JP2017037096A - Method for manufacturing scintillator array - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、放射線検出器等に用いるシンチレータアレイを高精度で効率良く製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for efficiently and efficiently manufacturing a scintillator array used in a radiation detector or the like.
放射線検査装置の一つにコンピュータ断層撮影装置[Computed Tomography(CT)装置]がある。CT装置は、X線ファンビームを放射するX線管と、多数の放射線検出素子を併設した放射線検出器とを有する。X線管と放射線検出器は、測定対象を中心にして対向するように配置される。X線管から放射されたX線ファンビームは測定対象を透過し、放射線検出器で検出される。1回の照射ごとに照射角度を変えてX線吸収データを収集し、コンピュータ解析により測定対象の断層面における個々の位置のX線吸収率を算出し、X線吸収率に応じた画像を構成する。放射線検出器として、シンチレータアレイ及びシリコンフォトダイオードを組合せた検出器、又はシンチレータアレイ及び光電子増倍管を組合せた検出器が用いられている。 One of the radiation examination apparatuses is a computed tomography apparatus (Computed Tomography (CT) apparatus). The CT apparatus has an X-ray tube that emits an X-ray fan beam and a radiation detector that is provided with a large number of radiation detection elements. The X-ray tube and the radiation detector are arranged so as to face each other with the measurement object as the center. The X-ray fan beam emitted from the X-ray tube passes through the measurement object and is detected by the radiation detector. Collect X-ray absorption data by changing the irradiation angle for each irradiation, calculate the X-ray absorption rate at each position on the tomographic plane to be measured by computer analysis, and construct an image according to the X-ray absorption rate To do. As a radiation detector, a detector combining a scintillator array and a silicon photodiode, or a detector combining a scintillator array and a photomultiplier tube is used.
このようなシンチレータアレイの製造方法として、特開2000−241554号は、発光部を粘着シートの上に設置し、発光部を囲むように型枠を粘着シート上に設け、ルチル型酸化チタン粉末を含有するエポキシ樹脂からなる光反射層用樹脂を型枠内に流し込んで発光部を樹脂で被覆し、紫外線照射により樹脂を硬化させ、粘着シート及び型枠を取り除いた後、機械加工により所定の形状のシンチレータアレイとする方法を開示している。しかし、粘着シートを剥がすために溶解工程及び洗浄工程を要するので、工数が多いという問題がある。 As a method for manufacturing such a scintillator array, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-241554 discloses that a light emitting part is placed on an adhesive sheet, a mold is provided on the adhesive sheet so as to surround the light emitting part, and a rutile type titanium oxide powder is used. Pour the resin for light reflection layer made of epoxy resin into the mold and coat the light emitting part with resin, cure the resin by UV irradiation, remove the adhesive sheet and mold, and then machine the predetermined shape A method of making a scintillator array is disclosed. However, since a melting step and a washing step are required to peel off the pressure-sensitive adhesive sheet, there is a problem that the number of steps is large.
特開2004−3970号は、ルチル型酸化チタンを含有するポリエステル樹脂で櫛歯状シンチレータウェファーを被覆した後、紫外線照射により樹脂を硬化させて光反射材を形成する方法を開示している。樹脂が流出しないようにシンチレータウェファーの周囲に堰を設ける。しかし、この方法では、櫛歯状シンチレータウェファーを固定する粘着シートを用いていない。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-3970 discloses a method of forming a light reflecting material by coating a comb-like scintillator wafer with a polyester resin containing rutile-type titanium oxide and then curing the resin by ultraviolet irradiation. A weir is provided around the scintillator wafer so that the resin does not flow out. However, this method does not use an adhesive sheet for fixing the comb-like scintillator wafer.
特開平4−273087号は、型枠内の粘着シート上にシンチレータ基板を所定の間隙で配置し、型枠に光反射材用液状樹脂を入れることによりシンチレータ基板の間隙に光反射材用液状樹脂を流入させ、液状樹脂の硬化後、粘着シートを除去するシンチレータアレイの製造方法を開示している。しかし、粘着シート上で樹脂が硬化すると、粘着シートの剥離に溶解工程及び洗浄工程を要し、工数が増えるという問題がある。 Japanese Patent Laid-Open No. 4-273087 discloses that a scintillator substrate is disposed on a pressure-sensitive adhesive sheet in a mold with a predetermined gap, and a liquid resin for a light reflecting material is placed in the mold to provide a liquid resin for a light reflecting material in the gap of the scintillator substrate. And a scintillator array manufacturing method in which the adhesive sheet is removed after the liquid resin is cured. However, when the resin is cured on the pressure-sensitive adhesive sheet, there is a problem that a peeling process and a washing process are required for peeling off the pressure-sensitive adhesive sheet, which increases the number of steps.
特開2000−98041号は、発光層を第一の感紫外線性接着フィルムに貼り着け、レーザーにより発光層に接着フィルムに達する格子状の溝を形成し、第一の接着フィルムと反対側の発光層の面に第二の接着フィルムを貼り着け、紫外線により第一の接着フィルムを除去し、発光層の少なくとも1つの表面に光検出器への光伝達を良くするための表面処理を行うことからなる放射線検出器の製造方法を開示している。しかし、この方法には第二の接着フィルムを支持する部材がない。第二の接着フィルムが撓むと、樹脂被覆工程の前では溝で分離した発光層は位置ずれを起こしやすい。 Japanese Patent Laid-Open No. 2000-98041 discloses that a light emitting layer is attached to a first UV-sensitive adhesive film, a lattice-like groove reaching the adhesive film is formed in the light emitting layer by a laser, and light emission on the side opposite to the first adhesive film Since the second adhesive film is attached to the surface of the layer, the first adhesive film is removed by ultraviolet rays, and surface treatment is performed on at least one surface of the light emitting layer to improve light transmission to the photodetector. The manufacturing method of the following radiation detector is disclosed. However, this method does not have a member for supporting the second adhesive film. When the second adhesive film is bent, the light emitting layer separated by the groove is likely to be displaced before the resin coating step.
特開2003−14852号は、シンチレータと半導体光検出素子とを積層した放射線検出器を複数個並べた多チャンネル放射線検出器の製造方法において、保持シートにシンチレータウェファの一面を貼り付け、シンチレータウェファを保持シートに貼り付けたままシンチレータウェファを所定幅にスライスして間隙を設け、スライスしたシンチレータ上にルチル型酸化チタン及び樹脂を含有する白色混合物を注ぎ、前記間隙及びシンチレータの周囲に充填した後、樹脂を硬化させ、複数個のシンチレータを白色混合物で一体化し、一体化した複数個のシンチレータを所定寸法に加工し、その一面にルチル型酸化チタンと樹脂とからなる光反射層を貼り付け、反対側の面に半導体光検出素子を貼り付ける方法を開示している。保持シートとして発泡シートを用いている。しかし、発泡シート上で樹脂が硬化すると、粘着シートの剥離に溶解工程及び洗浄工程を要し、工数が増えるという問題がある。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-14852 is a method of manufacturing a multi-channel radiation detector in which a plurality of radiation detectors in which a scintillator and a semiconductor light detection element are stacked, and one surface of the scintillator wafer is attached to a holding sheet. Slicing the scintillator wafer to a predetermined width while being attached to the holding sheet, providing a gap, pouring a white mixture containing rutile titanium oxide and resin on the sliced scintillator, and filling around the gap and the scintillator, Resin is cured, multiple scintillators are integrated with a white mixture, multiple integrated scintillators are processed to the specified dimensions, and a light-reflective layer composed of rutile titanium oxide and resin is applied to one side, opposite A method of attaching a semiconductor photodetecting element to the side surface is disclosed. A foam sheet is used as the holding sheet. However, when the resin is cured on the foamed sheet, there is a problem that a peeling process and a cleaning process are required for peeling off the pressure-sensitive adhesive sheet, which increases the number of steps.
従って本発明の目的は、シンチレータアレイを高精度で効率良く製造する方法を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a scintillator array with high accuracy and efficiency.
本発明のシンチレータアレイの製造方法は、シンチレータ基板を、少なくとも前記シンチレータ基板との接着面が紫外線剥離型である両面粘着シートを介して支持プレートに固定し、前記シンチレータ基板に格子状の溝を形成して複数のシンチレータセルを有する格子状溝付きシンチレータ基板を形成し、前記格子状溝に反射材用液状硬化性樹脂を充填し、前記液状硬化性樹脂を加熱硬化させることによりシンチレータセル樹脂硬化体を形成し、次いで紫外線照射により前記シンチレータセル樹脂硬化体から前記両面粘着シートを剥離する工程を有することを特徴とする。 The scintillator array manufacturing method of the present invention fixes a scintillator substrate to a support plate through a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet that has at least an adhesive separation surface with the scintillator substrate, and forms lattice-like grooves in the scintillator substrate. A scintillator cell resin cured body is formed by forming a lattice-shaped grooved scintillator substrate having a plurality of scintillator cells, filling the lattice-shaped grooves with a liquid curable resin for a reflective material, and heat-curing the liquid curable resin. And then peeling the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet from the cured scintillator cell resin by ultraviolet irradiation.
本発明の第一の実施形態によるシンチレータアレイの製造方法は、シンチレータ基板を、少なくとも前記シンチレータ基板との接着面が紫外線剥離型である両面粘着シートを介して支持プレートに固定し、前記シンチレータ基板に前記両面粘着シートに達する格子状の貫通溝を形成して複数のシンチレータセルを有する貫通溝付きシンチレータ基板を形成し、前記貫通溝に反射材用液状硬化性樹脂を充填し、前記液状硬化性樹脂を加熱硬化させることによりシンチレータセル樹脂硬化体を形成し、次いで紫外線照射により前記シンチレータセル樹脂硬化体から前記両面粘着シートを剥離する工程を有することを特徴とする。 In the method of manufacturing a scintillator array according to the first embodiment of the present invention, a scintillator substrate is fixed to a support plate via a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet that has at least an adhesive surface with the scintillator substrate, and is attached to the scintillator substrate. A lattice-shaped through groove reaching the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is formed to form a through-grooved scintillator substrate having a plurality of scintillator cells, and the liquid curable resin for reflective material is filled in the through-groove, and the liquid curable resin It is characterized by having a step of forming a scintillator cell resin cured body by heat curing and then peeling the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet from the cured scintillator cell resin by ultraviolet irradiation.
本発明の第二の実施形態によるシンチレータアレイの製造方法は、シンチレータ基板を、少なくとも前記シンチレータ基板との接着面が紫外線剥離型である両面粘着シートを介して支持プレートに固定し、前記シンチレータ基板に格子状の未貫通溝を形成することにより、シンチレータ基板に残留する連結部により複数のシンチレータセルが一体化された形状の格子状未貫通溝付きシンチレータ基板を形成し、前記未貫通溝に反射材用液状硬化性樹脂を充填し、前記格子状溝に充填した前記液状硬化性樹脂の加熱硬化後に前記連結部を除去する工程を有することを特徴とする。 The scintillator array manufacturing method according to the second embodiment of the present invention fixes a scintillator substrate to a support plate through a double-sided adhesive sheet having an ultraviolet peeling type adhesive surface with at least the scintillator substrate, and attaches the scintillator substrate to the scintillator substrate. By forming a grid-like non-penetrating groove, a scintillator substrate with a grid-like non-penetrating groove having a shape in which a plurality of scintillator cells are integrated by a connecting portion remaining on the scintillator substrate is formed, and a reflecting material is formed in the non-penetrating groove It is characterized by having a step of filling the liquid curable resin for use and removing the connecting part after heat curing of the liquid curable resin filled in the lattice grooves.
第二の実施形態では、格子状未貫通溝付きシンチレータ基板を前記支持プレートから剥離してアニーリング処理をした後、再度、少なくとも前記シンチレータ基板との接着面が紫外線剥離型である両面粘着シートを介して支持プレートに固定するのが好ましい。 In the second embodiment, after peeling the scintillator substrate with lattice-shaped non-penetrating grooves from the support plate and performing an annealing treatment, the adhesive surface with at least the scintillator substrate is again passed through a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet having an ultraviolet release type. It is preferable to fix to the support plate.
本発明の第三の実施形態によるシンチレータアレイの製造方法は、シンチレータ基板に格子状の未貫通溝を形成することにより、複数のシンチレータセルが連結部で一体化された形状の格子状未貫通溝付きシンチレータ基板を形成し、少なくとも前記シンチレータ基板との接着面が紫外線剥離型である両面粘着シートを介して支持プレートに固定し、前記連結部を除去することにより格子状の貫通溝を有するシンチレータ基板を形成し、前記格子状貫通溝に反射材用液状硬化性樹脂を充填し、前記液状硬化性樹脂を加熱硬化させることによりシンチレータセル樹脂硬化体を形成し、次いで紫外線照射により前記シンチレータセル樹脂硬化体から前記両面粘着シートを剥離する工程を有することを特徴とする。 A method of manufacturing a scintillator array according to a third embodiment of the present invention includes a lattice-shaped non-penetrating groove having a shape in which a plurality of scintillator cells are integrated at a connecting portion by forming a lattice-shaped non-penetrating groove on a scintillator substrate. A scintillator substrate having a grid-like through groove is formed by fixing a scintillator substrate with a support plate via a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet having at least an adhesion surface with the scintillator substrate being an ultraviolet peeling type, and removing the connecting portion The lattice-shaped through grooves are filled with a liquid curable resin for a reflector, and the liquid curable resin is heated and cured to form a cured scintillator cell resin, and then the scintillator cell resin is cured by ultraviolet irradiation. It has the process of peeling the said double-sided adhesive sheet from a body, It is characterized by the above-mentioned.
第三の実施形態において、前記格子状未貫通溝付きシンチレータ基板を形成した後に、アニーリング処理を行なうのが好ましい。 In the third embodiment, it is preferable that an annealing process is performed after the scintillator substrate with grid-like non-penetrating grooves is formed.
第三の実施形態において、前記格子状未貫通溝付きシンチレータ基板を前記支持プレートの面方向に固定する大きさの開口部を有する治具を、前記支持プレートの上面外周部に取り付け、前記治具の開口部内の前記両面粘着シートに前記格子状未貫通溝付きシンチレータ基板を接着した後、前記格子状未貫通溝付きシンチレータ基板から前記連結部を研削により除去するのが好ましい。 In a third embodiment, a jig having an opening having a size for fixing the scintillator substrate with grid-like non-penetrating grooves in the surface direction of the support plate is attached to the outer periphery of the upper surface of the support plate, It is preferable that after the scintillator substrate with grid-like non-penetrating grooves is bonded to the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet in the opening, the connecting part is removed from the scintillator substrate with grid-like non-penetrating grooves by grinding.
前記シンチレータ基板を固定した前記支持プレートの側面全周に粘着シートの紫外線剥離型粘着面を貼付することにより前記支持プレートの上方に前記粘着シートを延出させ、前記粘着シートの上方延出部により形成された枠内に前記液状硬化性樹脂を流入させ、もって前記シンチレータセルの間隙に前記液状硬化性樹脂を充填するのが好ましい。また、前記支持プレートに貼付した前記両面粘着シートに、前記シンチレータ基板を包囲するように粘着シートで形成した枠を貼付し、前記枠内に前記液状硬化性樹脂を流入させても良い。前記枠を形成する前記粘着シートのうち、前記液状硬化性樹脂と接する側の粘着面は紫外線剥離型であるのが好ましい。 The adhesive sheet is extended above the support plate by affixing the UV peelable adhesive surface of the adhesive sheet to the entire periphery of the side surface of the support plate to which the scintillator substrate is fixed, and the upper extension portion of the adhesive sheet It is preferable that the liquid curable resin is caused to flow into the formed frame so that the liquid curable resin is filled in the gaps of the scintillator cells. Further, a frame formed of an adhesive sheet may be attached to the double-sided adhesive sheet attached to the support plate so as to surround the scintillator substrate, and the liquid curable resin may be allowed to flow into the frame. Of the pressure-sensitive adhesive sheet forming the frame, the pressure-sensitive adhesive surface on the side in contact with the liquid curable resin is preferably an ultraviolet peeling type.
いずれの実施形態による方法でも、前記シンチレータセル樹脂硬化体を両面研削することにより前記シンチレータセルが露出したシンチレータセルアレイを形成し、前記シンチレータセルアレイを両面粘着シート(少なくとも前記シンチレータ基板との接着面が紫外線剥離型である)を介して支持プレートに固定し、前記シンチレータセルアレイを反射材用液状硬化性樹脂で被覆し、前記液状硬化性樹脂を加熱硬化させることによりシンチレータセルアレイ樹脂硬化体を形成し、前記シンチレータセルアレイ樹脂硬化体の一面を研削することにより前記シンチレータセルを露出させるのが好ましい。 In any of the embodiments, the scintillator cell resin is cured on both sides to form a scintillator cell array in which the scintillator cell is exposed, and the scintillator cell array is formed on a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet (at least the adhesion surface with the scintillator substrate is an ultraviolet ray). The scintillator cell array is covered with a liquid curable resin for a reflector, and the liquid curable resin is heated and cured to form a scintillator cell array resin cured body, It is preferable to expose the scintillator cell by grinding one surface of the scintillator cell array resin cured body.
前記支持プレートは、紫外線透過性であることが好ましい。さらに好ましくは、粘着シートの液状硬化性樹脂と接する側の紫外線剥離型の粘着面に、100mJ/mm2以上の照射量で紫外線を照射できることである。 The support plate is preferably UV transmissive. More preferably, it is possible to irradiate ultraviolet rays with an irradiation amount of 100 mJ / mm 2 or more on the ultraviolet peelable pressure-sensitive adhesive surface of the pressure-sensitive adhesive sheet on the side in contact with the liquid curable resin.
前記支持プレートの面粗さRaは好ましくは10μm以下であり、より好ましくは0.01〜10μmであり、最も好ましくは0.1〜2μmである。 The surface roughness Ra of the support plate is preferably 10 μm or less, more preferably 0.01 to 10 μm, and most preferably 0.1 to 2 μm.
前記支持プレートの高さのばらつきは好ましくは100μm以下であり、より好ましくは0.01〜100μmであり、最も好ましくは0.1〜20μmである。 The variation in the height of the support plate is preferably 100 μm or less, more preferably 0.01 to 100 μm, and most preferably 0.1 to 20 μm.
前記シンチレータセルのアスペクト比は、好ましくは5以下であり、より好ましくは0.2〜5である。 The aspect ratio of the scintillator cell is preferably 5 or less, more preferably 0.2 to 5.
本発明の方法により、医療用CT装置や、手荷物検査用CT装置等に使用する放射線検出器を構成するためのシンチレータアレイを高精度で効率良く製造することができる。 According to the method of the present invention, a scintillator array for constituting a radiation detector used in a medical CT apparatus, a baggage inspection CT apparatus, or the like can be manufactured with high accuracy and efficiency.
本発明の実施形態を添付図面を参照して以下詳細に説明するが、本発明はそれらに限定されるものではない。各実施形態の説明は、特に断りがなければ他の実施形態にも当てはまる。 Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited thereto. The description of each embodiment is applicable to other embodiments unless otherwise specified.
本発明で用いるシンチレータとしては、例えばガドリニウムオキシサルファイド(GOS)又はガドリニウム−アルミニウム−ガリウムガーネット(GGAG)からなるシンチレータが挙げられる。GOSは例えばPr、Ce及びTbから選ばれた少なくとも1種で賦活したGd2O2Sの組成を有する。GGAGは、例えばCe、Pr等から選ばれた少なくとも1種で賦活した(Gd1−xLux)3+a(GauAl1−u)5−aO12(x=0〜0.5、u=0.2〜0.6、及びa=−0.05〜0.15)の主組成を有する。しかし、本発明は特定のシンチレータ組成に限定されるものではない。 Examples of the scintillator used in the present invention include a scintillator made of gadolinium oxysulfide (GOS) or gadolinium-aluminum-gallium garnet (GGAG). GOS has a composition of Gd 2 O 2 S activated by at least one selected from Pr, Ce and Tb, for example. GGAG is activated with at least one selected from, for example, Ce, Pr, etc. (Gd 1-x Lu x ) 3 + a (Ga u Al 1-u ) 5-a O 12 (x = 0 to 0.5, u = 0.2-0.6, and a = -0.05-0.15). However, the present invention is not limited to a specific scintillator composition.
[1] シンチレータアレイの製造方法
(1) 第一の実施形態
図1は第一の実施形態の製造方法を示すフローチャートである。まず、ベースフィルムの両面に第一及び第二の粘着面を備え、少なくとも第二の粘着面は紫外線剥離型粘着層であり、各粘着層がセパレータで被覆された紫外線剥離型両面粘着シートを準備する。紫外線剥離型粘着層は、所定の照射量の紫外線を照射すると発泡して粘着力が低下し、剥離されやすくなる粘着層である。第一の粘着面も、第二の粘着面と同じ照射量で発泡する紫外線剥離型粘着層であるのが好ましい。
[1] Manufacturing Method of Scintillator Array (1) First Embodiment FIG. 1 is a flowchart showing a manufacturing method of the first embodiment. First, a first and second adhesive surfaces are provided on both sides of a base film, at least a second adhesive surface is an ultraviolet peelable adhesive layer, and an ultraviolet peelable double sided adhesive sheet in which each adhesive layer is coated with a separator is prepared. To do. The ultraviolet peelable pressure-sensitive adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer that is foamed when exposed to a predetermined irradiation amount of ultraviolet light, and has a reduced adhesive strength and is easily peeled off. The first pressure-sensitive adhesive surface is also preferably a UV-peelable pressure-sensitive adhesive layer that foams at the same dose as the second pressure-sensitive adhesive surface.
図2に示すように、支持プレート30の上面を覆う広さの紫外線剥離型両面粘着シート30aの第一の粘着面からセパレータを剥離し、露出した第一の粘着面を支持プレート30の上面に貼り付ける(ステップA1)。次いで、紫外線剥離型両面粘着シート30aの第二の粘着面からセパレータを剥離し、第二の粘着面Fsに矩形板状のシンチレータ基板10の底面Faを貼り付ける(ステップA2)。このようにして、シンチレータ基板10は、紫外線剥離型両面粘着シート30aを介して支持プレート30に固定される。
As shown in FIG. 2, the separator is peeled from the first adhesive surface of the UV peelable double-sided pressure-
支持プレート30の上面(粘着シート30aを貼付する面)の算術平均粗さRa(JIS B0601−1994)は10μm以下が好ましい。Raが10μm超であると、各シンチレータセルと支持プレート30との距離が大きく変動し、シンチレータセルの厚さtを均一化するための研削量を多くしなければならない。Raの下限は0.01μm程度で良い。従って、支持プレート30の面粗さRaは10μm以下が好ましく、実用的には0.01〜10μmがより好ましく、0.1〜2μmが最も好ましい。また、支持プレートには、紫外線を透過するプレートを用いるのが好ましい。紫外線をある程度透過する材質であれば、硼珪酸ガラスや石英ガラスを用いることができる。特に波長200〜450nmにおける透過率が高く、面粗さの面からも、石英ガラスが最も好ましい。
The arithmetic average roughness Ra (JIS B0601-1994) of the upper surface of the support plate 30 (the surface on which the
シンチレータセルの厚さtを均一化するために、支持プレート30はさらに高さのばらつきができるだけ小さいのが好ましい。高さのばらつきは、基準面となる平坦な定盤の上に支持プレート30を置き、5箇所の任意の点で、基準面から支持プレート30の上面までの高さH1,H2,H3,H4,H5をダイヤルゲージで測定し、高さの平均値Havを求めたとき、各高さH1,H2,H3,H4,H5と平均高さHavとの差ΔH1,ΔH2,ΔH3,ΔH4,ΔH5のうちの最大の差ΔHmaxと定義する。ダイヤルゲージの代わりにレーザーを用いた3次元測定器で測定しても良い。
In order to make the thickness t of the scintillator cell uniform, it is preferable that the
支持プレート30の高さのばらつきは100μm以下であるのが好ましい。高さのばらつきが100μm超であると、各シンチレータセルと支持プレート30との距離が大きく変動し、シンチレータセルの厚さtの均一性を確保するための研削量が多くなる。実用的には、支持プレート30の高さのばらつきは0.01〜100μmがより好ましく、0.1〜20μmが最も好ましい。
The variation in the height of the
図3に示すように、切削用回転砥石(例えば、ダイヤモンド砥石)19を用いて、シンチレータ基板10に、粘着シート30aに達する深さの平行な複数の溝13bを縦横直交するように格子状に形成する(ステップA3)。溝13bにより、端部15bを残して、シンチレータ基板はM×N(M及びNはそれぞれ2以上の自然数である。)個のシンチレータセル12bに分離される。貫通溝付きシンチレータ基板11bは紫外線剥離型両面粘着シート30aを介して支持プレート30に固定されているので、それらの間隔がずれることはない。貫通溝付きシンチレータ基板11bの両端部15b、15bは後のステップで切り落とされる。図3に示すx軸はシンチレータ基板10の厚さ方向を示し、y軸及びz軸はそれぞれ溝13bの方向を示す。
As shown in FIG. 3, using a cutting grindstone (for example, a diamond grindstone) 19, a plurality of
各シンチレータセル12bにおいて、Y軸方向及びZ軸方向の寸法のうち短い方を幅wとし、X軸方向の寸法を高さtとする。各シンチレータセル12bのアスペクト比(w/tで表される)は、CT装置の解像度の観点から5以下が好ましい。なお、アスペクト比が0.2未満では粘着シート30aによるシンチレータセル12bの保持が困難であるので、アスペクト比w/tは0.2〜5がより好ましい。
In each
支持プレート30の側面全周に4枚の紫外線剥離型両面粘着シート31F、31R、31B、31Lの紫外線剥離型粘着面を貼付し、支持プレート30の上方に両面粘着シート31F、31R、31B、31Lを部分的に延出させる。両面粘着シート31F、31R、31B、31Lの上方延出部により、反射材として機能する樹脂層を形成するための液状硬化性樹脂を堰止める空間を形成するための四角い枠が形成される(ステップA4)。なお、粘着シート31F,31R,31B及び31Lは紫外線剥離型片面粘着シートでも良い。4枚の紫外線剥離型両面粘着シートを用いる代わりに、図5(a)に示すように1枚の帯状の粘着シートを支持プレートの側面に巻きつけ、帯の一端部を他端に重ねることにより四角い枠を形成しても良い。また図5(b)に示すように、4枚の粘着シートを支持プレートの側面に順に貼り付け、隣接する粘着シートの端部を接着しても良い。図5(a)及び図5(b)の場合、紫外線剥離型両面粘着シートの代わりに紫外線剥離型片面粘着シートを用いることができる。いずれの場合も、紫外線剥離型の両面又は片面の粘着シートにより形成された枠により、樹脂の漏れを確実に防止できる。
Four UV peelable double-sided pressure-
また、支持プレート30の側面全周に両面粘着シートを貼付する代わりに、支持プレート30に貼付した両面粘着シート31F、31R、31B、31Lに、貫通溝付きシンチレータ基板11bを包囲するように粘着シートで形成した枠を貼付しても良い。この枠によっても、樹脂の漏れを確実に防止できる。
Moreover, instead of sticking a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet to the entire periphery of the side surface of the
図4に示すように四角い枠に反射材用液状硬化性樹脂32を流し込むと、溝13bに液状硬化性樹脂32が充填され、シンチレータセル12bは液状硬化性樹脂32で被覆される(ステップA5)。硬化後に反射材として機能する液状硬化性樹脂32として、例えば白色の酸化チタン粒子を含有するエポキシ樹脂を用いることができる。枠に流し込む液状硬化性樹脂32の量は、硬化後の厚さをその後のステップで調整可能なように設定するのが好ましい。
As shown in FIG. 4, when the reflective liquid
枠に流し込んだ液状硬化性樹脂32を所定の温度まで加熱し、硬化させる(ステップA6)。液状硬化性樹脂32が硬化すると、M×N個のシンチレータセルは硬化樹脂32’で一体化される。硬化するために加熱する所定の温度は樹脂の種類にもよるが、好ましくは50〜150℃である。また、液状硬化性樹脂32の加熱時間は樹脂の量に応じて1〜6時間で良く、好ましくは1〜3時間である。
The liquid
液状硬化性樹脂32の硬化後、紫外線剥離型両面粘着シート30a及び紫外線剥離型両面粘着シート31F、31R、31B、31Lの紫外線剥離型粘着層の発泡開始照射量以上の紫外線を照射する。紫外線照射により紫外線剥離型粘着層は発泡し、粘着力が低下するので、紫外線剥離型両面粘着シートは容易に剥離できる。これにより、図6に示すシンチレータセル樹脂硬化体33が得られる(ステップA7)。貫通溝付きシンチレータ基板11bを構成する部材に相当するシンチレータセル樹脂硬化体33中の部材の参照番号は、同じ数字の後に「b」の代わりに「c」が付けられている。
After the liquid
紫外線の照射量は粘着層の材質によるが、100mJ/mm2以上が好ましい。所定の照射量を確保するために、両面粘着シート30a及び粘着シート31F、31R、31B、31Lのそれぞれの面に、面全体に垂直の方向から照射するか、面と平行の方向から指向性の高い紫外線源を用いて照射しても良い。粘着シートまた、紫外線剥離型の粘着層に十分な照射量の紫外線が照射されるように、粘着シートのベースフィルムやセパレータは紫外線透過性の材料で構成されるのが好ましく、例えばアクリルやポリテトラフルオロエチレン等の有機材料である。紫外線剥離型粘着シートを使用すると、紫外線剥離後にあっても僅かな粘着層しか残留しないので、その洗浄除去は容易であり、紫外線剥離型粘着シート全体を溶媒で除去する必要がなくなる。
The amount of ultraviolet irradiation depends on the material of the adhesive layer, but is preferably 100 mJ / mm 2 or more. In order to ensure a predetermined irradiation amount, each surface of the double-sided pressure-
このようにして得られたシンチレータセル樹脂硬化体33では、シンチレータセル12bが高精度で配列している。また、シンチレータ基板の支持プレートへの固定に紫外線剥離型粘着シートを用いているので、加熱だけで簡単に剥離することができ、シンチレータアレイを効率良く製造することができる。
In the scintillator cell resin cured
シンチレータセル12bが露出するように、シンチレータセル樹脂硬化体33の背面Bc及び表面Fcを研削又は研磨し、図7に示すようにシンチレータセル12d、樹脂層13d及び端部15dが露出した一様な厚さh1のシンチレータセルアレイ36を形成する(ステップA8)。シンチレータセル樹脂硬化体33を構成する部材に相当するシンチレータセルアレイ36中の部材の参照番号は、同じ数字の後に「c」の代わりに「d」が付けられている。シンチレータセルアレイ36において、シンチレータセル12d、樹脂層13d及び端部15dは樹脂外周部35に囲われている。
The back surface Bc and the surface Fc of the scintillator cell resin cured
粘着シート30aと同じ紫外線剥離型両面粘着シート60aの第一の粘着面からセパレータを剥離し、第一の粘着面を支持プレート60の上面に貼り付ける(ステップA9)。粘着シート60aの第二の粘着面からセパレータを剥離し、露出した第二の粘着面にシンチレータセルアレイ36を貼付する(ステップA10)。これにより、シンチレータセルアレイ36は支持プレート60に固定される。
The separator is peeled off from the first pressure-sensitive adhesive surface of the same UV peelable double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 60a as that of the pressure-
図8に示すように、ステップA4で用いたものと同じ4枚の紫外線剥離型両面粘着シート61F,61R,61B、61Lを支持プレート60の側面に貼付し、反射材用液状硬化性樹脂を溜めるための枠を形成する(ステップA11)。4枚の粘着シート61F,61R,61B、61Lの両端部を接着し、四角い枠とする。この四角い枠内にステップA5と同じ反射材用液状硬化性樹脂62を流し込むと、シンチレータセルアレイ36の背面は液状硬化性樹脂62で被覆される(ステップA12)。
As shown in FIG. 8, the same four UV peelable double-sided pressure-
枠に流し込んだ液状硬化性樹脂62を上記所定の温度に加熱し、硬化させると、シンチレータセルアレイ36の背面は硬化樹脂62’で被覆される(ステップA13)。液状硬化性樹脂62の硬化後、所定の照射量以上の紫外線を照射すると、紫外線剥離型両面粘着シート61F,61R,61B、61L、及び紫外線剥離型両面粘着シート60aの粘着力は低下し、容易に剥離できる。これにより、図9に示すシンチレータセル樹脂硬化体73が得られる(ステップA14)。粘着シートの剥離後、必要に応じてシンチレータセル樹脂硬化体73を洗浄する。シンチレータセルアレイ36を構成する部材に相当するシンチレータセル樹脂硬化体73中の部材の参照番号は、同じ数字の後に「d」の代わりに「e」が付けられている。
When the liquid
樹脂層72fの厚さがh2となるようにシンチレータセル樹脂硬化体73の背面Beを平面研削し、図10に示すシンチレータセルアレイ樹脂被覆体76を得る(ステップA15)。図11は、図10のシンチレータセルアレイ樹脂被覆体76の表面Ff側を示す。シンチレータセルアレイ樹脂被覆体76の表面Ffに複数のシンチレータセル12dが露出している。シンチレータセル樹脂硬化体73を構成する部材に相当するシンチレータセルアレイ樹脂被覆体76中の部材の参照番号は、同じ数字の後に「e」の代わりに「f」が付けられている。
The back surface Be of the scintillator cell resin cured
シンチレータセルアレイ樹脂被覆体76の外周を回転砥石(図示せず)により除去し、図12に示す所定の寸法のシンチレータアレイ76fを得る(ステップA16)。シンチレータアレイ76fは、シンチレータセル12d間に反射材用樹脂層13dを有し、外周及び背面に反射材用樹脂層75を有する。これらの反射材用樹脂層13d、75は反射材として機能する。シンチレータアレイ76fの表面には、M×N個のシンチレータセル12dが露出しており、各シンチレータセル12dの露出面は発光面である。
The outer periphery of the scintillator cell
ステップA3(図3)において端部15bを切削除去した後、実施形態1と同じステップによりシンチレータアレイを製造することもできる。ただし、図13に示すように、ステップA16に相当する外周切断において、側面の反射材用樹脂層75gを所定寸法まで切断や研削などで加工する。この方法でも、反射材用樹脂層13dを介して複数のシンチレータセル12dを配列したシンチレータアレイ76gを得ることができる。
The scintillator array can also be manufactured by the same steps as in the first embodiment after the
液状硬化性樹脂を硬化させるための加熱と、紫外線剥離型粘着シートを剥離させるための紫外線照射とを連続装置で行うことができる。連続装置は、加熱領域と紫外線照射領域とを通るベルトコンベアとを具備し、ベルトコンベアに載置された物品(図4及び図8に示す。)は加熱領域を通過する間に液状硬化性樹脂が硬化され、次いで紫外線照射領域を通過する間に紫外線剥離型粘着シートに紫外線が照射される。連続装置を出た物品では紫外線剥離型粘着シートが容易に剥離できる状態になっている。この方法では液状硬化性樹脂の硬化と紫外線剥離型粘着シートの剥離を連続的に行うことができるので、効率的である。 The heating for curing the liquid curable resin and the ultraviolet irradiation for separating the UV-peelable pressure-sensitive adhesive sheet can be performed by a continuous device. The continuous device includes a belt conveyor passing through the heating region and the ultraviolet irradiation region, and the article (shown in FIGS. 4 and 8) placed on the belt conveyor is a liquid curable resin while passing through the heating region. Is cured, and then ultraviolet rays are irradiated onto the ultraviolet peelable pressure-sensitive adhesive sheet while passing through the ultraviolet irradiation region. In the article exiting the continuous device, the UV peelable pressure-sensitive adhesive sheet can be easily peeled off. This method is efficient because the curing of the liquid curable resin and the peeling of the UV peelable adhesive sheet can be performed continuously.
(4) 第二の実施形態
第二の実施形態の方法は、貫通溝の代わりに未貫通溝を形成することを特徴とする。図14に示すように、シンチレータ基板10を紫外線剥離型両面粘着シート30aを介して支持プレート30上に固定するまでのステップB1及びB2は第一の実施形態におけるステップA1及びA2と同じである。
(4) Second Embodiment The method of the second embodiment is characterized in that a non-penetrating groove is formed instead of the penetrating groove. As shown in FIG. 14, steps B1 and B2 until the
図15に示すように、切削用回転砥石19を用いて、シンチレータ基板10に両端部15b、15bを残して紫外線剥離型両面粘着シート30aまで到達しない深さの複数(M×N個)の平行な未貫通溝13b’を縦横直交するように格子状に形成する(ステップB3)。未貫通溝13b’の形成により残留するシンチレータ基板10の部分は連結部11cとして各シンチレータセル12bを支持する。連結部11cの厚さは、その後のステップでの液状硬化性樹脂の加熱硬化の際にシンチレータセルにクラックが入らないように適宜設定する。格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’の端部15bは後のステップで切除しても、しなくても良い。端部15bを切除する場合、図13に示すシンチレータアレイ76gが得られ、端部15bを切除しない場合、図12に示すシンチレータアレイ76fが得られる。
As shown in FIG. 15, using a cutting
格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’が付着した支持プレート30に紫外線照射し、紫外線剥離型両面粘着シート30aを発泡させて、格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’を支持プレート30から剥離する(ステップB4)。溝入れ加工で蓄積された歪みを緩和するために、格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’にアニーリング処理を施す(ステップB5)。アニーリング温度は、例えば1000〜1400℃が好ましい。
The
アニーリング処理した格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’を紫外線剥離型両面粘着シート30aを介して支持プレート30上に固定する(ステップB6)。支持プレート30の側面にフィルム31F,31R,31B,31Lを貼付し、液状硬化性樹脂を溜めるための枠を形成する(ステップB7)。図16に示すように、枠の空間に液状硬化性樹脂32を入れると、液状硬化性樹脂32は格子状溝に充填される(ステップB8)。
The annealed
液状硬化性樹脂32を所定の温度まで加熱し、硬化させると、M×N個のシンチレータセルは硬化樹脂で一体化される(ステップB9)。液状硬化性樹脂32の硬化条件は第一の実施形態と同じで良い。
When the liquid
液状硬化性樹脂32の硬化後、紫外線剥離型両面粘着シート30a及び紫外線剥離型両面粘着シート31F、31R、31B、31Lを紫外線照射により剥離する(ステップB10)。これにより、図17(a)及び図17(b)に示す連結部付きシンチレータセル樹脂硬化体33’が得られる。図17(b)に示すように、連結部11cを除去するとともに、シンチレータセルの両面に露出させるために、シンチレータセル樹脂硬化体33’の表面Fc及び背面Bc側を研削し、一様な厚さh1を有するシンチレータセルアレイを形成する(ステップB11)。このシンチレータセルアレイは、図7に示すシンチレータセルアレイ36と同じである。ステップB11の後、第一の実施形態のステップA9〜A16と同じステップによりシンチレータアレイを得る。
After the liquid
(4) 第三の実施形態
第三の実施形態の方法は、紫外線剥離型両面粘着シートを介して支持プレートに固定する格子状未貫通溝付きシンチレータ基板の向き(上下方向)が第二の実施形態の方法と異なる。従って、図18に示すように、紫外線照射により支持プレート30上の紫外線剥離型両面粘着シート30aから格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’を剥離するまでのステップC1〜C4は、第二の実施形態におけるステップB1〜B4と同じである。なお、固定したシンチレータ基板10に格子状未貫通溝を形成した後、そのまま反射材用樹脂を充填するわけではないので、シンチレータ基板10の固定には紫外線剥離型両面粘着シートを用いる必要がなく、紫外線剥離型両面粘着シート以外の粘着シート、接着剤、粘着剤等を用いても良い。
(4) Third Embodiment The method according to the third embodiment is the second embodiment in which the direction (vertical direction) of the scintillator substrate with grid-like non-penetrating grooves fixed to the support plate via the ultraviolet peelable double-sided adhesive sheet is the second embodiment. Different from the method of form. Accordingly, as shown in FIG. 18, steps C1 to C4 until the
図19に示すように、格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’を、連結部11cを上にして、支持プレート30に接着した紫外線剥離型両面粘着シート30aの上面Fsに接着する(ステップC6)。格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’の上面Fa側を、縦型研削機、平面研削機、ラップ機、切削機等により一点鎖線Pの深さまで研削し、図20に示すように格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’から連結部11cを除去し、未貫通溝を貫通溝とする(ステップC7)。このようにして、図3に示すのと同じ貫通溝付きシンチレータ基板11bが得られる。ステップC7の後は、第一の実施形態のステップA4〜A16と同じステップによりシンチレータアレイを得る。
As shown in FIG. 19, the lattice-shaped non-penetrating grooved
連結部11cを研削により除去する際に個々のシンチレータセル12bが位置ズレを起こすのを防止するために、各シンチレータセル12bは0.2〜5のアスペクト比w/tを有するのが好ましい。
Each
溝13bに進入した液状硬化性樹脂32は、所定の温度への加熱により硬化するときに収縮するので、シンチレータセル12bに大きな応力がかかる。しかし、液状硬化性樹脂32の被覆の前にシンチレータセル12bを分離することにより、液状硬化性樹脂32の硬化収縮による応力が個々のシンチレータセル12bに均等にかかる。従って、シンチレータセル12bにクラックが発生するのを確実に防止することができる。
Since the liquid
連結部11cを研削により除去する際に個々のシンチレータセル12bが位置ズレを起こすのを確実に防止するために、治具を用いても良い。例えば図21に示すように、紫外線剥離型両面粘着シート30aを接着した支持プレート30の上面外周部を包囲する四角形の外形を有し、シンチレータ基板10を把持し得る大きさの四角形開口部51、及び支持プレート30の側面に接する下方フランジ部52を有する治具50を用いる。治具50が紫外線剥離型両面粘着シート30aと接着するのを防止するために、少なくとも粘着シート30aと接触する面が離型性を有する必要がある。そのためには、例えば、粘着シート30aとの接触面に離型層を設ければ良い。また、治具50全体をポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂のような離型性材料で形成しても良い。
A jig may be used to reliably prevent the
まず紫外線剥離型両面粘着シート30aを接着した支持プレート30の上面に、治具50を固定し、次いで図22(a)に示すように、格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’を、連結部11cを上にして、治具50の開口部51内で紫外線剥離型両面粘着シート30aの上面Fsに接着する。図22(b)は、治具50によりyz方向に固定された格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’を示す。この状態で格子状未貫通溝付きシンチレータ基板11b’の上面Fa側を研削し、連結部11cを除去する。研削中シンチレータセル12bのyz方向の動きは治具50に規制されるので、シンチレータセル12bが位置ズレを起こしたり、紫外線剥離型両面粘着シート30aから剥離したりするのを防止することができる。連結部11cの除去後、離型性を有する治具50は支持プレート30から簡単に取り外すことができる。
First, the
[2] 放射線検出器
図23(a)及び図23(b)に示すように、放射線検出器100は、平板状に配列された複数(M×N)個のシンチレータセル111からなるシンチレータアレイ110と、光学樹脂層130を介してシンチレータセル111と整列するように平板状に配列された複数(N×M)個のフォトダイオード121からなるフォトダイオードアレイ120と、シンチレータセル111の周囲に形成された反射層112、113、114(白色の酸化チタン粒子を含有する反射材用樹脂からなる)とを有する。各シンチレータセル111は入射した放射線により発光し、その光は反射層112、113、114に導かれて対応する各フォトダイオード121に入射し、各フォトダイオード121で電気信号に変換される。シンチレータアレイ110は本発明の方法により形成される。
[2] Radiation Detector As shown in FIGS. 23A and 23B, the
本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はそれらに限定されない。 The present invention will be described in more detail by the following examples, but the present invention is not limited thereto.
実施例1
図13に示すシンチレータアレイを第一の実施形態の方法で作製した。まず、板状の石英ガラスからなる支持プレートの上面(Ra=0.1μm、及び高さのばらつき=50μm)に、剥離するために必要な紫外線の照射量が100mJ/mm2以上の紫外線剥離型両面粘着シートを接着した後、粘着シートにGd2O2S:Ce,Prの組成を有するシンチレータ基板を接着した。次いで、ルチル型酸化チタン粉末を含有するエポキシ樹脂からなる反射材用樹脂を用い、硬化温度を80℃とし、加熱時間を3時間とした。シンチレータセルのアスペクト比w/tを1.0とした。その結果、高精度のシンチレータアレイを効率良く製造することができた。このシンチレータアレイとフォトダイオードアレイを光学接着剤を介して接合し、放射線検出器を作製した。
Example 1
The scintillator array shown in FIG. 13 was produced by the method of the first embodiment. First, an ultraviolet detachable type in which an ultraviolet ray irradiation amount required for detachment is 100 mJ / mm 2 or more on the upper surface (Ra = 0.1 μm and height variation = 50 μm) of a support plate made of plate-like quartz glass. After bonding the double-sided PSA sheet, a scintillator substrate having a composition of Gd 2 O 2 S: Ce, Pr was bonded to the PSA sheet. Next, a resin for a reflector made of an epoxy resin containing rutile-type titanium oxide powder was used, the curing temperature was 80 ° C., and the heating time was 3 hours. The aspect ratio w / t of the scintillator cell was 1.0. As a result, a highly accurate scintillator array could be manufactured efficiently. The scintillator array and the photodiode array were joined via an optical adhesive to produce a radiation detector.
実施例2
剥離するために必要な紫外線の照射量が120mJ/mm2以上の紫外線剥離型両面粘着シートを用いた以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 2
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that an ultraviolet peelable double-sided pressure-sensitive adhesive sheet having an ultraviolet irradiation amount necessary for peeling of 120 mJ / mm 2 or more was used. The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
実施例3
剥離するために必要な紫外線の照射量が150mJ/mm2以上の紫外線剥離型両面粘着シートを用いた以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 3
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that an ultraviolet peelable double-sided pressure-sensitive adhesive sheet having an ultraviolet ray irradiation amount of 150 mJ / mm 2 or more required for peeling was used. The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
比較例1
紫外線剥離機能を有さない圧着型粘着シートを用い、紫外線照射のステップを省略した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。圧着型粘着シートの使用によりその溶解工程及び洗浄工程を要したため、実施例1より長い製造時間を要し、効率的でなかった。
Comparative Example 1
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that a pressure-sensitive adhesive sheet having no ultraviolet peeling function was used and the ultraviolet irradiation step was omitted. The use of the pressure-sensitive adhesive sheet required the dissolution step and the washing step, and therefore required a longer production time than Example 1 and was not efficient.
実施例4
反射材用樹脂の硬化温度を100℃とした以外実施例2と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 4
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 2 except that the curing temperature of the reflecting resin resin was 100 ° C. The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
実施例5
反射材用樹脂の硬化温度を100℃とした以外実施例3と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 5
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 3 except that the curing temperature of the resin for reflecting material was 100 ° C. The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
実施例6
図5(a)に示すように帯状の紫外線剥離型両面粘着シートを自動巻き付け装置により支持プレートに巻き付けた以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。その結果、実施例1より短い工数で粘着シートの貼付けを完了できた。
Example 6
As shown in FIG. 5 (a), a scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that a belt-like UV-detachable double-sided pressure-sensitive adhesive sheet was wound around a support plate by an automatic winding device. As a result, it was possible to complete the adhesion of the pressure-sensitive adhesive sheet with a shorter man-hour than Example 1.
実施例7
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=0.2(w=0.5mm、t=2.5mm)に変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 7
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that the aspect ratio of the scintillator cell was changed to w / t = 0.2 (w = 0.5 mm, t = 2.5 mm). The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
実施例8
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=0.6(w=0.8mm、t=1.4mm)に変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 8
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that the aspect ratio of the scintillator cell was changed to w / t = 0.6 (w = 0.8 mm, t = 1.4 mm). The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
実施例9
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=5.0(w=5.0mm、t=1.0mm)に変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 9
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that the aspect ratio of the scintillator cell was changed to w / t = 5.0 (w = 5.0 mm, t = 1.0 mm). The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
比較例2
シンチレータセルのアスペクト比をw/t=0.1(w=0.1mm、t=1.0mm)に変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。シンチレータセルの保持が困難であったので低負荷で加工した結果、シンチレータアレイの製造に実施例1より長時間を要し、効率的でなかった。
Comparative Example 2
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that the aspect ratio of the scintillator cell was changed to w / t = 0.1 (w = 0.1 mm, t = 1.0 mm). Since it was difficult to hold the scintillator cell, the scintillator array was processed at a low load. As a result, it took a longer time to manufacture the scintillator array than in Example 1, and it was not efficient.
実施例10
支持プレートの面粗さRaを2μmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 10
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface roughness Ra of the support plate was changed to 2 μm. The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
実施例11
支持プレートの面粗さRaを0.01μmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 11
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface roughness Ra of the support plate was changed to 0.01 μm. The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
実施例12
支持プレートの面粗さRaを10μmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 12
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface roughness Ra of the support plate was changed to 10 μm. The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
実施例13
支持プレートの高さのばらつきを100μmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 13
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that the variation in the height of the support plate was changed to 100 μm. The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
実施例14
支持プレートの高さのばらつきを0.01mmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 14
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that the variation in the height of the support plate was changed to 0.01 mm. The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
実施例15
支持プレートの高さのばらつきを1μmに変更した以外実施例1と同様にして、シンチレータアレイを作製した。得られたシンチレータアレイは高精度で、製造工程は効率的であった。
Example 15
A scintillator array was produced in the same manner as in Example 1 except that the variation in the height of the support plate was changed to 1 μm. The scintillator array obtained was highly accurate and the manufacturing process was efficient.
Claims (5)
前記シンチレータ基板に格子状の溝を形成して複数のシンチレータセルを有する格子状溝付きシンチレータ基板を形成する加工工程と、
前記格子状溝に反射材用液状硬化性樹脂を充填し、前記液状硬化性樹脂を加熱硬化させることによりシンチレータセル樹脂硬化体を形成する硬化工程と、
前記硬化工程後に、紫外線を前記支持プレートに透過させて前記両面粘着シートに照射することにより、前記シンチレータセル樹脂硬化体から前記両面粘着シートを剥離する剥離工程を有することを特徴とするシンチレータアレイの製造方法。 A fixing step of fixing the scintillator substrate to a support plate through a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet whose adhesion surface with at least the scintillator substrate is an ultraviolet peeling type;
A processing step of forming a lattice-shaped grooved scintillator substrate having a plurality of scintillator cells by forming a lattice-shaped groove in the scintillator substrate;
A curing step of forming a scintillator cell resin cured body by filling the lattice-shaped grooves with a liquid curable resin for a reflecting material and heat curing the liquid curable resin;
A scintillator array comprising a peeling step of peeling the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet from the cured scintillator cell resin by irradiating the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet with ultraviolet light transmitted through the support plate after the curing step. Production method.
The method of manufacturing a scintillator array according to any one of claims 1 to 4, wherein the curing step and the peeling step are continuously performed.
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