JP2016524312A - 超薄型有機発光素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (17)
- 支持体上に高分子物質をコートする高分子物質コーティングステップと、
前記高分子物質上にフリット・ペーストをコートするフリット・コーティングステップと、
前記高分子物質が分解する温度にて熱処理を施して、前記支持体と、前記フリット・ペーストを熱処理してなるフリット基板とを分離させる熱処理および分離ステップ、および
前記高分子物質と接触していた前記フリット基板の一方の面に第1電極、有機発光層、および第2電極を含む素子層を順次形成する素子層形成ステップと、
を含むことを特徴とする超薄型有機発光素子の製造方法。 - 前記フリット・コーティングステップでは、前記フリット基板が4〜5μmの厚さを有するように前記フリット・ペーストをコートすることを特徴とする請求項1に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- 前記高分子物質コーティングステップでは、前記高分子物質としてPDMS、フォトレジスト、およびポリイミドからなる高分子物質の候補群より選ばれたいずれか一種を用いることを特徴とする請求項1に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- 前記熱処理および分離ステップでは、400〜600℃で熱処理を施すことを特徴とする請求項1に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- 前記熱処理および分離ステップにて前記支持体と前記フリット基板とを分離させると、前記フリット基板の他方の面は前記素子層が形成される前記フリット基板の一方の面よりも高い表面粗さを有することを特徴とする請求項1に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- 前記フリット基板の一方の面の表面粗さ(rms)は0.4〜0.5nmであることを特徴とする請求項5に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- 前記フリット基板と前記素子層の厚さの和が10μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- 支持体上に高分子物質をコートする高分子物質コーティングステップと、
前記高分子物質上に光散乱粒子を含有した金属酸化物をコートする金属酸化物コーティングステップと、
前記金属酸化物上にフリット・ペーストをコートするフリット・コーティングステップと、
前記高分子物質が分解する温度にて熱処理を施して、前記支持体と、前記フリット・ペーストを熱処理してなるフリット基板、および前記金属酸化物からなる積層体とを分離させる熱処理および分離ステップ、および
前記高分子物質と接触していた前記金属酸化物の一方の面に第1電極、有機発光層、および第2電極を含む素子層を順次形成する素子層形成ステップと、
を含むことを特徴とする超薄型有機発光素子の製造方法。 - 前記金属酸化物コーティングステップおよび前記フリット・コーティングステップでは前記積層体が5〜20μmの厚さを有するように前記金属酸化物および前記フリット・ペーストをコートすることを特徴とする請求項8に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- 前記高分子物質コーティングステップでは、前記高分子物質としてPDMS、フォトレジスト、およびポリイミドからなる高分子物質の候補群より選ばれたいずれか一種を用いることを特徴とする請求項8に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- 前記熱処理および分離ステップでは、400〜600℃で熱処理を施すことを特徴とする請求項8に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- 前記熱処理および分離ステップにて前記支持体と前記積層体とを分離させると、前記金属酸化物の他方の面は前記素子層が形成される前記金属酸化物の一方の面よりも高い表面粗さを有することを特徴とする請求項8に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- 前記金属酸化物一面の表面粗さ(rms)は0.4〜0.5nmであることを特徴とする請求項12に記載の超薄型有機発光素子の製造方法。
- フリット基板、および
前記フリット基板上に順次形成される第1電極、有機発光層、および第2電極を含む素子層、
を含み、
厚さが10μm以下であることを特徴とする超薄型有機発光素子。 - 前記フリット基板の厚さは4〜5μmであることを特徴とする請求項14に記載の超薄型有機発光素子。
- 前記フリット基板の一方の面は前記素子層と接し、前記フリット基板の他方の面は外部に露出し、前記フリット基板の他方の面の表面粗さは前記フリット基板の一方の面の表面粗さよりも高いことを特徴とする請求項14に記載の超薄型有機発光素子。
- 前記フリット基板と前記素子層との間に形成され、内部に光散乱粒子が分布している金属酸化物からなる内部光取り出し層をさらに含むことを特徴とする請求項14に記載の超薄型有機発光素子。
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