JP2017058494A - パターン描画装置、パターン描画方法、基板処理装置、および、デバイス製造方法 - Google Patents

パターン描画装置、パターン描画方法、基板処理装置、および、デバイス製造方法 Download PDF

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智行 渡辺
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6111720A (ja) * 1984-06-26 1986-01-20 Canon Inc 画像形成装置
JPH095655A (ja) * 1995-02-22 1997-01-10 Barco Graphics Nv 走査装置
JPH10142538A (ja) * 1996-11-12 1998-05-29 Asahi Optical Co Ltd マルチヘッド走査光学系を持つレーザ描画装置
JPH1110378A (ja) * 1997-06-24 1999-01-19 Nec Corp レーザ加工装置
JP2002035979A (ja) * 2000-07-24 2002-02-05 Mitsubishi Electric Corp レーザ装置およびレーザ加工装置
JP2002311359A (ja) * 2001-04-13 2002-10-23 Japan Science & Technology Corp 光走査装置
JP2004098590A (ja) * 2002-09-12 2004-04-02 Canon Inc レーザ走査制御装置および方法
WO2005038504A1 (en) * 2003-10-15 2005-04-28 Tae-Sun Song Two-dimensional optical scanning apparatus and image display apparatus using the same
JP2009220489A (ja) * 2008-03-18 2009-10-01 Ricoh Co Ltd 画像形成装置及びその画像補正方法
JPWO2014034161A1 (ja) * 2012-08-28 2016-08-08 株式会社ニコン 基板支持装置、及び露光装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6111720A (ja) * 1984-06-26 1986-01-20 Canon Inc 画像形成装置
JPH095655A (ja) * 1995-02-22 1997-01-10 Barco Graphics Nv 走査装置
JPH10142538A (ja) * 1996-11-12 1998-05-29 Asahi Optical Co Ltd マルチヘッド走査光学系を持つレーザ描画装置
JPH1110378A (ja) * 1997-06-24 1999-01-19 Nec Corp レーザ加工装置
JP2002035979A (ja) * 2000-07-24 2002-02-05 Mitsubishi Electric Corp レーザ装置およびレーザ加工装置
JP2002311359A (ja) * 2001-04-13 2002-10-23 Japan Science & Technology Corp 光走査装置
JP2004098590A (ja) * 2002-09-12 2004-04-02 Canon Inc レーザ走査制御装置および方法
WO2005038504A1 (en) * 2003-10-15 2005-04-28 Tae-Sun Song Two-dimensional optical scanning apparatus and image display apparatus using the same
JP2009220489A (ja) * 2008-03-18 2009-10-01 Ricoh Co Ltd 画像形成装置及びその画像補正方法
JPWO2014034161A1 (ja) * 2012-08-28 2016-08-08 株式会社ニコン 基板支持装置、及び露光装置

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