JP2017034188A5 - - Google Patents
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Description
前記の目的を達成するための請求項１に記載の発明は、基板を保持するための基板保持ユニットと、前記基板を処理するための処理液を吐出する処理液ノズルと、前記処理液ノズルに接続され、処理液供給ユニットからの処理液を前記処理液ノズルに供給する処理液配管と、前記処理液配管を開閉するための開閉バルブと、前記開閉バルブの下流側または上流側に設定された分岐位置で前記処理液配管に分岐接続された分岐配管と、前記処理液供給ユニットから前記処理液配管に供給された処理液を、前記処理液配管における前記分岐位置よりも下流側の下流側部分に導く状態と前記分岐配管に導く状態との間で切り換えるための切換えユニットと、前記開閉バルブおよび前記切換えユニットを制御して、前記開閉バルブを開きかつ前記処理液配管に供給される処理液を前記分岐位置から前記下流側部分に導くことにより、前記処理液ノズルからプリディスペンスのために処理液を吐出するプリディスペンスステップと、前記開閉バルブを開状態に保持したままの状態で、前記処理液配管に供給される処理液を、前記分岐位置から前記分岐配管に導くことにより、前記処理液ノズルからの処理液の吐出を停止させる吐出停止ステップと、前記開閉バルブを開状態に保持したままの状態で、前記処理液配管に供給される処理液を前記分岐位置から前記下流側部分に導くことにより、前記処理液ノズルから前記基板に向けて処理液を吐出する処理液吐出ステップとを実行する制御ユニットとを含む、基板処理装置を提供する。 The invention according to claim 1 for achieving the above object includes a substrate holding unit for holding a substrate, a processing liquid nozzle for discharging a processing liquid for processing the substrate, and a processing liquid nozzle. are connected, set the processing liquid from the processing liquid supply unit and the process liquid pipe for supplying the processing liquid nozzle, and the opening and closing valve for opening and closing the treatment liquid pipe, a downstream side or upstream side of the front Symbol closing valves a branch pipe which is branched and connected to the processing liquid pipe at the branching position is, the supplied process liquid to the process liquid pipe from the processing liquid supply unit, downstream of the downstream side of the branch position in the process liquid pipe A switching unit for switching between a state leading to the side portion and a state leading to the branch pipe, and controlling the opening / closing valve and the switching unit to open the opening / closing valve and the processing By leading the processing liquid supplied to the pipe from the branch position to the downstream portion, a pre-dispensing step for discharging the processing liquid for pre-dispensing from the processing liquid nozzle and the open / close valve are held open. A discharge stop step for stopping the discharge of the processing liquid from the processing liquid nozzle by guiding the processing liquid supplied to the processing liquid pipe from the branch position to the branch pipe in a state as it is, and the open / close valve The processing liquid supplied to the processing liquid pipe is guided from the branch position to the downstream portion while the liquid is kept open, so that the processing liquid is discharged from the processing liquid nozzle toward the substrate. There is provided a substrate processing apparatus including a control unit that executes a processing liquid discharge step.
したがって、開閉バルブ内で発生したパーティクルを含む処理液が基板に供給されることを確実に防止できる。
請求項２に記載の発明は、前記基板処理装置は、前記処理液ノズルから吐出される処理液を前記基板の上面に供給する処理位置と、前記処理液ノズルから吐出される処理液を排液するためのプリディスペンス位置との間で、前記処理液ノズルを移動させるための処理液ノズル移動ユニットをさらに含み、前記制御ユニットによって実行される前記プリディスペンスステップは、前記処理液ノズルを前記プリディスペンス位置に配置した状態で前記処理液ノズルから処理液を吐出するステップを含み、前記制御ユニットは、前記処理液ノズルからの処理液吐出が停止されている状態で、前記処理液ノズル移動ユニットを制御して、前記処理液ノズルを前記プリディスペンス位置から前記処理位置に移動させるノズル移動ステップをさらに実行し、前記制御ユニットによって実行される前記処理液吐出ステップは、前記処理液ノズルを前記処理位置に配置した状態で前記処理液ノズルから処理液を吐出するステップを含む、請求項１に記載の基板処理装置である。
Therefore, it is possible to reliably prevent the processing liquid containing particles generated in the opening / closing valve from being supplied to the substrate.
According to a second aspect of the present invention, the substrate processing apparatus drains the processing liquid supplied from the processing liquid nozzle to the upper surface of the substrate and the processing liquid discharged from the processing liquid nozzle. And a pre-dispensing step for moving the processing liquid nozzle between the processing liquid nozzle and the pre-dispensing step executed by the control unit. A step of discharging the processing liquid from the processing liquid nozzle in a state where the processing liquid nozzle is disposed, and the control unit controls the processing liquid nozzle moving unit in a state where the discharging of the processing liquid from the processing liquid nozzle is stopped. A nozzle moving step of moving the processing liquid nozzle from the pre-dispense position to the processing position. The treatment liquid ejection steps performed by the control unit includes a step of ejecting the treatment liquid from the treatment liquid nozzle the treatment liquid nozzle in a state disposed in the processing position, the substrate processing apparatus according to claim 1 It is.
請求項５に記載の発明は、前記圧力損失変更ユニットは、前記下流側部分の開度を調整するための開度調整バルブを含み、前記開度調整バルブをその開度が相対的に低い低開度状態とすることにより前記大圧力損失状態を実現し、かつ前記開度調整バルブをその開度が相対的に高い高開度状態とすることにより前記小圧力損失状態を実現する、請求項４に記載の基板処理装置である。
請求項６に記載の発明は、前記開度調整バルブは、前記処理液配管において前記開閉バルブよりも下流側に配置されている、請求項５に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、内部でパーティクルが発生する可能性がない開度調整バルブが、開閉バルブよりも処理液ノズル側に配置されている。すなわち、処理液配管において開閉バルブと処理液ノズルとの間に開度調整バルブが配置されている。そのため、開閉バルブの内部でパーティクルが発生した場合であっても、そのパーティクルの処理液ノズルへのダイレクトな供給が阻害される。これにより、パーティクルが処理液ノズルに供給されるのを抑制できる。
According to a fifth aspect of the present invention, the pressure loss changing unit includes an opening degree adjusting valve for adjusting an opening degree of the downstream portion, and the opening degree adjusting valve has a relatively low opening degree. The high pressure loss state is realized by setting an opening state, and the small pressure loss state is realized by setting the opening adjustment valve to a high opening state where the opening degree is relatively high. 4. The substrate processing apparatus according to 4 .
A sixth aspect of the present invention is the substrate processing apparatus according to the fifth aspect, wherein the opening degree adjusting valve is disposed downstream of the on-off valve in the processing liquid piping.
According to this configuration, the opening degree adjusting valve that does not generate particles inside is disposed closer to the treatment liquid nozzle than the opening / closing valve. That is, an opening degree adjusting valve is disposed between the open / close valve and the processing liquid nozzle in the processing liquid piping. Therefore, even when particles are generated inside the opening / closing valve, direct supply of the particles to the treatment liquid nozzle is hindered. Thereby, it can suppress that a particle is supplied to a process liquid nozzle.
請求項７に記載の発明は、前記切換えユニットは、前記分岐配管を開閉するための分岐配管バルブを含み、前記制御ユニットは、前記吐出停止ステップにおいて前記分岐配管バルブを開き、かつ前記プリディスペンスステップおよび前記処理液吐出ステップにおいて前記分岐配管バルブを閉じる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置である。 According to a seventh aspect of the present invention, the switching unit includes a branch pipe valve for opening and closing the branch pipe, the control unit opens the branch pipe valve in the discharge stop step, and the pre-dispensing step. and closing the branch line valve in the treatment liquid ejection step, a substrate processing apparatus according to any one of claims 1-6.
請求項８に記載の発明は、前記分岐位置が、前記処理液配管において前記開閉バルブの上流側に設定されている、請求項１〜７のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、分岐位置を開閉バルブよりも上流側に配置するので、開閉バルブの内部で発生したパーティクルが分岐配管に流入するのを確実に防止できる。これにより、分岐配管を流通する処理液を清浄に保つことができる。
請求項９に記載のように、前記分岐位置が、前記処理液配管において前記開閉バルブの下流側に設定されていてもよい。
The invention according to claim 8, wherein the branching position, in the process liquid pipe is set to the upper stream side of the on-off valve is in the substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 7 .
According to this arrangement, since the arrangement to the upper stream side than the branch position off valve can be reliably prevented particles generated inside of the opening and closing valve to flow into the branch pipe. Thereby, the process liquid which distribute | circulates branch piping can be kept clean.
According to a ninth aspect of the present invention, the branch position may be set on the downstream side of the on-off valve in the processing liquid piping.
請求項１０に記載の発明は、前記下流側部分は、前記分岐位置よりも上下方向に高い高位置部分を一部に有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、下流側部分の一部に高位置部分を設けることにより、高位置部分の高低差による処理液の水頭圧による圧力損失がさらに生じる。下流側部分に供給される処理液の供給圧が、高位置部分の高低差による処理液の水頭圧を含んだ圧力損失を下回ると、分岐位置と高位置部分との高低差を処理液が乗り越えることができない。一方、下流側部分に供給される処理液の供給圧が、高位置部分の高低差による処理液の水頭圧を含んだ圧力損失を上回ると、分岐位置と高位置部分との高低差を処理液が乗り越えることができ、処理液ノズルから処理液が吐出される。
The invention according to claim 10 is the substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 9 , wherein the downstream portion has a high position portion that is higher in a vertical direction than the branch position. is there.
According to this configuration, by providing the high position portion at a part of the downstream portion, pressure loss due to the head pressure of the processing liquid due to the height difference of the high position portion further occurs. If the supply pressure of the processing liquid supplied to the downstream part falls below the pressure loss including the head pressure of the processing liquid due to the difference in height of the high position part, the processing liquid will overcome the height difference between the branch position and the high position part. I can't. On the other hand, if the supply pressure of the processing liquid supplied to the downstream part exceeds the pressure loss including the head pressure of the processing liquid due to the height difference in the high position part, the difference in height between the branch position and the high position part is indicated. And the processing liquid is discharged from the processing liquid nozzle.
請求項１１に記載の発明は、前記処理液供給ユニットは、処理液が循環する循環配管を含み、前記処理液配管の上流端が前記循環配管に接続され、かつ前記分岐配管の下流端が前記循環配管に接続されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、分岐配管を流通する処理液を、循環配管に戻すことができる。
Invention of claim 1 1, wherein the processing liquid supply unit includes a circulation pipe which processing solution is circulated, the upstream end of the treatment liquid pipe is connected to the circulation pipe, and the downstream end of the branch pipe It is a substrate processing apparatus as described in any one of Claims 1-10 connected to the said circulation piping.
According to this structure, the process liquid which distribute | circulates branch piping can be returned to circulation piping.
前記の目的を達成するための請求項１２に記載の発明は、処理液ノズルから基板に向けて処理液を吐出する処理液吐出方法であって、
前記処理液ノズルに処理液を供給する処理液配管に供給される処理液を、前記処理液配管において前記処理液配管を開閉するための開閉バルブの下流側または上流側に設定された分岐位置から、前記処理液配管における前記分岐位置よりも下流側の下流側部分に導き、かつ前記開閉バルブを開くことにより、前記処理液ノズルからプリディスペンスのために処理液を吐出するプリディスペンスステップと、前記開閉バルブを開状態に保持したままの状態で、前記処理液配管に供給される処理液を、前記分岐位置から、当該分岐位置において前記処理液配管に分岐接続された分岐配管に導くことにより、前記処理液ノズルからの処理液の吐出を停止させる吐出停止ステップと、前記開閉バルブを開状態に保持したままの状態で、前記処理液配管に供給される処理液を前記分岐位置から前記下流側部分に導くことにより、前記処理液ノズルから前記基板に向けて処理液を吐出する処理液吐出ステップとを含む、処理液吐出方法を提供する。
The invention according to claim 1 2 in order to achieve the object, there is provided a treatment liquid ejection method of ejecting the processing liquid toward the treatment liquid nozzle onto the substrate,
A processing liquid supplied to a processing liquid pipe for supplying a processing liquid to the processing liquid nozzle is supplied from a branch position set on the downstream side or the upstream side of an opening / closing valve for opening and closing the processing liquid pipe in the processing liquid pipe. A pre-dispensing step of discharging the processing liquid for pre-dispensing from the processing liquid nozzle by leading to a downstream portion downstream of the branch position in the processing liquid piping and opening the open / close valve; By guiding the processing liquid supplied to the processing liquid pipe from the branch position to the branch pipe branched and connected to the processing liquid pipe at the branch position with the open / close valve held open, A discharge stopping step for stopping the discharge of the processing liquid from the processing liquid nozzle; and the processing liquid pipe in a state in which the open / close valve is kept open. By directing the supplied process liquid from the branch position to the downstream portion, and a treatment liquid ejection step of ejecting the processing liquid toward the substrate from the treatment liquid nozzle, to provide a treatment liquid ejection method.
Claims (12)
前記基板を処理するための処理液を吐出する処理液ノズルと、
前記処理液ノズルに接続され、処理液供給ユニットからの処理液を前記処理液ノズルに供給する処理液配管と、
前記処理液配管を開閉するための開閉バルブと、
前記開閉バルブの下流側または上流側に設定された分岐位置で前記処理液配管に分岐接続された分岐配管と、
前記処理液供給ユニットから前記処理液配管に供給された処理液を、前記処理液配管における前記分岐位置よりも下流側の下流側部分に導く状態と前記分岐配管に導く状態との間で切り換えるための切換えユニットと、
前記開閉バルブおよび前記切換えユニットを制御して、前記開閉バルブを開きかつ前記処理液配管に供給される処理液を前記分岐位置から前記下流側部分に導くことにより、前記処理液ノズルからプリディスペンスのために処理液を吐出するプリディスペンスステップと、前記開閉バルブを開状態に保持したままの状態で、前記処理液配管に供給される処理液を、前記分岐位置から前記分岐配管に導くことにより、前記処理液ノズルからの処理液の吐出を停止させる吐出停止ステップと、前記開閉バルブを開状態に保持したままの状態で、前記処理液配管に供給される処理液を前記分岐位置から前記下流側部分に導くことにより、前記処理液ノズルから前記基板に向けて処理液を吐出する処理液吐出ステップとを実行する制御ユニットとを含む、基板処理装置。 A substrate holding unit for holding the substrate;
A processing liquid nozzle for discharging a processing liquid for processing the substrate;
A treatment liquid pipe connected to the treatment liquid nozzle and supplying a treatment liquid from a treatment liquid supply unit to the treatment liquid nozzle;
An open / close valve for opening and closing the processing liquid pipe;
And branch connected to the branch pipes to the processing liquid pipe at the set branch located downstream or upstream side of the front Symbol closing valves,
For switching between a state for guiding the treatment liquid processing liquid supplied from the supply unit to the treatment liquid pipe, the said state leading to the downstream portion of the downstream side of the branch position branch pipe in the process liquid pipe Switching unit of
By controlling the on-off valve and the switching unit to open the on-off valve and guide the processing liquid supplied to the processing liquid piping from the branch position to the downstream portion, the pre-dispensing from the processing liquid nozzle A pre-dispensing step for discharging the processing liquid, and guiding the processing liquid supplied to the processing liquid pipe from the branch position to the branch pipe with the open / close valve held open. A discharge stop step for stopping the discharge of the processing liquid from the processing liquid nozzle; and the processing liquid supplied to the processing liquid pipe while the open / close valve is kept open, from the branch position to the downstream side And a control unit for performing a processing liquid discharge step for discharging the processing liquid from the processing liquid nozzle toward the substrate by being guided to the portion. The substrate processing apparatus.
前記制御ユニットによって実行される前記プリディスペンスステップは、前記処理液ノズルを前記プリディスペンス位置に配置した状態で前記処理液ノズルから処理液を吐出するステップを含み、
前記制御ユニットは、前記処理液ノズルからの処理液吐出が停止されている状態で、前記処理液ノズル移動ユニットを制御して、前記処理液ノズルを前記プリディスペンス位置から前記処理位置に移動させるノズル移動ステップをさらに実行し、
前記制御ユニットによって実行される前記処理液吐出ステップは、前記処理液ノズルを前記処理位置に配置した状態で前記処理液ノズルから処理液を吐出するステップを含む、請求項１に記載の基板処理装置。 The substrate processing apparatus is provided between a processing position for supplying the processing liquid discharged from the processing liquid nozzle to the upper surface of the substrate and a pre-dispensing position for discharging the processing liquid discharged from the processing liquid nozzle. And further includes a processing liquid nozzle moving unit for moving the processing liquid nozzle,
The pre-dispensing step executed by the control unit includes a step of discharging the processing liquid from the processing liquid nozzle in a state where the processing liquid nozzle is disposed at the pre-dispensing position,
The control unit controls the processing liquid nozzle moving unit to move the processing liquid nozzle from the pre-dispense position to the processing position in a state where the processing liquid discharge from the processing liquid nozzle is stopped. Perform further travel steps,
The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the processing liquid discharge step executed by the control unit includes a step of discharging a processing liquid from the processing liquid nozzle in a state where the processing liquid nozzle is disposed at the processing position. .
前記制御ユニットは、前記吐出停止ステップにおいて、前記圧力損失変更ユニットをその圧力損失が相対的に大きい大圧力損失状態にし、かつ前記プリディスペンスステップおよび前記処理液吐出ステップにおいて、前記圧力損失変更ユニットをその圧力損失が相対的に小さい小圧力損失状態にする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。 The switching unit includes a pressure loss changing unit that changes a pressure loss required for liquid to flow through the downstream portion,
The control unit puts the pressure loss changing unit into a large pressure loss state in which the pressure loss is relatively large in the discharge stop step, and the pressure loss changing unit in the pre-dispensing step and the processing liquid discharging step. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the pressure loss is a small pressure loss state that is relatively small.
前記開度調整バルブをその開度が相対的に低い低開度状態とすることにより前記大圧力損失状態を実現し、かつ前記開度調整バルブをその開度が相対的に高い高開度状態とすることにより前記小圧力損失状態を実現する、請求項４に記載の基板処理装置。 The pressure loss changing unit includes an opening adjustment valve for adjusting the opening of the downstream portion,
The large pressure loss state is realized by setting the opening adjustment valve to a low opening state in which the opening degree is relatively low, and the opening adjustment valve is in a high opening state in which the opening degree is relatively high. The substrate processing apparatus according to claim 4 , wherein the small pressure loss state is realized.
前記制御ユニットは、前記吐出停止ステップにおいて前記分岐配管バルブを開き、かつ前記プリディスペンスステップおよび前記処理液吐出ステップにおいて前記分岐配管バルブを閉じる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置。 The switching unit includes a branch pipe valve for opening and closing the branch pipe,
The substrate according to any one of claims 1 to 6 , wherein the control unit opens the branch pipe valve in the discharge stop step and closes the branch pipe valve in the pre-dispensing step and the processing liquid discharge step. Processing equipment.
前記処理液配管の上流端が前記循環配管に接続され、かつ前記分岐配管の下流端が前記循環配管に接続されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基板処理装置。 The processing liquid supply unit includes a circulation pipe through which the processing liquid circulates,
It said upstream end of the process liquid pipe is connected to the circulation pipe, and the branch downstream end of the pipe is connected to the circulation pipe, the substrate processing apparatus according to any one of claims 1-10.
前記処理液ノズルに処理液を供給する処理液配管に供給される処理液を、前記処理液配管において前記処理液配管を開閉するための開閉バルブの下流側または上流側に設定された分岐位置から、前記処理液配管における前記分岐位置よりも下流側の下流側部分に導き、かつ前記開閉バルブを開くことにより、前記処理液ノズルからプリディスペンスのために処理液を吐出するプリディスペンスステップと、
前記開閉バルブを開状態に保持したままの状態で、前記処理液配管に供給される処理液を、前記分岐位置から、当該分岐位置において前記処理液配管に分岐接続された分岐配管に導くことにより、前記処理液ノズルからの処理液の吐出を停止させる吐出停止ステップと、
前記開閉バルブを開状態に保持したままの状態で、前記処理液配管に供給される処理液を前記分岐位置から前記下流側部分に導くことにより、前記処理液ノズルから前記基板に向けて処理液を吐出する処理液吐出ステップとを含む、処理液吐出方法。 A processing liquid discharge method for discharging a processing liquid from a processing liquid nozzle toward a substrate,
A processing liquid supplied to a processing liquid pipe for supplying a processing liquid to the processing liquid nozzle is supplied from a branch position set on the downstream side or the upstream side of an opening / closing valve for opening and closing the processing liquid pipe in the processing liquid pipe. A pre-dispensing step of discharging the processing liquid for pre-dispensing from the processing liquid nozzle by leading to a downstream portion downstream of the branch position in the processing liquid piping and opening the open / close valve;
By guiding the processing liquid supplied to the processing liquid pipe from the branch position to the branch pipe branched and connected to the processing liquid pipe at the branch position while the open / close valve is kept open. A discharge stop step for stopping discharge of the processing liquid from the processing liquid nozzle;
With the open / close valve held open, the processing liquid supplied to the processing liquid pipe is guided from the branch position to the downstream portion, whereby the processing liquid is directed from the processing liquid nozzle toward the substrate. And a processing liquid discharging step for discharging the processing liquid.
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