JP2017042841A - テーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械 - Google Patents

Abstract

【課題】テーブルとベース部材との間隙が大きくても、水平ガイド装置に過大な負荷が作用しないテーブル装置を提供する。【解決手段】テーブル装置は、ワークを保持する下面を有するテーブルと、テーブルと対向するベース部材と、ベース部材に対してテーブルを水平方向に移動するための動力を発生するアクチュエータを有する移動システムと、ベース部材に設けられた上方を向くガイド面に水平方向に移動可能に支持される水平スライド機構を有するプレーンガイド装置と、を備える。テーブルに作用する鉛直方向上向きの外部荷重が所定値未満のとき、テーブルの上面とベース部材の下面とが間隙を介して対向するようにテーブルがプレーンガイド装置に支持される。テーブルに作用する鉛直方向上向きの外部荷重が所定値以上のとき、テーブルの上面とベース部材の下面とが接触し、水平スライド機構がガイド面から受ける鉛直方向上向きの荷重は小さくなる。【選択図】図１

Description

本発明は、テーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械に関する。

フラットパネルディスプレイの製造工程において、２枚の基板を貼り合わせる処理が実施される。２枚の基板を貼り合せるとき、２枚の基板の相対的な位置を決定する位置決め装置が使用される（特許文献１参照）。一方の基板が第１テーブルに保持され、他方の基板が一方の基板の上方で第２テーブルに保持される。第１テーブルと第２テーブルとの相対的な位置が決定され、２枚の基板が相対的に位置決めされた状態で、第１テーブルに保持された基板に第２テーブルに保持された基板が上方から押し付けられる。これにより、２枚の基板が貼り合せられる。

特開２００７−１０２１９８号公報

特許文献１に開示されている位置決め装置は、外部荷重を受けた際に、台座にテーブルが当接するように板ばねが配置されている。板ばねでは許容できないテーブルの変形を許容できる技術が要望される。例えば、テーブルが間隙を介してベース部材に支持されている場合において、間隙が大きくても、テーブルを水平方向にガイドする水平ガイド装置に過大な負荷が作用しない構造の案出が要望される。

本発明の態様は、テーブルとベース部材との間隙が大きくても、水平ガイド装置に過大な負荷が作用しないテーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、ワークを保持する下面を有するテーブルと、前記テーブルの上面と対向する下面を有するベース部材と、前記ベース部材に対して前記テーブルを水平方向に移動するための動力を発生するアクチュエータを有する移動システムと、少なくとも一部が前記テーブルと接続され、前記ベース部材に設けられた上方を向くガイド面に水平方向に移動可能に支持される水平スライド機構を有するプレーンガイド装置と、を備え、前記テーブルに作用する鉛直方向上向きの外部荷重が所定値未満のとき、前記テーブルの上面と前記ベース部材の下面とが間隙を介して対向するように前記テーブルが前記プレーンガイド装置に支持され、前記テーブルに作用する鉛直方向上向きの外部荷重が所定値以上のとき、前記テーブルの上面と前記ベース部材の下面とが接触し、前記水平スライド機構が前記ガイド面から受ける鉛直方向上向きの荷重は、前記外部荷重が前記所定値未満のときに前記水平スライド機構が前記ガイド面から受ける鉛直方向上向きの荷重よりも小さくなる、テーブル装置が提供される。

本発明の第１の態様によれば、鉛直方向に外部荷重を受けるテーブルにおいて、所定値以上の鉛直方向上向き（反重力方向）の外部荷重がテーブルに作用したとき、プレーンガイド装置がベース部材のガイド面から受ける荷重が小さくなり、プレーンガイド装置は荷重を支持していないフリー状態となる。所定値以上の鉛直方向上向きの外部荷重がテーブルに作用したとき、テーブルとベース部材とが接触し、テーブルがベース部材に保持されることとなる。これにより、テーブルとベース部材との間隙が大きくても、水平ガイド装置として機能するプレーンガイド装置に過大な負荷が作用することが抑制される。

本発明の第１の態様において、プレーンガイド装置は、前記水平スライド機構から下方に突出する第１ロッド部材を有し、前記テーブルに設けられ前記第１ロッド部材の周囲に配置される第１回転軸受を備えることが好ましい。

これにより、プレーンガイド装置が第１回転軸受を介してテーブルと接続されることとなる。第１回転軸受を介してプレーンガイド装置とテーブルとが接続されることにより、軸の傾きやミスアライメントが第１回転軸受によって吸収される。そのため、プレーンガイド装置の各転動体に作用する荷重を均一化することができる。

本発明の第１の態様において、前記プレーンガイド装置は、水平面内において複数設けられることが好ましい。

これにより、テーブルは、複数のプレーンガイド装置よって安定して支持され、水平方向にガイドされる。

本発明の第１の態様において、前記テーブルは、第２ロッド部材を有し、前記第２ロッド部材の周囲に配置される第２回転軸受を備え、前記移動システムの少なくとも一部は、前記第２回転軸受を支持する支持部材に接続されることが好ましい。

これにより、移動システムが第２回転軸受を介してテーブルと接続されることとなる。第２回転軸受を介して移動システムとテーブルとが接続されることにより、軸の傾きやミスアライメントが第２回転軸受によって吸収される。

本発明の第１の態様において、前記移動システムは、前記ベース部材に支持され、前記ベース部材は、前記移動システムを支持する第１ベース部材と、前記第１ベース部材と前記テーブルとの間に配置され前記ガイド面を有する第２ベース部材と、を含むことが好ましい。

これにより、移動システムを支持する第１ベース部材とは別の第２ベース部材に高い面精度でガイド面を形成することができる。

本発明の第１の態様において、前記水平スライド機構は、前記ガイド面と間隙を介して対向する支持板と、前記ガイド面に接触した状態で回転可能な複数のボールと、前記支持板と前記ボールとの間に配置され、前記ボールを回転可能に保持する保持器と、前記支持板に支持され、前記保持器を介して前記ボールを前記ガイド面に押し付ける力を発生する予圧機構と、を有することが好ましい。

これにより、テーブルの上昇に伴って水平スライド機構のボールとベース部材のガイド面との接触圧力が低下しても、予圧機構によって、ボールをガイド面に接触させ続けることができ、水平方向のボールの移動を抑制することができる。

本発明の第１の態様において、前記テーブルの上面と前記ベース部材の下面とが間隙を介して対向する状態において前記ボールは前記ガイド面から第１荷重を受け、前記予圧機構は、前記テーブルの上面と前記ベース部材の下面とが接触する状態において前記ボールが前記ガイド面から受ける荷重が前記第１荷重よりも小さい第２荷重となるように前記力を発生して、前記支持板に対する前記ボールの移動を抑制することが好ましい。

これにより、テーブルに鉛直方向上向きの外部荷重が作用していないときには、水平スライド機構のボールはガイド面に高い接触圧力で接触する。テーブルに鉛直方向上向きの外部荷重が作用し、テーブルの上面とベース部材の下面とが接触したとき、予圧機構は、テーブルの上面とベース部材の下面との接触を阻害することなく、ボールをガイド面に接触させ続けることができる。

本発明の第１の態様において、前記水平スライド機構は、前記ガイド面と間隙を介して対向する支持板と、前記ガイド面に接触した状態で回転可能な複数のボールと、前記支持板と前記ボールとの間に配置され、前記ボールを回転可能に保持する保持器と、を有し、前記支持板と前記ボールとの間隙の寸法が小さくなるように力を発生する駆動素子を備えることが好ましい。

これにより、テーブルの上昇に伴って水平スライド機構のボールとベース部材のガイド面との接触圧力が低下しても、駆動素子によって、支持板とボールとを接触させ続けることができ、水平方向のボールの移動を抑制することができる。

本発明の第２の態様に従えば、第１の態様のテーブル装置を備え、前記テーブル装置の前記テーブルに支持されたワークの位置を決定する、位置決め装置が提供される。

本発明の第２の態様によれば、テーブルに支持されたワークの位置決め精度の不足が抑制される。

本発明の第３の態様に従えば、第１の態様のテーブル装置と、前記テーブルに支持されたワークを処理する処理部と、を備えるフラットパネルディスプレイ製造装置が提供される。

本発明の第３の態様によれば、フラットパネルディスプレイ製造装置は、テーブルによって位置決めされたワークを処理できるので、そのワークから不良な製品が製造されてしまうことが抑制される。フラットパネルディスプレイ製造装置は、例えば２枚の基板を貼り合せる貼り合せ装置を含み、フラットパネルディスプレイの製造工程の少なくとも一部において使用される。フラットパネルディスプレイは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、及び有機ＥＬディスプレイの少なくとも一つを含む。

本発明の第４の態様に従えば、第１の態様のテーブル装置と、前記テーブルに支持されたワークを処理する処理部と、を備える精密機械が提供される。

本発明の第４の態様によれば、精密機械は、テーブルによって位置決めされたワークを処理できるので、そのワークから不良な製品が製造されてしまうことが抑制される。精密機械は、例えば、精密測定機及び精密加工機の一方又は両方を含む。精密測定機は、テーブルによって位置決めされたワークを測定できるので、そのワークの測定を精密に行うことができる。精密加工機は、テーブルによって位置決めされたワークを加工できるので、そのワークの加工を精密に行うことができる。

本発明の態様によれば、位置決め精度の不足を抑制できるテーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械が提供される。

図１は、第１実施形態に係るテーブル装置の一例を示す平面図である。 図２は、第１実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側断面図である。 図３は、第１実施形態に係るテーブル装置の一部を拡大した側断面図である。 図４は、第１実施形態に係る鉛直スライド部材及びガイド軸受の近傍を示す拡大図である。 図５は、第１実施形態に係る支持装置の近傍を示す拡大図である。 図６は、第２実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側断面図である。 図７は、第２実施形態に係るプレーンガイド装置の水平スライド機構の一例を示す側断面図である。 図８は、第３実施形態に係るテーブル装置の一例を示す側断面図である。 図９は、第４実施形態に係るフラットパネルディスプレイ製造装置の一例を示す図である。 図１０は、第５実施形態に係る精密機械の一例を示す図である。 図１１は、第６実施形態に係る精密機械の一例を示す図である。

以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下で説明する各実施形態の構成要素は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。

以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。所定面内の第１軸と平行な方向を、Ｘ軸方向、とする。第１軸と直交する所定面内の第２軸と平行な方向を、Ｙ軸方向、とする。所定面と直交する第３軸と平行な方向を、Ｚ軸方向、とする。Ｘ軸（第１軸）を中心とする回転（傾斜）方向を、θＸ方向、とする。Ｙ軸（第２軸）を中心とする回転（傾斜）方向を、θＹ方向、とする。Ｚ軸（第３軸）を中心とする回転（傾斜）方向を、θＺ方向、とする。所定面は、ＸＹ平面を含む。本実施形態において、所定面（ＸＹ平面）と水平面とは平行である。Ｚ軸方向は鉛直方向である。Ｘ軸は、ＹＺ平面と直交する。Ｙ軸は、ＸＺ平面と直交する。Ｚ軸は、ＸＹ平面と直交する。ＸＹ平面は、Ｘ軸及びＹ軸を含む。ＸＺ平面は、Ｘ軸及びＺ軸を含む。ＹＺ平面は、Ｙ軸及びＺ軸を含む。

＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａの一例を示す平面図である。図２は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａの一例を示す側断面図である。図３は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａの一部を拡大した側断面図である。図１は、テーブル装置１００Ａを下方（−Ｚ側）から見た図である。図２は、図１のＡ−Ａ線矢視図に相当する。図３は、図２の一部を拡大した図である。

図１、図２、及び図３に示すように、テーブル装置１００Ａは、上面１Ａ及び下面１Ｂを有するテーブル１と、テーブル１の上面１Ａと対向する下面２Ｂを有するベース部材２と、ベース部材２に対してテーブル１を水平方向に移動するための動力を発生するアクチュエータ７を有する移動システム８と、ベース部材２に設けられた上方を向くガイド面２Ｇに水平方向に移動可能に支持される水平スライド機構４０を有するプレーンガイド装置３０と、を備える。

テーブル１は、ワークＳを保持する。ワークＳは、テーブル１の下面１Ｂに保持される。テーブル１は、ワークＳを解放可能に保持する。テーブル１は、ワークＳを吸着して保持する吸着機構を含む。テーブル１は、ワークＳを下面１Ｂで吸着保持する。テーブル１は、下面１Ｂに設けられた複数の吸引口と、吸引口に接続された内部流路とを有する。テーブル１の内部流路の気体が真空ポンプを含む吸引装置によって吸引される。テーブル１の下面１ＢとワークＳとが接触した状態で、吸引装置による吸引動作が行われることにより、テーブル１の下面１ＢにワークＳが吸着保持される。吸引装置による吸引動作が解除されることにより、ワークＳはテーブル１から解放される。

テーブル１の下面１Ｂは、ＸＹ平面（水平面）と実質的に平行である。テーブル１の上面１Ａは、平面であり、ＸＹ平面と実質的に平行である。

ベース部材２は、テーブル１の上方に配置される。ベース部材２は、テーブル１を移動可能に支持する。ベース部材２は、支持機構（不図示）に支持される。ベース部材２は、支持機構に支持される第１ベース部材２１と、第１ベース部材２１とテーブル１との間に配置される第２ベース部材２２と、を含む。ＸＹ平面内において、第１ベース部材２１の外形は、第２ベース部材２２の外形よりも大きい。第２ベース部材２２は、第１ベース部材２１に接合されている。ベース部材２の下面２Ｂ及びガイド面２Ｇは、第２ベース部材２２に配置される。ベース部材２の上面２Ａは、第１ベース部材２１に配置される。

ベース部材２の下面２Ｂは、平面であり、ＸＹ平面と実質的に平行である。ベース部材２のガイド面２Ｇは、平面であり、ＸＹ平面と実質的に平行である。第２ベース部材２２は、平行平板である。第２ベース部材２２の下面が、ベース部材２の下面２Ｂである。第２ベース部材２２の上面の一部が、ベース部材２のガイド面２Ｇである。

移動システム８は、水平面内においてテーブル１を移動させる。移動システム８は、ベース部材２に支持される。移動システム８は、ＸＹ平面内において第２ベース部材２２の周囲に配置された第１ベース部材２１の一部の領域に支持される。

移動システム８は、支持装置３を介して、テーブル１と接続される。支持装置３は、テーブル１に設けられたロッド部材５と、ロッド部材５の周囲に配置される回転軸受４と、回転軸受４の周囲に配置され、回転軸受４を支持する支持部材６とを有する。移動システム８の少なくとも一部は、回転軸受４を支持する支持部材６に接続される。

移動システム８のアクチュエータ７は、ＸＹ平面内においてテーブル１を移動するための動力を発生する。本実施形態において、移動システム８は、支持部材６を移動することによって、支持部材６と接続されているテーブル１を、支持部材６と一緒に、水平面内において移動する。

アクチュエータ７は、Ｘ軸方向にテーブル１を移動するための動力を発生する第１アクチュエータ７Ｘと、Ｙ軸方向にテーブル１を移動するための動力を発生する第２アクチュエータ７Ｙとを含む。アクチュエータ７は、サーボモータを含む。アクチュエータ７は、第１ベース部材２１に支持される。

図１に示すように、支持装置３は、ＸＹ平面内において、テーブル１の下面１Ｂの中心を囲むように、複数設けられる。支持装置３は、下面１Ｂに保持されたワークＳの周囲に配置される。本実施形態において、支持装置３は、６つ設けられる。すなわち、ロッド部材５、回転軸受４、及び支持部材６のそれぞれが、６つずつ設けられる。

支持部材６は、第１アクチュエータ７Ｘが発生する動力によって移動する第１支持部材６Ｘと、第２アクチュエータ７Ｙが発生する動力によって移動する第２支持部材６Ｙと、を含む。

移動システム８は、第１アクチュエータ７Ｘが発生する動力によりＸ軸方向に移動する第１リニアベアリング９Ｘと、第１リニアベアリング９ＸをＸ軸方向にガイドする第１ガイド部材１０Ｘと、第２アクチュエータ７Ｙが発生する動力によりＹ軸方向に移動する第２リニアベアリング９Ｙと、第２リニアベアリング９ＹをＹ軸方向にガイドする第２ガイド部材１０Ｙと、を備えている。

また、移動システム８は、第１アクチュエータ７Ｘに接続された第１ボールねじ機構１１Ｘと、第２アクチュエータ７Ｙに接続された第２ボールねじ機構１１Ｙと、を備えている。第１ボールねじ機構１１Ｘは、第１アクチュエータ７Ｘが発生する動力によって回転するボールねじと、そのボールねじの周囲に配置され第１リニアベアリング９Ｘと接続されるナットと、を含む。第２ボールねじ機構１１Ｙは、第２アクチュエータ７Ｙが発生する動力によって回転するボールねじと、そのボールねじの周囲に配置され第２リニアベアリング９Ｙと接続されるナットと、を含む。第１アクチュエータ７Ｘと第１ボールねじ機構１１Ｘとは、カップリングを介して接続される。第２アクチュエータ７Ｙと第２ボールねじ機構１１Ｙとは、カップリングを介して接続される。

また、移動システム８は、第１支持部材６Ｘに接続される第３ガイド部材１２Ｙと、第３ガイド部材１２ＹにＹ軸方向にガイドされる第３リニアベアリング１３Ｙと、第２支持部材６Ｙに接続される第４ガイド部材１２Ｘと、第４ガイド部材１２ＸにＸ軸方向にガイドされる第４リニアベアリング１３Ｘと、を備えている。

第３リニアベアリング１３Ｙは、接続部材１４を介して、第１リニアベアリング９Ｘと接続されている。第４リニアベアリング１３Ｘは、接続部材１５を介して、第２リニアベアリング９Ｙと接続されている。

第１アクチュエータ７Ｘは、第１リニアベアリング９ＸをＸ軸方向に移動するための動力を発生する。第１アクチュエータ７Ｘが作動すると、第１ボールねじ機構１１Ｘのボールねじが回転する。これにより、第１リニアベアリング９Ｘが第１ガイド部材１０ＸにガイドされながらＸ軸方向に移動する。第１リニアベアリング９ＸがＸ軸方向に移動することによって、第１リニアベアリング９Ｘに接続されている第３リニアベアリング１３Ｙが、第１リニアベアリング９Ｘと一緒に、Ｘ軸方向に移動する。第３リニアベアリング１３Ｙとテーブル１とは、第３ガイド部材１２Ｙ及び第１支持部材６Ｘを含む支持装置３を介して接続されている。したがって、第３リニアベアリング１３ＹがＸ軸方向に移動することにより、テーブル１、第３ガイド部材１２Ｙ、及び第１支持部材６Ｘを含む支持装置３は、第３リニアベアリング１３Ｙと一緒に、Ｘ軸方向に移動する。

第２アクチュエータ７Ｙは、第２リニアベアリング９ＹをＹ軸方向に移動するための動力を発生する。第２アクチュエータ７Ｙが作動すると、第２ボールねじ機構１１Ｙのボールねじが回転する。これにより、第２リニアベアリング９Ｙが第２ガイド部材１０ＹにガイドされながらＹ軸方向に移動する。第２リニアベアリング９ＹがＹ軸方向に移動することによって、第２リニアベアリング９Ｙに接続されている第４リニアベアリング１３Ｘが、第２リニアベアリング９Ｙと一緒に、Ｙ軸方向に移動する。第４リニアベアリング１３Ｘとテーブル１とは、第４ガイド部材１２Ｘ及び第２支持部材６Ｙを含む支持装置３を介して接続されている。したがって、第４リニアベアリング１３ＸがＹ軸方向に移動することにより、テーブル１、第４ガイド部材１２Ｘ、及び第２支持部材６Ｙを含む支持装置３は、第４リニアベアリング１３Ｘと一緒に、Ｙ軸方向に移動する。

図１に示すように、第１支持部材６Ｘを含む支持装置３は、テーブル１の下面１Ｂの中心に対して、Ｘ軸方向の両側（＋Ｘ側及び−Ｘ側）に配置される。また、第１支持部材６Ｘを含む支持装置３は、Ｙ軸方向に２つずつ配置される。

図１に示すように、第２支持部材６Ｙを含む支持装置３は、テーブル１の下面１Ｂの中心に対して、Ｙ軸方向の両側（＋Ｙ側及び−Ｙ側）に配置される。

テーブル１の下面１Ｂの中心に対して＋Ｘ側に配置された第１支持部材６Ｘを含む支持装置３のＹ軸方向の位置と、テーブル１の下面１Ｂの中心に対して−Ｘ側に配置された第１支持部材６Ｘを含む支持装置３のＹ軸方向の位置とは、等しい。すなわち、テーブル１の下面１Ｂの中心に対してＸ軸方向の両側に配置された第１支持部材６Ｘを含む支持装置３のＹ座標は、等しい。

テーブル１の下面１Ｂの中心に対して＋Ｙ側に配置された第２支持部材６Ｙを含む支持装置３のＸ軸方向の位置と、テーブル１の下面１Ｂの中心に対して−Ｙ側に配置された第２支持部材６Ｙを含む支持装置３のＸ軸方向に関する位置とは、等しい。すなわち、テーブル１の下面１Ｂの中心に対してＹ軸方向の両側に配置された第２支持部材６Ｙを含む支持装置３のＸ座標は、等しい。

テーブル１の下面１Ｂの中心に対してＸ軸方向の両側に配置された支持装置３は、対向する。第１アクチュエータ７Ｘは、テーブル１の下面１Ｂの中心に対してＸ軸方向の両側に配置された一対の第１支持部材６Ｘのうち、一方の第１支持部材６Ｘ（本実施形態においては−Ｘ側の第１支持部材６Ｘ）を動かすように配置される。他方の第１支持部材６Ｘ（本実施形態においては＋Ｘ側の第１支持部材６Ｘ）には、第１アクチュエータ７Ｘは接続されない。

テーブル１の下面１Ｂの中心に対してＹ軸方向の両側に配置された支持装置３は、対向する。第２アクチュエータ７Ｙは、テーブル１の下面１Ｂの中心に対してＹ軸方向の両側に配置された一対の第２支持部材６Ｙのうち、一方の第２支持部材６Ｙ（本実施形態においては＋Ｙ側の第２支持部材６Ｙ）を動かすように配置される。他方の第２支持部材６Ｙ（本実施形態においては−Ｙ側の第２支持部材６Ｙ）には、第２アクチュエータ７Ｙは接続されない。

第１アクチュエータ７Ｘは、複数配置される。第１アクチュエータ７Ｘは、テーブル１の下面１Ｂの中心に対して−Ｘ側の空間において、Ｙ軸方向に２つ配置されている第１支持部材６ＸのそれぞれをＸ軸方向に移動するように、２つ配置される。

移動システム８は、複数（２つ）の第１アクチュエータ７Ｘの作動量を変えて、θＺ方向（回転方向）にテーブル１を移動することができる。

なお、第２支持部材６Ｙが、Ｘ軸方向に複数配置されてもよい。第２アクチュエータ７Ｙが、Ｘ軸方向に複数配置される第２支持部材６ＹのそれぞれをＹ軸方向に移動するように、複数配置されてもよい。移動システム８は、複数の第２アクチュエータ７Ｙの作動量を変えて、θＺ方向にテーブル１を移動してもよい。

このように、本実施形態においては、第１アクチュエータ７Ｘ及び第２アクチュエータ７Ｙを含む移動システム８によって、テーブル１は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びθＺ方向の３つの方向に移動可能である。

プレーンガイド装置３０は、ベース部材２のガイド面２Ｇと平行な水平方向にテーブル１をガイドする。図１に示すように、プレーンガイド装置３０は、ＸＹ平面内において複数設けられる。本実施形態においては、プレーンガイド装置３０は、ＸＹ平面内において、３つ配置される。

図２及び図３に示すように、プレーンガイド装置３０は、ベース部材２に設けられたガイド面２Ｇに水平方向に移動可能に支持される水平スライド機構４０と、軸の傾きやミスアライメントを吸収する吸収機構５０とを有する。

テーブル１は、テーブル１の上面１Ａと下面１Ｂとを貫通する孔１Ｋを有する。孔１Ｋの上端部の周囲に上面１Ａが配置される。孔１Ｋの下端部の周囲に下面１Ｂが配置される。

ベース部材２は、内部空間２Ｈと、内部空間２Ｈと接続される孔２Ｋとを有する。ベース部材２の内部空間２Ｈは、上方を向くガイド面２Ｇと、ガイド面２Ｇの外縁と接続される内周面２Ｓとによって規定される。ガイド面２Ｇは、ＸＹ平面と平行な平面であり、第２ベース部材２２に配置される。内周面２Ｓは、Ｚ軸と平行であり、第１ベース部材２１に配置される。ベース部材２の孔２Ｋは、第２ベース部材２２の上面（ガイド面２Ｇ）と下面とを貫通する。孔２Ｋの上端部の周囲にガイド面２Ｇが配置される。孔２Ｋは、ガイド面２Ｇの中心に形成される。孔２Ｋと内部空間２Ｈとは接続される。

プレーンガイド装置３０の少なくとも一部は、テーブル１に設けられた孔１Ｋに配置される。プレーンガイド装置３０の少なくとも一部は、ベース部材２に設けられた内部空間２Ｈに配置される。プレーンガイド装置３０の少なくとも一部は、ベース部材２に設けられた孔２Ｋに配置される。テーブル１とベース部材２とは、プレーンガイド装置３０を介して連結される。

本実施形態において、水平スライド機構４０が内部空間２Ｈに配置される。吸収機構５０の一部が孔２Ｋに配置され、吸収機構５０の一部が孔１Ｋに配置される。

図３に示すように、水平スライド機構４０は、ガイド面２Ｇよりも上方に配置され、ガイド面２Ｇと間隙を介して対向する支持板４１と、支持板４１の下面とガイド面２Ｇとの間に配置され、ガイド面２Ｇに接触した状態で回転可能な複数のボール４２と、支持板４１とボール４２との間に配置され、ボール４１を回転可能に保持する保持器４３と、を有する。支持板４１及び保持器４３は、ベース部材２のガイド面２Ｇ及び内周面２Ｓから離れており、ベース部材２とは接触しない。

吸収機構５０は、水平スライド機構４０から下方に突出する。吸収機構５０は、水平スライド機構４０の支持板４１に接続される。吸収機構５０は、水平スライド機構４０から下方に突出するロッド部材５１を含む。ロッド部材５１は、支持板４１の下面に固定される。ロッド部材５１は、支持板４１の下面から下方に突出する。ロッド部材５１は、ＸＹ平面内において支持板４１の下面の中心に接続される。

ロッド部材５１は、テーブル１の孔１Ｋに設けられた回転軸受６０に支持される。回転軸受６０は、ロッド部材５１の周囲に配置される。

図４は、本実施形態に係るロッド部材５１及び回転軸受６０の近傍を示す拡大図である。図３及び図４に示すように、ロッド部材５１は、回転軸受６０の内側に配置される第１ロッド部５２と、第１ロッド部５２の上端部に配置され、第１ロッド部５２よりも外径が大きい第２ロッド部５３と、第１ロッド部５２の下端部に配置されたロックナット５４と、を有する。

回転軸受６０は、実質的に円筒状である。回転軸受６０は、第１ロッド部５２の周囲に配置される。第２ロッド部５３は、回転軸受６０よりも上方に配置される。第２ロッド部５３が、支持板４１と接続される。ロックナット５４は、回転軸受６０よりも下方に配置される。ロックナット５４と回転軸受６０との間に間座５５が配置される。

回転軸受６０は、テーブル１の孔１Ｋの内面に支持される。回転軸受６０は、玉軸受を含む。回転軸受６０は、第１ロッド部５２に接触するように配置される内輪６１と、内輪６１の周囲に配置される外輪６２と、内輪６１と外輪６２との間に配置されるボール６３と、を含む。本実施形態において、内輪６１、外輪６２、及びボール６３を含む玉軸受は、Ｚ軸方向（第１ロッド部５２の中心軸と平行な方向）に２つ配置される。内輪６１は、Ｚ軸方向に配置される内輪６１Ａと内輪６１Ｂとを含む。外輪６２は、Ｚ軸方向に配置される外輪６２Ａと外輪６２Ｂとを含む。

回転軸受６０は、ロッド部材５１（プレーンガイド装置３０）の傾き又はミスアライメントを吸収する。ロッド部材５１を有するプレーンガイド装置３０と、回転軸受６０が固定されたテーブル１とは、僅かに相対移動可能である。テーブル１は、プレーンガイド装置３０に対して僅かに相対移動可能である。換言すれば、プレーンガイド装置３０に対するテーブル１の僅かな変位が許容されている。

図５は、本実施形態に係る支持装置３の近傍を示す拡大図である。図５に示すように、支持装置３は、テーブル１Ｂの下面１Ｂに固定されたロッド部材５を有する。ロッド部材５は、下面１Ｂから下方に突出するように設けられる。ロッド部材５は、ロッド部５Ｌと、ロッド部５Ｌの上端部及び下端部のそれぞれに配置されたロックナット５Ｆと、を有する。

回転軸受４は、実質的に円筒状である。回転軸受４は、ロッド部５Ｌの周囲に配置される。回転軸受４は、ケーシング１６に支持される。支持部材６は、ケーシング１６を介して、回転軸受４を支持する。ロックナット５Ｆと回転軸受４との間に間座５Ｓが配置される。

回転軸受４は、玉軸受を含む。回転軸受４は、ロッド部５Ｌに接触するように配置される内輪４Ａと、内輪４Ａの周囲に配置される外輪４Ｂと、内輪４Ａと外輪４Ｂとの間に配置されるボール４Ｃと、を含む。本実施形態において、内輪４Ａ、外輪４Ｂ、及びボール４Ｃを含む玉軸受は、Ｚ軸方向（ロッド部５Ｌの中心軸と平行な方向）に２つ配置される。

回転軸受４は、ロッド部材５の傾き又はミスアライメントを吸収する。ロッド部材５は、移動可能に回転軸受４に支持される。テーブル１は、支持部材６に対して僅かに相対移動可能である。換言すれば、支持部材６に対するテーブル１の僅かな変位が許容されている。

テーブル装置１を使ってテーブル１の下面１Ｂに保持されているワークＳを処理する場合、テーブル１に対して鉛直方向上向き（＋Ｚ方向）の外部荷重が作用する場合がある。

テーブル１に作用する鉛直方向上向き（＋Ｚ方向）の外部荷重が所定値未満のとき、プレーンガイド装置３０は、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触しないように、テーブル１を支持する。テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重が零の場合（無荷重の場合）、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとは、間隙Ｇを介して対向する。

テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重が零を含む所定値未満の場合、テーブル１は、プレーンガイド装置３０に吊り下げられるように支持される。テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重が所定値未満のとき、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが間隙を介して対向するようにテーブル１がプレーンガイド装置３０に支持される。テーブル１に作用する外部荷重が零のとき、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとの間に間隙Ｇが形成される。

プレーンガイド装置３０は、間隙Ｇの寸法だけ、Ｚ軸方向に関するテーブル１の移動を許容する。また、本実施形態においては、テーブル１に外部荷重が作用したとき、第１リニアベアリング９Ｘのピッチング（θＹ方向の回転）、第２リニアベアリング９Ｙのピッチング（θＸ方向の回転）、第３リニアベアリング１３Ｙのローリング（θＹ方向の回転）、及び第４リニアベアリング１３Ｘのローリング（θＸ方向の回転）を、回転軸受４が許容するとともに、水平スライド機構４０のピッチング（θＸ方向の回転）、及び水平スライド機構４０のローリング（θＹ方向の回転）を、回転軸受６０が許容することによって、テーブル１の移動が許容され、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとの間隙の寸法が変化する。

間隙Ｇの寸法とは、テーブル１に対するＺ軸方向の外部荷重が零のとき（無荷重のとき）の上面１Ａと下面２Ｂとの距離である。鉛直方向上向き（＋Ｚ方向）の外部荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、上方（＋Ｚ方向）に移動する。テーブル１が上方に移動することにより、テーブル１の上面１Ａは、ベース部材２の下面２Ｂに接触する。テーブル１に作用する鉛直方向上向き（＋Ｚ方向）の外部荷重が所定値のとき、テーブル１の上面１Ａは、ベース部材２の下面２Ｂと接触する。テーブル１に作用する鉛直方向上向き（＋Ｚ方向）の外部荷重が所定値以上のとき、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触する。プレーンガイド装置３０の水平スライド機構４０は、荷重を支持していないフリー状態となる。すなわち、テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重が所定値以上のとき、水平スライド機構４０がガイド面２Ｇから受ける＋Ｚ方向の荷重は、テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重が所定値未満のときに水平スライド機構４０がガイド面２Ｇから受ける＋Ｚ方向の荷重よりも小さくなる。テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重が所定値以上のとき、テーブル１の上面１Ａは、ベース部材２の下面２Ｂと接触し、テーブル１は、ベース部材２の下面２Ｂに支持される。

間隙Ｇの寸法は、第１リニアベアリング９Ｘ、第２リニアベアリング９Ｙ、第３リニアベアリング１３Ｙ、第４リニアベアリング１３Ｘ、及び回転軸受４に過剰な負荷（過負荷）が作用される前に上面１Ａと下面２Ｂとが接触するように定められている。換言すれば、間隙Ｇの寸法の範囲内でテーブル１が鉛直方向に移動しても、第１リニアベアリング９Ｘ、第２リニアベアリング９Ｙ、第３リニアベアリング１３Ｙ、第４リニアベアリング１３Ｘ、及び回転軸受４に過負荷が作用しないように、間隙Ｇの寸法が定められている。なお、第１リニアベアリング９Ｘ、第２リニアベアリング９Ｙ、第３リニアベアリング１３Ｙ、第４リニアベアリング１３Ｘ、及び回転軸受４に過負荷が作用する状態とは、静定格荷重を超えるような荷重が第１リニアベアリング９Ｘ、第２リニアベアリング９Ｙ、第３リニアベアリング１３Ｙ、第４リニアベアリング１３Ｘ、及び回転軸受４に作用する状態、及びボール４Ｃが内輪４Ａ及び外輪４Ｂのガイド溝から外れてしまうような荷重が回転軸受４に作用する状態が例示される。

所定値とは、＋Ｚ方向の外部荷重がテーブル１に作用し、テーブル１が＋Ｚ方向に移動して、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触し、間隙Ｇの寸法が零になるときの、テーブル１に作用する＋Ｚ方向の荷重の値をいう。テーブル１に作用する外部荷重が零のとき（無荷重のとき）、テーブル１は＋Ｚ方向に移動せず、Ｚ軸方向に関するテーブル１の位置は維持され、上面１Ａと下面２Ｂとの間隙Ｇは維持される。＋Ｚ方向の外部荷重がテーブル１の質量以下のときには、テーブル１は、プレーンガイド装置３０に支持され、Ｚ軸方向に関するテーブル１の位置が維持される。テーブル１にテーブル１の質量よりも大きい＋Ｚ方向の外部荷重が作用すると、＋Ｚ方向のテーブル１の移動が開始される。テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重が所定値未満のとき、テーブル１は＋Ｚ方向に移動し、間隙Ｇの寸法は徐々に小さくなるものの、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとは離れている。＋Ｚ方向の外部荷重がテーブル１の質量よりも大きく、且つ、所定値未満のときには、テーブル１は、第１リニアベアリング９Ｘ、第２リニアベアリング９Ｙ、第３リニアベアリング１３Ｙ、第４リニアベアリング１３Ｘ、及び回転軸受４によって支持される。テーブル１に作用する外部荷重が所定値に達すると、＋Ｚ方向に移動したテーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触し、間隙Ｇの寸法は零になる。

なお、第１リニアベアリング９Ｘ、第２リニアベアリング９Ｙ、第３リニアベアリング１３Ｙ、第４リニアベアリング１３Ｘ、及び回転軸受４に過負荷が作用される前に上面１Ａと下面２Ｂとが接触可能な間隙Ｇの寸法、及び荷重の所定値は、実験又はシミュレーションに基づいて予め求めることができる。求められたデータに基づいて、使用される回転軸受６０及び回転軸受４に適切な間隙Ｇの寸法、及び荷重の所定値が定められる。

テーブル１に作用する＋Ｚ方向の荷重が零（無荷重）であり、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが間隙Ｇを介して対向する状態において、プレーンガイド装置３０の水平スライド機構４０がガイド面２Ｇから受ける＋Ｚ方向の荷重は最大値を示す。換言すれば、テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重が零のとき、水平スライド機構４０のボール４２とガイド面２Ｇとの接触圧力は最大値を示す。

移動システム８の作動により、プレーンガイド装置３０を介してベース部材２に吊り下げ支持されているテーブル１は、ベース部材２のガイド面２Ｇにガイドされながら、ＸＹ平面と平行な面内において移動する。間隙Ｇが形成され、ガイド面２Ｇからの荷重が水平スライド機構４０に作用しているとき、プレーンガイド装置３０のボール４２は、ベース部材２のガイド面２Ｇと接触した状態で、転動可能である。これにより、テーブル１は、ガイド面２Ｇと平行なＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθＺ方向の少なくとも一つの方向にガイドされる。

テーブル１に＋Ｚ方向の外部荷重が作用し、テーブル１が徐々に持ち上げられ、間隙Ｇが徐々に小さくなると、プレーンガイド装置３０の水平スライド機構４０がガイド面２Ｇから受ける荷重は徐々に低下する。換言すれば、テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重の増大に伴って、水平スライド機構４０のボール４２とガイド面２Ｇとの接触圧力は徐々に低下する。

テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重が所定値に到達し、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触する状態において、プレーンガイド装置３０の水平スライド機構４０がガイド面２Ｇから受ける＋Ｚ方向の荷重は最小値を示す。換言すれば、テーブル１に＋Ｚ方向の外部荷重が作用し、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触したとき、水平スライド機構４０のボール４２とガイド面２Ｇとの接触圧力は最小値を示す。

このように、本実施形態においては、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触する状態において水平スライド機構４０がガイド面２Ｇから受ける＋Ｚ方向の荷重は、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが間隙Ｇを介して対向する状態において水平スライド機構４０がガイド面２Ｇから受ける＋Ｚ方向の荷重よりも小さい。

テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触している状態において、支持板４１はボール４２から離れており、水平スライド機構４０のボール４２とガイド面２Ｇとの接触圧力はボール４２の質量分のみとなり、プレーンガイド装置３０は、ＸＹ平面内においてテーブル１をガイドするガイド機能を発揮しない。テーブル１は、ベース部材２に支持される。

次に、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａの動作の一例について説明する。本実施形態においては、テーブル装置１００Ａが、フラットパネルディスプレイの一種である液晶パネルディスプレイの製造工程において使用される例について説明する。テーブル装置１００Ａを用いて、液晶パネルディスプレイの２枚の基板を貼り合せる例について説明する。

ワークＳとして、２枚の基板のうち一方の基板がテーブル１の下面１Ｂに支持される。他方の基板が、テーブル１よりも下方に配置される下方テーブル（不図示）に保持される。

テーブル装置１００Ａは、移動システム８を作動して、ＸＹ平面内におけるテーブル１の位置を調整する。テーブル装置１００Ａは、テーブル１の位置を調整して、ＸＹ平面内における基板の位置を決定する。このように、テーブル装置１００Ａは、テーブル１に保持された基板（ワークＳ）の位置を決定する位置決め装置として機能する。

ＸＹ平面内における基板の位置が決定された後、下方テーブルに保持された基板に、テーブル１に保持された他方の基板が上方から押し付けられる。これにより、２枚の基板が貼り合せられる。

下方テーブルに保持されている基板に、テーブル１に保持されている基板が押し付けられる前においては、テーブル１に＋Ｚ方向の外部荷重が作用してなく、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとの間に間隙Ｇが形成されている。下方テーブルに保持されている基板に、テーブル１に保持されている基板が押し付けられ、＋Ｚ方向の外部荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１は、上方に移動する。テーブル１に作用する＋Ｚ方向の外部荷重が所定値に達すると、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触し、テーブル１は、ベース部材２の下面２Ｂに支持される。

下方テーブルに保持されている基板に、テーブル１に保持されている基板が押し付けられ、２つの基板が貼り合せられた後、テーブル１が上昇する。これにより、テーブル１に作用する外部荷重は減少する。テーブル１に作用する外部荷重が減少し、テーブル１に対する＋Ｚ方向の外部荷重が所定値未満になったとき、重力の作用（テーブル１の自重）により、テーブル１は下方に移動する。これにより、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとの間に間隙Ｇが形成される。

以上説明したように、本実施形態によれば、＋Ｚ方向に外部荷重を受けるテーブル１において、所定値以上の＋Ｚ方向の外部荷重がテーブル１に作用したとき、プレーンガイド装置３０がベース部材２のガイド面２Ｇから受ける＋Ｚ方向の荷重が小さくなり、プレーンガイド装置３０が荷重を支持していないフリー状態となる。所定値以上の＋Ｚ方向の外部荷重がテーブル１に作用したとき、テーブル１とベース部材２とが接触し、テーブル１がベース部材２に保持されることとなる。これにより、テーブル１とベース部材２との間隙Ｇが大きくても、水平ガイド装置として機能するプレーンガイド装置３０に過大な負荷が作用することが抑制される。

また、本実施形態によれば、プレーンガイド装置３０は、ロッド部材５１及び回転軸受６０を介してテーブル１に接続される。回転軸受６０を介してプレーンガイド装置３０とテーブル１とが接続されることにより、ロッド部材５１の傾きやミスアライメントが回転軸受６０によって吸収される。そのため、プレーンガイド装置３０の各ボール４２に作用する荷重を均一化することができる。

また、本実施形態によれば、プレーンガイド装置３０は、水平面内において複数設けられる。これにより、テーブル１は、複数のプレーンガイド装置３０よって安定して支持され、水平方向にガイドされる。

また、本実施形態によれば、移動システム８は、ロッド部材５及び回転軸受４を介してテーブル１に接続される。回転軸受４を介して移動システム８とテーブル１とが接続されることにより、ロッド部材５の傾きやミスアライメントが回転軸受４によって吸収される。

また、本実施形態によれば、ベース部材２は、移動システム８を支持する第１ベース部材２１と、ガイド面２Ｇが設けられる第２ベース部材２２とから構成される。ベース部材２の内部空間２Ｈは、第１ベース部材２１に設けられた内周面２Ｓと、第２ベース部材２２に設けられたガイド面２Ｇとによって規定される。ガイド面２Ｇには高い面精度が要求される。単一の部材を使って内部空間２Ｈの内側にガイド面２Ｇを形成する場合、高い面精度でガイド面２Ｇを形成することは困難である可能性が高い。本実施形態によれば、第２ベース部材２２は平行平板であり、ガイド面２Ｇ（第２ベース部材２２の上面）を高い面精度で加工可能である。第２ベース部材２２に高い面精度でガイド面２Ｇが形成された後、その第２ベース部材２２と第１ベース部材２１とが接合されることにより、高い面精度を有するガイド面２Ｇを内部空間２Ｈの内側に配置することができる。

＜第２実施形態＞
第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図６は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｂの一例を示す側断面図である。図７は、本実施形態に係るプレーンガイド装置３０Ｂの水平スライド機構４０Ｂの一例を示す側断面図である。本実施形態に係るテーブル装置１００Ｂの殆どの部分が、上述の実施形態で説明したテーブル装置１００Ａと同一である。

上述の実施形態で説明した水平スライド機構４０と同様、水平スライド機構４０Ｂは、ガイド面２Ｇと間隙を介して対向する支持板４１と、ガイド面２Ｇに接触した状態で回転可能な複数のボール４２と、支持板４１とボール４２との間に配置され、ボール４２を回転可能に保持する保持器４３と、を有する。支持板４１の下面の周縁には、下方に突出する突出部材４１Ｔが設けられる。

本実施形態において、水平スライド機構４０Ｂは、支持板４１に支持され、保持器４３を介してボール４２をガイド面２Ｇに押し付ける力を発生する予圧機構４４を有する。

予圧機構４４は、ボールプランジャーを含む。予圧機構４４は、下端部に開口を有するハウジング４５と、ハウジング４５の内部に配置されるコイルばね４６と、ハウジング４５の開口に配置され、コイルばね４６と接続されるボール４７とを有する。

テーブル１に鉛直方向上向きの外部荷重が作用し、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触すると、ガイド面２Ｇから水平スライド機構４０に作用する荷重は、零（無荷重）となる。その場合、プレーンガイド装置３０はフリーな状態となり、支持板４１とボール４２との間に間隙が形成される可能性が高くなる。そうすると、ボール４２は、支持板４１及びテーブル１の移動に関係なく、水平方向に移動してしまう可能性がある。例えば、支持板４１とボール４２との間に間隙が形成され、ボール４２が支持板４１の周縁に移動してしまうと、水平スライド機構４０は、テーブル１をガイドするガイド機能を発揮しなくなるおそれがある。

本実施形態においては、水平スライド機構４０は、ボール４２を回転可能に保持する保持器４３と、保持器４３を介してボール４２をガイド面２Ｇに押し付ける力を発生する予圧機構４４とを有する。これにより、テーブル１の上昇に伴ってプレーンガイド装置３０がフリーな状態となり、水平スライド機構４０のボール４２とベース部材２のガイド面２Ｇとの接触圧力が低下しても、予圧機構４４によって、ボール４２をガイド面２Ｇに接触させ続けることができる。したがって、支持板４１に対してボール４２が水平方向に移動してしまうことが抑制され、水平スライド機構４０のガイド機能は維持される。

テーブル１に鉛直方向上向きの外部荷重が作用していないとき又は外部荷重が小さいときには、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが間隙を介して対向する。テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが間隙を介して対向する状態においては、ボール４２はガイド面２Ｇから＋Ｚ方向の第１荷重を受ける。ボール４２に第１荷重が作用している状態において、水平スライド機構４０は、テーブル１をガイドするガイド機能を十分に発揮する。テーブル１に鉛直方向上向きの大きい外部荷重が作用したときには、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触する。テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触する状態において、予圧機構４４は、ボール４２がガイド面２Ｇから受ける＋Ｚ方向の荷重が第１荷重よりも小さい第２荷重となるように力を発生して、支持板４１に対するボール４２の水平方向の移動を抑制する。テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとが接触したときには、予圧機構４４は、比較的弱い力でボール４２をガイド面２Ｇに押し付けるので、テーブル１の上面１Ａとベース部材２の下面２Ｂとの接触を阻害することなく、ボール４２の移動を抑制することができる。

＜第３実施形態＞
第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図８は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ｃの一例を示す側断面図である。本実施形態に係るテーブル装置１００Ｃの殆どの部分が、上述の実施形態で説明したテーブル装置１００Ａと同一である。

本実施形態において、テーブル装置１００Ｃは、鉛直方向にプレーンガイド装置３０の支持板４１を移動する駆動素子７１を備えている。

上述の実施形態と同様、水平スライド機構４０は、吸収機構５０が接続され、ガイド面２Ｇと間隙を介して対向する支持板４１と、ガイド面２Ｇに接触した状態で回転可能な複数のボール４２と、支持板４１とボール４２との間に配置され、ボール４１を回転可能に保持する保持器４３、とを有する。

駆動素子７１は、支持板４１とボール４２との間隙の寸法が小さくなるようにテーブル１に対する吸収機構５０（支持板４１）の相対位置を変化させる。駆動素子７１は、テーブル１に作用する鉛直方向上向きの荷重の大きさに関わらず、支持板４１とボール４２との間隙の寸法が零になるように、支持板４１をＺ軸方向に移動する。

駆動素子７１は、例えばピエゾ素子のような圧電素子を含む。駆動素子７１は、回転軸受６０の下面と、テーブル１の孔１Ｋの内面に固定された固定部材７２との間に配置される。

駆動素子７１は、Ｚ軸方向に関するテーブル１に対する吸収機構５０（支持板４１）の相対位置を調整可能である。駆動素子７１が縮むことによって、支持板４１は下方に移動する。駆動素子７１が伸びることによって、支持板４１は上方に移動する。

回転軸受６０の上下方向に配置された２つの内輪６１の間にスペーサ部材７３が配置される。内輪６１は、スペーサ部材３７と接触する。上下方向に配置された２つの外輪６２は、間隙を介して対向する。

駆動素子７１は、回転軸受６０の上下方向に配置された２つの外輪６２のうち下側の外輪６２と固定部材７２との間に配置される。駆動素子７１の作動により、２つの外輪６２の距離が変化する。これにより、プレーンガイド装置３０の支持板４１の位置が調整される。

本実施形態によれば、駆動素子７１によって鉛直方向のプレーンガイド装置３０（支持板４１）の位置が調整可能である。そのため、支持板４１とボール４２との間隙の寸法を調整することができる。

なお、駆動素子７１を作動して、テーブル１に作用する鉛直方向上向きの外部荷重の大きさに関わらず、テーブル１とベース部材２との間隙の寸法が零になるように、支持板４１がＺ軸方向に移動されてもよい。

なお、本実施形態において、駆動素子７１は、圧電素子でなくてもよい。駆動素子７１が、エアシリンダのような力制御アクチュエータでもよい。

＜第４実施形態＞
第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。

図９は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａ（１００Ｂ，１００Ｃ）を備えるフラットパネルディスプレイ製造装置５００の一例を示す図である。フラットパネルディスプレイ製造装置５００は、フラットパネルディスプレイの製造工程の少なくとも一部において使用される。フラットパネルディスプレイは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、及び有機ＥＬディスプレイの少なくとも一つを含む。

フラットパネルディスプレイ製造装置５００は、フラットパネルディスプレイを製造するためのワークＳを搬送可能な搬送装置６００を含む。搬送装置６００は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａを含む。

なお、図９においては、テーブル装置１００Ａを簡略して図示する。ワークＳは、テーブル１に保持される。

本実施形態において、ワークＳは、フラットパネルディスプレイを製造するための基板である。ワークＳからフラットパネルディスプレイが製造される。ワークＳは、ガラス板を含んでもよい。液晶ディスプレイが製造される場合、ワークＳは、ＴＦＴ基板を含んでもよいし、カラーフィルタ基板を含んでもよい。

フラットパネルディスプレイ製造装置５００が、２枚の基板を貼り合せる貼り合せ装置を含む場合、テーブル１に保持されるワークＳは、２枚の基板のうち一方の基板を含む。

本実施形態において、フラットパネルディスプレイ製造装置５００は、他方の基板を保持する下方テーブル５０１を有する。下方テーブル５０１は、テーブル１に保持されたワークＳ（一方の基板）を処理する処理部として機能する。テーブル装置１００Ａは、下方テーブル５０１の上方に配置される。

フラットパネルディスプレイ製造装置５００は、処理位置ＰＪ１において、フラットパネルディスプレイを製造するための処理を行う。テーブル装置１００Ａは、テーブル１に保持されたワークＳを処理位置ＰＪ１に配置する。搬送装置６００は、テーブル装置１００Ａのテーブル１にワークＳを搬送（搬入）可能な搬入装置６０１と、テーブル１からワークＳを搬送（搬出）可能な搬出装置６０２とを含む。搬入装置６０１によって、処理前のワークＳがテーブル１に搬送（搬入）される。テーブル装置１００Ａによって、テーブル１に保持されたワークＳが処理位置ＰＪ１まで搬送される。搬出装置６０２によって、処理後のワークＳがテーブル１及び下方テーブル５０１のいずれか一方から搬送（搬出）される。

テーブル装置１００Ａは、下方テーブル５０１により処理位置ＰＪ１に配置されている基板に、テーブル１で保持されている基板を対向させる。本実施形態において、処理位置ＰＪ１は、２枚の基板を貼り合せる貼り合せ位置を含む。テーブル装置１００Ａは、下方テーブル５０１に保持されている基板にテーブル１に保持されている基板を押し付けるように、下方に移動する。これにより、２枚の基板が貼り合せられる。

処理位置ＰＪ１においてワークＳが処理された後、その処理後のワークＳが搬出装置６０２によってテーブル１又は下方テーブル５０１から搬送される。搬出装置６０２によって搬送（搬出）されたワークＳは、後工程を行う処理装置に搬送される。

本実施形態においては、テーブル装置１００Ａは、ワークＳを処理位置ＰＪ１に配置可能である。また、テーブル１の位置決め精度の不足が抑制されている。そのため、不良な製品（フラットパネルディスプレイ）の発生が抑制される。

なお、本実施形態においては、テーブル装置１００Ａが下降することによって、２枚の基板が貼り合せられることとした。下方テーブル５０１が上昇してもよいし、テーブル装置１００Ａが下降するとともに、下方テーブル５０１が上昇してもよい。

なお、テーブル装置１００Ａ（１００Ｂ，１００Ｃ）が、半導体製造装置に使用されてもよい。半導体製造装置は、例えば、投影光学系を介してワークＳにデバイスパターンを形成する露光装置を含む。露光装置において、処理位置ＰＪ１は、投影光学系の像面位置（露光位置）を含む。投影光学系は、テーブル１に支持されたワークＳを露光処理する処理部として機能する。投影光学系は、テーブル１の下方に配置され、テーブル１に保持されているワークＳに下方から露光光を照射する。処理位置ＰＪ１にワークＳが配置されることにより、半導体製造装置は、投影光学系を介して、ワークＳにデバイスパターンを形成可能である。

なお、半導体製造装置が、ワークＳに膜を形成する成膜装置を含んでもよい。半導体製造装置が成膜装置を含む場合、処理位置ＰＪ１は、膜を形成するための材料が供給される供給位置（成膜位置）を含む。材料を供給する供給部が、テーブル１に保持されたワークＳの成膜処理を行う処理部として機能する。処理位置ＰＪ１にワークＳが配置されることにより、デバイスパターンを形成するための膜がワークＳに形成される。

＜第５実施形態＞
第５実施形態について説明する。図１０は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａ（１００Ｂ，１００Ｃ）を備える精密機械７００の一例を示す図である。本実施形態においては、精密機械７００が、精密機器のようなワークを精密に測定する精密測定機である例について説明する。

精密測定機７００は、ワークＳ２を測定する。ワークＳ２は、例えば、フラットパネルディスプレイ製造装置５００により製造されたフラットパネルディスプレイ、及び上述の半導体製造装置により製造された半導体デバイスの少なくとも一方を含んでもよい。精密測定機７００は、ワークＳ２を搬送可能な搬送装置６００Ｂを含む。搬送装置６００Ｂは、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａを含む。

なお、図１０において、テーブル装置１００Ａを簡略して図示する。ワークＳ２は、テーブル１に保持される。

精密測定機７００は、測定位置（目標位置）ＰＪ２に配置されたワークＳ２の測定を行う。テーブル装置１００Ａは、テーブル１に支持されたワークＳ２を測定位置ＰＪ２に配置する。搬送装置６００Ｂは、テーブル装置１００Ａのテーブル１にワークＳ２を搬送（搬入）可能な搬入装置６０１Ｂと、テーブル１からワークＳ２を搬送（搬出）可能な搬出装置６０２Ｂとを含む。搬入装置６０１Ｂによって、測定前のワークＳ２がテーブル１に搬送（搬入）される。テーブル装置１００Ａによって、テーブル１に支持されたワークＳ２が測定位置ＰＪ２まで搬送される。搬出装置６０２Ｂによって、測定後のワークＳ２がテーブル１から搬送（搬出）される。

テーブル装置１００Ａは、テーブル１を移動して、テーブル１に支持されたワークＳ２を測定位置ＰＪ２に移動する。テーブル装置１００Ａは、テーブル１に支持されたワークＳ２を高い位置決め精度で測定位置ＰＪ２に配置可能である。

本実施形態において、精密測定機７００は、検出光を用いてワークＳ２の測定を光学的に行う。精密測定機７００は、検出光を射出可能な照射装置７０１と、照射装置７０１から射出され、ワークＳ２で反射した検出光の少なくとも一部を受光可能な受光装置７０２とを含む。本実施形態において、測定位置ＰＪ２は、検出光の照射位置を含む。照射装置７０１及び受光装置７０２は、テーブル１に支持されたワークＳ２を処理する処理部として機能する。本実施形態において、照射装置７０１及び受光装置７０２は、テーブル１に支持されたワークＳ２を測定する測定部として機能する。測定位置ＰＪ２にワークＳ２が配置されることにより、ワークＳ２の状態が光学的に測定される。

測定位置ＰＪ２においてワークＳ２の測定が行われた後、その測定後のワークＳ２が搬出装置６０２Ｂによってテーブル１から搬送される。

本実施形態においては、テーブル装置１００Ａは、ワークＳ２を測定位置（目標位置）ＰＪ２に配置可能であるため、測定不良の発生を抑制できる。すなわち、精密測定機７００は、ワークＳ２が不良であるか否かを良好に判断することができる。これにより、例えば不良なワークＳ２が後工程に搬送されたり、出荷されたりすることが抑制される。また、精密測定機７００は、テーブル１によって測定位置ＰＪ２に配置されたワークＳ２を測定できるので、そのワークＳ２の測定を精密に行うことができる。

なお、三次元測定装置が、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａを備えてもよいし、テーブル装置１００Ａを含む搬送装置を備えてもよい。測定対象のワークがテーブル１に支持されることにより、三次元測定装置は、目標位置に配置されたワークを測定できるので、そのワークの測定を精密に行うことができる。

＜第６実施形態＞
第６実施形態について説明する。図１１は、本実施形態に係るテーブル装置１００Ａ（１００Ｂ，１００Ｃ）を備える精密機械８００の一例を示す図である。本実施形態においては、精密機械８００が、精密加工を実施可能な精密加工機である例について説明する。

精密加工機８００は、ワークＳ３を加工する。精密加工機８００は、マシニングセンタを含み、テーブル装置１００Ａと、加工ヘッド８０１とを有する。加工ヘッド８０１が、テーブル装置１００Ａのテーブル１に保持されたワークＳ３を処理する処理部として機能する。本実施形態においては、加工ヘッド８０１が、テーブル装置１００Ａのテーブル１に保持されたワークＳ３を加工する加工部として機能する。加工ヘッド８０１は、加工工具を有し、テーブル装置１００Ａのテーブル１に保持されたワークＳ３を加工工具で加工する。加工ヘッド８０１は、ワークＳ３を切削する機構である。加工ヘッド８０１は、テーブル１の移動方向と直交するＺ軸方向に加工工具を移動させる。

精密加工機８００は、テーブル装置１００ＡでワークＳ３をＸＹ平面内において移動させ、加工ヘッド８０１をＺ軸方向に移動させることで、加工工具とワークＳ３とを相対的に移動させることができる。

精密加工機８００は、テーブル１によって加工位置（目標位置）に配置されたワークＳ３を加工できるので、そのワークＳ３の加工を精密に行うことができる。

なお、上述の各実施形態においては、テーブル１がＸＹ平面内（水平面内）に移動することとした。本実施形態において、テーブル１がＸＹ平面に対して傾斜する方向に移動されてもよい。すなわち、ＸＹ平面は、水平面と平行でもよいし、水平面に対して傾斜していてもよい。

１ テーブル
１Ａ 上面
１Ｂ 下面
１Ｋ 孔
２ ベース部材
２Ａ 上面
２Ｂ 下面
２Ｈ 内部空間
２Ｋ 孔
２Ｇ ガイド面
２Ｓ 内周面
３ 支持装置
４ 回転軸受（第２回転軸受）
４Ａ 内輪
４Ｂ 外輪
４Ｃ ボール
５ ロッド部材（第２ロッド部材）
５Ｆ ロックナット
５Ｌ ロッド部
５Ｓ 間座
６ 支持部材
６Ｘ 第１支持部材
６Ｙ 第２支持部材
７ アクチュエータ
７Ｘ 第１アクチュエータ
７Ｙ 第２アクチュエータ
８ 移動システム
９Ｘ 第１リニアベアリング
９Ｙ 第２リニアベアリング
１０Ｘ 第１ガイド部材
１０Ｙ 第２ガイド部材
１１Ｘ 第１ボールねじ機構
１１Ｙ 第２ボールねじ機構
１２Ｙ 第３ガイド部材
１２Ｘ 第４ガイド部材
１３Ｙ 第３リニアベアリング
１３Ｘ 第４リニアベアリング
１４ 接続部材
１５ 接続部材
１６ ケーシング
２１ 第１ベース部材
２２ 第２ベース部材
３０ プレーンガイド装置
４０ 水平スライド機構
４０Ｂ 水平スライド機構
４１ 支持板
４１Ｔ 突出部材
４２ ボール
４３ 保持器
４４ 予圧機構
４５ ハウジング
４６ コイルばね
４７ ボール
５０ 吸収機構
５１ ロッド部材（第１ロッド部材）
５２ 第１ロッド部
５３ 第２ロッド部
５４ ロックナット
５５ 間座
６０ 回転軸受（第１回転軸受）
６１ 内輪
６２ 外輪
６３ ボール
７１ 駆動素子
７２ 固定部材
７３ スペーサ部材
１００Ａ テーブル装置
１００Ｂ テーブル装置
１００Ｃ テーブル装置
５００ フラットパネルディスプレイ製造装置
７００ 精密機械（精密測定機）
８００ 精密機械（精密加工機）
Ｇ 間隙

Claims (11)

1. ワークを保持する下面を有するテーブルと、
   前記テーブルの上面と対向する下面を有するベース部材と、
   前記ベース部材に対して前記テーブルを水平方向に移動するための動力を発生するアクチュエータを有する移動システムと、
   少なくとも一部が前記テーブルと接続され、前記ベース部材に設けられた上方を向くガイド面に水平方向に移動可能に支持される水平スライド機構を有するプレーンガイド装置と、
   を備え、
   前記テーブルに作用する鉛直方向上向きの外部荷重が所定値未満のとき、
   前記テーブルの上面と前記ベース部材の下面とが間隙を介して対向するように前記テーブルが前記プレーンガイド装置に支持され、
   前記テーブルに作用する鉛直方向上向きの外部荷重が所定値以上のとき、
   前記テーブルの上面と前記ベース部材の下面とが接触し、前記水平スライド機構が前記ガイド面から受ける鉛直方向上向きの荷重は、前記外部荷重が前記所定値未満のときに前記水平スライド機構が前記ガイド面から受ける鉛直方向上向きの荷重よりも小さくなる、
   テーブル装置。
2. プレーンガイド装置は、前記水平スライド機構から下方に突出する第１ロッド部材を有し、
   前記テーブルに設けられ前記第１ロッド部材の周囲に配置される第１回転軸受を備える、
   請求項１に記載のテーブル装置。
3. 前記プレーンガイド装置は、水平面内において複数設けられる、
   請求項１又は請求項２に記載のテーブル装置。
4. 前記テーブルは、第２ロッド部材を有し、
   前記第２ロッド部材の周囲に配置される第２回転軸受を備え、
   前記移動システムの少なくとも一部は、前記第２回転軸受を支持する支持部材に接続される、
   請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のテーブル装置。
5. 前記移動システムは、前記ベース部材に支持され、
   前記ベース部材は、前記移動システムを支持する第１ベース部材と、前記第１ベース部材と前記テーブルとの間に配置され前記ガイド面を有する第２ベース部材と、を含む、
   請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のテーブル装置。
6. 前記水平スライド機構は、
   前記ガイド面と間隙を介して対向する支持板と、
   前記ガイド面に接触した状態で回転可能な複数のボールと、
   前記支持板と前記ボールとの間に配置され、前記ボールを回転可能に保持する保持器と、
   前記支持板に支持され、前記保持器を介して前記ボールを前記ガイド面に押し付ける力を発生する予圧機構と、
   を有する請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のテーブル装置。
7. 前記テーブルの上面と前記ベース部材の下面とが間隙を介して対向する状態において前記ボールは前記ガイド面から第１荷重を受け、
   前記予圧機構は、前記テーブルの上面と前記ベース部材の下面とが接触する状態において前記ボールが前記ガイド面から受ける荷重が前記第１荷重よりも小さい第２荷重となるように前記力を発生して、前記支持板に対する前記ボールの移動を抑制する、
   請求項６に記載のテーブル装置。
8. 前記水平スライド機構は、
   前記ガイド面と間隙を介して対向する支持板と、
   前記ガイド面に接触した状態で回転可能な複数のボールと、
   前記支持板と前記ボールとの間に配置され、前記ボールを回転可能に保持する保持器と、
   を有し、
   前記支持板と前記ボールとの間隙の寸法が小さくなるように力を発生する駆動素子を備える、
   請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のテーブル装置。
9. 請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のテーブル装置を備え、
   前記テーブル装置の前記テーブルに支持されたワークの位置を決定する、
   位置決め装置。
10. 請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のテーブル装置と、
    前記テーブルに支持されたワークを処理する処理部と、
    を備えるフラットパネルディスプレイ製造装置。
11. 請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のテーブル装置と、
    前記テーブルに支持されたワークを処理する処理部と、
    を備える精密機械。

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