JP2017019256A - 光学積層体の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】薄ガラスを用いながらも、製造効率に優れる光学積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の光学積層体の製造方法は、厚みが１００μｍ以下の薄ガラスを製造する薄ガラス製造工程と、該薄ガラスの片面または両面に光学フィルムを積層する積層工程とを含み、該薄ガラス製造工程と、該積層工程とが一貫ラインで行われ、該積層工程において、該薄ガラスが支持された状態で、該薄ガラス上に該光学フィルムを貼り合わせる。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体の製造方法に関する。
従来、画像表示装置を構成する部材、例えば、表示素子の基板、有機ＥＬ素子の封止材、全面保護板等に、ガラス材と光学フィルムとから構成される光学積層体が用いられている。通常、このような光学積層体は、ガラス材を製造した後、該ガラス材に接着剤を介して光学フィルムを貼着するか、あるいは、該ガラス材に光学フィルムの材料となる塗工液を塗工して製造される。ガラス材が、可撓性を示すほどに薄い場合には、ガラス材はロール状で製造され、ロールから繰り出されたガラスに対して、上記貼着または塗工が行われる。
一方、近年、画像表示装置の軽量薄型化が進んでおり、より薄いガラス材を用いることが要求されている。元来、ガラス材はその脆弱性に起因してハンドリング性が悪いところ、薄型化に伴い、材料として用いるガラス材のハンドリング性の問題は顕著となり、製造効率の悪化を招いている。
特許第４１２２１３９号
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、薄ガラスを用いながらも、製造効率に優れる光学積層体の製造方法を提供することにある。
本発明の光学積層体の製造方法は、厚みが１００μｍ以下の薄ガラスを製造する薄ガラス製造工程と、該薄ガラスの片面または両面に光学フィルムを積層する積層工程とを含み、該薄ガラス製造工程と、該積層工程とが一貫ラインで行われ、該積層工程において、該薄ガラスが支持された状態で、該薄ガラス上に該光学フィルムを貼り合わせる。
１つの実施形態においては、上記積層工程において、該薄ガラスが支持された状態で、該薄ガラスの一方の面に第１の光学フィルムを貼り合わせ、その後、該薄ガラスと該第１の光学フィルムとの積層体が支持された状態で、該薄ガラスの他方の面に第２の光学フィルムを貼り合わせる。
１つの実施形態においては、上記薄ガラスの支持が、搬送ベルトにより行われる。
１つの実施形態においては、上記薄ガラスの支持が、支持ロールにより行われる。
１つの実施形態においては、上記光学フィルムの２３℃における弾性率が、１．５ＧＰａ〜１０ＧＰａである。
１つの実施形態においては、上記接着剤層の厚みが、０．００１μｍ〜２０μｍである。
１つの実施形態においては、上記接着剤を塗工して形成された塗工層の硬化収縮率が、０．１％〜３０％である、請求項１から６のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
本発明によれば、薄ガラス製造工程と、薄ガラスに光学フィルムとを積層する工程とを一貫ラインで行うことにより、薄ガラスを用いながらも、製造効率に優れる光学積層体の製造方法を提供することができる。
本発明の１つの実施形態による光学積層体の製造方法を説明する図である。 本発明の別の実施形態による光学積層体の製造方法を説明する図である。
図１は、本発明の１つの実施形態による光学積層体の製造方法を説明する図である。なお、見やすくするために、本明細書中の各図は模式化されており、縮尺は正確に記載されていないことに留意されたい。この実施形態における光学積層体の製造方法は、（ａ）薄ガラス１０を製造する工程（以下、薄ガラス製造工程ともいう）と、（ｂ）薄ガラス１０に光学フィルム２０、２０’を積層する工程（以下、積層工程ともいう）とを含む。本発明の光学積層体においては、薄ガラス製造工程と積層工程とが一貫ラインで行われる。より具体的には、薄ガラス製造工程で連続的に形成された薄ガラスが、巻き取られることなく、そのまま積層工程に供される。
Ａ．薄ガラス製造工程
上記薄ガラス１０の製造方法は、任意の適切な方法が採用され得る。代表的には、上記薄ガラス１０は、シリカやアルミナ等の主原料と、芒硝や酸化アンチモン等の消泡剤と、カーボン等の還元剤とを含む混合物を、１４００℃〜１６００℃の温度で溶融し、薄板状に成形した後、冷却して作製される。上記薄ガラス１０の薄板成形方法としては、例えば、スロットダウンドロー法、フュージョン法、フロート法等が挙げられる。これらの方法によって板状に成形された薄ガラスは、薄板化したり、平滑性を高めたりするために、必要に応じて、フッ酸等の溶剤により化学研磨されてもよい。
薄ガラス製造工程におけるライン速度は、好ましくは１ｍ／分以上であり、より好ましくは５ｍ／分以上であり、さらに好ましくは１０ｍ／分以上であり、特に好ましくは１５ｍ／分以上であり、最も好ましくは２０ｍ／分以上である。当該ライン速度の上限は、好ましくは１００ｍ／分以下であり、より好ましくは６０ｍ／分以下である。なお、本発明においては、薄ガラス製造工程と積層工程とが一貫ラインで行われるため、薄ガラス製造工程におけるライン速度と積層工程におけるライン速度とは同じ速度であり、また、当該速度は、一貫ラインのライン速度でもある。
上記薄ガラス１０の厚みは１００μｍ以下であり、好ましくは８０μｍ以下であり、より好ましくは５０μｍ以下であり、さらに好ましくは４０μｍ以下であり、特に好ましくは１０μｍ〜３５μｍである。本発明においては、非常に薄いガラスを用いても、該ガラスの破損が防止され、製造効率よく光学積層体を得ることができる。
上記薄ガラス１０の幅は、好ましくは５００ｍｍ〜２０００ｍｍであり、さらに好ましくは７５０ｍｍ〜１５００ｍｍである。
上記薄ガラス１０の波長５５０ｎｍにおける光透過率は、好ましくは８５％以上である。上記薄ガラス１０の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎｇは、好ましくは１．４〜１．６５である。
上記薄ガラス１０の密度は、好ましくは２．３ｇ／ｃｍ３〜３．０ｇ／ｃｍ３であり、さらに好ましくは２．３ｇ／ｃｍ３〜２．７ｇ／ｃｍ３である。上記範囲であれば、軽量の光学積層体が得られる。
上記薄ガラス１０は、長尺状であることが好ましい。薄ガラス１０の長さは、例えば、１０ｍ〜５０００ｍであり、好ましくは５０ｍ〜５０００ｍである。
薄ガラス製造工程において、所定の厚みおよび所定の幅で形成された薄ガラス１０は、該工程で巻き取られることなく、任意の適切な搬送方法により、次工程である積層工程に送られる。搬送方法としては、ロール搬送、ベルト搬送等が挙げられる。
Ｂ．積層工程
積層工程においては、上記薄ガラスの片面または両面に光学フィルムを積層する。１つの実施形態においては、図示例のように、薄ガラス１０の両面に光学フィルム２０、２０’が積層される。また、別の実施形態においては、薄ガラスの一方の面に光学フィルムが積層され、他方の面には樹脂フィルムが積層される。樹脂フィルムは、主に薄ガラスを保護する保護フィルムとしての機能を有する。また、さらに別の実施形態においては、薄ガラスの一方の面に光学フィルムが積層され、薄ガラスと１枚の光学フィルムとを備える光学積層体が製造される。
上記光学フィルム２０、２０’としては、例えば、偏光板、位相差板、等方性フィルム等が挙げられる。
上記光学フィルム２０、２０’を構成する材料としては、任意の適切な材料が用いられる。上記光学フィルム２０、２０’を構成する材料としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、アセテート系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。また、光学フィルム２０、２０’として、金属フィルム、ＩＴＯフィルム等の酸化金属フィルム、金属フィルムと樹脂フィルムとの積層フィルムを用いてもよい。
上記樹脂フィルムを構成する材料としては、任意の適切な材料が用いられる。上記樹脂フィルムを構成する材料として、熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。該樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルホン系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；アクリル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂等のポリエステル系樹脂；ポリオレフィン系樹脂；ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミドアミド系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリサルホン系樹脂；ポリエーテルイミド系樹脂等が挙げられる。また、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂等の架橋性の樹脂を用いてもよい。
上記光学フィルム２０、２０’および樹脂フィルムの２３℃における弾性率は、好ましくは１．５ＧＰａ〜１０ＧＰａであり、より好ましくは１．８ＧＰａ〜９ＧＰａであり、さらに好ましくは１．８ＧＰａ〜８ＧＰａである。このような範囲であれば、薄ガラスを保護する効果が高く、製造効率に優れる光学積層体の製造方法を提供することができる。なお、本発明における弾性率は、動的粘弾性スペクトル測定により、測定することができる。
上記光学フィルム２０、２０’の厚みは、該光学フィルムの用途に応じて、任意の適切な厚みに設定され得る。光学フィルム２０、２０’の厚みは、例えば、１μｍ〜３００μｍであり、好ましくは５μｍ〜２００μｍである。上記樹脂フィルム２０、２０’の厚みは、好ましくは１μｍ〜６０μｍ、より好ましくは１０μｍ〜５０μｍであり、さらに好ましくは２０μｍ〜４０μｍである。
上記光学フィルム２０、２０’および樹脂フィルムの幅は、好ましくは３００ｍｍ〜２２００ｍｍであり、より好ましくは５００ｍｍ〜２０００ｍｍであり、さらに好ましくは５００ｍｍ〜８００ｍｍである。薄ガラス１０の両面にフィルムが配置される場合、両フィルムの幅は同じであってもよく、異なっていてもよい。
１つの実施形態においては、上記光学フィルム２０、２０’および樹脂フィルムの幅は、上記薄ガラスの幅よりも狭い。光学フィルム２０、２０’および樹脂フィルムの幅を薄ガラスの幅より狭くすれば、積層工程後、薄ガラスの幅方向端部をエッジ検出して、薄ガラスの斜行および蛇行を矯正することができる。その結果、巻き取り時において、薄ガラスの破損が防止される。また、別の実施形態においては、上記光学フィルム２０、２０’および樹脂フィルムの幅は、上記薄ガラス１０の幅よりも広い。光学フィルム２０、２０’および樹脂フィルムの幅を薄ガラス１０の幅より広くすれば、薄ガラス１０の端部が保護されて、工程途中での破損を防止することができる。
上記光学フィルム２０、２０’および樹脂フィルムは、長尺状であることが好ましく、長尺状の薄ガラス１０に対して、連続的に、これらのフィルムの積層が行われ得る。また、上記光学フィルム２０、２０’および樹脂フィルムの長さは、薄ガラス１０の長さと同じであってもよく、異なっていてもよい。また、薄ガラス１０の両面にフィルムが配置される場合、両フィルムの長さは同じであってもよく、異なっていてもよい。
１つの実施形態においては、上記光学フィルム２０、２０’は、接着剤層３１を介して薄ガラスに積層される。接着剤層３１の形成方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、積層工程において、上記光学フィルム２０、２０’に接着剤を塗工して塗工層３０を形成した後、塗工層３０を介して薄ガラス１０と光学フィルム２０、２０’とを貼り合わせ、その後、接着剤を硬化させる。接着剤（すなわち、塗工層３０）を硬化させることにより、接着剤層３１が形成される。本発明においては、薄ガラス製造工程と積層工程とが一貫ラインで行われるため、薄ガラス製造工程および積層工程のライン速度が同じ速度となる。また、通常、ガラス製造のライン速度は、製造するガラスが薄いほど速くなる。本発明においては、薄ガラス製造工程で製造される薄ガラスが非常に薄いことから、一貫ライン全体のライン速度が速くなり、積層工程のライン速度も速くなる。このような構成の製造方法においては、上記のように、接着剤の塗工層を形成した後に薄ガラスと光学フィルムとを貼り合わせ、接着剤の硬化により接着剤層を形成することにより、接着不良等の不具合を防止することができ、また、ライン長を短くすることができる。
上記接着剤としては、任意の適切な接着剤が用いられる。上記接着剤としては、例えば、エポキシ基、グリシジル基、オキセタニル基等の環状エーテル基を有する樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂等を含む接着剤が挙げられる。好ましくは、紫外線硬化型の接着剤が用いられる。薄ガラス１０の両面にフィルムが配置される場合、薄ガラス１０の両面に塗工される接着剤は、同種であってもよく異種であってもよい。
上記接着剤の塗工方法としては、エアドクターコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、リバースコーティング、トランスファロールコーティング、グラビアロールコーティング、キスコーティング、キャストコーティング、スプレーコーティング、スロットオリフィスコーティング、カレンダーコーティング、電着コーティング、ディップコーティング、ダイコーティング等のコーティング法；フレキソ印刷等の凸版印刷法、ダイレクトグラビア印刷法、オフセットグラビア印刷法等の凹版印刷法、オフセット印刷法等の平版印刷法、スクリーン印刷法等の孔版印刷法等の印刷法が挙げられる。
上記接着剤の塗工層３０の厚みは、好ましくは０．００１μｍ〜２０μｍであり、より好ましくは０．００５μｍ〜２０μｍであり、さらに好ましくは０．０１μｍ〜１０μｍであり、特に好ましくは０．１μｍ〜１０μｍである。薄ガラス１０の両面にフィルムが配置される場合、薄ガラス１０の両面に形成される塗工層の厚みは、同じであってもよく異なっていてもよい。
１つの実施形態においては、上記光学フィルム２０、２０’に接着剤を塗工して塗工層を形成した後、所定の間隔をおいて、薄ガラス１０と光学フィルム２０、２０’とを貼り合わせる。
上記光学フィルム２０、２０’に接着剤を塗工して塗工層３０を形成した後、薄ガラス１０と光学フィルム２０、２０’とを貼り合わせる前に、接着剤を半硬化させてもよい。
本発明においては、薄ガラス１０が支持された状態で、薄ガラス１０上に光学フィルム２０、２０’を貼り合わせる。「薄ガラスが支持された状態」とは、搬送される薄ガラス（あるいは、薄ガラスと光学フィルムまたは樹脂フィルムとの積層体）が製造装置の搬送機構により支持されている状態を意味する。
１つの実施形態においては、図１に示すように、薄ガラス１０の支持が、搬送ベルト１により行われる。すなわち、薄ガラス１０を搬送ベルト１で支持しながら、薄ガラス１０と光学フィルム２０、２０’とを貼り合わせる。好ましくは、搬送ベルト１とロール２との間に、薄ガラスと光学フィルムとを走行させて、薄ガラスと光学フィルムとを貼り合わせる。なお、当該貼り合わせ工程には、接着剤の塗工層が形成された光学フィルムを供給することが好ましい。上記搬送ベルト１とロール２間のギャップは、薄ガラスと接着剤の塗工層と光学フィルムとの厚みの合計に対して、好ましくは５０％〜９９％であり、より好ましくは６０％〜９９％であり、さらに好ましくは７０％〜９９％であり、特に好ましくは８０％〜９９％であり、最も好ましくは９０％〜９８％である。また、貼り合わせに用いるロールのゴム硬度は、好ましくは５０度〜９５度であり、より好ましくは５０度〜９０度である。なお、ゴム硬度はＪＩＳ Ｋ−６２５３（Ａタイプ）に準じて測定される。
別の実施形態においては、図２に示すように、薄ガラス１０の支持が、支持ロール３により行われる。すなわち、薄ガラス１０を支持ロール３に抱かせ、抱き角を大きくすることにより、薄ガラス１０を該支持ロール３で支持しながら、薄ガラスと光学フィルムとを貼り合わせる。好ましくは、一対のロール間（すなわち、上記支持ロール３と、該支持ロール３に対向するロール３’（以下、対向ロール３’ともいう）との間）に、薄ガラスと光学フィルムとを走行させて、薄ガラスと光学フィルムとを貼り合わせる。支持ロール３および対向ロール３’の表面（光学フィルムと接触する面）を構成する素材としては、好ましくは、ゴム、鉄等が挙げられる。支持ロール３の表面を構成する素材と、対向ロール３’の素材とは同じであってもよく、異なっていてもよい。支持ロール３または対向ロール３’の少なくともいずれか一方が、ゴム表面であることが好ましい。薄ガラスへの負荷を低減し得るからである。なお、当該貼り合わせ工程においても、接着剤の塗工層が形成された光学フィルムを供給することが好ましい。
支持ロール３で薄ガラス１０を支持する際の薄ガラス１０の抱き角αは、好ましくは３０°〜２２０°であり、より好ましくは４５°〜２００°である。なお、抱き角αとは、薄ガラス１０（または薄ガラスとフィルムとの積層体）が支持ロール３を走行し始めた点と、支持ロール３の軸中心と、薄ガラス１０（または薄ガラスとフィルムとの積層体）が支持ロール３から離れる点とでなす角をいう。また、薄ガラス１０（または薄ガラスとフィルムとの積層体）が支持ロール３を走行し始めた点と、支持ロール３の軸中心と、支持ロール３上で薄ガラスと光学フィルムとが貼り合わされる点とがなす角β（図２における角度β）は、抱き角αの１０％〜９０％であることが好ましく、抱き角αの２０％〜８０％であることがより好ましく、抱き角αの３０％〜７０％であることがさらに好ましい。
上記支持ロール３の直径は、好ましくは５０ｍｍ〜３００ｍｍであり、より好ましくは６０ｍｍ〜２５０ｍｍであり、さらに好ましくは１００ｍｍ〜２００ｍｍである。
支持ロール３で薄ガラス１０を支持する際の上記一対のロール間のギャップ（すなわち、上記支持ロール３と、該支持ロール３に対向するロール３’とのギャップ）は、薄ガラスと接着剤の塗工層と光学フィルムとの厚みの合計に対して、好ましくは５０％〜９９％であり、より好ましくは８０％〜９９％であり、さらに好ましくは９０％〜９８％である。また、貼り合わせに用いるロールのゴム硬度は、好ましくは５０度〜９５度であり、より好ましくは５０度〜９０度である。なお、ゴム硬度はＪＩＳ Ｋ−６２５３（Ａタイプ）に準じて測定される。
１つの実施形態においては、上記貼り合わせの際、一対のロールに対して下方から薄ガラスを挿入する（すなわち、薄ガラスを下方から上方に向けて走行させる）。このようにすれば、空気の自重方向（下方向）とは反対方向に上記ロールが回転するため、薄ガラスが空気を同伴することを抑制しながら、薄ガラスと光学フィルムとを貼り合わせることができる。その結果、薄ガラスと光学フィルムとの密着性不良、および、光学積層体の外観不良を防止することができる。また、薄ガラス／光学フィルム間の空気かみこみを防止するため、薄ガラスを破断しない程度に、ロールによる押圧を高くする、ロールの硬度を高くする等の方法を採用してもよい。
薄ガラス１０の両面に光学フィルム２０、２０’を貼り合わせる場合、２枚の光学フィルムはそれぞれ異なるタイミングで、薄ガラス１０に貼り合わされ得る。より詳細には、図１および図２に示すように、薄ガラス１０が支持された状態で、薄ガラス１０の一方の面に第１の光学フィルム２０を貼り合わせ、その後、薄ガラス１０と第１の光学フィルム２０との積層体が支持された状態で、該薄ガラスの他方の面に第２の光学フィルム２０’を貼り合わせる。薄ガラスの両面に光学フィルムを貼り合わせる場合、第１の光学フィルムを貼り合わせる際に薄ガラスを支持する方法と、第２の光学フィルムを貼り合わせる際に薄ガラスを支持する方法とは、同じであってもよく、異なっていてもよい。異なる方法により薄ガラスを支持する形態としては、例えば、搬送ベルトにより薄ガラスを支持して一方の光学フィルムを貼り合わせ、支持ロールにより薄ガラスを支持して他方の光学フィルムを支持する形態が挙げられる。
上記のように、薄ガラスが支持された状態で、薄ガラス上に光学フィルムを貼り合わせれば、薄ガラスのバタツキが抑制され、該薄ガラスの破損を防止することができる。本発明の光学積層体の製造方法は、一貫ラインのライン速度が高速となっても、薄ガラスの破損を防止することができ、生産効率に非常に優れる。
上記樹脂フィルムを薄ガラスに貼り合わせる場合にも、上記で説明した光学フィルムと同様の方法が採用され得る。
好ましくは、上記光学フィルム２０、２０’を薄ガラス１０に貼り合わせたのち、接着剤の塗工層３０を硬化させる。接着剤の硬化方法としては、例えば、紫外光照射および／または加熱処理により硬化させる方法が挙げられる。紫外光照射の照射条件は、代表的には、照射積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２であり、好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２である。上記加熱処理の条件は、代表的には、加熱温度が１００℃〜２００℃で、加熱時間が５分〜２０分である。
好ましくは、紫外線照射により接着剤を硬化させる。紫外線照射により接着剤を硬化させることにより、ガラスの薄型化およびライン速度の高速化に対応しやすくなる。
上記接着剤の塗工層の硬化収縮率は、好ましくは０．１％〜３０％であり、より好ましくは０．５％〜２０％である。「接着剤の塗工層の硬化収縮率」は、接着剤の塗工層を硬化させて接着剤層を形成する際の体積変化率であり、｛（塗工層の体積−接着剤層）／塗工層の体積｝の式で算出される。硬化収縮率は、センテック社製硬化収縮センサー「樹脂硬化収縮応力測定装置ＥＵ２０１Ｃ」によって測定することができる。硬化収縮率の測定方法の詳細は、特開２０１３−１０４８６９号公報に記載されており、この公報は、本明細書に参考として援用される。
１つの実施形態においては、薄ガラスの両面に光学フィルムを積層する場合、薄ガラスの両面に光学フィルムを貼り合わせた後に、接着剤を硬化させる。別の実施形態においては、薄ガラスの一方の面に第１の光学フィルムを貼り合わせた後、薄ガラスと第１の光学フィルムとの間に配置させた接着剤を硬化させ、その後、薄ガラスの他方の面に第２の光学フィルムを貼り合わせた後、薄ガラスと第２の光学フィルムとの間に配置させた接着剤を硬化させる。
上記樹脂フィルムを薄ガラスに積層する場合にも、上記で説明したように接着剤を硬化させて、薄ガラスと樹脂フィルムとを積層させることができる。
上記のようにして接着剤を硬化させることにより、薄ガラス１０と光学フィルム２０、２０’との間に接着剤層３１が形成され、その結果、光学積層体が得られる。
上記接着剤層３１の厚みは、好ましくは０．００１μｍ〜２０μｍであり、より好ましくは０．０１μｍ〜１０μｍである。このような厚みであれば、透明基板の透明性に対する影響が少なく、かつ、高温高湿状況下でも、十分な接着力を発現することができる。
本発明の製造方法においては、任意の適切なタイミングで、薄ガラスの幅方向両端部をスリットしてもよい。薄ガラス製造工程において幅方向両端部にダメージを受けた薄ガラスの幅方向両端部を、スリットして排除することにより、薄ガラスの破損を防止することができる。１つの実施形態においては、上記スリットは、薄ガラスと光学フィルムとを貼り合わせる前に（すなわち、薄ガラスが単体である状態で）行われる。別の実施形態においては、上記スリットは、薄ガラスと光学フィルムとを積層した後、後述の巻取り工程前に行われる。
１つの実施形態においては、上記のようにして製造された光学積層体は、巻取り工程に供され、巻取り工程を経てロール状に巻き取られた光学積層体が得られ、上記一貫工程が終了する。また、積層工程後、すなわち、光学積層体を形成した後、該光学積層体に任意の適切な処理を行った後、該光学積層体を巻き取ってもよい。
本発明の製造方法で得られる光学積層体は、表示素子の基板、有機ＥＬ素子の封止材、全面保護板等に好適に用いられ得る。
１０ 薄ガラス
２０、２０’ 光学フィルム
３０ 塗工層
３１ 接着剤層

Claims (7)

  1. 厚みが１００μｍ以下の薄ガラスを製造する薄ガラス製造工程と、
    該薄ガラスの片面または両面に光学フィルムを積層する積層工程とを含み、
    該薄ガラス製造工程と、該積層工程とが一貫ラインで行われ、
    該積層工程において、
    該薄ガラスが支持された状態で、該薄ガラス上に該光学フィルムを貼り合わせる、
    光学積層体の製造方法。
  2. 厚みが１００μｍ以下の薄ガラスを製造する薄ガラス製造工程と、
    該薄ガラスの両面に光学フィルムを積層する積層工程とを含み、
    該薄ガラス製造工程と、該積層工程とが一貫ラインで行われ、
    該積層工程において、
    該薄ガラスが支持された状態で、該薄ガラスの一方の面に第１の光学フィルムを貼り合わせ、その後、
    該薄ガラスと該第１の光学フィルムとの積層体が支持された状態で、該薄ガラスの他方の面に第２の光学フィルムを貼り合わせる、
    光学積層体の製造方法。
  3. 前記薄ガラスの支持が、搬送ベルトにより行われる、請求項１または２に記載の光学積層体の製造方法。
  4. 前記薄ガラスの支持が、支持ロールにより行われる、請求項１または２に記載の光学積層体の製造方法。
  5. 前記光学フィルムの２３℃における弾性率が、１．５ＧＰａ〜１０ＧＰａである、請求項１から４のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
  6. 前記接着剤層の厚みが、０．００１μｍ〜２０μｍである、請求項１から５のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
  7. 前記接着剤を塗工して形成された塗工層の硬化収縮率が、０．１％〜３０％である、請求項１から６のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
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