JP6579430B2 - Laminated body and package using the same - Google Patents

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Description

本発明は、積層体に関し、より詳細には、両面が電子線照射されたポリエチレンフィルム基材と、少なくとも片面が電子線照射されていないポリエチレンフィルム層と、を備える積層体およびそれを用いた包装体に関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a laminate, and more specifically, a laminate comprising a polyethylene film substrate having both surfaces irradiated with an electron beam, and a polyethylene film layer having at least one surface not irradiated with an electron beam, and a package using the laminate. About the body.

ポリエチレン樹脂からなるフィルムは、適度な柔軟性をもち、透明性、防湿性、耐薬品性などに優れるとともに、安価であることから、各種の包装材料に使用されている。特に、ポリエチレンの融点は、種類によっても多少異なるが概ね100〜140℃程度であるため、包装材料分野ではシーラントフィルムとして使用されるのが一般的である。   A film made of a polyethylene resin has moderate flexibility, is excellent in transparency, moisture resistance, chemical resistance, and the like, and is inexpensive, and thus is used in various packaging materials. In particular, since the melting point of polyethylene is somewhat different depending on the type, it is generally about 100 to 140 ° C., so that it is generally used as a sealant film in the field of packaging materials.

一方、他の熱可塑性樹脂と比較して、ポリエチレン樹脂は耐熱性が劣り、また強度的にも不十分であることから、包装材料として用いる際は、ポリエステルフィルムやナイロンフィルムなどの耐熱性および強度に優れる樹脂フィルムとポリエチレンフィルムとをラミネートした積層体として使用されており、ポリエチレンフィルム側を包装体の内側になるようにして積層体の端部をヒートシールすることにより包装体を作製することが行われている(例えば、特開2005−104525号公報)。   On the other hand, compared to other thermoplastic resins, polyethylene resin is inferior in heat resistance and insufficient in strength, so when used as a packaging material, heat resistance and strength such as polyester film and nylon film It is used as a laminate that laminates a resin film with excellent polyethylene film and a polyethylene film side, and the end of the laminate can be heat sealed so that the polyethylene film side is the inside of the package, so that a package can be produced. (For example, JP-A-2005-104525).

ところで、近年、循環型社会の構築を求める声の高まりとともに、包装材料をリサイクルして使用することが試みられている。しかしながら、上記のような異種の樹脂フィルムを貼り合わせた積層体では樹脂の種類ごとに分離することが難しく、リサイクルに適していないという課題があった。   By the way, in recent years, with the increasing demand for the construction of a recycling society, attempts have been made to recycle and use packaging materials. However, a laminate in which different types of resin films are bonded together is difficult to separate for each type of resin, and there is a problem that it is not suitable for recycling.

特開2005−104525号公報JP 2005-104525 A

本発明者らは今般、ポリエチレンフィルムに電子線を照射することによって、電子線が照射されたフィルム表面近傍のポリエチレンを硬化ないし架橋することができることがわかった。さらに、このような電子線を照射したポリエチレンフィルムを基材として使用し、これに電子線を照射しないポリエチレンフィルムを貼り合わせ、積層体とすれば、従来包装体に使用されていた異種の樹脂フィルムを貼り合わせた積層体に代えて、ポリエチレンフィルムのみによって包装体を作製でき、リサイクルに適した包装体を得ることができるとの知見を得た。本発明はかかる知見によるものである。   The present inventors have now found that polyethylene near the film surface irradiated with an electron beam can be cured or crosslinked by irradiating the polyethylene film with an electron beam. Furthermore, if a polyethylene film irradiated with such an electron beam is used as a base material, and a polyethylene film that is not irradiated with an electron beam is bonded to the laminated body to form a laminate, a different type of resin film that has been used in conventional packaging It was replaced with the laminated body which laminated | stacked together, and the package body can be produced only with a polyethylene film, and the knowledge that the package body suitable for recycling can be obtained was acquired. The present invention is based on this finding.

したがって、本発明の目的は、従来包装体に使用されていた異種の樹脂フィルムを貼り合わせた積層フィルムに代えて、ポリエチレンフィルムのみによって包装体を作製できる積層体を提供することである。また、本発明の別の目的は、そのような積層体を使用した包装体を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a laminate in which a package can be produced only with a polyethylene film, instead of a laminate film in which different types of resin films used in a conventional package are bonded together. Another object of the present invention is to provide a package using such a laminate.

本発明による積層体は、ポリエチレンフィルム基材と、ポリエチレンフィルム層と、を備え、ポリエチレンフィルム基材は、両面が電子線照射されており、かつポリエチレンおよび架橋剤を含んでなり、ポリエチレンフィルム層は、少なくとも片面が電子線照射されていないことを特徴とするものである。   The laminate according to the present invention comprises a polyethylene film substrate and a polyethylene film layer, the polyethylene film substrate is irradiated with an electron beam on both sides, and comprises polyethylene and a crosslinking agent. , At least one surface is not irradiated with an electron beam.

また、本発明による積層体においては、前記ポリエチレンが、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、エチレンと他のモノマーとの共重合体からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。   In the laminate according to the present invention, the polyethylene is selected from the group consisting of low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, and a copolymer of ethylene and another monomer. It is preferable that there is at least one.

また、本発明による積層体においては、前記ポリエチレンフィルム基材における架橋剤の含有量は、1〜49質量%であることが好ましい。   Moreover, in the laminated body by this invention, it is preferable that content of the crosslinking agent in the said polyethylene film base material is 1-49 mass%.

また、本発明による積層体においては、架橋剤は、スチレン系エラストマー、エチレン−アクリレート共重合体またはエチレン―アクリル酸エステル―グリシジルメタクリレートであることが好ましい。   In the laminate according to the present invention, the cross-linking agent is preferably a styrene elastomer, an ethylene-acrylate copolymer, or an ethylene-acrylate ester-glycidyl methacrylate.

また、本発明による積層体においては、前記ポリエチレンフィルム層の電子線照射されていない面が最外面となるように、前記ポリエチレンフィルム基材と前記ポリエチレンフィルム層と、がドライラミネートされてなることが好ましい。   In the laminate according to the present invention, the polyethylene film substrate and the polyethylene film layer may be dry-laminated so that the surface of the polyethylene film layer that is not irradiated with an electron beam is the outermost surface. preferable.

また、本発明による積層体においては、前記ポリエチレンフィルム基材が、2以上のポリエチレンフィルムからなる積層フィルム基材であることが好ましい。   Moreover, in the laminated body by this invention, it is preferable that the said polyethylene film base material is a laminated film base material which consists of two or more polyethylene films.

また、本発明による積層体においては、電子線の線量が10〜1000kGyであることが好ましい。   Moreover, in the laminated body by this invention, it is preferable that the dose of an electron beam is 10-1000 kGy.

また、本発明による積層体においては、電子線の加速電圧が30〜300kVであることが好ましい。   Moreover, in the laminated body by this invention, it is preferable that the acceleration voltage of an electron beam is 30-300 kV.

また、本発明による積層体においては、ポリエチレンフィルム基材のゲル分率が20〜80%であることが好ましい。   Moreover, in the laminated body by this invention, it is preferable that the gel fraction of a polyethylene film base material is 20 to 80%.

また、本発明による積層体においては、前記ポリエチレンフィルム基材と、前記ポリエチレンフィルム層との間に、バリア膜をさらに備えることが好ましい。   Moreover, in the laminated body by this invention, it is preferable to further provide a barrier film between the said polyethylene film base material and the said polyethylene film layer.

また、本発明の別の態様による包装体は、上記した積層体からなる包装体であって、前記積層体が備える前記ポリエチレンフィルム層の電子線照射されていない面側が、ヒートシールされてなることを特徴とするものである。   Moreover, the packaging body by another aspect of this invention is a packaging body which consists of an above described laminated body, Comprising: The surface side where the electron beam irradiation of the said polyethylene film layer with which the said laminated body is equipped is heat-sealed. It is characterized by.

本発明によれば、積層体を構成するポリエチレンフィルム基材に電子線を照射することによって、電子線が照射されたフィルム内のポリエチレンを硬化ないし架橋することができる。電子線照射によって通常のポリエチレンよりも架橋密度が高くなったポリエチレンフィルム表面は耐熱性および強度が向上するため、包装体の外層として要求される物性を満足できる。また、本発明による積層体は、少なくとも片面が電子線照射されていない、すなわち、ヒートシール性や柔軟性が維持されたポリエチレンフィルム層を備えているため、包装体の作製が可能である。   According to the present invention, by irradiating the polyethylene film substrate constituting the laminate with an electron beam, the polyethylene in the film irradiated with the electron beam can be cured or crosslinked. Since the polyethylene film surface whose crosslink density is higher than that of ordinary polyethylene by electron beam irradiation is improved in heat resistance and strength, it can satisfy the physical properties required for the outer layer of the package. Moreover, since the laminated body by this invention is equipped with the polyethylene film layer by which at least one surface is not irradiated with an electron beam, ie, heat seal property and a softness | flexibility, the package can be produced.

本発明の一実施形態による積層体の断面概略図である。It is a section schematic diagram of a layered product by one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態による積層体の断面概略図である。It is a section schematic diagram of a layered product by one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態による積層体の断面概略図である。It is a section schematic diagram of a layered product by one embodiment of the present invention.

<積層体>
本発明による積層体を図面を参照しながら説明する。図1は、一実施形態における本発明の積層体10の断面概略図である。積層体10は、両面に電子線が照射されたポリエチレンフィルム基材1と、両面とも電子線が照射されていないポリエチレンフィルム層2とを備えてなる。また、一実施形態において、図2に示すように、積層体10は、両面に電子線が照射されたポリエチレンフィルム基材1と、片面が電子線照射されていないポリエチレンフィルム層2とを備えてなる。このとき、電子線照射されていないポリエチレンフィルム層の面が最外面となるように積層されていることが好ましい。ポリエチレンフィルム層の電子線照射されていない面が最外面であることにより、積層体のヒートシール性を維持することができる。また、一実施形態において、積層体は、図3に示すように、両ポリエチレンフィルム基材1と、ポリエチレンフィルム層2との間に、バリア膜3が設けられていてもよい。
<Laminate>
The laminate according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a laminate 10 of the present invention in one embodiment. The laminate 10 is provided with a polyethylene film substrate 1 that is irradiated with an electron beam on both sides, and a polyethylene film layer 2 that is not irradiated with an electron beam on both sides. Moreover, in one Embodiment, as shown in FIG. 2, the laminated body 10 is equipped with the polyethylene film base material 1 by which the electron beam was irradiated to both surfaces, and the polyethylene film layer 2 by which the electron beam was not irradiated on one side. Become. At this time, it is preferable to laminate | stack so that the surface of the polyethylene film layer which is not irradiated with an electron beam may turn into an outermost surface. When the surface of the polyethylene film layer that is not irradiated with the electron beam is the outermost surface, the heat sealability of the laminate can be maintained. Moreover, in one Embodiment, as shown in FIG. 3, as for the laminated body, the barrier film | membrane 3 may be provided between both the polyethylene film base materials 1 and the polyethylene film layer 2. As shown in FIG.

<ポリエチレンフィルム基材>
本発明による積層体が備えるポリエチレンフィルム基材は、ポリエチレンおよび架橋剤を含んでなり、その両面が、電子線照射されたものである。また、このポリエチレンフィルム基材は単層であっても、複数のポリエチレンフィルムからなる積層フィルム基材であってもよい。積層体がこのようなポリエチレンフィルム基材を備えてなることにより、積層体表面の耐熱性および強度が向上し、包装体などの外層として要求される物性を満足できる。
<Polyethylene film substrate>
The polyethylene film substrate provided in the laminate according to the present invention comprises polyethylene and a crosslinking agent, and both surfaces thereof are irradiated with an electron beam. The polyethylene film substrate may be a single layer or a laminated film substrate composed of a plurality of polyethylene films. When the laminate is provided with such a polyethylene film substrate, the heat resistance and strength of the surface of the laminate are improved, and physical properties required as an outer layer of a package or the like can be satisfied.

電子線の照射の有無によりポリエチレンの架橋密度が異なる理由は定かではないが以下のように考えられる。すなわち、ポリエチレンフィルムに電子線が照射されると、フィルム表面近傍のポリエチレン中の炭素−水素結合が切断され、切断された結合末端にラジカルが発生する。発生したラジカルは、分子鎖の分子運動により、他のポリエチレン分子鎖に接触し、水素原子を引き抜いてポリエチレン分子鎖中の炭素原子と結合し、その結果、架橋構造が形成されるものと考えられる。   The reason why the crosslink density of polyethylene differs depending on whether or not the electron beam is irradiated is not clear, but is considered as follows. That is, when a polyethylene film is irradiated with an electron beam, a carbon-hydrogen bond in polyethylene near the film surface is cut, and a radical is generated at the cut bond end. The generated radicals are considered to come into contact with other polyethylene molecular chains due to the molecular motion of the molecular chains, pull out hydrogen atoms and bond with carbon atoms in the polyethylene molecular chains, resulting in the formation of a crosslinked structure. .

ポリエチレンフィルムは、通常、加熱すると収縮する傾向があるが、架橋密度が高くなると寸法安定性が向上する傾向にある。そのため、表裏で架橋密度が異なるポリエチレンフィルムでは、加熱するとバイメタルのようにカールする。したがって、ポリエチレンフィルムの表裏で架橋密度が異なっていることを確認する簡易的な方法としては、片面のみ電子線が照射されたポリエチレンフィルムを加熱することで確認することができる。   Polyethylene films usually tend to shrink when heated, but dimensional stability tends to improve as the crosslink density increases. For this reason, polyethylene films with different crosslink densities on the front and back surfaces curl like a bimetal when heated. Therefore, as a simple method for confirming that the crosslinking density is different between the front and back surfaces of the polyethylene film, it can be confirmed by heating the polyethylene film irradiated with the electron beam only on one side.

また、架橋部分が溶剤に溶解しないことを利用して、ポリエチレンフィルム基材をメチルエチルケトンなどの有機溶媒中に浸漬し、溶解せずに残った不溶フィルムを乾燥後、質量を測定して、溶解前のポリエチレンフィルム基材および乾燥後の不溶フィルムの質量からのゲル分率を算出することでも、架橋密度を調べることができる。具体的には、まず、ポリエチレンフィルム基材Xgを、Ygのステンレス金網で包み、溶剤中で加熱、浸漬させ、ステンレス金網で包まれたポリエチレンフィルム基材を取り出す。次いで、これを真空乾燥させ、乾燥後のステンレス金網で包まれたポリエチレンフィルム基材の質量(Zg)を測定する。そして、下記式(1)からゲル分率を測定することができる。
ゲル分率(質量%)=(Z−Y)/X×100 (1)
In addition, using the fact that the crosslinked part does not dissolve in the solvent, immerse the polyethylene film substrate in an organic solvent such as methyl ethyl ketone, dry the insoluble film remaining without dissolution, measure the mass, and before dissolving The crosslink density can also be examined by calculating the gel fraction from the mass of the polyethylene film substrate and the insoluble film after drying. Specifically, first, the polyethylene film substrate Xg is wrapped with a Yg stainless wire mesh, heated and immersed in a solvent, and the polyethylene film substrate wrapped with the stainless wire mesh is taken out. Subsequently, this is vacuum-dried and the mass (Zg) of the polyethylene film base material wrapped with the stainless steel wire mesh after drying is measured. And a gel fraction can be measured from following formula (1).
Gel fraction (% by mass) = (Z−Y) / X × 100 (1)

ポリエチレンフィルム基材のゲル分率は20〜80%であることが好ましく、30〜80%であることがより好ましく、40〜80%であることがさらに好ましい。   The gel fraction of the polyethylene film substrate is preferably 20 to 80%, more preferably 30 to 80%, and further preferably 40 to 80%.

また、本発明によるポリエチレンフィルム基材は、ポリエチレンおよび架橋剤を含んでなる。ポリエチレンフィルム基材が、ポリエチレンに加え、架橋剤を含んでなることにより、より高い架橋密度を実現でき、耐熱性をさらに向上させることができる。   The polyethylene film substrate according to the present invention comprises polyethylene and a crosslinking agent. When a polyethylene film base material contains a crosslinking agent in addition to polyethylene, a higher crosslinking density can be realized, and heat resistance can be further improved.

ポリエチレンとしては、高密度ポリエチレン(HDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、および直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)などの密度や分岐の違うものを1種または2種以上混合して使用することができる。なお、一般的に、高密度ポリエチレンは密度が0.940g/cm以上のものを、中密度ポリエチレンは密度が0.925〜0.940g/cmのものを、低密度ポリエチレンは密度が0.925g/cm未満のものをいう。 As polyethylene, one or more types of different density and branching such as high density polyethylene (HDPE), medium density polyethylene (MDPE), low density polyethylene (LDPE), and linear low density polyethylene (LLDPE) are used. Can be used as a mixture. In general, high density polyethylene has a density of 0.940 g / cm 3 or more, medium density polyethylene has a density of 0.925 to 0.940 g / cm 3 , and low density polyethylene has a density of 0. .Less than 925 g / cm 3

上記したような密度や分岐の違うポリエチレンは、重合方法を適宜選択することによって得ることができる。例えば、重合触媒として、チーグラー・ナッタ触媒などのマルチサイト触媒や、メタロセン系触媒などのシングルサイト触媒を用いて、気相重合、スラリー重合、溶液重合、および高圧イオン重合のいずれかの方法により、1段または2段以上の多段で行うことが好ましい。   The above-described polyethylene having different density and branching can be obtained by appropriately selecting the polymerization method. For example, as a polymerization catalyst, using a multi-site catalyst such as a Ziegler-Natta catalyst or a single site catalyst such as a metallocene catalyst, by any of gas phase polymerization, slurry polymerization, solution polymerization, and high-pressure ion polymerization, It is preferable to carry out by one stage or two or more stages.

上記のシングルサイト触媒とは、均一な活性種を形成しうる触媒であり、通常、メタロセン系遷移金属化合物や非メタロセン系遷移金属化合物と活性化用助触媒とを接触させることにより、調整される。シングルサイト触媒は、マルチサイト触媒に比べて、活性点構造が均一であるため、高分子量かつ均一度の高い構造の重合体を重合することができるため好ましい。シングルサイト触媒としては、特に、メタロセン系触媒を用いることが好ましい。メタロセン系触媒は、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物と、助触媒と、必要により有機金属化合物と、担体の各触媒成分とを含む触媒である。   The above single-site catalyst is a catalyst that can form a uniform active species, and is usually adjusted by bringing a metallocene transition metal compound or a nonmetallocene transition metal compound into contact with an activation cocatalyst. . The single site catalyst is preferable because the active site structure is uniform as compared with the multisite catalyst, and a polymer having a high molecular weight and a high degree of uniformity can be polymerized. As the single site catalyst, it is particularly preferable to use a metallocene catalyst. The metallocene-based catalyst is a catalyst containing a transition metal compound of Group IV of the periodic table containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, a cocatalyst, and if necessary, an organometallic compound, and each catalyst component of the support. is there.

上記のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物において、そのシクロペンタジエニル骨格とは、シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基などである。置換シクロペンタジエニル基としては、炭素数1〜30の炭化水素基、シリル基、シリル置換アルキル基、シリル置換アリール基、シアノ基、シアノアルキル基、シアノアリール基、ハロゲン基、ハロアルキル基、ハロシリル基などから選ばれた少なくとも一種の置換基を有するものである。その置換シクロペンタジエニル基の置換基は2個以上有していてもよく、また置換基同士が互いに結合して環を形成し、インデニル環、フルオレニル環、アズレニル環、その水添体などを形成してもよい。置換基同士が互いに結合し形成された環がさらに互いに置換基を有していてもよい。   In the group IV transition metal compound containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, the cyclopentadienyl skeleton is a cyclopentadienyl group, a substituted cyclopentadienyl group, or the like. . Examples of substituted cyclopentadienyl groups include hydrocarbon groups having 1 to 30 carbon atoms, silyl groups, silyl substituted alkyl groups, silyl substituted aryl groups, cyano groups, cyanoalkyl groups, cyanoaryl groups, halogen groups, haloalkyl groups, halosilyl groups. It has at least one substituent selected from a group and the like. The substituted cyclopentadienyl group may have two or more substituents, and the substituents are bonded to each other to form a ring, such as an indenyl ring, a fluorenyl ring, an azulenyl ring, and a hydrogenated product thereof. It may be formed. Rings formed by bonding substituents to each other may further have substituents.

シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物において、その遷移金属としては、ジルコニウム、チタン、ハフニウムなどが挙げられ、特にジルコニウム、ハフニウムが好ましい。該遷移金属化合物は、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子としては通常2個を有し、各々のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子は架橋基により互いに結合しているものが好ましい。なお、架橋基としては炭素数1〜4のアルキレン基、シリレン基、ジアルキルシリレン基、ジアリールシリレン基などの置換シリレン基、ジアルキルゲルミレン基、ジアリールゲルミレン基などの置換ゲルミレン基などが挙げられる。好ましくは、置換シリレン基である。上記のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物は、一種または二種以上の混合物を触媒成分とすることができる。   In the group IV transition metal compound containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, examples of the transition metal include zirconium, titanium, hafnium, and particularly zirconium and hafnium are preferable. The transition metal compound usually has two ligands having a cyclopentadienyl skeleton, and each ligand having a cyclopentadienyl skeleton is preferably bonded to each other via a bridging group. Examples of the bridging group include substituted silylene groups such as alkylene groups having 1 to 4 carbon atoms, silylene groups, dialkylsilylene groups and diarylsilylene groups, dialkylgermylene groups and diarylgermylene groups. Preferably, it is a substituted silylene group. The transition metal compound of Group IV of the Periodic Table containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton can use one or a mixture of two or more as a catalyst component.

助触媒としては、上記の周期律表第IV族の遷移金属化合物を重合触媒として有効になしうる、または触媒的に活性化された状態のイオン性電荷を均衝させうるものをいう。助触媒としては、有機アルミニウムオキシ化合物のベンゼン可溶のアルミノキサンやベンゼン不溶の有機アルミニウムオキシ化合物、イオン交換性層状珪酸塩、ホウ素化合物、活性水素基含有あるいは非含有のカチオンと非配位性アニオンからなるイオン性化合物、酸化ランタンなどのランタノイド塩、酸化スズ、フルオロ基を含有するフェノキシ化合物などが挙げられる。   The co-catalyst is one that can effectively make the above-mentioned group IV transition metal compound as a polymerization catalyst, or can neutralize ionic charges in a catalytically activated state. Co-catalysts include benzene-soluble aluminoxanes of organoaluminum oxy compounds, benzene-insoluble organoaluminum oxy compounds, ion-exchange layered silicates, boron compounds, active hydrogen group-containing or non-containing cations and non-coordinating anions. And lanthanoid salts such as lanthanum oxide, tin oxide, phenoxy compounds containing a fluoro group, and the like.

シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物は、無機または有機化合物の担体に担持して使用されてもよい。該担体としては無機または有機化合物の多孔質酸化物が好ましく、具体的には、モンモリロナイトなどのイオン交換性層状珪酸塩、SiO、Al、MgO、ZrO、TiO、B、CaO、ZnO、BaO、ThOなどまたはこれらの混合物が挙げられる。また更に必要により使用される有機金属化合物としては、有機アルミニウム化合物、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化合物などが例示される。このうち有機アルミニウムが好適に使用される。 The group IV transition metal compound containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton may be used by being supported on an inorganic or organic compound carrier. The support is preferably a porous oxide of an inorganic or organic compound, specifically, an ion-exchange layered silicate such as montmorillonite, SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , TiO 2 , B 2 O. 3, CaO, ZnO, BaO, and the like or mixtures thereof ThO 2. Furthermore, examples of the organometallic compound used as necessary include organoaluminum compounds, organomagnesium compounds, and organozinc compounds. Of these, organic aluminum is preferably used.

また、エチレンと他のモノマーとの共重合体を使用することもできる。エチレン共重合体としては、エチレンと炭素数3〜20のα−オレフィンとからなる共重合体が挙げられ、炭素数3〜20のα−オレフィンとしては、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン、3ーメチルー1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、6−メチル−1−ヘプテンなどが挙げられる。また、本発明の目的を損なわない範囲であれば、酢酸ビニル、アクリル酸エステルなどとの共重合体であってもよい。   A copolymer of ethylene and another monomer can also be used. Examples of the ethylene copolymer include a copolymer composed of ethylene and an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the α-olefin having 3 to 20 carbon atoms include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicocene, 3-methyl-1-butene, 4-methyl-1-pentene, 6-methyl- Examples include 1-heptene. Moreover, as long as the object of the present invention is not impaired, it may be a copolymer with vinyl acetate, acrylate ester or the like.

また、本発明においては、化石燃料から得られるエチレンに代えて、バイオマス由来のエチレンをその原料としたポリエチレンを用いてもよい。このようなバイオマス由来のポリエチレンはカーボニュートラルな材料であるため、より一層、環境負荷の少ない包装体とすることができる。このようなバイオマス由来のポリエチレンは、例えば、特開2013−177531号公報に記載されているような方法にて製造することができる。また、市販されているバイオマス由来のポリエチレン樹脂(例えば、ブラスケム社から市販されているグリーンPEなど)を使用してもよい。   Moreover, in this invention, it may replace with ethylene obtained from a fossil fuel and may use the polyethylene which used ethylene derived from biomass as the raw material. Since such biomass-derived polyethylene is a carbon-neutral material, it can be made into a package with less environmental impact. Such polyethylene derived from biomass can be produced, for example, by a method described in JP2013-177531A. Moreover, you may use the biomass-derived polyethylene resin (for example, green PE marketed from Brasschem etc.) marketed.

また、架橋剤としては、スチレン−ポリイソプレンエラストマー、スチレン−ポリブタジエンエラストマー、スチレン−ポリイソプレン−ブタジエンランダムコポリマーなどのスチレン系エラストマーや、エチレン−メチルアクリレート共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−ブチルアクリレート共重合体などのエチレン−アクリレート共重合体、エチレン―アクリル酸エステル―グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。   As the crosslinking agent, styrene-based elastomers such as styrene-polyisoprene elastomer, styrene-polybutadiene elastomer, styrene-polyisoprene-butadiene random copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene -Ethylene-acrylate copolymers such as butyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid ester-glycidyl methacrylate, etc.

ポリエチレンフィルム基材における架橋剤の含有量は、1〜49質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましく、15〜35質量%であることがさらに好ましい。架橋剤の含有量が上記数値範囲内であれば、ポリエチレンフィルム基材の耐熱性および強度を一層向上させることができる。   The content of the crosslinking agent in the polyethylene film substrate is preferably 1 to 49% by mass, more preferably 10 to 40% by mass, and still more preferably 15 to 35% by mass. If content of a crosslinking agent is in the said numerical range, the heat resistance and intensity | strength of a polyethylene film base material can be improved further.

ポリエチレンフィルム基材は、上記したポリエチレン樹脂および架橋剤を少なくとも含んでなる樹脂組成物を溶融し、これをインフレーション成形またはT−ダイ成形などの溶融押出成形法によって製膜することによって得ることができる。例えば、ポリエチレンの融点(Tm)以上の温度〜Tm+120℃の温度に加熱された溶融押出機に供給して、樹脂組成物を溶融し、環状ダイなどのダイより円筒状に押出し、押出された円筒状物に空気を送りこみ、バブルを形成させ、これをローラーで加圧することにより、成形することができる。   The polyethylene film substrate can be obtained by melting the resin composition comprising at least the above-described polyethylene resin and a crosslinking agent, and forming the film by a melt extrusion method such as inflation molding or T-die molding. . For example, it is supplied to a melt extruder heated to a temperature not lower than the melting point (Tm) of polyethylene to a temperature of Tm + 120 ° C., melts the resin composition, is extruded into a cylindrical shape from a die such as an annular die, and the extruded cylinder It can shape | mold by sending air to a shaped object, forming a bubble, and pressurizing this with a roller.

積層フィルム基材は、接着剤などを用いたドライラミネーション法によって2枚のポリエチレンフィルム基材を貼り合わせ、次いで電子線を照射することによっても製造できる。また、接着剤の塗布工程や貼り合わせ工程を省略するために、ポリエチレンおよび架橋剤を含む樹脂組成物と、ポリエチレンや組成の異なる樹脂組成物とを、インフレーション成膜機などから共押出し、次いで、電子線照射を行うことによっても積層フィルム基材を製造することができる。さらに、樹脂組成物からなるポリエチレンフィルム基材上に、溶融したポリエチレンや組成の異なる樹脂組成物を押出コーティングすることによって、ポリエチレンフィルムを製膜し、次いで、電子線照射を行うことによっても積層フィルム基材を製造することができる。   A laminated film substrate can also be produced by bonding two polyethylene film substrates together by a dry lamination method using an adhesive or the like, and then irradiating an electron beam. Further, in order to omit the adhesive application step and the bonding step, a resin composition containing polyethylene and a cross-linking agent, and polyethylene or a resin composition having a different composition are coextruded from an inflation film forming machine or the like, A laminated film substrate can also be produced by performing electron beam irradiation. Furthermore, a polyethylene film is formed by extrusion coating a molten polyethylene or a resin composition having a different composition on a polyethylene film substrate made of a resin composition, and then a laminated film is formed by performing electron beam irradiation. A substrate can be manufactured.

ポリエチレンフィルム基材の厚さは、その用途に応じて任意であるが、通常、5μm〜200μm程度、好ましくは5μm〜100μm程度である。厚みは、溶融押出機のスクリュー回転数や冷却ロールの回転数などによって適宜調整することができる。   Although the thickness of a polyethylene film base material is arbitrary according to the use, it is about 5 micrometers-200 micrometers normally, Preferably it is about 5 micrometers-100 micrometers. The thickness can be appropriately adjusted depending on the screw rotation speed of the melt extruder, the rotation speed of the cooling roll, and the like.

ポリエチレンフィルム基材には、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度、その他などを改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤などを添加することができ、その添加量としては、ごく微量から数十%まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。一般的な添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、改質用樹脂などが挙げられる。   When forming a film into a polyethylene film substrate, for example, film processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slip properties, mold release properties, flame retardancy, Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying moldability, electrical characteristics, strength, etc. The amount of addition is from a very small amount to several tens of percent. Depending on the purpose, it can be added arbitrarily. Common additives include, for example, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments, modifying resins, and the like.

本発明による積層体が備えるポリエチレンフィルム基材は、上記ポリエチレンフィルム基材の両面から電子線を照射し、両面の架橋密度を向上させることより得ることができる。また、一方の面から電子線を照射し、電子線にポリエチレンフィルム基材を貫通させ、照射面だけではなく、照射面とは反対側の面の架橋密度を向上させてもよい。電子線の照射エネルギーは、目的とする包装体の使用用途によっても異なるが、電子線の照射エネルギーが高いほど、発生するラジカル量も多くなり、架橋構造が形成されやすくなるが、照射エネルギーが高すぎるとポリエチレンの分子鎖が切断されすぎて、強度などのフィルム物性が著しく低下する。   The polyethylene film base material with which the laminated body by this invention is provided can be obtained by irradiating an electron beam from both surfaces of the said polyethylene film base material, and improving the crosslinking density of both surfaces. Moreover, an electron beam may be irradiated from one surface, the polyethylene film base material may be penetrated by the electron beam, and not only the irradiated surface but also the crosslink density on the surface opposite to the irradiated surface may be improved. The electron beam irradiation energy varies depending on the intended use of the package, but the higher the electron beam irradiation energy, the greater the amount of radicals generated and the easier it is to form a crosslinked structure, but the higher the irradiation energy. If it is too large, the molecular chain of polyethylene will be cleaved too much, and film properties such as strength will be significantly reduced.

電子線の線量は10〜2000kGyの範囲が好ましく、より好ましくは20〜1000kGyであり、電子線の加速電圧は30〜300kVの範囲が好ましく、より好ましくは50〜300kVであり、特に好ましくは50〜250kVである。また、電子線の照射エネルギーは、20〜750keVであることが好ましく、25〜400keVであることがより好ましく、30〜300keVであることがさらに好ましく、20〜200keVであることが特に好ましい。   The electron beam dose is preferably in the range of 10 to 2000 kGy, more preferably 20 to 1000 kGy, and the acceleration voltage of the electron beam is preferably in the range of 30 to 300 kV, more preferably 50 to 300 kV, and particularly preferably 50 to 250 kV. Further, the irradiation energy of the electron beam is preferably 20 to 750 keV, more preferably 25 to 400 keV, further preferably 30 to 300 keV, and particularly preferably 20 to 200 keV.

電子線照射装置としては、従来公知のものを使用でき、例えばカーテン型電子照射装置(LB1023、株式会社アイ・エレクトロンビーム社製)やライン照射型低エネルギー電子線照射装置(EB−ENGINE、浜松ホトニクス株式会社製)などを好適に使用することができ、特には、ライン照射型低エネルギー電子線照射装置(EB−ENGINE、浜松ホトニクス株式会社製)を好適に使用することができる。   As the electron beam irradiation apparatus, conventionally known ones can be used. For example, a curtain type electron irradiation apparatus (LB1023, manufactured by I Electron Beam Co., Ltd.) or a line irradiation type low energy electron beam irradiation apparatus (EB-ENGINE, Hamamatsu Photonics). In particular, a line irradiation type low energy electron beam irradiation device (EB-ENGINE, manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) can be used preferably.

電子線照射装置内の酸素濃度は、500ppm以下であることが好ましく、100ppm以下であることがより好ましい。このような条件下で電子線照射を行うことにより、オゾンの発生を抑制することができるとともに、電子線照射によって生じたラジカルが、雰囲気中の酸素によって失活してしまうのを抑制することができる。このような条件は、例えば、装置内を不活性ガス(窒素、アルゴンなど)雰囲気とすることにより達成することができる。   The oxygen concentration in the electron beam irradiation apparatus is preferably 500 ppm or less, and more preferably 100 ppm or less. By performing electron beam irradiation under such conditions, generation of ozone can be suppressed, and radicals generated by electron beam irradiation can be suppressed from being deactivated by oxygen in the atmosphere. it can. Such a condition can be achieved, for example, by setting the inside of the apparatus to an inert gas (nitrogen, argon, etc.) atmosphere.

ポリエチレンフィルムは、熱収縮を起こしやすいため、電子線の照射は、冷却ドラムなどを用いて、冷却と同時に行うことが好ましい。   Since the polyethylene film easily undergoes thermal shrinkage, the electron beam irradiation is preferably performed simultaneously with cooling using a cooling drum or the like.

また、ポリエチレンフィルム基材をポリエチレンフィルム層と接着剤などを介して積層した後、ポリエチレンフィルム基材側から電子線を照射してもよい。   Moreover, after a polyethylene film base material is laminated | stacked through a polyethylene film layer and an adhesive agent, you may irradiate an electron beam from the polyethylene film base material side.

<ポリエチレンフィルム層>
本発明による積層体が備えるポリエチレンフィルム層は、ポリエチレンフィルムからなり、その少なくとも片面が、電子線照射されていないことを特徴とする。積層体がこのような層を備えることにより、同一材料(ポリエチレン)を使用しながら、基材と、その基材上に設けられた層とで異なる物性(例えば、強度、耐熱性、ヒートシール性など)が異なる積層体とすることができる。
<Polyethylene film layer>
The polyethylene film layer provided in the laminate according to the present invention comprises a polyethylene film, and at least one surface thereof is not irradiated with an electron beam. When the laminate includes such a layer, different physical properties (for example, strength, heat resistance, heat sealability) between the base material and the layer provided on the base material while using the same material (polyethylene) Etc.) can be made into different laminates.

少なくとも片面が電子線照射されていないポリエチレンフィルム層としては、上記したポリエチレンフィルムと同様のものを使用することができる。したがって、同じポリエチレンを使用しているためリサイクルを容易に行うことができる。   As the polyethylene film layer on which at least one surface is not irradiated with the electron beam, the same film as the above-described polyethylene film can be used. Therefore, since the same polyethylene is used, recycling can be easily performed.

ポリエチレンフィルム層の厚さは、その用途に応じて任意であるが、通常、15〜100μm程度、好ましくは20〜200μm程度、より好ましくは25〜160μm程度である。基材の厚みは、上記ポリエチレンフィルムの製造において、溶融押出機のスクリュー回転数や冷却ロールの回転数の変更などによって適宜調整することができる。   Although the thickness of a polyethylene film layer is arbitrary according to the use, it is about 15-100 micrometers normally, Preferably it is about 20-200 micrometers, More preferably, it is about 25-160 micrometers. In the production of the polyethylene film, the thickness of the base material can be appropriately adjusted by changing the screw rotation speed of the melt extruder or the rotation speed of the cooling roll.

上記したポリエチレンフィルム基材と、ポリエチレンフィルム層とは、接着剤などを用いたドライラミネーション法によって貼り合わせることによっても製造できるが、接着剤の塗布工程や貼り合わせ工程を省略するために、ポリエチレンフィルム基材上に溶融したポリエチレン樹脂を押出コーティングすることによって、ポリエチレンフィルム層の製膜と同時に積層体を製造することができる。   The polyethylene film substrate and the polyethylene film layer can be produced by bonding by a dry lamination method using an adhesive or the like. However, in order to omit the adhesive coating process and the bonding process, the polyethylene film By extrusion coating a molten polyethylene resin on the substrate, a laminate can be produced simultaneously with the formation of the polyethylene film layer.

また、ポリエチレンフィルム層が、片面が電子線照射されたフィルム層である場合、ポリエチレンフィルム層の電子線照射されていない面が最外面となるように、ポリエチレンフィルム基材と積層することが好ましい。   Moreover, when a polyethylene film layer is a film layer by which one side was irradiated with the electron beam, it is preferable to laminate | stack with a polyethylene film base material so that the surface which is not irradiated with the electron beam of a polyethylene film layer may become an outermost surface.

<バリア膜>
本発明による積層体は、所望により、ポリエチレンフィルム基材と、ポリエチレンフィルム層との間にバリア膜を備えていてもよい。バリア膜としては、アルミニウム箔などの金属箔のほか、アルミニウムなどの金属やアルミニウム酸化物、珪素酸化物などの無機酸化物をポリエチレンフィルム層の表面に蒸着することにより形成することができる。蒸着方法としては、従来公知の方法を採用でき、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法などの化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)などを挙げることができる。なお、包装用材料に用いられる透明積層体からなるフィルムを製造する場合には、主に、真空蒸着法を用い、一部、プラズマ化学気相成長法も用いられる。
<Barrier film>
The laminate according to the present invention may include a barrier film between the polyethylene film substrate and the polyethylene film layer, if desired. The barrier film can be formed by depositing a metal foil such as an aluminum foil, or a metal such as aluminum, or an inorganic oxide such as aluminum oxide or silicon oxide on the surface of the polyethylene film layer. As a vapor deposition method, a conventionally known method can be employed. For example, a physical vapor deposition method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method, or a plasma chemical vapor deposition method. And chemical vapor deposition (chemical vapor deposition, CVD) such as thermal chemical vapor deposition and photochemical vapor deposition. In addition, when manufacturing the film which consists of a transparent laminated body used for the packaging material, a vacuum vapor deposition method is mainly used and a plasma chemical vapor deposition method is also used partially.

また、例えば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜を形成して使用することもできる。蒸着チャンバーの真空度としては、酸素導入前においては、10−2〜10−8mbar程度、特に、10−3〜10−7mbar程度が好ましく、酸素導入後においては、10−1〜10−6mbar程度、特に10−2〜10−5mbar程度が好ましい。なお、酸素導入量などは、蒸着機の大きさなどによって異なる。導入する酸素には、キャリヤーガスとしてアルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガスなどの不活性ガスを支障のない範囲で使用してもよい。フィルムの搬送速度としては、10〜800m/分程度、特に50〜600m/分程度が好ましい。 In addition, for example, a composite film composed of two or more vapor-deposited films of different kinds of inorganic oxides can be formed by using both physical vapor deposition and chemical vapor deposition. The degree of vacuum deposition chamber, before introduction of oxygen 10 -2 to 10 -8 mbar approximately, in particular, is preferably about 10 -3 to 10 -7 mbar, in the post-oxygen introduction, 10 -1 to 10 - About 6 mbar, especially about 10 −2 to 10 −5 mbar is preferable. The amount of oxygen introduced varies depending on the size of the vapor deposition machine. For the oxygen to be introduced, an inert gas such as argon gas, helium gas, or nitrogen gas may be used as a carrier gas as long as there is no problem. As a conveyance speed of a film, about 10-800 m / min, especially about 50-600 m / min are preferable.

また、本発明においては、上記のようにして形成した蒸着膜の表面に酸素プラズマ処理を施してもよい。酸素プラズマ処理のために導入する酸素の量は、蒸着機の大きさなどによって異なるが、通常50sccm〜2000sccm程度であり、300sccm〜800sccm程度が特に好ましい。ここで、sccmは標準状態(STP:0℃、1atm)での1分当りの酸素の平均導入量(cc)を意味する。導入する酸素には、キャリヤーガスとしてアルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガスなどの不活性ガスを支障のない範囲で使用してもよい。このような処理を蒸着膜(バリア膜)に行うことによって、ポリエチレンフィルム層に形成されたバリア膜にポリエチレンフィルム基材を貼り合わせた際の密着性が向上する。これらは一例であって、本発明がこれらの方法により得られたものに限定されるものではない。   In the present invention, the surface of the deposited film formed as described above may be subjected to oxygen plasma treatment. The amount of oxygen introduced for the oxygen plasma treatment varies depending on the size of the vapor deposition apparatus, but is usually about 50 sccm to 2000 sccm, and particularly preferably about 300 sccm to 800 sccm. Here, sccm means the average amount of oxygen introduced (cc) per minute in the standard state (STP: 0 ° C., 1 atm). For the oxygen to be introduced, an inert gas such as argon gas, helium gas, or nitrogen gas may be used as a carrier gas as long as there is no problem. By performing such treatment on the deposited film (barrier film), the adhesion when the polyethylene film substrate is bonded to the barrier film formed on the polyethylene film layer is improved. These are merely examples, and the present invention is not limited to those obtained by these methods.

バリア膜を備えた積層体を製造するには、ポリエチレンフィルム基材上に、上記のようにしてバリア膜を形成し、その後、バリア膜上に溶融したポリエチレン樹脂を押出コーティングすることによって、ポリエチレンフィルム層の製膜と同時に積層体を製造することができる。   To produce a laminate having a barrier film, a polyethylene film is formed by forming a barrier film on a polyethylene film substrate as described above, and then extrusion-coating a molten polyethylene resin on the barrier film. A laminate can be produced simultaneously with the film formation of the layers.

<包装体>
本発明による包装体は、上記した積層体を、両面が電子線照射されたポリエチレンフィルム基材が外側、ポリエチレンフィルム層が内側、ポリエチレンフィルム層の片面が電子線照射されてなる場合は、ポリエチレンフィルム層の電子線照射されていない面が内側になるように二つ折にして重ね合わせて、その端部などをヒートシールすることにより製造することができる。シール方法により、例えば、側面シール型、二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール型(ピローシール型)、ひだ付シール型、平底シール型、角底シール型、ガゼット型、その他などのヒートシール形態によりヒートシールして、種々の形態の包装体を製造することができる。その他、例えば、自立性包装用袋(スタンデイングパウチ)なども可能である。ヒートシールの方法としては、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シールなどの公知の方法で行うことができる。
<Packaging body>
The packaging body according to the present invention is a polyethylene film when the above-described laminate is formed by irradiating a polyethylene film substrate on both sides with an electron beam on the outside, a polyethylene film layer on the inside, and one side of the polyethylene film layer with an electron beam. It can be manufactured by folding the layers so that the surface not irradiated with the electron beam is on the inside, and then heat-sealing the ends. Depending on the sealing method, for example, side seal type, two-side seal type, three-side seal type, four-side seal type, envelope-attached seal type, palm-attached seal type (pillow seal type), pleated seal type, flat bottom seal type, square bottom seal Various types of packaging bodies can be manufactured by heat-sealing by a heat-sealing form such as a mold, a gusset mold, and the like. In addition, for example, a self-supporting packaging bag (standing pouch) is also possible. As a heat sealing method, for example, a known method such as a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, or an ultrasonic seal can be used.

本発明によれば、一種の材料(すなわちポリエチレン)のみからなる積層体であっても、積層体が備える電子線を照射したポリエチレンフィルム基材が、包装体の外側フィルムとして要求される強度や寸法安定性などの物性を満たすことができ、少なくとも片面が電子線照射されていないポリエチレンフィルム層のヒートシール性は維持されているため、包装体用フィルムとして好適に使用することができる。また、一種の材料をのみからなる積層体を用いて包装体を製造することができるため、包装体の使用後に材料のリサイクルを容易に行うことができる。   According to the present invention, the strength and dimensions required for the outer film of the package is that the polyethylene film substrate irradiated with the electron beam included in the laminate is a laminate made of only one kind of material (that is, polyethylene). Since the physical properties such as stability can be satisfied and the heat-sealability of the polyethylene film layer on which at least one surface is not irradiated with an electron beam is maintained, it can be suitably used as a packaging film. Moreover, since a package can be manufactured using the laminated body which consists only of 1 type of material, recycling of a material can be performed easily after use of a package.

本発明について実施例を挙げてさらに具体的に説明するが、本発明がこれら実施例によって限定されるものではない。   Examples The present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<実施例1>
直鎖状低密度ポリエチレン(プライムポリマー社製、商品名:エボリューSP2020)にスチレン系エラストマー(クラレ(株)社製、商品名:ハイブラー7125)を質量比で、4:1となるようにドライブレンドし、樹脂組成物を得た。
<Example 1>
Dry blend of linear low density polyethylene (manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: Evolue SP2020) and styrene elastomer (Kuraray Co., Ltd., trade name: Hibler 7125) in a mass ratio of 4: 1 Thus, a resin composition was obtained.

前記樹脂組成物と、直鎖状低密度ポリエチレン(プライムポリマー社製、商品名:エボリューSP2020)をインフレーション成膜にて1:1で共押出し、積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの厚さは、60μmであった。   The resin composition and linear low density polyethylene (manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: Evolue SP2020) were coextruded 1: 1 by inflation film formation to obtain a laminated film. The thickness of the obtained laminated film was 60 μm.

上記のようにして得られた積層フィルムの樹脂組成物からなる層の面から、電子線照射装置(ライン照射型低エネルギー電子線照射装置EES−L−DP01、浜松ホトニクス株式会社製)を用いて以下の条件にて電子線を照射し、両面に電子線が照射されたポリエチレン積層フィルムを得た。
電圧:110kV
電流:1mA
照射線量:650kGy
装置内酸素濃度:100ppm以下
From the surface of the layer made of the resin composition of the laminated film obtained as described above, an electron beam irradiation device (line irradiation type low energy electron beam irradiation device EES-L-DP01, manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) is used. An electron beam was irradiated under the following conditions to obtain a polyethylene laminated film having both surfaces irradiated with an electron beam.
Voltage: 110 kV
Current: 1mA
Irradiation dose: 650 kGy
In-device oxygen concentration: 100 ppm or less

電子線照射後、ポリエチレン積層フィルムの直鎖状低密度ポリエチレンからなる面を、厚さ60μmの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム(東洋紡(株)製、商品名:リックスL6100)へ、2液硬化型ウレタン接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−40/硬化剤H−4)を介して、ドライラミネートし、積層体を得た。   After electron beam irradiation, the surface of the polyethylene laminated film made of linear low-density polyethylene is changed to a 60 μm-thick linear low-density polyethylene film (trade name: Rix L6100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.). A laminate was obtained by dry lamination via a urethane adhesive (trade name: RU-40 / curing agent H-4, manufactured by Rock Paint Co., Ltd.).

<実施例2>
実施例1において、電子線の照射線量を430kGyに変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
<Example 2>
In Example 1, a laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the electron beam irradiation dose was changed to 430 kGy.

<実施例3>
低密度ポリエチレン(PTT社製、商品名:LD2420H)にスチレン系エラストマー(クラレ(株)社製、商品名:ハイブラー7311)を質量比で、3:2となるようにドライブレンドし、樹脂組成物を得た。
<Example 3>
A low-density polyethylene (trade name: LD2420H, product name: LD2420H) is dry blended with a styrene elastomer (Kuraray Co., Ltd., product name: Hibura 7311) at a mass ratio of 3: 2, and a resin composition is obtained. Got.

前記樹脂組成物と、低密度ポリエチレン(PTT社製、商品名:LD2420H)をインフレーション成膜にて1:1で共押出し、積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの厚さは、60μmであった。   The resin composition and low density polyethylene (manufactured by PTT, trade name: LD2420H) were coextruded 1: 1 by inflation film formation to obtain a laminated film. The thickness of the obtained laminated film was 60 μm.

上記のようにして得られた積層フィルムの樹脂組成物からなる層の面から、電子線照射装置(ライン照射型低エネルギー電子線照射装置EES−L−DP01、浜松ホトニクス株式会社製)を用いて、実施例1と同様の条件にて電子線を照射し、両面に電子線が照射されたポリエチレン積層フィルムを得た。   From the surface of the layer made of the resin composition of the laminated film obtained as described above, an electron beam irradiation device (line irradiation type low energy electron beam irradiation device EES-L-DP01, manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) is used. Then, an electron beam was irradiated under the same conditions as in Example 1 to obtain a polyethylene laminated film in which both surfaces were irradiated with an electron beam.

電子線照射後、ポリエチレン積層フィルムの低密度ポリエチレンからなる面を、厚さ60μmの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム(東洋紡(株)製、商品名:リックスL6100)へ、2液硬化型ウレタン接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−40/硬化剤H−4)を介して、ドライラミネートし、積層体を得た。   After electron beam irradiation, the surface of the polyethylene laminated film made of low-density polyethylene is changed to a 60 μm-thick linear low-density polyethylene film (trade name: Rix L6100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.). A laminate was obtained by dry lamination via a product (trade name: RU-40 / hardening agent H-4, manufactured by Rock Paint Co., Ltd.).

<実施例4>
実施例3において、電子線の照射線量を430kGyに変更した以外は、実施例3と同様にして積層体を得た。
<Example 4>
In Example 3, a laminate was obtained in the same manner as in Example 3 except that the electron beam irradiation dose was changed to 430 kGy.

<実施例5>
直鎖状低密度ポリエチレン(プライムポリマー社製、商品名:エボリューSP2020)にエチレン−メチルアクリレート共重合体(アルケマ(株)製、商品名:LOTRYL18MA02)を質量比で、4:1となるようにドライブレンドし、樹脂組成物を得た。
<Example 5>
Linear low density polyethylene (manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: Evolue SP2020) and ethylene-methyl acrylate copolymer (trade name: LOTRYL18MA02, manufactured by Arkema Co., Ltd.) are used in a mass ratio of 4: 1. Dry blending was performed to obtain a resin composition.

前記樹脂組成物と、直鎖状低密度ポリエチレン(プライムポリマー社製、商品名:エボリューSP2020)をインフレーション成膜にて1:1で共押出し、積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの厚さは、60μmであった。   The resin composition and linear low density polyethylene (manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: Evolue SP2020) were coextruded 1: 1 by inflation film formation to obtain a laminated film. The thickness of the obtained laminated film was 60 μm.

上記のようにして得られた積層フィルムの樹脂組成物からなる層の面から、電子線照射装置(ライン照射型低エネルギー電子線照射装置EES−L−DP01、浜松ホトニクス株式会社製)を用いて、実施例と同様の条件にて電子線を照射し、両面に電子線が照射されたポリエチレン積層フィルムを得た。   From the surface of the layer made of the resin composition of the laminated film obtained as described above, an electron beam irradiation device (line irradiation type low energy electron beam irradiation device EES-L-DP01, manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) is used. Then, an electron beam was irradiated under the same conditions as in Examples, and a polyethylene laminated film having both surfaces irradiated with an electron beam was obtained.

電子線照射後、ポリエチレン積層フィルムの直鎖状低密度ポリエチレンからなる面を、厚さ60μmの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム(東洋紡(株)製、商品名:リックスL6100)へ、2液硬化型ウレタン接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−40/硬化剤H−4)を介して、ドライラミネートし、積層体を得た。   After electron beam irradiation, the surface of the polyethylene laminated film made of linear low-density polyethylene is changed to a 60 μm-thick linear low-density polyethylene film (trade name: Rix L6100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.). A laminate was obtained by dry lamination via a urethane adhesive (trade name: RU-40 / curing agent H-4, manufactured by Rock Paint Co., Ltd.).

<実施例6>
実施例5において、電子線の照射線量を430kGyに変更した以外は、実施例5と同様にして積層体を得た。
<Example 6>
In Example 5, a laminate was obtained in the same manner as Example 5 except that the electron beam irradiation dose was changed to 430 kGy.

<実施例7>
直鎖状低密度ポリエチレン(プライムポリマー社製、商品名:エボリューSP2020)にスチレン系エラストマー(クラレ(株)社製、商品名:ハイブラー7125)を質量比で、9:1となるようにドライブレンドし、樹脂組成物を得た。
<Example 7>
Dry blend of linear low density polyethylene (manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: Evolue SP2020) and styrene elastomer (Kuraray Co., Ltd., trade name: Hibler 7125) in a mass ratio of 9: 1 Thus, a resin composition was obtained.

前記樹脂組成物をインフレーション製膜に押出し、ポリエチレンフィルムを得た。得られたポリエチレンフィルムの厚さは、60μmであった。   The resin composition was extruded into an inflation film to obtain a polyethylene film. The thickness of the obtained polyethylene film was 60 μm.

上記のようにして得られたポリエチレンフィルムの一方の面から、電子線照射装置(ライン照射型低エネルギー電子線照射装置EES−L−DP01、浜松ホトニクス株式会社製)を用いて、実施例1と同様の条件にて電子線を照射し、両面に電子線が照射されたポリエチレンフィルムを得た。   From one surface of the polyethylene film obtained as described above, an electron beam irradiation apparatus (line irradiation type low energy electron beam irradiation apparatus EES-L-DP01, manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) was used. An electron beam was irradiated under the same conditions to obtain a polyethylene film with both surfaces irradiated with the electron beam.

電子線照射後、ポリエチレンフィルムを、厚さ60μmの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム(東洋紡(株)製、商品名:リックスL6100)へ、2液硬化型ウレタン接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−40/硬化剤H−4)を介して、ドライラミネートし、積層体を得た。   After electron beam irradiation, the polyethylene film is converted into a 60 μm-thick linear low-density polyethylene film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Rix L6100), a two-component curable urethane adhesive (manufactured by Rock Paint Co., Ltd.) A laminate was obtained by dry lamination via a trade name: RU-40 / curing agent H-4).

<実施例8>
実施例7において、電子線の照射線量を430kGyに変更した以外は、実施例7と同様に積層体を得た。
<Example 8>
In Example 7, a laminate was obtained in the same manner as in Example 7 except that the electron beam irradiation dose was changed to 430 kGy.

<比較例1>
直鎖状低密度ポリエチレン(プライムポリマー社製、商品名:エボリューSP2020)をインフレーション成膜し、厚さ120μmのポリエチレンフィルムを得た。
<Comparative Example 1>
A linear low density polyethylene (manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., trade name: Evolue SP2020) was formed by inflation film to obtain a polyethylene film having a thickness of 120 μm.

このポリエチレンフィルムを、厚さ60μmの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム(東洋紡(株)製、商品名:リックスL6100)へ、2液硬化型ウレタン接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−40/硬化剤H−4)を介して、ドライラミネートし、積層体を得た。   This polyethylene film is converted into a 60 μm-thick linear low-density polyethylene film (trade name: Rix L6100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), a two-component curable urethane adhesive (manufactured by Rock Paint Co., Ltd., product name: RU). -40 / Hardening agent H-4) was used for dry lamination to obtain a laminate.

<比較例2>
電子線を照射しなかった以外は、実施例1と同様にして、積層体を得た。
<Comparative Example 2>
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the electron beam was not irradiated.

<比較例3>
比較例1により得られたポリエチレンフィルムの一方の面から、電子線照射装置(ライン照射型低エネルギー電子線照射装置EES−L−DP01、浜松ホトニクス株式会社製)を用いて、実施例1と同様の条件にて電子線を照射し、両面に電子線が照射されたポリエチレンフィルムを得た。
<Comparative Example 3>
From one surface of the polyethylene film obtained in Comparative Example 1, an electron beam irradiation device (line irradiation type low energy electron beam irradiation device EES-L-DP01, manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) is used as in Example 1. The film was irradiated with an electron beam to obtain a polyethylene film with both surfaces irradiated with an electron beam.

電子線照射後、このポリエチレンフィルムを、厚さ60μmの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム(東洋紡(株)製、商品名:リックスL6100)へ、2液硬化型ウレタン接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU−40/硬化剤H−4)を介して、ドライラミネートし、積層体を得た。   After the electron beam irradiation, this polyethylene film is converted into a 60 μm-thick linear low-density polyethylene film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Rix L6100), a two-component curable urethane adhesive (manufactured by Rock Paint Co., Ltd.). , Trade name: RU-40 / curing agent H-4) to obtain a laminate.

<ヒートシール性評価>
(外観評価)
実施例1〜8および比較例1〜3の各フィルムを10cm×10cmにカットしてサンプル片を3つずつ作製した。このサンプル片を、電子線を照射しなかった側の面、すなわち、ドライラミネートした直鎖状低密度ポリエチレンフィルム側が内側になるように二つ折りにし、ヒートシールテスターを用いて、温度を180℃、圧力1kgf/cm、1秒の条件にて1cm×10cmの領域をヒートシールした。温度を190℃、200℃と変更した以外は、残り2つの各サンプル片も同様にして、ヒートシールをした。
<Heat sealability evaluation>
(Appearance evaluation)
Each film of Examples 1-8 and Comparative Examples 1-3 was cut into 10 cm × 10 cm to prepare three sample pieces. This sample piece was folded in half so that the surface on which the electron beam was not irradiated, that is, the dry-laminated linear low-density polyethylene film side was inside, using a heat seal tester, the temperature was 180 ° C., A region of 1 cm × 10 cm was heat-sealed under conditions of a pressure of 1 kgf / cm 2 and 1 second. The remaining two sample pieces were similarly heat-sealed except that the temperature was changed to 190 ° C. and 200 ° C.

得られたヒートシール後のサンプル片を目視により外観評価を行った。評価基準は以下の通りとした。
○:200℃でヒートシールした場合であっても、表面が溶融しておらず外観上の問題がない
△:190℃でヒートシールした場合、表面が溶融しており、外観上の問題がある
×:180℃でヒートシールした場合、表面が溶融しており、外観上の問題がある
評価結果は下記の表1に示される通りであった。
The appearance of the obtained sample pieces after heat sealing was visually evaluated. The evaluation criteria were as follows.
○: Even when heat sealed at 200 ° C., the surface is not melted and there is no problem in appearance. Δ: When heat sealed at 190 ° C., the surface is melted and there is a problem in appearance. X: When heat sealed at 180 ° C., the surface is melted and there is a problem in appearance. The evaluation results are as shown in Table 1 below.

(シール強度)
また、ヒートシール後のサンプル片を15mm幅で短冊状に切り、ヒートシールしなかった両端部を引張試験機に把持し、速度300mm/分、荷重レンジ50Nの条件にて剥離強度(N/15mm)を測定した。測定結果は下記の表1に示される通りであった。
(Seal strength)
Further, the heat-sealed sample piece was cut into a strip shape with a width of 15 mm, and both ends that were not heat-sealed were gripped by a tensile tester, and peel strength (N / 15 mm under the conditions of speed 300 mm / min and load range 50 N) ) Was measured. The measurement results were as shown in Table 1 below.

<ゲル分率>
実施例1〜6および比較例1〜2の各積層体を1gとなるようにカットしてサンプル片を作製し、5gの400メッシュステンレス金網で包み、キシレン100ml中に120℃で24時間浸漬した。その後、ステンレス金網で包んだサンプル片を80℃で16時間真空乾燥した後、質量を測定し、ゲル分率を求めた。
<Gel fraction>
Samples were prepared by cutting each laminate of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 to 1 g, wrapped with 5 g of 400 mesh stainless steel wire mesh, and immersed in 100 ml of xylene at 120 ° C. for 24 hours. . Then, after vacuum-drying the sample piece wrapped with the stainless steel wire mesh at 80 ° C. for 16 hours, the mass was measured to obtain the gel fraction.

Claims (10)

ポリエチレンフィルム基材と、ポリエチレンフィルム層と、を備えてなる積層体であって、
前記ポリエチレンフィルム基材は、両面が電子線照射されており、かつポリエチレンおよび架橋剤を含んでなり、
前記ポリエチレンフィルム層の電子線照射されていない面が最外面となるように、前記ポリエチレンフィルム基材と、前記ポリエチレンフィルム層と、がドライラミネートされてなり、
前記ポリエチレンフィルム層は、少なくとも前記ポリエチレンフィルム基材側と反対側の面に電子線が到達していないことを特徴とする、積層体。
A laminate comprising a polyethylene film substrate and a polyethylene film layer,
The polyethylene film substrate is irradiated with an electron beam on both sides, and comprises polyethylene and a crosslinking agent,
The polyethylene film substrate and the polyethylene film layer are dry-laminated so that the surface of the polyethylene film layer that is not irradiated with an electron beam is the outermost surface,
The polyethylene film layer has a structure in which an electron beam does not reach at least a surface opposite to the polyethylene film substrate side .
前記ポリエチレンが、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、エチレンと他のモノマーとの共重合体からなる群より選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の積層体。   2. The polyethylene according to claim 1, wherein the polyethylene is at least one selected from the group consisting of low density polyethylene, linear low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, and a copolymer of ethylene and another monomer. The laminated body of description. 前記ポリエチレンフィルム基材における架橋剤の含有量は、1〜49質量%である、請求項1または2に記載の積層体。   Content of the crosslinking agent in the said polyethylene film base material is a laminated body of Claim 1 or 2 which is 1-49 mass%. 前記架橋剤は、スチレン系エラストマー、エチレン−アクリレート共重合体またはエチレン―アクリル酸エステル―グリシジルメタクリレートである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the crosslinking agent is a styrene-based elastomer, an ethylene-acrylate copolymer, or an ethylene-acrylate ester-glycidyl methacrylate. 前記ポリエチレンフィルム基材が、2以上のポリエチレンフィルムからなる積層フィルム基材である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 4 , wherein the polyethylene film substrate is a laminated film substrate composed of two or more polyethylene films. 前記電子線の線量が10〜2000kGyである、請求項1〜5のいずれか一項に記載の積層体。 The laminated body as described in any one of Claims 1-5 whose dose of the said electron beam is 10-2000 kGy. 前記電子線の加速電圧が30〜300kVである、請求項1〜6のいずれか一項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 6 , wherein an acceleration voltage of the electron beam is 30 to 300 kV. 前記ポリエチレンフィルム基材のゲル分率が20〜80%である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 7 , wherein the polyethylene film base has a gel fraction of 20 to 80%. 前記ポリエチレンフィルム基材と、前記ポリエチレンフィルム層との間に、バリア膜をさらに備える、請求項1〜8のいずれか一項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 8 , further comprising a barrier film between the polyethylene film substrate and the polyethylene film layer. 請求項1〜9のいずれか一項に記載の積層体からなる包装体であって、前記積層体が備える前記ポリエチレンフィルム層の電子線照射されていない面側が、ヒートシールされてなる、包装体。 A package comprising a laminate according to any one of claims 1 to 9, the surface side, which is not an electron beam irradiation of the polyethylene film layer, wherein the laminate comprises becomes heat bonded, packaging .
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