JP2017026371A - 可変アテネータ - Google Patents
可変アテネータ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017026371A JP2017026371A JP2015142721A JP2015142721A JP2017026371A JP 2017026371 A JP2017026371 A JP 2017026371A JP 2015142721 A JP2015142721 A JP 2015142721A JP 2015142721 A JP2015142721 A JP 2015142721A JP 2017026371 A JP2017026371 A JP 2017026371A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shielding member
- light
- light shielding
- variable attenuator
- ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】複数の第1透過部16bが面全体に分布するように設けられた平面状の第1遮光部材16aと、前記第1遮光部材16aに平行に配置された、複数の第2透過部16dが面全体に分布するように設けられた平面状の第2遮光部材16cと、前記第1遮光部材16a及び前記第2遮光部材16cの面に平行な方向に両者の相対的な位置を変化させる駆動手段17とを有し、第1透過部16bと第2透過部16dの両方を光が通過可能な部分の面積を調整することで、可変アテネータ16に入射した光を全体的に減衰させる。
【選択図】図2
Description
金属フィルタをアテネータとして用いることも可能である。この場合、光源からの光の強度を全体的に減衰させることができるが、金属フィルタは蛍光X線の波長によって減衰率が異なるため、正確なデータを取得することできない。
これらの問題は同時型蛍光X線分析装置に限らず、広い範囲からの光の強度を減衰させる必要がある光学系において起こる。
a) 複数の第1透過部が面全体に分布するように設けられた平面状の第1遮光部材と、
b) 前記第1遮光部材に平行に配置された、複数の第2透過部が面全体に分布するように設けられた平面状の第2遮光部材と、
c) 前記第1遮光部材及び前記第2遮光部材の面に平行な方向に両者の相対的な位置を変化させる駆動手段と
を有することを特徴とする。
第1遮光部材と第2遮光部材は共に平面状であり、駆動手段によってそれらの面に平行な方向に両者の相対的な位置が変化する。この相対位置の変化を調整することにより第1透過部及び第2透過部が重なった領域の広さを変え、本可変アテネータを通過する光の量を変化させることができる。
これらの第1及び第2透過部は第1及び第2遮光部材のそれぞれの面全体に分布するように設けられているため、第1透過部と第2透過部の両方を光が通過可能な部分、つまり入射した光が可変アテネータを通過する部分も可変アテネータの面全体に分布している。このため可変アテネータに入射した光は全体的に遮断及び通過され、可変アテネータから出射される。従って、可変アテネータから出射される光は全体的に減衰されたものとなる。
この場合、第1遮光部材と第2遮光部材の相対的な位置の変化は、両遮光部材を該平面内で相対的に平行に移動させること、又は、両遮光部材を該平面内で相対的に回転させることにより行う。平行移動と回転を併用してもよい。
また、第1遮光部材と第2遮光部材が交差するように配置したパンタグラフ構造としてもよい。
a) 非円形断面形状を有する棒状の遮光部材が平面上に複数並べて配置されて成る遮光部と、
b) 前記複数の遮光部材をそれぞれ、各遮光部材の中心軸回りに回動させる回動手段と
を有することを特徴とする。
上記棒状の遮光部材の断面形状が非円形であり、回動手段によって各遮光部材をその中心軸を中心に回動することで、遮光部材が配置された平面における投影面積が変化し、可変アテネータを通過する光の量を変化させることができる。
また、棒状の遮光部材が複数並べて配置されているため、光が遮断される部分と透過する部分が交互に存在する。従って、可変アテネータから出射される光は全体的に減衰されたものとなる。
d) 前記X線検出器の出力パルスを計数する計数回路のデッドタイムを測定するデッドタイム測定部と、
e) 前記デッドタイム測定部により測定されたデッドタイムに基づいて前記駆動手段又は前記回動手段を制御する自動制御部と
を有することを特徴とする。
本発明に係る同時型蛍光X線分析装置では、デッドタイム測定部により計数回路のデッドタイムが測定され、自動制御部がこのデッドタイムに基づいて可変アテネータを通過する光量の制御を行う。デッドタイムの測定値が最適値よりも大きい場合には、自動制御部が可変アテネータを制御することで、X線検出器に入射するX線を減少させ、デッドタイムを小さくする。逆に、デッドタイムの測定値が小さい場合には、可変アテネータを制御することでX線検出器に入射するX線を増加させ、デッドタイムを大きくする。また、このような制御を行った場合でも、本発明に係る可変アテネータであれば、試料の広い範囲から発せられる蛍光X線を均一に減衰させることができる。
一方、可変アテネータ16に入射した蛍光X線の一部は、可変アテネータ16の第1又は第2遮光部材16a、16cにより遮断され、残りの蛍光X線は第1及び第2透過部16b、16dを透過し、エネルギー分散型用X線検出器13aに入射する。エネルギー分散型用X線検出器13aに入射した蛍光X線は、パルス信号に変換され計数回路14で計数される。
11、51、61…励起X線源
12、52、62…X線分光器
13a、53a…エネルギー分散型用X線検出器
13b、53b、63b…波長分散型用X線検出器
14、54…計数回路
14a、54a…デッドタイム測定部
15、55、65…データ処理装置
16、26、36、46…可変アテネータ
16a、26a、36a、46a…第1遮光部材
16b、26b、36b、46b…第1透過部
16c、26c、36c、46c…第2遮光部材
16d、26d、36d、46d…第2透過部
17…駆動部
18、58…自動制御部
56…可変アテネータ
56a…遮光部材
57…回動手段
64…カウンタ
S…試料
Claims (7)
- a) 複数の第1透過部が面全体に分布するように設けられた平面状の第1遮光部材と、
b) 前記第1遮光部材に平行に配置された、複数の第2透過部が面全体に分布するように設けられた平面状の第2遮光部材と、
c) 前記第1遮光部材及び前記第2遮光部材の面に平行な方向に両者の相対的な位置を変化させる駆動手段と
を有することを特徴とする可変アテネータ。 - 前記第1遮光部材及び前記第2遮光部材がそれぞれ、平面上に一定間隔で平行に並べられた複数本の棒状部材で構成されることを特徴とする請求項1に記載の可変アテネータ。
- 前記第1遮光部材及び前記第2遮光部材がそれぞれ格子状部材で構成されることを特徴とする請求項1に記載の可変アテネータ。
- 前記第1遮光部材及び前記第2遮光部材がそれぞれ、平面上に一定間隔で平行に並べられた複数本の棒状部材で構成され、
前記第1遮光部材と前記第2遮光部材が交差するように配置され、前記第1遮光部材及び前記第2遮光部材の面に対して平行な方向に伸縮可能なパンタグラフ構造であることを特徴とする請求項1に記載の可変アテネータ。 - a) 非円形断面形状を有する棒状の遮光部材が平面上に複数並べて配置されて成る遮光部と、
b) 前記複数の遮光部材をそれぞれ、前記各遮光部材の中心軸回りに回動させる回動手段と
を有することを特徴とする可変アテネータ。 - 請求項1から5に記載の可変アテネータを用いて試料から発せられる蛍光X線を減衰させてX線検出器で検出することを特徴とする同時型蛍光X線分析装置。
- 更に、
d) 前記X線検出器の出力パルスを計数する計数回路のデッドタイムを測定するデッドタイム測定部と、
e) 前記デッドタイム測定部により測定されたデッドタイムに基づいて前記駆動手段又は前記回動手段を制御する自動制御部と
を有することを特徴とする請求項6に記載の同時型蛍光X線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015142721A JP6493052B2 (ja) | 2015-07-17 | 2015-07-17 | 同時型蛍光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015142721A JP6493052B2 (ja) | 2015-07-17 | 2015-07-17 | 同時型蛍光x線分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017026371A true JP2017026371A (ja) | 2017-02-02 |
JP6493052B2 JP6493052B2 (ja) | 2019-04-03 |
Family
ID=57949558
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015142721A Active JP6493052B2 (ja) | 2015-07-17 | 2015-07-17 | 同時型蛍光x線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6493052B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112105919A (zh) * | 2018-06-08 | 2020-12-18 | 株式会社岛津制作所 | 荧光x射线分析装置以及荧光x射线分析方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06331575A (ja) * | 1993-05-26 | 1994-12-02 | Shimadzu Corp | 蛍光x線分析方法 |
JPH08262196A (ja) * | 1995-03-17 | 1996-10-11 | Rigaku Corp | X線装置用可変スリット装置 |
JPH10311808A (ja) * | 1997-05-13 | 1998-11-24 | Rigaku Ind Co | X線分析装置 |
JP2000193613A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-14 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
US6353227B1 (en) * | 1998-12-18 | 2002-03-05 | Izzie Boxen | Dynamic collimators |
JP2003057397A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-26 | Mitsubishi Electric Corp | ビーム電流減衰器 |
-
2015
- 2015-07-17 JP JP2015142721A patent/JP6493052B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06331575A (ja) * | 1993-05-26 | 1994-12-02 | Shimadzu Corp | 蛍光x線分析方法 |
JPH08262196A (ja) * | 1995-03-17 | 1996-10-11 | Rigaku Corp | X線装置用可変スリット装置 |
JPH10311808A (ja) * | 1997-05-13 | 1998-11-24 | Rigaku Ind Co | X線分析装置 |
US6353227B1 (en) * | 1998-12-18 | 2002-03-05 | Izzie Boxen | Dynamic collimators |
JP2000193613A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-14 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
JP2003057397A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-26 | Mitsubishi Electric Corp | ビーム電流減衰器 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112105919A (zh) * | 2018-06-08 | 2020-12-18 | 株式会社岛津制作所 | 荧光x射线分析装置以及荧光x射线分析方法 |
CN112105919B (zh) * | 2018-06-08 | 2023-08-22 | 株式会社岛津制作所 | 荧光x射线分析装置以及荧光x射线分析方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6493052B2 (ja) | 2019-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7258633B2 (ja) | ビーム発散のハイブリッド制御を用いたx線分析のための装置及び方法 | |
JP7418208B2 (ja) | X線分光計及びその使用方法 | |
RU2506570C1 (ru) | Способ и устройство для выполнения рентгеновского анализа образца | |
WO2018211664A1 (ja) | X線分光分析装置 | |
US20110299083A1 (en) | Sample analyzing apparatus | |
US10948436B2 (en) | Wavelength dispersive X-ray fluorescence spectrometer | |
WO1996042088A1 (en) | Multiple-channel, total-reflection optic with controllable divergence | |
JP2013096750A (ja) | X線分光検出装置 | |
US9322792B2 (en) | X-ray diffraction apparatus and method of measuring X-ray diffraction | |
US10768125B2 (en) | Wavelength dispersive x-ray fluorescence spectrometer and x-ray fluorescence analyzing method using the same | |
CN102589698B (zh) | 一种可变角度反射测量装置及其操作方法 | |
JP6493052B2 (ja) | 同時型蛍光x線分析装置 | |
US10101210B2 (en) | Portable analyzer and method for determining a composition of a sample | |
JP2017501423A (ja) | Atr赤外分光計 | |
JP4715345B2 (ja) | X線分析装置 | |
US10732134B2 (en) | X-ray diffraction apparatus | |
JP4423230B2 (ja) | X線検出器の不感時間の測定方法 | |
JPH08285798A (ja) | X線分析装置 | |
EP3529572B1 (en) | Apparatus for spectrum and intensity profile characterization of a beam, use thereof and method thereof | |
CN112105919A (zh) | 荧光x射线分析装置以及荧光x射线分析方法 | |
EP3819612B1 (en) | Optical system for spectrometers | |
JP2921597B2 (ja) | 全反射スペクトル測定装置 | |
JP2010286288A (ja) | X線分光器の制御方法及び該制御方法を用いたx線分光器 | |
JP2011149833A (ja) | 分光光度計、および分光光度計の光源切換方法 | |
JP6862710B2 (ja) | X線回折装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171219 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180821 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180822 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181022 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190218 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6493052 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |