JP2017011082A - Reflow furnace - Google Patents

Reflow furnace Download PDF

Info

Publication number
JP2017011082A
JP2017011082A JP2015124391A JP2015124391A JP2017011082A JP 2017011082 A JP2017011082 A JP 2017011082A JP 2015124391 A JP2015124391 A JP 2015124391A JP 2015124391 A JP2015124391 A JP 2015124391A JP 2017011082 A JP2017011082 A JP 2017011082A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
hot air
unit
electronic component
reflow furnace
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015124391A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
剛 立岩
Takeshi Tateiwa
剛 立岩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzuki Co Ltd
Original Assignee
Suzuki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzuki Co Ltd filed Critical Suzuki Co Ltd
Priority to JP2015124391A priority Critical patent/JP2017011082A/en
Publication of JP2017011082A publication Critical patent/JP2017011082A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflow furnace capable of appropriately soldering electronic components to a substrate even if electronic component with different thermal capacities are packaged on the substrate.SOLUTION: A reflow furnace 100 comprises: a hot wind generation part 20 and a conveyance part 30; a partition plate 40 separating the hot wind generation part 20 and the conveyance part 30; a plurality of hot wind emission parts 42 formed on the partition plate 40; an additional heater 44 provided in the hot wind emission part 42; a substrate passage detection part 34 for detecting the passage of a substrate 60; a storage part 80 storing a conveyance speed of conveyance means 32 and a packaging position of an electronic component 62A subjected to high-temperature heating on the substrate 60; and an operation control part 70 for heating the high-temperature heating target electronic component 62A with additional heating hot winds by heating the additional heaters 44 in predetermined timing based on passage timing of the substrate 60 detected by the substrate passage detection part 34, the conveyance speed and the packaging position of the electronic component 62A subjected to high-temperature heating on the substrate 60.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明はリフロー炉に関し、より詳細には、熱容量が異なる複数の電子部品が搭載された基板であっても電子それぞれの電子部品を適切に基板にはんだ付けすることが可能なリフロー炉に関する。   The present invention relates to a reflow furnace, and more particularly, to a reflow furnace capable of appropriately soldering each electronic component to a substrate even on a substrate on which a plurality of electronic components having different heat capacities are mounted.

はんだと電子部品とが搭載された基板に熱風を吹き付け、はんだをリフローさせた後に冷却することで電子部品を基板にはんだ付けするためのリフロー炉が、電子部品搭載基板等の製造現場において広く用いられている。
このようなリフロー炉においては、特許文献1に記載されているように、熱容量が異なる複数の電子部品が搭載された基板であっても、それぞれの電子部品を基板に適切にはんだ付けすることが可能なリフロー炉の構成も提案されている。
A reflow furnace for soldering electronic components to the board by blowing hot air on the board on which the solder and electronic components are mounted, reflowing the solder, and then cooling is widely used in the manufacturing site of electronic component mounting boards, etc. It has been.
In such a reflow furnace, as described in Patent Document 1, it is possible to appropriately solder each electronic component to the substrate even if the substrate is mounted with a plurality of electronic components having different heat capacities. Possible reflow furnace configurations have also been proposed.

特開平8−181427号公報JP-A-8-181427

特許文献1に記載されているリフロー炉の構成は、基板上において熱容量の大きい電子部品が実装されている部分に対して集中的に熱エネルギを付与することにより、基板と電子部品とのはんだ付けを確実なものにしているが、この際、基板の搬送をその都度ストップさせる構成が採用されている。このように基板の搬送をストップさせるリフロー炉においては、基板への電子部品のはんだ付け作業を効率化することについては、おのずと限界がある。また、特許文献1に開示されているような構成においては、熱容量の大きい電子部品に対しては十分な加熱ができるが、熱容量の小さい電子部品に対しては、積極的な加熱はなされてはいないものの、電子部品が必要以上に加熱されてしまうおそれがあり、リフロー後における電子部品の信頼性が劣ってしまうといった課題もある。   The configuration of the reflow furnace described in Patent Document 1 is that soldering between a substrate and an electronic component is performed by intensively applying thermal energy to a portion where an electronic component having a large heat capacity is mounted on the substrate. In this case, a configuration is adopted in which the transport of the substrate is stopped each time. Thus, in the reflow furnace that stops the conveyance of the substrate, there is a natural limit in improving the efficiency of the soldering operation of the electronic component to the substrate. Further, in the configuration disclosed in Patent Document 1, sufficient heating can be performed for an electronic component having a large heat capacity, but positive heating should not be performed for an electronic component having a small heat capacity. Although not provided, there is a risk that the electronic component may be heated more than necessary, and the reliability of the electronic component after reflow is inferior.

そこで本発明は、熱容量の大きい電子部品と熱容量の小さい電子部品とが混合された状態で搭載された基板に対して、熱容量が小さい電子部品に対する加熱を最小限に抑えると共に、熱容量の大きい電子部品に対しては、はんだをリフローさせるための必要にして十分な加熱を行うことができる構成を採用した。これにより、熱容量が異なるそれぞれの電子部品において、基板とのはんだ付けを電子部品の熱容量に関わらず確実に行うことが可能なリフロー炉の提供を目的としている。   Therefore, the present invention minimizes heating of an electronic component having a small heat capacity to a substrate mounted in a state where an electronic component having a large heat capacity and an electronic component having a small heat capacity are mixed, and the electronic component having a large heat capacity. For this, a configuration that can perform sufficient heating as necessary for reflowing the solder was adopted. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a reflow furnace capable of reliably performing soldering with a substrate in each electronic component having a different heat capacity regardless of the heat capacity of the electronic component.

以上の課題を解決すべく本願発明者が鋭意研究を行った結果、以下の構成に想到した。
すなわち本発明は、メインヒータとファンとが配設された熱風発生部と、電子部品が搭載された基板が搬送手段により搬送される搬送部と、前記熱風発生部と前記搬送部との間を仕切る仕切板と、前記仕切板に複数形成された熱風噴出部と、前記熱風噴出部のうちの少なくとも一箇所に設けられた追加ヒータと、前記搬送部に配設され、前記搬送手段により搬送されている前記基板の通過を検出する基板通過検出部と、前記搬送手段の搬送速度と、前記電子部品のうち他の前記電子部品より高温で加熱すべき高温加熱対象電子部品の前記基板への搭載位置と、が予め記憶されている記憶部と、前記基板通過検出部によって検出された前記基板の通過タイミングと、前記記憶部に記憶されている前記搬送速度と、前記高温加熱対象電子部品の前記基板への搭載位置と、に基づいて、所定のタイミングで前記追加ヒータを加熱して前記高温加熱対象電子部品を前記熱風発生部により生成された熱風よりも高温の追加加熱熱風で加熱するように動作制御する動作制御部と、を具備することを特徴とするリフロー炉である。
As a result of intensive studies by the inventor of the present application in order to solve the above problems, the following configuration has been conceived.
That is, the present invention includes a hot air generating unit in which a main heater and a fan are disposed, a transport unit in which a substrate on which electronic components are mounted is transported by a transport unit, and between the hot air generating unit and the transport unit. A partition plate, a plurality of hot air ejection portions formed on the partition plate, an additional heater provided in at least one of the hot air ejection portions, and the transport unit, and transported by the transport means A board passage detection unit for detecting the passage of the board, a transport speed of the transport means, and mounting of a high-temperature heating target electronic component to be heated at a higher temperature than the other electronic components among the electronic components on the substrate A storage unit in which the position is stored in advance; the substrate passage timing detected by the substrate passage detection unit; the transport speed stored in the storage unit; Based on the mounting position on the substrate, the additional heater is heated at a predetermined timing so that the high-temperature heating target electronic component is heated by the additional heating hot air that is higher in temperature than the hot air generated by the hot air generation unit. An operation control unit for controlling operation is provided.

これにより、熱容量が異なる複数の電子部品が混合された状態で基板に搭載されている場合であっても、搬送手段を停止させることなく、熱容量の大きい電子部品である高温加熱対象電子部品に追加加熱熱風を集中的に噴き付けることができるから、熱容量の小さい電子部品である高温加熱対象外電子部品に余分な加熱が行われることなく、熱容量が異なるそれぞれの電子部品と基板とを確実にはんだ付けすることができる。   As a result, even when multiple electronic components with different heat capacities are mounted on the substrate in a mixed state, it is added to the high-temperature heating target electronic component that is an electronic component with a large heat capacity without stopping the conveying means. Since heated hot air can be intensively sprayed, it is possible to reliably solder each electronic component and substrate with different heat capacities without excessive heating to electronic components that are not subject to high-temperature heating, which are electronic components with small heat capacities. Can be attached.

また、前記追加ヒータは、前記熱風噴出部の熱風発生部側の開口部に立設された筒体と、当該筒体に収容されている熱源と、を有していることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said additional heater has the cylindrical body standingly arranged in the opening part by the side of the hot air generation part of the said hot air ejection part, and the heat source accommodated in the said cylindrical body.

これにより、追加ヒータは筒体の内部空間にある加熱熱風のみを追加加熱するだけでよいため、短時間で確実に追加加熱熱風を生成するリフロー炉とすることができる。   Thereby, since an additional heater only needs to additionally heat only the heated hot air in the internal space of the cylindrical body, it can be a reflow furnace that reliably generates additional heated hot air in a short time.

また、前記筒体は断熱材料により形成されていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said cylinder is formed with the heat insulation material.

これによれば、追加ヒータが配設されていない熱風噴出部から搬送部の内部空間に噴き出される加熱熱風を追加ヒータにより追加加熱してしまうことがなく、高温加熱対象外電子部品に追加加熱熱風を噴き付けてしまうおそれがなく、高温加熱対象電子部品の信頼性を向上させることができる。   According to this, additional heating is not performed on the electronic components that are not subject to high-temperature heating, without heating the heated hot air blown out from the hot air blowing portion where no additional heater is disposed into the internal space of the transport unit by the additional heater. There is no fear of blowing hot air, and the reliability of the electronic component subject to high-temperature heating can be improved.

また、前記熱源は、螺旋形状をなす電熱線により形成されていることが好ましい。   The heat source is preferably formed by a heating wire having a spiral shape.

これにより、追加ヒータから供給される追加加熱熱風を螺旋流にした状態で搬送部内に供給することができるため高温加熱対象電子部品を効率的に加熱することができる。   Thereby, since the additional heating hot air supplied from the additional heater can be supplied into the conveying portion in a spiral flow, the high-temperature heating target electronic component can be efficiently heated.

本発明にかかるリフロー炉によれば、熱容量の大きい高温加熱対象電子部品と熱容量が小さい高温加熱対象外電子部品とが混合した状態で搭載されている基板に対して、搬送部に配設された基板通過検出部による基板の通過タイミングと、予め記憶部に記憶させた搬送速度とに基づいて複数の追加ヒータを選択的に作動させることにより、高温加熱対象電子部品に対しては追加ヒータにより必要にして十分な加熱を行うと共に、高温加熱対象外電子部品に対する加熱を最小限に抑えることにより、高温加熱対象外電子部品の信頼性を維持した状態で高温加熱対象電子部品と基板とのはんだ付けを確実に行うことができる。   According to the reflow furnace according to the present invention, the high-temperature heating target electronic component having a large heat capacity and the non-high-temperature heating target electronic component having a small heat capacity are disposed in the transfer unit with respect to the substrate mounted in a mixed state. Necessary by additional heaters for high-temperature heating target electronic components by selectively operating multiple additional heaters based on the substrate passage timing by the substrate passage detection unit and the conveyance speed previously stored in the storage unit And soldering the electronic component to be heated to the board while maintaining the reliability of the electronic component not to be heated at high temperature. Can be performed reliably.

本実施形態におけるリフロー炉の概略構造を示す正面図である。It is a front view which shows schematic structure of the reflow furnace in this embodiment. 図1に示すリフロー炉のうちリフロー部における単位炉の概略構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows schematic structure of the unit furnace in a reflow part among the reflow furnaces shown in FIG. 図2内の追加ヒータの概略構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows schematic structure of the additional heater in FIG.

以下、本実施形態におけるリフロー炉について図面に基づいて詳細に説明する。
図1に示すように、本実施形態におけるリフロー炉100は、複数の単位炉10を直列に並べて構成されている。リフロー炉100は、リフロー炉100に搬入された電子部品62とはんだ(図示せず)が搭載された基板60を所定温度まで加熱するプレヒート部PHと、プレヒート部PHにおいて所定温度まで加熱された電子部品62とはんだが搭載された基板60をはんだ溶融温度までさらに加熱するリフロー部RFと、リフロー部RFで電子部品62がはんだ付けされた基板60を徐々に冷却する冷却部CLとを有している。このような加熱処理は、記憶部80に予め記憶されている温度プロファイルに基づいて動作制御部70が動作制御を行っている。
Hereinafter, the reflow furnace in this embodiment is demonstrated in detail based on drawing.
As shown in FIG. 1, the reflow furnace 100 in this embodiment is configured by arranging a plurality of unit furnaces 10 in series. The reflow furnace 100 includes a preheat part PH that heats the electronic component 62 carried into the reflow furnace 100 and a substrate 60 on which solder (not shown) is mounted to a predetermined temperature, and an electron that is heated to a predetermined temperature in the preheat part PH. The reflow unit RF further heats the component 62 and the substrate 60 on which the solder is mounted to the solder melting temperature, and the cooling unit CL gradually cools the substrate 60 to which the electronic component 62 is soldered by the reflow unit RF. Yes. In such heat treatment, the operation control unit 70 performs operation control based on a temperature profile stored in the storage unit 80 in advance.

これらのプレヒート部PHとリフロー部RFとは、いずれも図2に示すような単位炉10により構成されている。また、本実施形態における冷却部CLは、図2に示す単位炉10の構成からメインヒータ22と追加ヒータ44を除いたものが用いられるが、図2に示す単位炉10のメインヒータ22と追加ヒータ44とを作動させないようにして用いることもできる。   Each of these preheating part PH and reflow part RF is comprised by the unit furnace 10 as shown in FIG. Further, the cooling section CL in the present embodiment is the same as that of the unit furnace 10 shown in FIG. 2 except for the main heater 22 and the additional heater 44. However, the cooling part CL is added to the main heater 22 of the unit furnace 10 shown in FIG. The heater 44 can be used without being operated.

単位炉10について詳細に説明する。単位炉10は、図2に示すように、メインヒータ22およびファン24が配設され熱風を発生させる熱風発生部20と、搬送手段32および基板通過検出部34とが配設された搬送部30とが、熱風噴出部42および追加ヒータ44がそれぞれ複数箇所に配設された仕切板40により上下に仕切られていると共に、熱風発生部20と搬送部30の外表面がフード50により覆われることによって形成されている。   The unit furnace 10 will be described in detail. As shown in FIG. 2, the unit furnace 10 includes a hot air generator 20 that is provided with a main heater 22 and a fan 24 and generates hot air, and a transfer unit 30 that is provided with a transfer means 32 and a substrate passage detection unit 34. The hot air blowing portion 42 and the additional heater 44 are partitioned vertically by the partition plates 40 disposed at a plurality of locations, and the outer surfaces of the hot air generating portion 20 and the conveying portion 30 are covered with the hood 50. Is formed by.

熱風発生部20におけるメインヒータ22は公知の構成を採用することができる。また、本実施形態におけるファン24には図示しない窒素ガスタンクからの窒素ガスが常時供給されている。ファン24の駆動源であるモータMの回転軸には回転軸方向に伸びるガス流通路(図示せず)が形成されていて、ファン24の回転軸の先端部側に形成されたガス噴出部からリフロー炉100(単位炉10)の内部に窒素ガスが供給される。このように本実施形態におけるリフロー炉100は、炉内ガスは、極力空気がパージされた状態となっているが、窒素ガスに代表される不活性ガスを炉内に注入しない構成を採用することもできる。   A known configuration can be adopted for the main heater 22 in the hot air generating unit 20. Further, nitrogen gas from a nitrogen gas tank (not shown) is constantly supplied to the fan 24 in the present embodiment. A gas flow passage (not shown) extending in the direction of the rotation axis is formed on the rotation shaft of the motor M that is the drive source of the fan 24, and from a gas ejection portion formed on the tip end side of the rotation shaft of the fan 24. Nitrogen gas is supplied into the reflow furnace 100 (unit furnace 10). As described above, the reflow furnace 100 in the present embodiment adopts a configuration in which the in-furnace gas is purged of air as much as possible, but an inert gas typified by nitrogen gas is not injected into the furnace. You can also.

搬送部30内には、耐熱性部材により形成されたメッシュコンベア等に代表される無端循環式の搬送手段32が配設されている。搬送手段32は、リフロー炉100の入口側102から出口側104に向けて(図1における矢印Xの方向)基板60を予め設定された速度で搬送する。また、搬送部30には搬送手段32により搬送された基板60の通過タイミングを検出するための基板通過検出部34が配設されている。基板通過検出部34が搬送部30の所定位置において基板60の通過を検出すると、基板通過検出部34は検出信号(基板の通過タイミング)を後述する動作制御部70に送信する。   An endless circulation type conveying means 32 typified by a mesh conveyor formed of a heat resistant member is disposed in the conveying unit 30. The transport means 32 transports the substrate 60 at a preset speed from the inlet side 102 to the outlet side 104 of the reflow furnace 100 (in the direction of arrow X in FIG. 1). The transport unit 30 is provided with a substrate passage detection unit 34 for detecting the passage timing of the substrate 60 transported by the transport means 32. When the substrate passage detection unit 34 detects the passage of the substrate 60 at a predetermined position of the transport unit 30, the substrate passage detection unit 34 transmits a detection signal (substrate passage timing) to the operation control unit 70 described later.

熱風発生部20と搬送部30とは仕切板40により上下に仕切られている。仕切板40には、熱風発生部20により生成された熱風を搬送部30に噴出させるための貫通孔が熱風噴出部42としてマトリクス状に配設されている。このように仕切板40に複数形成された熱風噴出部42のうち少なくとも一箇所には追加ヒータ44が取り付けられている。本実施形態においては、図2に示すように、追加ヒータ44を熱風噴出部42に対して選択的に取り付けした形態について説明しているが、すべての熱風噴出部42に対して追加ヒータ44を取り付けしてもよい。   The hot air generating unit 20 and the conveying unit 30 are partitioned up and down by a partition plate 40. In the partition plate 40, through holes for ejecting hot air generated by the hot air generating unit 20 to the transport unit 30 are arranged in a matrix form as hot air ejecting portions 42. As described above, an additional heater 44 is attached to at least one of the hot-air ejection portions 42 formed in the partition plate 40. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the embodiment in which the additional heater 44 is selectively attached to the hot air ejection portion 42 has been described. However, the additional heater 44 is attached to all the hot air ejection portions 42. It may be attached.

本実施形態における追加ヒータ44は、図3に示すように、熱風噴出部42の熱風発生部側開口部に立設させた筒状体44Aと、筒状体44Aの内部空間に収容された熱源としての電熱線44Bと、を有している。ここでは、円筒型の筒状体44Aと螺旋形状に形成された電熱線44Bとを用いている。このような追加ヒータ44の構成を採用することにより、熱風発生部20内の熱風の一部を追加加熱すると共に、熱風噴出部42から搬送部30に噴き出される追加加熱熱風を螺旋流にすることができる。   As shown in FIG. 3, the additional heater 44 in the present embodiment includes a cylindrical body 44 </ b> A that is erected in the hot air generating section side opening of the hot air ejection section 42, and a heat source that is accommodated in the internal space of the cylindrical body 44 </ b> A. As a heating wire 44B. Here, a cylindrical tubular body 44A and a heating wire 44B formed in a spiral shape are used. By adopting such a configuration of the additional heater 44, a part of the hot air in the hot air generating unit 20 is additionally heated, and the additional heated hot air blown out from the hot air blowing unit 42 to the transport unit 30 is made into a spiral flow. be able to.

また、電熱線44Bの下側端部の平面位置を熱風噴出部42の平面位置に位置合わせしておけば、追加加熱熱風をよりスムーズな螺旋流で搬送部30に噴き出しすることができる点において好都合である。このような追加加熱熱風を螺旋流により搬送部30に噴き出しすることで、搬送部30内を搬送される基板60に搭載されている電子部品62とはんだを短時間で所定温度に加熱することが可能になる。また、筒状体44Aを断熱材料により形成すれば、追加ヒータ44が配設されていない熱風噴出部42から搬送部30に噴き出しする熱風が追加ヒータ44により追加加熱されてしまうことを防ぐことができる。   In addition, if the planar position of the lower end of the heating wire 44B is aligned with the planar position of the hot air ejection part 42, the additional heating hot air can be ejected to the transport unit 30 with a smoother spiral flow. Convenient. By jetting such additional heated hot air to the transport unit 30 by a spiral flow, the electronic component 62 and the solder mounted on the substrate 60 transported in the transport unit 30 can be heated to a predetermined temperature in a short time. It becomes possible. Further, if the cylindrical body 44A is formed of a heat insulating material, it is possible to prevent the additional air from being heated by the additional heater 44 from the hot air ejected from the hot air ejection section 42 where the additional heater 44 is not disposed. it can.

動作制御部70は、リフロー炉100を構成する各要素の動作命令が予め規定されている動作制御プログラム72と動作制御プログラム72に基づいて各動作命令を実行するCPU74とにより構成されている。動作制御プログラム72は記録媒体やリフロー炉100の不揮発型記憶手段等に代表される記憶部80にCPU74により読み取り可能な状態で予め記憶させておくことができる。このような動作制御プログラム72は公知のリフロー炉における動作制御プログラムと同様のものを用いることができるが、本実施形態においては、搬送手段32の搬送速度および追加ヒータ44と基板通過検出部34による基板60の通過タイミングとが関連付けされている部分についての動作命令の内容に特徴を有している。   The operation control unit 70 is configured by an operation control program 72 in which operation commands for respective elements constituting the reflow furnace 100 are defined in advance, and a CPU 74 that executes each operation command based on the operation control program 72. The operation control program 72 can be stored in advance in a state that can be read by the CPU 74 in a storage unit 80 represented by a recording medium, a non-volatile storage unit of the reflow furnace 100, or the like. Such an operation control program 72 can be the same as the operation control program in a known reflow furnace, but in this embodiment, the transfer speed of the transfer means 32 and the additional heater 44 and the substrate passage detection unit 34 are used. It has a feature in the contents of the operation command for the part associated with the passage timing of the substrate 60.

具体的には、メインヒータ22の出力および追加ヒータ44の出力がそれぞれ記録された熱出力データと、搬送手段32の搬送速度が記録された搬送速度データと、基板60に搭載されている電子部品62のそれぞれにおける熱容量と基板60への配設位置が記録された基板上熱容量分布データとに基づいて、電子部品62とはんだが搭載された基板60に対するリフロー部RFにおける加熱処理の動作命令が特定されているのである。   Specifically, thermal output data in which the output of the main heater 22 and the output of the additional heater 44 are recorded, transport speed data in which the transport speed of the transport means 32 is recorded, and electronic components mounted on the substrate 60 Based on the heat capacity in each of 62 and the heat capacity distribution data on the board in which the position on the board 60 is recorded, the operation command of the heating process in the reflow unit RF for the board 60 on which the electronic component 62 and the solder are mounted is specified. It has been done.

まずCPU74は、基板通過検出部34からの基板通過検出信号(搬送部30の所定位置における基板60の通過タイミング)を受信すると、搬送速度データと基板上熱容量分布データとに基づいて、電子部品62とはんだが搭載された基板60における熱容量が大きい電子部品である高温加熱対象電子部品62Aの搭載位置(以下、高温加熱対象位置という)が所定の追加ヒータ44の直下位置に到達するまでの時間を算出する。   First, when the CPU 74 receives a substrate passage detection signal (passage timing of the substrate 60 at a predetermined position of the transport unit 30) from the substrate passage detection unit 34, the electronic component 62 is based on the transport speed data and the heat capacity distribution data on the substrate. And the mounting position of the high-temperature heating target electronic component 62A (hereinafter, referred to as the high-temperature heating target position), which is an electronic component having a large heat capacity, on the board 60 on which the solder is mounted, the time until the position immediately below the predetermined additional heater 44 is reached. calculate.

次にCPU74は、高温加熱対象位置が追加ヒータ44の直下位置に到達するタイミングに合わせて、追加ヒータ44を起動して、熱風発生部20で生成された熱風を追加加熱する。追加ヒータ44は基板60の搬送方向に沿って複数箇所に配設されているので、ある特定箇所における追加ヒータ44のみを用いた追加加熱処理となることがないため、搬送手段32の搬送速度を変更する必要がない。これにより、リフロー炉100における基板60と電子部品とのリフロー処理能力の低下がない点で、好都合である。   Next, the CPU 74 activates the additional heater 44 in accordance with the timing at which the high temperature heating target position reaches a position directly below the additional heater 44, and additionally heats the hot air generated by the hot air generation unit 20. Since the additional heaters 44 are disposed at a plurality of locations along the transport direction of the substrate 60, the additional heating process using only the additional heaters 44 at a specific location does not occur. There is no need to change. This is advantageous in that the reflow processing capacity between the substrate 60 and the electronic component in the reflow furnace 100 does not decrease.

また、本実施形態における追加ヒータ44は複数の熱風噴出部42に対して配設されているので、CPU74は、図2内の太線矢印で示すように高温加熱対象位置に対応する位置に配設された追加ヒータ44のみを起動させるようにすることができる。これにより熱容量の小さい電子部品である高温加熱対象外電子部品62Bが搭載されている部分(高温加熱対象外位置)には加熱熱風による追加加熱による影響をほとんど与えることがないため、過剰加熱による高温加熱対象外電子部品62Bの信頼性を失うことなく適切なリフロー処理を行うことができるのである。   In addition, since the additional heaters 44 in the present embodiment are arranged for the plurality of hot-air ejection portions 42, the CPU 74 is arranged at a position corresponding to the high-temperature heating target position as shown by the thick arrow in FIG. Only the added additional heater 44 can be activated. As a result, the portion (non-high-temperature heating target position) where the high-temperature heating non-electronic component 62B, which is an electronic component having a small heat capacity, is mounted is hardly affected by the additional heating by the heated hot air. Thus, an appropriate reflow process can be performed without losing the reliability of the electronic component 62B not to be heated.

同じリフロー炉100を用いて電子部品62が搭載されている平面位置が異なる基板60に対するリフロー処理を行う場合には、リフロー処理を行う基板60に対応する他の基板上熱容量分布データを記憶部に追加記憶させ、CPU74に他の基板上熱容量分布データを読み込ませれば、リフロー処理を行う基板60に対する電子部品62の搭載状態に対応した追加ヒータ44を適宜稼働させることができ、汎用性の高いリフロー炉100とすることが可能である。
記憶部に予め複数種類の基板上熱容量分布データを記憶させておけば、動作制御部70は、リフロー炉100に配設されている表示装置90に、オペレータに使用可能な基板上熱容量分布データの一覧を表示させ、リフロー処理を行う基板60に応じた基板上熱容量分布データを適宜選択させ、オペレータにより選択された基板上熱容量分布データに基づいて電子部品62と基板60のリフロー処理を実行することもできる。
When reflow processing is performed on a substrate 60 having a different planar position on which the electronic component 62 is mounted using the same reflow furnace 100, the other heat capacity distribution data on the substrate corresponding to the substrate 60 on which reflow processing is performed is stored in the storage unit. If the CPU 74 reads the heat capacity distribution data on another board and stores it on the board 74, the additional heater 44 corresponding to the mounting state of the electronic component 62 on the board 60 to be reflowed can be operated as appropriate. A furnace 100 can be used.
If a plurality of types of heat capacity distribution data on the substrate are stored in the storage unit in advance, the operation control unit 70 displays the heat capacity distribution data on the substrate that can be used by the operator on the display device 90 provided in the reflow furnace 100. Displaying the list, appropriately selecting the heat capacity distribution data on the substrate corresponding to the substrate 60 to be reflowed, and executing the reflow processing of the electronic component 62 and the substrate 60 based on the heat capacity distribution data on the substrate selected by the operator You can also.

また、他の実施形態としては、搬送部30に追加ヒータ44の配設位置に合わせて基板通過検出部34を配設し、追加ヒータ44と基板通過検出部34とを互いに紐付けすることもできる。このような構成を採用することにより、CPU74は、ある基板通過検出部34からの基板通過検出信号(搬送部30の所定位置における基板60の通過タイミング)を受信したときに、基板通過検出信号を受信した基板通過検出部34に紐付けされている追加ヒータ44を図2内の太線矢印で示すように順次作動させればよいため、CPU74による情報処理量を低減させることができ、動作制御部70を簡素化させることができる。   As another embodiment, the substrate passage detection unit 34 is arranged in the transport unit 30 in accordance with the arrangement position of the additional heater 44, and the additional heater 44 and the substrate passage detection unit 34 are linked to each other. it can. By adopting such a configuration, when the CPU 74 receives a substrate passage detection signal (passage timing of the substrate 60 at a predetermined position of the transport unit 30) from a certain substrate passage detection unit 34, the CPU 74 outputs the substrate passage detection signal. Since the additional heaters 44 associated with the received board passage detection unit 34 may be sequentially operated as indicated by the thick arrows in FIG. 2, the information processing amount by the CPU 74 can be reduced, and the operation control unit 70 can be simplified.

また、追加ヒータ44と基板通過検出部34とを1対1で紐付けするだけでなく、1つの基板通過検出部34に対して複数の追加ヒータ44を紐付けした形態を採用することもできる。この場合、搬送手段32の搬送速度と、基板通過検出部34と追加ヒータ44との平面離間距離と、に基づいてそれぞれの追加ヒータ44の稼働タイミングを決定すればよい。   Further, not only one-to-one association of the additional heaters 44 and the substrate passage detection unit 34 but also a configuration in which a plurality of additional heaters 44 are associated with one substrate passage detection unit 34 can be employed. . In this case, the operation timing of each additional heater 44 may be determined based on the conveyance speed of the conveyance means 32 and the plane separation distance between the substrate passage detection unit 34 and the additional heater 44.

以上に、本発明にかかるリフロー炉100の構成について実施形態と変形例とを用いて詳細に説明をしたが、本発明は以上の実施形態および変形例に限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲であれば、適宜改変を施すこともできる。例えば、本実施形態においては、リフロー炉100の入口側102から出口側104までの間を循環する無端循環式の搬送手段32を用いた形態例について説明しているが、搬送手段32は単位炉10内で無端循環させる形式のものであってもよい。   As mentioned above, although the structure of the reflow furnace 100 concerning this invention was demonstrated in detail using embodiment and the modification, this invention is not limited to the above embodiment and modification, and the summary of invention. If it is the range which does not change, it can also modify | change suitably. For example, in the present embodiment, an example in which the endless circulation type conveying means 32 that circulates from the inlet side 102 to the outlet side 104 of the reflow furnace 100 is described. However, the conveying means 32 is a unit furnace. 10 may be of an endless circulation type.

この構成によれば、単位炉10に応じて基板60の搬送速度を変更させることができるため、追加ヒータ44による熱風の追加加熱を行う際には基板60の搬送速度を低下させ、冷却部CLにおける搬送速度を増加させることで、リフロー炉100トータルとしての搬送速度を低下させることなく、追加ヒータ44による熱風の追加加熱処理に十分な時間をかけることができる。換言すると、追加ヒータ44の加熱能力を低下させることができ、リフロー炉100としての消費電力の低減が可能になる。   According to this structure, since the conveyance speed of the board | substrate 60 can be changed according to the unit furnace 10, when performing the additional heating of the hot air by the additional heater 44, the conveyance speed of the board | substrate 60 is reduced, and cooling part CL By increasing the transfer speed at, sufficient time can be taken for the additional heat treatment of the hot air by the additional heater 44 without reducing the transfer speed as a total of the reflow furnace 100. In other words, the heating capacity of the additional heater 44 can be reduced, and the power consumption of the reflow furnace 100 can be reduced.

また、以上の実施形態においては、追加ヒータ44の構成は、円筒型の筒状体44Aに螺旋形状の電熱線44Bを収容した形態について説明しているが、この形態に限定されるものではない。円筒型の筒状体44Aと、円筒型の筒状体44Aの平面中央位置に配設した軸線とこの軸線周りに形成された螺旋板とを有するスクリューを配設し、軸線または螺旋板に電熱線を埋設して形成した追加ヒータ44とすることもできる。   Moreover, in the above embodiment, although the structure of the additional heater 44 demonstrated the form which accommodated the helical heating wire 44B in the cylindrical cylindrical body 44A, it is not limited to this form. . A screw having a cylindrical tubular body 44A, an axis disposed at the center of the plane of the cylindrical tubular body 44A, and a spiral plate formed around the axis is disposed, and an electric power is supplied to the axis or the spiral plate. An additional heater 44 formed by embedding a heat ray may be used.

この構成によれば、追加ヒータ44から搬送部30に噴き出される追加加熱熱風の螺旋流をさらに確実なものにすることができる点において好都合である。これとは反対に、円筒体を含む筒状体44Aに直線状の電熱線44Bを収容した追加ヒータ44の構成を採用すれば、追加ヒータ44から搬送部30に噴き出される追加加熱熱風を直線的にすることもできる。   This configuration is advantageous in that the spiral flow of the additional heated hot air blown from the additional heater 44 to the transport unit 30 can be further ensured. On the contrary, if the configuration of the additional heater 44 in which the linear heating wire 44B is accommodated in the cylindrical body 44A including the cylindrical body is adopted, the additional heating hot air blown from the additional heater 44 to the transport unit 30 is linearly generated. It can also be done.

また、本実施形態内における記載内容を適宜組み合わせた構成を採用することもできる。   Moreover, the structure which combined the description content in this embodiment suitably can also be employ | adopted.

10 単位炉,
20 熱風発生部,22 メインヒータ,24 ファン,
30 搬送部,32 搬送手段,34 基板通過検出部,
40 仕切板,42 熱風噴出部,
44 追加ヒータ,44A 筒状体,44B 電熱線,
50 フード,60 基板,
62 電子部品,62A 高温加熱対象電子部品,62B 高温加熱対象外電子部品,
70 動作制御部,72 動作制御プログラム,74 CPU,
80 記憶部,90 表示装置,
100 リフロー炉,102 入口側,104 出口側,
CL 冷却部,PH プレヒート部,RF リフロー部,
M モータ
10 unit furnace,
20 hot air generator, 22 main heater, 24 fans,
30 transport section, 32 transport means, 34 substrate passage detection section,
40 partition plate, 42 hot air jetting part,
44 additional heater, 44A cylindrical body, 44B heating wire,
50 hoods, 60 substrates,
62 electronic components, 62A electronic components subject to high-temperature heating, 62B electronic components not subject to high-temperature heating,
70 operation control unit, 72 operation control program, 74 CPU,
80 storage units, 90 display devices,
100 reflow furnace, 102 inlet side, 104 outlet side,
CL cooling part, PH preheating part, RF reflow part,
M motor

Claims (4)

メインヒータとファンとが配設された熱風発生部と、
電子部品が搭載された基板が搬送手段により搬送される搬送部と、
前記熱風発生部と前記搬送部との間を仕切る仕切板と、
前記仕切板に複数形成された熱風噴出部と、
前記熱風噴出部のうちの少なくとも一箇所に設けられた追加ヒータと、
前記搬送部に配設され、前記搬送手段により搬送されている前記基板の通過を検出する基板通過検出部と、
前記搬送手段の搬送速度と、前記電子部品のうち他の前記電子部品より高温で加熱すべき高温加熱対象電子部品の前記基板への搭載位置と、が予め記憶されている記憶部と、
前記基板通過検出部によって検出された前記基板の通過タイミングと、前記記憶部に記憶されている前記搬送速度と、前記高温加熱対象電子部品の前記基板への搭載位置と、に基づいて、所定のタイミングで前記追加ヒータを加熱して前記高温加熱対象電子部品を前記熱風発生部により生成された熱風よりも高温の追加加熱熱風で加熱するように動作制御する動作制御部と、を具備することを特徴とするリフロー炉。
A hot air generating section in which a main heater and a fan are disposed;
A transport unit in which a substrate on which electronic components are mounted is transported by a transport means;
A partition plate that partitions between the hot air generation unit and the transport unit;
A plurality of hot air ejection portions formed on the partition plate;
An additional heater provided in at least one of the hot air ejection portions;
A substrate passage detection unit that is disposed in the transport unit and detects the passage of the substrate being transported by the transport unit;
A storage unit in which a transport speed of the transport unit and a mounting position of the electronic component to be heated at a higher temperature than the other electronic components among the electronic components on the substrate are stored in advance,
Based on the passage timing of the substrate detected by the substrate passage detection unit, the transport speed stored in the storage unit, and the mounting position of the high-temperature heating target electronic component on the substrate, a predetermined An operation control unit that controls the operation so that the additional heater is heated at a timing to heat the electronic component to be heated at a high temperature with the hot air generated at a higher temperature than the hot air generated by the hot air generation unit. A reflow furnace that is characterized.
前記追加ヒータは、前記熱風噴出部の熱風発生部側開口部に立設された筒体と、当該筒体に収容されている熱源と、を有していることを特徴とする請求項1記載のリフロー炉。   The said additional heater has a cylinder standingly arranged in the hot air generation part side opening part of the said hot-air ejection part, and the heat source accommodated in the said cylinder. Reflow furnace. 前記筒体は断熱材料により形成されていることを特徴とする請求項2記載のリフロー炉。   The reflow furnace according to claim 2, wherein the cylindrical body is made of a heat insulating material. 前記熱源は、螺旋形状をなす電熱線により形成されていることを特徴とする請求項2または3記載のリフロー炉。   The reflow furnace according to claim 2 or 3, wherein the heat source is formed by a heating wire having a spiral shape.
JP2015124391A 2015-06-22 2015-06-22 Reflow furnace Pending JP2017011082A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015124391A JP2017011082A (en) 2015-06-22 2015-06-22 Reflow furnace

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015124391A JP2017011082A (en) 2015-06-22 2015-06-22 Reflow furnace

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017011082A true JP2017011082A (en) 2017-01-12

Family

ID=57761761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015124391A Pending JP2017011082A (en) 2015-06-22 2015-06-22 Reflow furnace

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2017011082A (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH036890A (en) * 1989-06-05 1991-01-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Heating and device therefor
JPH03216271A (en) * 1990-01-22 1991-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Heater
JPH11192545A (en) * 1998-01-06 1999-07-21 Tamura Seisakusho Co Ltd Reflow device
JP2001196736A (en) * 2000-01-12 2001-07-19 Sony Corp Reflow system

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH036890A (en) * 1989-06-05 1991-01-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Heating and device therefor
JPH03216271A (en) * 1990-01-22 1991-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Heater
JPH11192545A (en) * 1998-01-06 1999-07-21 Tamura Seisakusho Co Ltd Reflow device
JP2001196736A (en) * 2000-01-12 2001-07-19 Sony Corp Reflow system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5711583B2 (en) Reflow device
JP6188671B2 (en) Steam reflow apparatus and steam reflow method
JP2009190061A (en) Reflowing device
JP6799814B2 (en) Gas phase heating method and vapor phase heating device
JP7402224B2 (en) Reflow oven cooling system
JP4602536B2 (en) Reflow soldering equipment
CN108971683B (en) Gas phase heating method and gas phase heating device
JP2017011082A (en) Reflow furnace
JPWO2011135737A1 (en) Heating device and cooling device
JP2015002325A (en) Steam reflow device and steam reflow method
JP5264079B2 (en) Heating device
JP6336707B2 (en) Reflow device
US9381676B2 (en) Method for placing an oven for heat-treating preforms on standby
JP2003332727A (en) Heat shielding member and reflow apparatus
JP2007012874A (en) Substrate heating method, substrate heating apparatus, and hot-air reflow apparatus
JP2005079466A (en) Reflow device having cooling mechanism and reflow furnace using the reflow device
JP4957797B2 (en) heating furnace
JP6502909B2 (en) Reflow device
JP2005125340A (en) Reflow furnace and its starting method
JP2007281271A (en) Solder heating device and method therefor
CN100457350C (en) Heating device of the heating braze welding region of the interval type braze welding furnace
TWI848962B (en) A cooling system for a reflow furnace
JP2018073902A (en) Reflow device
JPH11298135A (en) Heating furnace for soldering
JP2007035774A (en) Reflow soldering equipment and reflow soldering method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180515

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190110

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190115

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190709