの膜厚を容易に制御することが可能となる。
また、印刷開始前に、ワークステージユニット9に被印刷体であるワーク17がロードされる。このワーク17としては、印刷の用途等に応じて種々のものが使用可能である。例えば、ソーダライムガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート等の樹脂フィルムまたは樹脂板、金属薄板、セラミック等でもよい。
版ステージユニット4に版14が設置され、ワークステージユニット9に被印刷体であるワーク17がロードされた後に、図2(a)に示すように、版14の凹部14a内に、ドクターブレード16によってインクペーストが充填される。次に、図2(b)に示すように、凹部14a内にインクペーストが充填された版14が、図中左から右方向に直線移動する。そして、版ステージユニット4がローラユニット8の下側に進入すると、ローラユニット8は、ブランケット12の表面が版14の表面に接した状態で、版ステージユニット4の直線移動に同期して回転し、図2(c)に示すように、版14の凹部14a内のインクペーストがブランケット12上に受理される。
次に、図3(a)に示すように、ワーク17が載置されたワークステージユニット9が、図中右から左方向に直線移動する。そして、ワークステージユニット9がローラユニット8の下側に進入すると、ローラユニット8は、ブランケット12の表面がワーク17の表面に接した状態で、ワークステージユニット9の直線移動に同期して回転し、図3(b)に示すように、ブランケット12上のインクペーストがワークステージユニット9に載置されたワーク17上に転写される。その後、印刷が完了したワーク17が、ワークステージユニット9からアンロードされ、次に印刷すべきワーク17が、ワークステージユニット9にロードされる。
次に、上記したオフセット印刷においてインクペーストがブランケット12に受理される際と、ブランケット12上のインクペーストがワーク17に転写される際に生じている現象の詳細について図4を用いて説明する。まず図4(a)の受理工程において、インクペーストが版14の凹部14aの表面からブランケット12の表面に受理される。そして、図4(b)に示すように、インクペーストがブランケット12上に保持されている状態において、インクペースト中の所定成分としての溶媒がブランケット12に吸収されるとともに、空気中にも蒸発する。このことにより、インクペースト中の溶媒が減少しインクペーストの粘度が上昇する。
そして、図4(c)に示すように、ブランケット12上でインクペーストが凝集し、ブランケット12とインクペーストとの界面の剥離性が向上する。そして、インクペースト内部の結合力f2がインクペーストとブランケット12との密着力f3より大きく、さらにインクペーストとワーク17との密着力f4がインクペースト内部の結合力f2より大きい状態で、ワーク17に転写されることで、ブランケット12上のインクペーストがワーク17にすべて(100%)転写される。
しかしながら、ワーク17への転写タイミングにおいて、インクペースト内の溶媒のブランケット12への吸収が過剰な場合には、インクペーストの表面が過剰に乾燥・固化してしまい、図4(d)に示すように、インクペーストとワーク17との密着力f4が小さくなり、インクペーストがワーク17に転写されずブランケット12に残ってしまう場合がある。また、ワーク17への転写タイミングにおいて、インクペースト内の溶媒のブランケット12への吸収が不十分な場合には、インクペースト内部の結合力f2が小さいため、インクペーストが分断し100%の転写が困難となる場合がある。このように、オフセット印刷による印刷品質は、インクペーストの溶媒のブランケット12への吸収量によって大きく左右される。
ここで、新品のブランケット12を使用してオフセット印刷を開始した場合には、ブランケット12中における溶媒の初期濃度が低いために溶媒の吸収速度が速く、インクペーストとワーク17との密着力f4が小さくなり、インクペーストがワーク17に転写されずにブランケット12に残り易くなる。また、逆にブランケット12中の溶媒濃度が高すぎる場合には、吸収速度が遅くなり、ブランケット12とインクペーストとの密着力f3が高くなるとともにインクペーストの内部結合力f2が低くなるために、インクペーストの分断が生じ易くなる。
このことに関し、図5には、新しいブランケット12を使用してオフセット印刷を行う場合の、印刷枚数と転写されたパターンの線幅、ピーク膜厚、平均膜厚との関係を示す。図5において横軸は連続印刷回数、縦軸は転写された線幅、平均膜厚及びピーク膜厚を示す。また、図5のベースとなるパターンのL/S(Line and Space)は30/30(線幅と線間隔が各30μm)である。図5に示すように、新しいブランケット12を使用した場合には、印刷開始当初は、ブランケット12中における溶媒の初期濃度
が低いために線幅、ピーク膜厚、平均膜厚ともに印刷毎に不安定であるが、50枚程度の連続印刷を行うことで、ブランケット12内の溶媒の濃度が適度な値となり、印刷品質が安定する。
が低いために線幅、ピーク膜厚、平均膜厚ともに印刷毎に不安定であるが、50枚程度の連続印刷を行うことで、ブランケット12内の溶媒の濃度が適度な値となり、印刷品質が安定する。
なお、その際、連続印刷枚数が増加すると、逆にブランケット12中の溶媒濃度が過剰に高くなる場合がある。このような場合は、インクペーストからブランケット12への溶媒の吸収速度が遅くなり、インクペーストの分断が生じ易くなる。これに対し、ブランケット12中の溶媒濃度が過剰とならないようにブランケット12に外部から熱を与えるなどの方法で、ブランケット12中の溶媒を蒸発させている。これにより、連続印刷の枚数が増加した場合にも、ブランケット12内の溶媒の濃度が適度な値となり、印刷品質を安定させることができる。
次に、オフセット印刷における印刷品質に対するパターン密度の影響について説明する。ここで、印刷するパターンのパターン密度により、印刷品質に最適なブランケット12内の溶媒濃度が異なることが分かっている。具体的には、太線部分、L/Sの密集部分、ベタ印刷部分など、パターン密度が高い部分に対しては、ブランケット12内の溶媒濃度は低い方が望ましく、細線、単独線部分など、パターン密度が低い部分に対しては、ブランケット12内の溶媒濃度が高い方が望ましい。これは、パターン密度が高い部分においては、パターン密度が低い部分と比較してインクペーストの受理の度に、より早い吸収速度が求められることによる。
図6には、パターン密度が高い部分(A/B)と、パターン密度が低い部分(C/D)における連続印刷枚数と線幅の関係を示す。図6から分かるように、連続印刷枚数が50枚以下の状態においては、ブランケット12に吸収されている溶媒の濃度が低いので、パターン密度が高い部分(A/B)における線幅が、パターン密度が低い部分(C/D)における線幅より太く、印刷品質が高くなっていることが分かる。また、連続印刷枚数が増加するにつれて、ブランケット12に吸収されている溶媒の濃度が高くなり、パターン密度が高い部分(A/B)における線幅と、パターン密度が低い部分(C/D)における線幅との差が小さくなっていることが分かる。
そこで、本発明においては、実際に印刷すべき電子デバイスのパターンを複数の部分に分割し、分割した各部分におけるパターン密度を取得し、取得された各部分のパターン密度に対して良好な印刷品質を得ることができる溶媒濃度の値をテーブルから導出して、パターンにおいて分割された各部分に相当するブランケット12の領域の溶媒濃度が、良好な印刷品質を得ることができる値となるように、ブランケット12における連続印刷中の溶媒濃度を制御することとした。
図7には、本実施例に係る印刷装置10を示す。印刷装置10においては、前述した一般的な印刷装置1に対して、塗布手段及び吐出ユニットとしての溶媒の塗布ユニット18を備えた点が異なる。その他の構成は同じであるので同じ符号を用いるとともに説明は省略する。本実施例の塗布ユニット18は、円筒状のローラユニット8の外周面に対向して設けられ、インクジェットプリンタと同原理のインクジェットノズルが少なくともローラユニット8の軸方向に並べて配置されたものである。そして、印刷装置10においては、新しいブランケット12を用いて印刷を開始する際には、印刷開始に先立って、塗布ユニット18によって溶媒をブランケット12に塗布して溶媒を吸収させておく。
図8には、本実施例に係る印刷装置10のブロック図を示す。印刷装置10は、版ステージユニット4、インク供給ユニット6、塗布ユニット18、ローラユニット8、ワークステージユニット9等を制御する制御部19を備えている。この制御部はCPU(中央演算装置)を含んで形成されており、印刷装置10の内部に格納されていてもよいし、電気
的に接続された外部のパソコン内のものを使用してもよい。また、この制御部19には、記憶手段としての記憶部21が接続されている。記憶部21は、ROM、RAM等からなり、後述するように、塗布ユニット18からの溶媒の塗布量を制御する際に使用するテーブルや、印刷するパターンの設計データが記憶されている。
的に接続された外部のパソコン内のものを使用してもよい。また、この制御部19には、記憶手段としての記憶部21が接続されている。記憶部21は、ROM、RAM等からなり、後述するように、塗布ユニット18からの溶媒の塗布量を制御する際に使用するテーブルや、印刷するパターンの設計データが記憶されている。
次に、本実施例における印刷装置10の動作について図9に示すフローチャートに沿って説明する。このフローチャートは、制御部19によって実施される。まず、ステップS101において印刷のための準備として、印刷すべき電子デバイスのパターンを複数の部分に分割し、別途取得されたパターンの設計データから、分割された各部分のパターン密度が導出される。より具体的には、パターン密度は例えば、パターン密度の導出の対象である部分の面積をS1、その部分の中のパターンの合計面積をS2とした場合に、
パターン密度D=S2/S1・・・・(1)
という計算式に基づいて導出してもよい。ステップS101の処理が終了するとステップS102に進む。
パターン密度D=S2/S1・・・・(1)
という計算式に基づいて導出してもよい。ステップS101の処理が終了するとステップS102に進む。
ステップS102においては、導出されたパターン密度と、当該パターン密度に最適な溶媒の塗布量との関係を格納し記憶部21に記憶されたテーブルより、ブランケット12において、パターンを分割した各部分に相当する領域への溶媒の塗布量が決定される。より詳細には、パターン密度がより高い部分に相当する領域においては、塗布ユニット18からの溶媒の塗布量をより少なくし、パターン密度の低い部分に相当する領域においては、塗布ユニット18からの溶媒の塗布量をより多くする。ステップS102の処理が終了するとステップS103に進む。
ステップS103においては、ローラユニット8が回転を開始するとともに、ステップS101において分割されたパターンの各部分のインクペーストが受理されるべきブランケット12上の領域に、ステップS102において決定された量の溶媒が塗布ユニット18によって塗布される。ステップS103の処理が終了するとステップS104に進む。ステップS104以降は、通常のオフセット印刷のフローとなる。ステップS104においては、版14の凹部14a内に、インクペーストが充填される。具体的には、版ステージユニット4が、図7における右側に移動し、インク供給ユニット6の下を通過する際に、インク供給ユニット6が有するノズルからインクペーストが供給されるとともにドクターブレード16によってインクペーストが版14の上に延ばされ、凹部14a内に充填される。ステップS104の処理が終了するとステップS105に進む。
ステップS105においては、さらに、凹部14a内にインクペーストが充填された版14を載置した版ステージユニット4が、右方向に移動する。そして、版ステージユニット4がローラユニット8の下側に進入すると、ローラユニット8は、ブランケット12の表面が版14の表面に接した状態で、版ステージユニット4の直線移動に同期して回転し、版14の凹部14a内のインクペーストがブランケット12上に受理される。なお、その後、版ステージユニット4は図中左側に移動し初期位置に戻るが、その時点ではローラユニット8は図中上側に移動し、インクペーストが受理された状態のブランケット12が版14に接触しないようになっている。ステップS105の処理が終了するとステップS106に進む。
ステップS106においては、ワーク17が載置されたワークステージユニット9が、図中右から左方向に直線移動する。そして、ワークステージユニット9がローラユニット8の下側に進入すると、ローラユニット8は、ブランケット12の表面がワーク17の表面に当接した状態で、ワークステージユニット9の直線移動に同期して回転し、ブランケ
ット12上のインクペーストがワークステージユニット9に載置されたワーク17上に転写される。そして、その後、ワークステージユニット9は図中右に移動し初期位置に戻るが、その時点ではローラユニット8は図中上側に移動し、ブランケット12がワーク17に接触しないようになっている。ステップS106の処理が終了するとステップS107に進む。
ット12上のインクペーストがワークステージユニット9に載置されたワーク17上に転写される。そして、その後、ワークステージユニット9は図中右に移動し初期位置に戻るが、その時点ではローラユニット8は図中上側に移動し、ブランケット12がワーク17に接触しないようになっている。ステップS106の処理が終了するとステップS107に進む。
ステップS107においては印刷が終了したかどうかが判定される。ここでは、予め印刷枚数がセットされ、ステップS107の実行の度にセットされた変数を1ずつ減少させ、当該変数が零になったか否かを判定してもよい。ステップS107において印刷が終了していないと判定された場合には、ステップS104に戻る。一方、ステップS107において印刷が終了したと判定された場合には、本ルーチンを一旦終了する。なお、本実施例において上記のステップS101〜ステップS103の処理を行う制御部19は、塗布量制御手段に相当する。また、本実施例において、ステップS104は充填工程、ステップS105は受理工程、ステップS106は転写工程に相当する。また、ステップS103は塗布工程に相当する。
図10には、印刷すべき電子デバイスのパターンの分割例のイメージ図を示す。図10では、パターン内を所定の寸法で領域分割(1−1、1−2、・・・・n−m)し、各領域毎にパターン密度を求めている。また、図11には、予めテーブルに記憶しておく、パターン密度と溶媒塗布量(溶媒濃度)の関係の例を図示する。パターン密度と溶媒塗布量(溶媒濃度)の関係は、図11のa.に示すような上に凸の曲線状の関係であってもよいし、b.に示すような直線関係であってもよいし、c.に示すような下に凸の曲線状の関係であってもよい。さらに、他の曲線で示される関係であってもよい。これにより、印刷するパターンのパターン密度に応じて印刷開始前の溶媒の吸収状態を最適にすることができ、パターン密度に拘わらず、印刷初期から良好な印刷品質を得ることが可能となる。
図12には、本実施例の別の態様である印刷装置20を示す。印刷装置20においては、塗布手段及び移動吐出ユニットとしての塗布ユニット21が設けられている。この塗布ユニット21は、ローラユニット8の外周面に対向して設けられ、ローラユニット8の軸方向に移動可能なディスペンサ21aと、ディスペンサ21aの移動時のガイド21bにより構成されている。ディスペンサ21aは、ローラユニット8の回転と同期して軸方向に移動し、図10に示した各部分において、当該部分のパターン密度に応じて塗布量を変化させながら往復運動する。パターン密度がより高い部分に相当する領域においては、ディスペンサ21aからの溶媒の塗布量をより少なくし、パターン密度のより低い部分に相当する領域においては、ディスペンサ21aからの溶媒の塗布量をより多くする点は、この態様においても同様である。このことによっても、印刷するパターンのパターン密度に応じて印刷開始前の溶媒の吸収状態を最適にすることができ、パターン密度に拘わらず、印刷初期から良好な印刷品質を得ることが可能となる。
また、上記の実施例の制御のフローチャートにおいては、図9に示したように、ブランケット12への光照射は、ステップS104で開始され、ステップS105〜ステップS107の処理が繰り返されている間には、ブランケット12への光照射が継続する制御となっていたが、ブランケット12への光照射の仕方はこれに限られない。例えば、ステップS104の処理を削除し、ステップS108で印刷が終了していないと判断されてから、ステップS106の充填工程が実行されるまでの間に、ブランケットへの光照射をある期間実行する処理を挿入しても構わない。
<実施例2>
次に、本発明における実施例2について説明する。上記の実施例1においては、印刷装置による印刷開始前に、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケット12に溶
媒を吸収させて印刷開始時におけるブランケット12内の溶媒濃度を最適化する例について説明した。本実施例では、塗布ユニットによって印刷開始前にブランケット12に溶媒を吸収させることに加え、印刷中は、乾燥ユニットによって、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケット12内の溶媒の蒸発を促進させ、印刷中におけるブランケット12内の溶媒濃度を定常的に最適に維持する例について説明する。
次に、本発明における実施例2について説明する。上記の実施例1においては、印刷装置による印刷開始前に、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケット12に溶
媒を吸収させて印刷開始時におけるブランケット12内の溶媒濃度を最適化する例について説明した。本実施例では、塗布ユニットによって印刷開始前にブランケット12に溶媒を吸収させることに加え、印刷中は、乾燥ユニットによって、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケット12内の溶媒の蒸発を促進させ、印刷中におけるブランケット12内の溶媒濃度を定常的に最適に維持する例について説明する。
ここで、例えば、実施例1における印刷装置10を用いてパターンの連続印刷を実施した場合、インクペーストからブランケット12に吸収される溶媒が印刷枚数の増加に伴ってブランケット12内に蓄積する。そうすると、インクペーストからブランケット12への溶媒の吸収速度が低下し、ブランケット12上のインクペーストがワーク17に完全転写可能になるまでの時間が長時間化する。そして、最終的には、ブランケット12からワーク17へのインクペーストの完全転写が不可能になる場合がある。
これに対して、ブランケット12の溶媒濃度を低下させる乾燥ユニットを設ける技術が既に提案されている。この技術は具体的には、ブランケット12に熱風を吹き付けたり光を照射したりして加熱することにより、あるいは真空吸引することにより、ブランケット12中の溶媒濃度を低下させ、ブランケット12からワーク17にインクペーストを完全転写可能な状態に維持する。
しかしながら、前述したように、ブランケット12からワーク17にインクペーストを完全転写させるために適切なブランケット12中の溶媒濃度は通常、印刷するパターンのパターン密度によって異なる。よって、パターン内のパターン密度の分布に拘わらず一様にブランケット12を乾燥させたとしても、パターン内における全ての部分について、ブランケット12からワーク17にインクペーストを完全転写可能な状態に維持することは困難である。
そこで、本実施例においては、印刷装置による印刷開始前に、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケット12に溶媒を吸収させてブランケット12内の溶媒濃度を最適化することに加えて、連続印刷中には、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケット12から溶媒を蒸発させてブランケット12内の溶媒濃度を最適化することとした。
図13には、本実施例における印刷装置30を示す。図13(a)は平面図、図13(b)は正面図を示す。図12に示す印刷装置20においては、ローラユニット8の外周付近には、実施例1と同等に塗布ユニット18が設けられている。一方、本実施例では、ローラユニット8の外周付近には、ブランケット12中の溶媒を蒸発させてブランケット12内の溶媒濃度を制御する蒸発手段及び加熱ユニットとしての乾燥ユニット22が設置されている。この乾燥ユニット22は、ローラユニット8の軸方向に平行に、熱源としての光源を複数個配置し、図10に示したパターンの各部分におけるパターン密度に応じて、光源による照射強度および/または照射時間(以下、これらを単純に「照射量」ともいう。)を制御し、パターン密度がより高い部分に相当する領域に対する照射量をより多くし、パターン密度がより低い部分に相当する領域に対する照射量をより少なくするようにする。本実施例の印刷装置30のブロック図は、図8に示した印刷装置10のブロック図の制御部19に、乾燥ユニット22を示すブロックがさらに接続されたものとなる(図面は省略)。
図14は、本実施例における印刷装置30の動作を示すフローチャートである。このフローチャートは記憶部21に記憶されたプログラムであり制御部19によって実行される。図9に示したフローチャートとの相違点は、ステップS103においてブランケット12に塗布ユニット18によって溶媒を塗布した後で、印刷が開始される前に、ステップS
201〜ステップS202の工程が実行され、乾燥ユニット22によりブランケット12における溶媒を蒸発させる制御が開始される点である。
201〜ステップS202の工程が実行され、乾燥ユニット22によりブランケット12における溶媒を蒸発させる制御が開始される点である。
まず、本ルーチンにおいてステップS103の処理が終了するとステップS201に進み、ステップS101において導出されたパターン密度と、当該パターン密度に最適な溶媒の蒸発量とを格納し記憶部21に記憶されたテーブルより、図10に示す各部分に相当する領域からの溶媒の蒸発量が決定される。より詳細には、パターン密度がより高い部分に相当する領域においては、乾燥ユニット22による溶媒の蒸発量をより多くし、パターン密度の低い部分に相当する領域においては、乾燥ユニット22による溶媒の蒸発量をより少なくする。ステップS201の処理が終了するとステップS202に進む。
ステップS202においては、ローラユニット8が回転を開始するとともに、ステップS101において分割されたパターンの各部分のインクペーストが受理されるべきブランケット12上の領域に、ステップS201において決定された量の溶媒が蒸発するような照射量で、乾燥ユニット22によるブランケット12への光の照射が開始される。ステップS202の処理が終了するとステップS104に進む。ステップS104においては、版14の凹部14a内に、インクペーストが充填される。これは、実施例1の図9に示したステップS104と同等の処理である。ステップS104の処理が終了するとステップS203に進む。ステップS203においては、乾燥ユニット22によるブランケット12への光の照射が終了する。ステップS203の処理が終了するとステップS105に進む。ステップS105〜ステップS106の処理は、実施例1の図9について説明したものと同じであるので、ここでは説明を省略する。ステップS106の処理が終了するとステップS204に進む。S204においては印刷が終了したかどうかが判定される。判定の方法は図9で説明したステップS107における方法と同等である。ステップS204において印刷が終了していないと判定された場合には、ステップS202に戻る。一方、ステップS204において印刷が終了したと判定された場合には、本ルーチンを一旦終了する。
本実施例では、ステップS202で乾燥ユニット22による光の照射が開始され、ステップS203で光の照射が終了するまで、乾燥ユニット22による光の照射が継続することとなる。なお、本実施例においてステップS101、ステップS201、ステップS202及びステップS203の処理を行う制御部19は、蒸発量制御手段に相当する。また、本実施例において、ステップS104の処理は充填工程、ステップS105の処理は受理工程、ステップS106の処理は転写工程に相当する。また、ステップS103の処理は塗布工程、ステップS202、ステップS203の処理及び、連続印刷工程中に乾燥ユニット22から光を照射する工程は蒸発工程に相当する。
図15には、予めテーブルに記憶しておく、パターン密度と溶媒蒸発量の関係の例を図示する。パターン密度と溶媒蒸発量の関係は、図15のa.に示すような上に凸の曲線状の関係であってもよいし、b.に示すような直線関係であってもよいし、c.に示すような下に凸の曲線状の関係であってもよい。さらに、他の曲線で示される関係であってもよい。これにより、印刷するパターンのパターン密度に応じて連続印刷中の溶媒の吸収状態を最適にすることができ、パターン密度に拘わらず、良好な印刷品質を維持することが可能となる。
本実施例によれば、印刷開始前においては、溶媒の塗布ユニット18によって、パターン密度に応じた量の溶媒をブランケット12に吸収させることにより、パターンのパターン密度に依らず印刷初期の印刷品質を向上させることができるとともに、連続印刷の実施中には、溶媒の乾燥ユニット22によって、パターン密度に応じた量の溶媒をブランケット12から蒸発させることにより、パターンのパターン密度に依らず連続印刷中の印刷品
質を向上させることが可能となる。なお、本実施例においては、ステップS202で乾燥ユニット22による光の照射が開始され、ステップS203で光の照射が終了し、光の照射(溶媒の蒸発)が連続印刷中に間欠的に行われるようになっているが、本発明の制御はこれに限られるものではない。連続印刷の開始直線に光の照射(溶媒の蒸発)を開始し連続印刷の終了まで継続しても良く、また、光の照射(溶媒の蒸発)のON、OFFを制御部19によって適宜切り換えても良い。あるいは、印刷品質を検知しながら印刷品質の劣化の程度が閾値以上になった場合に光の照射(溶媒の蒸発)を行う、印刷品質を検知しながら光の照射量(溶媒の蒸発量)をフィードバック制御するなど、他の制御方法を採用しても構わない。
質を向上させることが可能となる。なお、本実施例においては、ステップS202で乾燥ユニット22による光の照射が開始され、ステップS203で光の照射が終了し、光の照射(溶媒の蒸発)が連続印刷中に間欠的に行われるようになっているが、本発明の制御はこれに限られるものではない。連続印刷の開始直線に光の照射(溶媒の蒸発)を開始し連続印刷の終了まで継続しても良く、また、光の照射(溶媒の蒸発)のON、OFFを制御部19によって適宜切り換えても良い。あるいは、印刷品質を検知しながら印刷品質の劣化の程度が閾値以上になった場合に光の照射(溶媒の蒸発)を行う、印刷品質を検知しながら光の照射量(溶媒の蒸発量)をフィードバック制御するなど、他の制御方法を採用しても構わない。
<実施例3>
次に、本発明における実施例3について説明する。上記の実施例1においては、印刷装置による印刷開始前に、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケット12に溶媒を塗布することによって印刷開始時におけるブランケット12内の溶媒濃度を最適化する例について説明した。本実施例では、印刷開始前に塗布ユニットによってブランケット12に溶媒を一様に吸収させた後、印刷開始前に乾燥ユニットによって、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケット12内の溶媒を蒸発させ、結果として、印刷開始時におけるブランケット12内の溶媒濃度を最適化する例について説明する。
次に、本発明における実施例3について説明する。上記の実施例1においては、印刷装置による印刷開始前に、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケット12に溶媒を塗布することによって印刷開始時におけるブランケット12内の溶媒濃度を最適化する例について説明した。本実施例では、印刷開始前に塗布ユニットによってブランケット12に溶媒を一様に吸収させた後、印刷開始前に乾燥ユニットによって、印刷するパターンのパターン密度に応じてブランケット12内の溶媒を蒸発させ、結果として、印刷開始時におけるブランケット12内の溶媒濃度を最適化する例について説明する。
本実施例に係る印刷装置の構成は、図13に記載した実施例2の印刷装置30の構成と同等である。また、ブロック図についても、実施例2と同様、図8に示した印刷装置10のブロック図の制御部19に、乾燥ユニット22を示すブロックがさらに接続されたものとなる(図面は省略)。また、本実施例における印刷装置の動作は、図9に示すフローチャートに示すものと略同等である。しかしながら、本実施例の制御においては、ステップS103の詳細な処理が異なる。すなわち、実施例1におけるステップS103では、ローラユニット8が回転を開始するとともに、ステップS101において分割されたパターンの各部分のインクペーストが受理されるべきブランケット12上の領域に、ステップS102において決定された量の溶媒が塗布ユニット18によって塗布された。
これに対し、本実施例においては、ステップS103では、一旦、塗布ユニット18によりブランケット12上に一様に溶媒が塗布される。そして、その後、乾燥ユニット22によって、ステップS101において分割されたパターンの各部分のインクペーストが受理されるべきブランケット12上の領域に、ステップS102において決定された量の溶媒が残るように、乾燥ユニット22によって各領域が加熱され、各領域に既に吸収されている溶媒が蒸発する。
以上の制御によっても、印刷するパターンのパターン密度に応じて印刷開始前の溶媒の吸収状態を最適にすることができ、パターン密度に拘わらず、印刷初期から良好な印刷品質を得ることが可能となる。
なお、上記の実施例においては、印刷されるパターンが形成された版14も被印刷体であるワーク17もシート状であるシートtoシート印刷システムに本発明を適用した例について説明した。しかしながら、本発明が適用されるのは、上記の実施例のようなシートtoシート印刷システムに限られない。例えば、版14がローラ状、ワーク17がシート状であるロールtoシートタイプの印刷システム、版14もワーク17もローラ状であるロールtoロールタイプの印刷システム及び、版14がシート状、ワーク17がローラ状であるシートtoロールタイプの印刷システムに適用しても構わない。
また、上記の実施例においては、本発明がグラビアオフセット印刷の印刷装置に適用された例について説明したが、本発明は、グラビアオフセット印刷以外のオフセット印刷装
置に適用されてもよい。具体的には、版上にインクペーストが供給される際に、凹部にインクペーストが充填される印刷装置のみならず、版上に形成された凸部や平板上にインクペーストが供給される印刷装置にも適用可能である。
置に適用されてもよい。具体的には、版上にインクペーストが供給される際に、凹部にインクペーストが充填される印刷装置のみならず、版上に形成された凸部や平板上にインクペーストが供給される印刷装置にも適用可能である。
また、上記の実施例においては、印刷されるパターンを、その外径に平行な分割線によって格子状に分割したが、これは一例に過ぎず、分割の仕方は適宜変更が可能である。また、特に印刷されるパターンにパターン密度の分布がない場合には、分割する必要はなく、全体のパターン密度に応じて、ブランケット12への溶媒の塗布量または、ブランケット12からの溶媒の蒸発量を決定すればよい。その場合でも、図11に示すようなテーブルは利用可能である。
さらに、上記の実施例においては、印刷されるパターンの設計データを記憶しておき、この設計データに基づいて印刷されるパターンのパターン密度を導出することとした。しかしながら、パターン密度を導出する際のデータのソースはこれに限られず、実際の版14の写真を撮影し、撮影された画像データから導出する等の方法を採用してもよい。
加えて、上記の実施例においては、インクペーストが回路形成用の銀ペーストであり、ブランケット12に吸収される所定成分が、インクペーストの溶媒である場合について説明したが、インクペーストは例えばレジストであってもよく、その場合にブランケット12に吸収される所定成分は溶媒の他、モノマー、オリゴマー、フィラー等であってもよい。
1、10、20、30・・・印刷装置
2・・・ベースユニット
4・・・版ステージユニット
6・・・インク供給ユニット
8・・・ローラユニット
9・・・ワークステージユニット
12・・・ブランケット
14・・・版
16・・・ドクターブレード
17・・・ワーク
18、21・・・塗布ユニット
22・・・乾燥ユニット
2・・・ベースユニット
4・・・版ステージユニット
6・・・インク供給ユニット
8・・・ローラユニット
9・・・ワークステージユニット
12・・・ブランケット
14・・・版
16・・・ドクターブレード
17・・・ワーク
18、21・・・塗布ユニット
22・・・乾燥ユニット
Claims (10)
- 印刷するパターンが形成された版が設置される版ステージユニットと、
円柱状の形状を有し、ブランケットが外周面に設けられるとともに、前記版上を回転しつつ相対移動することで前記版ステージユニットに設置された版に充填されたインクを前記ブランケット上に受理するローラユニットと、
前記パターンが印刷される被印刷体が設置されるとともに、前記インクが前記ブランケット上に受理されたローラユニットが前記被印刷体上を回転しつつ相対移動することで前記被印刷体に前記インクを転写させるワークステージユニットと、を備え、
前記版に形成されたパターンを前記被印刷体に印刷するオフセット印刷装置であって、
前記インクから前記ブランケットに吸収される所定成分を、連続印刷開始前に予め前記ブランケットに塗布する塗布手段と、
印刷する前記パターンにおけるパターン密度に応じて、パターン密度がより高い場合には、パターン密度がより低い場合と比較して、前記塗布手段により塗布される前記所定成分の量が少なくなるように前記塗布手段を制御する塗布量制御手段と、をさらに備えることを特徴とするオフセット印刷装置。 - 前記塗布量制御手段は、印刷する前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、前記塗布手段により塗布される前記所定成分の量が少なくなるように前記塗布手段を制御することを特徴とする請求項1に記載のオフセット印刷装置。
- 印刷する前記パターンにおけるパターン密度の分布を記憶する記憶手段をさらに備え、
前記塗布量制御手段は、予め前記記憶手段に記憶された前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、前記塗布手段により塗布される前記所定成分の量が少なくなるように前記塗布手段を制御することを特徴とする請求項2に記載のオフセット印刷装置。 - 前記塗布手段は、前記ローラユニットの外周面に対向して配置されるとともに少なくとも該ローラユニットの軸方向に並べられた複数のノズルを有する吐出ユニットであり、
前記塗布量制御手段は、前記パターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域に対向するノズルには、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域に対向するノズルと比較して、より少ない量の前記所定成分を塗布させることを特徴とする請求項2または3に記載のオフセット印刷装置。 - 前記塗布手段は、前記ローラユニットの外周面に対向して配置されるとともに少なくとも該ローラユニットの軸方向に移動可能な一つ以上のノズルを有する移動吐出ユニットであり、
前記塗布量制御手段は、前記パターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、より少ない量の前記所定成分を塗布させることを特徴とする請求項2または3に記載のオフセット印刷装置。 - 前記塗布手段により前記ブランケットに塗布された前記所定成分を、前記ブランケットから蒸発させる蒸発手段をさらに備え、
前記塗布手段は前記所定成分を、連続印刷開始前に予め前記ブランケットに一様に塗布し、
前記塗布量制御手段は、前記ブランケットにおいて、前記塗布手段により一様に塗布された前記所定成分を前記蒸発手段により印刷する前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて蒸発させ、結果として、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域には、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、前記塗布手段により塗布された前記所定成分の量が少なくなるように制御することを特徴とする請求項1に記載のオフセット印刷装置。 - 前記インクから前記ブランケットに吸収された前記所定成分を、前記ブランケットから蒸発させる蒸発手段と、
前記パターンの連続印刷中に、前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度が、パターン密度がより低い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度より低くなるように、前記ブランケットに吸収された前記所定成分の前記蒸発手段による蒸発量を制御する蒸発量制御手段と、をさらに備えることを特徴とする請求項2から5のいずれか一項に記載のオフセット印刷装置。 - 前記蒸発手段は、前記ローラユニットの外周面に対向して配置されるとともに、少なくとも該ローラユニットの軸方向に並べられた複数の光源または熱源を有する加熱ユニットであり、
前記蒸発量制御手段は、前記パターン密度の分布に応じて、前記加熱ユニットにおける各光源からの光の照射量または各熱源からの発熱量を前記ローラユニットの回転に同期させて変化させることにより、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度が、パターン密度がより低い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度より低くなるように、前記ブランケットに吸収された前記所定成分の前記蒸発手段による蒸発量を制御することを特徴とする請求項7に記載のオフセット印刷装置 - パターンが形成された版にインクを充填させるインク充填工程と、
前記版に充填された前記インクをブランケットに受理させる受理工程と、
前記ブランケットに受理された前記インクを被印刷体であるワークに転写する転写工程と、を備えたオフセット印刷方法において、
印刷の開始前に、前記インクのうち前記ブランケットに吸収される所定成分を予め前記ブランケットに塗布する塗布工程をさらに有し、
前記塗布工程においては、前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理する領域では、パターン密度がより低い部分のインクを受理する領域と比較して、塗布される前記所定成分の量をより少なくすることを特徴とするオフセット印刷方法。 - 前記パターンの連続印刷中に、前記インクから前記ブランケットに吸収される所定成分を、前記ブランケットから蒸発させる蒸発工程を、さらに有し、
前記蒸発工程においては、前記パターンにおけるパターン密度の分布に応じて、前記ブランケットにおいて、パターン密度がより高い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度が、パターン密度がより低い部分のインクを受理した領域における前記所定成分の濃度より低くなるように、前記ブランケットに吸収された前記所定成分の前記蒸発手段による蒸発量を制御することを特徴とする請求項9に記載のオフセット印刷方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015187286A JP2017061074A (ja) | 2015-09-24 | 2015-09-24 | オフセット印刷装置及び、オフセット印刷方法 |
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JP2015187286A JP2017061074A (ja) | 2015-09-24 | 2015-09-24 | オフセット印刷装置及び、オフセット印刷方法 |
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JP (1) | JP2017061074A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018181134A1 (ja) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | グローリー株式会社 | 光センサ、光検出装置、紙葉類処理装置、光検出方法及び燐光検出装置 |
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2015
- 2015-09-24 JP JP2015187286A patent/JP2017061074A/ja active Pending
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WO2018181134A1 (ja) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | グローリー株式会社 | 光センサ、光検出装置、紙葉類処理装置、光検出方法及び燐光検出装置 |
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