KR20180036053A - Self emission type photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same - Google Patents

Self emission type photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same Download PDF

Info

Publication number
KR20180036053A
KR20180036053A KR1020160126126A KR20160126126A KR20180036053A KR 20180036053 A KR20180036053 A KR 20180036053A KR 1020160126126 A KR1020160126126 A KR 1020160126126A KR 20160126126 A KR20160126126 A KR 20160126126A KR 20180036053 A KR20180036053 A KR 20180036053A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin composition
color filter
photosensitive resin
self
acid
Prior art date
Application number
KR1020160126126A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102028438B1 (en
Inventor
김주호
왕현정
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020160126126A priority Critical patent/KR102028438B1/en
Priority to CN201710858627.4A priority patent/CN107880871B/en
Priority to TW106133386A priority patent/TWI850193B/en
Publication of KR20180036053A publication Critical patent/KR20180036053A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102028438B1 publication Critical patent/KR102028438B1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/02Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
    • C09K11/025Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor non-luminescent particle coatings or suspension media
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0048Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • H01L27/322
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

A spontaneous photosensitive resin composition according to the present invention comprises: quantum dot; a phosphate dispersing agent; and a solvent. The spontaneous photosensitive resin composition according to the present invention is advantageous in that fine pixels can be easily formed by including a specific dispersant and deterioration of light efficiency or defective photosensitivity can be prevented.

Description

자발광 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치{SELF EMISSION TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER AND IMAGE DISPLAY DEVICE PRODUCED USING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a self-luminescent photosensitive resin composition, a color filter manufactured using the same, and an image display device using the self-luminescent photosensitive resin composition.

본 발명은 특정 분산제를 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a self-luminescent photosensitive resin composition containing a specific dispersant, a color filter manufactured using the same, and an image display device.

컬러필터는 백색광에서 적색, 녹색 및 청색의 3가지 색을 추출하여 미세한 화소단위로 가능하게 하는 박막 필름형 광학부품으로서, 한 화소의 크기가 수십에서 수백 마이크로미터 정도이다. 이러한 컬러필터는 각각의 화소 사이의 경계부분을 차광하기 위하여 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스 층 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색(통상적으로 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B))의 3원색을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다.A color filter is a thin film type optical component that extracts three colors of red, green, and blue in white light and makes it possible in fine pixel units. The size of one pixel is several tens to several hundreds of micrometers. Such a color filter has a black matrix layer formed in a predetermined pattern on a transparent substrate so as to shield a boundary portion between each pixel and a plurality of colors (typically red (R), green (G) and Blue (B)) are arranged in a predetermined order in this order.

최근에는 컬러필터를 구현하는 방법 중의 하나로서, 안료 분산형의 감광성 수지를 이용한 안료 분산법이 적용되고 있으나, 광원에서 조사된 광이 컬러필터를 투과하는 과정에서 광의 일부가 컬러필터에 흡수되어 광 효율이 저하되고, 또한 색 필터에 포함되어 있는 안료의 특성으로 인하여 색재현이 저하되는 문제점이 발생하고 있다.In recent years, as a method of implementing a color filter, a pigment dispersion method using a pigment dispersion type photosensitive resin has been applied. However, in a process in which light emitted from a light source passes through a color filter, a part of light is absorbed by a color filter, The efficiency is lowered and the color reproduction is deteriorated due to the characteristics of the pigment contained in the color filter.

특히, 컬러필터가 각종 화상표시장치를 비롯한 다양한 분야에 사용됨에 따라 우수한 패턴 특성뿐만 아니라 높은 색재현율과 함께 우수한 고휘도, 고명암비와 같은 성능이 요구되고 있는 바, 이러한 문제를 해결하기 위하여, 양자점을 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물을 이용한 컬러필터 제조방법이 제안되었다.Particularly, since color filters are used in various fields including various image display devices, they are required not only to have excellent pattern characteristics but also to have high color reproducibility and excellent performance such as high luminance and high contrast ratio. In order to solve such problems, A method of manufacturing a color filter using the self-luminescent photosensitive resin composition has been proposed.

대한민국 공개특허 제2013-0000506호는 표시 장치에 관한 것으로서, 광의 파장을 변환시키는 다수 개의 파장 변환 입자들; 및 상기 광에서 소정의 파장 대의 광을 흡수하는 다수 개의 컬러 필터 입자들을 포함하는 색 변환부를 포함하는 표시장치에 관한 내용을 개시하고 있다.Korean Patent Laid-Open Publication No. 2013-0000506 relates to a display device, comprising: a plurality of wavelength conversion particles for converting a wavelength of light; And a color conversion section including a plurality of color filter particles that absorb light of a predetermined wavelength band in the light.

그러나, 양자점을 포함하는 컬러필터 또는 표시장치를 제조하기 위해서는 양자점 입자를 고르게 분산시켜야 하기 때문에 자발광 감광성 수지 조성물 내에 분산제를 함께 포함시키는 것이 통상적이나, 종래의 분산제를 포함시키는 경우 광효율이 저하되는 문제가 있으며, 더욱이 수십 nm 이하의 미세한 입자의 분산을 위하여 과량이 사용될 경우 경화특성의 저하로 인하여 화소 픽셀의 품질 저하가 야기되는 문제가 있다.However, in order to produce a color filter or display device including quantum dots, it is necessary to disperse the quantum dot particles evenly, so that it is common to incorporate a dispersant into the self-luminescent photosensitive resin composition together. However, when a conventional dispersant is included, In addition, when an excess amount is used for dispersion of fine particles of several tens of nm or less, the quality of the pixel pixel deteriorates due to a decrease in the curing property.

그러므로, 양자점 입자를 고르게 분산시키면서, 광효율 저하 또는 감광특성 불량의 문제가 없는 우수한 컬러필터를 제조할 수 있는 자발광 감광성 수지 조성물의 개발이 요구되고 있다.Therefore, development of a self-luminescent photosensitive resin composition capable of producing an excellent color filter with no problem of deterioration in light efficiency or defective photosensitive property while uniformly dispersing quantum dot particles is required.

대한민국 공개특허 제2013-0000506호 (2013.01.03.)Korean Patent Publication No. 2013-0000506 (Mar.

본 발명은 광효율 저하 또는 감광특성 불량을 방지할 수 있는 자발광 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a self-luminescent photosensitive resin composition capable of preventing a decrease in light efficiency or a defective photosensitive property.

또한, 본 발명은 전술한 자발광 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치를 제공하고자 한다.The present invention also provides a color filter and an image display device manufactured using the self-light-sensitive photosensitive resin composition described above.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 양자점; 인산계 분산제; 및 용제를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to accomplish the above object, the present invention provides a self-luminescent photosensitive resin composition comprising: a quantum dot; Phosphoric acid dispersant; And a solvent.

또한, 본 발명은 전술한 자발광 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 컬러필터 및 이를 포함하는 화상표시장치를 제공한다.Further, the present invention provides a color filter including the above-mentioned self-luminescent photosensitive resin composition cured product and an image display apparatus including the same.

본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 특정 분산제를 포함함으로써 미세 화소 픽셀의 형성이 용이하고, 광효율의 저하 또는 감광특성 불량을 방지할 수 있는 이점이 있다.The self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention is advantageous in that formation of fine pixel pixels is easy by incorporating a specific dispersant and deterioration of light efficiency or defective photosensitivity can be prevented.

또한, 본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터 및 이를 포함하는 화상표시장치는 광효율이 우수하고, 감광특성의 불량이 낮은 이점이 있다.Further, the color filter and the image display device using the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention are advantageous in light efficiency and low defective photosensitivity.

이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에서 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.When a member is referred to as being " on "another member in the present invention, this includes not only when a member is in contact with another member but also when another member exists between the two members.

본 발명에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Whenever a part is referred to as "including " an element in the present invention, it is to be understood that it may include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise.

<< 자발광Self-luminous 감광성 수지 조성물> Photosensitive resin composition>

본 발명의 한 양태는, 양자점; 인산계 분산제; 및 용제를 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.An aspect of the present invention relates to a quantum dot device comprising: a quantum dot; Phosphoric acid dispersant; And a solvent.

양자점Qdot

본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 광루미네선스 양자점을 포함한다. The self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention comprises a photoluminescence quantum dot.

상기 양자점은 나노 크기의 반도체 물질을 일컬을 수 있다. 원자가 분자를 이루고, 분자는 클러스터라고 하는 작은 분자들의 집합체를 구성하여 나노 입자를 이루게 되는데, 이러한 나노 입자들이 반도체 특성을 띠고 있을 때 양자점이라고 한다. 상기 양자점은 외부에서 에너지를 받아 들뜬 상태에 이르면, 상기 양자점의 자체적으로 해당하는 에너지 밴드갭에 따른 에너지를 방출하게 된다.The quantum dot may be referred to as a nano-sized semiconductor material. The atoms form molecules, and the molecules form aggregates of small molecules called clusters to form nanoparticles. When these nanoparticles are semiconductor, they are called quantum dots. The quantum dots emit energy according to the corresponding energy band gap of the quantum dots when the quantum dots reach the excited state from the outside.

본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터는 상기 양자점, 구체적으로 양자점을 포함함으로써 광 조사에 의해 발광(광 루미네선스(luminescence))할 수 있다.The color filter made of the self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention may emit light (luminescence) by light irradiation by including the quantum dot, specifically, a quantum dot.

컬러필터를 포함하는 통상의 화상표시장치에서는 백색광이 상기 컬러필터를 투과하여 컬러가 구현되는데, 이 과정에서 광의 일부가 컬러필터에 흡수되므로 광 효율이 저하된다. 그러나, 본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터를 포함하는 경우에는, 컬러필터가 광원의 광에 의해 자체 발광하므로, 보다 뛰어난 광 효율을 구현할 수 있으며, 또한 색상을 가진 광이 방출되는 것이므로 색 재현성이 보다 우수하고, 광루미네선스에 의해 전 방향으로 광이 방출되므로 시야각도 개선될 수 있는 이점이 있다. In a typical image display device including a color filter, white light is transmitted through the color filter to realize color. In this process, a part of light is absorbed by the color filter, so that the light efficiency is lowered. However, in the case of including the color filter made of the self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention, since the color filter is self-luminescent by the light of the light source, more excellent light efficiency can be realized, The color reproducibility is better and light is emitted in all directions due to the optical luminescence, so that there is an advantage that the viewing angle can also be improved.

광에 의한 자극으로 발광할 수 있는 양자점 입자라면 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, II-VI족 반도체 화합물; III-V족 반도체 화합물; IV-VI족 반도체 화합물; IV족 원소 또는 이를 포함하는 화합물; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택될 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.And is not particularly limited as long as it is a quantum dot particle capable of emitting light by stimulation by light. For example, II-VI group semiconductor compounds; III-V semiconductor compound; Group IV-VI semiconductor compounds; Group IV elements or compounds containing them; And combinations thereof, and they may be used singly or in combination of two or more.

구체적으로, 상기 II-VI족 반도체 화합물은 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Specifically, the II-VI group semiconductor compound is selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, and mixtures thereof; Trivalent compounds selected from the group consisting of CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe and mixtures thereof; And a silane compound selected from the group consisting of CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe and mixtures thereof.

상기 III-V족 반도체 화합물은 GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.The III-V semiconductor compound is selected from the group consisting of GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb and mixtures thereof. A trivalent compound selected from the group consisting of GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP and mixtures thereof; And a photonic compound selected from the group consisting of GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb and mixtures thereof.

상기 IV-VI족 반도체 화합물은 SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있으나, 역시 이에 한정되지 않는다.The IV-VI group semiconductor compound is selected from the group consisting of SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and mixtures thereof; A triple compound selected from the group consisting of SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe, and mixtures thereof; And a silane compound selected from the group consisting of SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, and mixtures thereof. However, the present invention is not limited thereto.

이에 한정되지는 않으나, 상기 IV족 원소 또는 이를 포함하는 화합물은 Si, Ge 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 원소 화합물; 및 SiC, SiGe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.Although not limited thereto, the Group IV element or the compound containing it may be an elemental compound selected from the group consisting of Si, Ge, and mixtures thereof; And these elemental compounds selected from the group consisting of SiC, SiGe, and mixtures thereof.

상기 양자점은 균질한(homogeneous) 단일 구조; 코어-쉘(core-shell), 그래디언트(gradient) 구조 등과 같은 이중 구조; 또는 이들의 혼합 구조일 수 있다.The quantum dot has a single homogeneous structure; A dual structure such as a core-shell, gradient structure or the like; Or a mixed structure thereof.

구체적으로, 상기 코어-쉘의 이중 구조에서, 각각의 코어(core)와 쉘(shell)을 이루는 물질은 상기 언급된 서로 다른 반도체 화합물로 이루어질 수 있다. 예컨대, 상기 코어는 CdSe, CdS, ZnS, ZnSe, CdTe, CdSeTe, CdZnS, PbSe, AgInZnS 및 ZnO로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 쉘은 CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe 및 HgSe으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 역시 이에 한정되는 것은 아니다.Specifically, in the dual structure of the core-shell, the material forming each core and the shell may be made of the different semiconductor compounds mentioned above. For example, the core may include, but is not limited to, one or more materials selected from the group consisting of CdSe, CdS, ZnS, ZnSe, CdTe, CdSeTe, CdZnS, PbSe, AgInZnS and ZnO. The shell may include at least one material selected from the group consisting of CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, and HgSe.

통상의 컬러필터 제조에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물이 색상 구현을 위해 적, 녹, 청의 착색제를 포함하듯이, 광루미네선스 양자점도 적 양자점, 녹 양자점 및 청 양자점으로 분류될 수 있다. 요컨대, 본 발명에 따른 상기 양자점은 적색 광을 방출하는 적 양자점, 녹색 광을 방출하는 녹 양자점 또는 청색 광을 방출하는 청 양자점일 수 있다.The colored photosensitive resin composition used in the production of a typical color filter may be classified into an optical luminescence quantum dot quantum dot, a rust quantum dot, and a blue quantum dot, as well as including red, green, and blue colorants for color implementation. In short, the quantum dot according to the present invention may be an energetic quantum dot emitting red light, a rust quantum dot emitting green light, or a blue quantum dot emitting blue light.

상기 양자점은 습식 화학 공정(wet chemical process), 유기금속 화학증착 공정(MOCVD, metal organic chemical vapor deposition) 또는 분자선 에피텍시 공정(MBE, molecular beam epitaxy)에 의해 합성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The quantum dot may be synthesized by, but not limited to, a wet chemical process, a metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) process, or a molecular beam epitaxy process (MBE) process .

상기 습식 화학 공정이란 유기용제에 전구체 물질을 넣어 입자를 성장시키는 방법이다. 결정이 성장될 때 유기용제가 자연스럽게 양자점 결정의 표면에 배위되어 분산제 역할을 하여 결정의 성장을 조절하게 되므로, 유기금속 화학증착 공정이나 분자선 에피텍시와 같은 기상증착법보다 더 쉽고 저렴한 공정을 통하여 나노 입자의 성장을 제어할 수 있으므로, 상기 습식 화학 공정을 사용하여 본 발명에 따른 상기 양자점을 제조하는 것이 바람직하다.In the wet chemical process, a precursor material is added to an organic solvent to grow particles. When the crystal grows, the organic solvent is naturally coordinated on the surface of the quantum dot crystal to act as a dispersing agent to control the crystal growth. Therefore, it is easier and cheaper to process the nano-particles than the vapor deposition method such as the organic metal chemical vapor deposition process or the molecular beam epitaxy It is preferable to produce the quantum dot according to the present invention by using the wet chemical process.

상기 양자점은 상기 자발광 감광성 수지 조성물의 고형분 전체 100 중량부에 대하여 3 내지 80 중량부, 바람직하게는 5 내지 70 중량부, 더욱 바람직하게는 8 내지 65 중량부로 포함될 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위 내로 포함되는 경우 감광특성이 우수한 자발광 감광성 수지 조성물의 제공이 가능하다. 상기 양자점이 상기 범위 미만으로 포함될 경우 감광특성이 다소 저하될 수 있으며, 상기 범위를 포함하는 경우 상기 양자점과 대비하여 후술할 다른 구성들, 예컨대 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물과 같은 구성들의 함량이 상대적으로 적어지므로 컬러필터의 제조가 다소 어려울 수 있는 문제가 있으므로, 상기 범위 내로 포함되는 것이 바람직하다.The quantum dot may be contained in an amount of 3 to 80 parts by weight, preferably 5 to 70 parts by weight, and more preferably 8 to 65 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the self-emission photosensitive resin composition. When the quantum dot is included within the above range, it is possible to provide a self-emitting photosensitive resin composition having excellent photosensitivity. When the quantum dots are included in the range below the above range, the photosensitive properties may be somewhat lowered. In the case where the quantum dots are included in the above range, the quantities of constituents such as alkali soluble resins and photopolymerizable compounds, , There is a problem that the production of the color filter may be somewhat difficult. Therefore, it is preferable that the color filter is included within the above range.

상기 양자점은 후술할 분산제와 용제를 혼합하여 양자점 분산체를 제조한 뒤, 자발광 감광성 수지 조성물에 포함되어도 무방하다. The quantum dot may be contained in the self-luminescent photosensitive resin composition after preparing a quantum dot dispersion by mixing a dispersant and a solvent to be described later.

인산계 분산제Phosphate dispersant

본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 인산계 분산제를 포함한다.The self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention includes a phosphoric acid-based dispersant.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 인산계 분산제는 한 분자 내에 에스테르기를 더 포함한다.In one embodiment of the present invention, the phosphate dispersing agent further contains an ester group in one molecule.

구체적으로, 상기 인산계 분산제는 인산 에스테르계 화합물을 포함할 수 있다. 상기 인산계 분산제는 인산 에스테르((HO)2PO(OR)) 또는 인산(H3PO4)에 존재하는 히드록시기 또는 히드록시기의 수소원자를 다른 작용기로 치환 또는 비치환한 형태를 포함할 수 있다. 예컨대 상기 인산계 분산제는 (H2PO3-)의 형태로 표현될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명에서 상기 "인산계 또는 인산 에스테르계"란 아인산 유도체, 인산 유도체, 포스폰산 유도체 및 포스핀산 유도체로 구성되는 군에서 선택되는 1 이상을 포함할 수도 있다.Specifically, the phosphoric acid-based dispersant may include a phosphate ester compound. The phosphate dispersant may include a form in which a hydrogen atom of a hydroxy group or a hydroxyl group existing in phosphate ester ((HO) 2 PO (OR)) or phosphoric acid (H 3 PO 4 ) is substituted or unsubstituted with another functional group. For example, the phosphoric acid-based dispersant may be expressed in the form of (H 2 PO 3 -), but is not limited thereto. In the present invention, the "phosphoric acid-based or phosphate ester-based" may include at least one selected from the group consisting of a phosphorous acid derivative, a phosphoric acid derivative, a phosphonic acid derivative and a phosphinic acid derivative.

본 발명에 따른 자발광 감광성 조성물은 상기 인산계 분산제를 포함하기 때문에 광효율 저하 및 감광특성 불량을 억제할 수 있는 이점이 있다. The self-luminescent photosensitive composition according to the present invention has the advantage of suppressing the deterioration of light efficiency and defective photosensitivity due to the phosphoric acid-based dispersing agent.

본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 인산계 분산제는 한 분자 내에 폴리에테르 부분을 더 포함할 수 있다.In another embodiment of the present invention, the phosphate dispersant may further include a polyether moiety in one molecule.

구체적으로, 상기 인산계 분산제는 한 분자 내에 에스테르기 및 폴리에테르 부분을 포함할 수 있다.Specifically, the phosphoric acid-based dispersant may contain an ester group and a polyether moiety in one molecule.

본 발명에서 "폴리-"란, 많은 수의 반복단위로 이루어진 화합물을 일컬을 수 있는 것으로서, 상기 "폴리에테르 부분", "폴리에스테르 부분"은 각각 에테르기 또는 에스테르기를 포함하는 반복단위가 1 내지 20 으로 이루어진 부분을 일컬을 수 있다. 바람직하게는, 본 발명에서는 반복단위가 5 내지 20, 더욱 바람직하게는 10 내지 20으로 이루어질 수 있으며, 이 경우 상용성이 우수한 이점이 있다.In the present invention, "poly-" refers to a compound composed of a large number of repeating units, wherein the "polyether moiety" and the "polyester moiety" each have a repeating unit having an ether group or an ester group of 1 to 20 As shown in FIG. Preferably, in the present invention, the repeating unit may be composed of 5 to 20, more preferably 10 to 20, and in this case, there is an advantage of excellent compatibility.

상기 인산계 분산제가 한 분자 내에 폴리에테르 부분을 더 포함하는 경우 후술할 알칼리 가용성 수지와의 상용성이 향상되는 이점이 있으며, 상기 인산계 분산제가 한 분자 내에 에스테르기 또는 폴리에스테르 부분을 더 포함하는 경우 알칼리 가용성 수지와의 상용성 및 알칼리 현상액에 대한 용해 특성이 향상되는 이점이 있다. 상기 인산계 분산제가 한 분자 내에 인산기를 더 포함하는 경우 양자점 표면에 흡착을 통해 보호층 역할을 수행할 수 있고, 상기 양자점을 탈응집 시키는 이점이 있다.When the phosphoric acid-based dispersant further contains a polyether moiety in one molecule, there is an advantage that compatibility with an alkali-soluble resin to be described later is improved, and the phosphate dispersant further contains an ester group or a polyester moiety in one molecule There is an advantage that the compatibility with the alkali-soluble resin and the dissolution property with respect to the alkali developer are improved. If the phosphoric acid-based dispersant further contains a phosphoric acid group in one molecule, it can act as a protective layer through adsorption on the surfaces of the quantum dots and has an advantage of deagglomerating the quantum dots.

바람직하게는 본 발명에 따른 인산계 분산제는 한 분자 내에 폴리 에테르 부분, 에스테르기 및 인산기를 포함할 수 있으며, 이 경우 양자점을 탈응집시켜 분산입도를 작게 하고, 알칼리 가용성 수지와의 상용성 및 알칼리 현상액에 대한 용해 특성이 있어 패턴형성에 유리한 이점이 있으므로 가장 바람직하다.Preferably, the phosphoric acid-based dispersant according to the present invention may contain a polyether moiety, an ester moiety, and a phosphoric acid moiety in one molecule. In this case, the quantum dots are deagglomerated to reduce the dispersed particle size, and the compatibility with the alkali- It is most preferable because it has a dissolution property for a developer and is advantageous for pattern formation.

본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 인산계 분산제는 상기 양자점 고형분 전체 100 중량부에 대하여 1 내지 300 중량부로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 3 내지 250 중량부, 더욱 바람직하게는 5 내지 200 중량부로 포함될 수 있다. 상기 인산계 분산제가 상기 양자점 고형분 전체 100 중량부에 대하여 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 양자점의 탈응집 효과가 우수하고, 본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물 내의 극성 차이에 의한 석출현상의 억제가 가능하며, 컬러필터 제조공정 시 양자점의 보호층 역할을 수행할 수 있으므로 바람직하다.In another embodiment of the present invention, the phosphoric acid-based dispersant may be contained in an amount of 1 to 300 parts by weight, preferably 3 to 250 parts by weight, more preferably 5 to 200 parts by weight per 100 parts by weight of the total solid content of the quantum dots &Lt; / RTI &gt; When the phosphate dispersant is included in the range of 100 parts by weight of the entire quantum solid part, the deaggregation effect of the quantum dot is excellent and the precipitation phenomenon due to the polarity difference in the self light- , And can serve as a protective layer of quantum dots in a color filter manufacturing process.

상기 인산계 분산제가 상기 범위 미만으로 포함될 경우 상기 양자점의 탈응집 효과가 다소 저하될 수 있으며, 상기 범위를 초과하여 포함될 경우 상기 자발광 감광성 수지 조성물의 현상 특성이 다소 저하될 수 있으므로 상기 범위 내로 포함되는 것이 바람직하다.If the amount of the phosphoric acid-based dispersant is less than the above-mentioned range, the deagglomeration effect of the quantum dot may be somewhat lowered. When the amount exceeds the above range, the development characteristics of the self-emission photosensitive resin composition may be somewhat deteriorated. .

상기 인산계 분산제는 예컨대 Disperbyk-110, 111, 180, 192, 103, 106 등을 들 수 있으며, 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용하여도 무방하다.Examples of the phosphoric acid-based dispersant include Disperbyk-110, 111, 180, 192, 103, and 106, and they may be used alone or in combination.

용제solvent

본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물에 포함되는 용제는 특별히 한정되지 않으며, 당 분야에서 통상적으로 사용되는 유기 용제를 포함할 수 있다.The solvent to be contained in the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention is not particularly limited, and may include organic solvents commonly used in the art.

상기 용제는 구체적으로 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜 모노알킬에테르류, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디프로필에테르, 디에틸렌글리콜 디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜 디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜 알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르아세테이트, 등의 알킬렌글리콜 알킬에테르아세테이트류; 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알콕시알킬아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류; γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다.Specific examples of the solvent include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether and ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate and propylene glycol monopropyl ether acetate; Alkoxyalkyl acetates such as methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and mesitylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; and cyclic esters such as? -butyrolactone.

상기의 용제는 도포성 및 건조성면에서 바람직하게는 상기 용제 중에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산 에틸이나, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등을 들 수 있다. 이들 용제는 각각 단독으로 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent is preferably an organic solvent having a boiling point of 100 ° C to 200 ° C in the solvent in terms of coating property and drying property, more preferably an alkylene glycol alkyl ether acetate, a ketone, a 3-ethoxypropionic acid Ethyl, and 3-methoxypropionate, and more preferred examples thereof include propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl 3-ethoxypropionate, 3- Methyl propoxypropionate, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

상기 용제는 상기 자발광 감광성 수지 조성물 전체 100 중량부에 대하여 25 내지 95 중량부, 구체적으로 30 내지 90 중량부로 포함될 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.The solvent may be included in an amount of 25 to 95 parts by weight, specifically 30 to 90 parts by weight, based on 100 parts by weight of the entire self-light-sensitive photosensitive resin composition, but is not limited thereto.

다만, 상기 용제의 함량이 상기 범위 이내로 포함될 경우에는 롤코터, 스핀 코터, 슬릿앤드 스핀 코터, 슬릿코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해질 수 있어 바람직하다. 상기 용제의 함량이 상기 범위 미만으로 포함될 경우 도포성이 다소 저하됨에 따라 공정이 다소 어려워질 수 있으며, 상기 범위를 초과하는 경우 상기 자발광 감광성 수지 조성물로 형성된 컬러 필터의 성능이 다소 저하될 수 있는 문제가 발생할 수 있다. However, when the content of the solvent is within the above range, the coating property becomes good when applied with a coating apparatus such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (sometimes referred to as a die coater) . When the content of the solvent is less than the above range, the coating property may be somewhat lowered, and the process may be somewhat difficult. When the content is above the range, the performance of the color filter formed of the self-luminescent photosensitive resin composition may be somewhat deteriorated Problems can arise.

본 발명에 따른 양자점이 양자점 분산체의 형태로 자발광 감광성 수지 조성물에 포함될 경우 상기 용제는 그 일부가 상기 양자점 분산체 내에 포함될 수 있다. 이 경우 상기 용제는 톨루엔, 헥산, 자일렌, 사이클로헥산, 클로로포름과 같은 비극성 용제일 수 있다.When the quantum dot according to the present invention is contained in the self-emitting photosensitive resin composition in the form of a quantum dot dispersion, a part of the solvent may be contained in the quantum dot dispersion. In this case, the solvent may be a non-polar solvent such as toluene, hexane, xylene, cyclohexane or chloroform.

본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 자발광 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 첨가제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함할 수 있다.In still another embodiment of the present invention, the self-luminescent photosensitive resin composition may further include at least one member selected from the group consisting of an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an additive.

알칼리 가용성 수지Alkali-soluble resin

본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지를 포함할 수 있다.The self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention may contain an alkali-soluble resin.

상기 알칼리 가용성 수지는 상기 자발광 감광성 수지 조성물로 제조하는 컬러필터의 비노광부를 알칼리 가용성으로 만들어 제거 가능하게 하고, 노광 영역을 잔류시키는 역할을 수행할 수 있다. 또한, 상기 자발광 감광성 수지 조성물이 상기 알칼리 가용성 수지를 포함하는 경우, 상기 양자점이 조성물 내에 고르게 분산 될 수 있으며, 공정 중에 상기 양자점을 보호하여 휘도를 유지하도록 하는 역할을 수행할 수 있다.The alkali-soluble resin can make the unexposed portion of the color filter made of the self-light-sensitive photosensitive resin composition become alkali-soluble and can remove the alkali-soluble resin, and can perform the role of retaining the exposed region. When the self-luminescent photosensitive resin composition contains the alkali-soluble resin, the quantum dots may be uniformly dispersed in the composition, and the quantum dots may be protected during the process to maintain the luminance.

본 발명에 따른 상기 알칼리 가용성 수지는 50 내지 200 (KOHmg/g)의 산가를 갖는 것을 선정하여 사용할 수 있다. 상기 "산가"란, 아크릴계 중합체 1g을 중화하는 데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값으로 용해성에 관여한다. 상기 알칼리 가용성 수지의 산가가 상기 범위 미만인 경우 충분한 현상속도를 확보하기 어려울 수 있으며, 상기 범위를 초과하면 기판과의 밀착성이 감소되어 패턴의 단락이 발생하기 쉽고, 전체 조성물의 저장 안정성이 저하되어 점도가 상승하는 문제가 발생할 수 있다.The alkali-soluble resin according to the present invention may be selected from those having an acid value of 50 to 200 (KOH mg / g). The above-mentioned "acid value" relates to the solubility as a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary for neutralizing 1 g of the acrylic polymer. If the acid value of the alkali-soluble resin is less than the above-mentioned range, it may be difficult to secure a sufficient developing rate. If the acid value exceeds the above range, the adhesion with the substrate tends to be reduced and the pattern tends to be short- There may arise a problem in which the temperature of the gas is increased.

또한, 상기 알칼리 가용성 수지는 컬러필터로 사용하기 위한 표면 경도 향상을 위해 분자량 및 분자량 분포도(Mw/Mn)의 한정을 고려할 수 있다. 바람직하기로 중량평균분자량이 1,000 내지 100,000, 바람직하게는 3,000 내지 50,000이 되도록 하고, 분자량 분포도는 1.5 내지 6.0, 바람직하기로 1.8 내지 4.0의 범위를 갖도록 직접 중합하거나 구입하여 사용한다. 상기 범위의 분자량 및 분자량 분포도를 갖는 알칼리 가용성 수지는 이미 언급한 경도가 향상될 수 있고, 높은 잔막율 뿐만 아니라 현상액 중의 비-노출부의 용해성이 탁월하고 해상도를 향상시킬 수 있다. Further, in order to improve the surface hardness of the alkali-soluble resin for use as a color filter, the molecular weight and molecular weight distribution (Mw / Mn) may be limited. Preferably a weight average molecular weight of 1,000 to 100,000, preferably 3,000 to 50,000, and a molecular weight distribution of 1.5 to 6.0, preferably 1.8 to 4.0. The alkali-soluble resin having the above molecular weight and molecular weight distribution in the above range can be improved in hardness as mentioned above, and has a high residual film ratio as well as excellent solubility in the non-exposed portion in the developer and can improve resolution.

상기 알칼리 가용성 수지는 카르복실기 함유 불포화 단량체의 중합체, 또는 이와 공중합 가능한 불포화 결합을 갖는 단량체와의 공중합체 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함한다.The alkali-soluble resin includes at least one selected from the group consisting of a copolymer of a carboxyl group-containing unsaturated monomer, a copolymer of a monomer having a copolymerizable unsaturated bond and a combination thereof.

이때 카르복실기 함유 불포화 단량체는 불포화 모노카르복실산, 불포화 디카르복실산, 불포화 트리카르복실산 등이 가능하다. 구체적으로, 불포화 모노카르복실산으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다. 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들면 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다. 불포화 다가 카르복실산은 산무수물일 수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. 또한, 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예를 들면 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등을 들 수 있다. 불포화 다가 카르복실산은 그 양말단 디카르복시 중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면 ω-카르복시폴리카프로락톤 모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤 모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 카르복실기 함유 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The carboxyl group-containing unsaturated monomer may be an unsaturated monocarboxylic acid, an unsaturated dicarboxylic acid, or an unsaturated tricarboxylic acid. Specific examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,? -Chloroacrylic acid, cinnamic acid, and the like. Examples of the unsaturated dicarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid. The unsaturated polycarboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples thereof include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may also be a mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester thereof, for example, succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl), succinic acid mono (2-methacryloyloxyethyl ), Phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may be mono (meth) acrylate of the dicarboxylic polymer of both ends thereof, and examples thereof include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate . These carboxyl group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.

또한, 카르복실기 함유 불포화 단량체와 공중합이 가능한 단량체는 방향족 비닐 화합물, 불포화 카르복실산 에스테르 화합물, 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르 화합물, 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르 화합물, 카르복실산 비닐에스테르 화합물, 불포화 에테르류 화합물, 시안화 비닐 화합물, 불포화 이미드류 화합물, 지방족 공액 디엔류 화합물, 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 거대 단량체, 벌키성 단량체 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종이 가능하다.The monomer copolymerizable with the carboxyl group-containing unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound, an unsaturated carboxylic acid ester compound, an unsaturated carboxylic acid aminoalkyl ester compound, an unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compound, a carboxylic acid vinyl ester compound, An aliphatic conjugated diene compound, a macromonomer having a monoacryloyl group or monomethacryloyl group at the end of the molecular chain, a vulcanizable monomer, and a combination thereof in the group consisting of an ether compound, a vinyl cyanide compound, an unsaturated imide compound, an aliphatic conjugated diene compound, One selected paper is available.

보다 구체적으로, 상기 공중합 가능한 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, 인덴 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, i-프로필아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 3-히드록시부틸아크릴레이트, 3-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜타디에닐아크릴레이트, 디시클로펜타디에틸메타크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 에스테르; 2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르 화합물; 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르 화합물; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 부티르산 비닐, 벤조산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르 화합물; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르 화합물; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸아크릴아미드, N-2-히드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류; 말레이미드, 벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드 화합물; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔류; 및 폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 거대 단량체류; 비유전 상수값을 낮출수 있는 노르보닐 골격을 갖는 단량체, 아다만탄골격을 갖는 단량체, 로진 골격을 갖는 단량체 등의 벌키성 단량체가 사용 가능하다.More specifically, the copolymerizable monomer is selected from the group consisting of styrene,? -Methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m- Vinylbenzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinyl benzyl glycidyl Aromatic vinyl compounds such as ether and indene; Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, Acrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl Methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxy diethylene glycol acrylate, methoxy diethylene glycol methacrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol methacrylate Acrylate, methoxypropylene glycol methacrylate, methoxypropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopentadiene Acrylate, dicyclopentadienyl methacrylate, adamantyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate and the like Unsaturated carboxylic acid esters; Aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2- Unsaturated carboxylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, Acid amino alkyl ester compounds; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate; Unsaturated ether compounds such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether; Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile,? -Chloroacrylonitrile, and vinylidene cyanide; Unsaturated amides such as acrylamide, methacrylamide,? -Chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylamide and N-2-hydroxyethyl methacrylamide; Unsaturated imide compounds such as maleimide, benzylmaleimide, N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide; Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; And a monoacryloyl group or monomethacryloyl group at the end of the polymer molecular chain of polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl acrylate, poly-n-butyl methacrylate, Macromonomers; A bulky monomer such as a monomer having a norbornyl skeleton, a monomer having an adamantane skeleton, or a monomer having a rosin skeleton which can lower the relative dielectric constant can be used.

상기 알칼리 가용성 수지는 상기 자발광 감광성 수지 조성물 고형성분 총 100 중량부에 대하여 5 내지 80 중량부, 구체적으로 10 내지 70 중량부, 더욱 구체적으로 15 내지 60 중량부로 포함될 수 있다.The alkali-soluble resin may be included in an amount of 5 to 80 parts by weight, specifically 10 to 70 parts by weight, more specifically 15 to 60 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid component of the self-emission photosensitive resin composition.

상기 알칼리 가용성 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우 현상액에서의 용해성이 충분하여 패턴형성이 용이하며, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 방지되어 비화소 부분의 누락성이 양호해지므로 바람직하다. 상기 알칼리 가용성 수지가 상기 범위 미만으로 포함될 경우 비화소 부분이 다소 누락될 수 있으며, 상기 알칼리 가용성 수지가 상기 범위를 초과하여 포함될 경우 현상액에서의 용해성이 다소 저하되어 패턴형성이 다소 어려울 수 있다.When the alkali-soluble resin is contained within the above-mentioned range, the solubility in the developer is sufficient, the pattern formation is easy, and the reduction of the film thickness of the pixel portion of the exposed portion is prevented during development, so that the non-pixel portion is satisfactorily missed. If the alkali-soluble resin is contained in the range below the above-mentioned range, the non-pixel portion may be somewhat missed. If the alkali-soluble resin is contained in the above range, the solubility in the developer may be somewhat lowered and pattern formation may be somewhat difficult.

광중합성Photopolymerization 화합물 compound

본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물에 함유되는 광중합성 화합물은 광 및 후술할 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 단관능 단량체, 2관능 단량체, 그 밖의 다관능 단량체 등을 들 수 있다. The photopolymerizable compound contained in the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention is a compound capable of polymerizing under the action of light and a photopolymerization initiator described later, and examples thereof include monofunctional monomers, bifunctional monomers, and other polyfunctional monomers.

상기 단관능 단량체의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.The type of the monofunctional monomer is not particularly limited, and examples thereof include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate N-vinylpyrrolidone, and the like.

상기 2관능 단량체의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The type of the bifunctional monomer is not particularly limited and examples thereof include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) Glycol di (meth) acrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, and 3-methylpentanediol di (meth) acrylate.

상기 다관능 단량체의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다.The type of the polyfunctional monomer is not particularly limited and includes, for example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like. Of these, multifunctional monomers having two or more functional groups are preferably used.

상기 광중합성 화합물의 시판되는 예로는 신나카무라사의 A9550 등이 있으나, 이에 한정되지는 않는다.Commercially available examples of the photopolymerizable compound include, but are not limited to, A9550 from Shin Nakamura Co., Ltd.

상기 광중합성 화합물은 상기 자발광 감광성 수지 조성물 전체 100 중량부에 대하여 5 내지 80 중량부, 구체적으로 10 내지 70 중량부, 더욱 구체적으로 15 내지 60 중량부로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우 화소부의 강도나 평활성 측면에서 바람직한 이점이 있다.The photopolymerizable compound may be contained in an amount of 5 to 80 parts by weight, specifically 10 to 70 parts by weight, more specifically 15 to 60 parts by weight, based on 100 parts by weight of the entire self-light-sensitive photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is included in the above range, it is advantageous in terms of strength and smoothness of the pixel portion.

상기 광중합성 화합물이 상기 범위 미만으로 포함되는 경우 화소부의 강도가 다소 저하될 수 있으며, 상기 광중합성 화합물이 상기 범위를 초과하여 포함되는 경우 평활성이 다소 저하될 수 있으므로 상기 범위 내로 포함되는 것이 바람직하다.When the photopolymerizable compound is contained in the range below the above range, the strength of the pixel portion may be somewhat lowered, and when the photopolymerizable compound is contained in the range exceeding the above range, the smoothness may be somewhat lowered. .

광중합Light curing 개시제Initiator

본 발명에 따른 광중합 개시제는 상기 광중합성 화합물을 중합시킬 수 있는 것이라면 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 특히, 상기 광중합 개시제는 중합특성, 개시효율, 흡수파장, 입수성, 가격 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.The photopolymerization initiator according to the present invention can be used without particular limitation as long as it can polymerize the photopolymerizable compound. Particularly, from the viewpoints of polymerization characteristics, initiation efficiency, absorption wavelength, availability, and cost, the photopolymerization initiator is preferably used in combination with an acetophenone compound, a benzophenone compound, a triazine compound, a biimidazole compound, It is preferable to use at least one compound selected from the group consisting of compounds.

상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다. Specific examples of the acetophenone-based compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2-hydroxy- 1- [4- 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1-one, 2-methylcyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1-one 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one.

상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, o-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등이 있다.Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. Specific examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 - (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, (Trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan- , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- ) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

상기 비이미다졸 화합물의 구체적인 예로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4'5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4'5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하게 사용된다.Specific examples of the imidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbimidazole, 2,2'-bis (2,3- Phenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) , 2,2'-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) Imidazole compounds in which 4'5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole or phenyl groups at 4,4 ', 5,5' positions are substituted by carboalkoxy groups. Among them, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3- , 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4'5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole is preferably used do.

상기 옥심 화합물의 구체적인 예로는 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온등을 들 수 있으며, 시판품으로 바스프사의 Irgacure OXE 01, OXE 02가 대표적이다.Specific examples of the oxime compounds include o-ethoxycarbonyl-α-oximino-1-phenylpropan-1-one and commercially available products such as Irgacure OXE 01 and OXE 02 from BASF.

상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등이 있다. Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4- .

상기 광중합 개시제는 상기 자발광 감광성 수지 조성물 전체 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부, 바람직하게는 1 내지 8 중량부, 더욱 바람직하게는 3 내지 5 중량부로 포함될 수 있다. The photopolymerization initiator may be added in an amount of 0.1 to 10 parts by weight, preferably 1 to 8 parts by weight, more preferably 3 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire self-light-sensitive resin composition.

상기 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함되는 경우 상기 자발광 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상되며 높은 해상도를 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도와 상기 화소부의 표면에서의 평활성이 양호해지는 이점이 있다. When the photopolymerization initiator is contained within the above range, the self-light-sensitive photosensitive resin composition is highly sensitized and the exposure time is shortened, so that the productivity is improved and the high resolution can be maintained. Further, there is an advantage that the strength of the pixel portion formed by using the self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention and the smoothness on the surface of the pixel portion are improved.

상기 광중합 개시제는 본 발명에 자발광 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위해서, 광중합 개시 보조제를 더 포함할 수 있다. 상기 광중합 개시 보조제가 포함되는 경우 감도가 더욱 높아져 생산성이 향상되는 이점이 있다.The photopolymerization initiator may further include a photopolymerization initiator in order to improve the sensitivity of the self-luminescent photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is included, the sensitivity is further increased and the productivity is improved.

상기 광중합 개시 보조제는 예컨대, 아민 화합물, 카르복실산 화합물, 티올기를 가지는 유기 황화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The photopolymerization initiation auxiliary may be, for example, at least one compound selected from the group consisting of an amine compound, a carboxylic acid compound, and an organic sulfur compound having a thiol group, but is not limited thereto.

상기 아민 화합물로는 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하며, 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 사용할 수 있다.As the amine compound, an aromatic amine compound is preferably used. Specific examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4- Dimethylaminobenzoic acid, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone ), 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, and the like.

상기 카르복실산 화합물은 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다. The carboxylic acid compound is preferably an aromatic heteroacetic acid, and more specifically, it is preferably an aromatic heteroaromatic acid such as phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthio Acetic acid, chlorophenylthioacetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid and the like.

상기 티올기를 가지는 유기 황화합물의 구체적인 예로서는 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머갑토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic sulfur compound having a thiol group include 2-mercaptobenzothiazole, 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) 1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -thione, trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexacis (3-mercaptopropionate), and tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate) .

상기 광중합 개시 보조제는 본 발명의 범위를 해치지 않는 범위에서 적절히 추가하여 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator may be appropriately added in the range not impairing the scope of the present invention.

첨가제additive

본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 코팅성 또는 밀착성을 증진 시키기 위해서 밀착촉진제, 계면활성제와 같은 첨가제를 추가로 포함할 수 있다.The self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention may further include an additive such as an adhesion promoter and a surfactant in order to improve coatability or adhesion.

상기 밀착촉진제는 기판과의 밀착성을 높이기 위하여 첨가될 수 있는 것으로서 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 상기 실란 커플링제는 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시 실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으면, 이것들은 단독 및 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다The adhesion promoter may include a silane coupling agent having a reactive substituent selected from the group consisting of a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, an epoxy group, and a combination thereof, which may be added to improve adhesion with the substrate. But is not limited thereto. For example, the silane coupling agent may be at least one selected from the group consisting of trimethoxysilylbenzoic acid,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane,? -Isocyanatepropyltriethoxysilane,? -Glycidoxy Propyltrimethoxysilane, and? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc., these may be used singly or in combination of two or more kinds

본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물이 상기 계면활성제를 포함하는 경우 코팅성이 향상될 수 있는 이점이 있다. 예컨대 상기 계면활성제는 BM-1000, BM-1100(BM Chemie사), 프로라이드 FC-135/FC-170C/FC-430(스미토모 쓰리엠㈜), SH-28PA/-190/SZ-6032(도레 시리콘㈜)등의 불소계 계면 활성제를 사용할 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.When the self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention includes the above-mentioned surfactant, there is an advantage that the coating property can be improved. For example, the surfactant may be selected from the group consisting of BM-1000, BM-1100 (BM Chemie), Prolide FC-135 / FC-170C / FC-430 (Sumitomo 3M Co.), SH-28PA / -190 / SZ- Co., Ltd.) may be used, but the present invention is not limited thereto.

이 외에도 본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제와 같은 첨가제를 더 포함할 수도 있으며, 상기 첨가제는 역시 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 당업자가 적절히 추가하여 사용이 가능하다. 예컨대 상기 첨가제는 상기 자발광 감광성 수지 조성물 전체 중량을 기준으로 0.05 내지 10 중량부, 구체적으로 0.1 내지 10 중량부, 더욱 구체적으로 0.1 내지 5 중량부로 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.In addition, the self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention may further contain additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber and an antiflocculant to the extent that the effect of the present invention is not impaired, It can be appropriately added by a person skilled in the art. For example, the additive may be used in an amount of 0.05 to 10 parts by weight, specifically 0.1 to 10 parts by weight, more specifically 0.1 to 5 parts by weight, based on the total weight of the self-emission photosensitive resin composition, but is not limited thereto.

<컬러필터><Color filter>

본 발명의 또 다른 양태는 전술한 자발광 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터에 관한 것이다.Another aspect of the present invention relates to a color filter manufactured using the self-luminous photosensitive resin composition described above.

본 발명에 따른 컬러필터는 인산계 분산제를 포함하기 때문에 양자점 입자가 고르게 분산되어 광효율이 우수하고, 화소 픽셀의 품질이 우수한 이점이 있다.Since the color filter according to the present invention includes a phosphoric acid-based dispersant, the quantum dot particles are evenly dispersed, so that the light efficiency is excellent and the quality of the pixel pixel is excellent.

상기 컬러필터는 기판 및 상기 기판의 상부에 형성된 패턴층을 포함한다.The color filter includes a substrate and a pattern layer formed on the substrate.

상기 기판은 상기 컬러필터 자체 기판일 수 있으며, 또는 디스플레이 장치 등에 컬러필터가 위치되는 부위일 수도 있는 것으로, 특별히 제한되지 않는다. 상기 기판은 유리, 실리콘(Si), 실리콘 산화물(SiOx) 또는 고분자 기판일 수 있으며, 상기 고분자 기판은 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES) 또는 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 등일 수 있다.The substrate may be the substrate of the color filter itself, or may be a portion where a color filter is placed on a display device or the like, and is not particularly limited. The substrate may be glass, silicon (Si), silicon oxide (SiOx), or a polymer substrate, and the polymer substrate may be polyethersulfone (PES) or polycarbonate (PC).

상기 패턴층은 본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물을 포함하는 층으로, 상기 자발광 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상 및 열경화하여 형된 층일 수 있다. 상기 패턴층은 당업계에서 통상적으로 알려진 방법을 수행함으로써 형성할 수 있다.The pattern layer may be a layer containing the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention, which is formed by applying the self-luminescent photosensitive resin composition and exposing, developing, and thermosetting the self-luminescent photosensitive resin composition in a predetermined pattern. The pattern layer may be formed by performing a method commonly known in the art.

상기와 같은 기판 및 패턴층을 포함하는 컬러필터는 각 패턴 사이에 형성된 격벽을 더 포함할 수 있으며, 블랙 매트릭스를 더 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The color filter including the substrate and the pattern layer as described above may further include a partition wall formed between each pattern, and may further include a black matrix, but is not limited thereto.

또한, 상기 컬러필터의 패턴층 상부에 형성된 보호막을 더 포함할 수도 있다.Further, the color filter may further include a protective film formed on the pattern layer of the color filter.

본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 컬러필터는 적색 패턴층, 녹색 패턴층 및 청색 패턴층으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 컬러필터는 본 발명에 따른 적 양자점을 포함하는 적색 패턴층, 녹 양자점을 포함하는 녹색 패턴층 및 청 양자점을 포함하는 청색 패턴층으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함할 수 있다. 상기 적색 패턴층, 녹색 패턴층, 청색 패턴층은 각각 광 조사시 적색광, 녹색광, 청색광을 방출할 수 있으며, 이때, 상기 광원의 방출광은 특별히 한정되지는 않으나 보다 우수한 색 재현성의 측면에서 청색광을 방출하는 광원을 사용할 수 있다.In another embodiment of the present invention, the color filter may include at least one selected from the group consisting of a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer. Specifically, the color filter may include at least one selected from the group consisting of a red pattern layer including an effective quantum dot, a green pattern layer including a rust quantum dot, and a blue pattern layer including a blue quantum dot according to the present invention . The red pattern layer, the green pattern layer, and the blue pattern layer may emit red light, green light, and blue light when irradiated with light, respectively. At this time, the emission light of the light source is not particularly limited, but blue light A light source that emits light can be used.

상기 컬러필터는 적색 패턴층, 녹색 패턴층 및 청색 패턴층 중 2종 색상의 패턴층만을 구비할 수도 있으나, 이에 한정되지 않는다. 다만, 상기 컬러필터가 2종 색상의 패턴층만을 구비하는 경우 상기 패턴층은 상기 양자점 입자를 함유하지 않는 투명 패턴층을 더 구비할 수 있다.The color filter may include only a pattern layer of two colors of a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer, but is not limited thereto. However, if the color filter has only a pattern layer of two colors, the pattern layer may further include a transparent pattern layer not containing the quantum dot particles.

상기 컬러필터가 상기 2종 색상의 패턴층만을 구비하는 경우에는 상기 2종 색상 외의 색상을 나타내는 파장의 빛을 방출하는 광원을 사용할 수 있다. 예컨대, 상기 컬러필터가 적색 패턴층 및 녹색 패턴층을 포함하는 경우에는 청색광을 방출하는 광원을 사용할 수 있으며, 이 경우 적 양자점은 적색광을, 녹 양자점은 녹색광을 방출하고, 상기 투명 패턴층은 상기 광원에 의한 청색광이 그대로 투과함에 따라 청색을 띨 수 있다.When the color filter includes only the pattern layer of the two colors, a light source that emits light having a wavelength other than the two colors may be used. For example, when the color filter includes a red pattern layer and a green pattern layer, a light source that emits blue light may be used. In this case, the red quantum dot emits red light and the green quantum dot emits green light. Blue light can be seen as blue light by the light source is transmitted as it is.

<화상 표시 장치><Image Display Device>

또한, 본 발명의 다른 양태는, 전술한 컬러필터를 포함하는 화상표시장치에 관한 것이다. Further, another aspect of the present invention relates to an image display apparatus including the color filter described above.

본 발명의 컬러필터는 통상의 액정 표시 장치뿐만 아니라, 전계 발광 표시장치, 플라스마 표시 장치, 전계 방출 표시 장치 등 각종 화상 표시 장치에 적용이 가능하다.The color filter of the present invention is applicable not only to a general liquid crystal display device but also to various image display devices such as an electroluminescence display device, a plasma display device, and a field emission display device.

본 발명에 따른 화상표시장치는 양자점 및 인산계 분산제를 포함하기 때문에 광 효율이 우수하여 높은 휘도를 나타내고, 색 재현성이 우수하며, 넓은 시야각을 가지는 이점이 있다.Since the image display apparatus according to the present invention includes a quantum dot and a phosphoric acid-based dispersing agent, it has an excellent light efficiency, exhibits a high luminance, has excellent color reproducibility, and has a wide viewing angle.

본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 화상표시장치는 청색광을 방출하는 광원 및 투명 패턴층을 더 포함할 수 있으며, 상기 청색광을 방출하는 광원, 상기 투명 패턴층은 전술한 내용을 적용할 수 있다.In another embodiment of the present invention, the image display apparatus may further include a light source for emitting blue light and a transparent pattern layer, the light source for emitting the blue light, have.

이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세히 설명한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지는 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 또한, 이하에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples to illustrate the present invention. However, the embodiments according to the present disclosure can be modified in various other forms, and the scope of the present specification is not construed as being limited to the above-described embodiments. Embodiments of the present disclosure are provided to more fully describe the present disclosure to those of ordinary skill in the art. In the following, "%" and "part" representing the content are by weight unless otherwise specified.

제조예Manufacturing example 1 :  One : CdSeCdSe (코어)/(core)/ ZnSZnS (쉘) 구조의 광 루미네선스 녹 양자점 입자의 합성(Shell) Structure of Optical Luminescent Sintered Rat Quantum Dot Particle Synthesis

CdO(0.4 mmol)과 아연 아세테이트(Zinc acetate)(4 mmol), 올레산(Oleic acid)(5.5 mL)를 1-옥타데센(1-Octadecene) (20 mL)과 함께 반응기에 넣고 150℃로 가열하여 반응시켰다. 이후에 아연에 올레산이 치환됨으로써 생성된 아세트산(acetic acid)을 제거하기 위해 상기 반응물을 100 mTorr 의 진공 하에 20분간 방치하였다. 그리고 나서, 310℃의 열을 가하여 투명한 혼합물을 얻은 다음, 이를 20분간 310를 유지한 후, 0.4 mmol의 Se 분말과 2.3 mmol의 S 분말을 3mL의 트리옥틸포스핀(trioctylphosphine)에 용해시킨 Se 및 S 용액을 Cd(OA)2 및 Zn(OA)2용액이 들어 있는 반응기에 빠르게 주입하였다. 이로부터 얻은 혼합물을 310℃에서 5분간 성장시킨후 얼음물 배쓰(ice bath)를 이용하여 성장을 중단시켰다. 그리고 나서, 에탄올로 침전시켜 원심분리기를 이용하여 양자점을 분리하고 여분의 불순물은 클로로포름(chloroform)과 에탄올을 이용하여 씻어냄으로써, 올레인산으로 안정화된, 코어 입경과 쉘 두께의 합이 3 내지 5nm인 입자들이 분포된 CdSe(코어)/ZnS(쉘) 구조의 양자점 입자 A-1를 수득하였다.CdO (0.4 mmol), zinc acetate (4 mmol) and oleic acid (5.5 mL) were added to the reactor together with 1-Octadecene (20 mL) and heated to 150 ° C. Lt; / RTI &gt; The reaction was then left under vacuum at 100 mTorr for 20 minutes to remove the acetic acid formed by the displacement of oleic acid into zinc. Then, a transparent mixture was obtained by applying heat at 310 DEG C, and after maintaining the temperature at 310 for 20 minutes, 0.4 mmol of Se powder and 2.3 mmol of S powder were dissolved in 3 mL of trioctylphosphine, S solution was rapidly injected into a reactor containing a solution of Cd (OA) 2 and Zn (OA) 2 . The resulting mixture was grown at 310 ° C for 5 minutes, and growth was stopped using an ice bath. Then, the precipitate was precipitated with ethanol, and the quantum dots were separated using a centrifugal separator. The excess impurities were washed with chloroform and ethanol to obtain particles having a core particle size and shell thickness summed to 3 to 5 nm (CdSe (core) / ZnS (shell) structure distributed quantum dot particle A-1.

제조예Manufacturing example 2 : 알칼리 가용성 수지의 합성 2: Synthesis of alkali-soluble resin

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, N-벤질말레이미드 45중량부, 메타크릴산 45중량부, 트리사이클로데실 메타크릴레이트 10중량부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, PGMEA) 40중량부를 투입후 교반 혼합하여 모노머 적하 로트를 준비하고, n-도데칸티올 6중량부, PGMEA 24중량부를 넣고 교반 혼합하여 연쇄 이동제 적하 로트를 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 395중량부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는 90℃를 유지하면서 각각 2시간 동안 진행하고 1시간 후에 110로 승온하여 3시간 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 10중량부, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4중량부, 트리에틸아민 0.8중량부를 플라스크 내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 그 후 실온까지 냉각하면서 고형분 29.1중량%, 중량평균분자량 32,000, 산가가 114㎎KOH/g인 알칼리 가용성 수지를 얻었다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen-introducing tube was provided with 45 parts by weight of N-benzylmaleimide, 45 parts by weight of methacrylic acid, 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, , 4 parts by weight of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 40 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as PGMEA) were charged and stirred to prepare a monomer dropping tank. 6 parts by weight of n-dodecanethiol And 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred to prepare a chain transfer agent dropping lot. Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was changed to nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C while stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The mixture was allowed to stand at 90 DEG C for 2 hours each. After 1 hour, the temperature was elevated to 110, and the mixture was maintained for 3 hours. Then, a gas introduction tube was introduced to prepare a bubbling gas mixture of oxygen / nitrogen = 5 / . Then, 10 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 part by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.8 part by weight of triethylamine were charged into a flask, The reaction was continued and then cooled to room temperature to obtain an alkali-soluble resin having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 32,000 and an acid value of 114 mgKOH / g.

제조예Manufacturing example 3 :  3: 양자점Qdot 분산체의 제조 Preparation of dispersion

하기 표 1의 조성으로 양자점 분산체(A')를 제조하였다.A quantum dot dispersion (A ') was prepared from the composition shown in Table 1 below.

양자점 분산체A quantum dot dispersant 제조예Manufacturing example 3-13-1 3-23-2 3-33-3 3-43-4 3-53-5 3-63-6 3-73-7 3-83-8 3-93-9 3-103-10 3-113-11 양자점(A-1)The quantum dot (A-1) 2020 2020 2020 2020 2020 2020 -- 2020 2020 2020 -- 양자점(A-2)The quantum dot (A-2) -- -- -- -- -- -- 2020 -- -- -- 2020 분산제(B-1)The dispersant (B-1) 1One 55 4040 5050 -- -- 55 -- -- -- -- 분산제(B-2)Dispersant (B-2) -- -- -- -- 55 -- -- -- -- -- -- 분산제(B-3)Dispersant (B-3) -- -- -- -- -- 55 -- -- -- -- 분산제(B-4)Dispersant (B-4) -- -- -- -- -- -- -- -- 55 -- -- 분산제(B-5)Dispersant (B-5) -- -- -- -- -- -- -- -- -- 55 -- 용제(C)Solvent (C) 7979 7575 4040 3030 7575 7575 7575 8080 7575 7575 8080 A-1: 제조예 1에서 합성한 양자점
A-2: Nanosquare사제 양자점 NSQDs-HOS 535nm
B-1: Disperbyk-111 (빅케미사제, 인산계 분산제)
B-2: Disperbyk-110 (빅케미사제, 인산계 분산제)
B-3: Disperbyk-103 (빅케미사제, 인산계 분산제)
B-4: Disperbyk-161 (빅케미사제, 우레탄계 분산제)
B-5: Disperbyk-2001 (빅케미사제, 아크릴계 분산제)
C: 클로로포름
A-1: Quantum dot synthesized in Production Example 1
A-2: Nanosquare Quantum Dot NSQDs-HOS 535nm
B-1: Disperbyk-111 (Phosphoric acid dispersant, manufactured by Big Chemie)
B-2: Disperbyk-110 (phosphate-based dispersant, manufactured by Big Chemie)
B-3: Disperbyk-103 (Phosphoric acid dispersant, manufactured by Big Chemie)
B-4: Disperbyk-161 (a urethane dispersant manufactured by Big Chemie)
B-5: Disperbyk-2001 (acrylic dispersant, manufactured by Big Chemie)
C: chloroform

실시예Example 1 내지 7 및  1 to 7 and 비교예Comparative Example 1 내지 4 :  1 to 4: 자발광Self-luminous 감광성 수지 조성물의 제조 Preparation of Photosensitive Resin Composition

상기 제조예 3-1 내지 3-11에 표 2 및 표3에 따른 조성으로 알칼리 가용성 수지, 용제, 광중합성 화합물, 광중합 개시제를 혼합하여 실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 4에 따른 자발광 감광성 수지 조성물을 제조하였다.In Production Examples 3-1 to 3-11, alkali-soluble resins, a solvent, a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator were mixed with the compositions according to Tables 2 and 3, and the self-luminescence according to Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 To prepare a photosensitive resin composition.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 실시예 7Example 7 양자점 분산체
(A')
A quantum dot dispersant
(A ')
제조예 3-1Production example 3-1 4040 -- -- -- -- -- --
제조예 3-2Production example 3-2 -- 4040 -- -- -- -- -- 제조예 3-3Production Example 3-3 -- -- 4040 -- -- -- -- 제조예 3-4Production example 3-4 -- -- -- 4040 -- -- -- 제조예 3-5Production Example 3-5 -- -- -- -- 4040 -- -- 제조예 3-6Production Example 3-6 -- -- -- -- -- 4040 -- 제조예 3-7Production Example 3-7 -- -- -- -- -- -- 4040 제조예 3-8Production Example 3-8 -- -- -- -- -- -- -- 제조예 3-9Production Example 3-9 -- -- -- -- -- -- -- 제조예 3-10Production Example 3-10 -- -- -- -- -- -- -- 제조예 3-11Production Example 3-11 -- -- -- -- -- -- -- 알칼리 가용성 수지(B')The alkali-soluble resin (B ') 2020 2020 2020 2020 2020 2020 2020 용제(C')The solvent (C ') 1515 1515 1515 1515 1515 1515 1515 광중합성 화합물(D')The photopolymerizable compound (D ') 2020 2020 2020 2020 2020 2020 2020 광중합 개시제(E')Photopolymerization initiator (E ') 55 55 55 55 55 55 55 A': 제조예 3에 따른 양자점 분산체
B': 제조예 2에 따른 알칼리 가용성 수지
C': 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)
D': 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 닛본 카야꾸 ㈜ 제조)
E': Irgacure-907 (BASF사)
A ': Quantum dot dispersion according to Production Example 3
B ': An alkali-soluble resin according to Production Example 2
C ': Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)
D ': dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
E ': Irgacure-907 (BASF)

비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 양자점 분산체
(A')
A quantum dot dispersant
(A ')
제조예 3-1Production example 3-1 -- -- -- --
제조예 3-2Production example 3-2 -- -- -- -- 제조예 3-3Production Example 3-3 -- -- -- -- 제조예 3-4Production example 3-4 -- -- -- -- 제조예 3-5Production Example 3-5 -- -- -- -- 제조예 3-6Production Example 3-6 -- -- -- -- 제조예 3-7Production Example 3-7 -- -- -- -- 제조예 3-8Production Example 3-8 4040 -- -- -- 제조예 3-9Production Example 3-9 -- 4040 -- -- 제조예 3-10Production Example 3-10 -- -- 4040 -- 제조예 3-11Production Example 3-11 -- -- -- 4040 알칼리 가용성 수지(B')The alkali-soluble resin (B ') 2020 2020 2020 2020 2020 용제(C')The solvent (C ') 1515 1515 1515 1515 1515 광중합성 화합물(D')The photopolymerizable compound (D ') 2020 2020 2020 2020 2020 광중합 개시제(E')Photopolymerization initiator (E ') 55 55 55 55 55 A': 제조예 3에 따른 양자점 분산체
B': 제조예 2에 따른 알칼리 가용성 수지
C': 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)
D': 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 닛본 카야꾸 ㈜ 제조)
E': Irgacure-907 (BASF사)
A ': Quantum dot dispersion according to Production Example 3
B ': An alkali-soluble resin according to Production Example 2
C ': Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)
D ': dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
E ': Irgacure-907 (BASF)

실험예Experimental Example

(1) 양자점 분산체 및 자발광 감광성 수지 조성물의 분산입도 측정(1) Dispersion size measurement of the quantum dot dispersion and the self-luminescent photosensitive resin composition

ELSZ-2000ZS(오츠카사 제)을 이용하여, 분산입도를 측정하여 하기 표 4에 나타내었다. 통상 양자점 입자가 응집되면 분산입도는 커지게 되고, 이에 따라 발광특성이 떨어지는 문제를 야기할 수 있다.The dispersion particle size was measured using ELSZ-2000ZS (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.), and it is shown in Table 4 below. Normally, when the quantum dot particles are aggregated, the dispersed particle size becomes large, thereby causing a problem that the luminescent properties are deteriorated.

(2) 자발광 감광성 수지 조성물의 현상타입 측정(2) Measurement of developing type of self-luminescent photosensitive resin composition

실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 4의 자발광 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법으로 유리 기판 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 3분간 유지하여 박막을 형성시킨 후 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 침지(0.04% KOH, 26℃)시켜, 코팅된 자발광 감광성 수지조성물 층이 현상될 때의 형태가 용해형태인지, 박리형태인지 확인하여 하기 표 4에 기재하였다.The self-luminescent photosensitive resin compositions of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 were coated on a glass substrate by a spin coating method and then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C for 3 minutes to form a thin film. (0.04% KOH, 26 DEG C) in an aqueous solution developing solution to confirm that the form of the coated self-emitting photosensitive resin composition layer was a dissolved form or a peeled form, and is shown in Table 4 below.

용해형태의 경우엔 화소 패턴의 형성이 양호하나, 박리형태의 경우에는 화소패턴의 형성이 어려워 사용할 수 없는 특징이 있다.In the case of the dissolving type, the formation of the pixel pattern is good, but in the case of the delamination form, the formation of the pixel pattern is difficult, and thus it can not be used.

(3) 발광 강도(Intensity) 측정(3) Intensity measurement

자발광 화소가 형성된 컬러필터 중 20mm × 20mm 정사각형의 패턴으로 형성된 패턴부에 365nm형 4W UV 조사기(VL-4LC, VILBER LOURMAT)를 통하여 광 변환된 영역을 측정하였으며, 광변환된 발광 강도를 Spectrum meter USB2000+(Ocean Optics사 제)를 이용하여 측정하여 하기 표 4에 나타내었다. The photo-converted region was measured by a 365 nm type 4 W UV illuminator (VL-4LC, VILBER LOURMAT) on a pattern portion formed in a pattern of 20 mm × 20 mm square among the color filters having the self-luminous pixels, And measured using USB2000 + (manufactured by Ocean Optics Co., Ltd.).

측정된 광 강도가 높을수록 우수한 자발광 특성을 발휘하는 것으로 판단할 수 있다.It can be judged that the higher the intensity of the measured light is, the better the self-luminescence characteristic is exhibited.

양자점 분산체 분산입도Quantum dot dispersed dispersed particle size 감광성 수지조성물
분산입도
Photosensitive resin composition
Dispersed particle size
현상성Developability 발광강도
(발광면적)
Emission intensity
(Light emitting area)
실시예 1Example 1 7nm7 nm 8nm8 nm 용해Dissolution 5,371,4295,371,429 실시예 2Example 2 8nm8 nm 7nm7 nm 용해Dissolution 5,556,5485,556,548 실시예 3Example 3 8nm8 nm 7nm7 nm 용해Dissolution 5,050,2525,050,252 실시예 4Example 4 7nm7 nm 7nm7 nm 박리Exfoliation 5,324,8765,324,876 실시예 5Example 5 9nm9 nm 10nm10 nm 용해Dissolution 5,109,6395,109,639 실시예 6Example 6 8nm8 nm 9nm9 nm 용해Dissolution 5,254,1885,254,188 실시예 7Example 7 10nm10 nm 10nm10 nm 용해Dissolution 5,576,5275,576,527 비교예 1Comparative Example 1 8nm8 nm 1,372nm1,372 nm 용해Dissolution 2,634,1582,634,158 비교예 2Comparative Example 2 11nm11 nm 859nm859 nm 용해Dissolution 2,851,6602,851,660 비교예 3Comparative Example 3 13nm13 nm 1,134nm1,134 nm 용해Dissolution 2,846,9162,846,916 비교예 4Comparative Example 4 9nm9 nm 935nm935 nm 용해Dissolution 2,462,5512,462,551

상기 표 4에서 알 수 있다시피, 본 발명에 따른 인산계 분산제를 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물의 분산입도는 양자점 분산체의 분산입도와 유사하게 유지됨에 따라, 입자 응집이 발생된 비교예에 비해 발광강도가 크게 증가함을 알 수 있다.As can be seen in Table 4, the dispersion particle size of the self-emitting photosensitive resin composition containing the phosphoric acid-based dispersant according to the present invention was maintained similar to the dispersion particle size of the quantum dot dispersion body, The light emission intensity is greatly increased.

또한, 실시예 1 내지 실시예 4에서와 같이 인산계 분산제의 함량이 200 중량부를 초과하게 되면, 발광강도는 우수하지만 현상특성이 박리로 변함에 따라 패턴형성이 다소 저하되는 것을 알 수 있다.When the content of the phosphoric acid dispersant exceeds 200 parts by weight as in Examples 1 to 4, the emission intensity is excellent but the pattern formation is somewhat lowered as the developing property is changed to peeling.

Claims (8)

양자점; 인산계 분산제; 및 용제를 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물.Quantum dot; Phosphoric acid dispersant; And a solvent. 제1항에 있어서,
상기 인산계 분산제는 한 분자 내에 에스테르기를 더 포함하는 것인 자발광 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the phosphoric acid-based dispersant further contains an ester group in one molecule.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 인산계 분산제는 한 분자 내에 폴리에테르 부분을 더 포함하는 것인 자발광 감광성 수지 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the phosphoric acid-based dispersant further contains a polyether moiety in one molecule.
제1항에 있어서,
상기 인산계 분산제는 상기 양자점 고형분 전체 100 중량부에 대하여 1 내지 300 중량부인 것인 자발광 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the phosphoric acid-based dispersant is 1 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the quantum dots.
제1항에 있어서,
알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 첨가제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 더 포함하는 것인 자발광 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
An alkali-soluble resin, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and an additive.
제1항에 따른 자발광 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 컬러필터.A color filter comprising a cured product of the self-luminescent photosensitive resin composition according to claim 1. 제6항에 있어서,
상기 컬러필터는 적색 패턴층, 녹색 패턴층 및 청색 패턴층으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함하는 것인 컬러필터.
The method according to claim 6,
Wherein the color filter includes at least one selected from the group consisting of a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer.
제6항에 따른 컬러필터를 포함하는 화상표시장치.An image display device comprising the color filter according to claim 6.
KR1020160126126A 2016-09-30 2016-09-30 Self emission type photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same KR102028438B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160126126A KR102028438B1 (en) 2016-09-30 2016-09-30 Self emission type photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same
CN201710858627.4A CN107880871B (en) 2016-09-30 2017-09-21 Quantum dot dispersion, self-luminous photosensitive resin composition and use thereof
TW106133386A TWI850193B (en) 2016-09-30 2017-09-28 Quantum dot dispersion, self emission type photosensitive resin composition and use

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160126126A KR102028438B1 (en) 2016-09-30 2016-09-30 Self emission type photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180036053A true KR20180036053A (en) 2018-04-09
KR102028438B1 KR102028438B1 (en) 2019-10-04

Family

ID=61780806

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160126126A KR102028438B1 (en) 2016-09-30 2016-09-30 Self emission type photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR102028438B1 (en)
CN (1) CN107880871B (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200105052A (en) * 2019-02-28 2020-09-07 동우 화인켐 주식회사 Light Conversion Ink Composition, Color Filter and Display Device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108659826B (en) * 2018-06-12 2021-03-23 东南大学 Preparation method of double-peak fluorescent nanorod

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130000506A (en) 2011-06-23 2013-01-03 엘지이노텍 주식회사 Display device
KR20160058893A (en) * 2013-10-21 2016-05-25 후지필름 가부시키가이샤 Red-photosensitive resin composition, cured film, color filter, production method for color filter, solid state imaging element, and image display device
KR20160091523A (en) * 2015-01-23 2016-08-03 삼성디스플레이 주식회사 Photosensitive resin composition and display device
KR20160091708A (en) * 2015-01-26 2016-08-03 동우 화인켐 주식회사 Color filter and image display device using the same
KR20160103278A (en) * 2015-02-24 2016-09-01 동우 화인켐 주식회사 Color photosensitive resin composition, color filter manufactured thereby and liquid crystal display comprising the same
KR20160103792A (en) * 2015-02-25 2016-09-02 동우 화인켐 주식회사 Self emission type photosensitive resin composition, color filter manufactured using thereof and image display device having the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7393618B2 (en) * 2006-09-15 2008-07-01 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Composition for color converting member and production method of color conversion substrate using the same
KR101718592B1 (en) * 2014-12-26 2017-03-21 주식회사 엘지화학 Quantum dot composition and color conversion film comprising the same
KR101884380B1 (en) * 2016-09-29 2018-08-01 동우 화인켐 주식회사 Quantum dot dispersion, manufacturing method thereof, color filter and image display device manufactured using the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130000506A (en) 2011-06-23 2013-01-03 엘지이노텍 주식회사 Display device
KR20160058893A (en) * 2013-10-21 2016-05-25 후지필름 가부시키가이샤 Red-photosensitive resin composition, cured film, color filter, production method for color filter, solid state imaging element, and image display device
KR20160091523A (en) * 2015-01-23 2016-08-03 삼성디스플레이 주식회사 Photosensitive resin composition and display device
KR20160091708A (en) * 2015-01-26 2016-08-03 동우 화인켐 주식회사 Color filter and image display device using the same
KR20160103278A (en) * 2015-02-24 2016-09-01 동우 화인켐 주식회사 Color photosensitive resin composition, color filter manufactured thereby and liquid crystal display comprising the same
KR20160103792A (en) * 2015-02-25 2016-09-02 동우 화인켐 주식회사 Self emission type photosensitive resin composition, color filter manufactured using thereof and image display device having the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200105052A (en) * 2019-02-28 2020-09-07 동우 화인켐 주식회사 Light Conversion Ink Composition, Color Filter and Display Device

Also Published As

Publication number Publication date
CN107880871A (en) 2018-04-06
KR102028438B1 (en) 2019-10-04
CN107880871B (en) 2022-07-29
TW201827571A (en) 2018-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101879016B1 (en) Self emission type photosensitive resin composition, color filter manufactured using thereof and image display device having the same
KR101811103B1 (en) Self emission type photosensitive resin composition, color filter using thereof and image display device having the same
KR102028583B1 (en) Photosensitive resin composition
KR102418601B1 (en) Self emission type photosensitive resin composition, color filter using thereof and image display device having the same
KR101996102B1 (en) Self emission type photosensitive resin composition, color filter manufactured using thereof and image display device having the same
KR102092165B1 (en) Photosensitive resin composition
KR102052101B1 (en) Self emission type photosensitive resin composition, color filter manufactured using thereof and image display device having the same
KR101941573B1 (en) Self emission type photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same
CN110291431B (en) Color filter and image display device
CN109863222B (en) Quantum dot dispersion, self-luminous photosensitive resin composition containing same, color filter manufactured by using same, and image display device
KR20180054249A (en) Quantum dot dispersion, self emission type photosensitive resin composition, color filter manufactured using thereof and image display device having the same
KR101884380B1 (en) Quantum dot dispersion, manufacturing method thereof, color filter and image display device manufactured using the same
KR102554285B1 (en) Quantum Dot Dispersion, Self Emission Type Photosensitive Resin Composition, Color Filter and Display Device
CN106569389B (en) Self-luminous photosensitive resin composition, color filter and display device including the same
KR20180056860A (en) Self emission type photosensitive resin composition, color filter manufactured using thereof and image display device having the same
KR20160112499A (en) Yellow curable resin composition, and color filter comprising thereof and display device comprising of the same
CN107880871B (en) Quantum dot dispersion, self-luminous photosensitive resin composition and use thereof
KR20180068625A (en) Yellow curableresin composition, color filter and display device having the same
KR102521519B1 (en) Self emission type photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same
KR102206910B1 (en) Self emission type photosensitive resin composition, and color filter comprising thereof and display device comprising of the same
KR20180055063A (en) Yellow curable resin composition, and color filter comprising thereof and display device comprising of the same
KR20170017544A (en) Self emission type photosensitive resin composition, color filter using thereof and image display device having the same
KR102054430B1 (en) Self emission type photosensitive resin composition, color filter, and image display device produced using the same
KR20180048488A (en) A self-light emitting photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR102297066B1 (en) Yellow curable resin composition, and color filter comprising thereof and display device comprising of the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right