JP2017042700A - 液状体の吐出評価方法、および吐出評価機構 - Google Patents

Abstract

【課題】液滴の着弾状態のばらつきを抑える、液状体の吐出評価方法を提供すること。【解決手段】本発明の液状体の吐出評価方法は、受容層７２が形成されたシートＫに対してプラズマ処理を施す工程と、プラズマ処理が施されたシートＫに対して、インクジェットヘッド５０の複数のノズル５２から液状体を液滴Ｄとして吐出する工程と、受容層７２に着弾した液滴の着弾状態を計測する工程と、着弾状態の計測結果から液滴の吐出情報を取得する工程とを含んでいる。この構成によれば、ばらつきを抑えて液滴の着弾状態が計測可能になり、ばらつきが低減された吐出情報を取得することができる。【選択図】図１２

Description

本発明は、液状体の吐出評価方法、および吐出評価機構に関する。

従来、インクジェットヘッドから液状体を液滴として吐出して、液晶パネル用のカラーフィルターや有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子の機能層を形成するインクジェット法が知られていた。特に、この方法によって高精細な素子を形成する場合、ノズルごとの液滴量（吐出量）や液滴の着弾位置などに高い精度が要求されている。そして、高い精度を達成するためには、着弾した液滴量や着弾位置などを精密に評価して、それらを所望の状態に調整する必要があった。
そこで、例えば特許文献１に記載されているように、撥液性の高分子膜を評価用の被記録媒体として、液状体の吐出評価を行う方法が知られていた。詳しくは、基板に形成した撥液性の高分子膜上に、素子形成用の液状体を液滴として吐出して着弾させ、乾燥後に形成された膜の体積を計測することで、吐出された液滴量を評価する方法である。

特開２０１２−１８７４９９号公報

しかしながら、特許文献１に記載の吐出評価方法では、液滴の着弾状態（形状や輪郭）について、ばらつきを抑えて評価することが難しいという課題があった。詳しくは、液滴の着弾状態は、被記録媒体の表面状態によって大きく影響を受ける。そのため、被記録媒体の表面状態を均一にしておくことが求められる。また、一般の市販フィルムなどの被記録媒体では個体差や部位差が大きく、表面状態の均一性を満足することが難しかった。さらには、被記録媒体の表面が大気に暴露されると、経時による表面状態の変化や塵などの異物の付着によって、着弾状態がばらつくことがあった。以上を換言すれば、吐出評価に用いる被記録媒体において、液滴の着弾状態のばらつきを抑える方法が求められていた。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例に係わる液状体の吐出評価方法は、受容層が形成されたシートに対してプラズマ処理を施す工程と、プラズマ処理が施されたシートに対して、インクジェットヘッドの複数のノズルから液状体を液滴として吐出する工程と、受容層に着弾した液滴の着弾状態を計測する工程と、着弾状態の計測結果から液滴の吐出情報を取得する工程と、を含むことを特徴とする。

本適用例によれば、受容層が形成されたシート（吐出評価に用いる被記録媒体）にプラズマ処理を施すことによって、受容層の表面状態の均一性が向上するため、インクジェットヘッドから吐出された液滴の着弾状態を、安定させることができる。詳しくは、被記録媒体の受容層には製造ロットや部位においてばらつきがあり、均一性が低い表面状態となっている。表面状態の均一性が低いと、着弾した液滴の挙動（浸透や濡れ広がり）が乱れ、液滴の形状の歪みや輪郭の滲みが発生し易くなる。このような液滴の形状の歪みや輪郭の滲みがばらつきの要因となり、吐出評価の障害となっていた。
これに対して、受容層にプラズマ処理を施すことによって、表面状態の均一性が向上し、液滴の形状の歪みや輪郭の滲みが抑制される。つまり、吐出評価における被記録媒体側のばらつき要因を低減することができる。また、プラズマ処理によって、受容層表面の汚れや異物が減少して、表面状態の均一性がさらに改善される。以上により、ばらつきを抑えた吐出情報の取得が可能な、液滴の吐出評価方法を提供することができる。

［適用例２］上記適用例に記載の液滴の吐出評価方法は、吐出情報が液滴の吐出量を含むことが好ましい。

本適用例によれば、液滴の吐出量を吐出情報として取得することにより、高精細な機能素子の形成に必要な、吐出条件を調整するための情報を得ることができる。

［適用例３］上記適用例に記載の液滴の吐出評価方法は、液状体が透光性を有し、２３℃における粘度が１ｍＰａ・ｓ（秒）以上、１０ｍＰａ・ｓ（秒）以下であることが好ましい。

本適用例によれば、液状体が透光性を有することで、色材を含まない液状体にも適用することができる。また、２３℃における粘度が１ｍＰａ・ｓ以上、１０ｍＰａ・ｓ以下であることにより、インクジェットヘッドからの吐出安定性を確保した上で、被記録媒体の受容層に速やかに吸収され、吐出評価の時間を短縮することができる。

［適用例４］上記適用例に記載の液滴の吐出評価方法は、液状体が有機層形成材料を含むことが好ましい。

本適用例によれば、素子を形成するための、実際の液状体を用いるため、液状体の吐出量などの実情に即した吐出情報を得ることができる。

［適用例５］上記適用例に記載の液滴の吐出評価方法は、プラズマ処理を施すことにより、液状体に対して受容層表面に疎液性を付与することが好ましい。

本適用例によれば、液状体に対する疎液性が受容層表面に付与されるため、受容層内部への液滴の浸透が抑えられる。これにより、受容層表面に着弾した液滴は乾燥が遅くなるが、表面の疎液性が略均一であるため、緩慢に乾燥しても液滴の形状や輪郭の滲みを抑えることができる。

［適用例６］上記適用例に記載の液滴の吐出評価方法は、プラズマ処理を施すことにより、液状体に対して受容層表面に親液性を付与することが好ましい。

本適用例によれば、液状体に対する親液性が受容層表面に付与されるため、少量の液滴であっても、受容層の表面を濡れ広がって着弾状態が安定し、ばらつきを抑えた液滴の吐出情報が入手可能になる。

［適用例７］上記適用例に記載の液滴の吐出評価方法は、受容層が着弾した液滴の少なくとも一部を浸透させることが好ましい。

本適用例によれば、吐出された液滴が受容層表面において、むやみに濡れ広がることが抑制されて着弾状態を安定させることができる。

［適用例８］上記適用例に記載の液滴の吐出評価方法は、受容層が多孔質であって、シートが透明フィルムであることが好ましい。

本適用例によれば、多孔質（空隙型）の受容層は、膨潤型の受容層と比べて、液状体の浸透性に与える影響が小さいため、溶媒種や極性などが異なる液状体を同一条件で評価することができる。また、透明フィルムであることにより、着弾状態の計測を液滴の着弾面に加えてその裏面からも行うことができる。

［適用例９］本適用例に係わる液状体の吐出評価機構は、受容層が形成されたシートに対して、インクジェットヘッドの複数のノズルから液状体を液滴として吐出し、液滴の吐出状態をノズルごとに評価する液状体の吐出評価機構であって、インクジェットヘッドに対してシートを対向配置させるシート搬送系と、シートの受容層にプラズマ処理を施すプラズマ処理系と、シートの受容層に着弾した液滴の状態を計測する計測系と、を備えたことを特徴とする。

本適用例によれば、受容層が形成されたシート（吐出評価に用いる被記録媒体）にプラズマ処理を施すことにより、受容層表面の均一性が向上する。そのため、インクジェットヘッドから吐出された液滴の着弾状態を、安定させることができる。また、プラズマ処理によって、受容層表面の汚れや異物が減少して、均一性がさらに改善される。以上により、精密な吐出情報の取得が可能な、液滴の吐出評価機構を提供することができる。

実施形態１に係わる有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図。 有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 液滴吐出装置の構成を示す概略平面図。 プラズマ処理装置の構成を示す概略側断面図。 吐出計測機構の構成を示す概略斜視図。 吐出計測機構の主走査方向から見た配置を示す概略断面図。 インクジェットヘッドの構成を示す概略斜視図。 ノズル面における複数のノズル配置状態を示す平面図。 液滴の吐出量の評価方法を示す概略断面図。 液滴の吐出量の評価方法を示す概略断面図。 液滴の吐出量の評価方法を示す概略断面図。 着弾痕画像を示す平面写真。 実施例に係わるプラズマ処理条件を示す図表。 着弾面積からインク吐出量を算出するための検量線を示すグラフ図。 吐出評価実験の結果を示す図表。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部材の尺度を実際とは異ならせしめている。

（実施形態１）
＜有機ＥＬ装置＞
まず、実施形態１の液状体の吐出評価方法に係わる有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置について、図１を参照して説明する。図１は、有機ＥＬ装置の構成を示す概略平面図である。本実施形態は、有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置を例に挙げ、液滴吐出法であるインクジェット法を用いて有機ＥＬ素子を形成する場合の、液滴の吐出評価方法について説明する。

図１に示した有機ＥＬ装置１００は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光（発光色）が得られるサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが配置された素子基板１０１を有している。各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂは略矩形状であり、素子基板１０１の表示領域Ｅにおいてマトリックス状に配置されている。

サブ画素１１０Ｒには、赤（Ｒ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられている。同様に、サブ画素１１０Ｇには緑（Ｇ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられ、サブ画素１１０Ｂには青（Ｂ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられている。

次に、本実施形態に係わる有機ＥＬ素子について、図２を参照して説明する。図２は、有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図である。

上述した各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂには、図２に示した有機ＥＬ素子１３０が設けられている。有機ＥＬ素子１３０は、素子基板１０１上に設けられた反射層１０２、絶縁膜１０３、画素電極１０４、対向電極１０５、画素電極１０４と対向電極１０５との間に設けられた、発光層１３３を含む機能層１３６を有している。

機能層１３６は、画素電極１０４側から、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３、電子輸送層１３４、電子注入層１３５が順に積層されたものである。特に、発光層１３３は発光色に応じて構成材料が選ばれる。なお、機能層１３６の構成は、これに限定されるものではなく、これらの層以外に、キャリア（正孔や電子）の移動を制御する中間層などを備えていてもよい。

なお、有機ＥＬ素子１３０は、発光方式がトップエミッション方式である構成を例としている。また図２においては、画素回路の図示を省略している。

有機ＥＬ素子１３０は、画素電極１０４上に開口部１０６ａを構成する隔壁１０６を有している。この隔壁１０６は、画素電極１０４の外縁と重なっている。また、有機ＥＬ素子１３０の機能層１３６は、機能層１３６を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３のうち、少なくとも一層が液相プロセスで形成されたものである。液相プロセスとは、一層を構成する成分と溶媒とを含んだ液状体を隔壁１０６で囲まれた膜形成領域としての開口部１０６ａに塗布して乾燥させることにより、一層を形成する方法である。一層を所望の膜厚で形成するためには、所定量の液状体を精度よく開口部１０６ａに塗布する必要があり、本実施形態では、液相プロセスとしてインクジェット法（液滴吐出法）を採用している。

＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に、インクジェット法を採用した、有機ＥＬ素子の製造方法について、図３、図４、図５を参照して説明する。図３、図４、図５は有機ＥＬ素子における機能層の形成方法を示す概略断面図である。

有機ＥＬ素子１３０の製造方法は、隔壁形成工程（ステップＳ１）、表面処理工程（ステップＳ２）、機能層形成工程（ステップＳ３）などを有している。

ステップＳ１（隔壁形成工程）では、図３に示すように、反射層１０２および画素電極１０４が形成された素子基板１０１に、感光性樹脂材料を塗布して乾燥することにより感光性樹脂層を形成する。塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられる。形成された感光性樹脂層を、サブ画素１１０の形状に対応した露光用マスクを用いて露光・現像して、画素電極１０４の外縁と重なると共に、画素電極１０４上に開口部１０６ａを構成する隔壁１０６を形成する。

ステップＳ２（表面処理工程）では、隔壁１０６が形成された素子基板１０１に表面処理を施す。表面処理工程は、次工程で機能層１３６を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３をインクジェット法（液滴吐出法）で形成する際に、隔壁１０６で囲まれた開口部１０６ａにおいて、液状体（以降、インクとも呼ぶ）がむらなく濡れ広がるように、画素電極１０４の表面の隔壁残渣などの不要物を取り除く目的で行われる。表面処理方法としては、例えば、エキシマ紫外線処理が適用できる。

ステップＳ３（機能層形成工程）では、図４に示すように、正孔注入層材料を含む液状体としてのインク１５０を、開口部１０６ａに塗布する。インク１５０の塗布方法は、インク１５０を、インクジェットヘッド５０のノズル５２から液滴Ｄとして吐出するインクジェット法を用いている。インクジェットヘッド５０から吐出される液滴Ｄの吐出量は、ｐｌ（ピコリットル）単位で制御され、所定量を液滴Ｄの吐出量で除した数の液滴Ｄが開口部１０６ａに吐出される。以後、乾燥工程へ進む。

乾燥工程では、例えば、インク１５０が塗布された素子基板１０１を減圧化に放置し、インク１５０から溶媒を蒸発させて乾燥させる減圧乾燥を用いる（減圧乾燥工程）。その後、例えば、大気圧下で加熱・焼成処理を施すことにより、インク１５０が固化して、図５に示すように正孔注入層１３１が形成される。

次に、正孔輸送層材料を含む液状体としてのインク１６０を用いて、正孔輸送層１３２を形成する。正孔輸送層１３２の形成方法も、正孔注入層１３１と同様に、インクジェット法を用いて、所定量のインク１６０を吐出して行う。また、正孔注入層１３１と同様に、減圧乾燥と加熱焼成を施して正孔輸送層１３２を形成する。

次に、発光層材料を含む液状体としてのインク１７０を用いて、発光層１３３を形成する。発光層１３３の形成方法も、正孔注入層１３１と同様に、インクジェット法を用いて、所定量のインク１７０を吐出して行う。また、正孔注入層１３１と同様に、減圧乾燥と加熱焼成を施して発光層１３３を形成する。このとき、減圧乾燥の後、酸素や水分などが発光機能に与える影響を考慮して、例えば窒素などの不活性ガス雰囲気下で焼成して固化させることが好ましい。

この工程以降、電子輸送層１３４、電子注入層１３５、陰極としての対向電極１０５を真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し、有機ＥＬ素子１３０（図２）が製造される。

上述した機能層１３６の形成方法では、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３を液相プロセス（インクジェット法）で形成したが、これらの層のうち１つを液相プロセス（インクジェット法）で形成すればよく、他の層は真空蒸着などの気相プロセスを用いて形成してもよい。

以上に述べたように、機能層１３６の形成に用いるインクジェット法においては、液滴Ｄの吐出量をｐｌ単位で制御している。そのため、液滴Ｄの吐出量を評価して、吐出条件の調整に反映させる必要があった。

＜液滴吐出装置の概要＞
次に、本実施形態に係わる液滴吐出装置の概要について、図６を参照して説明する。図６は、液滴吐出装置の構成を示す概略平面図である。本実施形態は、プラズマ処理系、シート搬送系、計測系などを有する吐出評価機構に加えて、有機ＥＬ素子の機能層を形成するための、機能層形成用インクの吐出機構を備えた液滴吐出装置３００を例に挙げて説明する。

図６に示した液滴吐出装置３００は、吐出評価機構３１０、機能層形成用インク吐出機構３４０、キャリッジ待機室３３０などを有している。また、本実施形態に係わる液状体の吐出評価機構３１０は、プラズマ処理装置２５０、シート搬送機構２０ａ，２０ｂ、吐出計測機構６０などを備えている。この吐出評価機構３１０と隣接して、機能層形成用インク吐出機構３４０とキャリッジ待機室３３０とが配置されている。

また、液滴吐出装置３００の装置端部にはシート搬入部３７０が設置されている。シート搬入部３７０は、液滴吐出装置３００における、吐出評価に用いる被記録媒体の搬出入口の機能を有している。液滴吐出装置３００の内部には、シート搬入部３７０から吐出計測機構６０にかけて、上記被記録媒体（図示せず）を搬送するための、シート搬送系としてのシート搬送機構２０ａが配置されている。このシート搬送機構２０ａは、被記録媒体を載置する移動台６５（後述）を備えている。また、シート搬送機構２０ａの経路の略中央には、上記被記録媒体をプラズマ処理装置２５０に導入するための、同じくシート搬送系としてのシート搬送機構２０ｂが接続されている。

プラズマ処理系としてのプラズマ処理装置２５０は、上記被記録媒体を内部に導入してプラズマ処理を施す機能を有している。また、計測系としての吐出計測機構６０は、上記被記録媒体上へのインクの吐出と、それによって発現する着弾痕の評価などを実行する機能を有している。このプラズマ処理装置２５０および吐出計測機構６０の構成については、後述する。

機能層形成用インク吐出機構３４０は、インクジェット法によって機能層形成用のインクを、素子基板１０１（図３参照）に塗布する機能を有している。この機能層形成用インク吐出機構３４０の端部には、素子基板１０１を搬出入するための素子基板搬入部３８０が設けられている。また、機能層形成用インク吐出機構３４０の内部には、素子基板１０１を搬送するための素子基板搬送機構３９０が設置されている。

キャリッジ待機室３３０は、インクジェットヘッド５０（図４参照）におけるノズルの目詰まり回復やノズル面の汚れの除去などのメンテナンスを行うための、フラッシング吐出領域（図示せず）やメンテナンス機構（図示せず）を備えている。

さらに、液滴吐出装置３００は、上記の構成の他に、インクジェットヘッド５０から吐出されたインクを受けて、吐出されたインクの質量を計測するインク質量計測機構（図示せず）や、これらの機構や装置を統括的に制御する制御部（図示せず）なども備えている。

ここで、インクジェットヘッド５０は、後述するヘッド移動機構３０（図８参照）によって、副走査方向（Ｙ軸方向）へ移動可能としている。これにより、インクジェットヘッド５０は、キャリッジ待機室３３０から吐出計測機構６０の領域までの区間を移動可能となっている。さらに、吐出計測機構６０が設けられた領域にインクジェットヘッド５０が移動して固定され、固定されたインクジェットヘッド５０に対して、素子基板搬入部３８０から搬入された素子基板１０１を、副走査方向と直交する主走査方向（Ｘ軸方向）に相対的に移動させる基板移動機構を有している。

以上の構成により、液滴吐出装置３００において、上記被記録媒体はシート搬入部３７０から搬入され、シート搬送機構２０ａ，２０ｂによってプラズマ処理装置２５０に導入される。次いで、プラズマ処理を施された後に搬出され、シート搬送機構２０ａ，２０ｂによってインクジェットヘッド５０と対向配置される吐出計測機構６０の領域に搬送された後、吐出評価が実施される構成となっている。また、素子基板搬入部３８０から搬入された素子基板１０１に対して、インクジェットヘッド５０から機能層形成用インクが吐出される構成となっている。

＜プラズマ処理装置＞
次に、本実施形態の吐出評価機構に係わるプラズマ処理装置について、図７を参照して説明する。図７は、プラズマ処理装置の構成を示す概略側断面図である。

図７に示したプラズマ処理装置２５０は、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma：誘導結合プラズマ）処理方式を適用している。ＩＣＰは、コイル状やループ状のアンテナ周辺に誘導電界を生じさせ、これを利用した高周波放電によってプラズマを発生させる方式である。
プラズマ処理装置２５０は、予備排気室２６３、ゲートバルブ２５２、処理室２５３などを備えている。これら予備排気室２６３、ゲートバルブ２５２、処理室２５３は、この順序で隣接して配置されている。

予備排気室２６３は、予備排気系２６２、搬送系２５１などを有している。この予備排気室２６３は、プラズマ処理を施す対象物としての被記録媒体（シートＫ）を、外部から導入するための前室となっている。予備排気系２６２は、シートKの導入時に予備排気室２６３に流入する大気を、予備排気室２６３から排出する機能を有している。また、搬送系２５１は、予備排気室２６３から処理室２５３の間を、シートＫを載せて搬送する機能を有している。
これにより、シートＫは外部から予備排気室２６３に導入され、予備排気系２６２によって予備排気室２６３の大気が排除された後、ゲートバルブ２５２へ搬送系２５１によって搬送される構成となっている。

ゲートバルブ２５２は、予備排気室２６３と処理室２５３との間にあって、開閉可能な隔壁を構成している。このゲートバルブ２５２は、閉鎖時には外部大気から処理室２５３を遮断して気密を確保し、開放時には処理室２５３におけるシートＫの搬出入口として機能する。
これにより、シートＫは、予備排気室２６３の大気が排除された後に開放されたゲートバルブ２５２を通って、搬送系２５１に載せられて処理室２５３へと搬送される構成となっている。また、シートＫが処理室２５３に搬入されると、ゲートバルブ２５２が閉鎖される仕組みとなっている。

処理室２５３は、対向電極２５４、基板支持部２５５、結合コンデンサー２５６、ＡＣ（Alternating Current）バイアス電源２５７、アンテナ２５８、ガス供給系２５９、ガス排気系２６０、ＲＦ（Radio Frequency）電源２６１などを有している。

ガス供給系２５９は、ガス流量コントローラー（図示せず）から供給されるプロセスガスを、処理室２５３に導入する機能を有している。このプロセスガスの種類によってプラズマの状態が変化して、シートＫ表面の処理状態が影響を受ける。このことから、プロセスガスは、処理の対象物や目的に応じて選択される。一般にプロセスガスとしては、希ガス、不活性ガス、反応性ガスなどが用いられ、具体的には、水素、ヘリウム、酸素、窒素、アルゴン、フッ素系化合物やこれらの混合ガスが挙げられる。

これらのプロセスガスの種類は、シートＫの受容層に与える特性やインクによって選択することができる。例えば、本実施形態では、プロセスガスとして酸素またはＣＦ₄を用いている。本実施形態のインクに対して、酸素は受容層表面に親液性を付与し、ＣＦ₄は疎液性を付与する機能を有している。

ガス排気系２６０は、ターボ分子ポンプおよび圧力制御機構（共に図示せず）に接続され、処理室２５３内部の圧力を制御している。

アンテナ２５８は、処理室２５３内において、ガス供給系２５９から供給されるプロセスガスを励起し、誘導結合によってプラズマを発生させる機能を有している。ここで、本実施形態では、アンテナ２５８として２ターンの構成を有する型を示している。或いは、１ターン型や２ターン以上を用いても良い。またアンテナ２５８は、ＲＦ電源２６１と電気的に接続されている。ＲＦ電源２６１は、高周波電力を供給して、アンテナ２５８がプラズマを発生させ、維持するための電力源となっている。

基板支持部２５５は金属電極であって、シートＫを載置してプラズマ処理を施すためのステージとなっている。この基板支持部２５５は、結合コンデンサー２５６を介して、ＡＣ（Alternating Current）バイアス電源２５７と電気的に接続されている。ＡＣバイアス電源２５７は、対向電極２５４と基板支持部２５５上のシートＫとの間に、ＤＣ（Direct Current）バイアスを発生させて、プラズマの励起状態を制御する機能を有している。結合コンデンサー２５６は、ＡＣバイアス電源２５７から供給される高周波電力を受けて、プラズマ中に発生するＤＣ電位を保持する機能を有している。

以上の通り、ＩＣＰ方式によるプラズマ処理装置２５０の構成について説明したが、プラズマ励起エネルギーとプラズマ引き込みエネルギーとを独立して扱える、他の方式によるプラズマ処理装置を適用しても良い。他の方式としては、例えば、ＥＣＲ（Electron Cyclotron Resonance：電子サイクロトロン共鳴）プラズマ処理装置、ＨＷＰ（Helicon Wave excited Plasma：ヘリコン波励起プラズマ）処理装置などが挙げられる。

また、本実施形態では、被記録媒体として単票のシートＫを用いたが、これに限定されない。例えば、ロール状の被記録媒体を適用してもよい。

＜吐出計測機構＞
本実施形態に係わる吐出計測機構の構成について、図８および図９を参照して説明する。図８は、吐出計測機構の構成を示す概略斜視図である。図９は、吐出計測機構の、主走査方向から見た配置を示す概略断面図である。

図８に示すように、本実施形態の吐出計測機構６０は、キャリッジ８、シート搬送機構２０ａ、ヘッド移動機構３０、撮像部６２、移動台６５などを備えている。吐出計測機構６０は、キャリッジ８に搭載されたインクジェットヘッド５０から、インクをシートＫ上に液滴Ｄとして吐出し、シートＫ上に着弾して生じた着弾痕を撮像部６２によって撮像して、着弾痕の面積を計測する機構である。

この吐出計測機構６０は、ヘッド移動機構３０によってキャリッジ８を副走査方向（Ｙ軸方向）へ移動させ、シート搬送機構２０ａによって移動台６５を主走査方向（Ｘ軸方向）へ移動させる機能を有している。シート搬送機構２０ａは、一対のガイドレール２１と、一対のガイドレール２１に沿って移動する移動台６５と、移動台６５上においてシートＫを載置するステージ５などを有している。

移動台６５は、ガイドレール２１の内部に設けられたエアスライダーおよびリニアモーター（共に図示せず）により主走査方向（Ｘ軸方向）に移動される。この移動台６５には、タイミング信号生成部としてのエンコーダー（図示せず）が設けられている。エンコーダーは、移動台６５の主走査方向（Ｘ軸方向）への相対移動に伴って、ガイドレール２１に併設されたリニアスケール（図示せず）の目盛を読み取って、タイミング信号としてのエンコーダーパルスを生成する。駆動にはサーボモーターなどが用いられる。また、ステージ５はシートＫを吸着して固定する機能を有している。この搬送系の構成により、シートＫはキャリッジ８と対向して配置されることが可能となっている。

ヘッド移動機構３０は、一対のガイドレール３１と、一対のガイドレール３１に沿って移動するキャリッジ支持部３２と、を備えている。キャリッジ支持部３２には、キャリッジ８が取り付けられている。キャリッジ８には、ヘッドユニット９が取り付けられている。このヘッドユニット９には、複数のインクジェットヘッド５０が搭載されている。ここで、ヘッドユニット９は、キャリッジ支持部３２がキャリッジ８を副走査方向（Ｙ軸方向）へ移動させることで、シートＫに対向して配置される構成となっている。

シートＫは、インクの着弾面に受容層が形成されている。例えば、透明フィルムやサイネージ用の白色メディア（不透明）などが用いられる。本実施形態では、シートＫとしてピクトリコＴＰＷ−１００（株式会社ピクトリコ製）を用いている。ＴＰＷ−１００は、多孔質を有する空隙型のインク受容層と、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂製の基材（ベースフィルム）とを有する、厚さ約１４５μｍの水系インクジェットインク向け製版用透明フィルムである。このＴＰＷ−１００を用いればインクの着弾痕が白く変色するため、色材を含まないインク（液状体）でも吐出評価が可能となっている。

図９に示すように、照明部６１は光源と、光源から発せられる光を所定の方向に集光させる集光手段とを備えている。光源としては、例えば、ハロゲンランプやキセノンランプなどが用いられる。また、集光手段とは、例えば反射板（鏡）や集光レンズである。この照明部６１は、Ｙ軸方向において、一対のガイドレール２１の間に配置され、移動台６５に対して光源からの光を照射可能な構成となっている。照明部６１に対応する移動台６５の部位には、移動台６５を貫通する開口部６５ａが形成されている。透明なステージ５は、開口部６５ａを塞ぐように移動台６５上に配置されている。つまり、照明部６１は、移動台６５と透明なステージ５とを介して、ステージ５上に載置されたシートＫに対して、背面側から照らす構成となっている。
なお、シートＫとして不透明なメディアを用いる場合には、被記録媒体を上方側から照らすための他の照明部を備えてもよい。

撮像部６２は、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子を備えており、照明部６１の上方の、照明部６１に対向する位置に配置されている。この撮像部６２は、画像処理部６３およびモニター６４に電気的に接続されている。画像処理部６３は、撮像部６２によって撮像された画像の画像処理や解析などを行う機能を有している。モニター６４には、撮像部６２によって撮像された画像、画像処理結果などの情報を表示することができる。このモニター６４として、例えば、液晶表示装置などを用いることができる。

次に、本実施形態に係わるインクジェットヘッドについて、図１０を参照して説明する。図１０は、インクジェットヘッドの構成を示す概略斜視図である。

図１０に示したインクジェットヘッド５０は、上述したようにヘッドユニット９に搭載されている。このインクジェットヘッド５０は、ノズル列５２ａ，５２ｂが２列配置された、所謂２連型の構成となっている。このインクジェットヘッド５０は、２連の接続針５４を有するインクの導入部５３、導入部５３に積層されたヘッド基板５５、ヘッド基板５５上に配置され、内部にインクのヘッド内流路が形成されたヘッド本体５６、などを備えている。接続針５４は、インク供給機構（図示せず）に配管を経由して接続され、インクをヘッド内流路に供給する機能を有している。ヘッド基板５５には、２連のコネクター５８が設けられている。このコネクター５８は、フレキシブルフラットケーブル（図示せず）を介して、ヘッドドライバー（図示せず）とインクジェットヘッド５０とを接続するための端子となっている。

ヘッド本体５６は、駆動手段（アクチュエーター）としての圧電素子で構成された、キャビティを有する加圧部５７、ノズル面５１ａに２つのノズル列５２ａ，５２ｂが相互に平行に形成されたノズルプレート５１などを備えている。

次に、本実施形態のノズル面５１ａにおける複数のノズル５２の配置状態について、図１１を参照して説明する。図１１は、本実施形態に係わるインクジェットヘッドの、ノズル面におけるノズル配置状態を示す平面図である。

図１１に示すように、ノズル面５１ａは、インクを液滴として吐出するための、複数のノズル５２を有している。このノズル５２は列状に並んで配置され、それぞれノズル列５２ａ，５２ｂを形成している。このとき、ノズル列５２ａ，５２ｂの各列において、ノズル５２はピッチＰ１で略等間隔に１８０個が配列されている。ここで、ノズル列５２ａとノズル列５２ｂとは、互いにピッチＰ１の半分のピッチＰ２ずれた状態で、ノズル面５１ａに配置されている。本実施形態においては、ピッチＰ１は約１４１μｍであるため、２つのノズル列５２ａ，５２ｂによって構成されたノズル列５２ｃに直交する方向から見ると、３６０個のノズル５２が約７０．５μｍのノズルピッチで配列した状態となっている。また、ノズル５２は円形であって、その直径は２７μｍとしている。

インクジェットヘッド５０は、ヘッドドライバー（図示せず）からヘッド内の圧電素子に駆動信号（電気信号）が印加されると、圧電素子の変形によって加圧部５７のキャビティに体積変化が生じ、これによるポンプ作用でキャビティ内に充填されたインクが加圧されて、ノズル５２からインクを液滴として吐出する機能を有している。
ここで、インクジェットヘッド５０のノズル５２ごとに設置される駆動手段（アクチュエーター）は、圧電素子に限定されない。例えば、アクチュエーターとしての振動板を静電吸着により変位させる電気機械変換素子や、加熱によって生じる気泡によって液状体を液滴として吐出させる電気熱変換素子を用いてもよい。

＜吐出量の評価方法＞
本実施形態に係わるインク（液滴）の吐出量の評価方法について、図１２、図１３、図１４を参照して説明する。図１２、図１３、図１４は、本実施形態に係わる吐出量の評価方法を示す概略断面図である。

本実施形態の吐出量の評価方法は、図１２に示すインク吐出工程と、図１４に示す着弾面積を計測する計測工程とを含んでいる。

まず、インク吐出工程では、図１２に示すようインクジェットヘッド５０の複数のノズル５２から、所定量のインクを液滴Ｄとして、シートＫに向って吐出する。このシートＫは、ベースフィルム７１、ベースフィルム７１の表面に形成され、着弾した液滴を浸透させる受容層７２など備えている。シートＫにおいて、受容層７２が形成されている面を表面、その反対側を裏面とする。即ち、インク吐出工程では、インクジェットヘッド５０をシートＫの表面側に対向して配置し、液滴Ｄが受容層７２の表面に着弾する構成としている。
ここで、上記液滴Ｄの吐出は、インクジェットヘッド５０とシートＫとを主走査方向に相対移動させながら、つまり主走査させながら行われる。このとき、複数のノズル５２において、所定の吐出タイミングで、同一ノズルから複数の液滴Ｄを繰り返し吐出させる。

次いで、図１３に示すように、液滴ＤはシートＫの受容層７２に着弾する。着弾した液滴Ｄは、受容層７２の表面を濡れ広がると同時に、受容層７２内部に一部が浸透して着弾痕７５を形成する。上述したように、インクジェットヘッド５０とシートＫとを相対移動（主走査）させることによって、着弾痕７５は、吐出回数だけ主走査方向に複数回現れ、吐出されたノズル５２の数だけ副走査方向に現れることになる。

続く計測工程では、図１４に示すように、照明部６１によりシートＫを裏面側から照らして、着弾痕７５を撮像部６２によって撮像し、着弾痕画像を得る。上述した方法で撮像した着弾痕画像を図１５（光学顕微鏡写真）に示す。図１５において、略円形状に視認されるものの１つ１つが、１ドットの着弾痕７５である。（図１５では着弾痕７５の部分が明るく表示され、それ以外が暗く表示されるように画像処理が施されている。）

次に、画像解析によって、着弾痕画像の着弾面積を求める。具体的には、着弾痕画像における、コントラスト変化が最も急峻な部分を輪郭（境界）と定義する、エッジ勾配法を用いている。これによって、着弾痕画像を円フィッティングして着弾面積を算出している。ここで、着弾痕７５に形状の歪みや輪郭の滲み（不鮮明な箇所）がある場合は、着弾痕画像の円フィッティングにおいて、歪みや滲みも含めて真円形に近似されてしまうため、誤差や検出エラーが発生し易くなる。即ち、吐出評価においては、着弾痕７５を真円形に近付けて、それらの誤差や検出エラーの発生を抑制する必要がある。また、シートＫ表面の汚れや異物も検出エラーの要因となるため、表面の清浄性も必要である。

また、着弾面積と吐出されたインクの吐出量との間には、相関関係が成り立つことが判っている。そこで、予め実験により、着弾面積と１ドットあたりのインク吐出量との相関グラフを作成し、回帰式を求めておく。この回帰式により、着弾面積からノズル５２ごとに吐出されるインク吐出量を推量することができる。

さらに、複数の着弾痕７５について、個々のノズル５２ごとに着弾面積を計測する。そして、それらの計測結果から、例えば複数の着弾痕７５の着弾面積の平均値を算出して、この平均値からノズル５２の吐出量とそのばらつきとを推量する。このような着弾面積の計測を、複数のノズル５２の個々のノズルについて実施して、液滴Ｄの吐出状態を評価する。

次に、液滴Ｄとして吐出されるインクについて説明する。
液滴Ｄとして吐出されるインクは、有機ＥＬ素子１３０の機能層１３６を形成するためのインクを用いることができる。このインクは、溶媒と、有機層形成材料としての機能層形成材料（固形分）とを含んでいるが、色材を含まないため透光性を有している。ここで透光性を有するとは、可視光透過率が７０％以上の液状体である。溶媒は１種類または２種類以上を併用することができる。また、上述した機能層形成工程において、液滴Ｄの乾燥時間を確保して機能層の平坦さを向上させるため、沸点が約２００℃以上の溶剤を選択している。溶媒としては、例えば、エチレングリコール、シクロヘキシルベンゼン、１，４−ジメチルナフタレン、３−フェノキシトルエン、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、ｏ−トルニトリル、ｎ−オクチルベンゼン、２−イソプロピルナフタレンなどが挙げられる。

機能層形成材料としては、正孔注入層材料、正孔輸送層材料、発光層材料が挙げられる。正孔注入層材料として、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）などのポリチオフェン誘導体に、ドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）や、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などが挙げられる。正孔輸送層材料としては、例えば、トリフェニルアミン系ポリマーを含む成分などが挙げられる。発光層材料としては、例えば、赤色、緑色、青色の発光が得られるポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ＰＥＤＯＴなどのポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）、などが挙げられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンなどの低分子材料を配合しても良い。

ここで、機能層形成工程において、液滴Ｄの濡れ広がりを確保して、機能層形成領域における液滴Ｄの被覆性を向上させるため、２３℃におけるインクの粘度は１０ｍＰａ・ｓ（秒）以下であることが好ましい。上記粘度が１０ｍＰａ・ｓを超えると、機能層形成領域における液滴Ｄの濡れ広がりが縮小し、被覆性が低下すると共に、機能層の膜厚が不均一となる場合がある。また、２３℃におけるインクの粘度は、１ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましい。上記粘度が１ｍＰａ・ｓ未満となると、インクジェットヘッド５０からの液滴Ｄの吐出安定性が低下する傾向がある。より好ましくは、２３℃におけるインクの粘度は、２ｍＰａ・ｓ以上、９ｍＰａ・ｓ以下である。インクの粘度をこの範囲とすることにより、液滴Ｄの濡れ広がりを確保した上で、吐出安定性をより安定に保つことができる。さらに好ましくは、３ｍＰａ・ｓ以上、８ｍＰａ・ｓ以下である。

なお、インクの粘度測定には粘弾性試験機ＭＣＲ３０２（Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社製）を用い、インク温度を２３℃に調整して測定している。具体的には、Ｓｈｅａｒ Ｒａｔｅを１０から１０００に順次上げていき、Ｓｈｅａｒ Ｒａｔｅが２００のときの粘度を読み取り測定することができる。

本実施形態では、液滴Ｄとして吐出されるインクとして、発光層形成用インクを用いている。このインクは、ＰＦが約０．７質量％配合され、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを用い、２３℃の粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下に調整されている。

また、吐出評価に用いるインクは、必ずしも機能層形成用インクである必要はなく、上述した粘度の範囲内であれば、上記の溶剤の１種または２種以上の組み合わせであってもよい。例えば機能層形成材料を含まず、固形分濃度が殆どない液状体であっても、受容層７２に着弾した液滴Ｄの一部が浸透するため、液滴Ｄの乾燥および着弾痕７５の形成が速やかに進行する。従って、溶剤のみで構成された液状体や、機能層形成材料の含有量を削減したインクなどを用いることもできる。

以上に述べたように、本実施形態に係わる液状体の吐出評価方法および吐出評価機構によれば、以下の効果を得ることができる。
本実施形態の吐出評価方法および吐出評価機構３１０によれば、インクジェットヘッド５０から吐出されたインクの吐出量について、ばらつきを抑えて計測、取得することができる。詳しくは、受容層７２が形成されたシートＫにプラズマ処理を施すことにより、受容層７２の表面の均一性が向上して、液滴Ｄの着弾状態が安定する。そのため、着弾痕７５の形状の歪みが抑えられ、また輪郭が鮮明となり、着弾痕７５の形状がより真円形に近いものとなる。これにより、着弾痕画像の画像解析における誤差や検出エラーの発生を低減して、吐出評価の精度を向上させることができる。即ち、吐出評価に用いる被記録媒体としてのシートＫにおいて、液滴Ｄの着弾状態のばらつきを抑える吐出評価方法および吐出評価機構を提供することができる。

また、従来技術では吐出評価用の被記録媒体を作製して評価に用いていたが、本実施形態によれば、プラズマ処理を施すことで、受容層を有する市販のフィルムを適用することができる。これは、プラズマ処理が市販品の製造ロットや部位のばらつきを減少させるためである。これにより、吐出評価に要する時間やコストを低減することができる。さらに、吐出評価機構３１０によれば、プラズマ処理から吐出評価までをインラインで実行できるため、被記録媒体としてのシートＫの汚れや異物の付着が抑えられ、吐出情報のばらつきをより低減することができる。

また、プラズマ処理時のプロセスガスの種類を使い分けることで、受容層７２の表面にインクに対する親液性や疎液性を付与することが可能になる。これにより、例えば２３℃のインク粘度が、約２ｍＰａ・ｓや約９ｍＰａ・ｓであっても、受容層への浸透と濡れ広がりとを調整して吐出評価を実施することができる。さらに、機能層形成材料を減量したインクや、溶剤単体でも吐出評価が可能であるため、高価な機能層形成材料の使用量を抑制して、吐出評価にかかるコストを低減できる。
以上により、ばらつきを抑えた吐出情報の取得が可能であり、コストを低減した、液状体の吐出評価方法および吐出評価機構を提供することができる。

なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。

（実施例）
以下、本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明する。

＜プラズマ処理＞
上述したＴＰＷ−１００を、一辺が１００ｍｍの正方形に切り出してシートＫとした。このシートＫに対して、吐出評価機構３１０のプラズマ処理装置２５０用いて、プラズマ処理回数を振ってプラズマ処理を施した。実施例１から実施例４について、プラズマ処理条件を図１６に示す。

（実施例１〜実施例４）
実施例１では、シートＫの受容層７２に疎液性を付与するプロセスガスとしてＣＦ₄を用いた。プラズマ処理装置２５０の処理条件は、ガス流量を１００ｍｌ／分、プラズマ出力を３００ｋＷ、パルスを７００、処理時間を１５秒、温度を２２℃として、プラズマ処理を１回実施した。実施例２では、実施例１と同条件にて、プラズマ処理回数を２回とした。実施例３では、実施例１と同条件にて、プラズマ処理回数を５回とした。実施例４では、シートＫの受容層７２に親液性を付与するプロセスガスとして酸素を用いた他は、プラズマ処理装置２５０の処理条件を実施例１と同様にし、プラズマ処理を１回実施した。

（比較例１）
比較例１は、実施例１から実施例４で使用したものと同一ロットのＴＰＷ−１００を用い、同形状に切り出してシートＫとした。比較例１ではプラズマ処理を実施せずに、そのまま吐出評価へ進んだ。

＜吐出評価＞
まず、上述した着弾面積と１ドットあたりのインク吐出量との相関グラフを作成するため、予備実験を行った。
実施例２の条件にてプラズマ処理を施したシートＫに対して、吐出評価機構３１０における吐出計測機構６０を用いて、上述した実施形態１のインクを液滴Ｄとして複数のノズル５２から吐出し、着弾させた。このとき、液滴Ｄの１ショットの狙いインク吐出量を１０．０ｎｇとし、３ショットを４パス実施して着弾痕７５を形成させた。ここで、着弾痕７５の１ドットは１２ショット（３ショットの４パス分）の重ね打ちで形成され、液滴Ｄの合計インク吐出量の狙い値は、１２０ｎｇ（１０ｎｇの１２ショット分）となる。また、上述した液滴吐出装置３００のインク質量計測機構を用いて、このときの実際のインク吐出量を計測した。詳しくは、ノズル５２毎に１２ショットのｎ倍分の吐出を行い、計測された総インク吐出量をｎで除して、１ドットあたりの実際のインク吐出量を求めた。次いで、液滴Ｄの１ショットの狙いインク吐出量を、９．５ｎｇ、１０．５ｎｇ、１１．０ｎｇと変え、上記と同様にそれぞれの実際のインク吐出量を求めた。

次に、狙いインク吐出量を上述した９．５ｎｇから１１．０ｎｇまで変えた各条件にて、液滴ＤがシートＫに形成した着弾痕７５の着弾面積を、吐出計測機構６０を用いて計測した。この着弾面積をＸとし、インク質量計測機構によって求めた上記の実際のインク吐出量をＹとして、グラフにプロットしたものが検量線を示す図１７である。これにより、着弾面積Ｘに対する、１ドットあたりのインク吐出量Ｙの回帰式Ｙ＝０．０２１Ｘ−３０．１３２を算出した。

次に、実施例１から実施例４および比較例１の各水準のシートＫに対して、１ドットあたりのインク吐出量狙い値を１２０ｎｇ（１ショット１０ｎｇの３ショット、４パス分）として、複数のノズル５２から吐出して着弾痕７５を形成させた。

複数の着弾痕７５が形成されたシートＫについて、吐出計測機構６０を用いて複数の着弾画像を撮像し、画像処理を実行した。このとき、画像処理における検出エラーの発生率および着弾面積のばらつきを調査した。画像処理に供した着弾痕７５の数は、各実施例および比較例１について各６４００点とした。ここで、検出エラーは、着弾痕７５のエッジが不鮮明で着弾痕７５として認識できないドットや、周辺の埃などを着弾痕７５として誤認識したドットなどの点数を計数して百分率で示している。また、着弾面積のばらつきの算出方法としては、各実施例および比較例１のそれぞれにおいて、着弾痕７５の着弾面積の平均値を算出する。この着弾面積の平均値に対して、±５％以内を規格範囲とし、この規格からはずれた着弾痕７５の点数の百分率を着弾面積のばらつきを示す指標値とした、

以上の操作を実施例１から実施例４および比較例１について実施し、その結果を吐出評価実験の結果として図１８に示した。

＜吐出評価実験の結果＞
図１８の結果に示すように、プラズマ処理を実施した実施例１から実施例４によれば、シートＫ表面の均一性が向上して着弾状態が安定し、検出エラーおよび着弾面積のばらつきを抑制できることが判った。一方、プラズマ処理を実施しなかった比較例１では、検出エラーおよび着弾面積のばらつき（着弾面積の規格はずれ）が発生しており、実施例１から実施例４と比較して劣る結果となった。
なお、本実施例では検出エラーおよび着弾面積のばらつきを評価したが、実用途においては、上述した回帰式を用いて着弾面積からインク吐出量を求め、別途測定した機能層の膜厚データなどと比較して、インク吐出量を含む吐出条件の調整や最適化を実施する。

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う吐出評価方法および吐出評価機構ならびに該吐出評価機構を適用する液滴吐出装置もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）
上記実施形態では、吐出評価機構３１０により液滴Ｄの着弾痕７５を撮像して計測することにより、１ドットの吐出量や吐出量のばらつきを求めたが、１つの液滴Ｄを吐出させて着弾痕７５を形成し、所定の吐出位置に対する着弾痕７５の位置を計測することで、液滴Ｄの吐出情報として吐出位置精度を入手することもできる。

２０ａ，２０ｂ…シート搬送機構、５０…インクジェットヘッド、５２…ノズル、６０…吐出計測機構、７２…受容層、１００…有機ＥＬ装置、１３０…有機ＥＬ素子、１３６…機能層、１５０，１６０，１７０…インク、２５０…プラズマ処理装置、３００…液滴吐出装置、３１０…吐出評価機構、Ｄ…液滴、Ｋ…シート。

Claims (9)

1. 受容層が形成されたシートに対してプラズマ処理を施す工程と、
   前記プラズマ処理が施された前記シートに対して、インクジェットヘッドの複数のノズルから液状体を液滴として吐出する工程と、
   前記受容層に着弾した前記液滴の着弾状態を計測する工程と、
   前記着弾状態の計測結果から前記液滴の吐出情報を取得する工程と、を含むことを特徴とする液状体の吐出評価方法。
2. 前記吐出情報が、前記液滴の吐出量を含むことを特徴とする、請求項１に記載の液状体の吐出評価方法。
3. 前記液状体が、透光性を有し、２３℃における粘度が１ｍＰａ・ｓ（秒）以上、１０ｍＰａ・ｓ（秒）以下であることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の液状体の吐出評価方法。
4. 前記液状体が有機層形成材料を含むことを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の液状体の吐出評価方法。
5. 前記プラズマ処理を施すことにより、前記液状体に対して前記受容層表面に疎液性を付与することを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の液状体の吐出評価方法。
6. 前記プラズマ処理を施すことにより、前記液状体に対して前記受容層表面に親液性を付与することを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の液状体の吐出評価方法。
7. 前記受容層が、着弾した前記液滴の少なくとも一部を浸透させることを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の液状体の吐出評価方法。
8. 前記受容層が多孔質であって、前記シートが透明フィルムであることを特徴とする、請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の液状体の吐出評価方法。
9. 受容層が形成されたシートに対して、インクジェットヘッドの複数のノズルから液状体を液滴として吐出し、前記液滴の吐出状態を前記ノズルごとに評価する、液状体の吐出評価機構であって、
   前記インクジェットヘッドに対して前記シートを対向配置させるシート搬送系と、
   前記シートの前記受容層にプラズマ処理を施すプラズマ処理系と、
   前記シートの前記受容層に着弾した前記液滴の状態を計測する計測系と、を備えたことを特徴とする、液状体の吐出評価機構。

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