JP2017011082A - Reflow furnace - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はリフロー炉に関し、より詳細には、熱容量が異なる複数の電子部品が搭載された基板であっても電子それぞれの電子部品を適切に基板にはんだ付けすることが可能なリフロー炉に関する。 The present invention relates to a reflow furnace, and more particularly, to a reflow furnace capable of appropriately soldering each electronic component to a substrate even on a substrate on which a plurality of electronic components having different heat capacities are mounted.
はんだと電子部品とが搭載された基板に熱風を吹き付け、はんだをリフローさせた後に冷却することで電子部品を基板にはんだ付けするためのリフロー炉が、電子部品搭載基板等の製造現場において広く用いられている。
このようなリフロー炉においては、特許文献1に記載されているように、熱容量が異なる複数の電子部品が搭載された基板であっても、それぞれの電子部品を基板に適切にはんだ付けすることが可能なリフロー炉の構成も提案されている。
A reflow furnace for soldering electronic components to the board by blowing hot air on the board on which the solder and electronic components are mounted, reflowing the solder, and then cooling is widely used in the manufacturing site of electronic component mounting boards, etc. It has been.
In such a reflow furnace, as described in Patent Document 1, it is possible to appropriately solder each electronic component to the substrate even if the substrate is mounted with a plurality of electronic components having different heat capacities. Possible reflow furnace configurations have also been proposed.
特許文献1に記載されているリフロー炉の構成は、基板上において熱容量の大きい電子部品が実装されている部分に対して集中的に熱エネルギを付与することにより、基板と電子部品とのはんだ付けを確実なものにしているが、この際、基板の搬送をその都度ストップさせる構成が採用されている。このように基板の搬送をストップさせるリフロー炉においては、基板への電子部品のはんだ付け作業を効率化することについては、おのずと限界がある。また、特許文献1に開示されているような構成においては、熱容量の大きい電子部品に対しては十分な加熱ができるが、熱容量の小さい電子部品に対しては、積極的な加熱はなされてはいないものの、電子部品が必要以上に加熱されてしまうおそれがあり、リフロー後における電子部品の信頼性が劣ってしまうといった課題もある。 The configuration of the reflow furnace described in Patent Document 1 is that soldering between a substrate and an electronic component is performed by intensively applying thermal energy to a portion where an electronic component having a large heat capacity is mounted on the substrate. In this case, a configuration is adopted in which the transport of the substrate is stopped each time. Thus, in the reflow furnace that stops the conveyance of the substrate, there is a natural limit in improving the efficiency of the soldering operation of the electronic component to the substrate. Further, in the configuration disclosed in Patent Document 1, sufficient heating can be performed for an electronic component having a large heat capacity, but positive heating should not be performed for an electronic component having a small heat capacity. Although not provided, there is a risk that the electronic component may be heated more than necessary, and the reliability of the electronic component after reflow is inferior.
そこで本発明は、熱容量の大きい電子部品と熱容量の小さい電子部品とが混合された状態で搭載された基板に対して、熱容量が小さい電子部品に対する加熱を最小限に抑えると共に、熱容量の大きい電子部品に対しては、はんだをリフローさせるための必要にして十分な加熱を行うことができる構成を採用した。これにより、熱容量が異なるそれぞれの電子部品において、基板とのはんだ付けを電子部品の熱容量に関わらず確実に行うことが可能なリフロー炉の提供を目的としている。 Therefore, the present invention minimizes heating of an electronic component having a small heat capacity to a substrate mounted in a state where an electronic component having a large heat capacity and an electronic component having a small heat capacity are mixed, and the electronic component having a large heat capacity. For this, a configuration that can perform sufficient heating as necessary for reflowing the solder was adopted. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a reflow furnace capable of reliably performing soldering with a substrate in each electronic component having a different heat capacity regardless of the heat capacity of the electronic component.
以上の課題を解決すべく本願発明者が鋭意研究を行った結果、以下の構成に想到した。
すなわち本発明は、メインヒータとファンとが配設された熱風発生部と、電子部品が搭載された基板が搬送手段により搬送される搬送部と、前記熱風発生部と前記搬送部との間を仕切る仕切板と、前記仕切板に複数形成された熱風噴出部と、前記熱風噴出部のうちの少なくとも一箇所に設けられた追加ヒータと、前記搬送部に配設され、前記搬送手段により搬送されている前記基板の通過を検出する基板通過検出部と、前記搬送手段の搬送速度と、前記電子部品のうち他の前記電子部品より高温で加熱すべき高温加熱対象電子部品の前記基板への搭載位置と、が予め記憶されている記憶部と、前記基板通過検出部によって検出された前記基板の通過タイミングと、前記記憶部に記憶されている前記搬送速度と、前記高温加熱対象電子部品の前記基板への搭載位置と、に基づいて、所定のタイミングで前記追加ヒータを加熱して前記高温加熱対象電子部品を前記熱風発生部により生成された熱風よりも高温の追加加熱熱風で加熱するように動作制御する動作制御部と、を具備することを特徴とするリフロー炉である。
As a result of intensive studies by the inventor of the present application in order to solve the above problems, the following configuration has been conceived.
That is, the present invention includes a hot air generating unit in which a main heater and a fan are disposed, a transport unit in which a substrate on which electronic components are mounted is transported by a transport unit, and between the hot air generating unit and the transport unit. A partition plate, a plurality of hot air ejection portions formed on the partition plate, an additional heater provided in at least one of the hot air ejection portions, and the transport unit, and transported by the transport means A board passage detection unit for detecting the passage of the board, a transport speed of the transport means, and mounting of a high-temperature heating target electronic component to be heated at a higher temperature than the other electronic components among the electronic components on the substrate A storage unit in which the position is stored in advance; the substrate passage timing detected by the substrate passage detection unit; the transport speed stored in the storage unit; Based on the mounting position on the substrate, the additional heater is heated at a predetermined timing so that the high-temperature heating target electronic component is heated by the additional heating hot air that is higher in temperature than the hot air generated by the hot air generation unit. An operation control unit for controlling operation is provided.
これにより、熱容量が異なる複数の電子部品が混合された状態で基板に搭載されている場合であっても、搬送手段を停止させることなく、熱容量の大きい電子部品である高温加熱対象電子部品に追加加熱熱風を集中的に噴き付けることができるから、熱容量の小さい電子部品である高温加熱対象外電子部品に余分な加熱が行われることなく、熱容量が異なるそれぞれの電子部品と基板とを確実にはんだ付けすることができる。 As a result, even when multiple electronic components with different heat capacities are mounted on the substrate in a mixed state, it is added to the high-temperature heating target electronic component that is an electronic component with a large heat capacity without stopping the conveying means. Since heated hot air can be intensively sprayed, it is possible to reliably solder each electronic component and substrate with different heat capacities without excessive heating to electronic components that are not subject to high-temperature heating, which are electronic components with small heat capacities. Can be attached.
また、前記追加ヒータは、前記熱風噴出部の熱風発生部側の開口部に立設された筒体と、当該筒体に収容されている熱源と、を有していることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said additional heater has the cylindrical body standingly arranged in the opening part by the side of the hot air generation part of the said hot air ejection part, and the heat source accommodated in the said cylindrical body.
これにより、追加ヒータは筒体の内部空間にある加熱熱風のみを追加加熱するだけでよいため、短時間で確実に追加加熱熱風を生成するリフロー炉とすることができる。 Thereby, since an additional heater only needs to additionally heat only the heated hot air in the internal space of the cylindrical body, it can be a reflow furnace that reliably generates additional heated hot air in a short time.
また、前記筒体は断熱材料により形成されていることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said cylinder is formed with the heat insulation material.
これによれば、追加ヒータが配設されていない熱風噴出部から搬送部の内部空間に噴き出される加熱熱風を追加ヒータにより追加加熱してしまうことがなく、高温加熱対象外電子部品に追加加熱熱風を噴き付けてしまうおそれがなく、高温加熱対象電子部品の信頼性を向上させることができる。 According to this, additional heating is not performed on the electronic components that are not subject to high-temperature heating, without heating the heated hot air blown out from the hot air blowing portion where no additional heater is disposed into the internal space of the transport unit by the additional heater. There is no fear of blowing hot air, and the reliability of the electronic component subject to high-temperature heating can be improved.
また、前記熱源は、螺旋形状をなす電熱線により形成されていることが好ましい。 The heat source is preferably formed by a heating wire having a spiral shape.
これにより、追加ヒータから供給される追加加熱熱風を螺旋流にした状態で搬送部内に供給することができるため高温加熱対象電子部品を効率的に加熱することができる。 Thereby, since the additional heating hot air supplied from the additional heater can be supplied into the conveying portion in a spiral flow, the high-temperature heating target electronic component can be efficiently heated.
本発明にかかるリフロー炉によれば、熱容量の大きい高温加熱対象電子部品と熱容量が小さい高温加熱対象外電子部品とが混合した状態で搭載されている基板に対して、搬送部に配設された基板通過検出部による基板の通過タイミングと、予め記憶部に記憶させた搬送速度とに基づいて複数の追加ヒータを選択的に作動させることにより、高温加熱対象電子部品に対しては追加ヒータにより必要にして十分な加熱を行うと共に、高温加熱対象外電子部品に対する加熱を最小限に抑えることにより、高温加熱対象外電子部品の信頼性を維持した状態で高温加熱対象電子部品と基板とのはんだ付けを確実に行うことができる。 According to the reflow furnace according to the present invention, the high-temperature heating target electronic component having a large heat capacity and the non-high-temperature heating target electronic component having a small heat capacity are disposed in the transfer unit with respect to the substrate mounted in a mixed state. Necessary by additional heaters for high-temperature heating target electronic components by selectively operating multiple additional heaters based on the substrate passage timing by the substrate passage detection unit and the conveyance speed previously stored in the storage unit And soldering the electronic component to be heated to the board while maintaining the reliability of the electronic component not to be heated at high temperature. Can be performed reliably.
以下、本実施形態におけるリフロー炉について図面に基づいて詳細に説明する。
図1に示すように、本実施形態におけるリフロー炉100は、複数の単位炉10を直列に並べて構成されている。リフロー炉100は、リフロー炉100に搬入された電子部品62とはんだ(図示せず)が搭載された基板60を所定温度まで加熱するプレヒート部PHと、プレヒート部PHにおいて所定温度まで加熱された電子部品62とはんだが搭載された基板60をはんだ溶融温度までさらに加熱するリフロー部RFと、リフロー部RFで電子部品62がはんだ付けされた基板60を徐々に冷却する冷却部CLとを有している。このような加熱処理は、記憶部80に予め記憶されている温度プロファイルに基づいて動作制御部70が動作制御を行っている。
Hereinafter, the reflow furnace in this embodiment is demonstrated in detail based on drawing.
As shown in FIG. 1, the
これらのプレヒート部PHとリフロー部RFとは、いずれも図2に示すような単位炉10により構成されている。また、本実施形態における冷却部CLは、図2に示す単位炉10の構成からメインヒータ22と追加ヒータ44を除いたものが用いられるが、図2に示す単位炉10のメインヒータ22と追加ヒータ44とを作動させないようにして用いることもできる。
Each of these preheating part PH and reflow part RF is comprised by the
単位炉10について詳細に説明する。単位炉10は、図2に示すように、メインヒータ22およびファン24が配設され熱風を発生させる熱風発生部20と、搬送手段32および基板通過検出部34とが配設された搬送部30とが、熱風噴出部42および追加ヒータ44がそれぞれ複数箇所に配設された仕切板40により上下に仕切られていると共に、熱風発生部20と搬送部30の外表面がフード50により覆われることによって形成されている。
The
熱風発生部20におけるメインヒータ22は公知の構成を採用することができる。また、本実施形態におけるファン24には図示しない窒素ガスタンクからの窒素ガスが常時供給されている。ファン24の駆動源であるモータMの回転軸には回転軸方向に伸びるガス流通路(図示せず)が形成されていて、ファン24の回転軸の先端部側に形成されたガス噴出部からリフロー炉100(単位炉10)の内部に窒素ガスが供給される。このように本実施形態におけるリフロー炉100は、炉内ガスは、極力空気がパージされた状態となっているが、窒素ガスに代表される不活性ガスを炉内に注入しない構成を採用することもできる。
A known configuration can be adopted for the
搬送部30内には、耐熱性部材により形成されたメッシュコンベア等に代表される無端循環式の搬送手段32が配設されている。搬送手段32は、リフロー炉100の入口側102から出口側104に向けて(図1における矢印Xの方向)基板60を予め設定された速度で搬送する。また、搬送部30には搬送手段32により搬送された基板60の通過タイミングを検出するための基板通過検出部34が配設されている。基板通過検出部34が搬送部30の所定位置において基板60の通過を検出すると、基板通過検出部34は検出信号(基板の通過タイミング)を後述する動作制御部70に送信する。
An endless circulation type conveying means 32 typified by a mesh conveyor formed of a heat resistant member is disposed in the
熱風発生部20と搬送部30とは仕切板40により上下に仕切られている。仕切板40には、熱風発生部20により生成された熱風を搬送部30に噴出させるための貫通孔が熱風噴出部42としてマトリクス状に配設されている。このように仕切板40に複数形成された熱風噴出部42のうち少なくとも一箇所には追加ヒータ44が取り付けられている。本実施形態においては、図2に示すように、追加ヒータ44を熱風噴出部42に対して選択的に取り付けした形態について説明しているが、すべての熱風噴出部42に対して追加ヒータ44を取り付けしてもよい。
The hot
本実施形態における追加ヒータ44は、図3に示すように、熱風噴出部42の熱風発生部側開口部に立設させた筒状体44Aと、筒状体44Aの内部空間に収容された熱源としての電熱線44Bと、を有している。ここでは、円筒型の筒状体44Aと螺旋形状に形成された電熱線44Bとを用いている。このような追加ヒータ44の構成を採用することにより、熱風発生部20内の熱風の一部を追加加熱すると共に、熱風噴出部42から搬送部30に噴き出される追加加熱熱風を螺旋流にすることができる。
As shown in FIG. 3, the
また、電熱線44Bの下側端部の平面位置を熱風噴出部42の平面位置に位置合わせしておけば、追加加熱熱風をよりスムーズな螺旋流で搬送部30に噴き出しすることができる点において好都合である。このような追加加熱熱風を螺旋流により搬送部30に噴き出しすることで、搬送部30内を搬送される基板60に搭載されている電子部品62とはんだを短時間で所定温度に加熱することが可能になる。また、筒状体44Aを断熱材料により形成すれば、追加ヒータ44が配設されていない熱風噴出部42から搬送部30に噴き出しする熱風が追加ヒータ44により追加加熱されてしまうことを防ぐことができる。
In addition, if the planar position of the lower end of the
動作制御部70は、リフロー炉100を構成する各要素の動作命令が予め規定されている動作制御プログラム72と動作制御プログラム72に基づいて各動作命令を実行するCPU74とにより構成されている。動作制御プログラム72は記録媒体やリフロー炉100の不揮発型記憶手段等に代表される記憶部80にCPU74により読み取り可能な状態で予め記憶させておくことができる。このような動作制御プログラム72は公知のリフロー炉における動作制御プログラムと同様のものを用いることができるが、本実施形態においては、搬送手段32の搬送速度および追加ヒータ44と基板通過検出部34による基板60の通過タイミングとが関連付けされている部分についての動作命令の内容に特徴を有している。
The
具体的には、メインヒータ22の出力および追加ヒータ44の出力がそれぞれ記録された熱出力データと、搬送手段32の搬送速度が記録された搬送速度データと、基板60に搭載されている電子部品62のそれぞれにおける熱容量と基板60への配設位置が記録された基板上熱容量分布データとに基づいて、電子部品62とはんだが搭載された基板60に対するリフロー部RFにおける加熱処理の動作命令が特定されているのである。
Specifically, thermal output data in which the output of the
まずCPU74は、基板通過検出部34からの基板通過検出信号(搬送部30の所定位置における基板60の通過タイミング)を受信すると、搬送速度データと基板上熱容量分布データとに基づいて、電子部品62とはんだが搭載された基板60における熱容量が大きい電子部品である高温加熱対象電子部品62Aの搭載位置(以下、高温加熱対象位置という)が所定の追加ヒータ44の直下位置に到達するまでの時間を算出する。
First, when the
次にCPU74は、高温加熱対象位置が追加ヒータ44の直下位置に到達するタイミングに合わせて、追加ヒータ44を起動して、熱風発生部20で生成された熱風を追加加熱する。追加ヒータ44は基板60の搬送方向に沿って複数箇所に配設されているので、ある特定箇所における追加ヒータ44のみを用いた追加加熱処理となることがないため、搬送手段32の搬送速度を変更する必要がない。これにより、リフロー炉100における基板60と電子部品とのリフロー処理能力の低下がない点で、好都合である。
Next, the
また、本実施形態における追加ヒータ44は複数の熱風噴出部42に対して配設されているので、CPU74は、図2内の太線矢印で示すように高温加熱対象位置に対応する位置に配設された追加ヒータ44のみを起動させるようにすることができる。これにより熱容量の小さい電子部品である高温加熱対象外電子部品62Bが搭載されている部分(高温加熱対象外位置)には加熱熱風による追加加熱による影響をほとんど与えることがないため、過剰加熱による高温加熱対象外電子部品62Bの信頼性を失うことなく適切なリフロー処理を行うことができるのである。
In addition, since the
同じリフロー炉100を用いて電子部品62が搭載されている平面位置が異なる基板60に対するリフロー処理を行う場合には、リフロー処理を行う基板60に対応する他の基板上熱容量分布データを記憶部に追加記憶させ、CPU74に他の基板上熱容量分布データを読み込ませれば、リフロー処理を行う基板60に対する電子部品62の搭載状態に対応した追加ヒータ44を適宜稼働させることができ、汎用性の高いリフロー炉100とすることが可能である。
記憶部に予め複数種類の基板上熱容量分布データを記憶させておけば、動作制御部70は、リフロー炉100に配設されている表示装置90に、オペレータに使用可能な基板上熱容量分布データの一覧を表示させ、リフロー処理を行う基板60に応じた基板上熱容量分布データを適宜選択させ、オペレータにより選択された基板上熱容量分布データに基づいて電子部品62と基板60のリフロー処理を実行することもできる。
When reflow processing is performed on a
If a plurality of types of heat capacity distribution data on the substrate are stored in the storage unit in advance, the
また、他の実施形態としては、搬送部30に追加ヒータ44の配設位置に合わせて基板通過検出部34を配設し、追加ヒータ44と基板通過検出部34とを互いに紐付けすることもできる。このような構成を採用することにより、CPU74は、ある基板通過検出部34からの基板通過検出信号(搬送部30の所定位置における基板60の通過タイミング)を受信したときに、基板通過検出信号を受信した基板通過検出部34に紐付けされている追加ヒータ44を図2内の太線矢印で示すように順次作動させればよいため、CPU74による情報処理量を低減させることができ、動作制御部70を簡素化させることができる。
As another embodiment, the substrate
また、追加ヒータ44と基板通過検出部34とを1対1で紐付けするだけでなく、1つの基板通過検出部34に対して複数の追加ヒータ44を紐付けした形態を採用することもできる。この場合、搬送手段32の搬送速度と、基板通過検出部34と追加ヒータ44との平面離間距離と、に基づいてそれぞれの追加ヒータ44の稼働タイミングを決定すればよい。
Further, not only one-to-one association of the
以上に、本発明にかかるリフロー炉100の構成について実施形態と変形例とを用いて詳細に説明をしたが、本発明は以上の実施形態および変形例に限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲であれば、適宜改変を施すこともできる。例えば、本実施形態においては、リフロー炉100の入口側102から出口側104までの間を循環する無端循環式の搬送手段32を用いた形態例について説明しているが、搬送手段32は単位炉10内で無端循環させる形式のものであってもよい。
As mentioned above, although the structure of the
この構成によれば、単位炉10に応じて基板60の搬送速度を変更させることができるため、追加ヒータ44による熱風の追加加熱を行う際には基板60の搬送速度を低下させ、冷却部CLにおける搬送速度を増加させることで、リフロー炉100トータルとしての搬送速度を低下させることなく、追加ヒータ44による熱風の追加加熱処理に十分な時間をかけることができる。換言すると、追加ヒータ44の加熱能力を低下させることができ、リフロー炉100としての消費電力の低減が可能になる。
According to this structure, since the conveyance speed of the board |
また、以上の実施形態においては、追加ヒータ44の構成は、円筒型の筒状体44Aに螺旋形状の電熱線44Bを収容した形態について説明しているが、この形態に限定されるものではない。円筒型の筒状体44Aと、円筒型の筒状体44Aの平面中央位置に配設した軸線とこの軸線周りに形成された螺旋板とを有するスクリューを配設し、軸線または螺旋板に電熱線を埋設して形成した追加ヒータ44とすることもできる。
Moreover, in the above embodiment, although the structure of the
この構成によれば、追加ヒータ44から搬送部30に噴き出される追加加熱熱風の螺旋流をさらに確実なものにすることができる点において好都合である。これとは反対に、円筒体を含む筒状体44Aに直線状の電熱線44Bを収容した追加ヒータ44の構成を採用すれば、追加ヒータ44から搬送部30に噴き出される追加加熱熱風を直線的にすることもできる。
This configuration is advantageous in that the spiral flow of the additional heated hot air blown from the
また、本実施形態内における記載内容を適宜組み合わせた構成を採用することもできる。 Moreover, the structure which combined the description content in this embodiment suitably can also be employ | adopted.
10 単位炉,
20 熱風発生部,22 メインヒータ,24 ファン,
30 搬送部,32 搬送手段,34 基板通過検出部,
40 仕切板,42 熱風噴出部,
44 追加ヒータ,44A 筒状体,44B 電熱線,
50 フード,60 基板,
62 電子部品,62A 高温加熱対象電子部品,62B 高温加熱対象外電子部品,
70 動作制御部,72 動作制御プログラム,74 CPU,
80 記憶部,90 表示装置,
100 リフロー炉,102 入口側,104 出口側,
CL 冷却部,PH プレヒート部,RF リフロー部,
M モータ
10 unit furnace,
20 hot air generator, 22 main heater, 24 fans,
30 transport section, 32 transport means, 34 substrate passage detection section,
40 partition plate, 42 hot air jetting part,
44 additional heater, 44A cylindrical body, 44B heating wire,
50 hoods, 60 substrates,
62 electronic components, 62A electronic components subject to high-temperature heating, 62B electronic components not subject to high-temperature heating,
70 operation control unit, 72 operation control program, 74 CPU,
80 storage units, 90 display devices,
100 reflow furnace, 102 inlet side, 104 outlet side,
CL cooling part, PH preheating part, RF reflow part,
M motor
Claims (4)
電子部品が搭載された基板が搬送手段により搬送される搬送部と、
前記熱風発生部と前記搬送部との間を仕切る仕切板と、
前記仕切板に複数形成された熱風噴出部と、
前記熱風噴出部のうちの少なくとも一箇所に設けられた追加ヒータと、
前記搬送部に配設され、前記搬送手段により搬送されている前記基板の通過を検出する基板通過検出部と、
前記搬送手段の搬送速度と、前記電子部品のうち他の前記電子部品より高温で加熱すべき高温加熱対象電子部品の前記基板への搭載位置と、が予め記憶されている記憶部と、
前記基板通過検出部によって検出された前記基板の通過タイミングと、前記記憶部に記憶されている前記搬送速度と、前記高温加熱対象電子部品の前記基板への搭載位置と、に基づいて、所定のタイミングで前記追加ヒータを加熱して前記高温加熱対象電子部品を前記熱風発生部により生成された熱風よりも高温の追加加熱熱風で加熱するように動作制御する動作制御部と、を具備することを特徴とするリフロー炉。 A hot air generating section in which a main heater and a fan are disposed;
A transport unit in which a substrate on which electronic components are mounted is transported by a transport means;
A partition plate that partitions between the hot air generation unit and the transport unit;
A plurality of hot air ejection portions formed on the partition plate;
An additional heater provided in at least one of the hot air ejection portions;
A substrate passage detection unit that is disposed in the transport unit and detects the passage of the substrate being transported by the transport unit;
A storage unit in which a transport speed of the transport unit and a mounting position of the electronic component to be heated at a higher temperature than the other electronic components among the electronic components on the substrate are stored in advance,
Based on the passage timing of the substrate detected by the substrate passage detection unit, the transport speed stored in the storage unit, and the mounting position of the high-temperature heating target electronic component on the substrate, a predetermined An operation control unit that controls the operation so that the additional heater is heated at a timing to heat the electronic component to be heated at a high temperature with the hot air generated at a higher temperature than the hot air generated by the hot air generation unit. A reflow furnace that is characterized.
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Legal Events
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190115 |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190709 |