JP2017057095A - ゼオライトの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の製造方法に用いる原料は、結晶性シリカを主相とする天然鉱物由来の材料や無機系廃棄物である。石英など結晶性シリカは化学的にきわめて安定で、難溶解性である。結晶性シリカを主相とする鉱物由来の原料の具体例は、低火度陶石、蛙目粘土などがあげられる。結晶性シリカを主相とする無機系廃棄物としては、砂岩や鉱石から工業原料を作りだす砕石工程で発生する砕石粉末や砕石屑、陶石の高品位の破砕石が成型用の土になる過程に発生する陶石屑などがあげられる。
最終産物の化学量論的なSi/Al比にするために、原料にアルミニウムを添加して混合物を調製する。具体的には、アルミニウムを含む副原料を総ケイ素と総アルミニウムがモル比で約1:1になるように原料に添加する。アルミニウムを含む副原料として、例えば、アルミスラッジ、アルミン酸ナトリウム、アルミ灰が挙げられる。
原料とアルミニウムを含む副原料との混合物と、水酸化ナトリウム溶液とを容器に投入し、水熱処理を行う(後述する水熱処理と区別して以下「第一水熱処理」という)。
水酸化ナトリウム溶液の濃度は、混合物が溶解できる濃度であればよく、約2M(mol/L)以上が好ましい。水酸化ナトリウム溶液の濃度を2M以上にすることにより、原料に含まれる石英をヒドロキシソーダライトへ転換できる。混合物に対する水酸化ナトリウム溶液の割合は、混合物1グラムに対して、水酸化ナトリウム溶液が8mLから50mL、好ましくは10mLから30mL、より好ましくは、10mLから20mL、さらに好ましくは、約15mLである。
水熱処理後、オートクレーブを空冷し、その後処理溶液を濾過して、残渣を洗浄後乾燥し、乳鉢で粉砕し、粉末を得る。乾燥温度は、20℃〜90℃、好ましくは40℃〜85℃、より好ましくは約80℃である。乾燥時間は、粉末が得られる時間でよく、例えば、10分〜1晩である。
易溶解性化合物と塩酸溶液とを容器に投入し、酸処理を行う。酸処理を行うことにより、易溶解性化合物に含有されるケイ素およびアルミニウムを酸溶液中に溶出させる。
酸処理後の反応溶液を回収し、濾過し、ケイ素およびアルミニウムが溶解しているろ液を回収する。次いで、回収したろ液を乾燥させ粉末を得る。回収したろ液を乾燥する温度は、20℃〜90℃、好ましくは40〜85℃、より好ましくは約80℃である。乾燥させる時間は、粉末が得られるまでの時間でよく、例えば、1〜2日の時間である。
所定量の酸溶液乾燥物と所定量の水酸化ナトリウム溶液を容器に投入して、水熱処理(「第二水熱処理」という)を行うことにより、ゼオライトを合成する。水酸化ナトリウム溶液の濃度は、酸溶液乾燥物が溶解できる濃度でよく、約2M以上の濃度にしてよい。第二水熱処理は40℃〜100℃、好ましくは60℃〜90℃、より好ましくは70℃〜85℃、さらに好ましくは約80℃で行う。水熱処理温度が40℃未満では、反応が進まず、水熱処理温度が100℃を超えると、所望のゼオライト種以外の物質が生成する。
第二水熱処理後、処理した溶液を濾過して、濾過したろ物を洗浄後乾燥し、最終産物としてのゼオライトを得る。得られたゼオライトは水道水、井水等の洗浄液を貯留させた容器内へ投入し、洗浄液を撹拌することによってゼオライトを洗浄する。洗浄操作を適切な時間行った後、この洗浄液を濾過除去し、濾過除去された洗浄液のpHを測定する。pH7以下の適切なpHに低下するまで、洗浄、濾過を繰り返し、最終的に、洗浄されたゼオライトを乾燥する。
以下の検討および実施例には次の分析および測定方法を用いた。
X線回折装置(Ultima IV:株式会社リガク製)を用いて物質の同定を行った。
定量分析は、X線回折による内部標準法によって行った。内部標準法は、被検試料に一定量の既知物質を混入させ、既知物質および被検成分の回折X線強度を測定し、その比を用いて検量線を作成し、その検量線に基づき、作製試料中に含まれる被検試料の量を見積もる手法である。内部標準法は線吸収係数の変化による影響を無視できるといった優位性をもつ。ここでは、最初にX型ゼオライトの純物質としてNa−X型ゼオライト粉末(NaX、(株)東ソー)、A型ゼオライトの純物質としてNa−A型ゼオライト粉末(NaA、(株)和光純薬工業)、標準物質としてアルミナ粉末(α−Al2O3、(株)大明化学工業、99.9 wt % Al2O3)を用いて、表1に示すような重量比の混合物を調製し、検量線を作成した。
蛍光X線分析装置(SII製SEA2220A型)を用いて分析した。測定条件は、励起電圧5〜50kV、ターゲット元素Rh、測定時間100sとした。
第一水熱処理の最適温度を決定するために以下の検討を行った。
上述した検討を受けて、温度条件150℃として、同原料に対し同様の水熱処理を行ってヒドロキシソーダライトを得た。得られたヒドロキシソーダライトを0.5gずつ分取して、フッ素樹脂製の容器にそれぞれ添加し、各容器をステンレススチールオートクレーブ内に設置し、濃度の異なる複数の塩酸溶液15mLを添加した。塩酸溶液の濃度は0.01、0.05、0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、および1Mとした。これらのオートクレーブを80℃の恒温槽に一日放置した。漏斗を用いて酸処理後の各溶液を濾過して固体と液体を分離した。固液分離後の各固体の質量を測定して、次の式を用いて減少率(%)を算出した。
減少率(%)=(0.5−Wf)×100/0.5 (式1)
ここで、Wfは、固体と液体を分離した後の固体の質量である。
原料として低火度陶石を用いて本発明の製造方法によりゼオライトAを製造した。原料は、低火度陶石(天草地方で採掘、0.01mm〜0.02mm)を用いた。
従来法(特許文献1に開示された方法)により、ゼオライトAを製造した。具体的には、機械的な摩砕処理を与えた原料を用い、具体的には、低火度陶石をボールミルで600rmpで5時間処理し、得られた粉末0.35グラムに対してSi/Alのモル比が1になるようにアルミスラッジを0.42グラム添加した混合粉末を、60℃で72時間、2MのNaOH溶液15mL中で水熱処理した。
実施例1と同様の低火度陶石を用いてゼオライトXを製造した。
ゼオライトXの製造方法では、酸処理に用いる塩酸溶液の濃度が2Mであったこと、酸処理後ゲル化した反応物をろ過工程せずに乾燥させて酸溶液乾燥物を得た以外は、実施例1と同様の処理をおこなった。
図6より、ゲル化した溶液中にヒドロキシソーダライトに含有されるNaおよびAlが溶出したことがわかった。
図7より、2M塩酸溶液を用いた酸処理を行うことにより、低火度陶石からゼオライトXが製造できることがわかった。最終産物について定量分析を行った結果、ゼオライトXの収量は72wt%であった。
原料として、砕石粉(実施例3)、砕砂(実施例4)、およびケーキ(実施例5)を用いてゼオライトAを合成した。
実施例3:原料として砕石粉を入手した(奥多摩工業社製社、粒径0.075mm以下)。
実施例4:3gの砕砂(奥多摩工業社製、粒径5mm以下)を、ボールミル(FRITSCH製P6)を用いて550rpm、10分間湿式粉砕を行った。
実施例5:砕石工場の排水を脱水処理し、粘土状のケーキ(沈殿物)を取得した。3gの取得したケーキを80℃のホットプレート上で一晩放置し、乾燥物を乳鉢で粉砕した。
砕石粉(実施例3)、砕砂(実施例4)、およびケーキ(実施例5)をそれぞれ0.35g分取し、Si/Al比(モル比)を1にするために、それぞれに対して、副原料としてアルミスラッジを0.32g、0.40g、および0.28gを添加し、混合物を調製した。これらの混合物を用いた以外は実施例1と同様にゼオライトAを製造した。
実施例3から実施例5において、第一水熱処理前の混合物、第一水熱処理後の易溶解性化合物、および第二水熱処理後の最終産物についてX線回折を行った。また、実施例3の最終産物の化学成分を分析した。
また、塩酸溶液濃度を所定の濃度にすることにより、ゼオライトAまたはゼオライトXが選択的に製造できる。
Claims (7)
- 結晶性シリカを含有する原料からゼオライトを製造する方法であって、
前記原料にアルミニウムを含む所定量の副原料を添加して混合物を調製する工程と、
前記混合物を水熱処理し、酸に対して易溶解性を有する化合物を合成する第一水熱処理工程と、
前記化合物を酸処理する工程と、を含むことを特徴とするゼオライトを製造する方法。 - 請求項1に記載のゼオライトを製造する方法であって、
前記酸処理工程から得られた酸溶液乾燥物を水熱処理して、ゼオライトを生成する第二水熱処理工程をさらに含むことを特徴とするゼオライトを製造する方法。 - 請求項1または2に記載のゼオライトを製造する方法であって、
前記酸処理する工程は、0.3M以上6M以下の塩酸溶液を使用することを特徴とするゼオライトを製造する方法。 - 請求項3に記載のゼオライトを製造する方法であって、
前記塩酸溶液の濃度が0.3M以上2M未満であり、
前記ゼオライトがゼオライトAであることを特徴とするゼオライトを製造する方法。 - 請求項3に記載のゼオライトを製造する方法であって、
前記塩酸溶液の濃度が2M以上6M以下であり、
前記ゼオライトがゼオライトXであることを特徴とするゼオライトを製造する方法。 - 請求項1から5のいずれか一項に記載のゼオライトを製造する方法であって、
前記酸に対して易溶解性を有する化合物がカンクリナイト、ソーダライト、またはヒドロキシソーダライトであることを特徴とするゼオライトを製造する方法。 - 請求項1から6いずれか一項に記載のゼオライトを製造する方法であって、
前記第一水熱処理工程の処理温度が100℃を超えて190℃未満であることを特徴とするゼオライトを製造する方法。
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