JP2017055036A - 半導体装置製造システムおよび半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図3は、第1の実施形態による半導体装置製造システムの構成の一例を模式的に示す図である。半導体装置製造システムは、成膜装置100と、制御装置400と、を備える。成膜装置100は、準備室10と、成膜室20と、膜質測定部30と、を有する。
第1の実施形態では、成膜された半導体膜の膜質を測定し、その測定結果を用いてフィードバック制御を行い、その半導体膜を成膜した成膜装置でつぎに成膜する半導体膜の成膜条件を変更する場合について説明した。しかし、上記したように、抵抗素子は、半導体膜の成膜処理、イオン注入処理および熱処理を経て作製される。第2の実施形態では、成膜された半導体膜の膜質を測定し、その測定結果に基づいてフィードフォワード制御を行って、その後のイオン注入処理または熱処理の条件を変更する場合を説明する。
Claims (9)
- 半導体膜を成膜する成膜装置と、
前記成膜装置の制御を行う制御装置と、
を備える半導体装置製造システムにおいて、
前記成膜装置は、
半導体膜を成膜する成膜室と、
成膜後の前記半導体膜の膜質を測定する膜質測定部と、
を有し、
前記制御装置は、前記膜質測定部での測定結果から取得した前記半導体膜の膜質に基づいて、前記成膜装置でのつぎの半導体膜の成膜条件を決定する半導体装置製造システム。 - 半導体膜を成膜する成膜装置と、
前記半導体膜に所定の導電型の不純物イオンをイオン注入するイオン注入装置と、
イオン注入された前記半導体膜を熱処理する熱処理装置と、
前記成膜装置と前記イオン注入装置と前記熱処理装置との制御を行う制御装置と、
を備える半導体装置製造システムにおいて、
前記成膜装置は、
半導体膜を成膜する成膜室と、
前記成膜室で成膜された前記半導体膜の膜質を測定する膜質測定部と、
を有し、
前記制御装置は、前記膜質測定部での測定結果から取得した前記半導体膜の膜質に基づいて、前記成膜装置で成膜された前記半導体膜に対する、前記イオン注入装置でのイオン注入条件と前記熱処理装置での熱処理条件とを決定する半導体装置製造システム。 - 基板上に半導体膜を形成し、
成膜後の前記半導体膜の膜質を測定し、
前記膜質の測定結果から取得した前記半導体膜の膜質を用いて、イオン注入処理または熱処理の処理条件を決定し、
前記半導体膜に所定の導電型の不純物イオンをイオン注入し、
イオン注入された前記半導体膜を熱処理し、
前記処理条件の決定では、前記半導体膜の膜質に基づいて、前記イオン注入でのイオン注入条件と前記熱処理での熱処理条件とが決定される半導体装置の製造方法。 - 前記処理条件の決定では、前記半導体膜の膜質として、前記測定結果から前記半導体膜の結晶粒子の粒径を取得する請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記処理条件の決定では、前記粒径が基準範囲内にあるかが判定され、前記基準範囲内にある場合には、基準となる第1イオン注入条件および基準となる第1熱処理条件が決定され、前記基準範囲内にない場合には、前記半導体膜をイオン注入処理および熱処理した後の特性が所定の範囲内に収まるように、前記第1イオン注入条件および前記第1熱処理条件のうち少なくとも一方が変更される請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記処理条件の決定では、前記粒径が前記基準範囲の下限に満たない場合には、前記第1イオン注入条件に比して前記不純物イオンのドーズ量を多くした第2イオン注入条件および前記第1熱処理条件に比して熱処理温度が高い第2熱処理条件のうち少なくとも一方が決定される請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記処理条件の決定では、前記粒径が前記基準範囲の上限を超える場合には、前記第1イオン注入条件に比して前記不純物イオンのドーズ量を少なくした第2イオン注入条件および前記第1熱処理条件に比して熱処理温度が低い第2熱処理条件のうち少なくとも一方が決定される請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記膜質の測定では、ラマン分光装置、赤外線分光装置、X線回折装置、レーザ顕微鏡の群から選択される少なくとも1つの装置で前記半導体膜の膜質が測定される請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1イオン注入条件および前記第1熱処理条件は、前記粒径が前記基準範囲内にある前記半導体膜を前記第1イオン注入条件および前記第1熱処理条件で処理した後の特性が、所定の範囲内に収まる条件である請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
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