JP2016541091A5 - イオン注入装置及びその動作方法、イオン注入装置におけるデュアルモード動作用のシステム - Google Patents

Description

図２には具体的に示さないが、種々の実施形態では、イオン源１０２を、質量分析磁石１０４に入るリボンビームを発生するように構成することができる。種々の実施形態では、リボンビームが、スポットビームと比べて相対的に大きい、Ｘ軸に平行な方向に沿ったビーム幅を有することができる。このリボンビームは、スポットビームに比べて相対的に小さいアスペクト比を有することができ、このアスペクト比は、Ｘ軸に平行なイオンビーム幅に対するＹ軸に平行なイオンビーム高の比率によって定義される。リボンビームについては、このアスペクト比を三分の一（１／３）未満にすることができ、一部の実施形態では十分の一未満にすることができる。例えば、イオンがＺs軸に沿った軌跡を有して基板１１４に供給されるリボンビームは、基板１１４において、Ｘs軸に沿った約３００〜４００mmの幅及びＹ軸に沿った約２０mmの高さを有することができる。実施形態はこの関係に限定されない。

Claims (15)

1. イオン注入装置におけるデュアルモード動作用のシステムであって、
   イオンビームのビーム幅を、当該イオンビームの第１の局所的伝搬方向に直交する第１方向に調整するための可動のビームブロッカーと、
   第１状態時に前記イオンビームを当該イオンビームの第２の局所的伝搬方向に直交する第２方向に走査し、第２状態において前記イオンビームを乱さずに透過させるスキャナと、
   前記イオンビームの幅を前記スキャナの前記状態に合わせて調整するための一組の信号を、前記可動のビームブロッカー及び前記スキャナに送信するモード選択器と
   を備えているシステム。
2. 前記可動のビームブロッカーが第１位置と第２位置との間を移動するように構成され、前記第１位置において、前記イオンビームが、当該イオンビームの第１ビーム幅に対する第１ビーム高の比率によって定義される第１アスペクト比を有するリボンビームを形成し、前記第２位置において、前記イオンビームが、当該イオンビームの第２ビーム幅に対する第２ビーム高の比率によって定義される第２アスペクト比を有するスポットビームを形成し、前記第１アスペクト比が第２アスペクト比よりも小さい、請求項１に記載のシステム。
3. 質量分析磁石をさらに備え、前記可動のビームブロッカーが前記質量分析磁石内に配置されている、請求項１に記載のシステム。
4. 前記イオンビームを発生するためのイオン源をさらに備え、前記可動のビームブロッカーが前記イオン源のアークチャンバ内に配置されている、請求項１に記載のシステム。
5. 前記イオンビームを発生するためのイオン源をさらに備え、前記可動のビームブロッカーが前記イオン源のアークチャンバの外側に配置されている、請求項１に記載のシステム。
6. 前記モード選択器が、
   リボンビームを遮断することなしに透過させるように設定された第１開口幅を有するための第１信号を、前記可動のビームブロッカーに送信し、
   前記可動のビームブロッカーが前記第１開口幅を有する際に、前記スキャナを前記第２状態に維持するための第２信号を前記スキャナに送信する
   ように構成されている、請求項１に記載のシステム。
7. 前記モード選択器が、
   前記可動のビームブロッカー上に入射するリボンビームの部分を遮断して、前記リボンビームの一部分がスポットビームとして透過するように設定された第２開口幅を有するための第３信号を、前記可動のビームブロッカーに送信し、
   前記可動のビームブロッカーが前記第２開口幅を有する際に、前記スポットビームを走査するための第４信号を前記スキャナに送信する
   ように構成されている、請求項１に記載のシステム。
8. イオン注入装置であって、
   イオンビームを発生するためのイオン源と、
   前記イオン注入装置内の第１の場所に配置され、第１位置から第２位置へ移動するように構成された可動のビームブロッカーとを備え、前記第１位置において、前記イオンビームが第１ビーム幅を有するリボンビームを形成し、前記第２位置において、前記イオンビームが第２ビーム幅を有するスポットビームを形成し、前記第１ビーム幅は前記第２ビーム幅よりも大きいイオン注入装置。
9. 質量分析磁石をさらに備え、前記可動のビームブロッカーが前記質量分析磁石内に配置されている、請求項８に記載のイオン注入装置。
10. 前記可動のビームブロッカーが、前記イオン源のアークチャンバ内に配置されている、請求項８に記載のイオン注入装置。
11. 前記可動のビームブロッカーが、前記イオン源のアークチャンバの外側に配置されている、請求項８に記載のイオン注入装置。
12. 前記可動のビームブロッカーの下流に配置されたスキャナをさらに備え、該スキャナは、第１状態時に前記イオンビームを当該イオンビームの伝搬方向に直交する方向に走査するように構成され、第２状態時に前記イオンビームを乱さずに透過させるように構成されている、請求項８に記載のイオン注入装置。
13. イオン注入装置を動作させる方法であって、
    前記イオン注入装置の動作のモードを変更するための入力を受信するステップと、
    第１信号を可動のビームブロッカーに送信して、イオンビームを透過させる開口幅を調整するステップと、
    前記第１信号に合わせた第２信号をスキャナに送信して、第１状態と第２状態との間で状態を変更するステップとを含み、前記第１状態において、前記スキャナは前記イオンビームを走査するように構成され、前記第２状態において、前記スキャナは前記イオンビームを乱さずに透過させるように構成されている方法。
14. 前記第１信号は、前記開口幅を、リボンビームを遮断することなしに透過させるように設定された第１開口幅まで増加させるための、前記可動のビームブロッカーに対する信号であり、前記第２信号は、前記可動のビームブロッカーが前記第１開口幅を有する際に、前記スキャナを第２状態に維持するための信号である、請求項１３に記載の方法。
15. 前記第１信号は、前記開口幅を、前記可動のビームブロッカー上に入射するリボンビームの部分を遮断するように設定された第２開口幅まで減少させるための、前記可動のビームブロッカーに対する信号であり、前記リボンビームの一部分がスポットビームとして透過し、前記第２信号は、前記可動のビームブロッカーが前記第２開口幅を有する際に、前記スキャナを前記第１状態に維持するための信号である、請求項１３に記載の方法。