JP2017031233A - Polyethylene film and package using the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyethylene film being a single layer, having different physical properties in front and rear faces, and allowing preparation of a package only by the single layered polyethylene film, in place of a laminate film used in a conventional package.SOLUTION: A polyethylene film is obtained by irradiation of electron beams on only one surface. The polyethylene film includes a low-density polyethylene with density of 0.91 g/cmor less. Crosslinking density of the low-density polyethylene is different between the surface with irradiation of the electron beam and the other surface without irradiation of the electron beam.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ポリエチレンフィルムに関し、より詳細には、表裏で物性が異なる単層のポリエチレンフィルム、およびそれを用いた包装体に関する。   The present invention relates to a polyethylene film, and more particularly to a single-layer polyethylene film having different physical properties on the front and back sides and a package using the same.

ポリエチレンからなるフィルム(ポリエチレンフィルム)は、適度な柔軟性をもち、透明性、防湿性、耐薬品性等に優れるとともに、安価であることから、各種の包装材料に使用されている。特に、ポリエチレンの融点は、種類によっても多少ことなるが概ね100〜140℃程度であるため、包装材料分野ではシーラントフィルムとして使用されるのが一般的である。   A film made of polyethylene (polyethylene film) has moderate flexibility, is excellent in transparency, moisture resistance, chemical resistance, and the like, and is inexpensive, and thus is used in various packaging materials. In particular, polyethylene has a melting point of about 100 to 140 ° C. depending on the type, but it is generally used as a sealant film in the packaging material field.

一方、他の熱可塑性樹脂と比較して、ポリエチレンは耐熱性が劣り、また強度的にも不十分であることから、包装材料として用いる際は、ポリエステルフィルムやナイロンフィルム等の耐熱性および強度に優れる樹脂フィルムとポリエチレンフィルムとをラミネートした積層フィルムとして使用されており、ポリエチレンフィルム側を包装体の内側になるようにして積層フィルムの端部をヒートシールすることにより包装体を作製することが行われている(例えば、特開2005−104525号公報)。   On the other hand, compared to other thermoplastic resins, polyethylene is inferior in heat resistance and inadequate in strength, so when used as a packaging material, the heat resistance and strength of polyester film, nylon film, etc. It is used as a laminated film in which an excellent resin film and polyethylene film are laminated, and it is possible to produce a package by heat-sealing the end of the laminated film with the polyethylene film side inside the package. (For example, JP-A-2005-104525).

ところで、近年、循環型社会の構築を求める声の高まりとともに、包装材料をリサイクルして使用することが試みられている。しかしながら、上記のような異種の樹脂フィルムを貼り合わせた積層フィルムでは樹脂の種類ごとに分離することが難しく、リサイクルに適していないという課題があった。また、積層フィルムは、一方ないし両方のフィルムに接着剤を塗布して両者を貼り合わせる工程を経て製造されるため、材料およびエネルギー消費の観点からは、より環境負荷の少ない包装材料を使用したいという要求もあった。   By the way, in recent years, with the increasing demand for the construction of a recycling society, attempts have been made to recycle and use packaging materials. However, the laminated film in which the above-described different types of resin films are bonded together has a problem that it is difficult to separate each type of resin and is not suitable for recycling. In addition, since the laminated film is manufactured through a process of applying an adhesive to one or both films and bonding them together, it is desired to use a packaging material with less environmental impact from the viewpoint of material and energy consumption. There was also a request.

特開2005−104525号公報JP 2005-104525 A

本発明者らは今般、単層のポリエチレンフィルムの一方の面に電子線を照射することによって、電子線が照射されたフィルム表面近傍のポリエチレンを硬化ないし架橋することができ、その結果、表裏で異なる物性を有するポリエチレンフィルムが実現できることがわかった。さらに、このような表裏で物性が異なる単層のポリエチレンフィルムを使用すれば、従来包装体に使用されていた積層フィルムに代えて、単層のポリエチレンフィルムのみによって包装体を作製できるとの知見を得た。本発明はかかる知見によるものである。   The present inventors can now cure or crosslink polyethylene near the surface of the film irradiated with the electron beam by irradiating one surface of the single-layer polyethylene film. It was found that polyethylene films having different physical properties can be realized. Furthermore, using such a single-layer polyethylene film with different physical properties on the front and back, the knowledge that instead of the laminated film conventionally used for packaging, a packaging body can be produced only with a single-layer polyethylene film. Obtained. The present invention is based on this finding.

したがって、本発明の目的は、従来包装体に使用されていた積層フィルムに代えて、単層のポリエチレンフィルムのみによって包装体を作製できる、表裏で物性が異なる単層のポリエチレンフィルムを提供することである。また、本発明の別の目的は、そのようなポリエチレンフィルムを使用した包装体を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a single-layer polyethylene film having different physical properties on the front and back sides, which can be produced by using only a single-layer polyethylene film in place of the laminated film conventionally used in the package. is there. Another object of the present invention is to provide a package using such a polyethylene film.

本発明によるポリエチレンフィルムは、一方の面にのみ電子線が照射されてなるポリエチレンフィルムであって、密度0.91g/cm以下の低密度ポリエチレンを含んでなり、電子線が照射された面と、電子線が照射されていない他方の面とで、低密度ポリエチレンの架橋密度が異なることを特徴とするものである。 The polyethylene film according to the present invention is a polyethylene film formed by irradiating an electron beam only on one surface, comprising a low density polyethylene having a density of 0.91 g / cm 3 or less, and a surface irradiated with an electron beam. The cross-link density of the low density polyethylene is different between the other surface not irradiated with the electron beam.

また、本発明によるポリエチレンフィルムにおいては、低密度ポリエチレンが直鎖状構造を有することが好ましい。   Moreover, in the polyethylene film by this invention, it is preferable that low density polyethylene has a linear structure.

また、本発明によるポリエチレンフィルムにおいては、ポリエチレンフィルムにおける低密度ポリエチレンの含有量が、10質量%以上、100質量%以下であることが好ましい。   Moreover, in the polyethylene film by this invention, it is preferable that content of the low density polyethylene in a polyethylene film is 10 mass% or more and 100 mass% or less.

また、本発明によるポリエチレンフィルムにおいては、電子線の線量が20〜1000kGyであることが好ましい。   Moreover, in the polyethylene film by this invention, it is preferable that the dose of an electron beam is 20-1000 kGy.

また、本発明によるポリエチレンフィルムにおいては、電子線の加速電圧が30〜300kVであることが好ましい。   Moreover, in the polyethylene film by this invention, it is preferable that the acceleration voltage of an electron beam is 30-300 kV.

また、本発明によるポリエチレンフィルムにおいては、ゲル分率が30〜80%であることが好ましい。   Moreover, in the polyethylene film by this invention, it is preferable that a gel fraction is 30 to 80%.

また、本発明の別の態様によるポリエチレン積層フィルムは、上記した電子線を照射したポリエチレンフィルムと、前記ポリエチレンフィルムの前記電子線照射が行われていない面側に、両面とも電子線が照射されていないポリエチレンフィルムを貼り合わせたものである。   Further, in the polyethylene laminated film according to another aspect of the present invention, the electron beam is irradiated on both sides of the polyethylene film irradiated with the electron beam and the surface of the polyethylene film where the electron beam irradiation is not performed. There is no polyethylene film pasted together.

また、本発明によるポリエチレン積層フィルムにおいては、前記一方の面にのみ電子線が照射されてなるポリエチレンフィルムと、両面とも電子線が照射されていないポリエチレンフィルムとの間に、バリア膜が設けられてなることが好ましい。   Further, in the polyethylene laminated film according to the present invention, a barrier film is provided between the polyethylene film irradiated with the electron beam only on the one surface and the polyethylene film irradiated with the electron beam on both surfaces. It is preferable to become.

また、本発明の別の態様による包装体は、上記した電子線を照射したポリエチレンフィルムからなる包装体であって、前記ポリエチレンフィルムの前記電子線照射が行われていない面側がヒートシールされてなるものである。   Moreover, the packaging body by another aspect of this invention is a packaging body which consists of an above-described polyethylene film irradiated with the electron beam, Comprising: The surface side in which the said electron beam irradiation of the said polyethylene film is not performed is heat-sealed. Is.

また、本発明の別の態様による包装体は、上記したポリエチレン積層フィルムからなる包装体であって、前記積層フィルムの両面とも電子線が照射されていないポリエチレンフィルム側が、ヒートシールされてなるものである。   Moreover, the package by another aspect of this invention is a package which consists of an above-described polyethylene laminated film, Comprising: The polyethylene film side to which the electron beam is not irradiated on both surfaces of the said laminated film is heat-sealed. is there.

本発明によれば、ポリエチレンフィルムの一方の面に電子線を照射することによって、電子線が照射されたフィルム表面近傍のポリエチレンを硬化ないし架橋することができ、その結果、表裏でポリエチレンの架橋密度が異なるような単層のポリエチレンフィルムを実現できる。電子線照射によって通常のポリエチレンよりも架橋密度が高くなったポリエチレンフィルム表面は耐熱性および強度が向上するため、包装体の外層として要求される物性を満足でき、電子線が照射されていない他方の面は、従来のポリエチレンフィルムと同様の物性を有するため、包装体の内層に要求されるシーラント性や柔軟性を維持することができる。そのため、このようなポリエチレンフィルムを使用すれば、包装体に使用されていた積層フィルムに代えて、単層のポリエチレンフィルムのみによって包装体を作製できる。さらに、電子線の照射により、ポリエチレンフィルム表面のぬれ性を向上させることができるため、フィルム表面の印刷適性も向上させることができる。   According to the present invention, by irradiating one surface of a polyethylene film with an electron beam, the polyethylene in the vicinity of the film surface irradiated with the electron beam can be cured or crosslinked, and as a result, the crosslink density of polyethylene on the front and back sides. It is possible to realize a single-layer polyethylene film having different values. The surface of the polyethylene film whose crosslink density is higher than that of ordinary polyethylene by electron beam irradiation is improved in heat resistance and strength, so that it can satisfy the physical properties required for the outer layer of the package, and the other side not irradiated with electron beam. Since the surface has the same physical properties as a conventional polyethylene film, the sealant property and flexibility required for the inner layer of the package can be maintained. Therefore, if such a polyethylene film is used, it can replace with the laminated | multilayer film used for the packaging body, and can produce a packaging body only with a single layer polyethylene film. Furthermore, since the wettability of the polyethylene film surface can be improved by electron beam irradiation, the printability of the film surface can also be improved.

本発明によるポリエチレンフィルムの断面概略図である。1 is a schematic cross-sectional view of a polyethylene film according to the present invention. 本発明の一実施形態によるポリエチレン積層フィルムの断面概略図である。It is a section schematic diagram of the polyethylene lamination film by one embodiment of the present invention. 本発明の他の実施形態によるポリエチレン積層フィルムの断面概略図である。It is the cross-sectional schematic of the polyethylene laminated film by other embodiment of this invention.

<定義>
本明細書において、配合を示す「部」、「%」、「比」などは特に断らない限り質量基準である。また、密度が0.940g/cm以上のポリエチレンを高密度ポリエチレン、密度が0.925g/cm以上、0.940g/cm以下のポリエチレンを中密度ポリエチレン、密度が0.925g/cm未満のポリエチレンを低密度ポリエチレンとする。
<Definition>
In the present specification, “part”, “%”, “ratio” and the like indicating the composition are based on mass unless otherwise specified. The density is 0.940 g / cm 3 or more polyethylene high density polyethylene, density 0.925 g / cm 3 or more, 0.940 g / cm 3 or less of polyethylene medium density polyethylene, density 0.925 g / cm 3 Less than polyethylene is defined as low density polyethylene.

<ポリエチレンフィルム>
本発明によるポリエチレンフィルムを図面を参照しながら説明する。図1は、本発明によるポリエチレンフィルムの断面概略図である。ポリエチレンフィルム1は、一方の面10にのみ電子線が照射されており、電子線が照射された面10と、電子線が照射されていない他方の面20とで、ポリエチレンの架橋密度が異なっている。
<Polyethylene film>
The polyethylene film according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a polyethylene film according to the present invention. The polyethylene film 1 is irradiated with an electron beam only on one surface 10, and the cross-linking density of polyethylene is different between the surface 10 irradiated with the electron beam and the other surface 20 not irradiated with the electron beam. Yes.

電子線の照射の有無によりポリエチレンの架橋密度が異なる理由は定かではないが以下のように考えられる。すなわち、ポリエチレンに電子線が照射されると、フィルム表面近傍のポリエチレン中の炭素−水素結合が切断され、切断された結合末端にラジカルが発生する。発生したラジカルは、分子鎖の分子運動により、他のポリエチレン分子鎖に接触し、水素原子を引き抜いてポリエチレン分子鎖中の炭素原子と結合し、その結果、架橋構造が形成されるものと考えられる。   The reason why the crosslink density of polyethylene differs depending on whether or not the electron beam is irradiated is not clear, but is considered as follows. That is, when an electron beam is irradiated to polyethylene, the carbon-hydrogen bond in polyethylene near the film surface is cut, and radicals are generated at the cut bond ends. The generated radicals are considered to come into contact with other polyethylene molecular chains due to the molecular motion of the molecular chains, pull out hydrogen atoms and bond with carbon atoms in the polyethylene molecular chains, resulting in the formation of a crosslinked structure. .

ポリエチレンフィルムは、通常、加熱すると収縮する傾向があるが、架橋密度が高くなると寸法安定性が向上する傾向にある。そのため、表裏で架橋密度が異なるポリエチレンフィルムでは、加熱するとバイメタルのようにカールする。したがって、ポリエチレンフィルムの表裏で架橋密度が異なっていることを確認する簡易的な方法としては、得られたポリエチレンフィルムを加熱することで確認することができる。   Polyethylene films usually tend to shrink when heated, but dimensional stability tends to improve as the crosslink density increases. For this reason, polyethylene films with different crosslink densities on the front and back surfaces curl like a bimetal when heated. Therefore, as a simple method for confirming that the crosslink density is different between the front and back surfaces of the polyethylene film, it can be confirmed by heating the obtained polyethylene film.

また、架橋部分が溶剤に溶解しないことを利用して、ポリエチレンフィルムをメチルエチルケトン等の有機溶媒中に浸漬し、溶解せずに残った不溶フィルムを乾燥後、質量を測定して、溶解前のポリエチレンフィルムおよび乾燥後の不溶フィルムの質量からのゲル分率を算出することでも、架橋密度を調べることができる。具体的には、まず、ポリエチレンフィルムXgを、Ygのステンレス金網で包み、溶剤中で加熱、浸漬させ、ステンレス金網で包まれたポリエチレンフィルムを取り出す。次いで、これを真空乾燥させ、乾燥後のステンレス金網で包まれたポリエチレンフィルムの質量(Zg)を測定する。そして、下記式(1)からゲル分率を測定することができる。
ゲル分率(質量%)=(Z−Y)/X×100 (1)
Further, by utilizing the fact that the cross-linked portion does not dissolve in the solvent, the polyethylene film is immersed in an organic solvent such as methyl ethyl ketone, the insoluble film remaining without being dissolved is dried, the mass is measured, and the polyethylene before dissolution The crosslinking density can also be examined by calculating the gel fraction from the mass of the film and the insoluble film after drying. Specifically, first, the polyethylene film Xg is wrapped with a Yg stainless wire mesh, heated and immersed in a solvent, and the polyethylene film wrapped with the stainless wire mesh is taken out. Subsequently, this is vacuum-dried and the mass (Zg) of the polyethylene film wrapped with the stainless steel wire mesh after drying is measured. And a gel fraction can be measured from following formula (1).
Gel fraction (% by mass) = (Z−Y) / X × 100 (1)

ポリエチレンフィルムのゲル分率は30〜80%であることが好ましく、40〜80%であることがさらに好ましい。   The gel fraction of the polyethylene film is preferably 30 to 80%, and more preferably 40 to 80%.

また、本発明によるポリエチレンフィルムは、密度0.91g/cm以下の低密度ポリエチレンを含んでなる。ポリエチレンフィルムが、密度0.91g/cm以下の低密度ポリエチレンを含んでなることにより、ポリエチレンフィルムのより高い架橋密度を実現でき、耐熱性を向上させることができる。より好ましくは、低密度ポリエチレンは、0.91g/cm以下、0.89g/cm以上の密度を有し、さらに好ましくは、0.91g/cm以下、0.895g/cm以上の密度を有する。 The polyethylene film according to the present invention comprises low density polyethylene having a density of 0.91 g / cm 3 or less. When the polyethylene film comprises low density polyethylene having a density of 0.91 g / cm 3 or less, a higher crosslinking density of the polyethylene film can be realized, and heat resistance can be improved. More preferably, low density polyethylene, 0.91 g / cm 3 or less, has a 0.89 g / cm 3 or more density, more preferably, 0.91 g / cm 3 or less, 0.895 g / cm 3 or more Has a density.

低密度ポリエチレンは、直鎖状のものであっても、分岐鎖状のものであってもよいが、より高い架橋密度を実現することができるため、直鎖状のものであることが好ましい。   The low-density polyethylene may be linear or branched, but is preferably linear because higher crosslinking density can be achieved.

ポリエチレンフィルムにおける密度0.91g/cm以下のポリエチレンの含有量は、10質量%以上、100質量%以下であることが好ましく、20質量%以上、70質量%以下であることがより好ましい。 The content of polyethylene having a density of 0.91 g / cm 3 or less in the polyethylene film is preferably 10% by mass or more and 100% by mass or less, and more preferably 20% by mass or more and 70% by mass or less.

上記したような密度や分岐の違うポリエチレンは、重合方法を適宜選択することによって得ることができる。例えば、重合触媒として、チーグラー・ナッタ触媒等のマルチサイト触媒や、メタロセン系触媒等のシングルサイト触媒を用いて、気相重合、スラリー重合、溶液重合、および高圧イオン重合のいずれかの方法により、1段または2段以上の多段で行うことが好ましい。   The above-described polyethylene having different density and branching can be obtained by appropriately selecting the polymerization method. For example, as a polymerization catalyst, using a multi-site catalyst such as a Ziegler-Natta catalyst or a single site catalyst such as a metallocene catalyst, by any of gas phase polymerization, slurry polymerization, solution polymerization, and high-pressure ion polymerization, It is preferable to carry out by one stage or two or more stages.

上記のシングルサイト触媒とは、均一な活性種を形成しうる触媒であり、通常、メタロセン系遷移金属化合物や非メタロセン系遷移金属化合物と活性化用助触媒とを接触させることにより、調整される。シングルサイト触媒は、マルチサイト触媒に比べて、活性点構造が均一であるため、高分子量かつ均一度の高い構造の重合体を重合することができるため好ましい。シングルサイト触媒としては、特に、メタロセン系触媒を用いることが好ましい。メタロセン系触媒は、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物と、助触媒と、必要により有機金属化合物と、担体の各触媒成分とを含む触媒である。   The above single-site catalyst is a catalyst that can form a uniform active species, and is usually adjusted by bringing a metallocene transition metal compound or a nonmetallocene transition metal compound into contact with an activation cocatalyst. . The single site catalyst is preferable because the active site structure is uniform as compared with the multisite catalyst, and a polymer having a high molecular weight and a high degree of uniformity can be polymerized. As the single site catalyst, it is particularly preferable to use a metallocene catalyst. The metallocene-based catalyst is a catalyst containing a transition metal compound of Group IV of the periodic table containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, a cocatalyst, and if necessary, an organometallic compound, and each catalyst component of the support. is there.

上記のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物において、そのシクロペンタジエニル骨格とは、シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基等である。置換シクロペンタジエニル基としては、炭素数1〜30の炭化水素基、シリル基、シリル置換アルキル基、シリル置換アリール基、シアノ基、シアノアルキル基、シアノアリール基、ハロゲン基、ハロアルキル基、ハロシリル基等から選ばれた少なくとも一種の置換基を有するものである。その置換シクロペンタジエニル基の置換基は2個以上有していてもよく、また置換基同士が互いに結合して環を形成し、インデニル環、フルオレニル環、アズレニル環、その水添体等を形成してもよい。置換基同士が互いに結合し形成された環がさらに互いに置換基を有していてもよい。   In the group IV transition metal compound containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, the cyclopentadienyl skeleton is a cyclopentadienyl group, a substituted cyclopentadienyl group, or the like. . Examples of substituted cyclopentadienyl groups include hydrocarbon groups having 1 to 30 carbon atoms, silyl groups, silyl substituted alkyl groups, silyl substituted aryl groups, cyano groups, cyanoalkyl groups, cyanoaryl groups, halogen groups, haloalkyl groups, halosilyl groups. It has at least one kind of substituent selected from a group and the like. The substituted cyclopentadienyl group may have two or more substituents, and the substituents are bonded to each other to form a ring, and an indenyl ring, a fluorenyl ring, an azulenyl ring, a hydrogenated product thereof, etc. It may be formed. Rings formed by bonding substituents to each other may further have substituents.

シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物において、その遷移金属としては、ジルコニウム、チタン、ハフニウム等が挙げられ、特にジルコニウム、ハフニウムが好ましい。該遷移金属化合物は、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子としては通常2個を有し、各々のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子は架橋基により互いに結合しているものが好ましい。なお、架橋基としては炭素数1〜4のアルキレン基、シリレン基、ジアルキルシリレン基、ジアリールシリレン基等の置換シリレン基、ジアルキルゲルミレン基、ジアリールゲルミレン基等の置換ゲルミレン基等が挙げられる。好ましくは、置換シリレン基である。上記のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物は、一種または二種以上の混合物を触媒成分とすることができる。   In the group IV transition metal compound containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, examples of the transition metal include zirconium, titanium, hafnium, and zirconium and hafnium are particularly preferable. The transition metal compound usually has two ligands having a cyclopentadienyl skeleton, and each ligand having a cyclopentadienyl skeleton is preferably bonded to each other via a bridging group. Examples of the crosslinking group include substituted alkylene groups such as C1-C4 alkylene groups, silylene groups, dialkylsilylene groups, and diarylsilylene groups, dialkylgermylene groups, and diarylgermylene groups. Preferably, it is a substituted silylene group. The transition metal compound of Group IV of the Periodic Table containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton can use one or a mixture of two or more as a catalyst component.

助触媒としては、上記の周期律表第IV族の遷移金属化合物を重合触媒として有効になしうる、または触媒的に活性化された状態のイオン性電荷を均衝させうるものをいう。助触媒としては、有機アルミニウムオキシ化合物のベンゼン可溶のアルミノキサンやベンゼン不溶の有機アルミニウムオキシ化合物、イオン交換性層状珪酸塩、ホウ素化合物、活性水素基含有あるいは非含有のカチオンと非配位性アニオンからなるイオン性化合物、酸化ランタン等のランタノイド塩、酸化スズ、フルオロ基を含有するフェノキシ化合物等が挙げられる。   The co-catalyst is one that can effectively make the above-mentioned group IV transition metal compound as a polymerization catalyst, or can neutralize ionic charges in a catalytically activated state. Co-catalysts include benzene-soluble aluminoxanes of organoaluminum oxy compounds, benzene-insoluble organoaluminum oxy compounds, ion-exchange layered silicates, boron compounds, active hydrogen group-containing or non-containing cations and non-coordinating anions. Ionic compounds, lanthanoid salts such as lanthanum oxide, tin oxide, phenoxy compounds containing a fluoro group, and the like.

シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物は、無機または有機化合物の担体に担持して使用されてもよい。該担体としては無機または有機化合物の多孔質酸化物が好ましく、具体的には、モンモリロナイト等のイオン交換性層状珪酸塩、SiO、Al、MgO、ZrO、TiO、B、CaO、ZnO、BaO、ThO等またはこれらの混合物が挙げられる。また更に必要により使用される有機金属化合物としては、有機アルミニウム化合物、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化合物等が例示される。このうち有機アルミニウムが好適に使用される。 The group IV transition metal compound containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton may be used by being supported on an inorganic or organic compound carrier. The support is preferably a porous oxide of an inorganic or organic compound. Specifically, an ion-exchange layered silicate such as montmorillonite, SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , TiO 2 , B 2 O 3 , CaO, ZnO, BaO, ThO 2 and the like, or a mixture thereof. Furthermore, examples of the organometallic compound used as necessary include organoaluminum compounds, organomagnesium compounds, and organozinc compounds. Of these, organic aluminum is preferably used.

また、エチレンと他のモノマーとの共重合体を使用することもできる。エチレン共重合体としては、エチレンと炭素数3〜20のα−オレフィンとからなる共重合体が挙げられ、炭素数3〜20のα−オレフィンとしては、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン、3ーメチルー1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、6−メチル−1−ヘプテンなどが挙げられる。また、本発明の目的を損なわない範囲であれば、酢酸ビニル、アクリル酸エステル等との共重合体であってもよい。   A copolymer of ethylene and another monomer can also be used. Examples of the ethylene copolymer include a copolymer composed of ethylene and an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the α-olefin having 3 to 20 carbon atoms include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicocene, 3-methyl-1-butene, 4-methyl-1-pentene, 6-methyl- Examples include 1-heptene. Moreover, as long as the objective of this invention is not impaired, a copolymer with vinyl acetate, an acrylic ester, etc. may be sufficient.

また、本発明においては、化石燃料から得られるエチレンに代えて、バイオマス由来のエチレンをその原料としたポリエチレンを用いてもよい。このようなバイオマス由来のポリエチレンはカーボニュートラルな材料であるため、より一層、環境負荷の少ない包装体とすることができる。このようなバイオマス由来のポリエチレンは、例えば、特開2013−177531号公報に記載されているような方法にて製造することができる。また、市販されているバイオマス由来のポリエチレン樹脂(例えば。ブラスケム社から市販されているグリーンPE等)を使用してもよい。   Moreover, in this invention, it may replace with ethylene obtained from a fossil fuel and may use the polyethylene which used ethylene derived from biomass as the raw material. Since such biomass-derived polyethylene is a carbon-neutral material, it can be made into a package with less environmental impact. Such polyethylene derived from biomass can be produced, for example, by a method described in JP2013-177531A. Moreover, you may use the biomass-derived polyethylene resin (for example, green PE etc. which are marketed from a Braschem company) marketed.

ポリエチレンフィルムは、本発明の目的を損なわない範囲であれば、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、密度0.91g/cm超の低密度ポリエチレンを含んでいてもよい。 The polyethylene film may contain high-density polyethylene, medium-density polyethylene, and low-density polyethylene with a density exceeding 0.91 g / cm 3 as long as the object of the present invention is not impaired.

また、ポリエチレンフィルムは、架橋剤を含んでなることが好ましい。ポリエチレンフィルムが架橋剤を含んでなることにより、より高い架橋密度を実現することができる。架橋剤としては、スチレン−ポリイソプレンエラストマー、スチレン−ポリブタジエンエラストマー、スチレン−ポリイソプレン−ブタジエンランダムコポリマーなどのスチレン系エラストマーや、エチレン−メチルアクリレート共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−ブチルアクリレート共重合体などのエチレン−アクリレート共重合体、エチレン―アクリル酸エステル―グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。   Moreover, it is preferable that a polyethylene film comprises a crosslinking agent. When the polyethylene film contains a cross-linking agent, a higher cross-linking density can be realized. Examples of the crosslinking agent include styrene elastomers such as styrene-polyisoprene elastomer, styrene-polybutadiene elastomer, styrene-polyisoprene-butadiene random copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-butyl. Examples thereof include ethylene-acrylate copolymers such as acrylate copolymers, ethylene-acrylate esters-glycidyl methacrylate, and the like.

ポリエチレンフィルムにおける架橋剤の含有量は、1〜49質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましく、15〜35質量%であることがさらに好ましい。架橋剤の含有量が上記数値範囲内であれば、ポリエチレンフィルムの耐熱性および強度を一層向上させることができる。   The content of the crosslinking agent in the polyethylene film is preferably 1 to 49% by mass, more preferably 10 to 40% by mass, and still more preferably 15 to 35% by mass. If content of a crosslinking agent is in the said numerical range, the heat resistance and intensity | strength of a polyethylene film can be improved further.

ポリエチレンフィルムは、本発明の目的を損なわない範囲であれば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、充填剤、光安定剤、耐電防止剤、顔料などの添加剤を含んでいてもよい。しかしながら、リサイクル性という観点からは、これら添加剤を含んでいないことが好ましい。   The polyethylene film may contain additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a lubricant, a filler, a light stabilizer, an antistatic agent, and a pigment as long as the object of the present invention is not impaired. However, from the viewpoint of recyclability, it is preferable that these additives are not included.

ポリエチレンフィルムは、上記した低密度ポリエチレン樹脂を少なくとも含んでなる樹脂組成物を溶融し、これをインフレーション成形またはT−ダイ成形等の溶融押出成形法によって製膜することによって得ることができる。例えば、低密度ポリエチレンの融点(Tm)以上の温度〜Tm+120℃の温度に加熱された溶融押出機に供給して、樹脂組成物を溶融し、環状ダイ等のダイより円筒状に押出し、押出された円筒状物に空気を送りこみ、バブルを形成させ、これをローラーで加圧することにより、成形することができる。   The polyethylene film can be obtained by melting the resin composition comprising at least the above-described low density polyethylene resin and forming the film by a melt extrusion method such as inflation molding or T-die molding. For example, it is supplied to a melt extruder heated to a temperature higher than the melting point (Tm) of low density polyethylene to a temperature of Tm + 120 ° C., and the resin composition is melted and extruded into a cylindrical shape from a die such as an annular die. It can be formed by feeding air into the cylindrical body to form bubbles and pressurizing them with a roller.

ポリエチレンフィルムの厚さは、その用途に応じて任意であるが、通常、5μm〜200μm程度、好ましくは5μm〜100μm程度である。フィルム厚みは、溶融押出機のスクリュー回転数や冷却ロールの回転数等によって適宜調整することができる。   Although the thickness of a polyethylene film is arbitrary according to the use, it is about 5 micrometers-200 micrometers normally, Preferably it is about 5 micrometers-100 micrometers. The film thickness can be appropriately adjusted depending on the screw rotation speed of the melt extruder, the rotation speed of the cooling roll, and the like.

ポリエチレンフィルムには、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度、その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、ごく微量から数十%まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。一般的な添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、改質用樹脂等が挙げられる。   When forming a polyethylene film, for example, film processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slipperiness, mold release properties, flame retardancy, and antifungal properties Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying electrical characteristics, strength, etc. The amount of addition can be from very small amounts to several tens of percent. Depending on the case, it can be added arbitrarily. Examples of common additives include antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments, and modifying resins.

本発明によるポリエチレンフィルムは、一方の面側に電子線が照射されていることに特徴を有している。電子線の照射エネルギーは、目的とする包装体の使用用途によっても異なるが、電子線の照射エネルギーが高いほど、発生するラジカル量も多くなり、架橋構造が形成されやすくなるが、照射エネルギーが高すぎるとポリエチレンの分子鎖が切断されすぎて、強度等のフィルム物性が著しく低下する。電子線の線量は10〜2000kGyの範囲が好ましく、より好ましくは20〜1000kGyであり、電子線の加速電圧は30〜300kVの範囲が好ましく、より好ましくは50〜300kVであり、特に好ましくは50〜250kVである。また、電子線の照射エネルギーは、20〜750keVであることが好ましく、25〜400keVであることがより好ましく、30〜300keVであることがさらに好ましく、20〜200keVであることが特に好ましい。   The polyethylene film according to the present invention is characterized in that one surface side is irradiated with an electron beam. The electron beam irradiation energy varies depending on the intended use of the package, but the higher the electron beam irradiation energy, the greater the amount of radicals generated and the easier it is to form a crosslinked structure, but the higher the irradiation energy. If it is too high, the molecular chain of polyethylene will be cleaved too much, and film properties such as strength will be significantly reduced. The electron beam dose is preferably in the range of 10 to 2000 kGy, more preferably 20 to 1000 kGy, and the acceleration voltage of the electron beam is preferably in the range of 30 to 300 kV, more preferably 50 to 300 kV, and particularly preferably 50 to 250 kV. Further, the irradiation energy of the electron beam is preferably 20 to 750 keV, more preferably 25 to 400 keV, further preferably 30 to 300 keV, and particularly preferably 20 to 200 keV.

電子線照射装置としては、従来公知のものを使用でき、例えばカーテン型電子照射装置(LB1023、株式会社アイ・エレクトロンビーム社製)やライン照射型低エネルギー電子線照射装置(EB−ENGINE、浜松ホトニクス株式会社製)等を好適に使用することができ、特には、ライン照射型低エネルギー電子線照射装置(EB−ENGINE、浜松ホトニクス株式会社製)を好適に使用することができる。   As the electron beam irradiation apparatus, conventionally known ones can be used. For example, a curtain type electron irradiation apparatus (LB1023, manufactured by I Electron Beam Co., Ltd.) or a line irradiation type low energy electron beam irradiation apparatus (EB-ENGINE, Hamamatsu Photonics). In particular, a line irradiation type low-energy electron beam irradiation apparatus (EB-ENGINE, manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) can be preferably used.

電子線照射装置内の酸素濃度は、500ppm以下であることが好ましく、100ppm以下であることがより好ましい。このような条件下で電子線照射を行うことにより、オゾンの発生を抑制することができるとともに、電子線照射によって生じたラジカルが、雰囲気中の酸素によって失活してしまうのを抑制することができる。このような条件は、例えば、装置内を不活性ガス(窒素、アルゴンなど)雰囲気とすることにより達成することができる。   The oxygen concentration in the electron beam irradiation apparatus is preferably 500 ppm or less, and more preferably 100 ppm or less. By performing electron beam irradiation under such conditions, generation of ozone can be suppressed, and radicals generated by electron beam irradiation can be suppressed from being deactivated by oxygen in the atmosphere. it can. Such a condition can be achieved, for example, by setting the inside of the apparatus to an inert gas (nitrogen, argon, etc.) atmosphere.

ポリエチレンフィルムは、熱収縮を起こしやすいため、電子線の照射は、冷却ドラムなどを用いて、冷却と同時に行うことが好ましい。   Since the polyethylene film easily undergoes thermal shrinkage, the electron beam irradiation is preferably performed simultaneously with cooling using a cooling drum or the like.

<ポリエチレン積層フィルム>
本発明によるポリエチレン積層フィルムは、図2に示すように、上記したポリエチレンフィルム1と、ポリエチレンフィルム1の前記電子線照射が行われていない面20側に、両面とも電子線が照射されていないポリエチレンフィルム2を貼り合わせた層構成を有するものである。上記した電子線を照射したポリエチレンフィルム1は、フィルム中を電子線が透過することにより、電子線照射が行われていない面側であってもポリエチレン分子鎖が架橋する場合があり、電子線照射が行われていない面側のヒートシール性が通常のポリエチレンフィルムよりも劣ることがある。上記のような積層フィルムとすることにより、同一材料(ポリエチレン)を使用しながら、表裏で異なる物性(例えば、強度や耐熱性)が異なる積層フィルムとすることができる。両面とも電子線が照射されていないポリエチレンフィルムとしては、上記したものと同様のものを使用することができる。したがって、積層フィルムとした場合であっても、同じポリエチレンを使用しているためリサイクルを容易に行うことができる。
<Polyethylene laminated film>
As shown in FIG. 2, the polyethylene laminated film according to the present invention is a polyethylene that is not irradiated with an electron beam on both sides of the polyethylene film 1 and the surface 20 side of the polyethylene film 1 where the electron beam irradiation is not performed. It has a layer structure in which the film 2 is bonded. In the polyethylene film 1 irradiated with the electron beam, the polyethylene molecular chain may be cross-linked even when the electron beam is transmitted through the film even on the surface side where the electron beam is not irradiated. The heat-sealability on the surface side on which no surface treatment is performed may be inferior to that of a normal polyethylene film. By setting it as the above laminated films, it can be set as the laminated film from which physical properties which differ in front and back (for example, intensity | strength and heat resistance) differ, using the same material (polyethylene). As the polyethylene film that is not irradiated with the electron beam on both sides, the same film as described above can be used. Therefore, even if it is a case where it is set as a laminated film, since the same polyethylene is used, recycling can be performed easily.

上記した積層フィルムは、接着剤等を用いたドライラミネーション法によって2枚のポリエチレンフィルム1、2を貼り合わせることによっても製造できる。また、接着剤の塗布工程や貼り合わせ工程を省略するために、ポリエチレンおよび架橋剤を含む樹脂組成物と、ポリエチレンとを、インフレーション成膜機などから共押出し、次いで、樹脂組成物からなる面に電子線照射を行うことによっても積層フィルムを製造することができる。また、ポリエチレンフィルム電子線を照射していない面をヒートシールすることによってもよ積層フィルムを製造することができる。さらに、片方の面に電子線照射を行ったポリエチレンフィルム1上に溶融したポリエチレン樹脂を押出コーティングすることによって、ポリエチレンフィルム2の製膜と同時に積層フィルムを製造することができる。   The laminated film described above can also be produced by laminating two polyethylene films 1 and 2 by a dry lamination method using an adhesive or the like. Moreover, in order to omit the adhesive coating step and the bonding step, a resin composition containing polyethylene and a crosslinking agent and polyethylene are co-extruded from an inflation film forming machine or the like, and then the surface made of the resin composition. A laminated film can also be produced by performing electron beam irradiation. A laminated film can also be produced by heat-sealing the surface not irradiated with the polyethylene film electron beam. Furthermore, a laminated film can be produced simultaneously with the formation of the polyethylene film 2 by extrusion coating a molten polyethylene resin onto the polyethylene film 1 which has been irradiated with an electron beam on one side.

また、本発明によるポリエチレン積層フィルムは、図3に示すように、両ポリエチレンフィルム1、2の間に、バリア膜3が設けられていてもよい。バリア膜としては、アルミニウム箔等の金属箔のほか、アルミニウム等の金属やアルミニウム酸化物、珪素酸化物等の無機酸化物をポリエチレンフィルム2の表面に蒸着することにより形成することができる。蒸着方法としては、従来公知の方法を採用でき、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)等を挙げることができる。なお、包装用材料に用いられる透明積層体からなるフィルムを製造する場合には、主に、真空蒸着法を用い、一部、プラズマ化学気相成長法も用いられる。   Moreover, as shown in FIG. 3, the polyethylene laminated film according to the present invention may be provided with a barrier film 3 between the two polyethylene films 1 and 2. The barrier film can be formed by depositing a metal foil such as an aluminum foil, a metal such as aluminum, or an inorganic oxide such as an aluminum oxide or silicon oxide on the surface of the polyethylene film 2. As a vapor deposition method, a conventionally known method can be employed. For example, a physical vapor deposition method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, or a plasma chemical vapor deposition method. And chemical vapor deposition (chemical vapor deposition, CVD) such as thermal chemical vapor deposition and photochemical vapor deposition. In addition, when manufacturing the film which consists of a transparent laminated body used for the packaging material, a vacuum vapor deposition method is mainly used and a plasma chemical vapor deposition method is also used partially.

また、例えば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜を形成して使用することもできる。蒸着チャンバーの真空度としては、酸素導入前においては、10−2〜10−8mbar程度、特に、10−3〜10−7mbar程度が好ましく、酸素導入後においては、10−1〜10−6mbar程度、特に10−2〜10−5mbar程度が好ましい。なお、酸素導入量等は、蒸着機の大きさ等によって異なる。導入する酸素には、キャリヤーガスとしてアルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガス等の不活性ガスを支障のない範囲で使用してもよい。フィルムの搬送速度としては、10〜800m/分程度、特に50〜600m/分程度が好ましい。 In addition, for example, a composite film composed of two or more vapor-deposited films of different kinds of inorganic oxides can be formed by using both physical vapor deposition and chemical vapor deposition. The degree of vacuum deposition chamber, before introduction of oxygen 10 -2 to 10 -8 mbar approximately, in particular, is preferably about 10 -3 to 10 -7 mbar, in the post-oxygen introduction, 10 -1 to 10 - About 6 mbar, especially about 10 −2 to 10 −5 mbar is preferable. The amount of oxygen introduced varies depending on the size of the vapor deposition machine. For the oxygen to be introduced, an inert gas such as argon gas, helium gas, nitrogen gas or the like may be used as a carrier gas within a range where there is no problem. As a conveyance speed of a film, about 10-800 m / min, especially about 50-600 m / min are preferable.

また、本発明においては、上記のようにして形成した蒸着膜の表面に酸素プラズマ処理を施してもよい。酸素プラズマ処理のために導入する酸素の量は、蒸着機の大きさ等によって異なるが、通常50sccm〜2000sccm程度であり、300sccm〜800sccm程度が特に好ましい。ここで、sccmは標準状態(STP:0℃、1atm)での1分当りの酸素の平均導入量(cc)を意味する。導入する酸素には、キャリヤーガスとしてアルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガス等の不活性ガスを支障のない範囲で使用してもよい。このような処理を蒸着膜(バリア膜)に行うことによって、ポリエチレンフィルム2に形成されたバリア膜3にポリエチレンフィルム1を貼り合わせた際の密着性が向上する。これらは一例であって、本発明がこれらの方法により得られたものに限定されるものではない。   In the present invention, the surface of the deposited film formed as described above may be subjected to oxygen plasma treatment. The amount of oxygen introduced for the oxygen plasma treatment varies depending on the size of the vapor deposition apparatus and the like, but is usually about 50 sccm to 2000 sccm, and particularly preferably about 300 sccm to 800 sccm. Here, sccm means the average amount of oxygen introduced (cc) per minute in the standard state (STP: 0 ° C., 1 atm). For the oxygen to be introduced, an inert gas such as argon gas, helium gas, nitrogen gas or the like may be used as a carrier gas within a range where there is no problem. By performing such treatment on the deposited film (barrier film), the adhesion when the polyethylene film 1 is bonded to the barrier film 3 formed on the polyethylene film 2 is improved. These are merely examples, and the present invention is not limited to those obtained by these methods.

バリア膜3を備えたポリエチレン積層フィルムを製造するには、ポリエチレンフィルム1の前記電子線照射が行われていない面20側に、上記のようにしてバリア膜3を形成し、その後、バリア膜上に溶融したポリエチレン樹脂を押出コーティングすることによって、ポリエチレンフィルム2の製膜と同時に積層フィルムを製造することができる。   In order to manufacture a polyethylene laminated film provided with the barrier film 3, the barrier film 3 is formed as described above on the surface 20 side of the polyethylene film 1 where the electron beam irradiation is not performed, and then the barrier film 3 is formed on the barrier film. A laminated film can be produced simultaneously with the production of the polyethylene film 2 by extrusion coating the polyethylene resin melted into the film.

<包装体>
本発明による包装体は、上記した一方の面にのみに電子線が照射されてなるポリエチレンフィルムを、電子線照射が行われていない面側が内側になるように二つ折にして重ね合わせて、その端部をヒートシールすることにより製造することができる。シール方法により、例えば、側面シール型、二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール型(ピローシール型)、ひだ付シール型、平底シール型、角底シール型、ガゼット型、その他等のヒートシール形態によりヒートシールして、種々の形態の包装体を製造することができる。その他、例えば、自立性包装用袋(スタンデイングパウチ)等も可能である。ヒートシールの方法としては、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シール等の公知の方法で行うことができる。
<Packaging body>
The package according to the present invention is obtained by superposing a polyethylene film in which an electron beam is irradiated only on one side as described above in a double fold so that the side on which no electron beam irradiation is performed is on the inside. It can manufacture by heat-sealing an edge part. Depending on the sealing method, for example, side seal type, two-side seal type, three-side seal type, four-side seal type, envelope-attached seal type, palm-attached seal type (pillow seal type), pleated seal type, flat bottom seal type, square bottom seal Various forms of packages can be manufactured by heat sealing using a heat sealing form such as a mold, a gusset mold, and the like. In addition, for example, a self-supporting packaging bag (standing pouch) is also possible. As a heat sealing method, for example, a known method such as a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, or an ultrasonic seal can be used.

また、本発明の別の実施形態の包装体では、上記したポリエチレン積層フィルムを用いてもよい。例えば、ポリエチレン積層フィルムの、両面とも電子線が照射されていないポリエチレンフィルム2が内側になるように二つ折にして重ね合わせて、その端部をヒートシールすることにより製造することができる。   Moreover, you may use an above-described polyethylene laminated film in the package of another embodiment of this invention. For example, the polyethylene laminated film can be manufactured by folding in two so that the polyethylene film 2 that is not irradiated with the electron beam on both sides is inside, and then heat-sealing the ends.

本発明によれば、一種の材料(すなわちポリエチレン)のみからなるフィルムであっても、電子線を照射した側のポリエチレンフィルムは包装体の外側フィルムとして要求される強度や寸法安定性等の物性を満たしながら、電子線を照射していない側のポリエチレンフィルムはヒートシール性を維持することができるため、包装体用フィルムとして好適に使用することができる。また、一種の材料のみからなるフィルムを用いて包装体を製造しているため、包装体の使用後に材料のリサイクルを容易に行うことができる。   According to the present invention, the polyethylene film on the side irradiated with the electron beam has physical properties such as strength and dimensional stability required for the outer film of the package, even if the film is made of only one kind of material (ie, polyethylene). While satisfy | filling, since the polyethylene film of the side which is not irradiating an electron beam can maintain heat sealability, it can be used conveniently as a film for packaging bodies. Moreover, since the package is manufactured using a film made of only one kind of material, the material can be easily recycled after the package is used.

本発明について実施例を挙げてさらに具体的に説明するが、本発明がこれら実施例によって限定されるものではない。   Examples The present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<実施例1>
直鎖状低密度ポリエチレン(密度:0.903g/cm、プライムポリマー社製、商品名:SP0511)をインフレーション成膜にて押出し、厚さ60μmのポリエチレンフィルムを得た。
<Example 1>
Linear low-density polyethylene (density: 0.903 g / cm 3 , manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: SP0511) was extruded by inflation film formation to obtain a polyethylene film having a thickness of 60 μm.

上記のようにして得られたポリエチレンフィルムの一方の面に、ライン照射型電子線照射装置(浜松ホトニクス株式会社製、商品名:EB−ENGINE)を用いて以下の条件にて電子線を照射し、片面にのみ電子線が照射されたポリエチレンフィルムを得た。
電圧:70kV
電流:1mA
照射線量:650kGy
装置内酸素濃度:100ppm以下
One surface of the polyethylene film obtained as described above is irradiated with an electron beam under the following conditions using a line irradiation type electron beam irradiation apparatus (manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd., trade name: EB-ENGINE). A polyethylene film irradiated with an electron beam only on one side was obtained.
Voltage: 70kV
Current: 1mA
Irradiation dose: 650 kGy
In-device oxygen concentration: 100 ppm or less

<実施例2>
実施例1において、電子線の照射線量を430kGyに変更した以外は、実施例1と同様にしてポリエチレンフィルムを得た。
<Example 2>
In Example 1, the polyethylene film was obtained like Example 1 except having changed the irradiation dose of the electron beam into 430 kGy.

<実施例3>
電子線照射ポリエチレンフィルムの作製に使用した直鎖状低密度ポリエチレン(密度:0.903g/cm、プライムポリマー社製、商品名:SP0511)を、直鎖状低密度ポリエチレン(密度:0.890g/cm、プライムポリマー社製、商品名:SP9044)に変更した以外は、実施例1と同様にしてポリエチレンフィルムを得た。
<Example 3>
Linear low density polyethylene (density: 0.903 g / cm 3 , manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: SP0511) used for the production of the electron beam irradiated polyethylene film was converted into linear low density polyethylene (density: 0.890 g). / Cm 3 , manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: SP9044), a polyethylene film was obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例4>
実施例3において、電子線の照射線量を430kGyに変更した以外は、実施例3と同様にしてポリエチレンフィルムを得た。
<Example 4>
In Example 3, a polyethylene film was obtained in the same manner as in Example 3 except that the electron beam irradiation dose was changed to 430 kGy.

<比較例1>
直鎖状低密度ポリエチレン(密度:0.903g/cm、プライムポリマー社製、商品名:SP0511)をインフレーション成膜にて押出し、厚さ60μmのポリエチレンフィルムを得た。
<Comparative Example 1>
Linear low-density polyethylene (density: 0.903 g / cm 3 , manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: SP0511) was extruded by inflation film formation to obtain a polyethylene film having a thickness of 60 μm.

<比較例2>
電子線照射ポリエチレンフィルムの作製に使用した直鎖状低密度ポリエチレン(密度:0.903g/cm、プライムポリマー社製、商品名:SP0511)を、直鎖状低密度ポリエチレン(密度:0.924g/cm、宇部丸善ポリエチレン社製、商品名:125FN)に変更した以外は、実施例1と同様にしてポリエチレンフィルムを得た。
<Comparative example 2>
Linear low-density polyethylene (density: 0.903 g / cm 3 , manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: SP0511) used for the production of the electron beam-irradiated polyethylene film was converted into linear low-density polyethylene (density: 0.924 g). / Cm 3 , manufactured by Ube Maruzen Polyethylene Co., Ltd., trade name: 125FN), a polyethylene film was obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例3>
比較例2において、電子線の照射線量を430kGyに変更した以外は、比較例2と同様にしてポリエチレンフィルムを得た。
<Comparative Example 3>
In Comparative Example 2, a polyethylene film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2, except that the electron beam irradiation dose was changed to 430 kGy.

<ヒートシール性評価>
(外観評価)
実施例1〜4および比較例1〜3の各フィルムを10cm×10cmにカットしてサンプル片を3つずつ作製した。このサンプル片を、電子線を照射しなかった側の面が内側になるように二つ折りにし、ヒートシールテスターを用いて、温度を180℃、圧力1kgf/cm、1秒の条件にて1cm×10cmの領域をヒートシールした。温度を190℃、200℃と変更した以外は、残り2つの各サンプル片も同様にして、ヒートシールをした。なお、比較例1のポリエチレンフィルムは両面とも電子線を照射していないため、表裏の区別なく二つ折りにして、ヒートシールを行った。
<Heat sealability evaluation>
(Appearance evaluation)
Each film of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was cut into 10 cm × 10 cm to prepare three sample pieces. This sample piece was folded in two so that the surface not irradiated with the electron beam was inside, and using a heat seal tester, the temperature was 180 ° C., the pressure was 1 kgf / cm 2 , and the pressure was 1 cm. A region of × 10 cm was heat sealed. The remaining two sample pieces were similarly heat-sealed except that the temperature was changed to 190 ° C. and 200 ° C. In addition, since the polyethylene film of the comparative example 1 did not irradiate the electron beam on both surfaces, it was folded in two without distinction of the front and back, and heat sealing was performed.

得られたヒートシール後のサンプル片を目視により外観評価を行った。評価基準は以下の通りとした。
◎:200℃でヒートシールした場合であっても、表面が溶融しておらず外観上の問題がない
○:200℃でヒートシールした場合、表面が溶融しており、外観上の問題がある
△:190℃でヒートシールした場合、表面が溶融しており、外観上の問題がある
×:180℃でヒートシールした場合、表面が溶融しており、外観上の問題がある
評価結果は下記の表1に示される通りであった。
The appearance of the obtained sample pieces after heat sealing was visually evaluated. The evaluation criteria were as follows.
◎: Even when heat sealed at 200 ° C, the surface is not melted and there is no problem in appearance. ○: When heat sealed at 200 ° C, the surface is melted and there is a problem in appearance. Δ: When heat sealed at 190 ° C., the surface is melted and there is a problem in appearance. ×: When heat sealed at 180 ° C., the surface is melted and there is a problem in appearance. As shown in Table 1.

(シール強度)
また、ヒートシール後のサンプル片を15mm幅で短冊状に切り、ヒートシールしなかった両端部を引張試験機に把持し、速度300mm/分、荷重レンジ50Nの条件にて剥離強度(N/15mm)を測定した。測定結果は下記の表1に示される通りであった。
(Seal strength)
Further, the heat-sealed sample piece was cut into a strip shape with a width of 15 mm, and both ends that were not heat-sealed were gripped by a tensile tester, and peel strength (N / 15 mm under the conditions of speed 300 mm / min and load range 50 N) ) Was measured. The measurement results were as shown in Table 1 below.

<ゲル分率>
実施例1〜4および比較例1〜3の各フィルムを1gとなるようにカットしてサンプル片を作製し、5gの400メッシュステンレス金網で包み、キシレン100ml中に120℃で24時間浸漬した。その後、ステンレス金網で包んだサンプル片を80℃で16時間真空乾燥した後、質量を測定し、ゲル分率を求めた。
<Gel fraction>
Each film of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 was cut to 1 g to prepare a sample piece, wrapped with 5 g of 400 mesh stainless steel wire net, and immersed in 100 ml of xylene at 120 ° C. for 24 hours. Then, after vacuum-drying the sample piece wrapped with the stainless steel wire mesh at 80 ° C. for 16 hours, the mass was measured to obtain the gel fraction.

Claims (10)

一方の面にのみ電子線が照射されてなるポリエチレンフィルムであって、
密度0.91g/cm以下の低密度ポリエチレンを含んでなり、
前記電子線が照射された面と、電子線が照射されていない他方の面とで、低密度ポリエチレンの架橋密度が異なることを特徴とする、ポリエチレンフィルム。
It is a polyethylene film that is irradiated with an electron beam only on one side,
Comprising low density polyethylene having a density of 0.91 g / cm 3 or less,
A polyethylene film characterized in that the cross-link density of low-density polyethylene differs between the surface irradiated with the electron beam and the other surface not irradiated with the electron beam.
前記低密度ポリエチレンが直鎖状構造を有する、請求項1に記載のポリエチレンフィルム。   The polyethylene film according to claim 1, wherein the low-density polyethylene has a linear structure. 前記ポリエチレンフィルムにおける前記低密度ポリエチレンの含有量が、10質量%以上、100質量%以下である、請求項1または2に記載のポリエチレンフィルム。   The polyethylene film according to claim 1 or 2, wherein the content of the low-density polyethylene in the polyethylene film is 10% by mass or more and 100% by mass or less. 前記電子線の線量が10〜2000kGyである、請求項1〜3のいずれか一項に記載のポリエチレンフィルム。   The polyethylene film according to any one of claims 1 to 3, wherein a dose of the electron beam is 10 to 2000 kGy. 前記電子線の加速電圧が30〜300kVである、請求項1〜4のいずれか一項に記載のポリエチレンフィルム。   The polyethylene film as described in any one of Claims 1-4 whose acceleration voltage of the said electron beam is 30-300 kV. ゲル分率が30〜80%である、請求項1〜5のいずれか一項に記載のポリエチレンフィルム。   The polyethylene film according to any one of claims 1 to 5, wherein the gel fraction is 30 to 80%. 請求項1〜6のいずれか一項に記載のポリエチレンフィルムと、前記ポリエチレンフィルムの前記電子線照射が行われていない面側に、両面とも電子線が照射されていないポリエチレンフィルムを積層した、ポリエチレン積層フィルム。   The polyethylene which laminated | stacked the polyethylene film as described in any one of Claims 1-6, and the polyethylene film in which the electron beam was not irradiated on both surfaces on the surface side where the said electron beam irradiation of the said polyethylene film was not performed. Laminated film. 前記一方の面にのみ電子線が照射されてなるポリエチレンフィルムと、両面とも電子線が照射されていないポリエチレンフィルムとの間に、バリア膜が設けられてなる、請求項7に記載のポリエチレン積層フィルム。   The polyethylene laminated film according to claim 7, wherein a barrier film is provided between a polyethylene film that is irradiated with an electron beam only on the one surface and a polyethylene film that is not irradiated with an electron beam on both surfaces. . 請求項1〜6のいずれか一項に記載のポリエチレンフィルムからなる包装体であって、前記ポリエチレンフィルムの前記電子線照射が行われていない面側がヒートシールされてなる、包装体。   It is a package body which consists of a polyethylene film as described in any one of Claims 1-6, Comprising: The package body by which the surface side in which the said electron beam irradiation of the said polyethylene film is not performed is heat-sealed. 請求項7または8に記載のポリエチレン積層フィルムからなる包装体であって、前記積層フィルムの両面とも電子線が照射されていないポリエチレンフィルム側が、ヒートシールされてなる、包装体。   It is a packaging body which consists of a polyethylene laminated film of Claim 7 or 8, Comprising: The packaging body by which the polyethylene film side in which the electron beam is not irradiated to both surfaces of the said laminated film is heat-sealed.
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