JP2016524312A - 超薄型有機発光素子の製造方法 - Google Patents

超薄型有機発光素子の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2016524312A
JP2016524312A JP2016527931A JP2016527931A JP2016524312A JP 2016524312 A JP2016524312 A JP 2016524312A JP 2016527931 A JP2016527931 A JP 2016527931A JP 2016527931 A JP2016527931 A JP 2016527931A JP 2016524312 A JP2016524312 A JP 2016524312A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic light
light emitting
frit
emitting device
ultra
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016527931A
Other languages
English (en)
Inventor
ジュ ユン イ、
ジュ ユン イ、
ウン ホ チェ、
ウン ホ チェ、
ヒョン ヒ イ、
ヒョン ヒ イ、
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Corning Precision Materials Co Ltd
Original Assignee
Corning Precision Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Precision Materials Co Ltd filed Critical Corning Precision Materials Co Ltd
Publication of JP2016524312A publication Critical patent/JP2016524312A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/85Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/854Arrangements for extracting light from the devices comprising scattering means
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10Substrates, e.g. flexible substrates
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/842Containers
    • H10K50/8426Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/111Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/40Organosilicon compounds, e.g. TIPS pentacene
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/351Thickness
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/40Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本発明は、超薄型有機発光素子の製造方法に係り、より詳しくは、光取り出し効率の向上は勿論のこと、厚さを画期的に低減することができる超薄型有機発光素子の製造方法に関する。このために、本発明は、支持体上に高分子物質をコートする高分子物質コーティングステップと、前記高分子物質上にフリット・ペーストをコートするフリット・コーティングステップと、前記高分子物質が分解する温度にて熱処理を施して、前記支持体と、前記フリット・ペーストを熱処理してなるフリット基板とを分離させる熱処理および分離ステップ、および前記高分子物質と接触していた前記フリット基板の一方の面に第1電極、有機発光層、および第2電極を含む素子層を順次形成する素子層形成ステップと、を含むことを特徴とする超薄型有機発光素子の製造方法を提供する。

Description

本発明は、超薄型有機発光素子の製造方法に係り、より詳しくは、光取り出し効率の向上は勿論のこと、厚さを画期的に低減することができる超薄型有機発光素子の製造方法に関する。
一般に、発光装置は、有機物を用いて発光層を形成する有機発光装置と無機物を用いて発光層を形成する無機発光装置とに大別することができる。このうち、有機発光装置を構成する有機発光素子は、電子注入電極(カソード)から注入された電子と正孔注入電極(アノード)から注入された正孔とが有機発光層で結合してエキシトン(exiton)を形成し、該エキシトンがエネルギーを放出しながら発光する自己発光型素子であって、低電力での駆動、自己発光、広い視野角、高い解像度や自然色の実現、速い応答速度などの長所を有している。
近年、この種の有機発光素子を携帯用情報機器、カメラ、時計、事務用機器、自動車などの情報表示ウィンドウ、テレビ、ディスプレイ、または照明用などに適用するための研究が活発に進められている。
上述したような有機発光素子の発光効率を向上するための手法としては、発光層を構成する材料の発光効率を向上する、または発光層から発された光を外部へ取り出す効率を向上する手法がある。
このとき、光取り出し効率は、有機発光素子を構成する各層の屈折率によって左右される。一般的な有機発光素子の場合、発光層から発せられる光が臨界角以上の角度で出射するとき、アノードである透明電極層のように屈折率の高い層と基板ガラスのように屈折率の低い層との間の界面で全反射が生じることで光取り出し効率が低くなり、その結果、有機発光素子の全体的な発光効率が低減するという不具合があった。
これについて詳述すると、有機発光素子では、発光量の20%しか外部に取り出されず、80%程度の光は基板ガラスとアノードおよび正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などを含む有機発光層の屈折率の差による導波管(wave guiding)効果と基板ガラスと空気との屈折率の差による全反射効果により消失される。すなわち、内部有機発光層の屈折率は1.7〜1.8で、アノードにおいて一般に用いられるITOの屈折率は約1.9である。このとき、両層の厚さは略200〜400nmと極めて薄く、且つ基板ガラスの屈折率が1.5であるため、有機発光素子中には平面導波路が自然に形成される。計算によれば、前記した原因による内部導波モードで消失される光の比率は約45%に達する。そして、基板ガラスの屈折率は約1.5で、外部空気の屈折率は1.0であるため、基板ガラスから外部へと光が取り出されるとき、臨界角以上の角度で入射する光は全反射して基板ガラスの内部に閉じ込められ、このように閉じ込められた光の比率は約35%に達することから、発光量の20%程度の僅かしか外部へ取り出されない。
一方、有機発光素子はLEDなどの他の発光素子よりも薄型であるため、大きな関心を集めている。すなわち、有機発光素子は自己発光することでバックライトユニット(BLU)などといった追加的な構成要素を不要とし、その結果、完成品の厚さを数mm水準に抑えられるという長所を持っている。しかしながら、有機発光素子の厚さをさらに低減したいという要望に対し、有機発光素子の基板ガラスや封止ガラスの厚さを低減するのに限界があるため、現在の構成や工程の下では有機発光素子の厚さをさらに薄くすることは不可能であるという不具合があった。すなわち、現在の有機発光素子の作製時の基板ガラスの最小厚さは0.1mmであり、これを利用して有機発光素子を作製した場合、有機発光素子の厚さはそれ以上にならざるを得なくなる。
本発明は、上述したような従来技術の問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、光取り出し効率の向上は勿論のこと、厚さを画期的に低減することができる超薄型有機発光素子の製造方法を提供することである。
このために、本発明は、支持体上に高分子物質をコートする高分子物質コーティングステップと、前記高分子物質上にフリット・ペーストをコートするフリット・コーティングステップと、前記高分子物質が分解する温度にて熱処理を施して、前記支持体と、前記フリット・ペーストを熱処理してなるフリット基板とを分離させる熱処理および分離ステップ、および前記高分子物質と接触していた前記フリット基板の一方の面に第1電極、有機発光層、および第2電極を含む素子層を順次形成する素子層形成ステップと、を含むことを特徴とする超薄型有機発光素子の製造方法を提供する。
ここで、前記フリット・コーティングステップでは、前記フリット基板が4〜5μmの厚さを有するように前記フリット・ペーストをコートしていてよい。
また、前記高分子物質コーティングステップでは、前記高分子物質としてPDMS、PR(フォトレジスト)、およびポリイミドからなる高分子物質の候補群より選ばれたいずれか一種を用いていてよい。
そして、前記熱処理および分離ステップでは、400〜600℃で熱処理を施していてよい。
さらに、前記熱処理および分離ステップにて前記支持体と前記フリット基板とを分離させると、前記フリット基板の他方の面は前記素子層が形成される前記フリット基板の一方の面よりも高い表面粗さを有していてよい。
このとき、前記フリット基板の一方の面の表面粗さ(rms)は0.4〜0.5nmであってよい。
さらに、前記フリット基板と前記素子層の厚さの和が10μm以下であってよい。
一方、本発明は、支持体上に高分子物質をコートする高分子物質コーティングステップと、前記高分子物質上に光散乱粒子を含有した金属酸化物をコートする金属酸化物コーティングステップと、前記金属酸化物上にフリット・ペーストをコートするフリット・コーティングステップと、前記高分子物質が分解する温度にて熱処理を施して、前記支持体と、前記フリット・ペーストを熱処理してなるフリット基板、および前記金属酸化物からなる積層体とを分離させる熱処理および分離ステップ、および前記高分子物質と接触していた前記金属酸化物の一方の面に第1電極、有機発光層、および第2電極を含む素子層を順次形成する素子層形成ステップと、を含むことを特徴とする超薄型有機発光素子の製造方法を提供する。
ここで、前記金属酸化物コーティングステップおよび前記フリット・コーティングステップでは前記積層体が5〜20μmの厚さを有するように前記金属酸化物および前記フリット・ペーストをコートしていてよい。
また、前記高分子物質コーティングステップでは、前記高分子物質としてPDMS、PR(フォトレジスト)、およびポリイミドからなる高分子物質の候補群より選ばれたいずれか一種を用いていてよい。
そして、前記熱処理および分離ステップでは、400〜600℃で熱処理を施していてよい。
さらに、前記熱処理および分離ステップにて前記支持体と前記積層体とを分離させると、前記金属酸化物の他方の面は前記素子層が形成される前記金属酸化物の一方の面よりも高い表面粗さを有していてよい。
また、前記金属酸化物一面の表面粗さ(rms)は0.4〜0.5nmであってよい。
本発明によれば、高温で分解し且つコーティングの際に高平坦面の表面が実現される高分子の特性を用いて、支持体上に高分子物質をコートしてから該高分子物質上に目標とする厚さでフリットをコートした後、高分子が分解する温度にて焼成することで、支持体と、硬化したフリット、すなわち、フリット基板を分離させることにより、従来の基板ガラスに代えられる超薄型フリット基板を得ることができ、このとき、高分子物質と接触していたフリット基板の一方の面は高分子物質の特性により、高平坦度が要求される透明電極と接触できるように高平坦面をなすことから別途の平坦層を不要とし、他方の面は相対的に高い表面粗さを有することから別途の外部光取り出し層を不要とし、また、フリット基板が透明電極と同一または類似の高屈折率を有することにより、内部光取り出し層もまた省略可能である。すなわち、本発明によれば、フリット基板それ自体が有機発光素子の基板ガラス、内部・外部光取り出し層としての役割をすることができ、その結果、有機発光素子の厚さを最小化、すなわち、従来の厚さに対して略1/10の超薄型有機発光素子を製造できることは勿論のこと、光取り出し効率もまた向上することができる。
また、本発明によれば、フリット・コーティングの前に、高分子物質上に光散乱粒子を含有した金属酸化物をコートすることにより、支持体の分離時に透明電極と接触する面が高平坦面をなす内部光取り出し層およびフリット基板の積層体を得ることができ、その結果、光取り出し効率をより一層向上することができる。
本発明の一実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を示すフローチャートである。 本発明の一実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を工程順に示す工程模式図である。 本発明の一実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を工程順に示す工程模式図である。 本発明の一実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を工程順に示す工程模式図である。 本発明の一実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を工程順に示す工程模式図である。 本発明の一実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を工程順に示す工程模式図である。 本発明の一実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法にてコートされる高分子物質の一種として用いられるPDMSの表面粗さを測定したAFM写真である。 本発明の他の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を示すフローチャートである。 本発明の他の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を工程順に示す工程模式図である。 本発明の他の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を工程順に示す工程模式図である。 本発明の他の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を工程順に示す工程模式図である。
以下、添付の図面を参照して本発明の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法について詳細に説明する。
なお、本発明を説明するにあたって、関連した公知機能あるいは構成についての具体的な説明が本発明の要旨を不要に曖昧にし得ると判断された場合、その詳細な説明は省略することにする。
図1に示すように、本発明の一実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法は、高分子物質コーティングステップ(S1)、フリット・コーティングステップ(S2)、熱処理および分離ステップ(S3)、および素子層形成ステップ(S4)を含む。
先ず、図2に示すように、高分子物質コーティングステップ(S1)は、支持体10上に高分子物質20をコートするステップである。高分子物質コーティングステップ(S1)では、高分子物質20としてPDMS(poly dimethyl siloxane)、PR(フォトレジスト)、およびポリイミドを含む高分子物質の候補群より選ばれたいずれか一種を用いていてよい。ここで、このような高分子物質20は、高温で分解する特性を有する。また、図7中のAFM写真に見られるように、高分子物質20がPDMSである場合、コーティングの際に最大表面粗さ(Rpv)4.33nm、平均表面粗さ(Rms)0.42nmの高平坦面の表面を形成する。本発明の一実施例では、このような高分子物質20の特性を用いて、後続工程にて形成されるフリット基板(図5の110)の表面を高分子物質20と同じ高平坦面に形成し、これについては後述することにする。
一方、高分子物質コーティングステップ(S1)では、ガラスやウエハなどのような基板を高分子物質20がコートされる支持体10として用いることができる。
次いで、図3に示すように、フリット・コーティングステップ(S2)は、コートされた高分子物質20上にフリット・ペースト30をコートするステップである。ここで、フリット・ペースト30は、有機バインダーが添加されている有機溶媒にフリット粉末を混合して調製することができる。このように高分子物質20上にコートされたフリット・ペースト30は、後続の熱処理工程の際に焼成され、フリット基板(図5の110)を構成するようになる。このとき、このようなフリット基板(図5の110)は、従来の略100μmの厚さで形成される基板ガラスに代わるものであり、本発明の実施例では、このようなフリット基板(図5の110)をフリット・ペースト30コーティング方法にて形成するため、数μm程度の厚さで形成することができ、究極的に超薄型有機発光素子(図6の100)を製造することができる。そのため、フリット・コーティングステップ(S2)では、焼成にて形成されるフリット基板(図5の110)の厚さが4〜5μmになるように、熱処理の際に収縮率を考慮してフリット・ペースト30をコートすることが好ましい。
次いで、図4および図5に示すように、熱処理および分離ステップ(S3)は、高分子物質20を分解させるために熱処理を施し、それにより支持体10と、フリット・ペースト30を熱処理してなるフリット基板110とを分離させるステップである。熱処理および分離ステップ(S3)では、高分子物質(20)が分解する温度にて熱処理を施し、例えば、400〜600℃で熱処理を施してもよい。
このように、高分子物質20が分解する温度にて熱処理を施すと、高分子物質20は分解して無くなり、その結果、支持体10とフリット基板110とは自然に分離する。ここで、高分子物質20はコーティングの際に高平坦面の表面を形成するため、該高分子物質20の高平坦面と接触していたフリット・ペースト30の一方の面、すなわち、熱処理後に形成されたフリット基板110の一方の面もまた、高平坦面をなすようになり、別途の平坦層を有さずにも高平坦度が要求される素子層(図6の120)の第1電極(図6の121)との接触が可能になる。すなわち、フリット基板110の一方の面が高平坦面に形成されることにより、これをベース基板として素子層(図6の120)を蒸着することが可能になる。ここで、高分子物質20と接触していたフリット基板110の一方の面の表面粗さ(rms)は、高分子物質20の表面粗さと類似または同一の0.4〜0.5nmを有するようになる。また、フリット基板110は、透明電極である第1電極(図6の121)と同一または類似の屈折率を有することにより、従来形成されていた内部光取り出し層を省略することができる。
一方、フリット基板110の他方の面は、フリット基板110の一方の面より相対的に高い表面粗さを有するようになる。このとき、フリット基板110の一方の面は素子層(図6の120)に接し、フリット基板110の他方の面は外部に露出し、また、外部に露出する面の表面粗さが高いと、すなわち、外部に露出する面に反りあるいは凹凸が形成されていると、従来光取り出し効率の向上のために基板ガラスの外表面に形成していたレンズ アレイと同じ構造になり、有機発光素子(図6の100)の光取り出し効率の向上に寄与するようになる。
このように、高分子物質20の熱分解特性や平坦化特性を用いて形成されたフリット基板110は、それ自体が有機発光素子(図6の100)の基板ガラス、内部光取り出し層および外部光取り出し層としての役割をするようになるため、有機発光素子(図6の100)を従来の厚さに対して略1/10程度の厚さを有する超薄型で形成可能になる。
次いで、図6に示すように、素子層形成ステップ(S4)は、高分子物質20との接触面をなして高平坦面をなすフリット基板110の一方の面に素子層120を形成するステップである。素子層形成ステップ(S4)では、フリット基板110の一方の面に、素子層120を構成する第1電極121、有機発光層122、および第2電極123を順に形成する。ここで、第1電極121は、有機発光素子100のアノードとして作用する。このような第1電極121は正孔注入が生じやすいように仕事関数の大きい金属、例えば、Au、In、Sn、またはITOのような金属、または金属酸化物からなるものであってよい。また、有機発光層122は、第1電極121上に順次積層される正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、および電子注入層を含んでなるものであってよい。このとき、本発明の実施例に従って製造される有機発光素子100はタンデム(tandem)構造からなり、この場合、複数の有機発光層130が備えられ、連結層(interconnecting layer)を介して交互に配置されていてよい。そして、第2電極123は、電子注入が生じやすいように仕事関数の小さいAl、Al:LiまたはMg:Agの金属薄膜からなるものであってよい。このように形成される素子層120は、4μm以下の厚さを有していてよい。
一方、素子層形成ステップ(S4)の完了後、素子層120を外部環境から保護するために、素子層120上にフリット基板110と対向するように封止ガラス(図示せず)を配置した後、フリット基板110と封止ガラス(図示せず)の縁部をエポキシにてシール処理していてよい。
前記のような工程により有機発光素子100を、従来のものに対して1/10程度の厚さを有する超薄型で形成することができる。すなわち、素子層120の厚さは固定された状態で、本発明の実施例では、厚さの低減に限界のある従来の基板ガラスに代えて、コーティングを通じて厚さの調節が可能なフリットを用いてフリット基板110を薄く形成すると共に、フリット基板110自体が内部・外部光取り出し層の役割をするため、従来のように基板ガラスの表裏面に別途の内部・外部光取り出し層を形成する必要がなくなり、有機発光素子100の全体的な厚さを従来よりも大幅に低減することができ、且つ、優れた光取り出し効率をも実現可能になる。
以下、本発明の他の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法について、図8乃至図11を参照して説明することにする。
図8は、本発明の他の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を示すフローチャートであり、図9乃至図11は、本発明の他の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法を工程順に示す工程模式図である。
図8に示すように、本発明の他の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法は、高分子物質コーティングステップ(S1)、金属酸化物コーティングステップ(S2)、フリット・コーティングステップ(S3)、熱処理および分離ステップ(S4)、および素子層形成ステップ(S5)を含む。
先ず、図9に示すように、高分子物質コーティングステップ(S1)は、支持体10上に高分子物質20をコートするステップであって、本発明の一実施例に係る高分子物質コーティングステップ(S1)と同じ工程であるから、これについての詳細な説明は省略する。
次いで、金属酸化物コーティングステップ(S2)は、コートされた高分子物質20上に光散乱粒子231を含有した金属酸化物230をコートするステップである。金属酸化物コーティングステップ(S2)では、金属酸化物230と屈折率が異なる物質からなる光散乱粒子231を金属酸化物230に混合した後、これを高分子物質20上にコートする。例えば、光散乱粒子231としてSiOを用いていてよく、金属酸化物230としてはTiOを用いていてよい。このように、光散乱粒子231を含有した金属酸化物230は、有機発光素子(図11の200)の内部光取り出し層を構成し、光導波モードで消失する光を散乱、すなわち、光導波モードをかく乱させて光取り出し効率を向上する役割をする。
次いで、フリット・コーティングステップ(S3)は、金属酸化物230上にフリット・ペースト30をコートするステップであって、本発明の一実施例に係るフリット・コーティングステップ(S3)に比較してコーティング対象物のみに差異があるだけで同一の工程であるから、これについての詳細な説明は省略する。
このとき、金属酸化物コーティングステップ(S2)とフリット・コーティングステップ(S3)では、後続工程を通じて形成されるフリット基板(図10の110)と金属酸化物230とからなる積層体が5〜20μmの厚さを有するように、熱処理の際に収縮率を考慮してフリット・ペースト30と金属酸化物230のコーティング厚さを制御することが好ましい。
次いで、図10に示すように、熱処理および分離ステップ(S4)は、高分子物質20が分解する温度にて熱処理を施して、フリット・ペースト30を熱処理してなる硬化したフリット基板110と金属酸化物230とからなる積層体と支持体10とを分離させるステップである。熱処理および分離ステップ(S4)では、400〜600℃で熱処理を施してもよい。
このように、高分子物質20が分解する温度にて熱処理を施すと、高分子物質20は分解して無くなり、それにより、フリット基板110と金属酸化物230とからなる積層体と支持体10とが自然に分離する。ここで、高分子物質20はコーティングの際に高平坦面の表面を形成するため、該高分子物質20の高平坦面と接触していた積層体の一方の面、すなわち、金属酸化物230の表面もまた、高平坦面をなすようになる。すなわち、金属酸化物230の表面粗さ(rms)は、高分子物質20の表面粗さと類似または同一の0.4〜0.5nmを有するようになる。
一方、積層体の他方の面、すなわち、フリット基板110の表面は、金属酸化物230の表面よりも相対的に高い表面を有するようになる。
次いで、図11に示すように、素子層形成ステップ(S5)は、高分子物質20との接触面をなして高平坦面をなす積層体の一方の面である金属酸化物230の表面に素子層120を形成するステップである。ここで、素子層形成ステップ(S5)は、本発明の一実施例に係る素子層形成ステップ(S5)と同一のものであるため、これについての詳細な説明は省略する。
上述したように、本発明の他の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法は、有機発光素子200の内部光取り出し層を構成する金属酸化物230の形成工程を含む。それにより、本発明の他の実施例に係る超薄型有機発光素子の製造方法にて製造された有機発光素子100は、本発明の一実施例に従って製造された有機発光素子(図6の100)よりも相対的に厚くなるものの、従来の有機発光素子よりは超薄型となり、内部に光散乱粒子231が分布している金属酸化物230からなる内部光取り出し層が有機発光層122に隣接して配置されることにより、光取り出し効率をより一層倍加することができる。
以上のように、本発明を限定された実施例や図面に基づいて説明したが、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、本発明の属する分野における通常の知識を有する者であれば、このような記載から種々の修正及び変形が可能である。
したがって、本発明の範囲は前述の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲や特許請求の範囲と均等なものなどによって決められるべきである。

Claims (17)

  1. 支持体上に高分子物質をコートする高分子物質コーティングステップと、
    前記高分子物質上にフリット・ペーストをコートするフリット・コーティングステップと、
    前記高分子物質が分解する温度にて熱処理を施して、前記支持体と、前記フリット・ペーストを熱処理してなるフリット基板とを分離させる熱処理および分離ステップ、および
    前記高分子物質と接触していた前記フリット基板の一方の面に第1電極、有機発光層、および第2電極を含む素子層を順次形成する素子層形成ステップと、
    を含むことを特徴とする超薄型有機発光素子の製造方法。
  2. 前記フリット・コーティングステップでは、前記フリット基板が4〜5μmの厚さを有するように前記フリット・ペーストをコートすることを特徴とする請求項1に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  3. 前記高分子物質コーティングステップでは、前記高分子物質としてPDMS、フォトレジスト、およびポリイミドからなる高分子物質の候補群より選ばれたいずれか一種を用いることを特徴とする請求項1に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  4. 前記熱処理および分離ステップでは、400〜600℃で熱処理を施すことを特徴とする請求項1に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  5. 前記熱処理および分離ステップにて前記支持体と前記フリット基板とを分離させると、前記フリット基板の他方の面は前記素子層が形成される前記フリット基板の一方の面よりも高い表面粗さを有することを特徴とする請求項1に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  6. 前記フリット基板の一方の面の表面粗さ(rms)は0.4〜0.5nmであることを特徴とする請求項5に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  7. 前記フリット基板と前記素子層の厚さの和が10μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  8. 支持体上に高分子物質をコートする高分子物質コーティングステップと、
    前記高分子物質上に光散乱粒子を含有した金属酸化物をコートする金属酸化物コーティングステップと、
    前記金属酸化物上にフリット・ペーストをコートするフリット・コーティングステップと、
    前記高分子物質が分解する温度にて熱処理を施して、前記支持体と、前記フリット・ペーストを熱処理してなるフリット基板、および前記金属酸化物からなる積層体とを分離させる熱処理および分離ステップ、および
    前記高分子物質と接触していた前記金属酸化物の一方の面に第1電極、有機発光層、および第2電極を含む素子層を順次形成する素子層形成ステップと、
    を含むことを特徴とする超薄型有機発光素子の製造方法。
  9. 前記金属酸化物コーティングステップおよび前記フリット・コーティングステップでは前記積層体が5〜20μmの厚さを有するように前記金属酸化物および前記フリット・ペーストをコートすることを特徴とする請求項8に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  10. 前記高分子物質コーティングステップでは、前記高分子物質としてPDMS、フォトレジスト、およびポリイミドからなる高分子物質の候補群より選ばれたいずれか一種を用いることを特徴とする請求項8に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  11. 前記熱処理および分離ステップでは、400〜600℃で熱処理を施すことを特徴とする請求項8に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  12. 前記熱処理および分離ステップにて前記支持体と前記積層体とを分離させると、前記金属酸化物の他方の面は前記素子層が形成される前記金属酸化物の一方の面よりも高い表面粗さを有することを特徴とする請求項8に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  13. 前記金属酸化物一面の表面粗さ(rms)は0.4〜0.5nmであることを特徴とする請求項12に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
  14. フリット基板、および
    前記フリット基板上に順次形成される第1電極、有機発光層、および第2電極を含む素子層、
    を含み、
    厚さが10μm以下であることを特徴とする超薄型有機発光素子。
  15. 前記フリット基板の厚さは4〜5μmであることを特徴とする請求項14に記載の超薄型有機発光素子。
  16. 前記フリット基板の一方の面は前記素子層と接し、前記フリット基板の他方の面は外部に露出し、前記フリット基板の他方の面の表面粗さは前記フリット基板の一方の面の表面粗さよりも高いことを特徴とする請求項14に記載の超薄型有機発光素子。
  17. 前記フリット基板と前記素子層との間に形成され、内部に光散乱粒子が分布している金属酸化物からなる内部光取り出し層をさらに含むことを特徴とする請求項14に記載の超薄型有機発光素子。
JP2016527931A 2013-07-16 2014-07-16 超薄型有機発光素子の製造方法 Pending JP2016524312A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130083658A KR101484089B1 (ko) 2013-07-16 2013-07-16 초박형 유기발광소자 제조방법
KR10-2013-0083658 2013-07-16
PCT/KR2014/006446 WO2015009059A1 (ko) 2013-07-16 2014-07-16 초박형 유기발광소자 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016524312A true JP2016524312A (ja) 2016-08-12

Family

ID=52346440

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016527931A Pending JP2016524312A (ja) 2013-07-16 2014-07-16 超薄型有機発光素子の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9570709B2 (ja)
EP (1) EP3024046A4 (ja)
JP (1) JP2016524312A (ja)
KR (1) KR101484089B1 (ja)
CN (1) CN105518896B (ja)
WO (1) WO2015009059A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101493601B1 (ko) * 2013-07-17 2015-02-13 쌩-고벵 글래스 프랑스 발광 디바이스용 적층체 및 그의 제조 방법
CN104795430A (zh) * 2015-04-14 2015-07-22 京东方科技集团股份有限公司 一种有机发光显示器件及其制作方法
CN112768620A (zh) * 2021-01-11 2021-05-07 宁波诺丁汉大学 光取出基板和高效电致发光器件
CN116438940A (zh) * 2021-11-08 2023-07-14 京东方科技集团股份有限公司 封装盖板及其制备方法、显示装置

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5239712A (en) * 1975-09-23 1977-03-28 Nippon Sheet Glass Co Ltd Method of manufacturing thin plate glass
JPS5684326A (en) * 1979-10-31 1981-07-09 Okaya Denki Sangyo Kk Sheet glass
JP2005297498A (ja) * 2004-04-16 2005-10-27 Dainippon Printing Co Ltd 可撓性基板およびそれを用いた有機デバイス
WO2005110741A1 (en) * 2004-05-19 2005-11-24 Dsm Ip Assets B.V. Process for composite layered material for electronic optical devices
JP2006059535A (ja) * 2004-08-17 2006-03-02 Seiko Instruments Inc 有機電子デバイスの製造方法
JP2009147345A (ja) * 2007-12-17 2009-07-02 Commiss Energ Atom 薄層の転着方法
WO2011126097A1 (ja) * 2010-04-08 2011-10-13 旭硝子株式会社 有機led素子、透光性基板、および有機led素子の製造方法
JP2011213568A (ja) * 2009-07-08 2011-10-27 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板
JP2011227205A (ja) * 2010-04-16 2011-11-10 Hitachi Displays Ltd 表示装置
WO2012086396A1 (ja) * 2010-12-20 2012-06-28 旭硝子株式会社 有機el素子および透光性基板
WO2013062020A1 (ja) * 2011-10-28 2013-05-02 旭硝子株式会社 有機led素子用の積層基板及び有機led素子

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100563057B1 (ko) * 2003-11-14 2006-03-24 삼성에스디아이 주식회사 초박형 유기 전계 발광 표시장치 및 그 제조방법
KR20070051601A (ko) 2005-11-28 2007-05-18 주식회사 대우일렉트로닉스 오엘이디 봉지캡의 제조방법
WO2010004703A1 (ja) * 2008-07-08 2010-01-14 日東電工株式会社 有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法
KR101228408B1 (ko) * 2009-01-13 2013-01-31 한국과학기술원 투명 복합체 조성물
EP2223957B1 (en) * 2009-01-13 2013-06-26 Korea Advanced Institute of Science and Technology Transparent composite compound
CN102576106B (zh) * 2009-10-20 2015-02-11 旭硝子株式会社 玻璃层叠体及其制造方法、显示面板的制造方法及利用该制造方法获得的显示面板
KR101164945B1 (ko) * 2010-09-13 2012-07-12 한국과학기술원 플렉시블 소자의 제작 방법
KR101797016B1 (ko) * 2010-12-13 2017-11-14 삼성디스플레이 주식회사 액정 디스플레이 커버를 구비하는 표시장치
US9202822B2 (en) * 2010-12-17 2015-12-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP5906574B2 (ja) 2011-03-29 2016-04-20 大日本印刷株式会社 フレキシブルデバイス用基板及びその製造方法
WO2013008982A1 (ko) 2011-07-14 2013-01-17 엘티씨 (주) 높은 광추출 성능을 갖는 무기 산란막 {inorganic scattering films having high light extraction performance}
CN103000817B (zh) * 2012-11-29 2016-04-20 无锡格菲电子薄膜科技有限公司 一种柔性有机发光二极管

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5239712A (en) * 1975-09-23 1977-03-28 Nippon Sheet Glass Co Ltd Method of manufacturing thin plate glass
JPS5684326A (en) * 1979-10-31 1981-07-09 Okaya Denki Sangyo Kk Sheet glass
JP2005297498A (ja) * 2004-04-16 2005-10-27 Dainippon Printing Co Ltd 可撓性基板およびそれを用いた有機デバイス
WO2005110741A1 (en) * 2004-05-19 2005-11-24 Dsm Ip Assets B.V. Process for composite layered material for electronic optical devices
JP2006059535A (ja) * 2004-08-17 2006-03-02 Seiko Instruments Inc 有機電子デバイスの製造方法
JP2009147345A (ja) * 2007-12-17 2009-07-02 Commiss Energ Atom 薄層の転着方法
JP2011213568A (ja) * 2009-07-08 2011-10-27 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板
WO2011126097A1 (ja) * 2010-04-08 2011-10-13 旭硝子株式会社 有機led素子、透光性基板、および有機led素子の製造方法
JP2011227205A (ja) * 2010-04-16 2011-11-10 Hitachi Displays Ltd 表示装置
WO2012086396A1 (ja) * 2010-12-20 2012-06-28 旭硝子株式会社 有機el素子および透光性基板
WO2013062020A1 (ja) * 2011-10-28 2013-05-02 旭硝子株式会社 有機led素子用の積層基板及び有機led素子

Also Published As

Publication number Publication date
CN105518896B (zh) 2017-07-28
KR101484089B1 (ko) 2015-01-19
EP3024046A4 (en) 2017-03-15
EP3024046A1 (en) 2016-05-25
US9570709B2 (en) 2017-02-14
WO2015009059A1 (ko) 2015-01-22
CN105518896A (zh) 2016-04-20
US20160172629A1 (en) 2016-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104037357B (zh) 一种有机发光显示装置及其制造方法
US8921841B2 (en) Porous glass substrate for displays and method of manufacturing the same
KR101642120B1 (ko) 유기발광소자용 광추출 기판 제조방법, 유기발광소자용 광추출 기판 및 이를 포함하는 유기발광소자
JPWO2009060916A1 (ja) 透光性基板、その製造方法、有機led素子およびその製造方法
EP2704226A2 (en) Substrate for oled and method of manufacturing the same
JP2016524312A (ja) 超薄型有機発光素子の製造方法
KR101632614B1 (ko) 유기발광소자용 광추출 기판 제조방법, 유기발광소자용 광추출 기판 및 이를 포함하는 유기발광소자
KR101579457B1 (ko) 유기발광소자용 광추출 기판 제조방법, 유기발광소자용 광추출 기판 및 이를 포함하는 유기발광소자
JP2010272515A (ja) 有機電界発光表示装置
JP2018506822A (ja) 有機発光装置用光取り出し基板及びこれを含む有機発光装置
US9118034B2 (en) Metal oxide thin film substrate for OLED and method of fabricating the same
US20170358763A1 (en) Flexible substrate and method of manufacturing same
EP3200195A1 (en) Flexible substrate and method of manufacturing same
KR20140108434A (ko) 발광장치용 광추출층 및 그 형성방법
KR101470295B1 (ko) 유기발광소자용 광추출 기판, 그 제조방법 및 이를 포함하는 유기발광소자
JP2007059195A (ja) 上面発光型有機電界発光素子
US20170256745A1 (en) Method for manufacturing light extraction substrate for organic light-emitting diode, light extraction substrate for organic light-emitting diode, and organic light-emitting diode including same
EP3035405A1 (en) Substrate for organic light-emitting diode, method for manufacturing same, and organic light-emitting diode comprising same
US9688571B2 (en) Method of fabricating light extraction substrate for organic light emitting device
KR101484088B1 (ko) 유기발광소자용 광추출 기판, 그 제조방법 및 이를 포함하는 유기발광소자
TWI673898B (zh) 用於有機發光二極體之光萃取基板、製造其之方法、及包含其之有機發光二極體裝置
KR101580596B1 (ko) 유기발광소자용 광추출 기판 제조방법, 유기발광소자용 광추출 기판 및 이를 포함하는 유기발광소자

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160720

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170221

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170519

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171024

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180605