JP2017034241A - Wiring circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、配線回路基板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a printed circuit board and a method for manufacturing the same.
従来から、種々の電気機器または電子機器に配線回路基板が用いられている。特許文献1には、磁気ディスク装置において磁気ヘッドを位置決めするために用いられる配線回路基板として回路付サスペンション用基板が示される。
Conventionally, printed circuit boards have been used in various electric devices or electronic devices.
特許文献1の配線回路基板においては、導電性の支持基板上に絶縁性のベース層が形成される。ベース層上に導体パターンが形成される。無電解ニッケルめっきにより導体パターンの表面に金属皮膜が形成される。金属皮膜が形成された導体パターンを覆うようにカバー層が形成される。カバー層から露出するように導体回路パターンの端部に接続端子が形成される。
In the printed circuit board of
上記の配線回路基板においては、導体パターンの表面に金属皮膜が形成されることにより、導体パターンとカバー層との密着性が向上される。それにより、導体パターンの腐食が防止される。しかしながら、特許文献1の配線回路基板では、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失が高い。
In the printed circuit board, the adhesion between the conductor pattern and the cover layer is improved by forming a metal film on the surface of the conductor pattern. Thereby, corrosion of the conductor pattern is prevented. However, the printed circuit board of
本発明の目的は、導体パターンの腐食を防止しつつ高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失が低減された配線回路基板およびその製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a printed circuit board in which the transmission loss of an electric signal is reduced even in a high frequency band while preventing corrosion of a conductor pattern, and a method for manufacturing the same.
本発明者は、種々の実験および検討を行なった結果、導体パターンのうち配線を構成する部分(以下、配線部と呼ぶ。)とその配線部を覆う絶縁層との間にニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しないことにより、高い周波数帯域において電気信号の伝送損失を低減できることを見出し、以下の第1、第2、第4および第5の発明に想到した。 As a result of various experiments and examinations, the present inventor has found that the portion of the conductor pattern constituting the wiring (hereinafter referred to as the wiring portion) and the insulating layer covering the wiring portion are more than the magnetism of nickel. It has been found that the absence of a magnetic metal layer can reduce electrical signal transmission loss in a high frequency band, and the following first, second, fourth and fifth inventions have been conceived.
また、本発明者は、配線部とその配線部を覆う絶縁層との間にニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在する場合でも、配線部の全長に対するその金属層の長さの割合が40%以下に設定されることにより、高い周波数帯域において電気信号の伝送損失を低減できることを見出し、以下の第3および第6の発明に想到した。 In addition, the present inventor has determined that the ratio of the length of the metal layer to the total length of the wiring portion even when a metal layer having magnetism higher than that of nickel exists between the wiring portion and the insulating layer covering the wiring portion. Is set to 40% or less, it has been found that the transmission loss of electric signals can be reduced in a high frequency band, and the following third and sixth inventions have been conceived.
(1)第1の発明に係る配線回路基板は、第1の絶縁層と、第1の絶縁層上に形成され、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、配線部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分を覆うとともに第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないように第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、第1の金属被覆層は、配線部に接触し、第2の絶縁層は、第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触し、第1の金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。 (1) A printed circuit board according to a first aspect of the invention includes a first insulating layer, a conductor pattern formed on the first insulating layer and having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion, a wiring portion, A first metal coating layer that covers the terminal portion and extends continuously from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion, and covers a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion. A second insulating layer provided on the first insulating layer so as not to cover a portion of the first metal coating layer covering the terminal portion, the first metal coating layer is in contact with the wiring portion, The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion, and the first metal coating layer has a magnetism lower than that of nickel.
その配線回路基板においては、配線部を覆うように第1の金属被覆層が設けられ、第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分を覆うように第2の絶縁層が設けられる。第1の金属被覆層は配線部に接触し、第2の絶縁層は第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触する。この場合、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。 In the printed circuit board, a first metal coating layer is provided so as to cover the wiring portion, and a second insulating layer is provided so as to cover a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion. The first metal coating layer is in contact with the wiring portion, and the second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion. In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.
また、第2の絶縁層が第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触することにより、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、第1の金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、第1の金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。 In addition, when the second insulating layer comes into contact with the portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is improved. Furthermore, the first metal coating layer is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the first metal coating layer from the outside of the second insulating layer. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern and in the vicinity thereof.
(2)第2の発明に係る配線回路基板は、第1の絶縁層と、第1の絶縁層上に形成され、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、配線部の一部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、第1の金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないように第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、第1の金属被覆層は、配線部の一部に接触するとともに配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、第2の絶縁層は、第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触し、第1の金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。 (2) A wired circuit board according to a second aspect of the present invention includes a first insulating layer, a conductor pattern formed on the first insulating layer, having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion, and a wiring portion A first metal coating layer that covers a part and the terminal portion and extends continuously from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion, and a part of the wiring portion of the first metal coating layer On the first insulating layer so as to cover the portion covering the terminal portion and the other portion of the wiring portion not covered by the first metal coating layer and not covering the portion of the first metal coating layer covering the terminal portion. And the first metal coating layer is in contact with a part of the wiring part and at least 3 μm away from the position on the boundary between the terminal part and the wiring part on the surface of the wiring part. The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion. Both in contact with the other part of the wiring part, the first metal coating layer has a lower magnetic than the magnetic nickel.
その配線回路基板においては、配線部の一部と端子部とを覆うように第1の金属被覆層が設けられ、第1の金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うように第2の絶縁層が設けられる。第1の金属被覆層は配線部の一部に接触し、第2の絶縁層は第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触する。この場合、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。 In the wired circuit board, the first metal coating layer is provided so as to cover a part of the wiring part and the terminal part, and the part of the first metal coating layer covering the part of the wiring part and the wiring part A second insulating layer is provided so as to cover other portions not covered by the first metal coating layer. The first metal coating layer is in contact with a part of the wiring part, and the second insulating layer is in contact with a part of the first metal coating layer that covers the wiring part and is in contact with another part of the wiring part. In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.
また、第2の絶縁層は第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触し、第1の金属被覆層は配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びる。それにより、導体パターンにおける端子部と配線部との境界の近傍において、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、第1の金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、第1の金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。 The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion, and the first metal coating layer is located on the surface of the wiring portion from a position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion. It extends to a position separated by 3 μm or more. Thereby, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is improved in the vicinity of the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern. Furthermore, the first metal coating layer is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the first metal coating layer from the outside of the second insulating layer. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern and in the vicinity thereof.
(3)第3の発明に係る配線回路基板は、第1の絶縁層と、第1の絶縁層上に形成され、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、配線部の一部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、第1の金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないように第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、第1の金属被覆層は、配線部の一部に接触するとともに配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、第2の絶縁層は、第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触し、配線部の全長に対する配線部の一部を覆う第1の金属被覆層の長さの割合は40%以下である。 (3) A printed circuit board according to a third aspect of the present invention includes a first insulating layer, a conductor pattern formed on the first insulating layer and having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion; A first metal coating layer that covers a part and the terminal portion and extends continuously from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion, and a part of the wiring portion of the first metal coating layer On the first insulating layer so as to cover the portion covering the terminal portion and the other portion of the wiring portion not covered by the first metal coating layer and not covering the portion of the first metal coating layer covering the terminal portion. And the first metal coating layer is in contact with a part of the wiring part and at least 3 μm away from the position on the boundary between the terminal part and the wiring part on the surface of the wiring part. The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion. Both in contact with the other part of the wiring portion, the length ratio of the first metal coating layer covering a part of the wiring portion of the total length of the wiring portion is 40% or less.
その配線回路基板においては、配線部の一部と端子部とを覆うように第1の金属被覆層が設けられ、第1の金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うように第2の絶縁層が設けられる。第1の金属被覆層は配線部の一部に接触し、第2の絶縁層は第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触する。 In the wired circuit board, the first metal coating layer is provided so as to cover a part of the wiring part and the terminal part, and the part of the first metal coating layer covering the part of the wiring part and the wiring part A second insulating layer is provided so as to cover other portions not covered by the first metal coating layer. The first metal coating layer is in contact with a part of the wiring part, and the second insulating layer is in contact with a part of the first metal coating layer that covers the wiring part and is in contact with another part of the wiring part.
ここで、配線部の全長に対する配線部の一部を覆う第1の金属被覆層の長さの割合は40%以下である。この場合、配線部の全長に対して60%以上の長さの範囲において、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。 Here, the ratio of the length of the 1st metal coating layer which covers a part of wiring part with respect to the full length of a wiring part is 40% or less. In this case, in the range of 60% or more of the total length of the wiring portion, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.
また、第2の絶縁層は第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触し、第1の金属被覆層は配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びる。それにより、導体パターンにおける端子部と配線部との境界の近傍において、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、第1の金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、第1の金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。 The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion, and the first metal coating layer is located on the surface of the wiring portion from a position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion. It extends to a position separated by 3 μm or more. Thereby, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is improved in the vicinity of the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern. Furthermore, the first metal coating layer is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the first metal coating layer from the outside of the second insulating layer. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern and in the vicinity thereof.
(4)第1の金属被覆層は、配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から5μm以上離れた位置まで延びてもよい。 (4) The first metal coating layer may extend from the position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion to a position separated by 5 μm or more on the surface of the wiring portion.
この場合、導体パターンにおける端子部と配線部との境界の近傍において、第2の絶縁層と配線部との間の密着性がより向上する。 In this case, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is further improved in the vicinity of the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern.
(5)第1の金属被覆層は、金、銀、クロム、錫および白金のうち少なくとも1種類の金属を含んでもよい。 (5) The first metal coating layer may include at least one metal among gold, silver, chromium, tin, and platinum.
この場合、配線回路基板の用途に応じて、第1の金属被覆層としてより適切な金属を使用することができる。 In this case, a more suitable metal can be used as the first metal coating layer depending on the use of the printed circuit board.
(6)第1の金属被覆層は、ニッケル、金、銀、クロム、錫および白金のうち少なくとも1種類の金属を含んでもよい。 (6) The first metal coating layer may contain at least one metal selected from nickel, gold, silver, chromium, tin, and platinum.
この場合、配線回路基板の用途に応じて、第1の金属被覆層としてより適切な金属を使用することができる。 In this case, a more suitable metal can be used as the first metal coating layer depending on the use of the printed circuit board.
(7)配線回路基板は、第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆う第2の金属被覆層をさらに備えてもよい。 (7) The printed circuit board may further include a second metal coating layer that covers a portion of the first metal coating layer that covers the terminal portion.
この場合、導体パターンの端子部、第1の金属被覆層および第2の金属被覆層により接続端子を形成することができる。それにより、接続端子の表面状態を第2の金属被覆層により整えることができる。 In this case, the connection terminal can be formed by the terminal portion of the conductor pattern, the first metal coating layer, and the second metal coating layer. Thereby, the surface state of the connection terminal can be adjusted by the second metal coating layer.
(8)第1の金属被覆層の少なくとも一部は、互いに積層された第1および第2の金属層により構成されてもよい。 (8) At least a part of the first metal coating layer may be composed of the first and second metal layers laminated together.
この場合、配線回路基板における第1の金属被覆層の構成の自由度が向上する。 In this case, the freedom degree of a structure of the 1st metal coating layer in a wired circuit board improves.
(9)配線回路基板は、第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆う端子バリア層と、端子バリア層を覆う端子表面層とをさらに備え、導体パターンは、銅を含み、端子表面層は、金を含み、端子バリア層は、ニッケルまたはパラジウムを含んでもよい。 (9) The printed circuit board further includes a terminal barrier layer that covers a portion of the first metal coating layer that covers the terminal portion, and a terminal surface layer that covers the terminal barrier layer, the conductor pattern includes copper, The surface layer may include gold and the terminal barrier layer may include nickel or palladium.
この場合、導体パターンから端子表面層への銅の成分の拡散が端子バリア層により抑制される。それにより、端子表面層の金に銅の成分が拡散することによる端子表面層の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。 In this case, the diffusion of the copper component from the conductor pattern to the terminal surface layer is suppressed by the terminal barrier layer. Thereby, the deterioration of the corrosion resistance and wettability of the terminal surface layer due to the diffusion of the copper component into the gold of the terminal surface layer is suppressed.
(10)配線回路基板は、第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆うようにかつ導体パターンに接触しないように形成された端子表面層をさらに備え、導体パターンは、銅を含み、端子表面層は、金を含み、第1の金属被覆層は、ニッケルを含んでもよい。 (10) The printed circuit board further includes a terminal surface layer formed so as to cover a portion of the first metal coating layer covering the terminal portion and not to contact the conductor pattern, and the conductor pattern includes copper. The terminal surface layer may include gold, and the first metal coating layer may include nickel.
この場合、導体パターンから端子表面層への銅の成分の拡散が第1の金属被覆層により抑制される。それにより、端子表面層の金に銅の成分が拡散することによる端子表面層の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。 In this case, the diffusion of the copper component from the conductor pattern to the terminal surface layer is suppressed by the first metal coating layer. Thereby, the deterioration of the corrosion resistance and wettability of the terminal surface layer due to the diffusion of the copper component into the gold of the terminal surface layer is suppressed.
(11)配線回路基板は、第2の絶縁層上に形成される上部導体パターンをさらに備え、上部導体パターンの少なくとも一部は、導体パターンに重なってもよい。これにより、導体パターンと上部導体パターンの少なくとも一部とが上下に積層されるので、配線回路基板の小型化が実現されるとともに、配線回路基板の設計の自由度が向上する。 (11) The printed circuit board may further include an upper conductor pattern formed on the second insulating layer, and at least a part of the upper conductor pattern may overlap the conductor pattern. Thereby, since the conductor pattern and at least a part of the upper conductor pattern are stacked one above the other, the size of the wiring circuit board can be reduced and the degree of freedom in designing the wiring circuit board can be improved.
(12)配線回路基板は、第2の絶縁層上に形成され、上部端子部と上部端子部から延びる上部配線部とを有する上部導体パターンと、上部配線部の一部と上部端子部とを覆うとともに上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、上部金属被覆層のうち上部配線部の一部を覆う部分と上部配線部のうち上部金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに上部金属被覆層のうち上部端子部を覆う部分を覆わないように第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、上部導体パターンの少なくとも一部は、導体パターンに重なり、上部金属被覆層は、上部配線部の一部に接触するとともに上部配線部の表面上で上部端子部と上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、第3の絶縁層は、上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触するとともに上部配線部の他の部分に接触し、上部配線部の全長に対する上部配線部の一部を覆う上部金属被覆層の長さの割合は40%以下であってもよい。 (12) The printed circuit board is formed on the second insulating layer, and includes an upper conductor pattern having an upper terminal portion and an upper wiring portion extending from the upper terminal portion, and a part of the upper wiring portion and the upper terminal portion. An upper metal coating layer that covers and extends continuously from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion; a portion of the upper metal coating layer that covers a portion of the upper wiring portion; and an upper wiring portion A third insulating layer provided on the second insulating layer so as to cover other portions not covered by the upper metal coating layer and not to cover portions of the upper metal coating layer covering the upper terminal portion. And at least part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern, and the upper metal coating layer is in contact with a part of the upper wiring part and on the surface of the upper wiring part on the boundary between the upper terminal part and the upper wiring part. 3 μm or more from the position The third insulating layer is in contact with the portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion and the other portion of the upper wiring portion, and the third insulating layer contacts the other portion of the upper wiring portion. The ratio of the length of the upper metal coating layer covering a part may be 40% or less.
この場合、上部配線部の全長に対して60%以上の長さの範囲において、上部配線部と第3の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、導体パターンおよび上部導体パターンに関して、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。 In this case, in the range of 60% or more of the total length of the upper wiring portion, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the upper wiring portion and the third insulating layer. Thereby, regarding the conductor pattern and the upper conductor pattern, it is possible to reduce the transmission loss of the electric signal even in a high frequency band.
また、第3の絶縁層は上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触している。上部金属被覆層は、上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるとともに、上部配線部の表面上で上部端子部と上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びている。それにより、上部導体パターンにおける上部端子部と上部配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。 The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion. The upper metal coating layer continuously extends from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion, and at least 3 μm away from the position on the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion on the surface of the upper wiring portion. It extends to the position. Thereby, it is possible to prevent corrosion from occurring at and near the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion in the upper conductor pattern.
さらに、導体パターンと上部導体パターンの少なくとも一部とが上下に積層されるので、配線回路基板の小型化が実現されるとともに、配線回路基板の設計の自由度が向上する。 Furthermore, since the conductor pattern and at least a part of the upper conductor pattern are stacked one above the other, the wiring circuit board can be miniaturized and the design flexibility of the wiring circuit board can be improved.
(13)配線回路基板は、第2の絶縁層上に形成され、上部端子部と上部端子部から延びる上部配線部とを有する上部導体パターンと、上部配線部と上部端子部とを覆うとともに上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分を覆うとともに上部金属被覆層のうち上部端子部を覆う部分を覆わないように第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、上部導体パターンの少なくとも一部は、導体パターンに重なり、上部金属被覆層は、上部配線部に接触し、第3の絶縁層は、上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触し、上部金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有してもよい。 (13) The printed circuit board is formed on the second insulating layer and covers the upper conductor pattern having the upper terminal portion and the upper wiring portion extending from the upper terminal portion, and the upper wiring portion and the upper terminal portion. An upper metal coating layer provided so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the upper wiring portion; and an upper terminal of the upper metal coating layer that covers a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion. And a third insulating layer provided on the second insulating layer so as not to cover the portion covering the portion, at least a part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern, and the upper metal coating layer is formed by the upper wiring. The third insulating layer may be in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion, and the upper metal coating layer may have magnetism lower than that of nickel.
この場合、上部配線部と第3の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。 In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the upper wiring portion and the third insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.
また、第3の絶縁層が上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触し、上部金属被覆層は上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びる。それにより、上部導体パターンにおける上部端子部と上部配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。 The third insulating layer contacts the portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion, and the upper metal coating layer continuously extends from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion. Thereby, it is possible to prevent corrosion from occurring at and near the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion in the upper conductor pattern.
さらに、導体パターンと上部導体パターンの少なくとも一部とが上下に積層されるので、配線回路基板の小型化が実現されるとともに、配線回路基板の設計の自由度が向上する。 Furthermore, since the conductor pattern and at least a part of the upper conductor pattern are stacked one above the other, the wiring circuit board can be miniaturized and the design flexibility of the wiring circuit board can be improved.
(14)配線回路基板は、第2の絶縁層上に形成され、上部端子部と上部端子部から延びる上部配線部とを有する上部導体パターンと、上部配線部の一部と上部端子部とを覆うとともに上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、上部金属被覆層のうち上部配線部の一部を覆う部分と上部配線部のうち上部金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに上部金属被覆層のうち上部端子部を覆う部分を覆わないように第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、上部導体パターンの少なくとも一部は、導体パターンに重なり、上部金属被覆層は、上部配線部の一部に接触するとともに上部配線部の表面上で上部端子部と上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、第3の絶縁層は、上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触するとともに上部配線部の他の部分に接触し、上部金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有してもよい。 (14) The printed circuit board is formed on the second insulating layer, and includes an upper conductor pattern having an upper terminal portion and an upper wiring portion extending from the upper terminal portion, and a part of the upper wiring portion and the upper terminal portion. An upper metal coating layer that covers and extends continuously from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion; a portion of the upper metal coating layer that covers a portion of the upper wiring portion; and an upper wiring portion A third insulating layer provided on the second insulating layer so as to cover other portions not covered by the upper metal coating layer and not to cover portions of the upper metal coating layer covering the upper terminal portion. And at least part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern, and the upper metal coating layer is in contact with a part of the upper wiring part and on the surface of the upper wiring part on the boundary between the upper terminal part and the upper wiring part. 3 μm or more from the position The third insulating layer is in contact with the portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion and the other portion of the upper wiring portion, and the upper metal coating layer is made of nickel magnetism. May have low magnetism.
この場合、上部配線部と第3の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。 In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the upper wiring portion and the third insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.
また、第3の絶縁層は上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触している。上部金属被覆層は、上部配線部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるとともに、上部配線部の表面上で上部端子部と上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びている。それにより、上部導体パターンにおける上部端子部と上部配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。 The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion. The upper metal coating layer continuously extends from the surface of the upper wiring portion to the surface of the upper wiring portion, and at least 3 μm away from the position on the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion on the surface of the upper wiring portion. It extends to the position. Thereby, it is possible to prevent corrosion from occurring at and near the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion in the upper conductor pattern.
さらに、導体パターンと上部導体パターンの少なくとも一部とが上下に積層されるので、配線回路基板の小型化が実現されるとともに、配線回路基板の設計の自由度が向上する。 Furthermore, since the conductor pattern and at least a part of the upper conductor pattern are stacked one above the other, the wiring circuit board can be miniaturized and the design flexibility of the wiring circuit board can be improved.
(15)配線回路基板は、下部絶縁層と、下部絶縁層上に形成された下部導体パターンとをさらに備え、第1の絶縁層は、下部導体パターンの少なくとも一部を覆うように下部絶縁層上に形成され、導体パターンの少なくとも一部は、下部導体パターンに重なってもよい。これにより、導体パターンと下部導体パターンの少なくとも一部とが上下に積層されるので、配線回路基板の小型化が実現されるとともに、配線回路基板の設計の自由度が向上する。 (15) The wired circuit board further includes a lower insulating layer and a lower conductor pattern formed on the lower insulating layer, and the first insulating layer covers the at least part of the lower conductor pattern. The conductor pattern may be formed at least partially overlapping the lower conductor pattern. Thereby, since the conductor pattern and at least a part of the lower conductor pattern are stacked one above the other, the wiring circuit board can be reduced in size and the degree of freedom in designing the wiring circuit board can be improved.
(16)第4の発明に係る配線回路基板の製造方法は、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンを第1の絶縁層上に形成する工程と、配線部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるようにかつ配線部に接触するように、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属を用いて金属被覆層を形成する工程と、金属被覆層のうち配線部を覆う部分を覆うとともに金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないようにかつ金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するように第1の絶縁層上に第2の絶縁層を形成する工程とを含む。 (16) A method for manufacturing a printed circuit board according to a fourth invention includes a step of forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer, and the wiring portion and the terminal portion. Forming a metal coating layer using a metal having a magnetic property lower than that of nickel so as to cover the wire and continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion and in contact with the wiring portion And covering the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion and not covering the portion of the metal coating layer that covers the terminal portion and contacting the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion. Forming a second insulating layer on the layer.
その配線回路基板の製造方法においては、配線部を覆うように金属被覆層が設けられ、金属被覆層のうち配線部を覆う部分を覆うように第2の絶縁層が設けられる。金属被覆層は配線部に接触し、第2の絶縁層は金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触する。この場合、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。 In the method for manufacturing the printed circuit board, a metal coating layer is provided so as to cover the wiring portion, and a second insulating layer is provided so as to cover a portion of the metal coating layer that covers the wiring portion. The metal coating layer is in contact with the wiring portion, and the second insulating layer is in contact with a portion of the metal coating layer that covers the wiring portion. In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.
また、第2の絶縁層が金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触することにより、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。 In addition, when the second insulating layer comes into contact with the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is improved. Further, the metal coating layer is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the metal coating layer from the outside of the second insulating layer. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern and in the vicinity thereof.
(17)第5の発明に係る配線回路基板の製造方法は、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンを第1の絶縁層上に形成する工程と、配線部の一部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるようにかつ配線部の一部に接触するように、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属を用いて金属被覆層を形成する工程と、金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないようにかつ金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触するように第2の絶縁層を第1の絶縁層上に形成する工程とを含み、金属被覆層を形成する工程において、金属被覆層は、配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成される。 (17) According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a printed circuit board manufacturing method comprising: forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer; Metal using a metal having a magnetic property lower than that of nickel so as to cover the terminal portion and continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion and to contact a part of the wiring portion A step of forming a covering layer, a portion of the metal covering layer that covers a part of the wiring portion, and a portion of the wiring portion that is not covered by the metal covering layer and a portion of the metal covering layer that covers the terminal portion Forming a second insulating layer on the first insulating layer so as to be in contact with the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion and in contact with the other portion of the wiring portion. In the process of forming the metal coating layer, the metal coating It is formed so as to extend from a position on the boundary between the wiring portion terminal portion to 3μm or more away on the surface of the wiring portion.
その配線回路基板の製造方法においては、配線部の一部と端子部とを覆うように金属被覆層が設けられ、金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うように第2の絶縁層が設けられる。金属被覆層は配線部の一部に接触し、第2の絶縁層は金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触する。この場合、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。 In the method of manufacturing the wired circuit board, a metal coating layer is provided so as to cover a part of the wiring part and the terminal part, and a part of the metal coating layer that covers a part of the wiring part and a metal coating of the wiring part A second insulating layer is provided so as to cover other parts not covered by the layer. The metal coating layer is in contact with a part of the wiring part, and the second insulating layer is in contact with a part of the metal coating layer that covers the wiring part and is in contact with another part of the wiring part. In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.
また、第2の絶縁層は金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触し、金属被覆層は配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びる。それにより、導体パターンにおける端子部と配線部との境界の近傍において、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。
The second insulating layer is in contact with the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion, and the metal coating layer is on the surface of the wiring portion up to a
(18)第6の発明に係る配線回路基板の製造方法は、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンを第1の絶縁層上に形成する工程と、配線部の一部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるようにかつ配線部の一部に接触するように金属被覆層を形成する工程と、金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないようにかつ金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部のうち他の部分に接触するように第2の絶縁層を第1の絶縁層上に形成する工程とを含み、金属被覆層を形成する工程において、金属被覆層は、配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成され、配線部の一部を覆う金属被覆層の長さの配線部の全長に対する割合は40%以下に設定される。 (18) A method for manufacturing a printed circuit board according to a sixth aspect of the invention includes a step of forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer, and a part of the wiring portion. A step of forming a metal coating layer so as to cover the terminal portion and continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion and to be in contact with a part of the wiring portion; Cover the part covering the part and the other part of the wiring part that is not covered by the metal coating layer, and cover the wiring part of the metal coating layer so as not to cover the part of the metal coating layer that covers the terminal part. Forming a second insulating layer on the first insulating layer so as to be in contact with the covered portion and in contact with another portion of the wiring portion, and in the step of forming the metal covering layer, the metal covering layer Is on the boundary between the terminal part and the wiring part on the surface of the wiring part. 3μm is formed so as to extend to over away from the location, the ratio of the total length of the length of the wiring portion of the metal coating layer covering a part of the wiring portion is set to 40% or less.
その配線回路基板の製造方法においては、配線部の一部と端子部とを覆うように金属被覆層が設けられ、金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うように第2の絶縁層が設けられる。金属被覆層は配線部の一部に接触し、第2の絶縁層は金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触する。 In the method of manufacturing the wired circuit board, a metal coating layer is provided so as to cover a part of the wiring part and the terminal part, and a part of the metal coating layer that covers a part of the wiring part and a metal coating of the wiring part A second insulating layer is provided so as to cover other parts not covered by the layer. The metal coating layer is in contact with a part of the wiring part, and the second insulating layer is in contact with a part of the metal coating layer that covers the wiring part and is in contact with another part of the wiring part.
ここで、配線部の全長に対する配線部の一部を覆う金属被覆層の長さの割合は40%以下である。この場合、配線部の全長に対して60%以上の長さにおいて、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。 Here, the ratio of the length of the metal coating layer covering a part of the wiring part to the entire length of the wiring part is 40% or less. In this case, in the length of 60% or more with respect to the entire length of the wiring portion, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.
また、第2の絶縁層は金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触し、金属被覆層は配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びる。それにより、導体パターンにおける端子部と配線部との境界の近傍において、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。
The second insulating layer is in contact with the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion, and the metal coating layer is on the surface of the wiring portion up to a
本発明によれば、導体パターンの腐食を防止しつつ高い周波数帯域においても電気信号の損失が低減された配線回路基板が実現される。 According to the present invention, it is possible to realize a printed circuit board in which loss of electric signals is reduced even in a high frequency band while preventing corrosion of the conductor pattern.
以下、本発明の実施の形態に係る配線回路基板およびその製造方法について図面を参照しながら説明する。本発明の実施の形態に係る配線回路基板として、ハードディスクドライブ装置のアクチュエータに用いられる回路付サスペンション基板(以下、サスペンション基板と略記する)について説明する。 Hereinafter, a printed circuit board and a manufacturing method thereof according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. As a wired circuit board according to an embodiment of the present invention, a suspension board with circuit (hereinafter abbreviated as a suspension board) used for an actuator of a hard disk drive device will be described.
[1]第1の実施の形態
(1)サスペンション基板の構造
図1は、第1の実施の形態に係るサスペンション基板の平面図である。図1において、矢印が向かう方向を前方と呼び、その逆方向を後方と呼ぶ。図1に示すように、サスペンション基板1は、金属製の長尺状の支持基板10(図5参照)により形成されるサスペンション本体部100を備える。図1においては、サスペンション本体部100は、略前後方向に延びている。
[1] First Embodiment (1) Structure of Suspension Board FIG. 1 is a plan view of a suspension board according to the first embodiment. In FIG. 1, the direction in which the arrow heads is called the front, and the opposite direction is called the rear. As shown in FIG. 1, the
サスペンション基板1は、長尺状の支持プレート50により支持される。サスペンション本体部100の上面には、点線で示すように、書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2が形成されている。
The
サスペンション本体部100の先端部には、U字状の開口部11を形成することにより磁気ヘッド搭載部(以下、タング部と呼ぶ)12が設けられている。タング部12は、サスペンション本体部100に対して所定の角度をなすように破線Rの箇所で折り曲げ加工される。
A magnetic head mounting portion (hereinafter referred to as a tongue portion) 12 is provided by forming a
サスペンション本体部100の一端部におけるタング部12の上面には4つの接続端子21,22,23,24が形成されている。また、サスペンション本体部100が延びる方向における中央部近傍の両側部には、2つの接続端子25,26がそれぞれ形成されている。タング部12の上面に磁気ヘッドを有するヘッドスライダ(図示せず)が実装される。タング部12の接続端子21〜24にヘッドスライダの磁気ヘッドの端子が接続される。接続端子25,26は、支持プレート50に設けられた2つの圧電素子91,92にそれぞれ接続される。
Four
サスペンション本体部100の他端部の上面には6つの接続端子31,32,33,34,35,36が形成されている。接続端子31〜34には、プリアンプ等の電子回路が接続される。接続端子35,36には圧電素子91,92用の電源回路が接続される。接続端子21〜26と接続端子31〜36とは、それぞれ書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2により電気的に接続されている。また、サスペンション本体部100には複数の孔部Hが形成されている。
Six
支持プレート50は、前端領域51、後端領域52および中央領域53を有する。後端領域52は矩形状を有する。前端領域51は台形状を有し、その幅は後方から前方に向かって漸次減少する。中央領域53は前後方向に延びる矩形状を有し、前端領域51と後端領域52との間に配置される。サスペンション基板1が支持プレート50の上面に支持された状態において、接続端子31〜36を含むサスペンション基板1の端部は、後端領域52から後方に突出する。
The
中央領域53の一部分には、圧電素子実装領域54が設けられる。圧電素子実装領域54は、サスペンション基板1の接続端子25,26と重なる。圧電素子実装領域54の両側部は、外方に湾曲するように突出する。また、圧電素子実装領域54には、幅方向(前後方向に直交する方向)に延びる貫通孔54hが形成される。この構成によれば、支持プレート50の圧電素子実装領域54の部分は、前後方向に伸縮性を有する。
A piezoelectric
貫通孔54hをまたぐように圧電素子実装領域54の下面に圧電素子91,92が実装される。圧電素子91,92は、サスペンション基板1の両側方にそれぞれ位置する。圧電素子91,92は、貫通孔54hを通してサスペンション基板1の接続端子25,26にそれぞれ接続される。
接続端子25,35および電源用配線パターンP1を介して圧電素子91に電圧が印加され、接続端子26,36および電源用配線パターンP2を介して圧電素子92に電圧が印加される。これにより、圧電素子91,92の伸縮に伴って、支持プレート50が前後方向に伸縮する。圧電素子91,92に印加される電圧を制御することにより、サスペンション基板1上のヘッドスライダの磁気ヘッドの微小な位置合わせが可能になる。
A voltage is applied to the
支持プレート50に支持されたサスペンション基板1はハードディスク装置に設けられる。磁気ディスクへの情報の書込み時に一対の書込用配線パターンW1,W2に電流が流れる。書込用配線パターンW1と書込用配線パターンW2とは、差動の書込み信号を伝送する差動信号線路対を構成する。また、磁気ディスクからの情報の読取り時に一対の読取用配線パターンR1,R2に電流が流れる。読取用配線パターンR1と読取用配線パターンR2とは、差動の読取り信号を伝送する差動信号線路対を構成する。
The
(2)接続端子およびその周辺部分の構成
次に、サスペンション基板1の接続端子21〜26,31〜36およびその周辺部分について詳細に説明する。図2〜図4は、接続端子21〜26,31〜36およびその周辺部分の平面図である。図5は、接続端子21〜26,31〜36およびその周辺部分の断面図である。図2(a)〜(c)の縮尺は互いに異なり、図3(a)〜(c)の縮尺は互いに異なり、図4(a)〜(c)の縮尺は互いに異なり、図5(a)〜(c)の縮尺は互いに異なる。
(2) Configuration of Connection Terminal and its Peripheral Part Next, the
図2(a)、図3(a)および図4(a)は図1の接続端子21〜24およびその周辺部分を示し、図2(b)、図3(b)および図4(b)は図1の接続端子25およびその周辺部分を示し、図2(c)、図3(c)および図4(c)は図1の接続端子31,32およびその周辺部分を示す。図2(a)〜(c)においては、金属被覆層15(図5参照)およびカバー絶縁層43(図5参照)の図示が省略されている。図3(a)〜(c)においては、カバー絶縁層43(図5参照)の図示が省略されている。接続端子26は接続端子25と同様の構成を有し、接続端子33〜36は接続端子31,32と同様の構成を有する。
2 (a), 3 (a) and 4 (a) show the
図5(a)〜(c)は、図2(a)のA−A線拡大断面図、図2(b)のB−B線拡大断面図および図2(c)のC−C線拡大断面図をそれぞれ示す。図2(a)〜(c)、図3(a)〜(c)および図4(a)〜(c)の平面図には、構成の理解を容易にするために、図5(a)〜(c)の断面図の各部材に付されたハッチングまたはドットパターンと同一のハッチングまたはドットパターンが付されている。後述する図6〜図12、図14および図38等についても同様である。 5A to 5C are an AA line enlarged sectional view of FIG. 2A, an BB line enlarged sectional view of FIG. 2B, and a CC line enlarged view of FIG. Cross-sectional views are shown respectively. 2 (a) to (c), FIGS. 3 (a) to (c) and FIGS. 4 (a) to (c) are illustrated in FIG. The hatching or dot pattern same as the hatching or dot pattern given to each member of the sectional views of (c) to (c) is given. The same applies to FIGS. 6 to 12, 14, and 38 described later.
図5(a)〜(c)に示すように、例えばステンレス鋼からなる金属製の支持基板10上に例えばポリイミドからなるベース絶縁層41が形成される。図2(a)〜(c)に示すように、ベース絶縁層41上に、例えば銅からなる複数(本例では6つ)の導体パターン61が形成される。各導体パターン61は、2つの端子部61aと1本の配線部61bとを含む。配線部61bは、2つの端子部61aをつなぐようにかつ各端子部61aから延びるように形成される。6つの導体パターン61の配線部61bにより、上記の書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2がそれぞれ構成される。なお、各導体パターン61とベース絶縁層41との間には図示しないシード層が形成されている。
As shown in FIGS. 5A to 5C, a
図5(a)〜(c)に示すように、各導体パターン61の全体を覆うように金属被覆層15が形成される。具体的には、各導体パターン61の端子部61aおよび配線部61bを覆うとともに端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように金属被覆層15が形成される。本実施の形態においては、金属被覆層15は、主としてニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属(例えば非磁性体の金属)からなり、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。具体的には、金属被覆層15は例えば金からなる。
As shown in FIGS. 5A to 5C, the
複数の導体パターン61の2つの端子部61aにそれぞれ金属被覆層15が形成されることにより、図3(a)に示すように、書込用配線パターンW1,W2および読取用配線パターンR1,R2の一端部に、それぞれ接続端子21〜24が形成される。図3(b)に示すように、電源用配線パターンP1の一端部に、接続端子25が形成される。同様に、電源用配線パターンP2(図1)の一端部に、接続端子26(図1)が形成される。図3(c)に示すように、書込用配線パターンW1,W2の他端部に、それぞれ接続端子31,32が形成される。同様に、読取用配線パターンR1,R2(図1)および電源用配線パターンP1,P2(図1)の他端部に、接続端子33〜36(図1)が形成される。
By forming the
図4(a)〜(c)に示すように、各導体パターン61に形成される金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分を覆うとともに端子部61aを覆う部分を覆わないように、ベース絶縁層41上にカバー絶縁層43が形成される。カバー絶縁層43は、例えばポリイミドからなる。
As shown in FIGS. 4A to 4C, the base is formed so as to cover a portion covering the
上記の構成において、金属被覆層15は配線部61bおよび端子部61aに接触し、カバー絶縁層43は金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分に接触する。また、接続端子21〜24,33〜36の近傍に位置するカバー絶縁層43の端部は、各導体パターン61の端子部61aと配線部61bとの境界61c(図5参照)上に位置する。
In the above configuration, the
図5(a)〜(c)に示すように、本実施の形態においては、金属被覆層15は、配線部61bの表面上で端子部61aと配線部61bとの境界61c上の位置から少なくとも距離L0離れた位置まで延びるように形成される。距離L0は、3μm以上である。
As shown in FIGS. 5A to 5C, in the present embodiment, the
(3)サスペンション基板の製造方法
以下、サスペンション基板1の製造方法を説明する。図6〜図9は、図1のサスペンション基板1の製造工程を示す模式的工程図である。図6および図7は接続端子21〜24およびその周辺に相当する部分の平面図を示す。図8および図9は、図6および図7のD−D線断面図を示す。
(3) Method for Manufacturing Suspension Board Hereinafter, a method for manufacturing the
まず、図6(a)および図8(a)に示すように、例えばステンレス鋼からなる支持層10a上に、例えばポリイミドからなるベース絶縁層41を形成する。支持層10aの厚みは、例えば10μm以上50μm以下である。ベース絶縁層41の厚みは、例えば5μm以上15μm以下である。ここで、ベース絶縁層41は、図1のサスペンション基板1の形状と同一の形状に形成される。
First, as shown in FIGS. 6A and 8A, a
次に、図6(b)および図8(b)に示すように、ベース絶縁層41上に図示しないシード層を介して例えば銅からなる複数(本例では6つ)の導体パターン61を形成する。シード層は、例えばクロムおよび銅の積層膜またはクロムの単層膜からなり、スパッタリング、無電解めっきまたは蒸着等の方法により形成することができる。各導体パターン61の厚みは、例えば1μm以上20μm以下である。6つの導体パターン61の配線部61bにより、ベース絶縁層41上に書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2が形成される。
Next, as shown in FIGS. 6B and 8B, a plurality of (six in this example)
書込用配線パターンW1,W2間の間隔および読取用配線パターンR1,R2間の間隔は、例えばそれぞれ5μm以上100μm以下である。同様に、書込用配線パターンW1と電源用配線パターンP1との間の間隔および読取用配線パターンR2と電源用配線パターンP2との間の間隔は、例えばそれぞれ5μm以上100μm以下である。書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2の幅は、例えば5μm以上200μm以下である。 The spacing between the write wiring patterns W1, W2 and the spacing between the read wiring patterns R1, R2 are, for example, 5 μm or more and 100 μm or less, respectively. Similarly, the distance between the write wiring pattern W1 and the power supply wiring pattern P1 and the distance between the read wiring pattern R2 and the power supply wiring pattern P2 are, for example, 5 μm or more and 100 μm or less, respectively. The widths of the write wiring patterns W1, W2, the read wiring patterns R1, R2, and the power supply wiring patterns P1, P2 are, for example, not less than 5 μm and not more than 200 μm.
続いて、図6(c)および図8(c)に示すように、各導体パターン61の端子部61aおよび配線部61bを覆うとともに端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように金属被覆層15を形成する。6つの導体パターン61の端子部61aとそれらの端子部61aを被覆する金属被覆層15とにより、図1の接続端子21〜26,31〜36が形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 6C and FIG. 8C, the
金属被覆層15は、主としてニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属からなり、例えば電解めっきにより形成される。なお、金属被覆層15は、無電解めっきまたはスパッタリングにより形成することもできる。金属被覆層15の材料としては、例えば金が用いられる。また、金属被覆層15の材料として銀、クロム、錫および白金のうちいずれかを用いることもできる。金属被覆層15の厚みは、例えば0.005μm以上5μm以下であり、0.01μm以上3μm以下であることが好ましい。
The
その後、図7(a)および図9(a)に示すように、金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分を覆うとともに端子部61aを覆う部分を覆わないように、ベース絶縁層41上に例えばポリイミドからなるカバー絶縁層43を形成する。それにより、接続端子21〜26,31〜36がカバー絶縁層43から露出する。カバー絶縁層43の厚みは、例えば2μm以上10μm以下である。
Thereafter, as shown in FIG. 7A and FIG. 9A, on the
その後、図7(b)および図9(b)に示すように、ベース絶縁層41と重なる支持層10aの部分が残存するように支持層10aを加工することにより、支持基板10を形成する。支持層10aの加工は、例えばエッチングにより行われる。これにより、サスペンション基板1が完成する。
Thereafter, as shown in FIGS. 7B and 9B, the
(4)第1の実施の形態の効果
本実施の形態に係るサスペンション基板1においては、各導体パターン61の配線部61bを覆うように金属被覆層15が設けられ、金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分を覆うようにカバー絶縁層43が設けられる。金属被覆層15は配線部61bに接触し、カバー絶縁層43は金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分に接触する。この場合、配線部61bとカバー絶縁層43との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層(例えば強磁性体の金属からなる層)が存在しない。本発明者の実験および検討の結果、配線部61bとその配線部61bを覆うカバー絶縁層43との間にニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しないことにより、高い周波数帯域において電気信号の伝送損失を低減できることがわかった。したがって、上記のサスペンション基板1によれば、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。
(4) Effects of First Embodiment In the
また、上記の構成においては、カバー絶縁層43が金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分に接触することにより、カバー絶縁層43と配線部61bとが接触する場合に比べてカバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性が向上する。したがって、カバー絶縁層43と金属被覆層15との間に大きな空隙が生じにくくなる。さらに、金属被覆層15は、端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように形成される。それにより、金属被覆層15の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cおよびその近傍に腐食が発生することが防止される。
Further, in the above configuration, the
サスペンション基板1の上記の製造方法においては、配線部61b上に腐食の発生を防止するための金属被覆層15が形成されると同時に、端子部61a上に接続端子21〜26,31〜36用の金属被覆層15が形成される。この場合、配線部61bへの金属被覆層15の形成と、端子部61aへの金属被覆層15の形成とを個別に行う必要がないので、サスペンション基板1の製造工程数が低減される。
In the above manufacturing method of the
[2]第2の実施の形態
第2の実施の形態に係るサスペンション基板について、第1の実施の形態に係るサスペンション基板1と異なる点を説明する。図10は、第2の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。図10(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図10(a)の平面図は、第1の実施の形態の図3(a)の平面図に対応する。図10(b)の断面図は、図10(a)のE−E線拡大断面図を示し、第1の実施の形態の図5(a)の断面図に対応する。
[2] Second Embodiment A suspension board according to a second embodiment will be described while referring to differences from the
本実施の形態に係るサスペンション基板においても、第1の実施の形態と同様に、支持基板10上にベース絶縁層41が形成され、ベース絶縁層41上に図示しないシード層を介して複数の導体パターン61が形成される。複数の導体パターン61の配線部61bを覆うようにベース絶縁層41上にカバー絶縁層43が形成される(図4(a)参照)。図10(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
Also in the suspension board according to the present embodiment, the
図10(a),(b)に示すように、本実施の形態では、各導体パターン61の配線部61bの一部と端子部61aとを覆うとともに端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように金属被覆層15が設けられる。さらに、金属被覆層15は、配線部61bの表面上で端子部61aと配線部61bとの境界61c上の位置から距離L1離れた位置まで延びる。
As shown in FIGS. 10A and 10B, in this embodiment, a part of the
本実施の形態に係るサスペンション基板においては、各導体パターン61の配線部61bの一部を覆うように金属被覆層15が設けられる。また、金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分と、配線部61bのうち金属被覆層15により覆われない他の部分とを覆うようにカバー絶縁層43が設けられる。金属被覆層15は配線部61bの一部に接触し、カバー絶縁層43は金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分に接触するとともに配線部61bの他の部分に接触する。この場合、配線部61bとカバー絶縁層43との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しない。したがって、本実施の形態においても、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。
In the suspension board according to the present embodiment, the
本実施の形態においては、上記の距離L1は3μm以上に設定される。この場合、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cの近傍において、金属被覆層15によりカバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性が向上する。それにより、第1の実施の形態と同様に、金属被覆層15の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cおよびその近傍に腐食が発生することが防止される。
In the present embodiment, the distance L1 is set to 3 μm or more. In this case, in the vicinity of the
上記の距離L1は、5μm以上に設定されることが好ましい。この場合、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cの近傍において、カバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性がより向上する。したがって、カバー絶縁層43と金属被覆層15との間に大きな空隙がより生じにくくなる。その結果、導体パターン61における腐食の発生がより防止される。
The distance L1 is preferably set to 5 μm or more. In this case, in the vicinity of the
[3]第3の実施の形態
第3の実施の形態に係るサスペンション基板について、第2の実施の形態に係るサスペンション基板と異なる点を説明する。図11は、第3の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。図11(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図11(a)の平面図は、第2の実施の形態の図10(a)の平面図に対応する。図11(b)の断面図は、図11(a)のF−F線拡大断面図を示し、第2の実施の形態の図10(b)の断面図に対応する。図10(a)の例と同様に、図11(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
[3] Third Embodiment A suspension board according to a third embodiment will be described while referring to differences from the suspension board according to the second embodiment. FIG. 11 is a plan view and a cross-sectional view showing a part of the suspension board according to the third embodiment. FIGS. 11A and 11B are a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 11A corresponds to the plan view of FIG. 10A of the second embodiment. The sectional view of FIG. 11B shows an enlarged sectional view taken along line FF of FIG. 11A and corresponds to the sectional view of FIG. 10B of the second embodiment. Similar to the example of FIG. 10A, the
図11(a),(b)に示すように、本実施の形態では、各導体パターン61に形成される金属被覆層15のうち端子部61aを覆う部分を覆うように、例えば金からなる金属被覆層16が形成されている。金属被覆層16の厚みは、例えば0.005μm以上5μm以下であり、0.01μm以上3μm以下であることが好ましい。
As shown in FIGS. 11A and 11B, in the present embodiment, a metal made of, for example, gold so as to cover a portion covering the
本実施の形態に係るサスペンション基板の製造方法においては、カバー絶縁層43の形成後(図7(a)および図9(a)参照)、露出する金属被覆層15上に例えば電解めっきにより金属被覆層16が形成される。この場合、図1の接続端子21〜26,31〜36は、導体パターン61の端子部61a、金属被覆層15および金属被覆層16により形成される。
In the manufacturing method of the suspension board according to the present embodiment, after the insulating
上記の構成によれば、サスペンション基板の製造過程で金属被覆層15の表面状態が不安定になる場合でも、端子部61aにおける金属被覆層15の表面が金属被覆層16により覆われる。それにより、接続端子21〜26,31〜36の表面状態を整えることができる。
According to the above configuration, even when the surface state of the
本実施の形態では、金属被覆層16の材料として金が用いられる。上記の例に限らず、金属被覆層16の材料としてニッケル、銀、クロム、錫および白金のうちいずれかを用いることもできる。
In the present embodiment, gold is used as the material of the
[4]第4の実施の形態
第4の実施の形態に係るサスペンション基板について、第2の実施の形態に係るサスペンション基板と異なる点を説明する。図12は、第4の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。図12(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図12(a)の平面図は、第2の実施の形態の図10(a)の平面図に対応する。図12(b)の断面図は、図12(a)のG−G線拡大断面図を示し、第2の実施の形態の図10(b)の断面図に対応する。図10(a)の例と同様に、図12(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
[4] Fourth Embodiment A suspension board according to a fourth embodiment will be described while referring to differences from the suspension board according to the second embodiment. FIG. 12 is a plan view and a sectional view showing a part of the suspension board according to the fourth embodiment. FIGS. 12A and 12B are a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 12A corresponds to the plan view of FIG. 10A of the second embodiment. The sectional view of FIG. 12B shows an enlarged sectional view taken along the line GG of FIG. 12A and corresponds to the sectional view of FIG. 10B of the second embodiment. Similar to the example of FIG. 10A, the
図12(a),(b)に示すように、本実施の形態では、図10の金属被覆層15に代えて例えばニッケルからなる金属被覆層17が設けられる。本実施の形態において、金属被覆層17は、主としてニッケルの磁性以上の磁性を有する金属からなり、例えば電解めっき、無電解めっきまたはスパッタリングにより形成される。金属被覆層17の厚みは、例えば0.005μm以上5μm以下であり、0.01μm以上3μm以下であることが好ましい。
As shown in FIGS. 12A and 12B, in the present embodiment, a
金属被覆層17は、配線部61bの表面上で端子部61aと配線部61bとの境界61c上の位置から距離L2離れた位置まで延びる。距離L2は3μm以上に設定される。それにより、第2の実施の形態と同様に、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cの近傍において、金属被覆層17によりカバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性が向上する。したがって、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cおよびその近傍に腐食が発生することが防止される。
The
図13は、第4の実施の形態に係るサスペンション基板の他の例を示す平面図である。図13では、書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2のうち金属被覆層17が形成されている部分が太い実線で示される。図13のサスペンション基板においては、金属被覆層17の距離L2が図12(a),(b)の例に比べて長い。
FIG. 13 is a plan view showing another example of the suspension board according to the fourth embodiment. In FIG. 13, portions where the
ここで、書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2を構成する複数の導体パターン61の各々において、配線部61bの軸心に沿う一方の端子部61aと他方の端子部61aとの間の距離を配線部61bの全長と呼ぶ。
Here, in each of the plurality of
この場合、上記の距離L2は、配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合が40%以下となるように設定される。
In this case, the distance L2 is set so that the ratio of the length of all the metal coating layers 17 covering the
上記の構成においては、配線部61bの一部と端子部61aとを覆うように金属被覆層17が設けられ、金属被覆層17のうち配線部61bの一部を覆う部分と配線部61bのうち金属被覆層17により覆われない他の部分とを覆うようにカバー絶縁層43が設けられる。金属被覆層17は配線部61bの一部に接触し、カバー絶縁層43は金属被覆層17のうち配線部61bを覆う部分に接触するとともに配線部61bの他の部分に接触する。
In the above configuration, the
この場合、配線部61bの全長に対して60%以上の長さの範囲において、配線部61bとカバー絶縁層43との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しない。本発明者の実験および検討の結果、配線部61bとその配線部61bを覆うカバー絶縁層43との間にニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在する場合でも、配線部61bの全長に対するその金属層の長さの割合が40%以下に設定されることにより、高い周波数帯域において電気信号の伝送損失を低減できることがわかった。それにより、本実施の形態においても、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。
In this case, in the range of 60% or more of the total length of the
[5]第5の実施の形態
第5の実施の形態に係るサスペンション基板について、第4の実施の形態に係るサスペンション基板と異なる点を説明する。図14は、第5の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。図14(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図14(a)の平面図は、第4の実施の形態の図12(a)の平面図に対応する。図14(b)の断面図は、図14(a)のJ−J線拡大断面図を示し、第4の実施の形態の図12(b)の断面図に対応する。図12(a)の例と同様に、図14(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
[5] Fifth Embodiment A suspension board according to the fifth embodiment will be described while referring to differences from the suspension board according to the fourth embodiment. FIG. 14 is a plan view and a cross-sectional view showing a part of the suspension board according to the fifth embodiment. 14A and 14B are a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 14A corresponds to the plan view of FIG. 12A of the fourth embodiment. The sectional view of FIG. 14B shows an enlarged sectional view taken along line JJ of FIG. 14A and corresponds to the sectional view of FIG. 12B of the fourth embodiment. As in the example of FIG. 12A, the
図14(a),(b)に示すように、本実施の形態では、図12の金属被覆層17の全体を覆うように金属被覆層18が形成されている。金属被覆層18の厚みは、例えば0.005μm以上5μm以下であり、0.01μm以上3μm以下であることが好ましい。金属被覆層18の材料としては、例えば金が用いられる。また、金属被覆層18の材料としてニッケル、銀、クロム、錫および白金のうちいずれかを用いることもできる。
As shown in FIGS. 14A and 14B, in the present embodiment, a
第5の実施の形態に係るサスペンション基板の製造方法においては、ベース絶縁層41上に図示しないシード層を介して複数の導体パターン61を形成した後、各導体パターン61の一部に金属被覆層17および金属被覆層18が順次積層される。金属被覆層17は例えば無電解めっきまたはスパッタリングにより形成され、金属被覆層18は例えば電解めっきにより形成される。その後、金属被覆層18のうち配線部61bを覆う部分と配線部61bのうち金属被覆層17,18により覆われない他の部分とを覆うようにベース絶縁層41上にカバー絶縁層43が形成される。
In the method for manufacturing a suspension board according to the fifth embodiment, a plurality of
本実施の形態においては、カバー絶縁層43は金属被覆層18のうち配線部61bを覆う部分に接触する。金属被覆層18は、配線部61bの表面上で端子部61aと配線部61bとの境界61c上の位置から距離L2離れた位置まで延びる。距離L2は3μm以上に設定される。それにより、第4の実施の形態と同様に、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cの近傍において、金属被覆層18によりカバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性が向上する。したがって、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cおよびその近傍に腐食が発生することが防止される。
In the present embodiment, the insulating
[6]他の実施の形態
(1)第1の実施の形態に係るサスペンション基板1においては、接続端子21〜24が、図2〜図5の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図15は、第1の実施の形態に係るサスペンション基板1における接続端子21〜24の他の構成例を示す平面図および断面図である。図15(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図15(a)の平面図は、第1の実施の形態の図3(a)の平面図に対応する。図15(b)の断面図は、図15(a)のA1−A1線拡大断面図を示し、第1の実施の形態の図5(a)の断面図に対応する。図3(a)の例と同様に、図15(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
[6] Other Embodiments (1) In the
図15(a),(b)に示すように、各導体パターン61に形成される金属被覆層15のうち端子部61aを覆う部分を覆うように、バリア層70が形成されている。さらに、バリア層70を覆うように金層71が形成されている。この場合、接続端子21〜24は、導体パターン61の端子部61a、金属被覆層15、バリア層70および金層71により形成される。
As shown in FIGS. 15A and 15B, a
バリア層70の厚みは、例えば0.2μm以上4.0μm以下であり、0.5μm以上3.0μm以下であることが好ましい。また、金層71の厚みは、例えば0.02μm以上1.5μm以下であり、0.05μm以上1.0μm以下であることが好ましい。
The thickness of the
ここで、バリア層70は、導体パターン61の表面から金属被覆層15に拡散する銅の成分が、さらに金層71へ拡散することを抑制する機能を有する。このような機能を実現するために、本例ではバリア層70の材料としてニッケルが用いられる。なお、バリア層70として、ニッケルに代えてパラジウムを用いることもできる。
Here, the
上記の構成によれば、接続端子21〜24においては、外部に露出する金層71に導体パターン61の銅の成分が拡散しない。それにより、金層71に銅の成分が拡散することに起因する金層71の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。したがって、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。
According to said structure, in the connection terminals 21-24, the copper component of the
接続端子25,26,31〜36においても、図15の接続端子21〜24と同様に、バリア層70および金層71が設けられてもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。
Also in the
(2)第2の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜24が、図10の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図16は、第2の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子21〜24の他の構成例を示す平面図および断面図である。図16(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図16(a)の平面図は、第2の実施の形態の図10(a)の平面図に対応する。図16(b)の断面図は、図16(a)のA2−A2線拡大断面図を示し、第2の実施の形態の図10(b)の断面図に対応する。図10(a)の例と同様に、図16(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
(2) In the suspension board according to the second embodiment, the
図16(a),(b)に示すように、本例では、図15の例と同様に、各導体パターン61に形成される金属被覆層15のうち端子部61aを覆う部分を覆うように、バリア層70が形成されている。さらに、バリア層70を覆うように金層71が形成されている。それにより、金層71に導体パターン61の銅の成分が拡散することに起因する金層71の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。したがって、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。
As shown in FIGS. 16A and 16B, in this example, as in the example of FIG. 15, the portion covering the
接続端子25,26,31〜36においても、図16の接続端子21〜24と同様に、バリア層70および金層71が設けられてもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。
Also in the
(3)第5の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜24が、図14の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図17は、第5の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子21〜24の他の構成例を示す平面図および断面図である。図17(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図17(a)の平面図は、第5の実施の形態の図14(a)の平面図に対応する。図17(b)の断面図は、図17(a)のA3−A3線拡大断面図を示し、第5の実施の形態の図14(b)の断面図に対応する。図14(a)の例と同様に、図17(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
(3) In the suspension board according to the fifth embodiment, the
図17(a),(b)に示すように、各導体パターン61に形成される金属被覆層17,18のうち端子部61aを覆う部分を覆うように、図15および図16の例と同様のバリア層70が形成されている。さらに、バリア層70を覆うように金層71が形成されている。この場合、接続端子21〜24は、導体パターン61の端子部61a、金属被覆層17,18、バリア層70および金層71により形成される。
As shown in FIGS. 17A and 17B, the metal coating layers 17 and 18 formed in the
本例のバリア層70は、導体パターン61の表面から金属被覆層17,18に拡散する銅の成分が、さらに金層71へ拡散することを抑制する機能を有する。それにより、金層71に導体パターン61の銅の成分が拡散することに起因する金層71の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。したがって、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。
The
接続端子25,26,31〜36においても、図17の接続端子21〜24と同様に、バリア層70および金層71が設けられてもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。
Also in the
(4)第4の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜24が、図12の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図18は、第4の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子21〜24の他の構成例を示す平面図および断面図である。図18(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図18(a)の平面図は、第4の実施の形態の図12(a)の平面図に対応する。図18(b)の断面図は、図18(a)のA4−A4線拡大断面図を示し、第4の実施の形態の図12(b)の断面図に対応する。図12(a)の例と同様に、図18(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
(4) In the suspension board according to the fourth embodiment, the
本例では、金属被覆層17の材料としてニッケルが用いられる。図18(a),(b)に示すように、各導体パターン61に形成される金属被覆層17のうち端子部61aを覆う部分を覆うように、ニッケルからなるバリア層70が形成されている。さらに、バリア層70を覆うように金層71が形成されている。この場合、接続端子21〜24は、導体パターン61の端子部61a、金属被覆層17、バリア層70および金層71により形成される。
In this example, nickel is used as the material of the
本例のサスペンション基板の製造過程においては、支持層10a上にベース絶縁層41が形成され、ベース絶縁層41上に形成される導体パターン61の一部に金属被覆層17が形成される。導体パターン61の配線部61bに重なるようにカバー絶縁層43が形成され、支持層10aに図1の開口部11および孔部Hが形成される。その後、端子部61aを覆う金属被覆層17の部分にバリア層70および金層71が順次形成され、支持基板10の外形が形成されるように支持層10aが加工される。
In the manufacturing process of the suspension board of this example, the
上記の製造過程のうちカバー絶縁層43が形成されてから金層71が形成されるまでの間には、例えばシード層を除去するためのソフトエッチング等によりカバー絶縁層43で覆われていない金属被覆層17の部分の表面状態が不安定になる場合がある。このような場合でも、後工程でカバー絶縁層43で覆われていない金属被覆層17の部分がバリア層70により覆われる。したがって、表面状態が整えられたバリア層70上に連続的に金層71を形成することができる。
In the above manufacturing process, between the formation of the
これにより、金属被覆層17およびバリア層70のニッケルにより導体パターン61から金層71へ銅の成分が拡散することが十分に抑制される。したがって、金層71に導体パターン61の銅の成分が拡散することに起因する金層71の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。その結果、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。
Thereby, the diffusion of the copper component from the
接続端子25,26,31〜36においても、図18の接続端子21〜24と同様に、バリア層70および金層71が設けられてもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。
Also in the
なお、上記の製造過程のうちカバー絶縁層43が形成されてから金層71が形成されるまでの間に金属被覆層17の部分の表面状態が不安定にならない場合には、バリア層70は設けられなくてもよい。端子部61aを覆う金属被覆層17の部分に金層71が形成されてもよい。
In the above manufacturing process, when the surface state of the
(5)第4の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜24が、図12の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図19は、第4の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子21〜24のさらに他の構成例を示す平面図および断面図である。図19(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図19(a)の平面図は、第4の実施の形態の図12(a)の平面図に対応する。図19(b)の断面図は、図19(a)のA5−A5線拡大断面図を示し、第4の実施の形態の図12(b)の断面図に対応する。図12(a)の例と同様に、図19(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
(5) In the suspension board according to the fourth embodiment, the
本例では、図18の例と同様に、金属被覆層17の材料としてニッケルが用いられる。図19(a),(b)に示すように、金属被覆層17は、導体パターン61のうち境界61cおよびその近傍を除く配線部61bの一部を覆うように形成されている。金属被覆層17により被覆されていない導体パターン61の境界61cおよびその近傍と端子部61aとを覆うように、バリア層70が形成されている。本例のバリア層70は、金属被覆層17と同じ材料からなる。バリア層70のうち端子部61aを覆う部分を覆うように金層71が形成されている。この場合、接続端子21〜24は、導体パターン61の端子部61a、バリア層70および金層71により形成される。
In this example, nickel is used as the material of the
本例のサスペンション基板の製造過程においては、支持層10a上にベース絶縁層41が形成され、ベース絶縁層41上に形成される導体パターン61の一部に金属被覆層17が形成される。導体パターン61の配線部61bに重なるようにカバー絶縁層43が形成された後、カバー絶縁層43により覆われていない金属被覆層17の部分がエッチングにより除去される。このとき、境界61cの近傍に位置する金属被覆層17の部分も除去される。続いて、支持層10aに図1の開口部11および孔部Hが形成される。その後、露出する導体パターン61の境界61cおよびその近傍と端子部61aとを覆うように、バリア層70および金層71が形成され、支持基板10の外形が形成されるように支持層10aが加工される。
In the manufacturing process of the suspension board of this example, the
上記の製造過程においては、カバー絶縁層43が形成されてからバリア層70が形成されるまでの間に、導体パターン61の境界61cおよびその近傍と端子部61aとを覆う金属被覆層17が除去されている。その後、バリア層70と金層71とが露出する導体パターン61の部分に順次形成される。この場合、表面状態が整えられたバリア層70上に連続的に金層71を形成することができる。したがって、バリア層70のニッケルにより導体パターン61から金層71へ銅の成分が拡散することが十分に抑制される。それにより、金層71に導体パターン61の銅の成分が拡散することに起因する金層71の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。したがって、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。
In the above manufacturing process, the
図19の例では、導体パターン61上に形成される金属被覆層17とバリア層70とが同じニッケルからなり、一体的に構成される。端子部61aを覆うバリア層70は金属被覆層17の一部として機能する。金属被覆層17およびバリア層70により導体パターン61の境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われる。これにより、本例においても、金属被覆層17の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。
In the example of FIG. 19, the
接続端子25,26,31〜36は、図19の接続端子21〜24と同様の構成を有してもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。
The
(6)第5の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜24が、図14の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図20は、第5の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子21〜24のさらに他の構成例を示す平面図および断面図である。図20(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図20(a)の平面図は、第5の実施の形態の図14(a)の平面図に対応する。図20(b)の断面図は、図20(a)のA6−A6線拡大断面図を示し、第5の実施の形態の図14(b)の断面図に対応する。図14(a)の例と同様に、図20(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
(6) In the suspension board according to the fifth embodiment, the
本例では、金属被覆層17の材料としてニッケルが用いられ、金属被覆層18の材料として金が用いられる。図20(b)に示すように、金属被覆層18は、導体パターン61に接触しないように形成される。この場合、ニッケルからなる金属被覆層17は金属被覆層18に導体パターン61の銅の成分が拡散することを抑制する。
In this example, nickel is used as the material of the
それにより、金属被覆層18に導体パターン61の銅の成分が拡散することに起因する金属被覆層18の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。したがって、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。
As a result, the corrosion resistance and wettability of the
本例のサスペンション基板の製造過程においては、導体パターン61の一部に金属被覆層17を形成した後、金属被覆層18を形成する際に、金属被覆層17の端面および金属被覆層17により被覆されていない導体パターン61の表面部分にマスクを形成する。この状態で、金属被覆層17を覆うように金属被覆層18を形成する。その後、マスクを除去する。それにより、金属被覆層18と導体パターン61とが接触しないように、金属被覆層18を形成することができる。
In the manufacturing process of the suspension board of this example, after forming the
接続端子25,26,31〜36は、図20の接続端子21〜24と同様の構成を有してもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。
The
(7)上記の第1〜第5の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜26,31〜36が重なる支持基板10の部分が一定の厚みを有するが、本発明はこれに限定されない。接続端子21〜26,31〜36のいずれかが重なる支持基板10の部分に開口部が形成されてもよい。また、上記の第1〜第5の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜26,31〜36が重なるベース絶縁層41の部分が一定の厚みを有するが、本発明はこれに限定されない。接続端子21〜26,31〜36のいずれかが重なるベース絶縁層41の部分に凹部が形成されてもよい。
(7) In the suspension boards according to the first to fifth embodiments, the portion of the
図21は、他の実施の形態に係るサスペンション基板の平面図である。図21のサスペンション基板は、基本的に第5の実施の形態に係るサスペンション基板と同じ構成を有する。図21では、書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2のうち金属被覆層18が形成されている部分が太い実線で示される。以下、図21のサスペンション基板について、第5の実施の形態に係るサスペンション基板と異なる点を説明する。
FIG. 21 is a plan view of a suspension board according to another embodiment. The suspension board of FIG. 21 basically has the same configuration as the suspension board according to the fifth embodiment. In FIG. 21, the portions where the
図22は、接続端子21〜26,31〜36およびその周辺部分の平面図である。図23は、接続端子21〜26,31〜36およびその周辺部分の断面図である。図22(a)〜(c)の縮尺は互いに異なり、図23(a)〜(c)の縮尺は互いに異なる。
FIG. 22 is a plan view of the
図22(a)は図21の接続端子21〜24およびその周辺部分を示し、図22(b)は図21の接続端子25およびその周辺部分を示し、図22(c)は図21の接続端子31,32およびその周辺部分を示す。図22(a)〜(c)においては、カバー絶縁層43(図23参照)の図示が省略されている。接続端子26は接続端子25と同様の構成を有し、接続端子33〜36は接続端子31,32と同様の構成を有する。図23(a)〜(c)は、図22(a)のB1−B1線拡大断面図、図22(b)のB2−B2線拡大断面図および図22(c)のB3−B3線拡大断面図をそれぞれ示す。
22A shows the
図22(a)および図23(a)に示すように、接続端子21〜24およびその周辺部分の構成は、第5の実施の形態に係る接続端子21〜24およびその周辺部分の構成と同じである(図14参照)。
As shown in FIGS. 22A and 23A, the configuration of the
図22(b)および図23(b)に示すように、接続端子25はカバー絶縁層43に形成された円形の開口部43x(図23(b))を通して上方に露出するように形成されている。また、接続端子25は、導体パターン61の端子部61aおよび金属被覆層17,18により形成される。本例の接続端子25を構成する端子部61aは、円環形状を有する。また、金属被覆層17,18は、その端子部61aの内周面および上面を覆うように形成される。ベース絶縁層41のうち端子部61aに重なる部分に、導体パターン61の境界61cに対応する円形の凹部41uが形成されている。また、支持基板10のうち端子部61aに重なる部分に、導体パターン61の境界61cに対応する円形の開口部10xが形成されている。
As shown in FIGS. 22B and 23B, the
図22(c)および図23(c)に示すように、接続端子31およびその周辺部においては、ベース絶縁層41のうち端子部61aに重なる一部の矩形領域に、凹部41vが形成されている。また、支持基板10のうち端子部61aに重なる部分に、矩形の開口部10yが形成されている。
As shown in FIGS. 22 (c) and 23 (c), in the
図21のサスペンション基板の製造方法を説明する。図24〜図28は、図21のサスペンション基板1の製造工程を示す模式的工程図である。図24(a)、図25(a)、図26(a),図27(a)および図28(a)は図22(a)のB1−B1線拡大断面図に対応し、図24(b)、図25(b)、図26(b)、図27(b)および図28(b)は図22(b)のB2−B2線拡大断面図に対応し、図24(c)、図25(c)、図26(c)、図27(c)および図28(c)は図22(c)のB3−B3線拡大断面図に対応する。
A method for manufacturing the suspension board of FIG. 21 will be described. 24 to 28 are schematic process diagrams showing the manufacturing process of the
まず、図24(a)〜(c)に示すように、ステンレス鋼からなる支持層10a上にポリイミドからなるベース絶縁層41を形成することにより、支持層10aおよびベース絶縁層41からなる二層基板を形成する。また、図24(b),(c)に示すように、ベース絶縁層41のうち接続端子25,26,31〜36に重なることになる予め定められた領域に凹部41u,41vを形成する。凹部41u,41vは、例えば階調露光技術、レーザー加工技術またはエッチング技術を用いて形成することができる。
First, as shown in FIGS. 24A to 24C, by forming a
次に、図25(a)〜(c)に示すように、ベース絶縁層41上に図示しないシード層を介して銅からなる複数の導体パターン61を形成する。6つの導体パターン61の配線部61bにより、ベース絶縁層41上に書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2が形成される。
Next, as shown in FIGS. 25A to 25C, a plurality of
次に、図26(a)〜(c)に示すように、各導体パターン61の端子部61aおよび配線部61bを覆うとともに端子部61aの表面上から配線部61bの一部の表面上に連続して延びるようにニッケルからなる金属被覆層17を形成する。また、金属被覆層17を覆うように金からなる金属被覆層18を形成する。これにより、接続端子21〜26,31〜36が形成される。
Next, as shown in FIGS. 26A to 26C, the
次に、図27(a)〜(c)に示すように、金属被覆層17,18のうち配線部61bを覆う部分を覆うとともに端子部61aを覆う部分を覆わないように、ベース絶縁層41上に例えばポリイミドからなるカバー絶縁層43を形成する。
Next, as shown in FIGS. 27A to 27C, the
その後、図28(a)〜(c)に示すように、支持層10aに図1の開口部11および孔部Hを形成すると同時に支持層10aのうち端子部61aに重なる予め定められた部分に開口部10x,10yを形成する。
Thereafter, as shown in FIGS. 28A to 28C, the
最後に、ベース絶縁層41と重なる支持層10aの部分が残存するように支持層10aを加工することにより、支持基板10を形成する。これにより、サスペンション基板が完成する。
Finally, the
上記の図21のサスペンション基板においては、金属被覆層18は、導体パターン61に接触しないように形成されてもよい。それにより、図20の例と同様に、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜26,31〜36が実現される。さらに、上記の図21のサスペンション基板においては、カバー絶縁層43の形成前の工程で接続端子21〜26,31〜36が完成する。それにより、図28(a)〜(c)の工程の後で支持層10aを加工して支持基板10を形成する工程の前に、端子用のめっきを行う必要がない。したがって、製造工程数の増加が抑制されている。
In the suspension board of FIG. 21 described above, the
さらに、本例の接続端子21〜26,31〜36は、導体パターン61上に2つの金属被覆層17,18が積層された単純な構造を有する。そのため、サスペンション基板が超音波を用いて洗浄される場合でも、超音波の衝撃により接続端子21〜26,31〜36の各々が破損しにくい。
Furthermore, the
上記の図21のサスペンション基板においては、接続端子21〜26,31〜36のいずれかが重なるベース絶縁層41の部分に凹部41u,41vに代えて開口部が形成されてもよい。図29および図30は、図21のサスペンション基板においてベース絶縁層41の一部に開口部が形成された例を示す図である。
In the suspension board of FIG. 21 described above, an opening may be formed in the portion of the
図29(a)〜(c)の平面図は、図22(a)〜(c)の平面図にそれぞれ対応する。図30(a)〜(c)の拡大断面図は、図23(a)〜(c)の拡大断面図にそれぞれ対応する。 The plan views of FIGS. 29A to 29C correspond to the plan views of FIGS. 22A to 22C, respectively. 30 (a) to 30 (c) correspond to the enlarged sectional views of FIGS. 23 (a) to 23 (c), respectively.
図29(a)および図30(a)に示すように、接続端子21〜24およびその周辺部分の構成は、第5の実施の形態に係る接続端子21〜24およびその周辺部分の構成と同じである(図14参照)。図29(b)および図30(b)に示すように、本例では、ベース絶縁層41のうち端子部61aに重なる部分に、導体パターン61の境界61cに対応する円形の開口部41xが形成されている。また、図29(c)および図30(c)に示すように、接続端子31およびその周辺部においては、ベース絶縁層41のうち端子部61aに重なる一部の矩形領域に、開口部41yが形成されている。ベース絶縁層41の開口部41x,41yは、例えば図28の工程の後、支持層10aを加工して支持基板10を形成する工程の前に形成される。
As shown in FIGS. 29 (a) and 30 (a), the configuration of the
図30(a)〜(c)では、導体パターン61の下地としてベース絶縁層41上に形成されるシード層が太い実線で示される。この場合、図29(b),(c)に示すように、接続端子25,26,31〜36においては、導体パターン61の下面に形成されているシード層がベース絶縁層41の開口部41x,41yおよび支持基板10の開口部10x,10yを通して下方に露出する。これにより、当該露出部に電子機器の端子等を接続することができる。
30A to 30C, the seed layer formed on the
ここで、図30の構成において、シード層のうち下方に露出する部分が除去されてもよい。図31は、図30のサスペンション基板において露出するシード層の部分が除去された状態を示す図である。図31(a)〜(c)は、図30(a)〜(c)の拡大断面図にそれぞれ対応する。図31(b),(c)に示すように、本例では、導体パターン61の下面がベース絶縁層41の開口部41x,41yおよび支持基板10の開口部10x,10yを通して下方に露出する。これにより、当該露出部に電子機器の端子等を接続することができる。ベース絶縁層41の開口部41x,41y内に位置するシード層の部分は、例えばベース絶縁層41の開口部41x,41yの形成後に除去することができる。
Here, in the configuration of FIG. 30, a portion of the seed layer exposed downward may be removed. FIG. 31 is a diagram showing a state where a portion of the seed layer exposed in the suspension substrate of FIG. 30 is removed. FIGS. 31A to 31C correspond to enlarged cross-sectional views of FIGS. 30A to 30C, respectively. As shown in FIGS. 31B and 31C, in this example, the lower surface of the
(8)上記の実施の形態に係るサスペンション基板は、基本的に支持基板10上にベース絶縁層41、導体パターン61およびカバー絶縁層43がこの順で積層された構成を有するが、本発明はこれに限定されない。支持基板10上に複数のベース絶縁層41および複数の導体パターン61が交互に積層されてもよい。上下に重なる複数の導体パターン61およびそれらに対応する複数の接続端子の構成例について説明する。
(8) The suspension board according to the above embodiment basically has a configuration in which the
図32は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第1の構成例を示す断面図である。図32(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図32(b)に、図32(a)のC1−C1線縦断面図が示される。
FIG. 32 is a cross-sectional view showing a first configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 32A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two
図32の第1の構成例においては、支持基板10上に絶縁層41Aが形成されている。絶縁層41A上に、銅からなる導体パターン61Aが形成されている。導体パターン61Aは、端子部61aおよび配線部61bを含む。導体パターン61Aのうち配線部61bの一部と端子部61aとは、絶縁層41Aの端部から突出している。
In the first configuration example of FIG. 32, an insulating
導体パターン61Aの配線部61bの一部を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。金属被覆層17は、導体パターン61Aの上面および両側面上で導体パターン61Aの境界61cから3μm以上離れた位置まで延びている。導体パターン61Aの端子部61aを覆うように、金属被覆層17と同じ材料からなるバリア層70が形成されている。また、バリア層70は、導体パターン61Aの下面上で導体パターン61Aの端部から絶縁層41Aの端部の位置まで延びている。導体パターン61Aの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。なお、導体パターン61Aの端部から絶縁層41Aの端部の位置までの長さは、導体パターン61Aの配線部61bの全長に比べて極めて小さい。
A
金属被覆層17と導体パターン61Aの配線部61bのうち金属被覆層17により覆われない他の部分とを覆うとともにバリア層70を覆わないように絶縁層41A上に絶縁層41Bが形成されている。絶縁層41B上に、銅からなる導体パターン61Bが形成されている。導体パターン61Bは、端子部61aおよび配線部61bを含む。導体パターン61Bの一部は、導体パターン61Aに重なる。導体パターン61Bの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。導体パターン61Bの端子部61aを覆うように、金属被覆層17と同じ材料からなるバリア層70が形成されている。導体パターン61Bの配線部61bに重なりかつ金属被覆層17を覆うように絶縁層41B上にカバー絶縁層43が形成されている。
An insulating
下に位置する導体パターン61Aに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、フライング構造を有する接続端子TAが形成されている。上に位置する導体パターン61Bに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、接続端子TBが形成されている。
A
上記のように、下に位置する導体パターン61Aの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。これにより、導体パターン61Aの配線部61bでは、第4の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61Aの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。
As described above, the ratio of the length of all the metal coating layers 17 covering the
また、上記の構成においては、金属被覆層17とバリア層70とが同じニッケルからなり、金属被覆層17とバリア層70とが一体的に構成される。バリア層70は金属被覆層17の一部として機能する。金属被覆層17およびバリア層70により導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われる。これにより、金属被覆層17の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。
Moreover, in said structure, the
上に位置する導体パターン61Bの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されているので、導体パターン61Bとカバー絶縁層43との密着性が向上する。導体パターン61Bの配線部61bは、例えば低周波信号用の伝送線路、接地導体層またはシールド層として使用することが好ましい。
Since the
なお、図32の第1の構成例においては、図18の例と同様に、導体パターン61A,61Bの端子部61aとバリア層70との間に金属被覆層17が形成されてもよい。
In the first configuration example of FIG. 32, the
図33は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第2の構成例を示す断面図である。図33(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図33(b)に、図33(a)のC2−C2線縦断面図が示される。以下、第2の構成例について、図32の第1の構成例と異なる点を説明する。
FIG. 33 is a cross-sectional view showing a second configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 33A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two
図33の第2の構成例においては、導体パターン61Aの配線部61bの全体および端子部61aを覆うように金属被覆層15が形成されている。金属被覆層15は、主としてニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属(例えば非磁性体の金属)からなり、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。本例では、金属被覆層15の材料として、金または銀が用いられる。端子部61aを覆う金属被覆層15の部分を覆うようにニッケルからなるバリア層70が形成されている。また、バリア層70は、導体パターン61Aの下面上で導体パターン61Aの端部から絶縁層41Aの端部の位置まで延びている。
In the second configuration example of FIG. 33, the
導体パターン61Aの配線部61bを覆う金属被覆層15の部分を覆うとともに端子部61aを覆う金属被覆層15の他の部分を覆わないように絶縁層41A上に絶縁層41Bが形成されている。絶縁層41B上に、銅からなる導体パターン61Bが形成されている。導体パターン61Bには、図32の第1の構成例と同様に、ニッケルからなる金属被覆層17およびバリア層70が形成されている。
An insulating
下に位置する導体パターン61Aに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、フライング構造を有する接続端子TAが形成されている。上に位置する導体パターン61Bに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、接続端子TBが形成されている。
A
上記の構成においては、下に位置する導体パターン61Aの配線部61bと絶縁層41Bとの間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しない。これにより、導体パターン61Aの配線部61bでは、第1の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61Aの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。また、金属被覆層15により導体パターン61Aの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われるので、金属被覆層15の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61Aの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。
In the above configuration, there is no metal layer having magnetism higher than that of nickel between the
上に位置する導体パターン61Bの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されているので、導体パターン61Bとカバー絶縁層43との密着性が向上する。導体パターン61Bの配線部61bは、例えば低周波信号用の伝送線路、接地導体層またはシールド層として使用することが好ましい。
Since the
なお、図33の第2の構成例においては、図10の第2の実施の形態の例と同様に、導体パターン61Aの全体ではなく、導体パターン61Aの配線部61bの一部と端子部61aとを覆うように金属被覆層15が形成されてもよい。また、図18の例と同様に、導体パターン61Bの端子部61aとバリア層70との間に金属被覆層17が形成されてもよい。
In the second configuration example of FIG. 33, as in the example of the second embodiment of FIG. 10, not the
図34は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第3の構成例を示す断面図である。図34(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図34(b)に、図34(a)のC3−C3線縦断面図が示される。以下、第3の構成例について、図32の第1の構成例と異なる点を説明する。
FIG. 34 is a cross-sectional view showing a third configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 34A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two
図34の第3の構成例においては、導体パターン61Aの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。導体パターン61Aの端子部61aを覆うようにニッケルからなるバリア層70が形成されている。バリア層70は、導体パターン61Aの下面上で導体パターン61Aの端部から絶縁層41Aの端部の位置まで延びている。
In the third configuration example of FIG. 34, the
導体パターン61Aの配線部61bに重なりかつ金属被覆層17を覆うように絶縁層41A上に絶縁層41Bが形成されている。絶縁層41B上に、銅からなる導体パターン61Bが形成されている。導体パターン61Bの配線部61bの一部を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。金属被覆層17は、導体パターン61Bの境界61cから3μm以上離れた位置まで延びている。導体パターン61Bの端子部61aを覆うように、金属被覆層17と同じ材料からなるバリア層70が形成されている。導体パターン61Bの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。
An insulating
下に位置する導体パターン61Aに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、フライング構造を有する接続端子TAが形成されている。上に位置する導体パターン61Bに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、接続端子TBが形成されている。
A
上記のように、上に位置する導体パターン61Bの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。これにより、導体パターン61Bの配線部61bでは、第4の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61Bの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。
As described above, the ratio of the length of all the metal coating layers 17 covering the
また、上記の構成においては、金属被覆層17とバリア層70とが同じニッケルからなり、金属被覆層17とバリア層70とが一体的に構成される。バリア層70は金属被覆層17の一部として機能する。金属被覆層17およびバリア層70により導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われる。これにより、金属被覆層17の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。
Moreover, in said structure, the
下に位置する導体パターン61Aの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されているので、導体パターン61Aと絶縁層41Bとの密着性が向上する。導体パターン61Aの配線部61bは、例えば低周波信号用の伝送線路、接地導体層またはシールド層として使用することが好ましい。
Since the
なお、図34の第3の構成例においては、図18の例と同様に、導体パターン61A,61Bの端子部61aとバリア層70との間に金属被覆層17が形成されてもよい。
In the third configuration example of FIG. 34, the
図35は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第4の構成例を示す断面図である。図35(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図35(b)に、図35(a)のC4−C4線縦断面図が示される。以下、第4の構成例について、図32の第1の構成例と異なる点を説明する。
FIG. 35 is a cross-sectional view showing a fourth configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 35A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two
図35の第4の構成例においては、図32の第1の構成例と同様に、下に位置する導体パターン61Aの配線部61bの一部を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。導体パターン61Aの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。
In the fourth configuration example of FIG. 35, as in the first configuration example of FIG. 32, the
また、図35の第4の構成例においては、図34の第3の構成例と同様に、上に位置する導体パターン61Bの配線部61bの一部を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。導体パターン61Bの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。
Further, in the fourth configuration example of FIG. 35, similarly to the third configuration example of FIG. 34, the
これらより、導体パターン61A,61Bの配線部61bでは、第4の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61A,61Bの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。
From these, in the
なお、図35の第4の構成例においては、図18の例と同様に、導体パターン61A,61Bの端子部61aとバリア層70との間に金属被覆層17が形成されてもよい。
In the fourth configuration example of FIG. 35, the
図36は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第5の構成例を示す断面図である。図36(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図36(b)に、図36(a)のC5−C5線縦断面図が示される。以下、第5の構成例について、図34の第3の構成例と異なる点を説明する。
FIG. 36 is a cross-sectional view showing a fifth configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 36A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two
図36の第5の構成例においては、図34の第3の構成例と同様に、下に位置する導体パターン61Aの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。
In the fifth configuration example of FIG. 36, similarly to the third configuration example of FIG. 34, the
一方、上に位置する導体パターン61Bに関しては、配線部61bの全体および端子部61aを覆うように金属被覆層15が形成されている。金属被覆層15は、主としてニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属(例えば非磁性体の金属)からなり、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。本例では、金属被覆層15の材料として、金または銀が用いられる。
On the other hand, with respect to the
導体パターン61Bの配線部61bを覆う金属被覆層15の部分を覆うとともに端子部61aを覆う金属被覆層15の他の部分を覆わないように絶縁層41B上にカバー絶縁層43が形成されている。端子部61aを覆う金属被覆層15の部分を覆うようにニッケルからなるバリア層70が形成されている。そのバリア層70を覆うように金層71が形成されている。それにより、接続端子TBが形成されている。
A
上記の構成においては、上に位置する導体パターン61Bの配線部61bとカバー絶縁層43との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しない。これにより、導体パターン61Bの配線部61bでは、第1の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61Bの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。また、金属被覆層15により導体パターン61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われるので、金属被覆層15の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。
In the above configuration, there is no metal layer having magnetism higher than that of nickel between the
なお、図36の第5の構成例においては、図10の第2の実施の形態の例と同様に、導体パターン61Bの全体ではなく、導体パターン61Bの配線部61bの一部と端子部61aとを覆うように金属被覆層15が形成されてもよい。また、図18の例と同様に、導体パターン61Aの端子部61aとバリア層70との間に金属被覆層17が形成されてもよい。
In the fifth configuration example of FIG. 36, as in the example of the second embodiment of FIG. 10, not the
図37は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第6の構成例を示す断面図である。図37(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図37(b)に、図37(a)のC6−C6線縦断面図が示される。以下、第6の構成例について、図33の第2の構成例と異なる点を説明する。
FIG. 37 is a cross-sectional view showing a sixth configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 37A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two
図37の第6の構成例においては、図33の第2の構成例と同様に、下に位置する導体パターン61Aの配線部61bの全体および端子部61aを覆うように金属被覆層15が形成されている。上記のように、金属被覆層15は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。
In the sixth configuration example of FIG. 37, as in the second configuration example of FIG. 33, the
また、図37の第6の構成例においては、図36の第5の構成例と同様に、上に位置する導体パターン61Bの配線部61bの全体および端子部61aを覆うように金属被覆層15が形成されている。
In the sixth configuration example of FIG. 37, similarly to the fifth configuration example of FIG. 36, the
これらより、導体パターン61A,61Bの配線部61bでは、第1の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61A,61Bの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。また、金属被覆層15により導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われるので、導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。
From these, in the
なお、図37の第6の構成例においては、図10の第2の実施の形態の例と同様に、導体パターン61Aの全体ではなく、導体パターン61Aの配線部61bの一部と端子部61aとを覆うように金属被覆層15が形成されてもよい。また、導体パターン61Bの全体ではなく、導体パターン61Bの配線部61bの一部と端子部61aとを覆うように金属被覆層15が形成されてもよい。
In the sixth configuration example of FIG. 37, as in the example of the second embodiment of FIG. 10, not the
(9)上記実施の形態において、配線回路基板は支持基板10を含むサスペンション基板1であるが、本発明はこれに限定されない。配線回路基板は、例えば支持基板10を含まないフレキシブル配線回路基板であってもよい。
(9) In the above embodiment, the printed circuit board is the
(10)上記実施の形態において、金属被覆層15,17は例えば電解めっき、無電解めっきまたはスパッタリングにより形成されるが、本発明はこれに限定されない。金属被覆層15,17は、セミアディティブ法またはサブトラクティブ法等の他の方法を用いて形成されてもよい。 (10) In the above embodiment, the metal coating layers 15 and 17 are formed by, for example, electrolytic plating, electroless plating or sputtering, but the present invention is not limited to this. The metal coating layers 15 and 17 may be formed using other methods such as a semi-additive method or a subtractive method.
また、上記実施の形態において、金属被覆層16,18は電解めっきにより形成されるが、本発明はこれに限定されない。金属被覆層16,18は、無電解めっき、スパッタリング、セミアディティブ法またはサブトラクティブ法等の他の方法を用いて形成されてもよい。 Moreover, in the said embodiment, although the metal coating layers 16 and 18 are formed by electrolytic plating, this invention is not limited to this. The metal coating layers 16 and 18 may be formed using other methods such as electroless plating, sputtering, a semi-additive method, or a subtractive method.
(11)第1の実施の形態においては、第3の実施の形態と同様に、金属被覆層15のうち導体パターン61の端子部61aを覆う部分に図11の金属被覆層16が形成されてもよい。また、第4の実施の形態においては、第3の実施の形態と同様に、金属被覆層17のうち導体パターン61の端子部61aを覆う部分に図11の金属被覆層16が形成されてもよい。さらに、第5の実施の形態においては、第3の実施の形態と同様に、金属被覆層18のうち導体パターン61の端子部61aを覆う部分に図11の金属被覆層16が形成されてもよい。これらの場合、接続端子21〜26,31〜36の表面状態が整えられる。
(11) In the first embodiment, as in the third embodiment, the
(12)第1〜第3の実施の形態においては、第5の実施の形態と同様に、金属被覆層15の全体を覆うように図14の金属被覆層18が形成されてもよい。この場合、金属被覆層18の材料としては、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属を用いる。
(12) In the first to third embodiments, similarly to the fifth embodiment, the
(13)第4の実施の形態においては、複数の導体パターン61の配線部61bのうち両端部から延びるように金属被覆層17が形成されるが、本発明は上記の例に限定されない。配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う金属被覆層17の長さの割合が40%以下になるのであれば、金属被覆層17の一部がその配線部61bの両端部に位置する金属被覆層17の部分から分離して形成されてもよい。例えば、金属被覆層17の一部が配線部61bの中央部に形成されてもよい。
(13) In the fourth embodiment, the
(14)上記の第1〜第5の実施の形態に係るサスペンション基板は、基本的に、金属製の支持基板10上にベース絶縁層41、導体パターン61およびカバー絶縁層43がこの順で積層された構成を有するが、本発明はこれに限定されない。サスペンション基板は、上記の構成に加えて、支持基板10とベース絶縁層41との間に設けられる他の絶縁層および他の導体パターンをさらに備えてもよい(図32〜図37の第1〜第6の構成例参照)。そのサスペンション基板は、基本的に、金属製の支持基板10上に、他の絶縁層、他の導体パターン、ベース絶縁層41、導体パターン61およびカバー絶縁層43がこの順で積層された構成を有する。この場合、他の導体パターンについても、上記の実施の形態と同様に、配線部の少なくとも一部と端子部とが覆われるように金属被覆層15,17,18のいずれかを形成してもよい。また、他の導体パターンの配線部が覆われるように他の絶縁層上にベース絶縁層41を形成してもよい。それにより、他の導体パターンについても、上記実施の形態と同様の効果を得ることができる。
(14) In the suspension boards according to the first to fifth embodiments, basically, the
[7]請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
[7] Correspondence relationship between each constituent element of claim and each part of embodiment The following describes an example of the correspondence between each constituent element of the claim and each part of the embodiment. It is not limited.
上記実施の形態では、ベース絶縁層41および絶縁層41A,41Bが第1の絶縁層の例であり、導体パターン61,61A,61Bが導体パターンの例であり、端子部61aが端子部の例であり、配線部61bが配線部の例であり、金属被覆層15,17,18および金属被覆層17と同じ材料からなるバリア層70が第1の金属被覆層の例であり、カバー絶縁層43および絶縁層41Bが第2の絶縁層の例であり、金属被覆層16が第2の金属被覆層の例であり、金属被覆層17が第1の金属層の例であり、金属被覆層18が第2の金属層の例であり、サスペンション基板1が配線回路基板の例である。
In the above embodiment, the
また、バリア層70が端子バリア層の例であり、金層71が端子表面層の例であり、導体パターン61Bが上部導体パターンの例であり、導体パターン61Bの端子部61aが上部端子部の例であり、導体パターン61Bの配線部61bが上部配線部の例であり、金属被覆層15,17および金属被覆層17と同じ材料からなるバリア層70が上部金属被覆層の例であり、カバー絶縁層43が第3の絶縁層の例であり、絶縁層41Aが下部絶縁層の例であり、導体パターン61Aが下部導体パターンの例である。
The
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。 As each constituent element in the claims, various other elements having configurations or functions described in the claims can be used.
[8]実施例および比較例
本発明者は、実施例1として第1の実施の形態に係るサスペンション基板1(図1および図5参照)と同じ構成を有するサスペンション基板を作成し、実施例2,3,4,5として第2の実施の形態に係るサスペンション基板(図10参照)と同じ構成を有するサスペンション基板を作成した。実施例2,3,4,5においては、図10(b)の距離L1をそれぞれ3μm、5μm、10μmおよび50μmに設定した。
[8] Example and Comparative Example The inventor created a suspension board having the same configuration as that of the
また、本発明者は、実施例6として第3の実施の形態に係るサスペンション基板(図11参照)と同じ構成を有するサスペンション基板を作成した。実施例6においては、図11(b)の距離L1を5μmに設定した。 Further, the inventor created a suspension board having the same configuration as the suspension board according to the third embodiment (see FIG. 11) as Example 6. In Example 6, the distance L1 in FIG. 11B was set to 5 μm.
さらに、本発明者は、実施例7,8,9,10,11,12として第5の実施の形態に係るサスペンション基板と同じ構成を有するサスペンション基板(図14参照)を作成した。実施例7,8,9,10,11,12においては、図14(b)の距離L2をそれぞれ5μm、10μm、50μm、950μm、3800μmおよび7600μmに設定した。 Further, the inventors created suspension boards (see FIG. 14) having the same configuration as the suspension board according to the fifth embodiment as Examples 7, 8, 9, 10, 11, and 12. In Examples 7, 8, 9, 10, 11, and 12, the distance L2 in FIG. 14B was set to 5 μm, 10 μm, 50 μm, 950 μm, 3800 μm, and 7600 μm, respectively.
また、実施例7〜12においては、書込用配線パターンW1,W2および読取用配線パターンR1,R2を構成する4本の配線部61bの全長をそれぞれ38mmに設定した。配線部61bの全長に対する金属被覆層17により被覆される部分の長さの比率を強磁性被覆層占有率と呼ぶ。この場合、書込用配線パターンW1,W2および読取用配線パターンR1,R2に関して、実施例7,8,9,10,11,12の強磁性被覆層占有率は、それぞれ0.03%、0.05%、0.26%、5%、20%および40%となる。一方、実施例1〜6の強磁性被覆層占有率は全て0%となる。
In Examples 7 to 12, the total length of the four
また、本発明者は、比較例1として第2の実施の形態に係るサスペンション基板と図10(b)の距離L1の設定値を除いて基本的に同じ構成を有するサスペンション基板を作成した。比較例1のサスペンション基板においては、図10(b)の距離L1を1μmに設定した。 In addition, as a comparative example 1, the present inventor created a suspension board having basically the same configuration as the suspension board according to the second embodiment except for the set value of the distance L1 in FIG. In the suspension board of Comparative Example 1, the distance L1 in FIG. 10B was set to 1 μm.
また、本発明者は比較例2として以下の構成を有するサスペンション基板を作成した。図38は、比較例2のサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。図38(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図38(a)の平面図は、第1の実施の形態の図3(a)の平面図に対応する。図38(b)の断面図は、図38(a)のK−K線拡大断面図を示し、第1の実施の形態の図5(a)の断面図に対応する。 In addition, the inventor created a suspension board having the following configuration as Comparative Example 2. 38 is a plan view and a cross-sectional view showing a part of the suspension board of Comparative Example 2. FIG. 38A and 38B are a plan view and a sectional view, respectively. The plan view of FIG. 38A corresponds to the plan view of FIG. 3A of the first embodiment. The cross-sectional view of FIG. 38B shows an enlarged cross-sectional view taken along the line KK of FIG. 38A, and corresponds to the cross-sectional view of FIG. 5A of the first embodiment.
比較例2のサスペンション基板においても、第1の実施の形態と同様に、支持基板10上にベース絶縁層41が形成され、ベース絶縁層41上に複数の導体パターン61が形成される。複数の導体パターン61の配線部61bを覆うようにベース絶縁層41上にカバー絶縁層43が形成される(図4(a)参照)。図38(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
Also in the suspension board of Comparative Example 2, the
図38(a),(b)に示すように、各導体パターン61における配線部61bの全体を覆うようにかつ端子部61aを覆わないように金属被覆層17が形成される。端子部61aを覆うように金属被覆層19が形成される。このように、比較例2のサスペンション基板においては、金属被覆層17,19の各々は、端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように形成されていない。導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cに重なるように、金属被覆層17と金属被覆層19との境界が位置する。比較例2では、金属被覆層17が配線部61bの全体を覆うので、強磁性被覆層占有率は100%となる。
As shown in FIGS. 38A and 38B, the
上記の実施例1〜12および比較例1,2のサスペンション基板においては、支持基板10の材料としてステンレス鋼を用い、ベース絶縁層41およびカバー絶縁層43の材料としてポリイミドを用い、導体パターン61の材料として銅を用いた。また、実施例1〜6および比較例1の金属被覆層15、実施例6の金属被覆層16、ならびに実施例7〜12の金属被覆層18の材料として金を用いた。また、実施例7〜12および比較例2の金属被覆層17の材料としてニッケルを用い、比較例2の金属被覆層19の材料として金を用いた。
In the suspension boards of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2, stainless steel is used as the material of the
本発明者は、実施例1〜12および比較例1,2について、電気的特性の評価を行うために、書込用配線パターンW1,W2により電気信号が伝送されるときの透過特性を表すパラメータSDD21を測定した。パラメータSDD21は、差動モード入力および差動モード出力での減衰量を示す。 In order to evaluate the electrical characteristics of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2, the inventor has parameters indicating transmission characteristics when electrical signals are transmitted by the write wiring patterns W1 and W2. SDD21 was measured. The parameter SDD21 indicates the amount of attenuation at the differential mode input and the differential mode output.
図39は、実施例10,11,12および比較例2についてのパラメータSDD21の測定結果を示す図である。図39において、縦軸はパラメータSDD21[dB]を表し、横軸は電気信号の周波数[GHz]を表す。また、図39において、実施例10,11,12についての測定結果をそれぞれ実線、一点鎖線および太い実線で示し、比較例2についての測定結果を点線で示す。 FIG. 39 is a diagram illustrating measurement results of the parameter SDD21 for Examples 10, 11, 12 and Comparative Example 2. In FIG. 39, the vertical axis represents the parameter SDD21 [dB], and the horizontal axis represents the frequency [GHz] of the electric signal. In FIG. 39, the measurement results for Examples 10, 11, and 12 are indicated by a solid line, an alternate long and short dash line, and a thick solid line, respectively, and the measurement results for Comparative Example 2 are indicated by a dotted line.
図39の測定結果によれば、実施例10,11,12のサスペンション基板は、4.5GHz以上の周波数の信号が伝送される場合でも、パラメータSDD21(減衰量)が−3dB(50%)以上に保たれる、すなわち高周波帯域の減衰量が小さいことがわかる。一方、比較例2のサスペンション基板は、4.5GHz以上の周波数の信号が伝送される場合に、パラメータSDD21(減衰量)が−3dB(50%)よりも低くなる、すなわち高周波帯域の減衰量が大きいことがわかる。 According to the measurement results of FIG. 39, the suspension boards of Examples 10, 11, and 12 have the parameter SDD21 (attenuation amount) of −3 dB (50%) or more even when a signal having a frequency of 4.5 GHz or more is transmitted. It can be seen that the attenuation in the high frequency band is small. On the other hand, the suspension board of Comparative Example 2 has a parameter SDD21 (attenuation amount) lower than −3 dB (50%) when a signal having a frequency of 4.5 GHz or higher is transmitted. You can see that it ’s big.
実施例1〜12および比較例1について上記の測定を行った結果、いずれのサスペンション基板においても4.5GHz以上の周波数の信号が伝送される場合に、パラメータSDD21が−3dB以上に保たれることがわかった。すなわち、高周波帯域における電気信号の伝送損失が低減されることがわかった。一方、比較例2については、4.5GHz以上の周波数の信号が伝送される場合に、パラメータSDD21が−3dBよりも低くなることがわかった。すなわち、高周波帯域では、電気信号の伝送損失が高くなることがわかった。 As a result of performing the above measurements on Examples 1 to 12 and Comparative Example 1, the parameter SDD21 is maintained at -3 dB or higher when a signal having a frequency of 4.5 GHz or higher is transmitted on any suspension board. I understood. That is, it was found that the transmission loss of electric signals in the high frequency band is reduced. On the other hand, in Comparative Example 2, it was found that the parameter SDD21 is lower than −3 dB when a signal having a frequency of 4.5 GHz or higher is transmitted. That is, it was found that the transmission loss of the electric signal is high in the high frequency band.
実施例1〜12および比較例1のサスペンション基板は、強磁性被覆層占有率が40%以下である。したがって、配線部61bの全長の少なくとも60%以上の範囲で配線部61bとカバー絶縁層43との間にニッケルが存在しないことにより、電気信号の伝送損失が低減されることがわかった。
The suspension substrates of Examples 1 to 12 and Comparative Example 1 have a ferromagnetic coating layer occupation ratio of 40% or less. Therefore, it has been found that the transmission loss of the electric signal is reduced by the absence of nickel between the
また、上記の測定の結果、実施例1〜11および比較例1については、いずれのサスペンション基板においても5GHz以上の周波数の信号が伝送される場合に、パラメータSDD21が−3dB以上に保たれることがわかった。すなわち、高周波帯域における電気信号の伝送損失がより低減されることがわかった。したがって、強磁性被覆層占有率は20%以下に設定されることが好ましい。 As a result of the above measurement, in Examples 1 to 11 and Comparative Example 1, the parameter SDD21 is maintained at -3 dB or higher when a signal having a frequency of 5 GHz or higher is transmitted on any suspension board. I understood. That is, it was found that the transmission loss of electric signals in the high frequency band is further reduced. Therefore, the ferromagnetic coating layer occupancy is preferably set to 20% or less.
本発明者は、実施例1〜12および比較例1,2について、カバー絶縁層43と導体パターン61の配線部61bとの密着性の評価を行った。具体的には、本発明者は、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61c近傍において、カバー絶縁層43の端部と導体パターン61との間に大きな空隙が発生していないかについて確認した。
The inventor evaluated the adhesion between the insulating
その結果、実施例1〜12および比較例2については、カバー絶縁層43の端部と配線部61bとの間に大きな空隙は発生していなかった。一方、比較例1については、カバー絶縁層43の端部と導体パターン61との間に大きな空隙が発生していた。これらの結果、配線部61b上で金属被覆層15,17,18のいずれかが導体パターン61の境界61c上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成されることにより、カバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性が向上することがわかった。
As a result, in Examples 1 to 12 and Comparative Example 2, no large gap was generated between the end of the insulating
本発明者は、実施例1〜12および比較例1,2について、各導体パターン61の端子部61aと配線部61bとの境界61cおよびその近傍における腐食の有無を確認した。
The inventor confirmed the presence or absence of corrosion at the
その結果、実施例1〜12については、導体パターン61に腐食は発生していなかった。一方、比較例1,2については、導体パターン61に腐食が発生していた。比較例1のサスペンション基板においては、カバー絶縁層43と導体パターン61との間に形成された空隙を通してカバー絶縁層43の内部に空気、水または薬液等の流体が進入したと考えられる。一方、比較例2のサスペンション基板においては、金属被覆層17,19の境界を通して金属被覆層17,19の内部に空気、水または薬液等の流体が進入したと考えられる。
As a result, in Examples 1 to 12, no corrosion occurred in the
これらの結果、配線部61bを覆う金属被覆層15,17,18のいずれかが境界61c上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成されるとともに、金属被覆層15,17,18のうちのいずれかが、端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように形成されることにより、導体パターン61における腐食の発生を防止できることがわかった。
As a result, any one of the metal coating layers 15, 17, and 18 covering the
下記表1に、実施例1〜12および比較例1,2についての電気的特性の評価結果、密着性の評価結果、および腐食の有無の確認結果を示す。なお、表1では、各評価結果とともに、配線部61bの一端を覆う金属被覆層15,17,18の長さ(境界61cからの距離)が示される。また、カバー絶縁層43に接触する金属被覆層15,17,18が端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるか否かが示される。さらに、表1では、強磁性被覆層占有率も示される。
Table 1 below shows evaluation results of electrical characteristics, adhesion evaluation results, and confirmation results of the presence or absence of corrosion for Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2. In addition, in Table 1, the length (distance from the
表1の電気的特性の評価結果においては、パラメータSDD21が−3dB(50%)を示すときの周波数が5.0GHz以上であったサスペンション基板を「◎」で表す。また、パラメータSDD21が−3dB(50%)を示すときの周波数が4.5GHz以上5.0GHz未満であったサスペンション基板を「○」で表し、パラメータSDD21が−3dB(50%)を示すときの周波数が4.5GHz未満であったサスペンション基板を「×」で表す。 In the evaluation results of the electrical characteristics in Table 1, the suspension board whose frequency when the parameter SDD21 indicates -3 dB (50%) is 5.0 GHz or more is represented by “◎”. In addition, a suspension board whose frequency when the parameter SDD21 indicates -3 dB (50%) is 4.5 GHz or more and less than 5.0 GHz is represented by “◯”, and when the parameter SDD21 indicates -3 dB (50%). A suspension board having a frequency of less than 4.5 GHz is represented by “x”.
表1のカバー絶縁層43の密着性の評価結果においては、カバー絶縁層43と導体パターン61との間で大きな空隙が発生していなかったサスペンション基板を「○」で表し、大きな空隙が発生していたサスペンション基板を「×」で表す。
In the evaluation results of the adhesion of the insulating
表1の導体パターン61の信頼性の評価結果においては、導体パターン61に腐食が発生していなかったサスペンション基板を「○」で表し、腐食が発生していたサスペンション基板を「×」で表す。
In the reliability evaluation result of the
本発明は、種々の配線回路基板に有効に利用することができる。 The present invention can be effectively used for various printed circuit boards.
1 サスペンション基板
10 支持基板
10a 支持層
10x,10y,11,41x,41y,43x 開口部
12 タング部
15,16,17,18,19 金属被覆層
21,22,23,24,25,26,31,32,33,34,35,36 接続端子
41 ベース絶縁層
41A,41B 絶縁層
41u,41v 凹部
43 カバー絶縁層
50 支持プレート
51 前端領域
52 後端領域
53 中央領域
54 圧電素子実装領域
54h 貫通孔
61,61A,61B 導体パターン
61a 端子部
61b 配線部
61c 境界
70 バリア層
71 金層
91,92 圧電素子
100 サスペンション本体部
H 孔部
P1,P2 電源用配線パターン
R1,R2 読取用配線パターン
W1,W2 書込用配線パターン
DESCRIPTION OF
また、第3の絶縁層は上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触している。上部金属被覆層は、上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるとともに、上部配線部の表面上で上部端子部と上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びている。それにより、上部導体パターンにおける上部端子部と上部配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。 The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion. The upper metallization layer, extends continuously from the surface of the upper terminal portion on the surface of the upper wiring portion, separated by more than 3μm on the surface of the upper wiring section from the position on the boundary between the upper terminal unit and the upper wiring portion It extends to the position. Thereby, it is possible to prevent corrosion from occurring at and near the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion in the upper conductor pattern.
図22(c)および図23(c)に示すように、接続端子31およびその周辺部においては、ベース絶縁層41のうち端子部61aに重なる矩形領域に、凹部41vが形成されている。また、支持基板10のうち端子部61aに重なる部分に、矩形の開口部10yが形成されている。
As shown in FIG. 22 (c) and FIG. 23 (c), the in the
図21のサスペンション基板の製造方法を説明する。図24〜図28は、図21のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。図24(a)、図25(a)、図26(a),図27(a)および図28(a)は図22(a)のB1−B1線拡大断面図に対応し、図24(b)、図25(b)、図26(b)、図27(b)および図28(b)は図22(b)のB2−B2線拡大断面図に対応し、図24(c)、図25(c)、図26(c)、図27(c)および図28(c)は図22(c)のB3−B3線拡大断面図に対応する。 A method for manufacturing the suspension board of FIG. 21 will be described. 24 to 28 are schematic process diagrams showing steps of manufacturing the suspension board of FIG. 21. 24 (a), FIG. 25 (a), FIG. 26 (a), FIG. 27 (a), and FIG. 28 (a) correspond to the B1-B1 line enlarged sectional view of FIG. b), FIG. 25 (b), FIG. 26 (b), FIG. 27 (b) and FIG. 28 (b) correspond to the B2-B2 line enlarged sectional view of FIG. 22 (b), and FIG. FIG. 25C, FIG. 26C, FIG. 27C, and FIG. 28C correspond to the B3-B3 line enlarged sectional view of FIG.
図30(a)〜(c)では、導体パターン61の下地としてベース絶縁層41上に形成されるシード層が太い実線で示される。この場合、図30(b),(c)に示すように、接続端子25,26,31〜36においては、導体パターン61の下面に形成されているシード層がベース絶縁層41の開口部41x,41yおよび支持基板10の開口部10x,10yを通して下方に露出する。これにより、当該露出部に電子機器の端子等を接続することができる。
30A to 30C, the seed layer formed on the
また、上記の構成においては、金属被覆層17とバリア層70とが同じニッケルからなり、金属被覆層17とバリア層70とが一体的に構成される。バリア層70は金属被覆層17の一部として機能する。金属被覆層17およびバリア層70により導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われる。これにより、金属被覆層17およびバリア層70の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。
Moreover, in said structure, the
また、上記の構成においては、金属被覆層17とバリア層70とが同じニッケルからなり、金属被覆層17とバリア層70とが一体的に構成される。バリア層70は金属被覆層17の一部として機能する。金属被覆層17およびバリア層70により導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われる。これにより、金属被覆層17およびバリア層70の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。
Moreover, in said structure, the
Claims (18)
前記第1の絶縁層上に形成され、端子部と前記端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、
前記配線部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、
前記第1の金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分を覆うとともに前記第1の金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないように前記第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、
前記第1の金属被覆層は、前記配線部に接触し、
前記第2の絶縁層は、前記第1の金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触し、
前記第1の金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する、配線回路基板。 A first insulating layer;
A conductor pattern formed on the first insulating layer and having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion;
A first metal coating layer that covers the wiring portion and the terminal portion and is provided so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion;
The second metal coating layer is provided on the first insulating layer so as to cover a portion of the first metal coating layer covering the wiring portion and not to cover a portion of the first metal coating layer covering the terminal portion. With an insulating layer,
The first metal coating layer is in contact with the wiring portion;
The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion,
The first metal coating layer is a printed circuit board having a magnetic property lower than that of nickel.
前記第1の絶縁層上に形成され、端子部と前記端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、
前記配線部の一部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、
前記第1の金属被覆層のうち前記配線部の前記一部を覆う部分と前記配線部のうち前記第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記第1の金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないように前記第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、
前記第1の金属被覆層は、前記配線部の前記一部に接触するとともに前記配線部の表面上で前記端子部と前記配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、
前記第2の絶縁層は、前記第1の金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触するとともに前記配線部の前記他の部分に接触し、
前記第1の金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する、配線回路基板。 A first insulating layer;
A conductor pattern formed on the first insulating layer and having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion;
A first metal coating layer that covers a part of the wiring portion and the terminal portion and is provided so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion;
The first metal coating layer covers a portion of the first metal coating layer that covers the part of the wiring portion and another portion of the wiring portion that is not covered by the first metal coating layer, and the first metal coating layer. And a second insulating layer provided on the first insulating layer so as not to cover a portion covering the terminal portion,
The first metal coating layer is in contact with the part of the wiring part and extends to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the terminal part and the wiring part on the surface of the wiring part,
The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion and in contact with the other portion of the wiring portion,
The first metal coating layer is a printed circuit board having a magnetic property lower than that of nickel.
前記第1の絶縁層上に形成され、端子部と前記端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、
前記配線部の一部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、
前記第1の金属被覆層のうち前記配線部の前記一部を覆う部分と前記配線部のうち前記第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記第1の金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないように前記第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、
前記第1の金属被覆層は、前記配線部の前記一部に接触するとともに前記配線部の表面上で前記端子部と前記配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、
前記第2の絶縁層は、前記第1の金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触するとともに前記配線部の前記他の部分に接触し、
前記配線部の全長に対する前記配線部の前記一部を覆う前記第1の金属被覆層の長さの割合は40%以下である、配線回路基板。 A first insulating layer;
A conductor pattern formed on the first insulating layer and having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion;
A first metal coating layer that covers a part of the wiring portion and the terminal portion and is provided so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion;
The first metal coating layer covers a portion of the first metal coating layer that covers the part of the wiring portion and another portion of the wiring portion that is not covered by the first metal coating layer, and the first metal coating layer. And a second insulating layer provided on the first insulating layer so as not to cover a portion covering the terminal portion,
The first metal coating layer is in contact with the part of the wiring part and extends to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the terminal part and the wiring part on the surface of the wiring part,
The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion and in contact with the other portion of the wiring portion,
The ratio of the length of the said 1st metal coating layer which covers the said part of the said wiring part with respect to the full length of the said wiring part is 40% or less.
前記端子バリア層を覆う端子表面層とをさらに備え、
前記導体パターンは、銅を含み、
前記端子表面層は、金を含み、
前記端子バリア層は、ニッケルまたはパラジウムを含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の配線回路基板。 A terminal barrier layer covering a portion of the first metal coating layer covering the terminal portion;
A terminal surface layer covering the terminal barrier layer,
The conductor pattern includes copper,
The terminal surface layer includes gold,
The printed circuit board according to claim 1, wherein the terminal barrier layer includes nickel or palladium.
前記導体パターンは、銅を含み、
前記端子表面層は、金を含み、
前記第1の金属被覆層は、ニッケルを含む、請求項3記載の配線回路基板。 A terminal surface layer formed so as to cover a portion of the first metal coating layer covering the terminal portion and not to contact the conductor pattern;
The conductor pattern includes copper,
The terminal surface layer includes gold,
The printed circuit board according to claim 3, wherein the first metal coating layer contains nickel.
前記上部導体パターンの少なくとも一部は、前記導体パターンに重なる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の配線回路基板。 An upper conductor pattern formed on the second insulating layer;
The printed circuit board according to claim 1, wherein at least a part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern.
前記上部配線部の一部と前記上部端子部とを覆うとともに前記上部端子部の表面上から前記上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、
前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部の前記一部を覆う部分と前記上部配線部のうち前記上部金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記上部金属被覆層のうち前記上部端子部を覆う部分を覆わないように前記第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、
前記上部導体パターンの少なくとも一部は、前記導体パターンに重なり、
前記上部金属被覆層は、前記上部配線部の前記一部に接触するとともに前記上部配線部の表面上で前記上部端子部と前記上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、
前記第3の絶縁層は、前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部を覆う部分に接触するとともに前記上部配線部の前記他の部分に接触し、
前記上部配線部の全長に対する前記上部配線部の前記一部を覆う前記上部金属被覆層の長さの割合は40%以下である、請求項3記載の配線回路基板。 An upper conductor pattern formed on the second insulating layer and having an upper terminal portion and an upper wiring portion extending from the upper terminal portion;
An upper metal coating layer that covers a part of the upper wiring portion and the upper terminal portion and is provided so as to continuously extend from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion;
Covering the portion of the upper metal coating layer that covers the part of the upper wiring portion and the other portion of the upper wiring portion that is not covered by the upper metal coating layer and the upper portion of the upper metal coating layer A third insulating layer provided on the second insulating layer so as not to cover a portion covering the terminal portion;
At least a part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern,
The upper metal coating layer is in contact with the part of the upper wiring portion and extends to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion on the surface of the upper wiring portion. ,
The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion and in contact with the other portion of the upper wiring portion;
The printed circuit board according to claim 3, wherein a ratio of a length of the upper metal coating layer covering the part of the upper wiring portion to a total length of the upper wiring portion is 40% or less.
前記上部配線部と前記上部端子部とを覆うとともに前記上部端子部の表面上から前記上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、
前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部を覆う部分を覆うとともに前記上部金属被覆層のうち前記上部端子部を覆う部分を覆わないように前記第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、
前記上部導体パターンの少なくとも一部は、前記導体パターンに重なり、
前記上部金属被覆層は、前記上部配線部に接触し、
前記第3の絶縁層は、前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部を覆う部分に接触し、
前記上部金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する、請求項1または2記載の配線回路基板。 An upper conductor pattern formed on the second insulating layer and having an upper terminal portion and an upper wiring portion extending from the upper terminal portion;
An upper metal covering layer provided to cover the upper wiring portion and the upper terminal portion and to continuously extend from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion;
A third insulation provided on the second insulating layer so as to cover a portion of the upper metal coating layer covering the upper wiring portion and not to cover a portion of the upper metal coating layer covering the upper terminal portion. And further comprising a layer,
At least a part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern,
The upper metal coating layer is in contact with the upper wiring portion;
The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion,
The printed circuit board according to claim 1, wherein the upper metal coating layer has a magnetic property lower than that of nickel.
前記上部配線部の一部と前記上部端子部とを覆うとともに前記上部端子部の表面上から前記上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、
前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部の前記一部を覆う部分と前記上部配線部のうち前記上部金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記上部金属被覆層のうち前記上部端子部を覆う部分を覆わないように前記第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、
前記上部導体パターンの少なくとも一部は、前記導体パターンに重なり、
前記上部金属被覆層は、前記上部配線部の前記一部に接触するとともに前記上部配線部の表面上で前記上部端子部と前記上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、
前記第3の絶縁層は、前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部を覆う部分に接触するとともに前記上部配線部の前記他の部分に接触し、
前記上部金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する、請求項1または2記載の配線回路基板。 An upper conductor pattern formed on the second insulating layer and having an upper terminal portion and an upper wiring portion extending from the upper terminal portion;
An upper metal coating layer that covers a part of the upper wiring portion and the upper terminal portion and is provided so as to continuously extend from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion;
Covering the portion of the upper metal coating layer that covers the part of the upper wiring portion and the other portion of the upper wiring portion that is not covered by the upper metal coating layer and the upper portion of the upper metal coating layer A third insulating layer provided on the second insulating layer so as not to cover a portion covering the terminal portion;
At least a part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern,
The upper metal coating layer is in contact with the part of the upper wiring portion and extends to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion on the surface of the upper wiring portion. ,
The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion and in contact with the other portion of the upper wiring portion;
The printed circuit board according to claim 1, wherein the upper metal coating layer has a magnetic property lower than that of nickel.
前記下部絶縁層上に形成された下部導体パターンとをさらに備え、
前記第1の絶縁層は、前記下部導体パターンの少なくとも一部を覆うように前記下部絶縁層上に形成され、
前記導体パターンの少なくとも一部は、前記下部導体パターンに重なる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の配線回路基板。 A lower insulating layer;
Further comprising a lower conductor pattern formed on the lower insulating layer,
The first insulating layer is formed on the lower insulating layer so as to cover at least a part of the lower conductor pattern,
The printed circuit board according to claim 1, wherein at least a part of the conductor pattern overlaps the lower conductor pattern.
前記配線部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるようにかつ前記配線部に接触するように、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属を用いて金属被覆層を形成する工程と、
前記金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分を覆うとともに前記金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないようにかつ前記金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触するように前記第1の絶縁層上に第2の絶縁層を形成する工程とを含む、配線回路基板の製造方法。 Forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer;
Covering the wiring part and the terminal part and having a magnetism lower than that of nickel so as to continuously extend from the surface of the terminal part to the surface of the wiring part and to contact the wiring part Forming a metal coating layer using a metal;
Covering the portion of the metal coating layer covering the wiring portion and not covering the portion of the metal coating layer covering the terminal portion and contacting the portion of the metal coating layer covering the wiring portion. Forming a second insulating layer on the first insulating layer. A method for manufacturing a printed circuit board.
前記配線部の一部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるようにかつ前記配線部の前記一部に接触するように、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属を用いて金属被覆層を形成する工程と、
前記金属被覆層のうち前記配線部の前記一部を覆う部分と前記配線部のうち前記金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないようにかつ前記金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触するとともに前記配線部の前記他の部分に接触するように第2の絶縁層を前記第1の絶縁層上に形成する工程とを含み、
前記金属被覆層を形成する工程において、前記金属被覆層は、前記配線部の表面上で前記端子部と前記配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成される、配線回路基板の製造方法。 Forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer;
Covering a part of the wiring part and the terminal part and extending continuously from the surface of the terminal part to the surface of the wiring part and in contact with the part of the wiring part. Forming a metal coating layer using a metal having magnetism lower than magnetism;
A portion of the metal coating layer that covers the part of the wiring portion and a portion of the wiring portion that is not covered by the metal coating layer and a portion of the metal coating layer that covers the terminal portion. A second insulating layer is formed on the first insulating layer so as not to cover and in contact with the portion of the metal coating layer covering the wiring portion and in contact with the other portion of the wiring portion. Process,
In the step of forming the metal coating layer, the metal coating layer is formed so as to extend to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion on the surface of the wiring portion. A method for manufacturing a printed circuit board.
前記配線部の一部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるようにかつ前記配線部の前記一部に接触するように金属被覆層を形成する工程と、
前記金属被覆層のうち前記配線部の前記一部を覆う部分と前記配線部のうち前記金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないようにかつ前記金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触するとともに前記配線部のうち前記他の部分に接触するように第2の絶縁層を前記第1の絶縁層上に形成する工程とを含み、
前記金属被覆層を形成する工程において、前記金属被覆層は、前記配線部の表面上で前記端子部と前記配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成され、
前記配線部の全長に対する前記配線部の前記一部を覆う前記金属被覆層の長さの割合は40%以下に設定される、配線回路基板の製造方法。 Forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer;
A metal coating layer that covers a part of the wiring part and the terminal part and extends continuously from the surface of the terminal part to the surface of the wiring part and contacts the part of the wiring part Forming a step;
A portion of the metal coating layer that covers the part of the wiring portion and a portion of the wiring portion that is not covered by the metal coating layer and a portion of the metal coating layer that covers the terminal portion. A second insulating layer is formed on the first insulating layer so as not to cover and to contact a portion of the metal coating layer covering the wiring portion and to contact the other portion of the wiring portion. Including the steps of:
In the step of forming the metal coating layer, the metal coating layer is formed so as to extend to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion on the surface of the wiring portion,
The method of manufacturing a printed circuit board, wherein a ratio of a length of the metal coating layer covering the part of the wiring portion to a total length of the wiring portion is set to 40% or less.
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