JP2017034241A - Wiring circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents

Wiring circuit board and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2017034241A
JP2017034241A JP2016139880A JP2016139880A JP2017034241A JP 2017034241 A JP2017034241 A JP 2017034241A JP 2016139880 A JP2016139880 A JP 2016139880A JP 2016139880 A JP2016139880 A JP 2016139880A JP 2017034241 A JP2017034241 A JP 2017034241A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal coating
coating layer
wiring
layer
terminal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016139880A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6807180B2 (en
Inventor
大輔 山内
Daisuke Yamauchi
大輔 山内
浩之 田辺
Hiroyuki Tanabe
浩之 田辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to US15/223,241 priority Critical patent/US9940957B2/en
Priority to CN201610619791.5A priority patent/CN106413240B/en
Publication of JP2017034241A publication Critical patent/JP2017034241A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6807180B2 publication Critical patent/JP6807180B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0213Electrical arrangements not otherwise provided for
    • H05K1/0216Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference
    • H05K1/0218Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference by printed shielding conductors, ground planes or power plane
    • H05K1/0219Printed shielding conductors for shielding around or between signal conductors, e.g. coplanar or coaxial printed shielding conductors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring circuit board which reduces a transmission loss of an electric signal even in a high frequency band while preventing corrosion of a conductor pattern, and a manufacturing method thereof.SOLUTION: A conductor pattern 61 is formed on a base insulation layer 41. The conductor pattern 61 includes two terminal parts 61a and one wiring part 61b. The wiring part 61b is formed to connect the two terminal parts 61a and extend from the terminal parts 61a. A metal covering layer 15 is formed to cover the terminal parts 61a and the wiring part 61b of the conductor pattern 61 and continuously extend from surfaces of the terminal parts 61a onto a surface of the wiring part 61b. The metal covering layer 15 consists of a metal having lower magnetism than magnetism of nickel, for example, consists of gold. A cover insulation layer 43 is formed on the base insulation layer 41 in such a manner that a portion covering the wiring part 61b is covered and a portion covering the terminal parts 61a is not covered in the metal covering layer 15 formed on the conductor pattern 61.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、配線回路基板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a printed circuit board and a method for manufacturing the same.

従来から、種々の電気機器または電子機器に配線回路基板が用いられている。特許文献1には、磁気ディスク装置において磁気ヘッドを位置決めするために用いられる配線回路基板として回路付サスペンション用基板が示される。   Conventionally, printed circuit boards have been used in various electric devices or electronic devices. Patent Document 1 discloses a suspension board with circuit as a printed circuit board used for positioning a magnetic head in a magnetic disk device.

特許文献1の配線回路基板においては、導電性の支持基板上に絶縁性のベース層が形成される。ベース層上に導体パターンが形成される。無電解ニッケルめっきにより導体パターンの表面に金属皮膜が形成される。金属皮膜が形成された導体パターンを覆うようにカバー層が形成される。カバー層から露出するように導体回路パターンの端部に接続端子が形成される。   In the printed circuit board of Patent Document 1, an insulating base layer is formed on a conductive support substrate. A conductor pattern is formed on the base layer. A metal film is formed on the surface of the conductor pattern by electroless nickel plating. A cover layer is formed so as to cover the conductor pattern on which the metal film is formed. A connection terminal is formed at the end of the conductor circuit pattern so as to be exposed from the cover layer.

特開2012−235013号公報JP 2012-2335013 A

上記の配線回路基板においては、導体パターンの表面に金属皮膜が形成されることにより、導体パターンとカバー層との密着性が向上される。それにより、導体パターンの腐食が防止される。しかしながら、特許文献1の配線回路基板では、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失が高い。   In the printed circuit board, the adhesion between the conductor pattern and the cover layer is improved by forming a metal film on the surface of the conductor pattern. Thereby, corrosion of the conductor pattern is prevented. However, the printed circuit board of Patent Document 1 has a high transmission loss of electric signals in a high frequency band.

本発明の目的は、導体パターンの腐食を防止しつつ高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失が低減された配線回路基板およびその製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a printed circuit board in which the transmission loss of an electric signal is reduced even in a high frequency band while preventing corrosion of a conductor pattern, and a method for manufacturing the same.

本発明者は、種々の実験および検討を行なった結果、導体パターンのうち配線を構成する部分(以下、配線部と呼ぶ。)とその配線部を覆う絶縁層との間にニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しないことにより、高い周波数帯域において電気信号の伝送損失を低減できることを見出し、以下の第1、第2、第4および第5の発明に想到した。   As a result of various experiments and examinations, the present inventor has found that the portion of the conductor pattern constituting the wiring (hereinafter referred to as the wiring portion) and the insulating layer covering the wiring portion are more than the magnetism of nickel. It has been found that the absence of a magnetic metal layer can reduce electrical signal transmission loss in a high frequency band, and the following first, second, fourth and fifth inventions have been conceived.

また、本発明者は、配線部とその配線部を覆う絶縁層との間にニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在する場合でも、配線部の全長に対するその金属層の長さの割合が40%以下に設定されることにより、高い周波数帯域において電気信号の伝送損失を低減できることを見出し、以下の第3および第6の発明に想到した。   In addition, the present inventor has determined that the ratio of the length of the metal layer to the total length of the wiring portion even when a metal layer having magnetism higher than that of nickel exists between the wiring portion and the insulating layer covering the wiring portion. Is set to 40% or less, it has been found that the transmission loss of electric signals can be reduced in a high frequency band, and the following third and sixth inventions have been conceived.

(1)第1の発明に係る配線回路基板は、第1の絶縁層と、第1の絶縁層上に形成され、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、配線部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分を覆うとともに第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないように第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、第1の金属被覆層は、配線部に接触し、第2の絶縁層は、第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触し、第1の金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。   (1) A printed circuit board according to a first aspect of the invention includes a first insulating layer, a conductor pattern formed on the first insulating layer and having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion, a wiring portion, A first metal coating layer that covers the terminal portion and extends continuously from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion, and covers a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion. A second insulating layer provided on the first insulating layer so as not to cover a portion of the first metal coating layer covering the terminal portion, the first metal coating layer is in contact with the wiring portion, The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion, and the first metal coating layer has a magnetism lower than that of nickel.

その配線回路基板においては、配線部を覆うように第1の金属被覆層が設けられ、第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分を覆うように第2の絶縁層が設けられる。第1の金属被覆層は配線部に接触し、第2の絶縁層は第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触する。この場合、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。   In the printed circuit board, a first metal coating layer is provided so as to cover the wiring portion, and a second insulating layer is provided so as to cover a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion. The first metal coating layer is in contact with the wiring portion, and the second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion. In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.

また、第2の絶縁層が第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触することにより、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、第1の金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、第1の金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。   In addition, when the second insulating layer comes into contact with the portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is improved. Furthermore, the first metal coating layer is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the first metal coating layer from the outside of the second insulating layer. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern and in the vicinity thereof.

(2)第2の発明に係る配線回路基板は、第1の絶縁層と、第1の絶縁層上に形成され、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、配線部の一部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、第1の金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないように第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、第1の金属被覆層は、配線部の一部に接触するとともに配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、第2の絶縁層は、第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触し、第1の金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。   (2) A wired circuit board according to a second aspect of the present invention includes a first insulating layer, a conductor pattern formed on the first insulating layer, having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion, and a wiring portion A first metal coating layer that covers a part and the terminal portion and extends continuously from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion, and a part of the wiring portion of the first metal coating layer On the first insulating layer so as to cover the portion covering the terminal portion and the other portion of the wiring portion not covered by the first metal coating layer and not covering the portion of the first metal coating layer covering the terminal portion. And the first metal coating layer is in contact with a part of the wiring part and at least 3 μm away from the position on the boundary between the terminal part and the wiring part on the surface of the wiring part. The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion. Both in contact with the other part of the wiring part, the first metal coating layer has a lower magnetic than the magnetic nickel.

その配線回路基板においては、配線部の一部と端子部とを覆うように第1の金属被覆層が設けられ、第1の金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うように第2の絶縁層が設けられる。第1の金属被覆層は配線部の一部に接触し、第2の絶縁層は第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触する。この場合、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。   In the wired circuit board, the first metal coating layer is provided so as to cover a part of the wiring part and the terminal part, and the part of the first metal coating layer covering the part of the wiring part and the wiring part A second insulating layer is provided so as to cover other portions not covered by the first metal coating layer. The first metal coating layer is in contact with a part of the wiring part, and the second insulating layer is in contact with a part of the first metal coating layer that covers the wiring part and is in contact with another part of the wiring part. In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.

また、第2の絶縁層は第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触し、第1の金属被覆層は配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びる。それにより、導体パターンにおける端子部と配線部との境界の近傍において、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、第1の金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、第1の金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。   The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion, and the first metal coating layer is located on the surface of the wiring portion from a position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion. It extends to a position separated by 3 μm or more. Thereby, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is improved in the vicinity of the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern. Furthermore, the first metal coating layer is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the first metal coating layer from the outside of the second insulating layer. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern and in the vicinity thereof.

(3)第3の発明に係る配線回路基板は、第1の絶縁層と、第1の絶縁層上に形成され、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、配線部の一部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、第1の金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないように第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、第1の金属被覆層は、配線部の一部に接触するとともに配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、第2の絶縁層は、第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触し、配線部の全長に対する配線部の一部を覆う第1の金属被覆層の長さの割合は40%以下である。   (3) A printed circuit board according to a third aspect of the present invention includes a first insulating layer, a conductor pattern formed on the first insulating layer and having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion; A first metal coating layer that covers a part and the terminal portion and extends continuously from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion, and a part of the wiring portion of the first metal coating layer On the first insulating layer so as to cover the portion covering the terminal portion and the other portion of the wiring portion not covered by the first metal coating layer and not covering the portion of the first metal coating layer covering the terminal portion. And the first metal coating layer is in contact with a part of the wiring part and at least 3 μm away from the position on the boundary between the terminal part and the wiring part on the surface of the wiring part. The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion. Both in contact with the other part of the wiring portion, the length ratio of the first metal coating layer covering a part of the wiring portion of the total length of the wiring portion is 40% or less.

その配線回路基板においては、配線部の一部と端子部とを覆うように第1の金属被覆層が設けられ、第1の金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うように第2の絶縁層が設けられる。第1の金属被覆層は配線部の一部に接触し、第2の絶縁層は第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触する。   In the wired circuit board, the first metal coating layer is provided so as to cover a part of the wiring part and the terminal part, and the part of the first metal coating layer covering the part of the wiring part and the wiring part A second insulating layer is provided so as to cover other portions not covered by the first metal coating layer. The first metal coating layer is in contact with a part of the wiring part, and the second insulating layer is in contact with a part of the first metal coating layer that covers the wiring part and is in contact with another part of the wiring part.

ここで、配線部の全長に対する配線部の一部を覆う第1の金属被覆層の長さの割合は40%以下である。この場合、配線部の全長に対して60%以上の長さの範囲において、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。   Here, the ratio of the length of the 1st metal coating layer which covers a part of wiring part with respect to the full length of a wiring part is 40% or less. In this case, in the range of 60% or more of the total length of the wiring portion, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.

また、第2の絶縁層は第1の金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触し、第1の金属被覆層は配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びる。それにより、導体パターンにおける端子部と配線部との境界の近傍において、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、第1の金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、第1の金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。   The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion, and the first metal coating layer is located on the surface of the wiring portion from a position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion. It extends to a position separated by 3 μm or more. Thereby, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is improved in the vicinity of the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern. Furthermore, the first metal coating layer is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the first metal coating layer from the outside of the second insulating layer. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern and in the vicinity thereof.

(4)第1の金属被覆層は、配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から5μm以上離れた位置まで延びてもよい。   (4) The first metal coating layer may extend from the position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion to a position separated by 5 μm or more on the surface of the wiring portion.

この場合、導体パターンにおける端子部と配線部との境界の近傍において、第2の絶縁層と配線部との間の密着性がより向上する。   In this case, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is further improved in the vicinity of the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern.

(5)第1の金属被覆層は、金、銀、クロム、錫および白金のうち少なくとも1種類の金属を含んでもよい。   (5) The first metal coating layer may include at least one metal among gold, silver, chromium, tin, and platinum.

この場合、配線回路基板の用途に応じて、第1の金属被覆層としてより適切な金属を使用することができる。   In this case, a more suitable metal can be used as the first metal coating layer depending on the use of the printed circuit board.

(6)第1の金属被覆層は、ニッケル、金、銀、クロム、錫および白金のうち少なくとも1種類の金属を含んでもよい。   (6) The first metal coating layer may contain at least one metal selected from nickel, gold, silver, chromium, tin, and platinum.

この場合、配線回路基板の用途に応じて、第1の金属被覆層としてより適切な金属を使用することができる。   In this case, a more suitable metal can be used as the first metal coating layer depending on the use of the printed circuit board.

(7)配線回路基板は、第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆う第2の金属被覆層をさらに備えてもよい。   (7) The printed circuit board may further include a second metal coating layer that covers a portion of the first metal coating layer that covers the terminal portion.

この場合、導体パターンの端子部、第1の金属被覆層および第2の金属被覆層により接続端子を形成することができる。それにより、接続端子の表面状態を第2の金属被覆層により整えることができる。   In this case, the connection terminal can be formed by the terminal portion of the conductor pattern, the first metal coating layer, and the second metal coating layer. Thereby, the surface state of the connection terminal can be adjusted by the second metal coating layer.

(8)第1の金属被覆層の少なくとも一部は、互いに積層された第1および第2の金属層により構成されてもよい。   (8) At least a part of the first metal coating layer may be composed of the first and second metal layers laminated together.

この場合、配線回路基板における第1の金属被覆層の構成の自由度が向上する。   In this case, the freedom degree of a structure of the 1st metal coating layer in a wired circuit board improves.

(9)配線回路基板は、第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆う端子バリア層と、端子バリア層を覆う端子表面層とをさらに備え、導体パターンは、銅を含み、端子表面層は、金を含み、端子バリア層は、ニッケルまたはパラジウムを含んでもよい。   (9) The printed circuit board further includes a terminal barrier layer that covers a portion of the first metal coating layer that covers the terminal portion, and a terminal surface layer that covers the terminal barrier layer, the conductor pattern includes copper, The surface layer may include gold and the terminal barrier layer may include nickel or palladium.

この場合、導体パターンから端子表面層への銅の成分の拡散が端子バリア層により抑制される。それにより、端子表面層の金に銅の成分が拡散することによる端子表面層の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。   In this case, the diffusion of the copper component from the conductor pattern to the terminal surface layer is suppressed by the terminal barrier layer. Thereby, the deterioration of the corrosion resistance and wettability of the terminal surface layer due to the diffusion of the copper component into the gold of the terminal surface layer is suppressed.

(10)配線回路基板は、第1の金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆うようにかつ導体パターンに接触しないように形成された端子表面層をさらに備え、導体パターンは、銅を含み、端子表面層は、金を含み、第1の金属被覆層は、ニッケルを含んでもよい。   (10) The printed circuit board further includes a terminal surface layer formed so as to cover a portion of the first metal coating layer covering the terminal portion and not to contact the conductor pattern, and the conductor pattern includes copper. The terminal surface layer may include gold, and the first metal coating layer may include nickel.

この場合、導体パターンから端子表面層への銅の成分の拡散が第1の金属被覆層により抑制される。それにより、端子表面層の金に銅の成分が拡散することによる端子表面層の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。   In this case, the diffusion of the copper component from the conductor pattern to the terminal surface layer is suppressed by the first metal coating layer. Thereby, the deterioration of the corrosion resistance and wettability of the terminal surface layer due to the diffusion of the copper component into the gold of the terminal surface layer is suppressed.

(11)配線回路基板は、第2の絶縁層上に形成される上部導体パターンをさらに備え、上部導体パターンの少なくとも一部は、導体パターンに重なってもよい。これにより、導体パターンと上部導体パターンの少なくとも一部とが上下に積層されるので、配線回路基板の小型化が実現されるとともに、配線回路基板の設計の自由度が向上する。   (11) The printed circuit board may further include an upper conductor pattern formed on the second insulating layer, and at least a part of the upper conductor pattern may overlap the conductor pattern. Thereby, since the conductor pattern and at least a part of the upper conductor pattern are stacked one above the other, the size of the wiring circuit board can be reduced and the degree of freedom in designing the wiring circuit board can be improved.

(12)配線回路基板は、第2の絶縁層上に形成され、上部端子部と上部端子部から延びる上部配線部とを有する上部導体パターンと、上部配線部の一部と上部端子部とを覆うとともに上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、上部金属被覆層のうち上部配線部の一部を覆う部分と上部配線部のうち上部金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに上部金属被覆層のうち上部端子部を覆う部分を覆わないように第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、上部導体パターンの少なくとも一部は、導体パターンに重なり、上部金属被覆層は、上部配線部の一部に接触するとともに上部配線部の表面上で上部端子部と上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、第3の絶縁層は、上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触するとともに上部配線部の他の部分に接触し、上部配線部の全長に対する上部配線部の一部を覆う上部金属被覆層の長さの割合は40%以下であってもよい。   (12) The printed circuit board is formed on the second insulating layer, and includes an upper conductor pattern having an upper terminal portion and an upper wiring portion extending from the upper terminal portion, and a part of the upper wiring portion and the upper terminal portion. An upper metal coating layer that covers and extends continuously from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion; a portion of the upper metal coating layer that covers a portion of the upper wiring portion; and an upper wiring portion A third insulating layer provided on the second insulating layer so as to cover other portions not covered by the upper metal coating layer and not to cover portions of the upper metal coating layer covering the upper terminal portion. And at least part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern, and the upper metal coating layer is in contact with a part of the upper wiring part and on the surface of the upper wiring part on the boundary between the upper terminal part and the upper wiring part. 3 μm or more from the position The third insulating layer is in contact with the portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion and the other portion of the upper wiring portion, and the third insulating layer contacts the other portion of the upper wiring portion. The ratio of the length of the upper metal coating layer covering a part may be 40% or less.

この場合、上部配線部の全長に対して60%以上の長さの範囲において、上部配線部と第3の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、導体パターンおよび上部導体パターンに関して、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。   In this case, in the range of 60% or more of the total length of the upper wiring portion, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the upper wiring portion and the third insulating layer. Thereby, regarding the conductor pattern and the upper conductor pattern, it is possible to reduce the transmission loss of the electric signal even in a high frequency band.

また、第3の絶縁層は上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触している。上部金属被覆層は、上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるとともに、上部配線部の表面上で上部端子部と上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びている。それにより、上部導体パターンにおける上部端子部と上部配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。   The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion. The upper metal coating layer continuously extends from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion, and at least 3 μm away from the position on the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion on the surface of the upper wiring portion. It extends to the position. Thereby, it is possible to prevent corrosion from occurring at and near the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion in the upper conductor pattern.

さらに、導体パターンと上部導体パターンの少なくとも一部とが上下に積層されるので、配線回路基板の小型化が実現されるとともに、配線回路基板の設計の自由度が向上する。   Furthermore, since the conductor pattern and at least a part of the upper conductor pattern are stacked one above the other, the wiring circuit board can be miniaturized and the design flexibility of the wiring circuit board can be improved.

(13)配線回路基板は、第2の絶縁層上に形成され、上部端子部と上部端子部から延びる上部配線部とを有する上部導体パターンと、上部配線部と上部端子部とを覆うとともに上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分を覆うとともに上部金属被覆層のうち上部端子部を覆う部分を覆わないように第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、上部導体パターンの少なくとも一部は、導体パターンに重なり、上部金属被覆層は、上部配線部に接触し、第3の絶縁層は、上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触し、上部金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有してもよい。   (13) The printed circuit board is formed on the second insulating layer and covers the upper conductor pattern having the upper terminal portion and the upper wiring portion extending from the upper terminal portion, and the upper wiring portion and the upper terminal portion. An upper metal coating layer provided so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the upper wiring portion; and an upper terminal of the upper metal coating layer that covers a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion. And a third insulating layer provided on the second insulating layer so as not to cover the portion covering the portion, at least a part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern, and the upper metal coating layer is formed by the upper wiring. The third insulating layer may be in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion, and the upper metal coating layer may have magnetism lower than that of nickel.

この場合、上部配線部と第3の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。   In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the upper wiring portion and the third insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.

また、第3の絶縁層が上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触し、上部金属被覆層は上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びる。それにより、上部導体パターンにおける上部端子部と上部配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。   The third insulating layer contacts the portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion, and the upper metal coating layer continuously extends from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion. Thereby, it is possible to prevent corrosion from occurring at and near the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion in the upper conductor pattern.

さらに、導体パターンと上部導体パターンの少なくとも一部とが上下に積層されるので、配線回路基板の小型化が実現されるとともに、配線回路基板の設計の自由度が向上する。   Furthermore, since the conductor pattern and at least a part of the upper conductor pattern are stacked one above the other, the wiring circuit board can be miniaturized and the design flexibility of the wiring circuit board can be improved.

(14)配線回路基板は、第2の絶縁層上に形成され、上部端子部と上部端子部から延びる上部配線部とを有する上部導体パターンと、上部配線部の一部と上部端子部とを覆うとともに上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、上部金属被覆層のうち上部配線部の一部を覆う部分と上部配線部のうち上部金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに上部金属被覆層のうち上部端子部を覆う部分を覆わないように第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、上部導体パターンの少なくとも一部は、導体パターンに重なり、上部金属被覆層は、上部配線部の一部に接触するとともに上部配線部の表面上で上部端子部と上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、第3の絶縁層は、上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触するとともに上部配線部の他の部分に接触し、上部金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有してもよい。   (14) The printed circuit board is formed on the second insulating layer, and includes an upper conductor pattern having an upper terminal portion and an upper wiring portion extending from the upper terminal portion, and a part of the upper wiring portion and the upper terminal portion. An upper metal coating layer that covers and extends continuously from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion; a portion of the upper metal coating layer that covers a portion of the upper wiring portion; and an upper wiring portion A third insulating layer provided on the second insulating layer so as to cover other portions not covered by the upper metal coating layer and not to cover portions of the upper metal coating layer covering the upper terminal portion. And at least part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern, and the upper metal coating layer is in contact with a part of the upper wiring part and on the surface of the upper wiring part on the boundary between the upper terminal part and the upper wiring part. 3 μm or more from the position The third insulating layer is in contact with the portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion and the other portion of the upper wiring portion, and the upper metal coating layer is made of nickel magnetism. May have low magnetism.

この場合、上部配線部と第3の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。   In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the upper wiring portion and the third insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.

また、第3の絶縁層は上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触している。上部金属被覆層は、上部配線部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるとともに、上部配線部の表面上で上部端子部と上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びている。それにより、上部導体パターンにおける上部端子部と上部配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。   The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion. The upper metal coating layer continuously extends from the surface of the upper wiring portion to the surface of the upper wiring portion, and at least 3 μm away from the position on the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion on the surface of the upper wiring portion. It extends to the position. Thereby, it is possible to prevent corrosion from occurring at and near the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion in the upper conductor pattern.

さらに、導体パターンと上部導体パターンの少なくとも一部とが上下に積層されるので、配線回路基板の小型化が実現されるとともに、配線回路基板の設計の自由度が向上する。   Furthermore, since the conductor pattern and at least a part of the upper conductor pattern are stacked one above the other, the wiring circuit board can be miniaturized and the design flexibility of the wiring circuit board can be improved.

(15)配線回路基板は、下部絶縁層と、下部絶縁層上に形成された下部導体パターンとをさらに備え、第1の絶縁層は、下部導体パターンの少なくとも一部を覆うように下部絶縁層上に形成され、導体パターンの少なくとも一部は、下部導体パターンに重なってもよい。これにより、導体パターンと下部導体パターンの少なくとも一部とが上下に積層されるので、配線回路基板の小型化が実現されるとともに、配線回路基板の設計の自由度が向上する。   (15) The wired circuit board further includes a lower insulating layer and a lower conductor pattern formed on the lower insulating layer, and the first insulating layer covers the at least part of the lower conductor pattern. The conductor pattern may be formed at least partially overlapping the lower conductor pattern. Thereby, since the conductor pattern and at least a part of the lower conductor pattern are stacked one above the other, the wiring circuit board can be reduced in size and the degree of freedom in designing the wiring circuit board can be improved.

(16)第4の発明に係る配線回路基板の製造方法は、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンを第1の絶縁層上に形成する工程と、配線部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるようにかつ配線部に接触するように、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属を用いて金属被覆層を形成する工程と、金属被覆層のうち配線部を覆う部分を覆うとともに金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないようにかつ金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するように第1の絶縁層上に第2の絶縁層を形成する工程とを含む。   (16) A method for manufacturing a printed circuit board according to a fourth invention includes a step of forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer, and the wiring portion and the terminal portion. Forming a metal coating layer using a metal having a magnetic property lower than that of nickel so as to cover the wire and continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion and in contact with the wiring portion And covering the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion and not covering the portion of the metal coating layer that covers the terminal portion and contacting the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion. Forming a second insulating layer on the layer.

その配線回路基板の製造方法においては、配線部を覆うように金属被覆層が設けられ、金属被覆層のうち配線部を覆う部分を覆うように第2の絶縁層が設けられる。金属被覆層は配線部に接触し、第2の絶縁層は金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触する。この場合、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。   In the method for manufacturing the printed circuit board, a metal coating layer is provided so as to cover the wiring portion, and a second insulating layer is provided so as to cover a portion of the metal coating layer that covers the wiring portion. The metal coating layer is in contact with the wiring portion, and the second insulating layer is in contact with a portion of the metal coating layer that covers the wiring portion. In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.

また、第2の絶縁層が金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触することにより、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。   In addition, when the second insulating layer comes into contact with the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is improved. Further, the metal coating layer is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the metal coating layer from the outside of the second insulating layer. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern and in the vicinity thereof.

(17)第5の発明に係る配線回路基板の製造方法は、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンを第1の絶縁層上に形成する工程と、配線部の一部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるようにかつ配線部の一部に接触するように、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属を用いて金属被覆層を形成する工程と、金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないようにかつ金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触するように第2の絶縁層を第1の絶縁層上に形成する工程とを含み、金属被覆層を形成する工程において、金属被覆層は、配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成される。   (17) According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a printed circuit board manufacturing method comprising: forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer; Metal using a metal having a magnetic property lower than that of nickel so as to cover the terminal portion and continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion and to contact a part of the wiring portion A step of forming a covering layer, a portion of the metal covering layer that covers a part of the wiring portion, and a portion of the wiring portion that is not covered by the metal covering layer and a portion of the metal covering layer that covers the terminal portion Forming a second insulating layer on the first insulating layer so as to be in contact with the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion and in contact with the other portion of the wiring portion. In the process of forming the metal coating layer, the metal coating It is formed so as to extend from a position on the boundary between the wiring portion terminal portion to 3μm or more away on the surface of the wiring portion.

その配線回路基板の製造方法においては、配線部の一部と端子部とを覆うように金属被覆層が設けられ、金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うように第2の絶縁層が設けられる。金属被覆層は配線部の一部に接触し、第2の絶縁層は金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触する。この場合、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。   In the method of manufacturing the wired circuit board, a metal coating layer is provided so as to cover a part of the wiring part and the terminal part, and a part of the metal coating layer that covers a part of the wiring part and a metal coating of the wiring part A second insulating layer is provided so as to cover other parts not covered by the layer. The metal coating layer is in contact with a part of the wiring part, and the second insulating layer is in contact with a part of the metal coating layer that covers the wiring part and is in contact with another part of the wiring part. In this case, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.

また、第2の絶縁層は金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触し、金属被覆層は配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びる。それにより、導体パターンにおける端子部と配線部との境界の近傍において、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。   The second insulating layer is in contact with the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion, and the metal coating layer is on the surface of the wiring portion up to a position 3 μm or more away from the position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion. Extend. Thereby, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is improved in the vicinity of the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern. Further, the metal coating layer is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the metal coating layer from the outside of the second insulating layer. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern and in the vicinity thereof.

(18)第6の発明に係る配線回路基板の製造方法は、端子部と端子部から延びる配線部とを有する導体パターンを第1の絶縁層上に形成する工程と、配線部の一部と端子部とを覆うとともに端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるようにかつ配線部の一部に接触するように金属被覆層を形成する工程と、金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに金属被覆層のうち端子部を覆う部分を覆わないようにかつ金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部のうち他の部分に接触するように第2の絶縁層を第1の絶縁層上に形成する工程とを含み、金属被覆層を形成する工程において、金属被覆層は、配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成され、配線部の一部を覆う金属被覆層の長さの配線部の全長に対する割合は40%以下に設定される。   (18) A method for manufacturing a printed circuit board according to a sixth aspect of the invention includes a step of forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer, and a part of the wiring portion. A step of forming a metal coating layer so as to cover the terminal portion and continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion and to be in contact with a part of the wiring portion; Cover the part covering the part and the other part of the wiring part that is not covered by the metal coating layer, and cover the wiring part of the metal coating layer so as not to cover the part of the metal coating layer that covers the terminal part. Forming a second insulating layer on the first insulating layer so as to be in contact with the covered portion and in contact with another portion of the wiring portion, and in the step of forming the metal covering layer, the metal covering layer Is on the boundary between the terminal part and the wiring part on the surface of the wiring part. 3μm is formed so as to extend to over away from the location, the ratio of the total length of the length of the wiring portion of the metal coating layer covering a part of the wiring portion is set to 40% or less.

その配線回路基板の製造方法においては、配線部の一部と端子部とを覆うように金属被覆層が設けられ、金属被覆層のうち配線部の一部を覆う部分と配線部のうち金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うように第2の絶縁層が設けられる。金属被覆層は配線部の一部に接触し、第2の絶縁層は金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触するとともに配線部の他の部分に接触する。   In the method of manufacturing the wired circuit board, a metal coating layer is provided so as to cover a part of the wiring part and the terminal part, and a part of the metal coating layer that covers a part of the wiring part and a metal coating of the wiring part A second insulating layer is provided so as to cover other parts not covered by the layer. The metal coating layer is in contact with a part of the wiring part, and the second insulating layer is in contact with a part of the metal coating layer that covers the wiring part and is in contact with another part of the wiring part.

ここで、配線部の全長に対する配線部の一部を覆う金属被覆層の長さの割合は40%以下である。この場合、配線部の全長に対して60%以上の長さにおいて、配線部と第2の絶縁層との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する層が存在しない。それにより、高い周波数帯域においても電気信号の伝送損失を低減することができる。   Here, the ratio of the length of the metal coating layer covering a part of the wiring part to the entire length of the wiring part is 40% or less. In this case, in the length of 60% or more with respect to the entire length of the wiring portion, there is no layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion and the second insulating layer. Thereby, the transmission loss of an electric signal can be reduced even in a high frequency band.

また、第2の絶縁層は金属被覆層のうち配線部を覆う部分に接触し、金属被覆層は配線部の表面上で端子部と配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びる。それにより、導体パターンにおける端子部と配線部との境界の近傍において、第2の絶縁層と配線部との間の密着性が向上する。さらに、金属被覆層は、端子部の表面上から配線部の表面上に連続して延びるように形成される。それにより、金属被覆層の内部に第2の絶縁層の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターンにおける端子部と配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。   The second insulating layer is in contact with the portion of the metal coating layer that covers the wiring portion, and the metal coating layer is on the surface of the wiring portion up to a position 3 μm or more away from the position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion. Extend. Thereby, the adhesion between the second insulating layer and the wiring portion is improved in the vicinity of the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern. Further, the metal coating layer is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the metal coating layer from the outside of the second insulating layer. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary between the terminal portion and the wiring portion in the conductor pattern and in the vicinity thereof.

本発明によれば、導体パターンの腐食を防止しつつ高い周波数帯域においても電気信号の損失が低減された配線回路基板が実現される。   According to the present invention, it is possible to realize a printed circuit board in which loss of electric signals is reduced even in a high frequency band while preventing corrosion of the conductor pattern.

第1の実施の形態に係るサスペンション基板の平面図である。1 is a plan view of a suspension board according to a first embodiment. 接続端子およびその周辺部分の平面図である。It is a top view of a connecting terminal and its peripheral part. 接続端子およびその周辺部分の平面図である。It is a top view of a connecting terminal and its peripheral part. 接続端子およびその周辺部分の平面図である。It is a top view of a connecting terminal and its peripheral part. 接続端子およびその周辺部分の断面図である。It is sectional drawing of a connection terminal and its peripheral part. 図1のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。FIG. 2 is a schematic process diagram showing a manufacturing process of the suspension board of FIG. 1. 図1のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。FIG. 2 is a schematic process diagram showing a manufacturing process of the suspension board of FIG. 1. 図1のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。FIG. 2 is a schematic process diagram showing a manufacturing process of the suspension board of FIG. 1. 図1のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。FIG. 2 is a schematic process diagram showing a manufacturing process of the suspension board of FIG. 1. 第2の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。It is the top view and sectional view which show a part of suspension board concerning a 2nd embodiment. 第3の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。It is the top view and sectional view showing a part of suspension board concerning a 3rd embodiment. 第4の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。It is the top view and sectional view which show a part of suspension board concerning a 4th embodiment. 第4の実施の形態に係るサスペンション基板の他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the suspension board based on 4th Embodiment. 第5の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。It is the top view and sectional drawing which show a part of suspension board concerning a 5th embodiment. 第1の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子の他の構成例を示す平面図および断面図である。It is the top view and sectional drawing which show the other structural example of the connection terminal in the suspension board which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子の他の構成例を示す平面図および断面図である。It is the top view and sectional drawing which show the other structural example of the connection terminal in the suspension board which concerns on 2nd Embodiment. 第5の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子の他の構成例を示す平面図および断面図である。It is the top view and sectional drawing which show the other structural example of the connection terminal in the suspension board which concerns on 5th Embodiment. 第4の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子の他の構成例を示す平面図および断面図である。It is the top view and sectional drawing which show the other structural example of the connecting terminal in the suspension board which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子のさらに他の構成例を示す平面図および断面図である。It is the top view and sectional drawing which show the further another structural example of the connection terminal in the suspension board concerning 4th Embodiment. 第5の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子のさらに他の構成例を示す平面図および断面図である。It is the top view and sectional drawing which show the further another structural example of the connection terminal in the suspension board based on 5th Embodiment. 他の実施の形態に係るサスペンション基板の平面図である。It is a top view of the suspension board concerning other embodiments. 図21のサスペンション基板の接続端子およびその周辺部分の平面図である。FIG. 22 is a plan view of connection terminals of the suspension board of FIG. 21 and peripheral portions thereof. 図21のサスペンション基板の接続端子およびその周辺部分の断面図である。FIG. 22 is a cross-sectional view of the connection terminal of the suspension board of FIG. 21 and its peripheral portion. 図21のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。FIG. 22 is a schematic process diagram showing a manufacturing process of the suspension board of FIG. 21. 図21のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。FIG. 22 is a schematic process diagram showing a manufacturing process of the suspension board of FIG. 21. 図21のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。FIG. 22 is a schematic process diagram showing a manufacturing process of the suspension board of FIG. 21. 図21のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。FIG. 22 is a schematic process diagram showing a manufacturing process of the suspension board of FIG. 21. 図21のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。FIG. 22 is a schematic process diagram showing a manufacturing process of the suspension board of FIG. 21. 図21のサスペンション基板においてベース絶縁層の一部に開口部が形成された例を示す図である。It is a figure which shows the example in which the opening part was formed in a part of base insulating layer in the suspension board | substrate of FIG. 図21のサスペンション基板においてベース絶縁層の一部に開口部が形成された例を示す図である。It is a figure which shows the example in which the opening part was formed in a part of base insulating layer in the suspension board | substrate of FIG. 図30のサスペンション基板において露出するシード層の部分が除去された状態を示す図である。FIG. 31 is a diagram showing a state where a portion of the seed layer exposed in the suspension board of FIG. 30 is removed. 上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第1の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 1st structural example of two conductor patterns laminated | stacked up and down, and two connection terminals corresponding to them. 上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第2の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 2nd structural example of two conductor patterns laminated | stacked up and down and two connection terminals corresponding to them. 上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第3の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 3rd structural example of two conductor patterns laminated | stacked up and down and two connection terminals corresponding to them. 上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第4の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 4th structural example of two conductor patterns laminated | stacked up and down and two connection terminals corresponding to them. 上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第5の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 5th structural example of two conductor patterns laminated | stacked up and down and two connection terminals corresponding to them. 上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第6の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 6th structural example of two conductor patterns laminated | stacked up and down and two connection terminals corresponding to them. 比較例2のサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。6 is a plan view and a cross-sectional view showing a part of a suspension board of Comparative Example 2. FIG. 実施例10,11,12および比較例2についてのパラメータSDD21の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of parameter SDD21 about Example 10, 11, 12 and the comparative example 2. FIG.

以下、本発明の実施の形態に係る配線回路基板およびその製造方法について図面を参照しながら説明する。本発明の実施の形態に係る配線回路基板として、ハードディスクドライブ装置のアクチュエータに用いられる回路付サスペンション基板(以下、サスペンション基板と略記する)について説明する。   Hereinafter, a printed circuit board and a manufacturing method thereof according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. As a wired circuit board according to an embodiment of the present invention, a suspension board with circuit (hereinafter abbreviated as a suspension board) used for an actuator of a hard disk drive device will be described.

[1]第1の実施の形態
(1)サスペンション基板の構造
図1は、第1の実施の形態に係るサスペンション基板の平面図である。図1において、矢印が向かう方向を前方と呼び、その逆方向を後方と呼ぶ。図1に示すように、サスペンション基板1は、金属製の長尺状の支持基板10(図5参照)により形成されるサスペンション本体部100を備える。図1においては、サスペンション本体部100は、略前後方向に延びている。
[1] First Embodiment (1) Structure of Suspension Board FIG. 1 is a plan view of a suspension board according to the first embodiment. In FIG. 1, the direction in which the arrow heads is called the front, and the opposite direction is called the rear. As shown in FIG. 1, the suspension board 1 includes a suspension body 100 formed by a long metal support board 10 (see FIG. 5). In FIG. 1, the suspension main body 100 extends substantially in the front-rear direction.

サスペンション基板1は、長尺状の支持プレート50により支持される。サスペンション本体部100の上面には、点線で示すように、書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2が形成されている。   The suspension board 1 is supported by a long support plate 50. On the upper surface of the suspension body 100, as shown by dotted lines, write wiring patterns W1, W2, read wiring patterns R1, R2, and power supply wiring patterns P1, P2 are formed.

サスペンション本体部100の先端部には、U字状の開口部11を形成することにより磁気ヘッド搭載部(以下、タング部と呼ぶ)12が設けられている。タング部12は、サスペンション本体部100に対して所定の角度をなすように破線Rの箇所で折り曲げ加工される。   A magnetic head mounting portion (hereinafter referred to as a tongue portion) 12 is provided by forming a U-shaped opening 11 at the distal end portion of the suspension main body portion 100. The tongue portion 12 is bent at a location indicated by a broken line R so as to form a predetermined angle with respect to the suspension main body portion 100.

サスペンション本体部100の一端部におけるタング部12の上面には4つの接続端子21,22,23,24が形成されている。また、サスペンション本体部100が延びる方向における中央部近傍の両側部には、2つの接続端子25,26がそれぞれ形成されている。タング部12の上面に磁気ヘッドを有するヘッドスライダ(図示せず)が実装される。タング部12の接続端子21〜24にヘッドスライダの磁気ヘッドの端子が接続される。接続端子25,26は、支持プレート50に設けられた2つの圧電素子91,92にそれぞれ接続される。   Four connection terminals 21, 22, 23, and 24 are formed on the upper surface of the tongue 12 at one end of the suspension body 100. Further, two connection terminals 25 and 26 are formed on both side portions in the vicinity of the central portion in the direction in which the suspension main body 100 extends. A head slider (not shown) having a magnetic head is mounted on the upper surface of the tongue portion 12. The terminals of the magnetic head of the head slider are connected to the connection terminals 21 to 24 of the tongue 12. The connection terminals 25 and 26 are connected to two piezoelectric elements 91 and 92 provided on the support plate 50, respectively.

サスペンション本体部100の他端部の上面には6つの接続端子31,32,33,34,35,36が形成されている。接続端子31〜34には、プリアンプ等の電子回路が接続される。接続端子35,36には圧電素子91,92用の電源回路が接続される。接続端子21〜26と接続端子31〜36とは、それぞれ書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2により電気的に接続されている。また、サスペンション本体部100には複数の孔部Hが形成されている。   Six connection terminals 31, 32, 33, 34, 35, and 36 are formed on the upper surface of the other end of the suspension body 100. An electronic circuit such as a preamplifier is connected to the connection terminals 31 to 34. A power supply circuit for the piezoelectric elements 91 and 92 is connected to the connection terminals 35 and 36. The connection terminals 21 to 26 and the connection terminals 31 to 36 are electrically connected by write wiring patterns W1, W2, read wiring patterns R1, R2, and power supply wiring patterns P1, P2, respectively. In addition, the suspension body 100 is formed with a plurality of holes H.

支持プレート50は、前端領域51、後端領域52および中央領域53を有する。後端領域52は矩形状を有する。前端領域51は台形状を有し、その幅は後方から前方に向かって漸次減少する。中央領域53は前後方向に延びる矩形状を有し、前端領域51と後端領域52との間に配置される。サスペンション基板1が支持プレート50の上面に支持された状態において、接続端子31〜36を含むサスペンション基板1の端部は、後端領域52から後方に突出する。   The support plate 50 has a front end region 51, a rear end region 52, and a central region 53. The rear end region 52 has a rectangular shape. The front end region 51 has a trapezoidal shape, and its width gradually decreases from the rear toward the front. The central region 53 has a rectangular shape extending in the front-rear direction, and is disposed between the front end region 51 and the rear end region 52. In a state where the suspension board 1 is supported on the upper surface of the support plate 50, the end portion of the suspension board 1 including the connection terminals 31 to 36 protrudes rearward from the rear end region 52.

中央領域53の一部分には、圧電素子実装領域54が設けられる。圧電素子実装領域54は、サスペンション基板1の接続端子25,26と重なる。圧電素子実装領域54の両側部は、外方に湾曲するように突出する。また、圧電素子実装領域54には、幅方向(前後方向に直交する方向)に延びる貫通孔54hが形成される。この構成によれば、支持プレート50の圧電素子実装領域54の部分は、前後方向に伸縮性を有する。   A piezoelectric element mounting region 54 is provided in a part of the central region 53. The piezoelectric element mounting region 54 overlaps with the connection terminals 25 and 26 of the suspension board 1. Both side portions of the piezoelectric element mounting region 54 protrude so as to curve outward. Further, in the piezoelectric element mounting region 54, a through hole 54h extending in the width direction (direction orthogonal to the front-rear direction) is formed. According to this configuration, the piezoelectric element mounting region 54 of the support plate 50 has elasticity in the front-rear direction.

貫通孔54hをまたぐように圧電素子実装領域54の下面に圧電素子91,92が実装される。圧電素子91,92は、サスペンション基板1の両側方にそれぞれ位置する。圧電素子91,92は、貫通孔54hを通してサスペンション基板1の接続端子25,26にそれぞれ接続される。   Piezoelectric elements 91 and 92 are mounted on the lower surface of the piezoelectric element mounting region 54 so as to straddle the through hole 54h. The piezoelectric elements 91 and 92 are located on both sides of the suspension board 1, respectively. The piezoelectric elements 91 and 92 are connected to the connection terminals 25 and 26 of the suspension board 1 through the through holes 54h, respectively.

接続端子25,35および電源用配線パターンP1を介して圧電素子91に電圧が印加され、接続端子26,36および電源用配線パターンP2を介して圧電素子92に電圧が印加される。これにより、圧電素子91,92の伸縮に伴って、支持プレート50が前後方向に伸縮する。圧電素子91,92に印加される電圧を制御することにより、サスペンション基板1上のヘッドスライダの磁気ヘッドの微小な位置合わせが可能になる。   A voltage is applied to the piezoelectric element 91 via the connection terminals 25 and 35 and the power supply wiring pattern P1, and a voltage is applied to the piezoelectric element 92 via the connection terminals 26 and 36 and the power supply wiring pattern P2. Thereby, the support plate 50 expands and contracts in the front-rear direction as the piezoelectric elements 91 and 92 expand and contract. By controlling the voltage applied to the piezoelectric elements 91 and 92, the magnetic head of the head slider on the suspension board 1 can be finely aligned.

支持プレート50に支持されたサスペンション基板1はハードディスク装置に設けられる。磁気ディスクへの情報の書込み時に一対の書込用配線パターンW1,W2に電流が流れる。書込用配線パターンW1と書込用配線パターンW2とは、差動の書込み信号を伝送する差動信号線路対を構成する。また、磁気ディスクからの情報の読取り時に一対の読取用配線パターンR1,R2に電流が流れる。読取用配線パターンR1と読取用配線パターンR2とは、差動の読取り信号を伝送する差動信号線路対を構成する。   The suspension board 1 supported by the support plate 50 is provided in the hard disk device. When writing information to the magnetic disk, a current flows through the pair of write wiring patterns W1, W2. The write wiring pattern W1 and the write wiring pattern W2 constitute a differential signal line pair that transmits a differential write signal. Further, when reading information from the magnetic disk, a current flows through the pair of read wiring patterns R1, R2. The read wiring pattern R1 and the read wiring pattern R2 constitute a differential signal line pair that transmits a differential read signal.

(2)接続端子およびその周辺部分の構成
次に、サスペンション基板1の接続端子21〜26,31〜36およびその周辺部分について詳細に説明する。図2〜図4は、接続端子21〜26,31〜36およびその周辺部分の平面図である。図5は、接続端子21〜26,31〜36およびその周辺部分の断面図である。図2(a)〜(c)の縮尺は互いに異なり、図3(a)〜(c)の縮尺は互いに異なり、図4(a)〜(c)の縮尺は互いに異なり、図5(a)〜(c)の縮尺は互いに異なる。
(2) Configuration of Connection Terminal and its Peripheral Part Next, the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 of the suspension board 1 and their peripheral parts will be described in detail. 2 to 4 are plan views of the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 and their peripheral portions. FIG. 5 is a cross-sectional view of the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 and their peripheral portions. The scales of FIGS. 2A to 2C are different from each other, the scales of FIGS. 3A to 3C are different from each other, the scales of FIGS. 4A to 4C are different from each other, and FIG. The scales of (c) are different from each other.

図2(a)、図3(a)および図4(a)は図1の接続端子21〜24およびその周辺部分を示し、図2(b)、図3(b)および図4(b)は図1の接続端子25およびその周辺部分を示し、図2(c)、図3(c)および図4(c)は図1の接続端子31,32およびその周辺部分を示す。図2(a)〜(c)においては、金属被覆層15(図5参照)およびカバー絶縁層43(図5参照)の図示が省略されている。図3(a)〜(c)においては、カバー絶縁層43(図5参照)の図示が省略されている。接続端子26は接続端子25と同様の構成を有し、接続端子33〜36は接続端子31,32と同様の構成を有する。   2 (a), 3 (a) and 4 (a) show the connection terminals 21 to 24 and their peripheral parts in FIG. 1, and FIG. 2 (b), FIG. 3 (b) and FIG. 4 (b). 1 shows the connection terminal 25 of FIG. 1 and its peripheral part, and FIGS. 2C, 3C and 4C show the connection terminals 31 and 32 of FIG. 1 and their peripheral part. 2A to 2C, illustration of the metal coating layer 15 (see FIG. 5) and the cover insulating layer 43 (see FIG. 5) is omitted. 3A to 3C, the insulating cover layer 43 (see FIG. 5) is not shown. The connection terminal 26 has the same configuration as the connection terminal 25, and the connection terminals 33 to 36 have the same configuration as the connection terminals 31 and 32.

図5(a)〜(c)は、図2(a)のA−A線拡大断面図、図2(b)のB−B線拡大断面図および図2(c)のC−C線拡大断面図をそれぞれ示す。図2(a)〜(c)、図3(a)〜(c)および図4(a)〜(c)の平面図には、構成の理解を容易にするために、図5(a)〜(c)の断面図の各部材に付されたハッチングまたはドットパターンと同一のハッチングまたはドットパターンが付されている。後述する図6〜図12、図14および図38等についても同様である。   5A to 5C are an AA line enlarged sectional view of FIG. 2A, an BB line enlarged sectional view of FIG. 2B, and a CC line enlarged view of FIG. Cross-sectional views are shown respectively. 2 (a) to (c), FIGS. 3 (a) to (c) and FIGS. 4 (a) to (c) are illustrated in FIG. The hatching or dot pattern same as the hatching or dot pattern given to each member of the sectional views of (c) to (c) is given. The same applies to FIGS. 6 to 12, 14, and 38 described later.

図5(a)〜(c)に示すように、例えばステンレス鋼からなる金属製の支持基板10上に例えばポリイミドからなるベース絶縁層41が形成される。図2(a)〜(c)に示すように、ベース絶縁層41上に、例えば銅からなる複数(本例では6つ)の導体パターン61が形成される。各導体パターン61は、2つの端子部61aと1本の配線部61bとを含む。配線部61bは、2つの端子部61aをつなぐようにかつ各端子部61aから延びるように形成される。6つの導体パターン61の配線部61bにより、上記の書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2がそれぞれ構成される。なお、各導体パターン61とベース絶縁層41との間には図示しないシード層が形成されている。   As shown in FIGS. 5A to 5C, a base insulating layer 41 made of, for example, polyimide is formed on a metal support substrate 10 made of, for example, stainless steel. As shown in FIGS. 2A to 2C, a plurality (six in this example) of conductor patterns 61 made of, for example, copper are formed on the base insulating layer 41. Each conductor pattern 61 includes two terminal portions 61a and one wiring portion 61b. The wiring part 61b is formed so as to connect the two terminal parts 61a and extend from each terminal part 61a. The wiring portions 61b of the six conductor patterns 61 constitute the above-described writing wiring patterns W1, W2, reading wiring patterns R1, R2, and power supply wiring patterns P1, P2, respectively. A seed layer (not shown) is formed between each conductor pattern 61 and the base insulating layer 41.

図5(a)〜(c)に示すように、各導体パターン61の全体を覆うように金属被覆層15が形成される。具体的には、各導体パターン61の端子部61aおよび配線部61bを覆うとともに端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように金属被覆層15が形成される。本実施の形態においては、金属被覆層15は、主としてニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属(例えば非磁性体の金属)からなり、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。具体的には、金属被覆層15は例えば金からなる。   As shown in FIGS. 5A to 5C, the metal coating layer 15 is formed so as to cover the entire conductor pattern 61. Specifically, the metal coating layer 15 is formed so as to cover the terminal portion 61a and the wiring portion 61b of each conductor pattern 61 and continuously extend from the surface of the terminal portion 61a to the surface of the wiring portion 61b. In the present embodiment, the metal coating layer 15 is mainly made of a metal having a magnetic property lower than that of nickel (for example, a non-magnetic metal), and has a magnetic property lower than that of nickel. Specifically, the metal coating layer 15 is made of, for example, gold.

複数の導体パターン61の2つの端子部61aにそれぞれ金属被覆層15が形成されることにより、図3(a)に示すように、書込用配線パターンW1,W2および読取用配線パターンR1,R2の一端部に、それぞれ接続端子21〜24が形成される。図3(b)に示すように、電源用配線パターンP1の一端部に、接続端子25が形成される。同様に、電源用配線パターンP2(図1)の一端部に、接続端子26(図1)が形成される。図3(c)に示すように、書込用配線パターンW1,W2の他端部に、それぞれ接続端子31,32が形成される。同様に、読取用配線パターンR1,R2(図1)および電源用配線パターンP1,P2(図1)の他端部に、接続端子33〜36(図1)が形成される。   By forming the metal coating layer 15 on the two terminal portions 61a of the plurality of conductor patterns 61, as shown in FIG. 3A, the write wiring patterns W1, W2 and the read wiring patterns R1, R2 The connection terminals 21 to 24 are formed at one end of each. As shown in FIG. 3B, a connection terminal 25 is formed at one end of the power supply wiring pattern P1. Similarly, a connection terminal 26 (FIG. 1) is formed at one end of the power wiring pattern P2 (FIG. 1). As shown in FIG. 3C, connection terminals 31 and 32 are formed at the other end portions of the write wiring patterns W1 and W2, respectively. Similarly, connection terminals 33 to 36 (FIG. 1) are formed at the other end portions of the read wiring patterns R1, R2 (FIG. 1) and the power supply wiring patterns P1, P2 (FIG. 1).

図4(a)〜(c)に示すように、各導体パターン61に形成される金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分を覆うとともに端子部61aを覆う部分を覆わないように、ベース絶縁層41上にカバー絶縁層43が形成される。カバー絶縁層43は、例えばポリイミドからなる。   As shown in FIGS. 4A to 4C, the base is formed so as to cover a portion covering the wiring portion 61b and not covering a portion covering the terminal portion 61a in the metal coating layer 15 formed in each conductor pattern 61. A cover insulating layer 43 is formed on the insulating layer 41. The insulating cover layer 43 is made of polyimide, for example.

上記の構成において、金属被覆層15は配線部61bおよび端子部61aに接触し、カバー絶縁層43は金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分に接触する。また、接続端子21〜24,33〜36の近傍に位置するカバー絶縁層43の端部は、各導体パターン61の端子部61aと配線部61bとの境界61c(図5参照)上に位置する。   In the above configuration, the metal coating layer 15 contacts the wiring portion 61b and the terminal portion 61a, and the cover insulating layer 43 contacts a portion of the metal coating layer 15 that covers the wiring portion 61b. Moreover, the edge part of the cover insulating layer 43 located in the vicinity of the connection terminals 21-24 and 33-36 is located on the boundary 61c (refer FIG. 5) of the terminal part 61a of each conductor pattern 61 and the wiring part 61b. .

図5(a)〜(c)に示すように、本実施の形態においては、金属被覆層15は、配線部61bの表面上で端子部61aと配線部61bとの境界61c上の位置から少なくとも距離L0離れた位置まで延びるように形成される。距離L0は、3μm以上である。   As shown in FIGS. 5A to 5C, in the present embodiment, the metal coating layer 15 is at least from the position on the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b on the surface of the wiring portion 61b. It is formed to extend to a position separated by distance L0. The distance L0 is 3 μm or more.

(3)サスペンション基板の製造方法
以下、サスペンション基板1の製造方法を説明する。図6〜図9は、図1のサスペンション基板1の製造工程を示す模式的工程図である。図6および図7は接続端子21〜24およびその周辺に相当する部分の平面図を示す。図8および図9は、図6および図7のD−D線断面図を示す。
(3) Method for Manufacturing Suspension Board Hereinafter, a method for manufacturing the suspension board 1 will be described. 6 to 9 are schematic process diagrams showing the manufacturing process of the suspension board 1 of FIG. 6 and 7 are plan views of the connection terminals 21 to 24 and portions corresponding to the periphery thereof. 8 and 9 show sectional views taken along the line D-D in FIGS. 6 and 7.

まず、図6(a)および図8(a)に示すように、例えばステンレス鋼からなる支持層10a上に、例えばポリイミドからなるベース絶縁層41を形成する。支持層10aの厚みは、例えば10μm以上50μm以下である。ベース絶縁層41の厚みは、例えば5μm以上15μm以下である。ここで、ベース絶縁層41は、図1のサスペンション基板1の形状と同一の形状に形成される。   First, as shown in FIGS. 6A and 8A, a base insulating layer 41 made of, for example, polyimide is formed on a support layer 10a made of, for example, stainless steel. The thickness of the support layer 10a is, for example, 10 μm or more and 50 μm or less. The insulating base layer 41 has a thickness of, for example, 5 μm or more and 15 μm or less. Here, the insulating base layer 41 is formed in the same shape as that of the suspension board 1 of FIG.

次に、図6(b)および図8(b)に示すように、ベース絶縁層41上に図示しないシード層を介して例えば銅からなる複数(本例では6つ)の導体パターン61を形成する。シード層は、例えばクロムおよび銅の積層膜またはクロムの単層膜からなり、スパッタリング、無電解めっきまたは蒸着等の方法により形成することができる。各導体パターン61の厚みは、例えば1μm以上20μm以下である。6つの導体パターン61の配線部61bにより、ベース絶縁層41上に書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2が形成される。   Next, as shown in FIGS. 6B and 8B, a plurality of (six in this example) conductor patterns 61 made of, for example, copper are formed on the base insulating layer 41 through a seed layer (not shown). To do. The seed layer is made of, for example, a laminated film of chromium and copper or a single layer film of chromium, and can be formed by a method such as sputtering, electroless plating, or vapor deposition. The thickness of each conductor pattern 61 is, for example, not less than 1 μm and not more than 20 μm. The wiring portions 61b of the six conductor patterns 61 form the write wiring patterns W1, W2, the read wiring patterns R1, R2, and the power supply wiring patterns P1, P2 on the base insulating layer 41.

書込用配線パターンW1,W2間の間隔および読取用配線パターンR1,R2間の間隔は、例えばそれぞれ5μm以上100μm以下である。同様に、書込用配線パターンW1と電源用配線パターンP1との間の間隔および読取用配線パターンR2と電源用配線パターンP2との間の間隔は、例えばそれぞれ5μm以上100μm以下である。書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2の幅は、例えば5μm以上200μm以下である。   The spacing between the write wiring patterns W1, W2 and the spacing between the read wiring patterns R1, R2 are, for example, 5 μm or more and 100 μm or less, respectively. Similarly, the distance between the write wiring pattern W1 and the power supply wiring pattern P1 and the distance between the read wiring pattern R2 and the power supply wiring pattern P2 are, for example, 5 μm or more and 100 μm or less, respectively. The widths of the write wiring patterns W1, W2, the read wiring patterns R1, R2, and the power supply wiring patterns P1, P2 are, for example, not less than 5 μm and not more than 200 μm.

続いて、図6(c)および図8(c)に示すように、各導体パターン61の端子部61aおよび配線部61bを覆うとともに端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように金属被覆層15を形成する。6つの導体パターン61の端子部61aとそれらの端子部61aを被覆する金属被覆層15とにより、図1の接続端子21〜26,31〜36が形成される。   Subsequently, as shown in FIG. 6C and FIG. 8C, the terminal portions 61a and the wiring portions 61b of the respective conductor patterns 61 are covered and continuously from the surface of the terminal portion 61a to the surface of the wiring portion 61b. The metal coating layer 15 is formed to extend. The connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 shown in FIG. 1 are formed by the terminal portions 61a of the six conductor patterns 61 and the metal coating layer 15 covering the terminal portions 61a.

金属被覆層15は、主としてニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属からなり、例えば電解めっきにより形成される。なお、金属被覆層15は、無電解めっきまたはスパッタリングにより形成することもできる。金属被覆層15の材料としては、例えば金が用いられる。また、金属被覆層15の材料として銀、クロム、錫および白金のうちいずれかを用いることもできる。金属被覆層15の厚みは、例えば0.005μm以上5μm以下であり、0.01μm以上3μm以下であることが好ましい。   The metal coating layer 15 is made of a metal having a magnetic property lower than that of nickel, and is formed by, for example, electrolytic plating. The metal coating layer 15 can also be formed by electroless plating or sputtering. For example, gold is used as the material of the metal coating layer 15. In addition, any of silver, chromium, tin, and platinum can be used as the material of the metal coating layer 15. The thickness of the metal coating layer 15 is, for example, 0.005 μm or more and 5 μm or less, and preferably 0.01 μm or more and 3 μm or less.

その後、図7(a)および図9(a)に示すように、金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分を覆うとともに端子部61aを覆う部分を覆わないように、ベース絶縁層41上に例えばポリイミドからなるカバー絶縁層43を形成する。それにより、接続端子21〜26,31〜36がカバー絶縁層43から露出する。カバー絶縁層43の厚みは、例えば2μm以上10μm以下である。   Thereafter, as shown in FIG. 7A and FIG. 9A, on the base insulating layer 41 so as to cover a portion of the metal coating layer 15 covering the wiring portion 61b and not to cover a portion covering the terminal portion 61a. Then, a cover insulating layer 43 made of polyimide, for example, is formed. Accordingly, the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 are exposed from the cover insulating layer 43. The insulating cover layer 43 has a thickness of, for example, 2 μm or more and 10 μm or less.

その後、図7(b)および図9(b)に示すように、ベース絶縁層41と重なる支持層10aの部分が残存するように支持層10aを加工することにより、支持基板10を形成する。支持層10aの加工は、例えばエッチングにより行われる。これにより、サスペンション基板1が完成する。   Thereafter, as shown in FIGS. 7B and 9B, the support layer 10 a is processed so that the portion of the support layer 10 a that overlaps the insulating base layer 41 remains, thereby forming the support substrate 10. The support layer 10a is processed by etching, for example. Thereby, the suspension board 1 is completed.

(4)第1の実施の形態の効果
本実施の形態に係るサスペンション基板1においては、各導体パターン61の配線部61bを覆うように金属被覆層15が設けられ、金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分を覆うようにカバー絶縁層43が設けられる。金属被覆層15は配線部61bに接触し、カバー絶縁層43は金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分に接触する。この場合、配線部61bとカバー絶縁層43との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層(例えば強磁性体の金属からなる層)が存在しない。本発明者の実験および検討の結果、配線部61bとその配線部61bを覆うカバー絶縁層43との間にニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しないことにより、高い周波数帯域において電気信号の伝送損失を低減できることがわかった。したがって、上記のサスペンション基板1によれば、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。
(4) Effects of First Embodiment In the suspension board 1 according to the present embodiment, the metal coating layer 15 is provided so as to cover the wiring portions 61 b of the respective conductor patterns 61, and the wiring of the metal coating layers 15 is provided. The insulating cover layer 43 is provided so as to cover the portion covering the portion 61b. The metal coating layer 15 is in contact with the wiring portion 61b, and the cover insulating layer 43 is in contact with a portion of the metal coating layer 15 that covers the wiring portion 61b. In this case, there is no metal layer (for example, a layer made of a ferromagnetic metal) having a magnetism higher than that of nickel between the wiring portion 61b and the cover insulating layer 43. As a result of the experiments and examinations of the present inventors, there is no metal layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion 61b and the cover insulating layer 43 covering the wiring portion 61b. It was found that the transmission loss can be reduced. Therefore, according to the suspension board 1 described above, transmission loss of electric signals in a high frequency band can be reduced.

また、上記の構成においては、カバー絶縁層43が金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分に接触することにより、カバー絶縁層43と配線部61bとが接触する場合に比べてカバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性が向上する。したがって、カバー絶縁層43と金属被覆層15との間に大きな空隙が生じにくくなる。さらに、金属被覆層15は、端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように形成される。それにより、金属被覆層15の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cおよびその近傍に腐食が発生することが防止される。   Further, in the above configuration, the cover insulating layer 43 is in contact with a portion of the metal coating layer 15 that covers the wiring portion 61b, so that the cover insulating layer 43 is in comparison with the case where the cover insulating layer 43 and the wiring portion 61b are in contact. Adhesion between 43 and the wiring part 61b is improved. Therefore, a large gap is less likely to be generated between the insulating cover layer 43 and the metal cover layer 15. Furthermore, the metal coating layer 15 is formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion 61a to the surface of the wiring portion 61b. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the inside of the metal coating layer 15 from the outside of the insulating cover layer 43. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b and the vicinity thereof in the conductor pattern 61.

サスペンション基板1の上記の製造方法においては、配線部61b上に腐食の発生を防止するための金属被覆層15が形成されると同時に、端子部61a上に接続端子21〜26,31〜36用の金属被覆層15が形成される。この場合、配線部61bへの金属被覆層15の形成と、端子部61aへの金属被覆層15の形成とを個別に行う必要がないので、サスペンション基板1の製造工程数が低減される。   In the above manufacturing method of the suspension board 1, the metal coating layer 15 for preventing the occurrence of corrosion is formed on the wiring portion 61b, and at the same time, for the connection terminals 21 to 26, 31 to 36 on the terminal portion 61a. The metal coating layer 15 is formed. In this case, since it is not necessary to separately form the metal coating layer 15 on the wiring portion 61b and the metal coating layer 15 on the terminal portion 61a, the number of manufacturing steps of the suspension board 1 is reduced.

[2]第2の実施の形態
第2の実施の形態に係るサスペンション基板について、第1の実施の形態に係るサスペンション基板1と異なる点を説明する。図10は、第2の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。図10(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図10(a)の平面図は、第1の実施の形態の図3(a)の平面図に対応する。図10(b)の断面図は、図10(a)のE−E線拡大断面図を示し、第1の実施の形態の図5(a)の断面図に対応する。
[2] Second Embodiment A suspension board according to a second embodiment will be described while referring to differences from the suspension board 1 according to the first embodiment. FIG. 10 is a plan view and a cross-sectional view showing a part of the suspension board according to the second embodiment. 10A and 10B are a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 10A corresponds to the plan view of FIG. 3A of the first embodiment. The sectional view of FIG. 10B shows an enlarged sectional view taken along line EE of FIG. 10A, and corresponds to the sectional view of FIG. 5A of the first embodiment.

本実施の形態に係るサスペンション基板においても、第1の実施の形態と同様に、支持基板10上にベース絶縁層41が形成され、ベース絶縁層41上に図示しないシード層を介して複数の導体パターン61が形成される。複数の導体パターン61の配線部61bを覆うようにベース絶縁層41上にカバー絶縁層43が形成される(図4(a)参照)。図10(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。   Also in the suspension board according to the present embodiment, the base insulating layer 41 is formed on the support substrate 10 as in the first embodiment, and a plurality of conductors are formed on the base insulating layer 41 via a seed layer (not shown). A pattern 61 is formed. A cover insulating layer 43 is formed on the base insulating layer 41 so as to cover the wiring portions 61b of the plurality of conductor patterns 61 (see FIG. 4A). In FIG. 10A, the cover insulating layer 43 is not shown.

図10(a),(b)に示すように、本実施の形態では、各導体パターン61の配線部61bの一部と端子部61aとを覆うとともに端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように金属被覆層15が設けられる。さらに、金属被覆層15は、配線部61bの表面上で端子部61aと配線部61bとの境界61c上の位置から距離L1離れた位置まで延びる。   As shown in FIGS. 10A and 10B, in this embodiment, a part of the wiring part 61b of each conductor pattern 61 and the terminal part 61a are covered and the wiring part 61b is covered from the surface of the terminal part 61a. A metal coating layer 15 is provided so as to continuously extend on the surface. Furthermore, the metal coating layer 15 extends from the position on the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b to a position separated by a distance L1 on the surface of the wiring portion 61b.

本実施の形態に係るサスペンション基板においては、各導体パターン61の配線部61bの一部を覆うように金属被覆層15が設けられる。また、金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分と、配線部61bのうち金属被覆層15により覆われない他の部分とを覆うようにカバー絶縁層43が設けられる。金属被覆層15は配線部61bの一部に接触し、カバー絶縁層43は金属被覆層15のうち配線部61bを覆う部分に接触するとともに配線部61bの他の部分に接触する。この場合、配線部61bとカバー絶縁層43との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しない。したがって、本実施の形態においても、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。   In the suspension board according to the present embodiment, the metal coating layer 15 is provided so as to cover a part of the wiring portion 61 b of each conductor pattern 61. Further, the cover insulating layer 43 is provided so as to cover a portion of the metal coating layer 15 that covers the wiring portion 61b and another portion of the wiring portion 61b that is not covered by the metal coating layer 15. The metal coating layer 15 contacts a part of the wiring part 61b, and the cover insulating layer 43 contacts the part of the metal coating layer 15 that covers the wiring part 61b and the other part of the wiring part 61b. In this case, there is no metal layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion 61b and the cover insulating layer 43. Therefore, also in this embodiment, transmission loss of electric signals in a high frequency band can be reduced.

本実施の形態においては、上記の距離L1は3μm以上に設定される。この場合、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cの近傍において、金属被覆層15によりカバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性が向上する。それにより、第1の実施の形態と同様に、金属被覆層15の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cおよびその近傍に腐食が発生することが防止される。   In the present embodiment, the distance L1 is set to 3 μm or more. In this case, in the vicinity of the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b in the conductor pattern 61, the adhesion between the cover insulating layer 43 and the wiring portion 61b is improved by the metal coating layer 15. As a result, as in the first embodiment, fluid such as air, water, or a chemical solution is prevented from entering the inside of the metal cover layer 15 from the outside of the insulating cover layer 43. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b and the vicinity thereof in the conductor pattern 61.

上記の距離L1は、5μm以上に設定されることが好ましい。この場合、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cの近傍において、カバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性がより向上する。したがって、カバー絶縁層43と金属被覆層15との間に大きな空隙がより生じにくくなる。その結果、導体パターン61における腐食の発生がより防止される。   The distance L1 is preferably set to 5 μm or more. In this case, in the vicinity of the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b in the conductor pattern 61, the adhesion between the cover insulating layer 43 and the wiring portion 61b is further improved. Accordingly, a large gap is less likely to occur between the insulating cover layer 43 and the metal cover layer 15. As a result, the occurrence of corrosion in the conductor pattern 61 is further prevented.

[3]第3の実施の形態
第3の実施の形態に係るサスペンション基板について、第2の実施の形態に係るサスペンション基板と異なる点を説明する。図11は、第3の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。図11(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図11(a)の平面図は、第2の実施の形態の図10(a)の平面図に対応する。図11(b)の断面図は、図11(a)のF−F線拡大断面図を示し、第2の実施の形態の図10(b)の断面図に対応する。図10(a)の例と同様に、図11(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
[3] Third Embodiment A suspension board according to a third embodiment will be described while referring to differences from the suspension board according to the second embodiment. FIG. 11 is a plan view and a cross-sectional view showing a part of the suspension board according to the third embodiment. FIGS. 11A and 11B are a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 11A corresponds to the plan view of FIG. 10A of the second embodiment. The sectional view of FIG. 11B shows an enlarged sectional view taken along line FF of FIG. 11A and corresponds to the sectional view of FIG. 10B of the second embodiment. Similar to the example of FIG. 10A, the cover insulating layer 43 is not shown in FIG. 11A.

図11(a),(b)に示すように、本実施の形態では、各導体パターン61に形成される金属被覆層15のうち端子部61aを覆う部分を覆うように、例えば金からなる金属被覆層16が形成されている。金属被覆層16の厚みは、例えば0.005μm以上5μm以下であり、0.01μm以上3μm以下であることが好ましい。   As shown in FIGS. 11A and 11B, in the present embodiment, a metal made of, for example, gold so as to cover a portion covering the terminal portion 61a in the metal coating layer 15 formed in each conductor pattern 61. A covering layer 16 is formed. The thickness of the metal coating layer 16 is, for example, 0.005 μm or more and 5 μm or less, and preferably 0.01 μm or more and 3 μm or less.

本実施の形態に係るサスペンション基板の製造方法においては、カバー絶縁層43の形成後(図7(a)および図9(a)参照)、露出する金属被覆層15上に例えば電解めっきにより金属被覆層16が形成される。この場合、図1の接続端子21〜26,31〜36は、導体パターン61の端子部61a、金属被覆層15および金属被覆層16により形成される。   In the manufacturing method of the suspension board according to the present embodiment, after the insulating cover layer 43 is formed (see FIGS. 7A and 9A), the exposed metal coating layer 15 is coated with metal by, for example, electrolytic plating. Layer 16 is formed. In this case, the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 in FIG. 1 are formed by the terminal portions 61 a of the conductor pattern 61, the metal coating layer 15, and the metal coating layer 16.

上記の構成によれば、サスペンション基板の製造過程で金属被覆層15の表面状態が不安定になる場合でも、端子部61aにおける金属被覆層15の表面が金属被覆層16により覆われる。それにより、接続端子21〜26,31〜36の表面状態を整えることができる。   According to the above configuration, even when the surface state of the metal coating layer 15 becomes unstable during the manufacturing process of the suspension board, the surface of the metal coating layer 15 in the terminal portion 61 a is covered with the metal coating layer 16. Thereby, the surface states of the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 can be adjusted.

本実施の形態では、金属被覆層16の材料として金が用いられる。上記の例に限らず、金属被覆層16の材料としてニッケル、銀、クロム、錫および白金のうちいずれかを用いることもできる。   In the present embodiment, gold is used as the material of the metal coating layer 16. Not limited to the above example, any of nickel, silver, chromium, tin and platinum can be used as the material of the metal coating layer 16.

[4]第4の実施の形態
第4の実施の形態に係るサスペンション基板について、第2の実施の形態に係るサスペンション基板と異なる点を説明する。図12は、第4の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。図12(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図12(a)の平面図は、第2の実施の形態の図10(a)の平面図に対応する。図12(b)の断面図は、図12(a)のG−G線拡大断面図を示し、第2の実施の形態の図10(b)の断面図に対応する。図10(a)の例と同様に、図12(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
[4] Fourth Embodiment A suspension board according to a fourth embodiment will be described while referring to differences from the suspension board according to the second embodiment. FIG. 12 is a plan view and a sectional view showing a part of the suspension board according to the fourth embodiment. FIGS. 12A and 12B are a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 12A corresponds to the plan view of FIG. 10A of the second embodiment. The sectional view of FIG. 12B shows an enlarged sectional view taken along the line GG of FIG. 12A and corresponds to the sectional view of FIG. 10B of the second embodiment. Similar to the example of FIG. 10A, the cover insulating layer 43 is not shown in FIG.

図12(a),(b)に示すように、本実施の形態では、図10の金属被覆層15に代えて例えばニッケルからなる金属被覆層17が設けられる。本実施の形態において、金属被覆層17は、主としてニッケルの磁性以上の磁性を有する金属からなり、例えば電解めっき、無電解めっきまたはスパッタリングにより形成される。金属被覆層17の厚みは、例えば0.005μm以上5μm以下であり、0.01μm以上3μm以下であることが好ましい。   As shown in FIGS. 12A and 12B, in the present embodiment, a metal coating layer 17 made of nickel, for example, is provided instead of the metal coating layer 15 of FIG. In the present embodiment, the metal coating layer 17 is mainly made of a metal having magnetism higher than that of nickel, and is formed by, for example, electrolytic plating, electroless plating, or sputtering. The thickness of the metal coating layer 17 is, for example, 0.005 μm or more and 5 μm or less, and preferably 0.01 μm or more and 3 μm or less.

金属被覆層17は、配線部61bの表面上で端子部61aと配線部61bとの境界61c上の位置から距離L2離れた位置まで延びる。距離L2は3μm以上に設定される。それにより、第2の実施の形態と同様に、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cの近傍において、金属被覆層17によりカバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性が向上する。したがって、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cおよびその近傍に腐食が発生することが防止される。   The metal coating layer 17 extends from the position on the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b to a position separated by a distance L2 on the surface of the wiring portion 61b. The distance L2 is set to 3 μm or more. As a result, as in the second embodiment, in the vicinity of the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b in the conductor pattern 61, the metal cover layer 17 adheres between the cover insulating layer 43 and the wiring portion 61b. Improves. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b and the vicinity thereof in the conductor pattern 61.

図13は、第4の実施の形態に係るサスペンション基板の他の例を示す平面図である。図13では、書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2のうち金属被覆層17が形成されている部分が太い実線で示される。図13のサスペンション基板においては、金属被覆層17の距離L2が図12(a),(b)の例に比べて長い。   FIG. 13 is a plan view showing another example of the suspension board according to the fourth embodiment. In FIG. 13, portions where the metal coating layer 17 is formed in the write wiring patterns W1, W2, the read wiring patterns R1, R2, and the power supply wiring patterns P1, P2 are indicated by thick solid lines. In the suspension board of FIG. 13, the distance L2 of the metal coating layer 17 is longer than the example of FIGS. 12 (a) and 12 (b).

ここで、書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2を構成する複数の導体パターン61の各々において、配線部61bの軸心に沿う一方の端子部61aと他方の端子部61aとの間の距離を配線部61bの全長と呼ぶ。   Here, in each of the plurality of conductor patterns 61 constituting the write wiring patterns W1, W2, the read wiring patterns R1, R2, and the power supply wiring patterns P1, P2, one terminal along the axis of the wiring portion 61b. The distance between the part 61a and the other terminal part 61a is called the total length of the wiring part 61b.

この場合、上記の距離L2は、配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合が40%以下となるように設定される。   In this case, the distance L2 is set so that the ratio of the length of all the metal coating layers 17 covering the wiring part 61b to the entire length of the wiring part 61b is 40% or less.

上記の構成においては、配線部61bの一部と端子部61aとを覆うように金属被覆層17が設けられ、金属被覆層17のうち配線部61bの一部を覆う部分と配線部61bのうち金属被覆層17により覆われない他の部分とを覆うようにカバー絶縁層43が設けられる。金属被覆層17は配線部61bの一部に接触し、カバー絶縁層43は金属被覆層17のうち配線部61bを覆う部分に接触するとともに配線部61bの他の部分に接触する。   In the above configuration, the metal coating layer 17 is provided so as to cover a part of the wiring part 61b and the terminal part 61a, and the part of the metal coating layer 17 that covers a part of the wiring part 61b and the wiring part 61b A cover insulating layer 43 is provided so as to cover other portions not covered by the metal coating layer 17. The metal coating layer 17 contacts a part of the wiring part 61b, and the cover insulating layer 43 contacts a part of the metal coating layer 17 that covers the wiring part 61b and also contacts the other part of the wiring part 61b.

この場合、配線部61bの全長に対して60%以上の長さの範囲において、配線部61bとカバー絶縁層43との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しない。本発明者の実験および検討の結果、配線部61bとその配線部61bを覆うカバー絶縁層43との間にニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在する場合でも、配線部61bの全長に対するその金属層の長さの割合が40%以下に設定されることにより、高い周波数帯域において電気信号の伝送損失を低減できることがわかった。それにより、本実施の形態においても、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。   In this case, in the range of 60% or more of the total length of the wiring part 61b, no metal layer having magnetism higher than that of nickel exists between the wiring part 61b and the cover insulating layer 43. As a result of the inventor's experiment and examination, even when a metal layer having magnetism higher than that of nickel exists between the wiring portion 61b and the cover insulating layer 43 covering the wiring portion 61b, the total length of the wiring portion 61b is determined. It was found that the transmission loss of the electric signal can be reduced in a high frequency band by setting the length ratio of the metal layer to 40% or less. Thereby, also in this Embodiment, the transmission loss of the electrical signal in a high frequency band can be reduced.

[5]第5の実施の形態
第5の実施の形態に係るサスペンション基板について、第4の実施の形態に係るサスペンション基板と異なる点を説明する。図14は、第5の実施の形態に係るサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。図14(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図14(a)の平面図は、第4の実施の形態の図12(a)の平面図に対応する。図14(b)の断面図は、図14(a)のJ−J線拡大断面図を示し、第4の実施の形態の図12(b)の断面図に対応する。図12(a)の例と同様に、図14(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
[5] Fifth Embodiment A suspension board according to the fifth embodiment will be described while referring to differences from the suspension board according to the fourth embodiment. FIG. 14 is a plan view and a cross-sectional view showing a part of the suspension board according to the fifth embodiment. 14A and 14B are a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 14A corresponds to the plan view of FIG. 12A of the fourth embodiment. The sectional view of FIG. 14B shows an enlarged sectional view taken along line JJ of FIG. 14A and corresponds to the sectional view of FIG. 12B of the fourth embodiment. As in the example of FIG. 12A, the cover insulating layer 43 is not shown in FIG.

図14(a),(b)に示すように、本実施の形態では、図12の金属被覆層17の全体を覆うように金属被覆層18が形成されている。金属被覆層18の厚みは、例えば0.005μm以上5μm以下であり、0.01μm以上3μm以下であることが好ましい。金属被覆層18の材料としては、例えば金が用いられる。また、金属被覆層18の材料としてニッケル、銀、クロム、錫および白金のうちいずれかを用いることもできる。   As shown in FIGS. 14A and 14B, in the present embodiment, a metal coating layer 18 is formed so as to cover the entire metal coating layer 17 of FIG. The thickness of the metal coating layer 18 is, for example, 0.005 μm or more and 5 μm or less, and preferably 0.01 μm or more and 3 μm or less. For example, gold is used as the material of the metal coating layer 18. Moreover, any of nickel, silver, chromium, tin, and platinum can be used as the material of the metal coating layer 18.

第5の実施の形態に係るサスペンション基板の製造方法においては、ベース絶縁層41上に図示しないシード層を介して複数の導体パターン61を形成した後、各導体パターン61の一部に金属被覆層17および金属被覆層18が順次積層される。金属被覆層17は例えば無電解めっきまたはスパッタリングにより形成され、金属被覆層18は例えば電解めっきにより形成される。その後、金属被覆層18のうち配線部61bを覆う部分と配線部61bのうち金属被覆層17,18により覆われない他の部分とを覆うようにベース絶縁層41上にカバー絶縁層43が形成される。   In the method for manufacturing a suspension board according to the fifth embodiment, a plurality of conductor patterns 61 are formed on a base insulating layer 41 via a seed layer (not shown), and then a metal coating layer is formed on a part of each conductor pattern 61. 17 and the metal coating layer 18 are sequentially laminated. The metal coating layer 17 is formed by, for example, electroless plating or sputtering, and the metal coating layer 18 is formed by, for example, electrolytic plating. Thereafter, a cover insulating layer 43 is formed on the base insulating layer 41 so as to cover the portion of the metal coating layer 18 that covers the wiring portion 61b and the other portion of the wiring portion 61b that is not covered by the metal coating layers 17 and 18. Is done.

本実施の形態においては、カバー絶縁層43は金属被覆層18のうち配線部61bを覆う部分に接触する。金属被覆層18は、配線部61bの表面上で端子部61aと配線部61bとの境界61c上の位置から距離L2離れた位置まで延びる。距離L2は3μm以上に設定される。それにより、第4の実施の形態と同様に、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cの近傍において、金属被覆層18によりカバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性が向上する。したがって、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cおよびその近傍に腐食が発生することが防止される。   In the present embodiment, the insulating cover layer 43 contacts the portion of the metal coating layer 18 that covers the wiring portion 61b. The metal coating layer 18 extends from the position on the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b to a position separated by a distance L2 on the surface of the wiring portion 61b. The distance L2 is set to 3 μm or more. Thereby, as in the fourth embodiment, in the vicinity of the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b in the conductor pattern 61, the metal cover layer 18 adheres between the cover insulating layer 43 and the wiring portion 61b. Improves. Therefore, corrosion is prevented from occurring at the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b and the vicinity thereof in the conductor pattern 61.

[6]他の実施の形態
(1)第1の実施の形態に係るサスペンション基板1においては、接続端子21〜24が、図2〜図5の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図15は、第1の実施の形態に係るサスペンション基板1における接続端子21〜24の他の構成例を示す平面図および断面図である。図15(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図15(a)の平面図は、第1の実施の形態の図3(a)の平面図に対応する。図15(b)の断面図は、図15(a)のA1−A1線拡大断面図を示し、第1の実施の形態の図5(a)の断面図に対応する。図3(a)の例と同様に、図15(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。
[6] Other Embodiments (1) In the suspension board 1 according to the first embodiment, the connection terminals 21 to 24 may have the following configurations instead of the configurations of FIGS. Good. FIG. 15 is a plan view and a cross-sectional view illustrating another configuration example of the connection terminals 21 to 24 in the suspension board 1 according to the first embodiment. FIGS. 15A and 15B show a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 15A corresponds to the plan view of FIG. 3A of the first embodiment. The sectional view of FIG. 15B shows an enlarged sectional view taken along line A1-A1 of FIG. 15A, and corresponds to the sectional view of FIG. 5A of the first embodiment. As in the example of FIG. 3A, the cover insulating layer 43 is not shown in FIG. 15A.

図15(a),(b)に示すように、各導体パターン61に形成される金属被覆層15のうち端子部61aを覆う部分を覆うように、バリア層70が形成されている。さらに、バリア層70を覆うように金層71が形成されている。この場合、接続端子21〜24は、導体パターン61の端子部61a、金属被覆層15、バリア層70および金層71により形成される。   As shown in FIGS. 15A and 15B, a barrier layer 70 is formed so as to cover a portion of the metal coating layer 15 formed in each conductor pattern 61 that covers the terminal portion 61a. Further, a gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70. In this case, the connection terminals 21 to 24 are formed by the terminal portion 61 a of the conductor pattern 61, the metal coating layer 15, the barrier layer 70, and the gold layer 71.

バリア層70の厚みは、例えば0.2μm以上4.0μm以下であり、0.5μm以上3.0μm以下であることが好ましい。また、金層71の厚みは、例えば0.02μm以上1.5μm以下であり、0.05μm以上1.0μm以下であることが好ましい。   The thickness of the barrier layer 70 is, for example, not less than 0.2 μm and not more than 4.0 μm, and preferably not less than 0.5 μm and not more than 3.0 μm. The thickness of the gold layer 71 is, for example, 0.02 μm or more and 1.5 μm or less, and preferably 0.05 μm or more and 1.0 μm or less.

ここで、バリア層70は、導体パターン61の表面から金属被覆層15に拡散する銅の成分が、さらに金層71へ拡散することを抑制する機能を有する。このような機能を実現するために、本例ではバリア層70の材料としてニッケルが用いられる。なお、バリア層70として、ニッケルに代えてパラジウムを用いることもできる。   Here, the barrier layer 70 has a function of suppressing further diffusion of the copper component diffusing from the surface of the conductor pattern 61 into the metal coating layer 15 into the gold layer 71. In order to realize such a function, nickel is used as the material of the barrier layer 70 in this example. As the barrier layer 70, palladium can be used instead of nickel.

上記の構成によれば、接続端子21〜24においては、外部に露出する金層71に導体パターン61の銅の成分が拡散しない。それにより、金層71に銅の成分が拡散することに起因する金層71の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。したがって、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。   According to said structure, in the connection terminals 21-24, the copper component of the conductor pattern 61 does not spread | diffuse in the gold | metal layer 71 exposed outside. Thereby, the deterioration of the corrosion resistance and wettability of the gold layer 71 due to the diffusion of the copper component into the gold layer 71 is suppressed. Therefore, the connection terminals 21 to 24 having good corrosion resistance and wettability are realized.

接続端子25,26,31〜36においても、図15の接続端子21〜24と同様に、バリア層70および金層71が設けられてもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。   Also in the connection terminals 25, 26, and 31 to 36, the barrier layer 70 and the gold layer 71 may be provided similarly to the connection terminals 21 to 24 in FIG. Thereby, the connection terminals 25, 26, 31 to 36 having good corrosion resistance and wettability are realized.

(2)第2の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜24が、図10の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図16は、第2の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子21〜24の他の構成例を示す平面図および断面図である。図16(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図16(a)の平面図は、第2の実施の形態の図10(a)の平面図に対応する。図16(b)の断面図は、図16(a)のA2−A2線拡大断面図を示し、第2の実施の形態の図10(b)の断面図に対応する。図10(a)の例と同様に、図16(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。   (2) In the suspension board according to the second embodiment, the connection terminals 21 to 24 may have the following configuration instead of the configuration of FIG. FIG. 16 is a plan view and a cross-sectional view showing another configuration example of the connection terminals 21 to 24 in the suspension board according to the second embodiment. FIGS. 16A and 16B are a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 16A corresponds to the plan view of FIG. 10A of the second embodiment. The cross-sectional view of FIG. 16B is an enlarged cross-sectional view taken along line A2-A2 of FIG. 16A, and corresponds to the cross-sectional view of FIG. 10B of the second embodiment. As in the example of FIG. 10A, the cover insulating layer 43 is not shown in FIG.

図16(a),(b)に示すように、本例では、図15の例と同様に、各導体パターン61に形成される金属被覆層15のうち端子部61aを覆う部分を覆うように、バリア層70が形成されている。さらに、バリア層70を覆うように金層71が形成されている。それにより、金層71に導体パターン61の銅の成分が拡散することに起因する金層71の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。したがって、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。   As shown in FIGS. 16A and 16B, in this example, as in the example of FIG. 15, the portion covering the terminal portion 61 a in the metal coating layer 15 formed in each conductor pattern 61 is covered. A barrier layer 70 is formed. Further, a gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70. Thereby, the deterioration of the corrosion resistance and wettability of the gold layer 71 due to the diffusion of the copper component of the conductor pattern 61 into the gold layer 71 is suppressed. Therefore, the connection terminals 21 to 24 having good corrosion resistance and wettability are realized.

接続端子25,26,31〜36においても、図16の接続端子21〜24と同様に、バリア層70および金層71が設けられてもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。   Also in the connection terminals 25, 26, and 31 to 36, the barrier layer 70 and the gold layer 71 may be provided similarly to the connection terminals 21 to 24 in FIG. Thereby, the connection terminals 25, 26, 31 to 36 having good corrosion resistance and wettability are realized.

(3)第5の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜24が、図14の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図17は、第5の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子21〜24の他の構成例を示す平面図および断面図である。図17(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図17(a)の平面図は、第5の実施の形態の図14(a)の平面図に対応する。図17(b)の断面図は、図17(a)のA3−A3線拡大断面図を示し、第5の実施の形態の図14(b)の断面図に対応する。図14(a)の例と同様に、図17(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。   (3) In the suspension board according to the fifth embodiment, the connection terminals 21 to 24 may have the following configuration instead of the configuration of FIG. FIG. 17 is a plan view and a cross-sectional view illustrating another configuration example of the connection terminals 21 to 24 in the suspension board according to the fifth embodiment. 17A and 17B are a plan view and a sectional view, respectively. The plan view of FIG. 17A corresponds to the plan view of FIG. 14A of the fifth embodiment. The sectional view of FIG. 17B shows an enlarged sectional view taken along line A3-A3 of FIG. 17A, and corresponds to the sectional view of FIG. 14B of the fifth embodiment. As in the example of FIG. 14A, the cover insulating layer 43 is not shown in FIG.

図17(a),(b)に示すように、各導体パターン61に形成される金属被覆層17,18のうち端子部61aを覆う部分を覆うように、図15および図16の例と同様のバリア層70が形成されている。さらに、バリア層70を覆うように金層71が形成されている。この場合、接続端子21〜24は、導体パターン61の端子部61a、金属被覆層17,18、バリア層70および金層71により形成される。   As shown in FIGS. 17A and 17B, the metal coating layers 17 and 18 formed in the respective conductor patterns 61 are similar to the examples of FIGS. 15 and 16 so as to cover the portion covering the terminal portion 61a. The barrier layer 70 is formed. Further, a gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70. In this case, the connection terminals 21 to 24 are formed by the terminal portion 61 a of the conductor pattern 61, the metal coating layers 17 and 18, the barrier layer 70, and the gold layer 71.

本例のバリア層70は、導体パターン61の表面から金属被覆層17,18に拡散する銅の成分が、さらに金層71へ拡散することを抑制する機能を有する。それにより、金層71に導体パターン61の銅の成分が拡散することに起因する金層71の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。したがって、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。   The barrier layer 70 of this example has a function of suppressing the diffusion of the copper component that diffuses from the surface of the conductor pattern 61 into the metal coating layers 17 and 18 into the gold layer 71. Thereby, the deterioration of the corrosion resistance and wettability of the gold layer 71 due to the diffusion of the copper component of the conductor pattern 61 into the gold layer 71 is suppressed. Therefore, the connection terminals 21 to 24 having good corrosion resistance and wettability are realized.

接続端子25,26,31〜36においても、図17の接続端子21〜24と同様に、バリア層70および金層71が設けられてもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。   Also in the connection terminals 25, 26, and 31 to 36, the barrier layer 70 and the gold layer 71 may be provided in the same manner as the connection terminals 21 to 24 in FIG. Thereby, the connection terminals 25, 26, 31 to 36 having good corrosion resistance and wettability are realized.

(4)第4の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜24が、図12の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図18は、第4の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子21〜24の他の構成例を示す平面図および断面図である。図18(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図18(a)の平面図は、第4の実施の形態の図12(a)の平面図に対応する。図18(b)の断面図は、図18(a)のA4−A4線拡大断面図を示し、第4の実施の形態の図12(b)の断面図に対応する。図12(a)の例と同様に、図18(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。   (4) In the suspension board according to the fourth embodiment, the connection terminals 21 to 24 may have the following configuration instead of the configuration of FIG. FIG. 18 is a plan view and a cross-sectional view showing another configuration example of the connection terminals 21 to 24 in the suspension board according to the fourth embodiment. 18A and 18B are a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 18A corresponds to the plan view of FIG. 12A of the fourth embodiment. The sectional view of FIG. 18B shows an enlarged sectional view taken along line A4-A4 of FIG. 18A and corresponds to the sectional view of FIG. 12B of the fourth embodiment. As in the example of FIG. 12A, the cover insulating layer 43 is not shown in FIG.

本例では、金属被覆層17の材料としてニッケルが用いられる。図18(a),(b)に示すように、各導体パターン61に形成される金属被覆層17のうち端子部61aを覆う部分を覆うように、ニッケルからなるバリア層70が形成されている。さらに、バリア層70を覆うように金層71が形成されている。この場合、接続端子21〜24は、導体パターン61の端子部61a、金属被覆層17、バリア層70および金層71により形成される。   In this example, nickel is used as the material of the metal coating layer 17. As shown in FIGS. 18A and 18B, a barrier layer 70 made of nickel is formed so as to cover a portion of the metal coating layer 17 formed on each conductor pattern 61 so as to cover the terminal portion 61a. . Further, a gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70. In this case, the connection terminals 21 to 24 are formed by the terminal portion 61 a of the conductor pattern 61, the metal coating layer 17, the barrier layer 70, and the gold layer 71.

本例のサスペンション基板の製造過程においては、支持層10a上にベース絶縁層41が形成され、ベース絶縁層41上に形成される導体パターン61の一部に金属被覆層17が形成される。導体パターン61の配線部61bに重なるようにカバー絶縁層43が形成され、支持層10aに図1の開口部11および孔部Hが形成される。その後、端子部61aを覆う金属被覆層17の部分にバリア層70および金層71が順次形成され、支持基板10の外形が形成されるように支持層10aが加工される。   In the manufacturing process of the suspension board of this example, the base insulating layer 41 is formed on the support layer 10a, and the metal coating layer 17 is formed on a part of the conductor pattern 61 formed on the base insulating layer 41. A cover insulating layer 43 is formed so as to overlap the wiring portion 61b of the conductor pattern 61, and the opening 11 and the hole H of FIG. 1 are formed in the support layer 10a. Thereafter, the barrier layer 70 and the gold layer 71 are sequentially formed in the portion of the metal coating layer 17 covering the terminal portion 61a, and the support layer 10a is processed so that the outer shape of the support substrate 10 is formed.

上記の製造過程のうちカバー絶縁層43が形成されてから金層71が形成されるまでの間には、例えばシード層を除去するためのソフトエッチング等によりカバー絶縁層43で覆われていない金属被覆層17の部分の表面状態が不安定になる場合がある。このような場合でも、後工程でカバー絶縁層43で覆われていない金属被覆層17の部分がバリア層70により覆われる。したがって、表面状態が整えられたバリア層70上に連続的に金層71を形成することができる。   In the above manufacturing process, between the formation of the cover insulating layer 43 and the formation of the gold layer 71, for example, metal that is not covered by the cover insulating layer 43 by soft etching or the like for removing the seed layer The surface state of the coating layer 17 may become unstable. Even in such a case, the portion of the metal coating layer 17 that is not covered with the insulating cover layer 43 in the subsequent process is covered with the barrier layer 70. Therefore, the gold layer 71 can be continuously formed on the barrier layer 70 whose surface state is adjusted.

これにより、金属被覆層17およびバリア層70のニッケルにより導体パターン61から金層71へ銅の成分が拡散することが十分に抑制される。したがって、金層71に導体パターン61の銅の成分が拡散することに起因する金層71の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。その結果、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。   Thereby, the diffusion of the copper component from the conductor pattern 61 to the gold layer 71 due to the nickel of the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 is sufficiently suppressed. Therefore, deterioration of the corrosion resistance and wettability of the gold layer 71 due to the diffusion of the copper component of the conductor pattern 61 into the gold layer 71 is suppressed. As a result, the connection terminals 21 to 24 having good corrosion resistance and wettability are realized.

接続端子25,26,31〜36においても、図18の接続端子21〜24と同様に、バリア層70および金層71が設けられてもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。   Also in the connection terminals 25, 26, and 31 to 36, the barrier layer 70 and the gold layer 71 may be provided similarly to the connection terminals 21 to 24 in FIG. Thereby, the connection terminals 25, 26, 31 to 36 having good corrosion resistance and wettability are realized.

なお、上記の製造過程のうちカバー絶縁層43が形成されてから金層71が形成されるまでの間に金属被覆層17の部分の表面状態が不安定にならない場合には、バリア層70は設けられなくてもよい。端子部61aを覆う金属被覆層17の部分に金層71が形成されてもよい。   In the above manufacturing process, when the surface state of the metal coating layer 17 does not become unstable between the formation of the insulating cover layer 43 and the formation of the gold layer 71, the barrier layer 70 is It may not be provided. The gold layer 71 may be formed on the portion of the metal coating layer 17 that covers the terminal portion 61a.

(5)第4の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜24が、図12の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図19は、第4の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子21〜24のさらに他の構成例を示す平面図および断面図である。図19(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図19(a)の平面図は、第4の実施の形態の図12(a)の平面図に対応する。図19(b)の断面図は、図19(a)のA5−A5線拡大断面図を示し、第4の実施の形態の図12(b)の断面図に対応する。図12(a)の例と同様に、図19(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。   (5) In the suspension board according to the fourth embodiment, the connection terminals 21 to 24 may have the following configuration instead of the configuration of FIG. FIG. 19 is a plan view and a cross-sectional view showing still another configuration example of the connection terminals 21 to 24 in the suspension board according to the fourth embodiment. FIGS. 19A and 19B are a plan view and a cross-sectional view, respectively. The plan view of FIG. 19A corresponds to the plan view of FIG. 12A of the fourth embodiment. The cross-sectional view of FIG. 19B shows an enlarged cross-sectional view taken along line A5-A5 of FIG. 19A, and corresponds to the cross-sectional view of FIG. 12B of the fourth embodiment. As in the example of FIG. 12A, the cover insulating layer 43 is not shown in FIG. 19A.

本例では、図18の例と同様に、金属被覆層17の材料としてニッケルが用いられる。図19(a),(b)に示すように、金属被覆層17は、導体パターン61のうち境界61cおよびその近傍を除く配線部61bの一部を覆うように形成されている。金属被覆層17により被覆されていない導体パターン61の境界61cおよびその近傍と端子部61aとを覆うように、バリア層70が形成されている。本例のバリア層70は、金属被覆層17と同じ材料からなる。バリア層70のうち端子部61aを覆う部分を覆うように金層71が形成されている。この場合、接続端子21〜24は、導体パターン61の端子部61a、バリア層70および金層71により形成される。   In this example, nickel is used as the material of the metal coating layer 17 as in the example of FIG. As shown in FIGS. 19A and 19B, the metal coating layer 17 is formed so as to cover a part of the wiring part 61 b excluding the boundary 61 c and the vicinity thereof in the conductor pattern 61. A barrier layer 70 is formed so as to cover the boundary 61c and the vicinity thereof of the conductor pattern 61 that is not covered with the metal coating layer 17 and the terminal portion 61a. The barrier layer 70 in this example is made of the same material as the metal coating layer 17. A gold layer 71 is formed so as to cover a portion of the barrier layer 70 that covers the terminal portion 61a. In this case, the connection terminals 21 to 24 are formed by the terminal portion 61 a of the conductor pattern 61, the barrier layer 70, and the gold layer 71.

本例のサスペンション基板の製造過程においては、支持層10a上にベース絶縁層41が形成され、ベース絶縁層41上に形成される導体パターン61の一部に金属被覆層17が形成される。導体パターン61の配線部61bに重なるようにカバー絶縁層43が形成された後、カバー絶縁層43により覆われていない金属被覆層17の部分がエッチングにより除去される。このとき、境界61cの近傍に位置する金属被覆層17の部分も除去される。続いて、支持層10aに図1の開口部11および孔部Hが形成される。その後、露出する導体パターン61の境界61cおよびその近傍と端子部61aとを覆うように、バリア層70および金層71が形成され、支持基板10の外形が形成されるように支持層10aが加工される。   In the manufacturing process of the suspension board of this example, the base insulating layer 41 is formed on the support layer 10a, and the metal coating layer 17 is formed on a part of the conductor pattern 61 formed on the base insulating layer 41. After the insulating cover layer 43 is formed so as to overlap the wiring portion 61b of the conductor pattern 61, the portion of the metal coating layer 17 that is not covered by the insulating cover layer 43 is removed by etching. At this time, the portion of the metal coating layer 17 located in the vicinity of the boundary 61c is also removed. Subsequently, the opening 11 and the hole H of FIG. 1 are formed in the support layer 10a. Thereafter, the barrier layer 70 and the gold layer 71 are formed so as to cover the boundary 61c of the exposed conductor pattern 61 and the vicinity thereof and the terminal portion 61a, and the support layer 10a is processed so that the outer shape of the support substrate 10 is formed. Is done.

上記の製造過程においては、カバー絶縁層43が形成されてからバリア層70が形成されるまでの間に、導体パターン61の境界61cおよびその近傍と端子部61aとを覆う金属被覆層17が除去されている。その後、バリア層70と金層71とが露出する導体パターン61の部分に順次形成される。この場合、表面状態が整えられたバリア層70上に連続的に金層71を形成することができる。したがって、バリア層70のニッケルにより導体パターン61から金層71へ銅の成分が拡散することが十分に抑制される。それにより、金層71に導体パターン61の銅の成分が拡散することに起因する金層71の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。したがって、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。   In the above manufacturing process, the metal covering layer 17 covering the boundary 61c and the vicinity of the conductor pattern 61 and the terminal portion 61a is removed after the insulating cover layer 43 is formed and before the barrier layer 70 is formed. Has been. Thereafter, the barrier layer 70 and the gold layer 71 are sequentially formed on the portion of the conductor pattern 61 where the barrier layer 70 and the gold layer 71 are exposed. In this case, the gold layer 71 can be continuously formed on the barrier layer 70 whose surface state is adjusted. Therefore, the diffusion of the copper component from the conductor pattern 61 to the gold layer 71 due to the nickel of the barrier layer 70 is sufficiently suppressed. Thereby, the deterioration of the corrosion resistance and wettability of the gold layer 71 due to the diffusion of the copper component of the conductor pattern 61 into the gold layer 71 is suppressed. Therefore, the connection terminals 21 to 24 having good corrosion resistance and wettability are realized.

図19の例では、導体パターン61上に形成される金属被覆層17とバリア層70とが同じニッケルからなり、一体的に構成される。端子部61aを覆うバリア層70は金属被覆層17の一部として機能する。金属被覆層17およびバリア層70により導体パターン61の境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われる。これにより、本例においても、金属被覆層17の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。   In the example of FIG. 19, the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 formed on the conductor pattern 61 are made of the same nickel and are integrally formed. The barrier layer 70 covering the terminal portion 61a functions as a part of the metal coating layer 17. The metal coating layer 17 and the barrier layer 70 continuously cover the boundary 61c of the conductor pattern 61 and the vicinity thereof. Thereby, also in this example, fluid such as air, water, or a chemical solution from the outside of the insulating cover layer 43 is prevented from entering the inside of the metal coating layer 17.

接続端子25,26,31〜36は、図19の接続端子21〜24と同様の構成を有してもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。   The connection terminals 25, 26, 31 to 36 may have the same configuration as the connection terminals 21 to 24 in FIG. Thereby, the connection terminals 25, 26, 31 to 36 having good corrosion resistance and wettability are realized.

(6)第5の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜24が、図14の構成に代えて以下の構成を有してもよい。図20は、第5の実施の形態に係るサスペンション基板における接続端子21〜24のさらに他の構成例を示す平面図および断面図である。図20(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図20(a)の平面図は、第5の実施の形態の図14(a)の平面図に対応する。図20(b)の断面図は、図20(a)のA6−A6線拡大断面図を示し、第5の実施の形態の図14(b)の断面図に対応する。図14(a)の例と同様に、図20(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。   (6) In the suspension board according to the fifth embodiment, the connection terminals 21 to 24 may have the following configuration instead of the configuration of FIG. FIG. 20 is a plan view and a cross-sectional view illustrating still another configuration example of the connection terminals 21 to 24 in the suspension board according to the fifth embodiment. 20A and 20B are a plan view and a sectional view, respectively. The plan view of FIG. 20A corresponds to the plan view of FIG. 14A of the fifth embodiment. The cross-sectional view of FIG. 20B shows an enlarged cross-sectional view taken along line A6-A6 of FIG. 20A, and corresponds to the cross-sectional view of FIG. 14B of the fifth embodiment. As in the example of FIG. 14A, the cover insulating layer 43 is not shown in FIG.

本例では、金属被覆層17の材料としてニッケルが用いられ、金属被覆層18の材料として金が用いられる。図20(b)に示すように、金属被覆層18は、導体パターン61に接触しないように形成される。この場合、ニッケルからなる金属被覆層17は金属被覆層18に導体パターン61の銅の成分が拡散することを抑制する。   In this example, nickel is used as the material of the metal coating layer 17 and gold is used as the material of the metal coating layer 18. As shown in FIG. 20B, the metal coating layer 18 is formed so as not to contact the conductor pattern 61. In this case, the metal coating layer 17 made of nickel prevents the copper component of the conductor pattern 61 from diffusing into the metal coating layer 18.

それにより、金属被覆層18に導体パターン61の銅の成分が拡散することに起因する金属被覆層18の耐食性および濡れ性の低下が抑制される。したがって、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜24が実現される。   As a result, the corrosion resistance and wettability of the metal coating layer 18 due to the diffusion of the copper component of the conductor pattern 61 into the metal coating layer 18 are suppressed. Therefore, the connection terminals 21 to 24 having good corrosion resistance and wettability are realized.

本例のサスペンション基板の製造過程においては、導体パターン61の一部に金属被覆層17を形成した後、金属被覆層18を形成する際に、金属被覆層17の端面および金属被覆層17により被覆されていない導体パターン61の表面部分にマスクを形成する。この状態で、金属被覆層17を覆うように金属被覆層18を形成する。その後、マスクを除去する。それにより、金属被覆層18と導体パターン61とが接触しないように、金属被覆層18を形成することができる。   In the manufacturing process of the suspension board of this example, after forming the metal coating layer 17 on a part of the conductor pattern 61, the metal coating layer 18 is covered with the end surface of the metal coating layer 17 and the metal coating layer 17 when the metal coating layer 18 is formed. A mask is formed on the surface portion of the conductor pattern 61 that has not been formed. In this state, the metal coating layer 18 is formed so as to cover the metal coating layer 17. Thereafter, the mask is removed. Thereby, the metal coating layer 18 can be formed so that the metal coating layer 18 and the conductor pattern 61 do not contact.

接続端子25,26,31〜36は、図20の接続端子21〜24と同様の構成を有してもよい。それにより、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子25,26,31〜36が実現される。   The connection terminals 25, 26, 31 to 36 may have the same configuration as the connection terminals 21 to 24 in FIG. Thereby, the connection terminals 25, 26, 31 to 36 having good corrosion resistance and wettability are realized.

(7)上記の第1〜第5の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜26,31〜36が重なる支持基板10の部分が一定の厚みを有するが、本発明はこれに限定されない。接続端子21〜26,31〜36のいずれかが重なる支持基板10の部分に開口部が形成されてもよい。また、上記の第1〜第5の実施の形態に係るサスペンション基板においては、接続端子21〜26,31〜36が重なるベース絶縁層41の部分が一定の厚みを有するが、本発明はこれに限定されない。接続端子21〜26,31〜36のいずれかが重なるベース絶縁層41の部分に凹部が形成されてもよい。   (7) In the suspension boards according to the first to fifth embodiments, the portion of the support board 10 where the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 overlap has a certain thickness. It is not limited. An opening may be formed in the portion of the support substrate 10 where any one of the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 overlaps. In the suspension boards according to the first to fifth embodiments, the portion of the base insulating layer 41 where the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 overlap has a certain thickness. It is not limited. A recess may be formed in the portion of the base insulating layer 41 where any one of the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 overlaps.

図21は、他の実施の形態に係るサスペンション基板の平面図である。図21のサスペンション基板は、基本的に第5の実施の形態に係るサスペンション基板と同じ構成を有する。図21では、書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2のうち金属被覆層18が形成されている部分が太い実線で示される。以下、図21のサスペンション基板について、第5の実施の形態に係るサスペンション基板と異なる点を説明する。   FIG. 21 is a plan view of a suspension board according to another embodiment. The suspension board of FIG. 21 basically has the same configuration as the suspension board according to the fifth embodiment. In FIG. 21, the portions where the metal coating layer 18 is formed of the write wiring patterns W1 and W2, the read wiring patterns R1 and R2, and the power supply wiring patterns P1 and P2 are indicated by thick solid lines. Hereinafter, the difference between the suspension board of FIG. 21 and the suspension board according to the fifth embodiment will be described.

図22は、接続端子21〜26,31〜36およびその周辺部分の平面図である。図23は、接続端子21〜26,31〜36およびその周辺部分の断面図である。図22(a)〜(c)の縮尺は互いに異なり、図23(a)〜(c)の縮尺は互いに異なる。   FIG. 22 is a plan view of the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 and their peripheral portions. FIG. 23 is a cross-sectional view of the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 and their peripheral portions. The scales of FIGS. 22A to 22C are different from each other, and the scales of FIGS. 23A to 23C are different from each other.

図22(a)は図21の接続端子21〜24およびその周辺部分を示し、図22(b)は図21の接続端子25およびその周辺部分を示し、図22(c)は図21の接続端子31,32およびその周辺部分を示す。図22(a)〜(c)においては、カバー絶縁層43(図23参照)の図示が省略されている。接続端子26は接続端子25と同様の構成を有し、接続端子33〜36は接続端子31,32と同様の構成を有する。図23(a)〜(c)は、図22(a)のB1−B1線拡大断面図、図22(b)のB2−B2線拡大断面図および図22(c)のB3−B3線拡大断面図をそれぞれ示す。   22A shows the connection terminals 21 to 24 and their peripheral parts in FIG. 21, FIG. 22B shows the connection terminal 25 and their peripheral parts in FIG. 21, and FIG. 22C shows the connection in FIG. The terminals 31, 32 and their peripheral parts are shown. 22A to 22C, the insulating cover layer 43 (see FIG. 23) is not shown. The connection terminal 26 has the same configuration as the connection terminal 25, and the connection terminals 33 to 36 have the same configuration as the connection terminals 31 and 32. FIGS. 23A to 23C are an enlarged sectional view taken along line B1-B1 in FIG. 22A, an enlarged sectional view taken along line B2-B2 in FIG. 22B, and an enlarged sectional view taken along line B3-B3 in FIG. Cross-sectional views are shown respectively.

図22(a)および図23(a)に示すように、接続端子21〜24およびその周辺部分の構成は、第5の実施の形態に係る接続端子21〜24およびその周辺部分の構成と同じである(図14参照)。   As shown in FIGS. 22A and 23A, the configuration of the connection terminals 21 to 24 and their peripheral portions is the same as the configuration of the connection terminals 21 to 24 and their peripheral portions according to the fifth embodiment. (See FIG. 14).

図22(b)および図23(b)に示すように、接続端子25はカバー絶縁層43に形成された円形の開口部43x(図23(b))を通して上方に露出するように形成されている。また、接続端子25は、導体パターン61の端子部61aおよび金属被覆層17,18により形成される。本例の接続端子25を構成する端子部61aは、円環形状を有する。また、金属被覆層17,18は、その端子部61aの内周面および上面を覆うように形成される。ベース絶縁層41のうち端子部61aに重なる部分に、導体パターン61の境界61cに対応する円形の凹部41uが形成されている。また、支持基板10のうち端子部61aに重なる部分に、導体パターン61の境界61cに対応する円形の開口部10xが形成されている。   As shown in FIGS. 22B and 23B, the connection terminal 25 is formed so as to be exposed upward through a circular opening 43x (FIG. 23B) formed in the insulating cover layer 43. Yes. The connection terminal 25 is formed by the terminal portion 61 a of the conductor pattern 61 and the metal coating layers 17 and 18. The terminal portion 61a constituting the connection terminal 25 of this example has an annular shape. Moreover, the metal coating layers 17 and 18 are formed so that the inner peripheral surface and upper surface of the terminal part 61a may be covered. A circular recess 41 u corresponding to the boundary 61 c of the conductor pattern 61 is formed in a portion of the base insulating layer 41 that overlaps the terminal portion 61 a. A circular opening 10 x corresponding to the boundary 61 c of the conductor pattern 61 is formed in a portion of the support substrate 10 that overlaps the terminal portion 61 a.

図22(c)および図23(c)に示すように、接続端子31およびその周辺部においては、ベース絶縁層41のうち端子部61aに重なる一部の矩形領域に、凹部41vが形成されている。また、支持基板10のうち端子部61aに重なる部分に、矩形の開口部10yが形成されている。   As shown in FIGS. 22 (c) and 23 (c), in the connection terminal 31 and its peripheral portion, a recess 41v is formed in a part of the rectangular region of the base insulating layer 41 that overlaps the terminal portion 61a. Yes. A rectangular opening 10y is formed in a portion of the support substrate 10 that overlaps the terminal portion 61a.

図21のサスペンション基板の製造方法を説明する。図24〜図28は、図21のサスペンション基板1の製造工程を示す模式的工程図である。図24(a)、図25(a)、図26(a),図27(a)および図28(a)は図22(a)のB1−B1線拡大断面図に対応し、図24(b)、図25(b)、図26(b)、図27(b)および図28(b)は図22(b)のB2−B2線拡大断面図に対応し、図24(c)、図25(c)、図26(c)、図27(c)および図28(c)は図22(c)のB3−B3線拡大断面図に対応する。   A method for manufacturing the suspension board of FIG. 21 will be described. 24 to 28 are schematic process diagrams showing the manufacturing process of the suspension board 1 of FIG. 24 (a), FIG. 25 (a), FIG. 26 (a), FIG. 27 (a), and FIG. 28 (a) correspond to the B1-B1 line enlarged sectional view of FIG. b), FIG. 25 (b), FIG. 26 (b), FIG. 27 (b) and FIG. 28 (b) correspond to the B2-B2 line enlarged sectional view of FIG. 22 (b), and FIG. FIG. 25C, FIG. 26C, FIG. 27C, and FIG. 28C correspond to the B3-B3 line enlarged sectional view of FIG.

まず、図24(a)〜(c)に示すように、ステンレス鋼からなる支持層10a上にポリイミドからなるベース絶縁層41を形成することにより、支持層10aおよびベース絶縁層41からなる二層基板を形成する。また、図24(b),(c)に示すように、ベース絶縁層41のうち接続端子25,26,31〜36に重なることになる予め定められた領域に凹部41u,41vを形成する。凹部41u,41vは、例えば階調露光技術、レーザー加工技術またはエッチング技術を用いて形成することができる。   First, as shown in FIGS. 24A to 24C, by forming a base insulating layer 41 made of polyimide on a support layer 10a made of stainless steel, two layers made of a support layer 10a and a base insulating layer 41 are formed. A substrate is formed. Further, as shown in FIGS. 24B and 24C, recesses 41u and 41v are formed in predetermined regions of the base insulating layer 41 that overlap with the connection terminals 25, 26, and 31 to 36, respectively. The concave portions 41u and 41v can be formed using, for example, a gradation exposure technique, a laser processing technique, or an etching technique.

次に、図25(a)〜(c)に示すように、ベース絶縁層41上に図示しないシード層を介して銅からなる複数の導体パターン61を形成する。6つの導体パターン61の配線部61bにより、ベース絶縁層41上に書込用配線パターンW1,W2、読取用配線パターンR1,R2および電源用配線パターンP1,P2が形成される。   Next, as shown in FIGS. 25A to 25C, a plurality of conductor patterns 61 made of copper are formed on the insulating base layer 41 through a seed layer (not shown). The wiring portions 61b of the six conductor patterns 61 form the write wiring patterns W1, W2, the read wiring patterns R1, R2, and the power supply wiring patterns P1, P2 on the base insulating layer 41.

次に、図26(a)〜(c)に示すように、各導体パターン61の端子部61aおよび配線部61bを覆うとともに端子部61aの表面上から配線部61bの一部の表面上に連続して延びるようにニッケルからなる金属被覆層17を形成する。また、金属被覆層17を覆うように金からなる金属被覆層18を形成する。これにより、接続端子21〜26,31〜36が形成される。   Next, as shown in FIGS. 26A to 26C, the terminal portion 61a and the wiring portion 61b of each conductor pattern 61 are covered and continuous from the surface of the terminal portion 61a to a part of the surface of the wiring portion 61b. Then, a metal coating layer 17 made of nickel is formed so as to extend. Further, a metal coating layer 18 made of gold is formed so as to cover the metal coating layer 17. Thereby, the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 are formed.

次に、図27(a)〜(c)に示すように、金属被覆層17,18のうち配線部61bを覆う部分を覆うとともに端子部61aを覆う部分を覆わないように、ベース絶縁層41上に例えばポリイミドからなるカバー絶縁層43を形成する。   Next, as shown in FIGS. 27A to 27C, the base insulating layer 41 is formed so as to cover a portion covering the wiring portion 61 b and not covering a portion covering the terminal portion 61 a in the metal coating layers 17 and 18. A cover insulating layer 43 made of polyimide, for example, is formed thereon.

その後、図28(a)〜(c)に示すように、支持層10aに図1の開口部11および孔部Hを形成すると同時に支持層10aのうち端子部61aに重なる予め定められた部分に開口部10x,10yを形成する。   Thereafter, as shown in FIGS. 28A to 28C, the opening 11 and the hole H of FIG. 1 are formed in the support layer 10a, and at the same time, a predetermined portion of the support layer 10a that overlaps the terminal portion 61a is formed. Openings 10x and 10y are formed.

最後に、ベース絶縁層41と重なる支持層10aの部分が残存するように支持層10aを加工することにより、支持基板10を形成する。これにより、サスペンション基板が完成する。   Finally, the support substrate 10 is formed by processing the support layer 10a so that the portion of the support layer 10a that overlaps the base insulating layer 41 remains. Thereby, the suspension board is completed.

上記の図21のサスペンション基板においては、金属被覆層18は、導体パターン61に接触しないように形成されてもよい。それにより、図20の例と同様に、良好な耐食性および濡れ性を有する接続端子21〜26,31〜36が実現される。さらに、上記の図21のサスペンション基板においては、カバー絶縁層43の形成前の工程で接続端子21〜26,31〜36が完成する。それにより、図28(a)〜(c)の工程の後で支持層10aを加工して支持基板10を形成する工程の前に、端子用のめっきを行う必要がない。したがって、製造工程数の増加が抑制されている。   In the suspension board of FIG. 21 described above, the metal coating layer 18 may be formed so as not to contact the conductor pattern 61. Thereby, like the example of FIG. 20, the connection terminals 21-26 and 31-36 which have favorable corrosion resistance and wettability are implement | achieved. Further, in the suspension board of FIG. 21 described above, the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 are completed in a process before the cover insulating layer 43 is formed. Accordingly, it is not necessary to perform plating for terminals before the step of processing the support layer 10a and forming the support substrate 10 after the steps of FIGS. Therefore, an increase in the number of manufacturing processes is suppressed.

さらに、本例の接続端子21〜26,31〜36は、導体パターン61上に2つの金属被覆層17,18が積層された単純な構造を有する。そのため、サスペンション基板が超音波を用いて洗浄される場合でも、超音波の衝撃により接続端子21〜26,31〜36の各々が破損しにくい。   Furthermore, the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 of this example have a simple structure in which two metal coating layers 17 and 18 are laminated on the conductor pattern 61. Therefore, even when the suspension board is cleaned using ultrasonic waves, each of the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 is not easily damaged by the impact of ultrasonic waves.

上記の図21のサスペンション基板においては、接続端子21〜26,31〜36のいずれかが重なるベース絶縁層41の部分に凹部41u,41vに代えて開口部が形成されてもよい。図29および図30は、図21のサスペンション基板においてベース絶縁層41の一部に開口部が形成された例を示す図である。   In the suspension board of FIG. 21 described above, an opening may be formed in the portion of the base insulating layer 41 where any of the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 overlaps instead of the recesses 41u and 41v. 29 and 30 are diagrams showing an example in which an opening is formed in part of the base insulating layer 41 in the suspension board of FIG.

図29(a)〜(c)の平面図は、図22(a)〜(c)の平面図にそれぞれ対応する。図30(a)〜(c)の拡大断面図は、図23(a)〜(c)の拡大断面図にそれぞれ対応する。   The plan views of FIGS. 29A to 29C correspond to the plan views of FIGS. 22A to 22C, respectively. 30 (a) to 30 (c) correspond to the enlarged sectional views of FIGS. 23 (a) to 23 (c), respectively.

図29(a)および図30(a)に示すように、接続端子21〜24およびその周辺部分の構成は、第5の実施の形態に係る接続端子21〜24およびその周辺部分の構成と同じである(図14参照)。図29(b)および図30(b)に示すように、本例では、ベース絶縁層41のうち端子部61aに重なる部分に、導体パターン61の境界61cに対応する円形の開口部41xが形成されている。また、図29(c)および図30(c)に示すように、接続端子31およびその周辺部においては、ベース絶縁層41のうち端子部61aに重なる一部の矩形領域に、開口部41yが形成されている。ベース絶縁層41の開口部41x,41yは、例えば図28の工程の後、支持層10aを加工して支持基板10を形成する工程の前に形成される。   As shown in FIGS. 29 (a) and 30 (a), the configuration of the connection terminals 21 to 24 and their peripheral portions is the same as the configuration of the connection terminals 21 to 24 and their peripheral portions according to the fifth embodiment. (See FIG. 14). As shown in FIGS. 29B and 30B, in this example, a circular opening 41x corresponding to the boundary 61c of the conductor pattern 61 is formed in a portion of the base insulating layer 41 that overlaps the terminal portion 61a. Has been. In addition, as shown in FIG. 29C and FIG. 30C, in the connection terminal 31 and its peripheral part, an opening 41y is formed in a part of the rectangular region of the base insulating layer 41 that overlaps the terminal part 61a. Is formed. For example, the openings 41x and 41y of the base insulating layer 41 are formed after the step of FIG. 28 and before the step of forming the support substrate 10 by processing the support layer 10a.

図30(a)〜(c)では、導体パターン61の下地としてベース絶縁層41上に形成されるシード層が太い実線で示される。この場合、図29(b),(c)に示すように、接続端子25,26,31〜36においては、導体パターン61の下面に形成されているシード層がベース絶縁層41の開口部41x,41yおよび支持基板10の開口部10x,10yを通して下方に露出する。これにより、当該露出部に電子機器の端子等を接続することができる。   30A to 30C, the seed layer formed on the base insulating layer 41 as the base of the conductor pattern 61 is indicated by a thick solid line. In this case, as shown in FIGS. 29B and 29C, in the connection terminals 25, 26, and 31 to 36, the seed layer formed on the lower surface of the conductor pattern 61 is the opening 41 x of the base insulating layer 41. , 41y and the openings 10x, 10y of the support substrate 10 are exposed downward. Thereby, the terminal etc. of an electronic device can be connected to the said exposed part.

ここで、図30の構成において、シード層のうち下方に露出する部分が除去されてもよい。図31は、図30のサスペンション基板において露出するシード層の部分が除去された状態を示す図である。図31(a)〜(c)は、図30(a)〜(c)の拡大断面図にそれぞれ対応する。図31(b),(c)に示すように、本例では、導体パターン61の下面がベース絶縁層41の開口部41x,41yおよび支持基板10の開口部10x,10yを通して下方に露出する。これにより、当該露出部に電子機器の端子等を接続することができる。ベース絶縁層41の開口部41x,41y内に位置するシード層の部分は、例えばベース絶縁層41の開口部41x,41yの形成後に除去することができる。   Here, in the configuration of FIG. 30, a portion of the seed layer exposed downward may be removed. FIG. 31 is a diagram showing a state where a portion of the seed layer exposed in the suspension substrate of FIG. 30 is removed. FIGS. 31A to 31C correspond to enlarged cross-sectional views of FIGS. 30A to 30C, respectively. As shown in FIGS. 31B and 31C, in this example, the lower surface of the conductor pattern 61 is exposed downward through the openings 41 x and 41 y of the base insulating layer 41 and the openings 10 x and 10 y of the support substrate 10. Thereby, the terminal etc. of an electronic device can be connected to the said exposed part. The part of the seed layer located in the openings 41x and 41y of the base insulating layer 41 can be removed after the openings 41x and 41y of the base insulating layer 41 are formed, for example.

(8)上記の実施の形態に係るサスペンション基板は、基本的に支持基板10上にベース絶縁層41、導体パターン61およびカバー絶縁層43がこの順で積層された構成を有するが、本発明はこれに限定されない。支持基板10上に複数のベース絶縁層41および複数の導体パターン61が交互に積層されてもよい。上下に重なる複数の導体パターン61およびそれらに対応する複数の接続端子の構成例について説明する。   (8) The suspension board according to the above embodiment basically has a configuration in which the base insulating layer 41, the conductor pattern 61, and the cover insulating layer 43 are laminated on the support substrate 10 in this order. It is not limited to this. A plurality of insulating base layers 41 and a plurality of conductor patterns 61 may be alternately stacked on the support substrate 10. A configuration example of a plurality of conductor patterns 61 that overlap vertically and a plurality of connection terminals corresponding to them will be described.

図32は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第1の構成例を示す断面図である。図32(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図32(b)に、図32(a)のC1−C1線縦断面図が示される。   FIG. 32 is a cross-sectional view showing a first configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 32A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two conductor patterns 61A and 61B and their peripheral members. FIG. 32B shows a longitudinal sectional view taken along line C1-C1 of FIG.

図32の第1の構成例においては、支持基板10上に絶縁層41Aが形成されている。絶縁層41A上に、銅からなる導体パターン61Aが形成されている。導体パターン61Aは、端子部61aおよび配線部61bを含む。導体パターン61Aのうち配線部61bの一部と端子部61aとは、絶縁層41Aの端部から突出している。   In the first configuration example of FIG. 32, an insulating layer 41 </ b> A is formed on the support substrate 10. A conductor pattern 61A made of copper is formed on the insulating layer 41A. The conductor pattern 61A includes a terminal portion 61a and a wiring portion 61b. Of the conductor pattern 61A, a part of the wiring part 61b and the terminal part 61a protrude from the end of the insulating layer 41A.

導体パターン61Aの配線部61bの一部を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。金属被覆層17は、導体パターン61Aの上面および両側面上で導体パターン61Aの境界61cから3μm以上離れた位置まで延びている。導体パターン61Aの端子部61aを覆うように、金属被覆層17と同じ材料からなるバリア層70が形成されている。また、バリア層70は、導体パターン61Aの下面上で導体パターン61Aの端部から絶縁層41Aの端部の位置まで延びている。導体パターン61Aの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。なお、導体パターン61Aの端部から絶縁層41Aの端部の位置までの長さは、導体パターン61Aの配線部61bの全長に比べて極めて小さい。   A metal coating layer 17 made of nickel is formed so as to cover a part of the wiring portion 61b of the conductor pattern 61A. The metal coating layer 17 extends to a position 3 μm or more away from the boundary 61c of the conductor pattern 61A on the upper surface and both side surfaces of the conductor pattern 61A. A barrier layer 70 made of the same material as that of the metal coating layer 17 is formed so as to cover the terminal portion 61a of the conductor pattern 61A. The barrier layer 70 extends from the end of the conductor pattern 61A to the position of the end of the insulating layer 41A on the lower surface of the conductor pattern 61A. The ratio of the length of all the metal coating layers 17 covering the wiring part 61b to the entire length of the wiring part 61b of the conductor pattern 61A is set to be 40% or less. Note that the length from the end of the conductor pattern 61A to the position of the end of the insulating layer 41A is extremely smaller than the total length of the wiring portion 61b of the conductor pattern 61A.

金属被覆層17と導体パターン61Aの配線部61bのうち金属被覆層17により覆われない他の部分とを覆うとともにバリア層70を覆わないように絶縁層41A上に絶縁層41Bが形成されている。絶縁層41B上に、銅からなる導体パターン61Bが形成されている。導体パターン61Bは、端子部61aおよび配線部61bを含む。導体パターン61Bの一部は、導体パターン61Aに重なる。導体パターン61Bの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。導体パターン61Bの端子部61aを覆うように、金属被覆層17と同じ材料からなるバリア層70が形成されている。導体パターン61Bの配線部61bに重なりかつ金属被覆層17を覆うように絶縁層41B上にカバー絶縁層43が形成されている。   An insulating layer 41B is formed on the insulating layer 41A so as to cover the metal coating layer 17 and other portions of the wiring portion 61b of the conductor pattern 61A that are not covered by the metal coating layer 17 and not to cover the barrier layer 70. . A conductor pattern 61B made of copper is formed on the insulating layer 41B. The conductor pattern 61B includes a terminal portion 61a and a wiring portion 61b. A part of the conductor pattern 61B overlaps the conductor pattern 61A. A metal coating layer 17 made of nickel is formed so as to cover the entire wiring portion 61b of the conductor pattern 61B. A barrier layer 70 made of the same material as that of the metal coating layer 17 is formed so as to cover the terminal portion 61a of the conductor pattern 61B. A cover insulating layer 43 is formed on the insulating layer 41B so as to overlap the wiring portion 61b of the conductor pattern 61B and cover the metal coating layer 17.

下に位置する導体パターン61Aに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、フライング構造を有する接続端子TAが形成されている。上に位置する導体パターン61Bに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、接続端子TBが形成されている。   A gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70 provided on the conductor pattern 61A located below. Thereby, a connection terminal TA having a flying structure is formed. A gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70 provided on the conductor pattern 61B located above. Thereby, the connection terminal TB is formed.

上記のように、下に位置する導体パターン61Aの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。これにより、導体パターン61Aの配線部61bでは、第4の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61Aの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。   As described above, the ratio of the length of all the metal coating layers 17 covering the wiring part 61b to the entire length of the wiring part 61b of the conductor pattern 61A positioned below is set to be 40% or less. Thereby, in the wiring part 61b of the conductor pattern 61A, the transmission loss of the electric signal in a high frequency band can be reduced as in the fourth embodiment. Therefore, the wiring part 61b of the conductor pattern 61A can be effectively used as a transmission line for high-frequency signals.

また、上記の構成においては、金属被覆層17とバリア層70とが同じニッケルからなり、金属被覆層17とバリア層70とが一体的に構成される。バリア層70は金属被覆層17の一部として機能する。金属被覆層17およびバリア層70により導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われる。これにより、金属被覆層17の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。   Moreover, in said structure, the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 consist of the same nickel, and the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 are comprised integrally. The barrier layer 70 functions as a part of the metal coating layer 17. The metal coating layer 17 and the barrier layer 70 continuously cover the boundary 61c of the conductor patterns 61A and 61B and the vicinity thereof. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the inside of the metal coating layer 17 from the outside of the insulating cover layer 43. Therefore, occurrence of corrosion at the boundary 61c between the conductor patterns 61A and 61B and in the vicinity thereof is prevented.

上に位置する導体パターン61Bの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されているので、導体パターン61Bとカバー絶縁層43との密着性が向上する。導体パターン61Bの配線部61bは、例えば低周波信号用の伝送線路、接地導体層またはシールド層として使用することが好ましい。   Since the metal coating layer 17 made of nickel is formed so as to cover the entire wiring portion 61b of the conductor pattern 61B located above, the adhesion between the conductor pattern 61B and the cover insulating layer 43 is improved. The wiring portion 61b of the conductor pattern 61B is preferably used as, for example, a low-frequency signal transmission line, a ground conductor layer, or a shield layer.

なお、図32の第1の構成例においては、図18の例と同様に、導体パターン61A,61Bの端子部61aとバリア層70との間に金属被覆層17が形成されてもよい。   In the first configuration example of FIG. 32, the metal coating layer 17 may be formed between the terminal portions 61a of the conductor patterns 61A and 61B and the barrier layer 70 as in the example of FIG.

図33は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第2の構成例を示す断面図である。図33(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図33(b)に、図33(a)のC2−C2線縦断面図が示される。以下、第2の構成例について、図32の第1の構成例と異なる点を説明する。   FIG. 33 is a cross-sectional view showing a second configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 33A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two conductor patterns 61A and 61B and their peripheral members. FIG. 33B shows a longitudinal sectional view taken along line C2-C2 of FIG. Hereinafter, the second configuration example will be described while referring to differences from the first configuration example of FIG.

図33の第2の構成例においては、導体パターン61Aの配線部61bの全体および端子部61aを覆うように金属被覆層15が形成されている。金属被覆層15は、主としてニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属(例えば非磁性体の金属)からなり、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。本例では、金属被覆層15の材料として、金または銀が用いられる。端子部61aを覆う金属被覆層15の部分を覆うようにニッケルからなるバリア層70が形成されている。また、バリア層70は、導体パターン61Aの下面上で導体パターン61Aの端部から絶縁層41Aの端部の位置まで延びている。   In the second configuration example of FIG. 33, the metal coating layer 15 is formed so as to cover the entire wiring portion 61b of the conductor pattern 61A and the terminal portion 61a. The metal coating layer 15 is mainly made of a metal having a magnetic property lower than that of nickel (for example, a non-magnetic metal), and has a magnetic property lower than that of nickel. In this example, gold or silver is used as the material of the metal coating layer 15. A barrier layer 70 made of nickel is formed so as to cover the portion of the metal coating layer 15 covering the terminal portion 61a. The barrier layer 70 extends from the end of the conductor pattern 61A to the position of the end of the insulating layer 41A on the lower surface of the conductor pattern 61A.

導体パターン61Aの配線部61bを覆う金属被覆層15の部分を覆うとともに端子部61aを覆う金属被覆層15の他の部分を覆わないように絶縁層41A上に絶縁層41Bが形成されている。絶縁層41B上に、銅からなる導体パターン61Bが形成されている。導体パターン61Bには、図32の第1の構成例と同様に、ニッケルからなる金属被覆層17およびバリア層70が形成されている。   An insulating layer 41B is formed on the insulating layer 41A so as to cover the portion of the metal coating layer 15 covering the wiring portion 61b of the conductor pattern 61A and not cover the other portion of the metal coating layer 15 covering the terminal portion 61a. A conductor pattern 61B made of copper is formed on the insulating layer 41B. In the conductor pattern 61B, similarly to the first configuration example of FIG. 32, the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 made of nickel are formed.

下に位置する導体パターン61Aに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、フライング構造を有する接続端子TAが形成されている。上に位置する導体パターン61Bに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、接続端子TBが形成されている。   A gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70 provided on the conductor pattern 61A located below. Thereby, a connection terminal TA having a flying structure is formed. A gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70 provided on the conductor pattern 61B located above. Thereby, the connection terminal TB is formed.

上記の構成においては、下に位置する導体パターン61Aの配線部61bと絶縁層41Bとの間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しない。これにより、導体パターン61Aの配線部61bでは、第1の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61Aの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。また、金属被覆層15により導体パターン61Aの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われるので、金属被覆層15の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61Aの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。   In the above configuration, there is no metal layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion 61b of the underlying conductor pattern 61A and the insulating layer 41B. Thereby, in the wiring part 61b of the conductor pattern 61A, the transmission loss of the electric signal in the high frequency band can be reduced as in the first embodiment. Therefore, the wiring part 61b of the conductor pattern 61A can be effectively used as a transmission line for high-frequency signals. Further, since the boundary 61c of the conductor pattern 61A and the vicinity thereof are continuously covered by the metal coating layer 15, a fluid such as air, water, or a chemical solution enters the inside of the metal coating layer 15 from the outside of the insulating cover layer 43. It is prevented. Therefore, the occurrence of corrosion at the boundary 61c of the conductor pattern 61A and its vicinity is prevented.

上に位置する導体パターン61Bの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されているので、導体パターン61Bとカバー絶縁層43との密着性が向上する。導体パターン61Bの配線部61bは、例えば低周波信号用の伝送線路、接地導体層またはシールド層として使用することが好ましい。   Since the metal coating layer 17 made of nickel is formed so as to cover the entire wiring portion 61b of the conductor pattern 61B located above, the adhesion between the conductor pattern 61B and the cover insulating layer 43 is improved. The wiring portion 61b of the conductor pattern 61B is preferably used as, for example, a low-frequency signal transmission line, a ground conductor layer, or a shield layer.

なお、図33の第2の構成例においては、図10の第2の実施の形態の例と同様に、導体パターン61Aの全体ではなく、導体パターン61Aの配線部61bの一部と端子部61aとを覆うように金属被覆層15が形成されてもよい。また、図18の例と同様に、導体パターン61Bの端子部61aとバリア層70との間に金属被覆層17が形成されてもよい。   In the second configuration example of FIG. 33, as in the example of the second embodiment of FIG. 10, not the entire conductor pattern 61A but a part of the wiring portion 61b of the conductor pattern 61A and the terminal portion 61a. The metal coating layer 15 may be formed so as to cover. Similarly to the example of FIG. 18, the metal coating layer 17 may be formed between the terminal portion 61 a of the conductor pattern 61 </ b> B and the barrier layer 70.

図34は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第3の構成例を示す断面図である。図34(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図34(b)に、図34(a)のC3−C3線縦断面図が示される。以下、第3の構成例について、図32の第1の構成例と異なる点を説明する。   FIG. 34 is a cross-sectional view showing a third configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 34A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two conductor patterns 61A and 61B and their peripheral members. FIG. 34 (b) shows a longitudinal sectional view taken along line C3-C3 of FIG. 34 (a). Hereinafter, the third configuration example will be described while referring to differences from the first configuration example of FIG.

図34の第3の構成例においては、導体パターン61Aの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。導体パターン61Aの端子部61aを覆うようにニッケルからなるバリア層70が形成されている。バリア層70は、導体パターン61Aの下面上で導体パターン61Aの端部から絶縁層41Aの端部の位置まで延びている。   In the third configuration example of FIG. 34, the metal coating layer 17 made of nickel is formed so as to cover the entire wiring portion 61b of the conductor pattern 61A. A barrier layer 70 made of nickel is formed so as to cover the terminal portion 61a of the conductor pattern 61A. The barrier layer 70 extends from the end of the conductor pattern 61A to the position of the end of the insulating layer 41A on the lower surface of the conductor pattern 61A.

導体パターン61Aの配線部61bに重なりかつ金属被覆層17を覆うように絶縁層41A上に絶縁層41Bが形成されている。絶縁層41B上に、銅からなる導体パターン61Bが形成されている。導体パターン61Bの配線部61bの一部を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。金属被覆層17は、導体パターン61Bの境界61cから3μm以上離れた位置まで延びている。導体パターン61Bの端子部61aを覆うように、金属被覆層17と同じ材料からなるバリア層70が形成されている。導体パターン61Bの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。   An insulating layer 41B is formed on the insulating layer 41A so as to overlap the wiring portion 61b of the conductor pattern 61A and cover the metal coating layer 17. A conductor pattern 61B made of copper is formed on the insulating layer 41B. A metal coating layer 17 made of nickel is formed so as to cover a part of the wiring part 61b of the conductor pattern 61B. The metal coating layer 17 extends to a position away from the boundary 61c of the conductor pattern 61B by 3 μm or more. A barrier layer 70 made of the same material as that of the metal coating layer 17 is formed so as to cover the terminal portion 61a of the conductor pattern 61B. The ratio of the length of all the metal coating layers 17 covering the wiring portion 61b to the entire length of the wiring portion 61b of the conductor pattern 61B is set to be 40% or less.

下に位置する導体パターン61Aに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、フライング構造を有する接続端子TAが形成されている。上に位置する導体パターン61Bに設けられるバリア層70を覆うように、金層71が形成されている。それにより、接続端子TBが形成されている。   A gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70 provided on the conductor pattern 61A located below. Thereby, a connection terminal TA having a flying structure is formed. A gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70 provided on the conductor pattern 61B located above. Thereby, the connection terminal TB is formed.

上記のように、上に位置する導体パターン61Bの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。これにより、導体パターン61Bの配線部61bでは、第4の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61Bの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。   As described above, the ratio of the length of all the metal coating layers 17 covering the wiring part 61b to the entire length of the wiring part 61b of the conductor pattern 61B positioned above is set to be 40% or less. Thereby, in the wiring part 61b of the conductor pattern 61B, the transmission loss of the electric signal in a high frequency band can be reduced as in the fourth embodiment. Therefore, the wiring part 61b of the conductor pattern 61B can be effectively used as a transmission line for high-frequency signals.

また、上記の構成においては、金属被覆層17とバリア層70とが同じニッケルからなり、金属被覆層17とバリア層70とが一体的に構成される。バリア層70は金属被覆層17の一部として機能する。金属被覆層17およびバリア層70により導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われる。これにより、金属被覆層17の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。   Moreover, in said structure, the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 consist of the same nickel, and the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 are comprised integrally. The barrier layer 70 functions as a part of the metal coating layer 17. The metal coating layer 17 and the barrier layer 70 continuously cover the boundary 61c of the conductor patterns 61A and 61B and the vicinity thereof. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the inside of the metal coating layer 17 from the outside of the insulating cover layer 43. Therefore, occurrence of corrosion at the boundary 61c between the conductor patterns 61A and 61B and in the vicinity thereof is prevented.

下に位置する導体パターン61Aの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されているので、導体パターン61Aと絶縁層41Bとの密着性が向上する。導体パターン61Aの配線部61bは、例えば低周波信号用の伝送線路、接地導体層またはシールド層として使用することが好ましい。   Since the metal coating layer 17 made of nickel is formed so as to cover the entire wiring portion 61b of the conductor pattern 61A located below, the adhesion between the conductor pattern 61A and the insulating layer 41B is improved. The wiring portion 61b of the conductor pattern 61A is preferably used as, for example, a low-frequency signal transmission line, a ground conductor layer, or a shield layer.

なお、図34の第3の構成例においては、図18の例と同様に、導体パターン61A,61Bの端子部61aとバリア層70との間に金属被覆層17が形成されてもよい。   In the third configuration example of FIG. 34, the metal coating layer 17 may be formed between the terminal portions 61a of the conductor patterns 61A and 61B and the barrier layer 70, as in the example of FIG.

図35は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第4の構成例を示す断面図である。図35(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図35(b)に、図35(a)のC4−C4線縦断面図が示される。以下、第4の構成例について、図32の第1の構成例と異なる点を説明する。   FIG. 35 is a cross-sectional view showing a fourth configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 35A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two conductor patterns 61A and 61B and their peripheral members. FIG. 35B shows a longitudinal sectional view taken along line C4-C4 of FIG. Hereinafter, the fourth configuration example will be described while referring to differences from the first configuration example of FIG.

図35の第4の構成例においては、図32の第1の構成例と同様に、下に位置する導体パターン61Aの配線部61bの一部を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。導体パターン61Aの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。   In the fourth configuration example of FIG. 35, as in the first configuration example of FIG. 32, the metal coating layer 17 made of nickel is formed so as to cover a part of the wiring portion 61b of the conductor pattern 61A located below. Has been. The ratio of the length of all the metal coating layers 17 covering the wiring part 61b to the entire length of the wiring part 61b of the conductor pattern 61A is set to be 40% or less.

また、図35の第4の構成例においては、図34の第3の構成例と同様に、上に位置する導体パターン61Bの配線部61bの一部を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。導体パターン61Bの配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う全ての金属被覆層17の長さの割合は40%以下となるように設定される。   Further, in the fourth configuration example of FIG. 35, similarly to the third configuration example of FIG. 34, the metal coating layer 17 made of nickel so as to cover a part of the wiring portion 61b of the conductor pattern 61B located above. Is formed. The ratio of the length of all the metal coating layers 17 covering the wiring portion 61b to the entire length of the wiring portion 61b of the conductor pattern 61B is set to be 40% or less.

これらより、導体パターン61A,61Bの配線部61bでは、第4の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61A,61Bの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。   From these, in the wiring part 61b of the conductor patterns 61A and 61B, the transmission loss of the electric signal in the high frequency band can be reduced as in the fourth embodiment. Therefore, the wiring part 61b of the conductor patterns 61A and 61B can be effectively used as a transmission line for high-frequency signals.

なお、図35の第4の構成例においては、図18の例と同様に、導体パターン61A,61Bの端子部61aとバリア層70との間に金属被覆層17が形成されてもよい。   In the fourth configuration example of FIG. 35, the metal coating layer 17 may be formed between the terminal portions 61a of the conductor patterns 61A and 61B and the barrier layer 70, as in the example of FIG.

図36は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第5の構成例を示す断面図である。図36(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図36(b)に、図36(a)のC5−C5線縦断面図が示される。以下、第5の構成例について、図34の第3の構成例と異なる点を説明する。   FIG. 36 is a cross-sectional view showing a fifth configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 36A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two conductor patterns 61A and 61B and their peripheral members. FIG. 36B shows a longitudinal sectional view taken along line C5-C5 of FIG. Hereinafter, the fifth configuration example will be described while referring to differences from the third configuration example of FIG.

図36の第5の構成例においては、図34の第3の構成例と同様に、下に位置する導体パターン61Aの配線部61bの全体を覆うようにニッケルからなる金属被覆層17が形成されている。   In the fifth configuration example of FIG. 36, similarly to the third configuration example of FIG. 34, the metal coating layer 17 made of nickel is formed so as to cover the entire wiring portion 61b of the conductor pattern 61A located below. ing.

一方、上に位置する導体パターン61Bに関しては、配線部61bの全体および端子部61aを覆うように金属被覆層15が形成されている。金属被覆層15は、主としてニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属(例えば非磁性体の金属)からなり、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。本例では、金属被覆層15の材料として、金または銀が用いられる。   On the other hand, with respect to the conductor pattern 61B located on the upper side, the metal coating layer 15 is formed so as to cover the entire wiring portion 61b and the terminal portion 61a. The metal coating layer 15 is mainly made of a metal having a magnetic property lower than that of nickel (for example, a non-magnetic metal), and has a magnetic property lower than that of nickel. In this example, gold or silver is used as the material of the metal coating layer 15.

導体パターン61Bの配線部61bを覆う金属被覆層15の部分を覆うとともに端子部61aを覆う金属被覆層15の他の部分を覆わないように絶縁層41B上にカバー絶縁層43が形成されている。端子部61aを覆う金属被覆層15の部分を覆うようにニッケルからなるバリア層70が形成されている。そのバリア層70を覆うように金層71が形成されている。それにより、接続端子TBが形成されている。   A cover insulating layer 43 is formed on the insulating layer 41B so as to cover the portion of the metal coating layer 15 covering the wiring portion 61b of the conductor pattern 61B and not cover the other portion of the metal coating layer 15 covering the terminal portion 61a. . A barrier layer 70 made of nickel is formed so as to cover the portion of the metal coating layer 15 covering the terminal portion 61a. A gold layer 71 is formed so as to cover the barrier layer 70. Thereby, the connection terminal TB is formed.

上記の構成においては、上に位置する導体パターン61Bの配線部61bとカバー絶縁層43との間には、ニッケルの磁性以上の磁性を有する金属層が存在しない。これにより、導体パターン61Bの配線部61bでは、第1の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61Bの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。また、金属被覆層15により導体パターン61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われるので、金属被覆層15の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。   In the above configuration, there is no metal layer having magnetism higher than that of nickel between the wiring portion 61b of the conductor pattern 61B positioned above and the cover insulating layer 43. Thereby, in the wiring part 61b of the conductor pattern 61B, the transmission loss of the electric signal in a high frequency band can be reduced as in the first embodiment. Therefore, the wiring part 61b of the conductor pattern 61B can be effectively used as a transmission line for high-frequency signals. Further, since the boundary 61c of the conductor pattern 61B and the vicinity thereof are continuously covered by the metal coating layer 15, a fluid such as air, water, or a chemical solution enters the inside of the metal coating layer 15 from the outside of the insulating cover layer 43. It is prevented. Therefore, the occurrence of corrosion at the boundary 61c of the conductor pattern 61B and its vicinity is prevented.

なお、図36の第5の構成例においては、図10の第2の実施の形態の例と同様に、導体パターン61Bの全体ではなく、導体パターン61Bの配線部61bの一部と端子部61aとを覆うように金属被覆層15が形成されてもよい。また、図18の例と同様に、導体パターン61Aの端子部61aとバリア層70との間に金属被覆層17が形成されてもよい。   In the fifth configuration example of FIG. 36, as in the example of the second embodiment of FIG. 10, not the entire conductor pattern 61B but a part of the wiring portion 61b of the conductor pattern 61B and the terminal portion 61a. The metal coating layer 15 may be formed so as to cover. Similarly to the example of FIG. 18, the metal coating layer 17 may be formed between the terminal portion 61 a of the conductor pattern 61 </ b> A and the barrier layer 70.

図37は、上下に積層された2つの導体パターンおよびそれらに対応する2つの接続端子の第6の構成例を示す断面図である。図37(a)に、2つの導体パターン61A,61Bの2つの接続端子およびそれらの周辺部材の縦断面図が示される。図37(b)に、図37(a)のC6−C6線縦断面図が示される。以下、第6の構成例について、図33の第2の構成例と異なる点を説明する。   FIG. 37 is a cross-sectional view showing a sixth configuration example of two conductor patterns stacked one above the other and two connection terminals corresponding to them. FIG. 37A shows a longitudinal sectional view of the two connection terminals of the two conductor patterns 61A and 61B and their peripheral members. FIG. 37B shows a longitudinal sectional view taken along line C6-C6 of FIG. Hereinafter, the sixth configuration example will be described while referring to differences from the second configuration example of FIG.

図37の第6の構成例においては、図33の第2の構成例と同様に、下に位置する導体パターン61Aの配線部61bの全体および端子部61aを覆うように金属被覆層15が形成されている。上記のように、金属被覆層15は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する。   In the sixth configuration example of FIG. 37, as in the second configuration example of FIG. 33, the metal coating layer 15 is formed so as to cover the entire wiring portion 61b of the conductor pattern 61A located below and the terminal portion 61a. Has been. As described above, the metal coating layer 15 has magnetism lower than that of nickel.

また、図37の第6の構成例においては、図36の第5の構成例と同様に、上に位置する導体パターン61Bの配線部61bの全体および端子部61aを覆うように金属被覆層15が形成されている。   In the sixth configuration example of FIG. 37, similarly to the fifth configuration example of FIG. 36, the metal coating layer 15 is formed so as to cover the entire wiring portion 61b and the terminal portion 61a of the conductor pattern 61B located above. Is formed.

これらより、導体パターン61A,61Bの配線部61bでは、第1の実施の形態と同様に、高い周波数帯域における電気信号の伝送損失を低減することができる。したがって、導体パターン61A,61Bの配線部61bは、高周波信号用の伝送線路として有効に使用することができる。また、金属被覆層15により導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われるので、導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。   From these, in the wiring part 61b of the conductor patterns 61A and 61B, the transmission loss of the electric signal in the high frequency band can be reduced as in the first embodiment. Therefore, the wiring part 61b of the conductor patterns 61A and 61B can be effectively used as a transmission line for high-frequency signals. Further, since the metal coating layer 15 continuously covers the boundary 61c of the conductor patterns 61A and 61B and the vicinity thereof, the occurrence of corrosion at the boundary 61c of the conductor patterns 61A and 61B and the vicinity thereof is prevented.

なお、図37の第6の構成例においては、図10の第2の実施の形態の例と同様に、導体パターン61Aの全体ではなく、導体パターン61Aの配線部61bの一部と端子部61aとを覆うように金属被覆層15が形成されてもよい。また、導体パターン61Bの全体ではなく、導体パターン61Bの配線部61bの一部と端子部61aとを覆うように金属被覆層15が形成されてもよい。   In the sixth configuration example of FIG. 37, as in the example of the second embodiment of FIG. 10, not the entire conductor pattern 61A but a part of the wiring portion 61b of the conductor pattern 61A and the terminal portion 61a. The metal coating layer 15 may be formed so as to cover. Moreover, the metal coating layer 15 may be formed so as to cover not the entire conductor pattern 61B but a part of the wiring part 61b of the conductor pattern 61B and the terminal part 61a.

(9)上記実施の形態において、配線回路基板は支持基板10を含むサスペンション基板1であるが、本発明はこれに限定されない。配線回路基板は、例えば支持基板10を含まないフレキシブル配線回路基板であってもよい。   (9) In the above embodiment, the printed circuit board is the suspension board 1 including the support board 10, but the present invention is not limited to this. The printed circuit board may be, for example, a flexible printed circuit board that does not include the support substrate 10.

(10)上記実施の形態において、金属被覆層15,17は例えば電解めっき、無電解めっきまたはスパッタリングにより形成されるが、本発明はこれに限定されない。金属被覆層15,17は、セミアディティブ法またはサブトラクティブ法等の他の方法を用いて形成されてもよい。   (10) In the above embodiment, the metal coating layers 15 and 17 are formed by, for example, electrolytic plating, electroless plating or sputtering, but the present invention is not limited to this. The metal coating layers 15 and 17 may be formed using other methods such as a semi-additive method or a subtractive method.

また、上記実施の形態において、金属被覆層16,18は電解めっきにより形成されるが、本発明はこれに限定されない。金属被覆層16,18は、無電解めっき、スパッタリング、セミアディティブ法またはサブトラクティブ法等の他の方法を用いて形成されてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the metal coating layers 16 and 18 are formed by electrolytic plating, this invention is not limited to this. The metal coating layers 16 and 18 may be formed using other methods such as electroless plating, sputtering, a semi-additive method, or a subtractive method.

(11)第1の実施の形態においては、第3の実施の形態と同様に、金属被覆層15のうち導体パターン61の端子部61aを覆う部分に図11の金属被覆層16が形成されてもよい。また、第4の実施の形態においては、第3の実施の形態と同様に、金属被覆層17のうち導体パターン61の端子部61aを覆う部分に図11の金属被覆層16が形成されてもよい。さらに、第5の実施の形態においては、第3の実施の形態と同様に、金属被覆層18のうち導体パターン61の端子部61aを覆う部分に図11の金属被覆層16が形成されてもよい。これらの場合、接続端子21〜26,31〜36の表面状態が整えられる。   (11) In the first embodiment, as in the third embodiment, the metal coating layer 16 of FIG. 11 is formed on the portion of the metal coating layer 15 that covers the terminal portion 61a of the conductor pattern 61. Also good. Further, in the fourth embodiment, similarly to the third embodiment, even if the metal coating layer 16 of FIG. 11 is formed on the portion of the metal coating layer 17 that covers the terminal portion 61a of the conductor pattern 61. Good. Furthermore, in the fifth embodiment, similarly to the third embodiment, even if the metal coating layer 16 of FIG. 11 is formed on the portion of the metal coating layer 18 that covers the terminal portion 61a of the conductor pattern 61. Good. In these cases, the surface states of the connection terminals 21 to 26 and 31 to 36 are adjusted.

(12)第1〜第3の実施の形態においては、第5の実施の形態と同様に、金属被覆層15の全体を覆うように図14の金属被覆層18が形成されてもよい。この場合、金属被覆層18の材料としては、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属を用いる。   (12) In the first to third embodiments, similarly to the fifth embodiment, the metal coating layer 18 of FIG. 14 may be formed so as to cover the entire metal coating layer 15. In this case, as the material of the metal coating layer 18, a metal having a magnetic property lower than that of nickel is used.

(13)第4の実施の形態においては、複数の導体パターン61の配線部61bのうち両端部から延びるように金属被覆層17が形成されるが、本発明は上記の例に限定されない。配線部61bの全長に対するその配線部61bを覆う金属被覆層17の長さの割合が40%以下になるのであれば、金属被覆層17の一部がその配線部61bの両端部に位置する金属被覆層17の部分から分離して形成されてもよい。例えば、金属被覆層17の一部が配線部61bの中央部に形成されてもよい。   (13) In the fourth embodiment, the metal coating layer 17 is formed so as to extend from both ends of the wiring portions 61b of the plurality of conductor patterns 61, but the present invention is not limited to the above example. If the ratio of the length of the metal coating layer 17 covering the wiring portion 61b to the total length of the wiring portion 61b is 40% or less, a part of the metal coating layer 17 is a metal located at both ends of the wiring portion 61b. It may be formed separately from the coating layer 17 portion. For example, a part of the metal coating layer 17 may be formed in the central part of the wiring part 61b.

(14)上記の第1〜第5の実施の形態に係るサスペンション基板は、基本的に、金属製の支持基板10上にベース絶縁層41、導体パターン61およびカバー絶縁層43がこの順で積層された構成を有するが、本発明はこれに限定されない。サスペンション基板は、上記の構成に加えて、支持基板10とベース絶縁層41との間に設けられる他の絶縁層および他の導体パターンをさらに備えてもよい(図32〜図37の第1〜第6の構成例参照)。そのサスペンション基板は、基本的に、金属製の支持基板10上に、他の絶縁層、他の導体パターン、ベース絶縁層41、導体パターン61およびカバー絶縁層43がこの順で積層された構成を有する。この場合、他の導体パターンについても、上記の実施の形態と同様に、配線部の少なくとも一部と端子部とが覆われるように金属被覆層15,17,18のいずれかを形成してもよい。また、他の導体パターンの配線部が覆われるように他の絶縁層上にベース絶縁層41を形成してもよい。それにより、他の導体パターンについても、上記実施の形態と同様の効果を得ることができる。   (14) In the suspension boards according to the first to fifth embodiments, basically, the base insulating layer 41, the conductor pattern 61, and the cover insulating layer 43 are laminated in this order on the metal support board 10. However, the present invention is not limited to this. In addition to the above-described configuration, the suspension board may further include other insulating layers and other conductor patterns provided between the support substrate 10 and the base insulating layer 41 (first to first in FIGS. 32 to 37). (Refer to the sixth configuration example). The suspension board basically has a configuration in which another insulating layer, another conductor pattern, a base insulating layer 41, a conductor pattern 61, and a cover insulating layer 43 are laminated in this order on a metal support board 10. Have. In this case, as for the other conductor patterns, any of the metal coating layers 15, 17 and 18 may be formed so that at least a part of the wiring portion and the terminal portion are covered, as in the above embodiment. Good. Further, the base insulating layer 41 may be formed on another insulating layer so as to cover the wiring portions of other conductor patterns. Thereby, the effect similar to the said embodiment can be acquired also about another conductor pattern.

[7]請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
[7] Correspondence relationship between each constituent element of claim and each part of embodiment The following describes an example of the correspondence between each constituent element of the claim and each part of the embodiment. It is not limited.

上記実施の形態では、ベース絶縁層41および絶縁層41A,41Bが第1の絶縁層の例であり、導体パターン61,61A,61Bが導体パターンの例であり、端子部61aが端子部の例であり、配線部61bが配線部の例であり、金属被覆層15,17,18および金属被覆層17と同じ材料からなるバリア層70が第1の金属被覆層の例であり、カバー絶縁層43および絶縁層41Bが第2の絶縁層の例であり、金属被覆層16が第2の金属被覆層の例であり、金属被覆層17が第1の金属層の例であり、金属被覆層18が第2の金属層の例であり、サスペンション基板1が配線回路基板の例である。   In the above embodiment, the base insulating layer 41 and the insulating layers 41A and 41B are examples of the first insulating layer, the conductor patterns 61, 61A and 61B are examples of the conductor pattern, and the terminal portion 61a is an example of the terminal portion. The wiring part 61b is an example of the wiring part, the metal coating layers 15, 17, 18 and the barrier layer 70 made of the same material as the metal coating layer 17 are examples of the first metal coating layer, and the cover insulating layer 43 and the insulating layer 41B are examples of the second insulating layer, the metal coating layer 16 is an example of the second metal coating layer, the metal coating layer 17 is an example of the first metal layer, and the metal coating layer 18 is an example of a second metal layer, and the suspension board 1 is an example of a printed circuit board.

また、バリア層70が端子バリア層の例であり、金層71が端子表面層の例であり、導体パターン61Bが上部導体パターンの例であり、導体パターン61Bの端子部61aが上部端子部の例であり、導体パターン61Bの配線部61bが上部配線部の例であり、金属被覆層15,17および金属被覆層17と同じ材料からなるバリア層70が上部金属被覆層の例であり、カバー絶縁層43が第3の絶縁層の例であり、絶縁層41Aが下部絶縁層の例であり、導体パターン61Aが下部導体パターンの例である。   The barrier layer 70 is an example of a terminal barrier layer, the gold layer 71 is an example of a terminal surface layer, the conductor pattern 61B is an example of an upper conductor pattern, and the terminal portion 61a of the conductor pattern 61B is an upper terminal portion. The wiring portion 61b of the conductor pattern 61B is an example of the upper wiring portion, the barrier layer 70 made of the same material as the metal coating layers 15 and 17 and the metal coating layer 17 is an example of the upper metal coating layer, The insulating layer 43 is an example of a third insulating layer, the insulating layer 41A is an example of a lower insulating layer, and the conductor pattern 61A is an example of a lower conductor pattern.

請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。   As each constituent element in the claims, various other elements having configurations or functions described in the claims can be used.

[8]実施例および比較例
本発明者は、実施例1として第1の実施の形態に係るサスペンション基板1(図1および図5参照)と同じ構成を有するサスペンション基板を作成し、実施例2,3,4,5として第2の実施の形態に係るサスペンション基板(図10参照)と同じ構成を有するサスペンション基板を作成した。実施例2,3,4,5においては、図10(b)の距離L1をそれぞれ3μm、5μm、10μmおよび50μmに設定した。
[8] Example and Comparative Example The inventor created a suspension board having the same configuration as that of the suspension board 1 according to the first embodiment (see FIGS. 1 and 5) as Example 1, and Example 2 was made. , 3, 4, and 5, suspension boards having the same configuration as the suspension board according to the second embodiment (see FIG. 10) were prepared. In Examples 2, 3, 4, and 5, the distance L1 in FIG. 10B was set to 3 μm, 5 μm, 10 μm, and 50 μm, respectively.

また、本発明者は、実施例6として第3の実施の形態に係るサスペンション基板(図11参照)と同じ構成を有するサスペンション基板を作成した。実施例6においては、図11(b)の距離L1を5μmに設定した。   Further, the inventor created a suspension board having the same configuration as the suspension board according to the third embodiment (see FIG. 11) as Example 6. In Example 6, the distance L1 in FIG. 11B was set to 5 μm.

さらに、本発明者は、実施例7,8,9,10,11,12として第5の実施の形態に係るサスペンション基板と同じ構成を有するサスペンション基板(図14参照)を作成した。実施例7,8,9,10,11,12においては、図14(b)の距離L2をそれぞれ5μm、10μm、50μm、950μm、3800μmおよび7600μmに設定した。   Further, the inventors created suspension boards (see FIG. 14) having the same configuration as the suspension board according to the fifth embodiment as Examples 7, 8, 9, 10, 11, and 12. In Examples 7, 8, 9, 10, 11, and 12, the distance L2 in FIG. 14B was set to 5 μm, 10 μm, 50 μm, 950 μm, 3800 μm, and 7600 μm, respectively.

また、実施例7〜12においては、書込用配線パターンW1,W2および読取用配線パターンR1,R2を構成する4本の配線部61bの全長をそれぞれ38mmに設定した。配線部61bの全長に対する金属被覆層17により被覆される部分の長さの比率を強磁性被覆層占有率と呼ぶ。この場合、書込用配線パターンW1,W2および読取用配線パターンR1,R2に関して、実施例7,8,9,10,11,12の強磁性被覆層占有率は、それぞれ0.03%、0.05%、0.26%、5%、20%および40%となる。一方、実施例1〜6の強磁性被覆層占有率は全て0%となる。   In Examples 7 to 12, the total length of the four wiring portions 61b constituting the writing wiring patterns W1, W2 and the reading wiring patterns R1, R2 was set to 38 mm. The ratio of the length of the portion covered with the metal coating layer 17 to the entire length of the wiring portion 61b is called the ferromagnetic coating layer occupancy rate. In this case, with respect to the write wiring traces W1 and W2 and the read wiring traces R1 and R2, the ferromagnetic coating layer occupancy rates of Examples 7, 8, 9, 10, 11, and 12 are 0.03% and 0%, respectively. .05%, 0.26%, 5%, 20% and 40%. On the other hand, the ferromagnetic coating layer occupation ratios of Examples 1 to 6 are all 0%.

また、本発明者は、比較例1として第2の実施の形態に係るサスペンション基板と図10(b)の距離L1の設定値を除いて基本的に同じ構成を有するサスペンション基板を作成した。比較例1のサスペンション基板においては、図10(b)の距離L1を1μmに設定した。   In addition, as a comparative example 1, the present inventor created a suspension board having basically the same configuration as the suspension board according to the second embodiment except for the set value of the distance L1 in FIG. In the suspension board of Comparative Example 1, the distance L1 in FIG. 10B was set to 1 μm.

また、本発明者は比較例2として以下の構成を有するサスペンション基板を作成した。図38は、比較例2のサスペンション基板の一部を示す平面図および断面図である。図38(a),(b)に、平面図および断面図がそれぞれ示される。図38(a)の平面図は、第1の実施の形態の図3(a)の平面図に対応する。図38(b)の断面図は、図38(a)のK−K線拡大断面図を示し、第1の実施の形態の図5(a)の断面図に対応する。   In addition, the inventor created a suspension board having the following configuration as Comparative Example 2. 38 is a plan view and a cross-sectional view showing a part of the suspension board of Comparative Example 2. FIG. 38A and 38B are a plan view and a sectional view, respectively. The plan view of FIG. 38A corresponds to the plan view of FIG. 3A of the first embodiment. The cross-sectional view of FIG. 38B shows an enlarged cross-sectional view taken along the line KK of FIG. 38A, and corresponds to the cross-sectional view of FIG. 5A of the first embodiment.

比較例2のサスペンション基板においても、第1の実施の形態と同様に、支持基板10上にベース絶縁層41が形成され、ベース絶縁層41上に複数の導体パターン61が形成される。複数の導体パターン61の配線部61bを覆うようにベース絶縁層41上にカバー絶縁層43が形成される(図4(a)参照)。図38(a)では、カバー絶縁層43の図示が省略されている。   Also in the suspension board of Comparative Example 2, the base insulating layer 41 is formed on the support substrate 10 and the plurality of conductor patterns 61 are formed on the base insulating layer 41 as in the first embodiment. A cover insulating layer 43 is formed on the base insulating layer 41 so as to cover the wiring portions 61b of the plurality of conductor patterns 61 (see FIG. 4A). In FIG. 38A, the cover insulating layer 43 is not shown.

図38(a),(b)に示すように、各導体パターン61における配線部61bの全体を覆うようにかつ端子部61aを覆わないように金属被覆層17が形成される。端子部61aを覆うように金属被覆層19が形成される。このように、比較例2のサスペンション基板においては、金属被覆層17,19の各々は、端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように形成されていない。導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61cに重なるように、金属被覆層17と金属被覆層19との境界が位置する。比較例2では、金属被覆層17が配線部61bの全体を覆うので、強磁性被覆層占有率は100%となる。   As shown in FIGS. 38A and 38B, the metal coating layer 17 is formed so as to cover the entire wiring part 61b in each conductor pattern 61 and not to cover the terminal part 61a. Metal coating layer 19 is formed so as to cover terminal portion 61a. Thus, in the suspension board of Comparative Example 2, each of the metal coating layers 17 and 19 is not formed so as to continuously extend from the surface of the terminal portion 61a to the surface of the wiring portion 61b. The boundary between the metal coating layer 17 and the metal coating layer 19 is positioned so as to overlap the boundary 61 c between the terminal portion 61 a and the wiring portion 61 b in the conductor pattern 61. In Comparative Example 2, since the metal coating layer 17 covers the entire wiring portion 61b, the ferromagnetic coating layer occupation ratio is 100%.

上記の実施例1〜12および比較例1,2のサスペンション基板においては、支持基板10の材料としてステンレス鋼を用い、ベース絶縁層41およびカバー絶縁層43の材料としてポリイミドを用い、導体パターン61の材料として銅を用いた。また、実施例1〜6および比較例1の金属被覆層15、実施例6の金属被覆層16、ならびに実施例7〜12の金属被覆層18の材料として金を用いた。また、実施例7〜12および比較例2の金属被覆層17の材料としてニッケルを用い、比較例2の金属被覆層19の材料として金を用いた。   In the suspension boards of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2, stainless steel is used as the material of the support board 10, polyimide is used as the material of the base insulating layer 41 and the cover insulating layer 43, and the conductive pattern 61 is formed. Copper was used as the material. Further, gold was used as a material for the metal coating layer 15 of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1, the metal coating layer 16 of Example 6, and the metal coating layer 18 of Examples 7 to 12. Further, nickel was used as the material of the metal coating layer 17 of Examples 7 to 12 and Comparative Example 2, and gold was used as the material of the metal coating layer 19 of Comparative Example 2.

本発明者は、実施例1〜12および比較例1,2について、電気的特性の評価を行うために、書込用配線パターンW1,W2により電気信号が伝送されるときの透過特性を表すパラメータSDD21を測定した。パラメータSDD21は、差動モード入力および差動モード出力での減衰量を示す。   In order to evaluate the electrical characteristics of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2, the inventor has parameters indicating transmission characteristics when electrical signals are transmitted by the write wiring patterns W1 and W2. SDD21 was measured. The parameter SDD21 indicates the amount of attenuation at the differential mode input and the differential mode output.

図39は、実施例10,11,12および比較例2についてのパラメータSDD21の測定結果を示す図である。図39において、縦軸はパラメータSDD21[dB]を表し、横軸は電気信号の周波数[GHz]を表す。また、図39において、実施例10,11,12についての測定結果をそれぞれ実線、一点鎖線および太い実線で示し、比較例2についての測定結果を点線で示す。   FIG. 39 is a diagram illustrating measurement results of the parameter SDD21 for Examples 10, 11, 12 and Comparative Example 2. In FIG. 39, the vertical axis represents the parameter SDD21 [dB], and the horizontal axis represents the frequency [GHz] of the electric signal. In FIG. 39, the measurement results for Examples 10, 11, and 12 are indicated by a solid line, an alternate long and short dash line, and a thick solid line, respectively, and the measurement results for Comparative Example 2 are indicated by a dotted line.

図39の測定結果によれば、実施例10,11,12のサスペンション基板は、4.5GHz以上の周波数の信号が伝送される場合でも、パラメータSDD21(減衰量)が−3dB(50%)以上に保たれる、すなわち高周波帯域の減衰量が小さいことがわかる。一方、比較例2のサスペンション基板は、4.5GHz以上の周波数の信号が伝送される場合に、パラメータSDD21(減衰量)が−3dB(50%)よりも低くなる、すなわち高周波帯域の減衰量が大きいことがわかる。   According to the measurement results of FIG. 39, the suspension boards of Examples 10, 11, and 12 have the parameter SDD21 (attenuation amount) of −3 dB (50%) or more even when a signal having a frequency of 4.5 GHz or more is transmitted. It can be seen that the attenuation in the high frequency band is small. On the other hand, the suspension board of Comparative Example 2 has a parameter SDD21 (attenuation amount) lower than −3 dB (50%) when a signal having a frequency of 4.5 GHz or higher is transmitted. You can see that it ’s big.

実施例1〜12および比較例1について上記の測定を行った結果、いずれのサスペンション基板においても4.5GHz以上の周波数の信号が伝送される場合に、パラメータSDD21が−3dB以上に保たれることがわかった。すなわち、高周波帯域における電気信号の伝送損失が低減されることがわかった。一方、比較例2については、4.5GHz以上の周波数の信号が伝送される場合に、パラメータSDD21が−3dBよりも低くなることがわかった。すなわち、高周波帯域では、電気信号の伝送損失が高くなることがわかった。   As a result of performing the above measurements on Examples 1 to 12 and Comparative Example 1, the parameter SDD21 is maintained at -3 dB or higher when a signal having a frequency of 4.5 GHz or higher is transmitted on any suspension board. I understood. That is, it was found that the transmission loss of electric signals in the high frequency band is reduced. On the other hand, in Comparative Example 2, it was found that the parameter SDD21 is lower than −3 dB when a signal having a frequency of 4.5 GHz or higher is transmitted. That is, it was found that the transmission loss of the electric signal is high in the high frequency band.

実施例1〜12および比較例1のサスペンション基板は、強磁性被覆層占有率が40%以下である。したがって、配線部61bの全長の少なくとも60%以上の範囲で配線部61bとカバー絶縁層43との間にニッケルが存在しないことにより、電気信号の伝送損失が低減されることがわかった。   The suspension substrates of Examples 1 to 12 and Comparative Example 1 have a ferromagnetic coating layer occupation ratio of 40% or less. Therefore, it has been found that the transmission loss of the electric signal is reduced by the absence of nickel between the wiring portion 61b and the cover insulating layer 43 in a range of at least 60% or more of the entire length of the wiring portion 61b.

また、上記の測定の結果、実施例1〜11および比較例1については、いずれのサスペンション基板においても5GHz以上の周波数の信号が伝送される場合に、パラメータSDD21が−3dB以上に保たれることがわかった。すなわち、高周波帯域における電気信号の伝送損失がより低減されることがわかった。したがって、強磁性被覆層占有率は20%以下に設定されることが好ましい。   As a result of the above measurement, in Examples 1 to 11 and Comparative Example 1, the parameter SDD21 is maintained at -3 dB or higher when a signal having a frequency of 5 GHz or higher is transmitted on any suspension board. I understood. That is, it was found that the transmission loss of electric signals in the high frequency band is further reduced. Therefore, the ferromagnetic coating layer occupancy is preferably set to 20% or less.

本発明者は、実施例1〜12および比較例1,2について、カバー絶縁層43と導体パターン61の配線部61bとの密着性の評価を行った。具体的には、本発明者は、導体パターン61における端子部61aと配線部61bとの境界61c近傍において、カバー絶縁層43の端部と導体パターン61との間に大きな空隙が発生していないかについて確認した。   The inventor evaluated the adhesion between the insulating cover layer 43 and the wiring part 61 b of the conductor pattern 61 in Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2. Specifically, the inventor does not generate a large gap between the end portion of the insulating cover layer 43 and the conductor pattern 61 in the vicinity of the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b in the conductor pattern 61. I confirmed about it.

その結果、実施例1〜12および比較例2については、カバー絶縁層43の端部と配線部61bとの間に大きな空隙は発生していなかった。一方、比較例1については、カバー絶縁層43の端部と導体パターン61との間に大きな空隙が発生していた。これらの結果、配線部61b上で金属被覆層15,17,18のいずれかが導体パターン61の境界61c上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成されることにより、カバー絶縁層43と配線部61bとの間の密着性が向上することがわかった。   As a result, in Examples 1 to 12 and Comparative Example 2, no large gap was generated between the end of the insulating cover layer 43 and the wiring part 61b. On the other hand, in Comparative Example 1, a large gap was generated between the end portion of the insulating cover layer 43 and the conductor pattern 61. As a result, any one of the metal coating layers 15, 17, and 18 is formed on the wiring portion 61 b so as to extend to a position separated by 3 μm or more from the position on the boundary 61 c of the conductor pattern 61, whereby the insulating cover layer 43 It was found that the adhesion between the wiring part 61b and the wiring part 61b is improved.

本発明者は、実施例1〜12および比較例1,2について、各導体パターン61の端子部61aと配線部61bとの境界61cおよびその近傍における腐食の有無を確認した。   The inventor confirmed the presence or absence of corrosion at the boundary 61c between the terminal portion 61a and the wiring portion 61b of each conductor pattern 61 and the vicinity thereof in Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2.

その結果、実施例1〜12については、導体パターン61に腐食は発生していなかった。一方、比較例1,2については、導体パターン61に腐食が発生していた。比較例1のサスペンション基板においては、カバー絶縁層43と導体パターン61との間に形成された空隙を通してカバー絶縁層43の内部に空気、水または薬液等の流体が進入したと考えられる。一方、比較例2のサスペンション基板においては、金属被覆層17,19の境界を通して金属被覆層17,19の内部に空気、水または薬液等の流体が進入したと考えられる。   As a result, in Examples 1 to 12, no corrosion occurred in the conductor pattern 61. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, the conductor pattern 61 was corroded. In the suspension board of Comparative Example 1, it is considered that a fluid such as air, water, or a chemical solution has entered the inside of the insulating cover layer 43 through the gap formed between the insulating cover layer 43 and the conductor pattern 61. On the other hand, in the suspension board of Comparative Example 2, it is considered that a fluid such as air, water, or a chemical solution has entered the metal coating layers 17 and 19 through the boundary between the metal coating layers 17 and 19.

これらの結果、配線部61bを覆う金属被覆層15,17,18のいずれかが境界61c上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成されるとともに、金属被覆層15,17,18のうちのいずれかが、端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるように形成されることにより、導体パターン61における腐食の発生を防止できることがわかった。   As a result, any one of the metal coating layers 15, 17, and 18 covering the wiring portion 61b is formed to extend to a position 3 μm or more away from the position on the boundary 61c, and the metal coating layers 15, 17, and 18 It has been found that the occurrence of corrosion in the conductor pattern 61 can be prevented by forming one of them so as to continuously extend from the surface of the terminal portion 61a to the surface of the wiring portion 61b.

下記表1に、実施例1〜12および比較例1,2についての電気的特性の評価結果、密着性の評価結果、および腐食の有無の確認結果を示す。なお、表1では、各評価結果とともに、配線部61bの一端を覆う金属被覆層15,17,18の長さ(境界61cからの距離)が示される。また、カバー絶縁層43に接触する金属被覆層15,17,18が端子部61aの表面上から配線部61bの表面上に連続して延びるか否かが示される。さらに、表1では、強磁性被覆層占有率も示される。   Table 1 below shows evaluation results of electrical characteristics, adhesion evaluation results, and confirmation results of the presence or absence of corrosion for Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2. In addition, in Table 1, the length (distance from the boundary 61c) of the metal coating layers 15, 17, and 18 covering one end of the wiring part 61b is shown together with each evaluation result. In addition, it is indicated whether or not the metal coating layers 15, 17, and 18 that are in contact with the insulating cover layer 43 continuously extend from the surface of the terminal portion 61a to the surface of the wiring portion 61b. Further, in Table 1, the ferromagnetic coating layer occupation ratio is also shown.

表1の電気的特性の評価結果においては、パラメータSDD21が−3dB(50%)を示すときの周波数が5.0GHz以上であったサスペンション基板を「◎」で表す。また、パラメータSDD21が−3dB(50%)を示すときの周波数が4.5GHz以上5.0GHz未満であったサスペンション基板を「○」で表し、パラメータSDD21が−3dB(50%)を示すときの周波数が4.5GHz未満であったサスペンション基板を「×」で表す。   In the evaluation results of the electrical characteristics in Table 1, the suspension board whose frequency when the parameter SDD21 indicates -3 dB (50%) is 5.0 GHz or more is represented by “◎”. In addition, a suspension board whose frequency when the parameter SDD21 indicates -3 dB (50%) is 4.5 GHz or more and less than 5.0 GHz is represented by “◯”, and when the parameter SDD21 indicates -3 dB (50%). A suspension board having a frequency of less than 4.5 GHz is represented by “x”.

表1のカバー絶縁層43の密着性の評価結果においては、カバー絶縁層43と導体パターン61との間で大きな空隙が発生していなかったサスペンション基板を「○」で表し、大きな空隙が発生していたサスペンション基板を「×」で表す。   In the evaluation results of the adhesion of the insulating cover layer 43 in Table 1, the suspension board in which no large gap was generated between the insulating cover layer 43 and the conductor pattern 61 is indicated by “◯”, and a large gap was generated. The suspended suspension board is indicated by “x”.

表1の導体パターン61の信頼性の評価結果においては、導体パターン61に腐食が発生していなかったサスペンション基板を「○」で表し、腐食が発生していたサスペンション基板を「×」で表す。   In the reliability evaluation result of the conductor pattern 61 in Table 1, the suspension board where the conductor pattern 61 did not corrode is represented by “◯”, and the suspension board where the corrosion occurred is represented by “x”.

Figure 2017034241
Figure 2017034241

本発明は、種々の配線回路基板に有効に利用することができる。   The present invention can be effectively used for various printed circuit boards.

1 サスペンション基板
10 支持基板
10a 支持層
10x,10y,11,41x,41y,43x 開口部
12 タング部
15,16,17,18,19 金属被覆層
21,22,23,24,25,26,31,32,33,34,35,36 接続端子
41 ベース絶縁層
41A,41B 絶縁層
41u,41v 凹部
43 カバー絶縁層
50 支持プレート
51 前端領域
52 後端領域
53 中央領域
54 圧電素子実装領域
54h 貫通孔
61,61A,61B 導体パターン
61a 端子部
61b 配線部
61c 境界
70 バリア層
71 金層
91,92 圧電素子
100 サスペンション本体部
H 孔部
P1,P2 電源用配線パターン
R1,R2 読取用配線パターン
W1,W2 書込用配線パターン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Suspension board 10 Support board 10a Support layer 10x, 10y, 11, 41x, 41y, 43x Opening part 12 Tongue part 15, 16, 17, 18, 19 Metal coating layer 21, 22, 23, 24, 25, 26, 31 , 32, 33, 34, 35, 36 Connection terminal 41 Base insulating layer 41A, 41B Insulating layer 41u, 41v Recess 43 Cover insulating layer 50 Support plate 51 Front end region 52 Rear end region 53 Central region 54 Piezoelectric element mounting region 54h Through hole 61, 61A, 61B Conductor pattern 61a Terminal portion 61b Wiring portion 61c Boundary 70 Barrier layer 71 Gold layer 91, 92 Piezoelectric element 100 Suspension body portion H Hole portion P1, P2 Power supply wiring pattern R1, R2 Reading wiring pattern W1, W2 Write wiring pattern

また、第3の絶縁層は上部金属被覆層のうち上部配線部を覆う部分に接触している。上部金属被覆層は、上部端子部の表面上から上部配線部の表面上に連続して延びるとともに、上部配線部の表面上で上部端子部と上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びている。それにより、上部導体パターンにおける上部端子部と上部配線部との境界およびその近傍に腐食が発生することが防止される。 The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion. The upper metallization layer, extends continuously from the surface of the upper terminal portion on the surface of the upper wiring portion, separated by more than 3μm on the surface of the upper wiring section from the position on the boundary between the upper terminal unit and the upper wiring portion It extends to the position. Thereby, it is possible to prevent corrosion from occurring at and near the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion in the upper conductor pattern.

図22(c)および図23(c)に示すように、接続端子31およびその周辺部においては、ベース絶縁層41のうち端子部61aに重なる矩形領域に、凹部41vが形成されている。また、支持基板10のうち端子部61aに重なる部分に、矩形の開口部10yが形成されている。 As shown in FIG. 22 (c) and FIG. 23 (c), the in the connection terminal 31 and its peripheral portion, the heavy Do that rectangle area in the terminal portion 61a of the insulating base layer 41, the recess 41v is formed Yes. A rectangular opening 10y is formed in a portion of the support substrate 10 that overlaps the terminal portion 61a.

図21のサスペンション基板の製造方法を説明する。図24〜図28は、図21のサスペンション基板の製造工程を示す模式的工程図である。図24(a)、図25(a)、図26(a),図27(a)および図28(a)は図22(a)のB1−B1線拡大断面図に対応し、図24(b)、図25(b)、図26(b)、図27(b)および図28(b)は図22(b)のB2−B2線拡大断面図に対応し、図24(c)、図25(c)、図26(c)、図27(c)および図28(c)は図22(c)のB3−B3線拡大断面図に対応する。 A method for manufacturing the suspension board of FIG. 21 will be described. 24 to 28 are schematic process diagrams showing steps of manufacturing the suspension board of FIG. 21. 24 (a), FIG. 25 (a), FIG. 26 (a), FIG. 27 (a), and FIG. 28 (a) correspond to the B1-B1 line enlarged sectional view of FIG. b), FIG. 25 (b), FIG. 26 (b), FIG. 27 (b) and FIG. 28 (b) correspond to the B2-B2 line enlarged sectional view of FIG. 22 (b), and FIG. FIG. 25C, FIG. 26C, FIG. 27C, and FIG. 28C correspond to the B3-B3 line enlarged sectional view of FIG.

図30(a)〜(c)では、導体パターン61の下地としてベース絶縁層41上に形成されるシード層が太い実線で示される。この場合、図30(b),(c)に示すように、接続端子25,26,31〜36においては、導体パターン61の下面に形成されているシード層がベース絶縁層41の開口部41x,41yおよび支持基板10の開口部10x,10yを通して下方に露出する。これにより、当該露出部に電子機器の端子等を接続することができる。 30A to 30C, the seed layer formed on the base insulating layer 41 as the base of the conductor pattern 61 is indicated by a thick solid line. In this case, as shown in FIG. 30 (b), (c) , in the connecting terminal 25,26,31~36, opening of the seed layer is a base insulating layer 41 formed on the lower surface of the conductive pattern 61 41x , 41y and the openings 10x, 10y of the support substrate 10 are exposed downward. Thereby, the terminal etc. of an electronic device can be connected to the said exposed part.

また、上記の構成においては、金属被覆層17とバリア層70とが同じニッケルからなり、金属被覆層17とバリア層70とが一体的に構成される。バリア層70は金属被覆層17の一部として機能する。金属被覆層17およびバリア層70により導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われる。これにより、金属被覆層17およびバリア層70の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。 Moreover, in said structure, the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 consist of the same nickel, and the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 are comprised integrally. The barrier layer 70 functions as a part of the metal coating layer 17. The metal coating layer 17 and the barrier layer 70 continuously cover the boundary 61c of the conductor patterns 61A and 61B and the vicinity thereof. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the inside of the metal cover layer 17 and the barrier layer 70 from the outside of the insulating cover layer 43. Therefore, occurrence of corrosion at the boundary 61c between the conductor patterns 61A and 61B and in the vicinity thereof is prevented.

また、上記の構成においては、金属被覆層17とバリア層70とが同じニッケルからなり、金属被覆層17とバリア層70とが一体的に構成される。バリア層70は金属被覆層17の一部として機能する。金属被覆層17およびバリア層70により導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍部分が連続的に覆われる。これにより、金属被覆層17およびバリア層70の内部にカバー絶縁層43の外部から空気、水または薬液等の流体が進入することが防止される。したがって、導体パターン61A,61Bの境界61cおよびその近傍における腐食の発生が防止される。 Moreover, in said structure, the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 consist of the same nickel, and the metal coating layer 17 and the barrier layer 70 are comprised integrally. The barrier layer 70 functions as a part of the metal coating layer 17. The metal coating layer 17 and the barrier layer 70 continuously cover the boundary 61c of the conductor patterns 61A and 61B and the vicinity thereof. This prevents fluid such as air, water, or a chemical solution from entering the inside of the metal cover layer 17 and the barrier layer 70 from the outside of the insulating cover layer 43. Therefore, occurrence of corrosion at the boundary 61c between the conductor patterns 61A and 61B and in the vicinity thereof is prevented.

Claims (18)

第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層上に形成され、端子部と前記端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、
前記配線部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、
前記第1の金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分を覆うとともに前記第1の金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないように前記第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、
前記第1の金属被覆層は、前記配線部に接触し、
前記第2の絶縁層は、前記第1の金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触し、
前記第1の金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する、配線回路基板。
A first insulating layer;
A conductor pattern formed on the first insulating layer and having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion;
A first metal coating layer that covers the wiring portion and the terminal portion and is provided so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion;
The second metal coating layer is provided on the first insulating layer so as to cover a portion of the first metal coating layer covering the wiring portion and not to cover a portion of the first metal coating layer covering the terminal portion. With an insulating layer,
The first metal coating layer is in contact with the wiring portion;
The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion,
The first metal coating layer is a printed circuit board having a magnetic property lower than that of nickel.
第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層上に形成され、端子部と前記端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、
前記配線部の一部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、
前記第1の金属被覆層のうち前記配線部の前記一部を覆う部分と前記配線部のうち前記第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記第1の金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないように前記第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、
前記第1の金属被覆層は、前記配線部の前記一部に接触するとともに前記配線部の表面上で前記端子部と前記配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、
前記第2の絶縁層は、前記第1の金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触するとともに前記配線部の前記他の部分に接触し、
前記第1の金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する、配線回路基板。
A first insulating layer;
A conductor pattern formed on the first insulating layer and having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion;
A first metal coating layer that covers a part of the wiring portion and the terminal portion and is provided so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion;
The first metal coating layer covers a portion of the first metal coating layer that covers the part of the wiring portion and another portion of the wiring portion that is not covered by the first metal coating layer, and the first metal coating layer. And a second insulating layer provided on the first insulating layer so as not to cover a portion covering the terminal portion,
The first metal coating layer is in contact with the part of the wiring part and extends to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the terminal part and the wiring part on the surface of the wiring part,
The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion and in contact with the other portion of the wiring portion,
The first metal coating layer is a printed circuit board having a magnetic property lower than that of nickel.
第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層上に形成され、端子部と前記端子部から延びる配線部とを有する導体パターンと、
前記配線部の一部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるように設けられる第1の金属被覆層と、
前記第1の金属被覆層のうち前記配線部の前記一部を覆う部分と前記配線部のうち前記第1の金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記第1の金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないように前記第1の絶縁層上に設けられる第2の絶縁層とを備え、
前記第1の金属被覆層は、前記配線部の前記一部に接触するとともに前記配線部の表面上で前記端子部と前記配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、
前記第2の絶縁層は、前記第1の金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触するとともに前記配線部の前記他の部分に接触し、
前記配線部の全長に対する前記配線部の前記一部を覆う前記第1の金属被覆層の長さの割合は40%以下である、配線回路基板。
A first insulating layer;
A conductor pattern formed on the first insulating layer and having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion;
A first metal coating layer that covers a part of the wiring portion and the terminal portion and is provided so as to continuously extend from the surface of the terminal portion to the surface of the wiring portion;
The first metal coating layer covers a portion of the first metal coating layer that covers the part of the wiring portion and another portion of the wiring portion that is not covered by the first metal coating layer, and the first metal coating layer. And a second insulating layer provided on the first insulating layer so as not to cover a portion covering the terminal portion,
The first metal coating layer is in contact with the part of the wiring part and extends to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the terminal part and the wiring part on the surface of the wiring part,
The second insulating layer is in contact with a portion of the first metal coating layer that covers the wiring portion and in contact with the other portion of the wiring portion,
The ratio of the length of the said 1st metal coating layer which covers the said part of the said wiring part with respect to the full length of the said wiring part is 40% or less.
前記第1の金属被覆層は、前記配線部の表面上で前記端子部と前記配線部との境界上の位置から5μm以上離れた位置まで延びる、請求項2または3記載の配線回路基板。 4. The printed circuit board according to claim 2, wherein the first metal coating layer extends to a position separated by 5 μm or more from a position on a boundary between the terminal portion and the wiring portion on a surface of the wiring portion. 前記第1の金属被覆層は、金、銀、クロム、錫および白金のうち少なくとも1種類の金属を含む、請求項1または2記載の配線回路基板。 3. The printed circuit board according to claim 1, wherein the first metal coating layer includes at least one metal selected from gold, silver, chromium, tin, and platinum. 前記第1の金属被覆層は、ニッケル、金、銀、クロム、錫および白金のうち少なくとも1種類の金属を含む、請求項3記載の配線回路基板。 The printed circuit board according to claim 3, wherein the first metal coating layer contains at least one kind of metal among nickel, gold, silver, chromium, tin, and platinum. 前記第1の金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆う第2の金属被覆層をさらに備える、請求項1〜6のいずれか一項に記載の配線回路基板。 The printed circuit board according to any one of claims 1 to 6, further comprising a second metal coating layer that covers a portion of the first metal coating layer that covers the terminal portion. 前記第1の金属被覆層の少なくとも一部は、互いに積層された第1および第2の金属層により構成される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の配線回路基板。 The printed circuit board according to any one of claims 1 to 7, wherein at least a part of the first metal coating layer is configured by first and second metal layers stacked on each other. 前記第1の金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆う端子バリア層と、
前記端子バリア層を覆う端子表面層とをさらに備え、
前記導体パターンは、銅を含み、
前記端子表面層は、金を含み、
前記端子バリア層は、ニッケルまたはパラジウムを含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の配線回路基板。
A terminal barrier layer covering a portion of the first metal coating layer covering the terminal portion;
A terminal surface layer covering the terminal barrier layer,
The conductor pattern includes copper,
The terminal surface layer includes gold,
The printed circuit board according to claim 1, wherein the terminal barrier layer includes nickel or palladium.
前記第1の金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆うようにかつ前記導体パターンに接触しないように形成された端子表面層をさらに備え、
前記導体パターンは、銅を含み、
前記端子表面層は、金を含み、
前記第1の金属被覆層は、ニッケルを含む、請求項3記載の配線回路基板。
A terminal surface layer formed so as to cover a portion of the first metal coating layer covering the terminal portion and not to contact the conductor pattern;
The conductor pattern includes copper,
The terminal surface layer includes gold,
The printed circuit board according to claim 3, wherein the first metal coating layer contains nickel.
前記第2の絶縁層上に形成される上部導体パターンをさらに備え、
前記上部導体パターンの少なくとも一部は、前記導体パターンに重なる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の配線回路基板。
An upper conductor pattern formed on the second insulating layer;
The printed circuit board according to claim 1, wherein at least a part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern.
前記第2の絶縁層上に形成され、上部端子部と前記上部端子部から延びる上部配線部とを有する上部導体パターンと、
前記上部配線部の一部と前記上部端子部とを覆うとともに前記上部端子部の表面上から前記上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、
前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部の前記一部を覆う部分と前記上部配線部のうち前記上部金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記上部金属被覆層のうち前記上部端子部を覆う部分を覆わないように前記第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、
前記上部導体パターンの少なくとも一部は、前記導体パターンに重なり、
前記上部金属被覆層は、前記上部配線部の前記一部に接触するとともに前記上部配線部の表面上で前記上部端子部と前記上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、
前記第3の絶縁層は、前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部を覆う部分に接触するとともに前記上部配線部の前記他の部分に接触し、
前記上部配線部の全長に対する前記上部配線部の前記一部を覆う前記上部金属被覆層の長さの割合は40%以下である、請求項3記載の配線回路基板。
An upper conductor pattern formed on the second insulating layer and having an upper terminal portion and an upper wiring portion extending from the upper terminal portion;
An upper metal coating layer that covers a part of the upper wiring portion and the upper terminal portion and is provided so as to continuously extend from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion;
Covering the portion of the upper metal coating layer that covers the part of the upper wiring portion and the other portion of the upper wiring portion that is not covered by the upper metal coating layer and the upper portion of the upper metal coating layer A third insulating layer provided on the second insulating layer so as not to cover a portion covering the terminal portion;
At least a part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern,
The upper metal coating layer is in contact with the part of the upper wiring portion and extends to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion on the surface of the upper wiring portion. ,
The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion and in contact with the other portion of the upper wiring portion;
The printed circuit board according to claim 3, wherein a ratio of a length of the upper metal coating layer covering the part of the upper wiring portion to a total length of the upper wiring portion is 40% or less.
前記第2の絶縁層上に形成され、上部端子部と前記上部端子部から延びる上部配線部とを有する上部導体パターンと、
前記上部配線部と前記上部端子部とを覆うとともに前記上部端子部の表面上から前記上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、
前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部を覆う部分を覆うとともに前記上部金属被覆層のうち前記上部端子部を覆う部分を覆わないように前記第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、
前記上部導体パターンの少なくとも一部は、前記導体パターンに重なり、
前記上部金属被覆層は、前記上部配線部に接触し、
前記第3の絶縁層は、前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部を覆う部分に接触し、
前記上部金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する、請求項1または2記載の配線回路基板。
An upper conductor pattern formed on the second insulating layer and having an upper terminal portion and an upper wiring portion extending from the upper terminal portion;
An upper metal covering layer provided to cover the upper wiring portion and the upper terminal portion and to continuously extend from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion;
A third insulation provided on the second insulating layer so as to cover a portion of the upper metal coating layer covering the upper wiring portion and not to cover a portion of the upper metal coating layer covering the upper terminal portion. And further comprising a layer,
At least a part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern,
The upper metal coating layer is in contact with the upper wiring portion;
The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion,
The printed circuit board according to claim 1, wherein the upper metal coating layer has a magnetic property lower than that of nickel.
前記第2の絶縁層上に形成され、上部端子部と前記上部端子部から延びる上部配線部とを有する上部導体パターンと、
前記上部配線部の一部と前記上部端子部とを覆うとともに前記上部端子部の表面上から前記上部配線部の表面上に連続して延びるように設けられる上部金属被覆層と、
前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部の前記一部を覆う部分と前記上部配線部のうち前記上部金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記上部金属被覆層のうち前記上部端子部を覆う部分を覆わないように前記第2の絶縁層上に設けられる第3の絶縁層とをさらに備え、
前記上部導体パターンの少なくとも一部は、前記導体パターンに重なり、
前記上部金属被覆層は、前記上部配線部の前記一部に接触するとともに前記上部配線部の表面上で前記上部端子部と前記上部配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延び、
前記第3の絶縁層は、前記上部金属被覆層のうち前記上部配線部を覆う部分に接触するとともに前記上部配線部の前記他の部分に接触し、
前記上部金属被覆層は、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する、請求項1または2記載の配線回路基板。
An upper conductor pattern formed on the second insulating layer and having an upper terminal portion and an upper wiring portion extending from the upper terminal portion;
An upper metal coating layer that covers a part of the upper wiring portion and the upper terminal portion and is provided so as to continuously extend from the surface of the upper terminal portion to the surface of the upper wiring portion;
Covering the portion of the upper metal coating layer that covers the part of the upper wiring portion and the other portion of the upper wiring portion that is not covered by the upper metal coating layer and the upper portion of the upper metal coating layer A third insulating layer provided on the second insulating layer so as not to cover a portion covering the terminal portion;
At least a part of the upper conductor pattern overlaps the conductor pattern,
The upper metal coating layer is in contact with the part of the upper wiring portion and extends to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the upper terminal portion and the upper wiring portion on the surface of the upper wiring portion. ,
The third insulating layer is in contact with a portion of the upper metal coating layer that covers the upper wiring portion and in contact with the other portion of the upper wiring portion;
The printed circuit board according to claim 1, wherein the upper metal coating layer has a magnetic property lower than that of nickel.
下部絶縁層と、
前記下部絶縁層上に形成された下部導体パターンとをさらに備え、
前記第1の絶縁層は、前記下部導体パターンの少なくとも一部を覆うように前記下部絶縁層上に形成され、
前記導体パターンの少なくとも一部は、前記下部導体パターンに重なる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の配線回路基板。
A lower insulating layer;
Further comprising a lower conductor pattern formed on the lower insulating layer,
The first insulating layer is formed on the lower insulating layer so as to cover at least a part of the lower conductor pattern,
The printed circuit board according to claim 1, wherein at least a part of the conductor pattern overlaps the lower conductor pattern.
端子部と前記端子部から延びる配線部とを有する導体パターンを第1の絶縁層上に形成する工程と、
前記配線部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるようにかつ前記配線部に接触するように、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属を用いて金属被覆層を形成する工程と、
前記金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分を覆うとともに前記金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないようにかつ前記金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触するように前記第1の絶縁層上に第2の絶縁層を形成する工程とを含む、配線回路基板の製造方法。
Forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer;
Covering the wiring part and the terminal part and having a magnetism lower than that of nickel so as to continuously extend from the surface of the terminal part to the surface of the wiring part and to contact the wiring part Forming a metal coating layer using a metal;
Covering the portion of the metal coating layer covering the wiring portion and not covering the portion of the metal coating layer covering the terminal portion and contacting the portion of the metal coating layer covering the wiring portion. Forming a second insulating layer on the first insulating layer. A method for manufacturing a printed circuit board.
端子部と前記端子部から延びる配線部とを有する導体パターンを第1の絶縁層上に形成する工程と、
前記配線部の一部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるようにかつ前記配線部の前記一部に接触するように、ニッケルの磁性よりも低い磁性を有する金属を用いて金属被覆層を形成する工程と、
前記金属被覆層のうち前記配線部の前記一部を覆う部分と前記配線部のうち前記金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないようにかつ前記金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触するとともに前記配線部の前記他の部分に接触するように第2の絶縁層を前記第1の絶縁層上に形成する工程とを含み、
前記金属被覆層を形成する工程において、前記金属被覆層は、前記配線部の表面上で前記端子部と前記配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成される、配線回路基板の製造方法。
Forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer;
Covering a part of the wiring part and the terminal part and extending continuously from the surface of the terminal part to the surface of the wiring part and in contact with the part of the wiring part. Forming a metal coating layer using a metal having magnetism lower than magnetism;
A portion of the metal coating layer that covers the part of the wiring portion and a portion of the wiring portion that is not covered by the metal coating layer and a portion of the metal coating layer that covers the terminal portion. A second insulating layer is formed on the first insulating layer so as not to cover and in contact with the portion of the metal coating layer covering the wiring portion and in contact with the other portion of the wiring portion. Process,
In the step of forming the metal coating layer, the metal coating layer is formed so as to extend to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion on the surface of the wiring portion. A method for manufacturing a printed circuit board.
端子部と前記端子部から延びる配線部とを有する導体パターンを第1の絶縁層上に形成する工程と、
前記配線部の一部と前記端子部とを覆うとともに前記端子部の表面上から前記配線部の表面上に連続して延びるようにかつ前記配線部の前記一部に接触するように金属被覆層を形成する工程と、
前記金属被覆層のうち前記配線部の前記一部を覆う部分と前記配線部のうち前記金属被覆層により覆われない他の部分とを覆うとともに前記金属被覆層のうち前記端子部を覆う部分を覆わないようにかつ前記金属被覆層のうち前記配線部を覆う部分に接触するとともに前記配線部のうち前記他の部分に接触するように第2の絶縁層を前記第1の絶縁層上に形成する工程とを含み、
前記金属被覆層を形成する工程において、前記金属被覆層は、前記配線部の表面上で前記端子部と前記配線部との境界上の位置から3μm以上離れた位置まで延びるように形成され、
前記配線部の全長に対する前記配線部の前記一部を覆う前記金属被覆層の長さの割合は40%以下に設定される、配線回路基板の製造方法。
Forming a conductor pattern having a terminal portion and a wiring portion extending from the terminal portion on the first insulating layer;
A metal coating layer that covers a part of the wiring part and the terminal part and extends continuously from the surface of the terminal part to the surface of the wiring part and contacts the part of the wiring part Forming a step;
A portion of the metal coating layer that covers the part of the wiring portion and a portion of the wiring portion that is not covered by the metal coating layer and a portion of the metal coating layer that covers the terminal portion. A second insulating layer is formed on the first insulating layer so as not to cover and to contact a portion of the metal coating layer covering the wiring portion and to contact the other portion of the wiring portion. Including the steps of:
In the step of forming the metal coating layer, the metal coating layer is formed so as to extend to a position 3 μm or more away from a position on the boundary between the terminal portion and the wiring portion on the surface of the wiring portion,
The method of manufacturing a printed circuit board, wherein a ratio of a length of the metal coating layer covering the part of the wiring portion to a total length of the wiring portion is set to 40% or less.
JP2016139880A 2015-07-31 2016-07-15 Wiring circuit board and its manufacturing method Active JP6807180B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15/223,241 US9940957B2 (en) 2015-07-31 2016-07-29 Printed circuit board and method of manufacturing the same
CN201610619791.5A CN106413240B (en) 2015-07-31 2016-07-29 Wired circuit board and method for manufacturing same

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015152613 2015-07-31
JP2015152613 2015-07-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017034241A true JP2017034241A (en) 2017-02-09
JP6807180B2 JP6807180B2 (en) 2021-01-06

Family

ID=57988817

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016139880A Active JP6807180B2 (en) 2015-07-31 2016-07-15 Wiring circuit board and its manufacturing method

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6807180B2 (en)
CN (1) CN106413240B (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019075503A (en) * 2017-10-18 2019-05-16 住友電気工業株式会社 Printed wiring board and method of manufacturing the same

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005317836A (en) * 2004-04-30 2005-11-10 Nitto Denko Corp Wiring circuit board and method of manufacturing the same
TWI305127B (en) * 2006-10-13 2009-01-01 Phoenix Prec Technology Corp Circuit board structure capable of performing electrica tests and fabrication method thereof
JP2010129803A (en) * 2008-11-28 2010-06-10 Nitto Denko Corp Wiring circuit board and method for manufacturing the same
JP6101151B2 (en) * 2013-05-22 2017-03-22 日東電工株式会社 Suspension board with circuit and manufacturing method thereof
JP6157968B2 (en) * 2013-07-25 2017-07-05 日東電工株式会社 Wiring circuit board and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
CN106413240B (en) 2022-03-04
JP6807180B2 (en) 2021-01-06
CN106413240A (en) 2017-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010135754A (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
CN102006716B (en) Wired circuit board and manufacture method thereof
US9940957B2 (en) Printed circuit board and method of manufacturing the same
CN104732986B (en) Hanging base board assembly sheet with circuit and its manufacturing method
JP2015518229A (en) Grounding form for flexure of disk drive head suspension
US9686869B2 (en) Printed circuit board and method of manufacturing printed circuit board
JP5938223B2 (en) Wiring circuit board and manufacturing method thereof
JP2012023296A (en) Circuit board, method of manufacturing the same, substrate for suspension, suspension, suspension with element and hard disk drive
US9955579B2 (en) Printed circuit board having reduced loss of electric signal and method of manufacturing the same
JP2011198402A (en) Flexure substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive
CN104219872A (en) Wired circuit board
JP6909566B2 (en) Wiring circuit board and its manufacturing method
JP2013186933A (en) Substrate for suspension having support frame
JP2012243382A (en) Flexure substrate for suspension, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP6688667B2 (en) Wiring circuit board and manufacturing method thereof
JP6807180B2 (en) Wiring circuit board and its manufacturing method
JP2007317900A (en) Wiring circuit board and manufacturing method therefor
JP5174785B2 (en) Printed circuit board
CN107404800B (en) Printed circuit board and method for manufacturing the same
JP6021211B2 (en) Suspension board, suspension, suspension with element, and hard disk drive
JP5382558B2 (en) Suspension board, suspension, suspension with head, and hard disk drive
JP7021329B2 (en) Wiring circuit board and its manufacturing method
JP6037216B2 (en) Flexure substrate for suspension
JP5728837B2 (en) Suspension substrate, method for manufacturing suspension substrate, suspension, suspension with element, and hard disk drive
JP2010025629A (en) Probe card

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161220

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190701

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200318

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200407

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200605

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20201117

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20201207

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6807180

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250