JP2016526174A - Optical laminate - Google Patents
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Abstract
本発明は、光学積層体に関し、より詳しくは、光ルミネッセンス量子ドット粒子を含む光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に付設されることで、光による刺激で発光するため、レーザーポインタをディスプレイに直接表示する場合にレーザーポインタの視認性を顕著に向上させることができる光学積層体に関する。The present invention relates to an optical layered body, and more specifically, includes a photoluminescence layer including photoluminescence quantum dot particles, and is attached to one surface of a display panel to emit light by stimulation with light. The present invention relates to an optical laminate that can remarkably improve the visibility of a laser pointer when directly displayed on a display.
Description
本発明は、光ルミネッセンス層を備えた光学積層体に関する。 The present invention relates to an optical laminate including a photoluminescence layer.
従来、会議や発表会等におけるプレゼンテーションでは、プロジエクターを用いて資料画像をスクリーンや壁に投映することが頻繁に行われて来た。その時、発表者は、プレゼンテーション画像上のある箇所にレーザー光を透写するレーザーポインタを用い、スクリーン等を指しながらプレゼンテーションを行うことが一般的である。 Conventionally, in presentations at conferences and presentations, project images have been frequently projected on screens and walls using a projector. At that time, it is common for a presenter to make a presentation while pointing a screen or the like using a laser pointer that transmits laser light at a certain location on a presentation image.
プロジエクターを用いたスクリーン投映の場合、投影される画像においては、コントラストが低下するか、或いは画質が悪くなるといった問題がある。一方で、近年では、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）のサイズが７０インチを超える大型化が進んでおり、プロジエクター投映ではなく、これらディスプレイ自体に直接画像を表示してプレゼンテーションを行うことも可能となっている。 In the case of screen projection using a projector, the projected image has a problem that the contrast is lowered or the image quality is deteriorated. On the other hand, in recent years, liquid crystal displays (LCDs) and plasma displays (PDPs) have become larger than 70 inches in size, and are not projected by projectors, but are displayed directly on these displays themselves for presentations. It is also possible.
しかしながら、ディスプレイによる直接表示でプレゼンテーションを行う場合、ディスプレイが自発発光構造を有するため、レーザーポインタによるレーザー光の投射は視認され難い。また、ディスプレイ自らの表示品位を向上させるため、ディスプレイ表面における防眩性を向上させると、レーザーポインタの投射光の反射も抑制されるので、レーザーポインタの視認性が向上しないといった課題が生じる。近年では、日本国特開２００１−２３６１８１号公報に開示されているように、ディスプレイ上で画面指示操作を行うポインティングデバイスとしてレーザーポインタを用いる可能性もあるため、その視認性はより一層重要となっている。 However, when a presentation is performed by direct display on a display, since the display has a spontaneous emission structure, the projection of laser light by a laser pointer is difficult to be visually recognized. In addition, if the antiglare property on the display surface is improved in order to improve the display quality of the display itself, reflection of the light projected from the laser pointer is also suppressed, so that the visibility of the laser pointer is not improved. In recent years, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-236181, there is a possibility that a laser pointer is used as a pointing device for performing a screen instruction operation on a display. Therefore, the visibility becomes even more important. ing.
本発明は、レーザーポインタの視認性を向上させることができる光学積層体を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the optical laminated body which can improve the visibility of a laser pointer.
１．光ルミネッセンス量子ドット（quantum dot）粒子を含む光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に貼り合わせられることを特徴とする、光学積層体。 1. An optical laminate comprising a photoluminescence layer containing photoluminescence quantum dot particles and being bonded to one surface of a display panel.
２．前記項目１において、前記光ルミネッセンス量子ドット粒子は、量子ドット粒子、量子ドット含有粒子又はこれらの混合物である、光学積層体。 2. In the item 1, the photoluminescent quantum dot particle is an optical laminate, which is a quantum dot particle, a quantum dot-containing particle, or a mixture thereof.
３．前記項目２において、前記量子ドット粒子は、ＩＩ−ＶＩ族半導体化合物、ＩＩＩ−Ｖ族半導体化合物、ＩＶ−ＶＩ族半導体化合物、ＩＶ族元素又はこれを含む化合物、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される半導体物質を含む、光学積層体。 3. In the above item 2, the quantum dot particles are selected from the group consisting of II-VI group semiconductor compounds, III-V group semiconductor compounds, IV-VI group semiconductor compounds, group IV elements or compounds containing these, and combinations thereof. Optical laminate comprising a semiconductor material to be processed.
４．前記項目２において、前記量子ドット含有粒子は、無機物コア粒子又は高分子コア粒子の表面に結合された少なくとも一種の量子ドット粒子を含む、光学積層体。 4). 2. The optical laminate according to item 2, wherein the quantum dot-containing particles include at least one kind of quantum dot particles bonded to the surface of inorganic core particles or polymer core particles.
５．前記項目１において、前記光ルミネッセンス量子ドット粒子の吸収波長は、３５０〜４５０ｎｍ又は６００〜６５０ｎｍである、光学積層体。 5). In the said item 1, the optical laminated body whose absorption wavelength of the said photo-luminescence quantum dot particle is 350-450 nm or 600-650 nm.
６．前記項目１において、前記光ルミネッセンス層は、前記光ルミネッセンス量子ドット粒子、透光性樹脂、開始剤、及び溶剤を含む光ルミネッセンス層形成用組成物を塗布して形成される、光学積層体。 6). In the item 1, the optical luminescence layer is formed by applying a composition for forming a photoluminescence layer containing the photoluminescence quantum dot particles, a translucent resin, an initiator, and a solvent.
７．前記項目１において、前記光ルミネッセンス層は、ハードコーティング層、偏光子、偏光子保護層、位相差層、反射防止層、帯電防止層、高屈折層、低屈折層、防汚層、粘着層、接着層又はこれらの基材フィルムである、光学積層体。 7). In the above item 1, the photoluminescence layer includes a hard coating layer, a polarizer, a polarizer protective layer, a retardation layer, an antireflection layer, an antistatic layer, a high refractive layer, a low refractive layer, an antifouling layer, an adhesive layer, An optical laminate, which is an adhesive layer or a substrate film thereof.
８．前記項目１において、光学積層体は偏光板である、光学積層体。 8). In the item 1, the optical laminate is a polarizing plate.
９．前記項目１〜８のいずれか一項目に記載の前記光学積層体を備えた画像表示装置。 9. The image display apparatus provided with the said optical laminated body as described in any one item of the said items 1-8.
１０．前記項目９において、液晶表示装置である画像表示装置。 10. In the item 9, the image display device which is a liquid crystal display device.
本発明の光学積層体は、光ルミネッセンス量子ドット粒子を含むことで光による刺激で発光するため、レーザーポインタをディスプレイに直接表示する場合、レーザーポインタの視認性を顕著に向上させることができる。 Since the optical layered body of the present invention includes photoluminescence quantum dot particles and emits light by stimulation with light, when the laser pointer is directly displayed on the display, the visibility of the laser pointer can be remarkably improved.
本発明は、光ルミネッセンス量子ドット粒子を含む光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に付設されることで、光による刺激で発光するため、レーザーポインタをディスプレイに直接表示する場合、レーザーポインタの視認性を顕著に向上させることができる光学積層体に関する。 The present invention includes a photoluminescence layer including photoluminescence quantum dot particles, and is attached to one surface of a display panel to emit light when stimulated by light. Therefore, when a laser pointer is directly displayed on a display, the laser pointer It is related with the optical laminated body which can improve notably the visibility.
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本発明の光学積層体は、光ルミネッセンス量子ドット（quantum dot）粒子を含む光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に付設される。 The optical layered body of the present invention includes a photoluminescence layer containing photoluminescence quantum dot particles, and is attached to one surface of a display panel.
本発明において光ルミネッセンス層は、光によって刺激を受けて自ら光を発する層をいう。本発明の光学積層体は、かかる光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に付設されることで、レーザーポインタの光によって該当部位が発光し、レーザーポインタの視認性を顕著に改善することができる。 In the present invention, the photoluminescence layer refers to a layer that emits light when stimulated by light. The optical layered body of the present invention includes such a photoluminescence layer, and is attached to one surface of the display panel, so that the corresponding portion emits light by the light of the laser pointer, and the visibility of the laser pointer is remarkably improved. Can do.
本発明の光学積層体は、ディスプレイパネルの一方の面に付設される。複数の光学機能性フィルム又はその他の構成下に位置するか、或いはディスプレイパネルを基準として視認者側の背面に位置しても、レーザーポインタの光によって光ルミネッセンス現象が生じ得る位置であれば特に限定されない。 The optical layered body of the present invention is attached to one surface of the display panel. It is particularly limited as long as it is located under a plurality of optical functional films or other structures, or even if it is located on the back side of the viewer side with reference to the display panel, the photoluminescence phenomenon can occur due to the light of the laser pointer. Not.
本発明による光ルミネッセンス量子ドット粒子は、量子ドット粒子、量子ドット含有粒子又はこれらの混合物であってよい。 The photoluminescent quantum dot particles according to the present invention may be quantum dot particles, quantum dot-containing particles or a mixture thereof.
量子ドットとは、ナノサイズの半導体物質である。原子が分子を成し、分子はクラスタという小さな分子の集合体を構成することでナノ粒子を成すが、このようなナノ粒子が特に半導体特性を有している時、それを量子ドットという。 A quantum dot is a nano-sized semiconductor material. An atom forms a molecule, and a molecule forms a nanoparticle by forming an assembly of small molecules called clusters. When such a nanoparticle has semiconductor characteristics, it is called a quantum dot.
量子ドットは、外部からエネルギーを受けて励起状態になると、自ら該当するエネルギーバンドギャップによるエネルギーを放出する。 When a quantum dot is excited by receiving energy from the outside, it emits energy by its own energy band gap.
量子ドット粒子は、湿式化学工程（wet chemical process）、有機金属化学蒸着工程又は分子線エピタキシー工程によって合成されてもよい。湿式化学工程は、有機溶媒に前駆体物質を加えて粒子を成長させる方法である。結晶が成長する時、有機溶媒が自然に量子ドット結晶の表面に配位されて分散剤の役割を果たすことで結晶の成長を調節する。そのため、有機金属化学蒸着（ＭＯＣＶＤ；metal organic chemical vapor deposition）や分子線エピタキシー（ＭＢＥ；molecular beam epitaxy）のような気相蒸着法よりさらに容易且つ安価な工程によって、ナノ粒子の成長を制御することができる。 The quantum dot particles may be synthesized by a wet chemical process, a metal organic chemical vapor deposition process or a molecular beam epitaxy process. The wet chemical process is a method of growing particles by adding a precursor material to an organic solvent. When the crystal grows, the organic solvent is naturally coordinated on the surface of the quantum dot crystal to control the growth of the crystal by acting as a dispersant. Therefore, controlling the growth of nanoparticles by a process that is easier and cheaper than vapor phase deposition methods such as metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) and molecular beam epitaxy (MBE). Can do.
本発明による量子ドット粒子は、光による刺激で発光することができる量子ドット粒子であれば特に限定されることなく、例えば、ＩＩ−ＶＩ族半導体化合物、ＩＩＩ−Ｖ族半導体化合物、ＩＶ−ＶＩ族半導体化合物、ＩＶ族元素又はこれを含む化合物、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される半導体物質を含む。 The quantum dot particle according to the present invention is not particularly limited as long as it is a quantum dot particle that can emit light when stimulated by light, and examples thereof include a II-VI group semiconductor compound, a III-V group semiconductor compound, and a IV-VI group. A semiconductor material selected from the group consisting of semiconductor compounds, Group IV elements or compounds containing these, and combinations thereof is included.
前記ＩＩ−ＶＩ族半導体化合物は、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＺｎＯ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される二元素化合物；ＣｄＳｅＳ、ＣｄＳｅＴｅ、ＣｄＳＴｅ、ＺｎＳｅＳ、ＺｎＳｅＴｅ、ＺｎＳＴｅ、ＨｇＳｅＳ、ＨｇＳｅＴｅ、ＨｇＳＴｅ、ＣｄＺｎＳ、ＣｄＺｎＳｅ、ＣｄＺｎＴｅ、ＣｄＨｇＳ、ＣｄＨｇＳｅ、ＣｄＨｇＴｅ、ＨｇＺｎＳ、ＨｇＺｎＳｅ、ＨｇＺｎＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される三元素化合物；及びＣｄＺｎＳｅＳ、ＣｄＺｎＳｅＴｅ、ＣｄＺｎＳＴｅ、ＣｄＨｇＳｅＳ、ＣｄＨｇＳｅＴｅ、ＣｄＨｇＳＴｅ、ＨｇＺｎＳｅＳ、ＨｇＺｎＳｅＴｅ、ＨｇＺｎＳＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される四元素化合物からなる群から選択されてもよい。前記ＩＩＩ−Ｖ族半導体化合物は、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ、及びこれらの混合物からなる群から選択される二元素化合物；ＧａＮＰ、ＧａＮＡｓ、ＧａＮＳｂ、ＧａＰＡｓ、ＧａＰＳｂ、ＡｌＮＰ、ＡｌＮＡｓ、ＡｌＮＳｂ、ＡｌＰＡｓ、ＡｌＰＳｂ、ＩｎＮＰ、ＩｎＮＡｓ、ＩｎＮＳｂ、ＩｎＰＡｓ、ＩｎＰＳｂ、ＧａＡｌＮＰ、及びこれらの混合物からなる群から選択される三元素化合物；及びＧａＡｌＮＡｓ、ＧａＡｌＮＳｂ、ＧａＡｌＰＡｓ、ＧａＡｌＰＳｂ、ＧａＩｎＮＰ、ＧａＩｎＮＡｓ、ＧａＩｎＮＳｂ、ＧａＩｎＰＡｓ、ＧａＩｎＰＳｂ、ＩｎＡｌＮＰ、ＩｎＡｌＮＡｓ、ＩｎＡｌＮＳｂ、ＩｎＡｌＰＡｓ、ＩｎＡｌＰＳｂ、及びこれらの混合物からなる群から選択される四元素化合物からなる群から選択されてもよい。前記ＩＶ−ＶＩ族半導体化合物は、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される二元素化合物；ＳｎＳｅＳ、ＳｎＳｅＴｅ、ＳｎＳＴｅ、ＰｂＳｅＳ、ＰｂＳｅＴｅ、ＰｂＳＴｅ、ＳｎＰｂＳ、ＳｎＰｂＳｅ、ＳｎＰｂＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される三元素化合物；及びＳｎＰｂＳＳｅ、ＳｎＰｂＳｅＴｅ、ＳｎＰｂＳＴｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される四元素化合物からなる群から選択されてもよい。前記ＩＶ族元素又はこれを含む化合物は、Ｓｉ、Ｇｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される元素化合物；及びＳｉＣ、ＳｉＧｅ、及びこれらの混合物からなる群から選択される二元素化合物；から選択されてもよい。 The II-VI group semiconductor compound is a two-element compound selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, and mixtures thereof; CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSe, a group consisting of Zn, and a mixture of these elements, e, and a mixture of these elements, e. Selected from the group consisting of CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe, and mixtures thereof It may be selected from the group consisting of elemental compounds. The III-V semiconductor compound is a two-element compound selected from the group consisting of GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, and mixtures thereof; A trielement compound selected from the group consisting of GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP, and mixtures thereof; and GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb, and It may be selected from the group consisting of classical element compound selected from the group consisting of mixtures. The group IV-VI semiconductor compound is a binary element selected from the group consisting of SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and mixtures thereof; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, A three-element compound selected from the group consisting of SnPbSe, SnPbTe, and mixtures thereof; and a four-element compound selected from the group consisting of SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, and mixtures thereof may be selected. The group IV element or a compound including the element is an element compound selected from the group consisting of Si, Ge, and a mixture thereof; and a two-element compound selected from the group consisting of SiC, SiGe, and a mixture thereof. It may be selected.
前記量子ドットは、均質な（homogeneous）単一構造又はコア−シェル（core-shell）の二重構造を有してもよい。後者の場合、それぞれのコア（core）及びシェル（shell）を成す物質は、前述の互いに異なる半導体化合物からなってもよい。但し、前記シェル物質のエネルギーバンドギャップは、コア物質のエネルギーバンドギャップより大きいことがある。例えば、ＣｄＳｅ／ＺｎＳのコア−シェル構造を有する量子ドットを得ようとする場合、界面活性剤としてＴＯＰＯ（trioctylphosphine oxide）を用いた有機溶媒に、（ＣＨ３）２Ｃｄ（dimethyl cadmium）、ＴＯＰＳｅ（trioctylphosphine selenide）等のコア（ＣｄＳｅ）に該当する前駆体物質を注入することで結晶を生成する。結晶が一定のサイズに成長するように高温で一定時間維持させた後、シェル（ＺｎＳ）に該当する前駆体物質を注入して、既に生成済みのコアの表面にシェルを形成させる。これにより、ＴＯＰＯでキャッピング（capping）されたＣｄＳｅ／ＺｎＳの量子ドットが得られる。 The quantum dots may have a homogeneous single structure or a core-shell dual structure. In the latter case, the materials forming the respective cores and shells may be composed of the aforementioned different semiconductor compounds. However, the energy band gap of the shell material may be larger than the energy band gap of the core material. For example, when a quantum dot having a core-shell structure of CdSe / ZnS is to be obtained, an organic solvent using TOPO (trioctylphosphine oxide) as a surfactant is added to (CH 3 ) 2 Cd (dimethyl cadmium), TOPSe ( Crystals are generated by injecting a precursor material corresponding to a core (CdSe) such as trioctylphosphine selenide). After maintaining the crystal at a high temperature for a certain time so that the crystal grows to a certain size, a precursor material corresponding to the shell (ZnS) is injected to form a shell on the surface of the already formed core. As a result, CdSe / ZnS quantum dots capped with TOPO are obtained.
本発明による量子ドット含有粒子は、無機物コア粒子又は高分子コア粒子の表面に結合された少なくとも一種の量子ドット粒子を含む。 The quantum dot-containing particle according to the present invention includes at least one kind of quantum dot particle bonded to the surface of the inorganic core particle or polymer core particle.
本発明による量子ドット含有粒子のコア粒子の表面に導入された量子ドット粒子の数は、特に限定されることなく、例えば、１〜８，２００，０００個、好ましくは１０〜６４０，０００個であってよい。 The number of quantum dot particles introduced into the surface of the core particle of the quantum dot-containing particle according to the present invention is not particularly limited, and is, for example, 1 to 8,200,000, preferably 10 to 640,000. It may be.
前記無機物コア粒子は、シリカ、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＯ２）、二酸化チタン又は二酸化亜鉛であってよい。或いは、前記高分子コア粒子は、ポリスチレン又はポリメチルメタクリレートであってよい。前記コア粒子の直径は、特に限定されることなく、例えば、２〜１，０００μｍであってよい。 The inorganic core particles may be silica, alumina (Al 2 O 3 , AlO 2 ), titanium dioxide, or zinc dioxide. Alternatively, the polymer core particle may be polystyrene or polymethyl methacrylate. The diameter of the core particle is not particularly limited, and may be, for example, 2 to 1,000 μm.
前記コア粒子及び前記量子ドット粒子は、共有結合、イオン結合又は物理的吸着によって結合されてもよい。その時、前記共有結合は、一方に前記量子ドット粒子と結合する硫黄、窒素又はリンのうちいずれか一の原子を含み、他方に前記コア粒子と結合する作用基を有して形成されてもよい。前記作用基は、シラン基、アミノ基、スルホン基、カルボキシ基又はヒドロキシ基であってよい。 The core particle and the quantum dot particle may be bound by covalent bond, ionic bond, or physical adsorption. At this time, the covalent bond may include one of sulfur, nitrogen, and phosphorus atoms bonded to the quantum dot particle on one side and a functional group bonded to the core particle on the other side. . The functional group may be a silane group, amino group, sulfone group, carboxy group or hydroxy group.
本発明による光ルミネッセンス量子ドット粒子の吸収波長は、光ルミネッセンス層がディスプレイの光源によって発光することを抑えるために、可視光線領域の波長ではないことが好ましく、例えば、３５０〜４５０ｎｍであってよい。 The absorption wavelength of the photoluminescent quantum dot particles according to the present invention is preferably not a wavelength in the visible light region, and may be, for example, 350 to 450 nm in order to prevent the photoluminescent layer from emitting light by the light source of the display.
また、本発明の他の側面において、光ルミネッセンス量子ドット粒子の吸収波長が可視光線領域の波長であっても、ディスプレイの光源による発光がレーザーポインタの視認性を損なわない程度の波長であれば許容可能であり、例えば、６００〜６５０ｎｍであってよい。 In addition, in another aspect of the present invention, even if the absorption wavelength of the photoluminescence quantum dot particles is in the visible light region, the light emission by the light source of the display is acceptable as long as it does not impair the visibility of the laser pointer. It is possible, for example 600-650 nm.
本発明の一具体例によると、本発明による光ルミネッセンス層は、光ルミネッセンスの役割のみを果たす別途の単独層として形成されてもよい。このような場合に、光ルミネッセンス層は、光ルミネッセンス量子ドット粒子を含む光ルミネッセンス層形成用組成物を基材に塗布して形成されてもよい。 According to one embodiment of the present invention, the photoluminescent layer according to the present invention may be formed as a separate single layer that serves only photoluminescence. In such a case, the photoluminescence layer may be formed by applying a composition for forming a photoluminescence layer containing photoluminescence quantum dot particles to a substrate.
本発明による光ルミネッセンス層形成用組成物は、光ルミネッセンス量子ドット粒子、透光性樹脂、開始剤、及び溶剤を含む。 The composition for forming a photoluminescence layer according to the present invention includes photoluminescence quantum dot particles, a translucent resin, an initiator, and a solvent.
本発明による光ルミネッセンス量子ドット粒子は、溶剤に溶解又は分散された組成物の形態で用いられてもよい。 The photoluminescent quantum dot particles according to the present invention may be used in the form of a composition dissolved or dispersed in a solvent.
前記溶剤は、特に限定されることなく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール系溶剤；エチルアセテート、プロピルアセテート、ノルマルブチルアセテート、ターシャリーブチルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート等のアセテート系溶剤；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶剤；メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭素数２〜１０のアルカン系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。 Examples of the solvent include, but are not limited to, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, methyl cellosolve, and ethyl cellosolve; ethyl acetate, propyl acetate, normal butyl acetate, tertiary butyl acetate, and methyl cellosolve acetate. Acetate solvents such as ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, Diethylene glycol Ether solvents such as butyl ether and propylene glycol monomethyl ether; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, and cyclohexanone; alkanes having 2 to 10 carbon atoms such as hexane, heptane, and octane Examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene. You may use these individually or in mixture of 2 or more types.
本発明による光ルミネッセンス層形成用組成物に含まれる光ルミネッセンス量子ドット粒子の含有量は、特に限定されることなく、例えば、光ルミネッセンス層形成用組成物の全質量に対して、０．０５〜５質量％の量であってよく、好ましくは０．１〜３質量％の量であってよい。組成物に含まれる量子ドット粒子及び量子ドット含有粒子の含有量が０．０５〜５質量％であれば、ディスプレイの視認性を損なうことなく、レーザーポイントの視認性を改善する効果を最大限とすることができる。 Content of the photoluminescence quantum dot particle contained in the composition for photoluminescence layer formation by this invention is not specifically limited, For example, with respect to the total mass of the composition for photoluminescence layer formation, 0.05- The amount may be 5% by mass, and preferably 0.1 to 3% by mass. If the content of the quantum dot particles and the quantum dot-containing particles contained in the composition is 0.05 to 5% by mass, the effect of improving the visibility of the laser point is maximized without impairing the visibility of the display. can do.
本発明による透光性樹脂は、光硬化型樹脂であってよい。 The translucent resin according to the present invention may be a photocurable resin.
前記光硬化型樹脂は、光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマー、モノマーを含んでもよい。 The photocurable resin may include a photocurable (meth) acrylate oligomer and a monomer.
前記光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマーは、例えば、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレートがより好ましい。 Examples of the photocurable (meth) acrylate oligomer include epoxy (meth) acrylate and urethane (meth) acrylate, and urethane (meth) acrylate is more preferable.
前記ウレタン（メタ）アクリレートは、ヒドロキシ基を有する多官能（メタ）アクリレート及びイソシアネート基を有する化合物を触媒存在下で反応させて調製することができる。 The urethane (meth) acrylate can be prepared by reacting a polyfunctional (meth) acrylate having a hydroxy group and a compound having an isocyanate group in the presence of a catalyst.
前記ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレートは、特に限定されることなく、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン開環ヒドロキシアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラ（メタ）アクリレート混合物、ジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサ（メタ）アクリレート混合物等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。 The (meth) acrylate having a hydroxy group is not particularly limited, and examples thereof include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyisopropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and caprolactone ring opening. Examples thereof include hydroxy acrylate, pentaerythritol tri / tetra (meth) acrylate mixture, dipentaerythritol penta / hexa (meth) acrylate mixture, and the like. You may use these individually or in mixture of 2 or more types.
前記イソシアネート基を有する化合物は、特に限定されることなく、例えば、１，４−ジイソシアネートブタン、１，６−ジイソシアネートヘキサン、１，８−ジイソシアネートオクタン、１，１２−ジイソシアネートドデカン、１，５−ジイソシアネート−２−メチルペンタン、トリメチル−１，６−ジイソシアネートヘキサン、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、トランス−１，４−シクロヘキセンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、トルエン−２，４−ジイソシアネート、トルエン−２，６−ジイソシアネート、キシレン−１，４−ジイソシアネート、テトラメチルキシレン−１，３−ジイソシアネート、１−クロロメチル−２，４−ジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（２，６−ジメチルフェニルイソシアネート）、４，４’−オキシビス（フェニルイソシアネート）、及びヘキサメチレンジイソシアネートから誘導される３官能イソシアネート、トリメタンプロパノールアダクトトルエンジイソシアネート等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。 The compound having an isocyanate group is not particularly limited, and examples thereof include 1,4-diisocyanate butane, 1,6-diisocyanate hexane, 1,8-diisocyanate octane, 1,12-diisocyanate dodecane, and 1,5-diisocyanate. -2-methylpentane, trimethyl-1,6-diisocyanate hexane, 1,3-bis (isocyanatemethyl) cyclohexane, trans-1,4-cyclohexene diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), isophorone diisocyanate, toluene -2,4-diisocyanate, toluene-2,6-diisocyanate, xylene-1,4-diisocyanate, tetramethylxylene-1,3-diisocyanate, 1-chloromethyl-2,4- Specific examples include isocyanate, 4,4′-methylenebis (2,6-dimethylphenylisocyanate), 4,4′-oxybis (phenylisocyanate), and trifunctional isocyanate derived from hexamethylene diisocyanate, trimethanepropanol adduct toluene diisocyanate, and the like. It is done. You may use these individually or in mixture of 2 or more types.
前記モノマーは、特に限定されることなく、例えば、光硬化型官能基として（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和基を有するモノマーが挙げられ、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーがより好ましい。 The monomer is not particularly limited, and examples thereof include a monomer having an unsaturated group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group as a photocurable functional group, and a (meth) acryloyl group. More preferred are monomers having
前記（メタ）アクリロイル基を有するモノマーは、特に限定されることなく、例えば、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリ（メタ）アクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルネオール（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。 The monomer having the (meth) acryloyl group is not particularly limited, and examples thereof include neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, and triethylene glycol di (meth). ) Acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,2, 4-cyclohexanetetra (meth) acrylate, pentaglycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate Rate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate, tripentaerythritol Hexatri (meth) acrylate, bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isodecyl (Meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) a Relate, isoborneol (meth) acrylate. You may use these individually or in mixture of 2 or more types.
前記例示した光硬化型（メタ）アクリレートオリゴマー、モノマーは、単独又は２種以上混合して用いてもよい。 The exemplified photocurable (meth) acrylate oligomers and monomers may be used alone or in combination of two or more.
本発明による透光性樹脂の含有量は、特に限定されることなく、例えば、光ルミネッセンス層形成用組成物の全質量に対して、５〜８０質量％の量で含まれてもよく、好ましくは３０〜５０質量％の量であってよい。透光性樹脂の含有量が５質量％未満であれば、十分な塗工液供給及び光ルミネッセンス層の適正厚み確保が困難なことがあり、８０質量％超過であれば、コーティング液の粘度が高く塗工不良等によって工程性が低下することがある。 Content of translucent resin by this invention is not specifically limited, For example, it may be contained in the quantity of 5-80 mass% with respect to the total mass of the composition for photoluminescence layer formation, Preferably May be in an amount of 30-50% by weight. If the content of the translucent resin is less than 5% by mass, it may be difficult to sufficiently supply the coating liquid and ensure the appropriate thickness of the photoluminescence layer. The processability may be lowered due to high coating defects or the like.
本発明による光開始剤は、特に限定されることなく、当分野において通常用いられる光開始剤であってよく、例えば、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］２−モルホリンプロパノン−１、ジフェニルケトンベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−オン、４−ヒドロキシシクロフェニルケトン、ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アントラキノン、フルオレン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロアセトフェノン、４，４−ジメトキシアセトフェノン、４，４−ジアミノベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。 The photoinitiator according to the present invention is not particularly limited, and may be a photoinitiator usually used in the art, such as 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] 2-morpholinepropanone. -1, diphenyl ketone benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-one, 4-hydroxycyclophenyl ketone, dimethoxy-2-phenylacetophenone, anthraquinone, fluorene, triphenylamine, carbazole, 3 -Methylacetophenone, 4-chloroacetophenone, 4,4-dimethoxyacetophenone, 4,4-diaminobenzophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone and the like. You may use these individually or in mixture of 2 or more types.
本発明による光開始剤の含有量は特に限定されることなく、例えば、光ルミネッセンス層形成用組成物の全質量に対して、０．１〜１０質量％の量で含まれてもよく、好ましくは１〜５質量％の量であってよい。光開始剤の含有量が０．１質量％未満であれば、硬化速度が遅くなって工程効率が低下することがあり、１０質量％超過であれば、過硬化によるクラックが生じることがある。 Content of the photoinitiator by this invention is not specifically limited, For example, it may be contained in the quantity of 0.1-10 mass% with respect to the total mass of the composition for photoluminescent layer formation, Preferably May be in an amount of 1-5% by weight. If the content of the photoinitiator is less than 0.1% by mass, the curing rate may be slowed to reduce the process efficiency. If it exceeds 10% by mass, cracks due to overcuring may occur.
本発明による溶剤は、特に限定されることなく、当分野において通常用いられる溶剤であってよく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール系溶剤；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート等のエーテル系溶剤；メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；ヘキサン、ヘプタン、オクタン等のヘキサン系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して用いてもよい。 The solvent according to the present invention is not particularly limited and may be a solvent that is usually used in the art. For example, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol Diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, methoxy Such as pentyl acetate Ether solvents; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, and cyclohexanone; hexane solvents such as hexane, heptane, and octane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene System solvents and the like. You may use these individually or in mixture of 2 or more types.
本発明による溶剤の含有量は、特に限定されることなく、例えば、光ルミネッセンス層形成用組成物の全質量に対して、１０〜９５質量％の量で含まれてもよく、好ましくは５０〜８０質量％の量であってよい。溶剤の含有量が１０質量％未満であれば、組成物の粘度が高くなって作業性が低下することがあり、９５質量％超過であれば、乾燥過程において過度に時間を要し、経済性が低下することがある。 Content of the solvent by this invention is not specifically limited, For example, it may be contained in the quantity of 10-95 mass% with respect to the total mass of the composition for photoluminescent layer formation, Preferably 50- The amount may be 80% by weight. If the content of the solvent is less than 10% by mass, the viscosity of the composition may increase and workability may decrease. If the content exceeds 95% by mass, excessive time is required in the drying process, resulting in economic efficiency. May decrease.
本発明による光ルミネッセンス層形成用組成物は、前記成分の他にも当分野において通常用いられる硬化剤、レベリング剤、密着促進剤、酸化防止剤等の添加剤；強度補強用ナノシリカ、無機ナノ粒子、及びＰＯＳＳ（多面体オリゴマーシルセスキオキサン）；帯電防止用電導性高分子、ナノ粒子、及びイオン性液体；並びに防眩性付与用有機粒子、無機粒子等をさらに含んでもよい。 In addition to the above components, the composition for forming a photoluminescence layer according to the present invention includes additives such as curing agents, leveling agents, adhesion promoters, antioxidants and the like commonly used in the art; strength-enhancing nanosilica, inorganic nanoparticles And POSS (polyhedral oligomeric silsesquioxane); an antistatic conductive polymer, nanoparticles, and ionic liquid; and antiglare imparting organic particles, inorganic particles, and the like.
基材は、耐久性が大きく、且つユーザが容易にディスプレイを視認することができる物質であれば特に限定されることなく、当分野で用いられる素材を特に制限することなく用いてもよい。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；polyethylene terephthalate）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ；polycarbonate）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ；polyethersulfone）、ポリアクリレート（ＰＡＲ；polyacrylate）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ；polyetherimide）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ；polyethylene naphthalate）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ；polyphenylene sulfide）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（polyimide）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ；cellulose acetate propionate）、及びガラス等が用いられてもよい。 The base material is not particularly limited as long as it has a high durability and the user can easily see the display, and materials used in this field may be used without any particular limitation. For example, polyethylene terephthalate (PET), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethersulfone (PES), polyacrylate (PAR), polyether Imide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS), polyallylate, polyimide, poly (polyimide), cellulose acetate propionate (CAP), And glass etc. may be used.
光ルミネッセンス層形成用組成物を基材上に塗布する方法は、特に限定されることなく、当分野において通常用いられる方法によってもよく、例えば、ファウンテンコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、グラビアコーティング法、ロールコーティング法、バーコーティング法等が挙げられる。 The method for applying the composition for forming a photoluminescence layer on a substrate is not particularly limited, and may be a method commonly used in the art, such as a fountain coating method, a die coating method, a spin coating method, a spraying method. Examples thereof include a coating method, a gravure coating method, a roll coating method, and a bar coating method.
光ルミネッセンス層形成用組成物を塗布してから硬化して光ルミネッセンス層を形成することができるが、硬化に先立ち必要に応じて乾燥段階を経てもよい。 The composition for forming a photoluminescence layer can be applied and then cured to form a photoluminescence layer, but may be subjected to a drying step as necessary prior to curing.
乾燥方法は、特に限定されることなく、例えば、自然乾燥、熱風乾燥、加熱乾燥等の方法によってもよい。 The drying method is not particularly limited, and may be a method such as natural drying, hot air drying, or heat drying.
硬化方法は、特に限定されることなく、例えば、紫外線硬化、電離放射線硬化等の方法によってもよい。その手段としては各種の活性エネルギーを用いてもよいが、紫外線を用いることがより好ましい。エネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、窒素レーザー、電子線加速装置、放射性元素等の線源が好ましい。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍにおける積算露光量として５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。照射量が５０ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、硬化がより十分になって、形成される光ルミネッセンス層の硬度もより十分なものとなる。また、照射量が５０００ｍＪ／ｃｍ２以下であれば、形成される光ルミネッセンス層の着色を防ぐことができ、透明性を向上させることができる。 The curing method is not particularly limited, and may be a method such as ultraviolet curing or ionizing radiation curing. Various active energies may be used as the means, but it is more preferable to use ultraviolet rays. As the energy ray source, for example, a high pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a nitrogen laser, an electron beam accelerator, a radioactive element or the like is preferable. The irradiation amount of the energy ray source is preferably 50 to 5000 mJ / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm. When the irradiation amount is 50 mJ / cm 2 or more, curing becomes more sufficient, and the hardness of the formed photoluminescence layer becomes more sufficient. Moreover, if irradiation amount is 5000 mJ / cm < 2 > or less, coloring of the formed photo-luminescence layer can be prevented and transparency can be improved.
本発明による光ルミネッセンス層を備えた光学積層体は、少なくとも１層の光学機能層をさらに備えてもよい。かかる光学機能層は、例えば、偏光子、偏光子保護層、ハードコーティング層、指紋防止層、位相差層、反射防止層、帯電防止層等であってよい。これらの積層順序は、特に限定されずに適宜選択されてもよく、例えば、光ルミネッセンス層の上に形成されてもよく、光ルミネッセンス層の下に形成されてもよく、或いは基材の反対面に形成されてもよい。 The optical layered body provided with the photoluminescence layer according to the present invention may further include at least one optical function layer. Such an optical functional layer may be, for example, a polarizer, a polarizer protective layer, a hard coating layer, a fingerprint prevention layer, a retardation layer, an antireflection layer, an antistatic layer, and the like. These stacking orders are not particularly limited and may be appropriately selected. For example, they may be formed on the photoluminescence layer, may be formed on the photoluminescence layer, or may be formed on the opposite surface of the substrate. May be formed.
本発明の他の一具体例によれば、本発明による光ルミネッセンス層は、当分野において通常用いられる光学機能層であってよく、例えば、ハードコーティング層、偏光子、偏光子保護層、位相差層、反射防止層、帯電防止層、高屈折層、低屈折層、及び防汚層等であってよい。このような場合に、光ルミネッセンス層形成用組成物は、該当光学機能層形成用組成物と混合して用いられてもよい。 According to another embodiment of the present invention, the photoluminescent layer according to the present invention may be an optical functional layer usually used in the art, for example, a hard coating layer, a polarizer, a polarizer protective layer, a phase difference, and the like. It may be a layer, an antireflection layer, an antistatic layer, a high refractive layer, a low refractive layer, an antifouling layer, or the like. In such a case, the composition for forming a photoluminescence layer may be used by mixing with the composition for forming an optical functional layer.
具体的に、前記光学積層体が偏光板として適用される場合、光ルミネッセンス層は、偏光子及び偏光子保護層のうち少なくとも１層であってよい。このような場合に、光ルミネッセンス層形成用組成物は、偏光子形成用組成物又は偏光子保護層形成用組成物と混合して用いられてもよい。また、光ルミネッセンス層は、偏光子又は偏光子保護層のうちの一面に別途の層として形成されてもよい。 Specifically, when the optical laminate is applied as a polarizing plate, the photoluminescence layer may be at least one of a polarizer and a polarizer protective layer. In such a case, the composition for forming a photoluminescence layer may be used by mixing with a composition for forming a polarizer or a composition for forming a protective layer of a polarizer. The photoluminescence layer may be formed as a separate layer on one surface of the polarizer or the polarizer protective layer.
また、本発明による光ルミネッセンス層は、ディスプレイパネルに備えられた粘着層又は接着層であってよい。このような場合では、同様に、光ルミネッセンス層形成用組成物は、粘着剤又は接着剤組成物と混合して用いられてもよい。 The photoluminescence layer according to the present invention may be an adhesive layer or an adhesive layer provided in a display panel. In such a case, similarly, the composition for forming a photoluminescence layer may be used by mixing with a pressure-sensitive adhesive or an adhesive composition.
また、本発明による光ルミネッセンス層は、前記光学機能層、粘着層、接着層等が形成される基材フィルムであってよい。同様に、光ルミネッセンス層形成用組成物は、基材フィルム形成用組成物と混合して用いられてもよい。 The photoluminescence layer according to the present invention may be a base film on which the optical functional layer, the pressure-sensitive adhesive layer, the adhesive layer and the like are formed. Similarly, the composition for forming a photoluminescence layer may be used as a mixture with the composition for forming a base film.
基材フィルムは、特に限定されることなく、例えば、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ；polyethersulfone）、ポリアクリレート（ＰＡＲ；polyacrylate）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ；polyetherimide）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ；polyethylene naphthalate）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；polyethylene terephthalate）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ；polyphenylene sulfide）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（polyimide）、ポリカーボネート（ＰＣ；polycarbonate）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、及びセルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ；cellulose acetate propionate）等が挙げられる。 The substrate film is not particularly limited, and examples thereof include polyethersulfone (PES), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), Polyethylene terephthalate (PET), polyphenylene sulfide (PPS), polyallylate, polyimide, polycarbonate (PC), cellulose triacetate (TAC), and cellulose acetate propionate (CAP) Cellulose acetate propionate).
また、本発明は、前記光学積層体を備えた画像表示装置を提供する。 Moreover, this invention provides the image display apparatus provided with the said optical laminated body.
本発明の画像表示装置は、ディスプレイパネルの一方の面に付設された前記光学積層体を備える。 The image display device of the present invention includes the optical laminate attached to one surface of the display panel.
画像表示装置の種類は特に限定されることなく、例えば、液晶表示装置、プラズマ表示装置、電界発光表示装置、及び陰極線管表示装置等であってよい。 The type of the image display device is not particularly limited, and may be, for example, a liquid crystal display device, a plasma display device, an electroluminescence display device, a cathode ray tube display device, or the like.
ディスプレイパネルは、特に限定されることなく、当分野において通常用いられる構成であってよく、その他にも当分野において通常用いられる構成をさらに備えてもよい。 The display panel is not particularly limited, and may have a configuration that is normally used in this field, and may further include a configuration that is normally used in this field.
以下、本発明の理解を助けるために、好適な実施例を示すが、これら実施例は本発明を例示するに過ぎず、添付された特許請求の範囲を制限するわけではなく、本発明の範疇及び技術思想の範囲内において実施例に対し変更が多様であること且つ修正が可能であることは、当業者にとって明らかなものであり、このような変更及び修正が添付された特許請求の範囲に属するのも当然のことである。 In order that the present invention may be better understood, the following preferred examples are given, but these examples are merely illustrative of the invention and do not limit the scope of the appended claims. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made to the embodiments within the scope of the technical idea, and such changes and modifications are within the scope of the appended claims. Of course it belongs.
調製例
（１）光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）形成用組成物
ウレタンアクリレート（ＳＣ２１５３）２５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｍ３４０）２５質量部、量子ドット溶液（量子ドット粒子（ＣｄＳ）０．５質量％、トルエン９９．５質量％）２０質量部、メチルエチルケトン１７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０質量部、光開始剤（Ｉ−１８４）２．５質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ３５５０）０．５質量部を撹拌してＰＰ材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
Preparation Example (1) Composition for Forming Photoluminescence Layer (Hard Coating Layer) 25 parts by mass of urethane acrylate (SC2153), 25 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (M340), 0.5% quantum dot solution (quantum dot particles (CdS)) 20% by mass, toluene 99.5% by mass), 17 parts by mass of methyl ethyl ketone, 10 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether, 2.5 parts by mass of photoinitiator (I-184), and leveling agent (BYK3550) 0.5 The mass part was stirred and filtered with a PP material filter to prepare a composition for forming a photoluminescence layer.
（２）光ルミネッセンス層（防眩性ハードコーティング層）形成用組成物
ウレタンアクリレート（ＳＣ２１５３）２５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｍ３４０）２０質量部、量子ドット溶液（量子ドット粒子（ＣｄＳ４２０）０．５質量％、トルエン９９．５質量％）２０質量部、有機粒子（ＸＸ−１９ＨＷ、積水社、粒子屈折率１．４９５）５質量部、メチルエチルケトン１７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０質量部、光開始剤（Ｉ−１８４）２．５質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ３５５０）０．５質量部を撹拌してＰＰ材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
(2) Composition for forming photoluminescence layer (antiglare hard coating layer) 25 parts by mass of urethane acrylate (SC2153), 20 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (M340), quantum dot solution (quantum dot particle (CdS420) 0. 5 mass%, toluene 99.5 mass%) 20 mass parts, organic particles (XX-19HW, Sekisui Co., Ltd., particle refractive index 1.495) 5 mass parts, methyl ethyl ketone 17 mass parts, propylene glycol monomethyl ether 10 mass parts, light 2.5 parts by mass of the initiator (I-184) and 0.5 parts by mass of the leveling agent (BYK3550) were stirred and filtered through a PP material filter to prepare a composition for forming a photoluminescence layer.
（３）光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）形成用組成物
高屈折コーティング液（ＴＹＺ５８−０１Ｅ、屈折率１．５８）８０質量部、及び量子ドット溶液（量子ドット粒子（ＣｄＳ４２０）０．５質量％、トルエン９９．５質量％）２０質量部を撹拌して、プロピレングリコールモノメチルエーテルで全体固形粉が５質量％となるように希釈した後にＰＰ材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
(3) Composition for forming photoluminescence layer (high refractive hard coating layer) 80 parts by mass of high refractive coating liquid (TYZ58-01E, refractive index 1.58) and quantum dot solution (quantum dot particle (CdS420) 0.5 (Mass%, toluene 99.5% by mass) 20 parts by mass is stirred and diluted with propylene glycol monomethyl ether so that the total solid powder becomes 5% by mass, and then filtered through a PP material filter to form a photoluminescence layer. A composition was prepared.
（４）光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）形成用組成物
ウレタンアクリレート（ＳＣ２１５３）２５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｍ３４０）２５質量部、量子ドット溶液（量子ドット粒子（ＣｄＳｅ６４０）０．５質量％、トルエン９９．５質量％）２０質量部、メチルエチルケトン１７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０質量部、光開始剤（Ｉ−１８４）２．５質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ３５５０）０．５質量部を撹拌してＰＰ材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
(4) Composition for forming photoluminescence layer (hard coating layer) 25 parts by mass of urethane acrylate (SC2153), 25 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (M340), 0.5% by mass of quantum dot solution (quantum dot particles (CdSe640)) , Toluene 99.5% by mass) 20 parts by mass, methyl ethyl ketone 17 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether 10 parts by mass, photoinitiator (I-184) 2.5 parts by mass, and leveling agent (BYK3550) 0.5 parts by mass. The mixture was stirred and filtered through a PP material filter to prepare a composition for forming a photoluminescence layer.
（５）低屈折ハードコーティング層形成用組成物
中空シリカ含有ＵＶコーティング液（ＭＢ１０３０）１０質量部にイソプロパノール５質量部及びエチルアセテート３質量部を添加して室温で３０分間撹拌した後、ＰＰ材質のフィルタで濾過し、低屈折ハードコーティング層形成用組成物を調製した。
(5) Composition for forming a low refractive hard coating layer After adding 5 parts by mass of isopropanol and 3 parts by mass of ethyl acetate to 10 parts by mass of a hollow silica-containing UV coating solution (MB1030), stirring at room temperature for 30 minutes, It filtered with the filter and the composition for low refractive hard coating layer forming was prepared.
（６）ハードコーティング層形成用組成物
ウレタンアクリレート（ＳＣ２１５３）２５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｍ３４０）２５質量部、メチルエチルケトン１７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０質量部、光開始剤（Ｉ−１８４）２．５質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ３５５０）０．５質量部を撹拌してＰＰ材質のフィルタで濾過し、ハードコーティング層形成用組成物を調製した。
(6) Hard coating layer forming composition 25 parts by mass of urethane acrylate (SC2153), 25 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (M340), 17 parts by mass of methyl ethyl ketone, 10 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether, photoinitiator (I-184 ) 2.5 parts by mass and 0.5 parts by mass of a leveling agent (BYK3550) were stirred and filtered through a PP material filter to prepare a composition for forming a hard coating layer.
（７）防眩性ハードコーティング層形成用組成物
ウレタンアクリレート（ＳＣ２１５３）２５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｍ３４０）２０質量部、有機粒子（ＸＸ−１９ＨＷ、粒子屈折率１．４９５）５質量部、メチルエチルケトン１７質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０質量部、光開始剤（Ｉ−１８４）２．５質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ３５５０）０．５質量部を撹拌してＰＰ材質のフィルタで濾過し、防眩性ハードコーティング層形成用組成物を調製した。
(7) Antiglare hard coating layer forming composition 25 parts by mass of urethane acrylate (SC2153), 20 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (M340), 5 parts by mass of organic particles (XX-19HW, particle refractive index 1.495) , 17 parts by mass of methyl ethyl ketone, 10 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether, 2.5 parts by mass of photoinitiator (I-184), and 0.5 parts by mass of leveling agent (BYK3550) were stirred and filtered with a PP material filter. A composition for forming an antiglare hard coating layer was prepared.
（８）高屈折ハードコーティング層形成用組成物
高屈折コーティング液（ＴＹＺ５８−０１Ｅ、屈折率１．５８）８０質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルで全体固形粉が５％となるように希釈した後、ＰＰ材質のフィルタで濾過し、高屈折ハードコーティング層形成用組成物を調製した。
(8) Composition for forming a high refractive hard coating layer After diluting 80 parts by mass of a high refractive coating liquid (TYZ58-01E, refractive index 1.58) with propylene glycol monomethyl ether so that the total solid powder becomes 5%, It filtered with the filter of PP material, and prepared the composition for high refractive hard coating layer forming.
実施例１
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例（１）の光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布した。次いで、７０℃で２分間乾燥させ、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することで光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）を形成し、光学積層体を製造した。
Example 1
The composition for forming a photoluminescence layer (hard coating layer) of Preparation Example (1) was applied onto a triacetylcellulose film having a thickness of 40 μm so that the thickness after curing was 5 μm. Subsequently, it was dried at 70 ° C. for 2 minutes, and a photoluminescence layer (hard coating layer) was formed by irradiating UV with an integrated light amount of 400 mJ / cm 2 to produce an optical laminate.
実施例２
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例（２）の光ルミネッセンス層（防眩性ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布した。次いで、７０℃で２分間乾燥させ、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することで光ルミネッセンス層（防眩性ハードコーティング層）を形成し、光学積層体を製造した。
Example 2
The composition for forming a photoluminescence layer (antiglare hard coating layer) of Preparation Example (2) was applied onto a triacetylcellulose film having a thickness of 40 μm so that the thickness after curing was 5 μm. Subsequently, it dried at 70 degreeC for 2 minute (s), and the photoluminescence layer (anti-glare hard coating layer) was formed by irradiating UV with the integrated light quantity of 400 mJ / cm < 2 >, and the optical laminated body was manufactured.
実施例３
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムの一面に調製例（１）の光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布し、７０℃で２分間乾燥させた後、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することで光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）を形成した。次いで、前記光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）の上に調製例（８）の高屈折ハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが１３０ｎｍとなるように塗布し、高屈折ハードコーティング層を形成した。そして、前記高屈折ハードコーティング層上に調製例（５）の低屈折ハードコーティング層形成用組成物を硬化後の厚みが１００ｎｍとなるように塗布し、光学積層体を製造した。
Example 3
Apply the composition for forming the photoluminescence layer (hard coating layer) of Preparation Example (1) on one side of a 40 μm thick triacetylcellulose film so that the thickness after curing is 5 μm, and dry at 70 ° C. for 2 minutes. Then, the photoluminescence layer (hard coating layer) was formed by irradiating UV with the integrated light quantity of 400 mJ / cm < 2 >. Next, the composition for forming a high refractive hard coating layer of Preparation Example (8) is applied onto the photoluminescence layer (hard coating layer) so that the thickness after curing is 130 nm. Formed. And the composition for low refractive hard coating layer formation of the preparation example (5) was apply | coated so that the thickness after hardening might be set to 100 nm on the said high refractive hard coating layer, and the optical laminated body was manufactured.
実施例４
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムの一面に調製例（６）のハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布し、７０℃で２分間乾燥させた後、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することでハードコーティング層を形成した。次いで、ハードコーティング層上に調製例（３）の光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが１３０ｎｍとなるように塗布し、光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）を形成した。そして、前記光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）の上に調製例（５）の低屈折ハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが１００ｎｍとなるように塗布し、光学積層体を製造した。
Example 4
The hard coating layer forming composition of Preparation Example (6) was applied to one side of a 40 μm thick triacetylcellulose film so that the thickness after curing was 5 μm, dried at 70 ° C. for 2 minutes, and then integrated light intensity A hard coating layer was formed by irradiating with UV at 400 mJ / cm 2 . Next, the composition for forming the photoluminescence layer (high refractive hard coating layer) of Preparation Example (3) is applied on the hard coating layer so that the thickness after curing is 130 nm, and the photoluminescence layer (high refractive hard coating) is applied. Layer). Then, the composition for forming a low refractive hard coating layer of Preparation Example (5) is applied on the photoluminescence layer (high refractive hard coating layer) so that the thickness after curing is 100 nm, and an optical laminate is formed. Manufactured.
実施例５
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例（４）の光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布した。次いで、７０℃で２分間乾燥させ、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することで光ルミネッセンス層（ハードコーティング層）を形成し、光学積層体を製造した。
Example 5
The composition for forming a photoluminescence layer (hard coating layer) of Preparation Example (4) was applied onto a triacetyl cellulose film having a thickness of 40 μm so that the thickness after curing was 5 μm. Subsequently, it was dried at 70 ° C. for 2 minutes, and a photoluminescence layer (hard coating layer) was formed by irradiating UV with an integrated light amount of 400 mJ / cm 2 to produce an optical laminate.
実施例６
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムの一面に調製例（６）のハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布し、７０℃で２分間乾燥させた後、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することでハードコーティング層を形成した。次いで、ハードコーティング層上に調製例（３）の光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）形成用組成物を、硬化後の厚みが１３０ｎｍとなるように塗布し、光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）を形成した。そして、前記光ルミネッセンス層（高屈折ハードコーティング層）上に調製例（５）の低屈折ハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが１００ｎｍとなるように塗布し、光学積層体を製造した。
Example 6
The hard coating layer forming composition of Preparation Example (6) was applied to one side of a 40 μm thick triacetylcellulose film so that the thickness after curing was 5 μm, dried at 70 ° C. for 2 minutes, and then integrated light intensity A hard coating layer was formed by irradiating with UV at 400 mJ / cm 2 . Next, the composition for forming the photoluminescence layer (high refractive hard coating layer) of Preparation Example (3) is applied on the hard coating layer so that the thickness after curing is 130 nm, and the photoluminescence layer (high refractive hard coating) is applied. Layer). And the composition for low refractive hard coating layer formation of the preparation example (5) is apply | coated so that the thickness after hardening may be set to 100 nm on the said photo-luminescence layer (high refractive hard coating layer), and an optical laminated body is manufactured. did.
比較例１
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例（６）のハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布した。次いで、７０℃で２分間乾燥させ、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することでハードコーティング層を形成し、光学積層体を製造した。
Comparative Example 1
The composition for forming a hard coating layer of Preparation Example (6) was applied onto a triacetyl cellulose film having a thickness of 40 μm so that the thickness after curing was 5 μm. Subsequently, it dried at 70 degreeC for 2 minute (s), the hard coating layer was formed by irradiating UV with the integrated light quantity of 400 mJ / cm < 2 >, and the optical laminated body was manufactured.
比較例２
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例（７）の防眩性ハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布した。次いで、７０℃で２分間乾燥させ、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することで防眩性ハードコーティング層を形成し、光学積層体を製造した。
Comparative Example 2
The antiglare hard coating layer forming composition of Preparation Example (7) was applied on a 40 μm thick triacetylcellulose film so that the thickness after curing was 5 μm. Subsequently, it was dried at 70 ° C. for 2 minutes, and an antiglare hard coating layer was formed by irradiating UV with an integrated light amount of 400 mJ / cm 2 to produce an optical laminate.
比較例３
厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルムの一面に調製例（６）のハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが５μｍとなるように塗布し、７０℃で２分間乾燥させた後、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することでハードコーティング層を形成した。次いで、ハードコーティング層上に調製例（８）の高屈折ハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが１３０ｎｍとなるように塗布し、高屈折ハードコーティング層を形成した。そして、前記高屈折ハードコーティング層上に調製例（５）のハードコーティング層形成用組成物を、硬化後の厚みが１００ｎｍとなるように塗布し、光学積層体を製造した。
Comparative Example 3
The hard coating layer forming composition of Preparation Example (6) was applied to one side of a 40 μm thick triacetylcellulose film so that the thickness after curing was 5 μm, dried at 70 ° C. for 2 minutes, and then integrated light intensity A hard coating layer was formed by irradiating with UV at 400 mJ / cm 2 . Next, the high refractive hard coating layer forming composition of Preparation Example (8) was applied onto the hard coating layer so that the thickness after curing was 130 nm, thereby forming a high refractive hard coating layer. And the composition for hard-coating layer formation of the preparation example (5) was apply | coated so that the thickness after hardening might be set to 100 nm on the said high refractive hard-coating layer, and the optical laminated body was manufactured.
実験例
（１）レーザーポインタ視認性評価
実施例及び比較例で製造された光学積層体を偏光板に接着した後、ディスプレイパネルに接合した。
Experimental Example (1) Laser Pointer Visibility Evaluation After the optical laminates manufactured in Examples and Comparative Examples were bonded to a polarizing plate, they were bonded to a display panel.
次いで、白色駆動状態で、実施例１〜４及び比較例の場合は４０５ｎｍのレーザーポインタで、実施例５及び６の場合は６１５ｎｍのレーザーポインタでそれぞれ視認性を下記基準に従って評価した。 Next, in the white driving state, the visibility was evaluated according to the following criteria, respectively, with a laser pointer of 405 nm in Examples 1 to 4 and Comparative Example, and with a laser pointer of 615 nm in Examples 5 and 6.
＜評価基準＞
○：非常に容易に視認される。
△：不明瞭で容易に視認されない。
×：全く視認されない。
<Evaluation criteria>
○: Visible very easily.
Δ: Unclear and not easily visually recognized.
X: Not visually recognized at all.
（２）透過率測定
実施例及び比較例で製造された光学積層体において、トリアセチルセルロース面を光源（Ｄ６５）側に向け、分光光度計（ＨＺ−１、須賀社）で全光線透過率（Total Transmittance）及びヘイズを測定した。
(2) Transmittance measurement In the optical laminated body manufactured by the Example and the comparative example, a triacetylcellulose surface is turned to the light source (D65) side, and a total light transmittance (HZ-1, Suga company) is used. Total Transmittance) and haze were measured.
（３）反射率測定
実施例３、４、６及び比較例３で製造された光学積層体の３８０〜７８０ｎｍの可視光線領域における反射率をＵＶ分光器（ＵＶ−スペクトロフォトメーター、ＳＨＩＭＡＤＺＵ社）で測定し、最低反射率を示した。
(3) Reflectance measurement The reflectance in the visible light region of 380 to 780 nm of the optical laminates produced in Examples 3, 4, 6 and Comparative Example 3 was measured with a UV spectrometer (UV-spectrophotometer, SHIMADZU). The minimum reflectance was measured.
前記表１を参照すると、実施例１〜６の光学積層体は、レーザーポイントが非常に容易に視認され、視認性に優れることが確認された。また、透過率、ヘイズ、及び反射率も比較例の光学積層体と類似して優れていた。 Referring to Table 1, it was confirmed that in the optical laminates of Examples 1 to 6, laser points were very easily visually recognized and excellent in visibility. Moreover, the transmittance, haze, and reflectance were also excellent, similar to the optical laminate of the comparative example.
しかしながら、比較例１〜３の光学積層体は、レーザーポイントが不明瞭で容易に視認されないか、或いは全く視認されず、視認性に劣っていた。 However, the optical laminated bodies of Comparative Examples 1 to 3 were inferior in visibility because the laser points were unclear and were not easily visually recognized or not visually recognized at all.
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