JP2016522144A - Surface treatment for low electrostatic discharge fusion draw glass - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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Abstract
ガラスシートの静電放電特性を向上させる方法は、ガラスシートの少なくとも一方の面を処理溶液で処理し、平均表面粗さを増加させるステップと、処理溶液を除去するステップとを含む。ガラスシートの処理された少なくとも一方の面の平均表面粗さは、約０．３ｎｍから約１００ｎｍになり得る。処理前のガラスシートと処理後のガラスシートとの間の電圧の減少の割合は、約１．５％から約４０％になり得る。ガラスシートであって、約０．３ｎｍから約１００ｎｍの平均表面粗さを有している第１の面と、約０．１ｎｍから約１００ｎｍの平均表面粗さを有している第２の面とを備えている。ガラスシートの長さは少なくとも約１００ｍｍでもよく、厚さは約１．０ｍｍ未満でもよい。A method for improving electrostatic discharge characteristics of a glass sheet includes the steps of treating at least one surface of the glass sheet with a treatment solution to increase the average surface roughness and removing the treatment solution. The average surface roughness of the treated at least one side of the glass sheet can be from about 0.3 nm to about 100 nm. The rate of voltage decrease between the untreated glass sheet and the treated glass sheet can be from about 1.5% to about 40%. A glass sheet, a first surface having an average surface roughness of about 0.3 nm to about 100 nm, and a second surface having an average surface roughness of about 0.1 nm to about 100 nm And. The length of the glass sheet may be at least about 100 mm and the thickness may be less than about 1.0 mm.
Description
本出願は、その内容が引用されその全体が参照することにより本書に組み込まれる、２０１３年４月３０日に出願された米国仮特許出願第６１／８１７５１８号の優先権の利益を米国特許法第１１９条の下で主張するものである。 This application claims the benefit of the priority of US Provisional Patent Application No. 61 / 8,518, filed Apr. 30, 2013, the contents of which are incorporated herein by reference in their entirety. Claims under Article 119.
本明細書は、一般にガラス表面の表面処理に関し、より具体的には、ガラスシートのａ面の性能属性を妥協せずにガラスシートのｂ面を戦略的にテクスチャリングする方法に関する。 The present specification relates generally to surface treatment of glass surfaces, and more specifically to a method of strategically texturing the b-side of a glass sheet without compromising the performance attributes of the a-side of the glass sheet.
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）−液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）基板に使用され得るフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）ガラスは、２つの面から構成され得る。第１の面はＴＦＴが形成される機能面とすることができ（ａ面）、第２の面は非機能的な背面とすることができる（ｂ面）。ＴＦＴ構造の形成は、広いエリアに亘って堆積される場合、表面の不整合に敏感になり得るため、以前はＦＰＤガラスのａ面に注目が集まっていた。ＦＰＤガラスのｂ面は、例えばプラスチック、ゴム、またはセラミックなどの様々な材料に接触し得、従ってｂ面表面の表面品質および均一性は、ａ面表面ほど高いものである必要はない。 Thin film transistor (TFT) -flat panel display (FPD) glass that can be used for a liquid crystal display (LCD) substrate can be composed of two sides. The first surface can be a functional surface on which a TFT is formed (a surface), and the second surface can be a non-functional back surface (b surface). In the past, attention has been focused on the a-plane of FPD glass because the formation of TFT structures can be sensitive to surface misalignment when deposited over a large area. The b-side of FPD glass can be in contact with various materials such as plastic, rubber, or ceramic, so the surface quality and uniformity of the b-side surface need not be as high as the a-plane surface.
しかしながら、処理の際のＦＰＤガラスとこれらの種々の他の材料との接触は、摩擦帯電を生じさせることがある。例えば２つの異種材料は、その固有の仕事関数値の差、またはそのフェルミエネルギーレベルに基づく電荷を移動させる能力に起因して、接触剥離により帯電される。表面に蓄積される電荷が多ければ多いほど、表面の電圧が高くなる。さらに、２つの帯電した表面が剥がれると、その分離距離が増すにつれて静電容量が減少し、これがさらに高い表面の電圧をもたらし得る。ガラスの接触剥離は、ＴＦＴ−ＬＣＤ製造では避けられないものである。こういった高い電圧は、ＦＰＤガラスのａ面の表面に堆積されたＴＦＴ構造を損傷し得る。 However, contact between the FPD glass and these various other materials during processing can cause tribocharging. For example, two dissimilar materials are charged by contact delamination due to their inherent work function value differences or their ability to transfer charge based on their Fermi energy level. The more charge that is accumulated on the surface, the higher the surface voltage. Furthermore, if the two charged surfaces peel, the capacitance decreases as the separation distance increases, which can lead to higher surface voltages. Glass delamination is inevitable in TFT-LCD manufacturing. Such a high voltage can damage the TFT structure deposited on the a-plane surface of the FPD glass.
従って、ガラス表面の合計の電荷蓄積を減少させることが必要である。 Therefore, it is necessary to reduce the total charge accumulation on the glass surface.
一実施の形態によれば、ガラスシートの静電放電特性を向上させる方法が開示され、この方法は、ガラスシートの少なくとも一方の面を処理溶液で処理し、平均表面粗さを増加させるステップと、この処理溶液を除去するステップとを有してなる。ガラスシートの処理された少なくとも一方の面の平均表面粗さは、約０．３ｎｍから約１００ｎｍになり得る。処理前のガラスシートと処理後のガラスシートとの間の電圧の減少の割合は、約１．５％から約４０％になり得る。 According to one embodiment, a method for improving electrostatic discharge characteristics of a glass sheet is disclosed, the method comprising treating at least one side of the glass sheet with a treatment solution to increase the average surface roughness; And removing the treatment solution. The average surface roughness of the treated at least one side of the glass sheet can be from about 0.3 nm to about 100 nm. The rate of voltage decrease between the untreated glass sheet and the treated glass sheet can be from about 1.5% to about 40%.
他の実施形態において、約０．３ｎｍから約１００ｎｍの平均表面粗さを有している第１の面と、約０．１ｎｍから約１００ｎｍの平均表面粗さを有している第２の面とを備えている、ガラスシートが提供される。ガラスシートの長さは少なくとも約１００ｍｍでもよく、厚さは約１．０ｍｍ未満でもよい。 In other embodiments, a first surface having an average surface roughness of about 0.3 nm to about 100 nm and a second surface having an average surface roughness of about 0.1 nm to about 100 nm. A glass sheet is provided. The length of the glass sheet may be at least about 100 mm and the thickness may be less than about 1.0 mm.
他の実施形態においてガラスシートは、２×２μｍの原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）走査に対して、約０．２ｎｍあるいはさらには約０．１５ｎｍの表面粗さを有する面と、約０．３ｎｍから約１．３ｎｍの表面粗さを有する別の面とを含み得る。いくつかの実施形態によれば、ＡＦＭ測定により判定されるＲａまたはＲｑとして、０．２ｎｍが定義され得る。ＲａおよびＲｑは方程式（１）および（２）で表すことができる。 In other embodiments, the glass sheet has a surface with a surface roughness of about 0.2 nm or even about 0.15 nm for a 2 × 2 μm atomic force microscope (AFM) scan, and from about 0.3 nm And another surface having a surface roughness of about 1.3 nm. According to some embodiments, 0.2 nm may be defined as Ra or Rq determined by AFM measurement. Ra and Rq can be expressed by equations (1) and (2).
ここで、ｎは測定が行われる点の数、ｚは各点での高さ、さらにバーｚはライン走査の各点で集められた高さの平均である。Ｒａは「平均」表面粗さに指定されることが多く、一方Ｒｑは「二乗平均平方根」（ＲＭＳ）表面粗さと呼ばれることが多い。ガラスシートの長さは約１００ｍｍ超でもよく、ガラスシートの厚さは約１ｍｍ未満でもよい。 Here, n is the number of points to be measured, z is the height at each point, and bar z is the average of the height collected at each point in the line scan. Ra is often designated as “average” surface roughness, while Rq is often referred to as “root mean square” (RMS) surface roughness. The length of the glass sheet may be greater than about 100 mm and the thickness of the glass sheet may be less than about 1 mm.
本開示のさらなる特徴および利点は以下の詳細な説明の中に明記され、ある程度は、その説明から当業者には容易に明らかになるであろうし、あるいは、以下の詳細な説明、請求項、並びに添付の図面を含め、本書において説明される実施形態を実施することにより認識されるであろう。 Additional features and advantages of the disclosure will be set forth in the detailed description which follows, and in part will be readily apparent to those skilled in the art from the description, or may be apparent from the following detailed description, claims, and It will be appreciated by implementing the embodiments described herein, including the accompanying drawings.
前述の一般的な説明および以下の詳細な説明は、種々の実施形態を説明したものであること、そして請求される主題の本質および特徴を理解するための概要または構成を提供するよう意図されているものであることを理解されたい。添付の図面は、種々の実施形態のさらなる理解を提供するために含まれ、本明細書に組み込まれかつその一部を構成する。図面は本書で説明される種々の実施形態を示し、そしてその説明とともに、請求される主題の原理および動作の説明に役立つ。 The foregoing general description and the following detailed description are exemplary of various embodiments and are intended to provide an overview or arrangement for understanding the nature and characteristics of the claimed subject matter. Please understand that. The accompanying drawings are included to provide a further understanding of the various embodiments, and are incorporated in and constitute a part of this specification. The drawings illustrate the various embodiments described herein, and together with the description serve to explain the principles and operations of the claimed subject matter.
本書で開示される方法により処理されるガラスシートは、任意の適切な方法により形成されたものとすることができる。実施形態においてガラスシートは、フュージョンドロープロセスにより形成され得る。フュージョンドロープロセスは、オーバーフロープロセスとも称されるダウンドロープロセスである。フュージョンドロープロセスでは、ガラスを形成する溶融物が耐火トラフ内へと流れ入り、次いで制御された形でトラフの両側から溢れ出る。このプロセスの利点は、これから成形される板ガラスの表面が、いかなる耐火性材料または他の成形用設備とも接触しないことである。さらに、フュージョンドロープロセスは非常に平坦かつ均一な厚さのガラスのシートを生み出す。結果として、ディスプレイ用途のための平滑で平坦かつ均一なガラスのシートを得るために、２次的な処理を必要とすることはない。フュージョンドロープロセスでは、プロセスで使用されるガラスが液相温度で比較的高い粘度を有することが必要である。フュージョンドロープロセスを、図１を参照して以下でさらに説明する。類似のフュージョンドロープロセスが、米国特許第３，３３８，６９６号明細書および同第３，６８２，６０９号明細書に記載されており、その全体が参照することにより本書に組み込まれる。 The glass sheet treated by the method disclosed herein can be formed by any suitable method. In embodiments, the glass sheet can be formed by a fusion draw process. The fusion draw process is a downdraw process also referred to as an overflow process. In the fusion draw process, the glass-forming melt flows into the refractory trough and then overflows from both sides of the trough in a controlled manner. The advantage of this process is that the surface of the glass sheet to be formed does not come into contact with any refractory material or other forming equipment. In addition, the fusion draw process produces a sheet of glass that is very flat and of uniform thickness. As a result, no secondary treatment is required to obtain a smooth, flat and uniform glass sheet for display applications. The fusion draw process requires that the glass used in the process has a relatively high viscosity at the liquidus temperature. The fusion draw process is further described below with reference to FIG. Similar fusion draw processes are described in US Pat. Nos. 3,338,696 and 3,682,609, which are incorporated herein by reference in their entirety.
例として図１を参照すると、溶融ガラスからガラスシート材料を形成するための例示的なガラス製造装置１００が概略的に描かれており、ここではフュージョンドロー装置を用いて溶融ガラスをガラスシートに成形する。ガラス製造装置１００は、溶解槽１０１、清澄槽１０３、混合槽１０４、送出槽１０８、およびフュージョンドロー装置（ＦＤＭ）１２０を備えている。ガラスバッチ材料が、矢印１０２で示されているように溶解槽１０１内へと導入される。バッチ材料は溶解されて溶融ガラス１０６を形成する。清澄槽１０３は、溶解槽１０１から溶融ガラス１０６を受け入れる高温の処理エリアを有し、ここで溶融ガラス１０６から泡が除去される。清澄槽１０３は接続管１０５によって混合槽１０４に流動的に連結されている。すなわち、清澄槽１０３から混合槽１０４へと流れる溶融ガラスは、接続管１０５を通って流れる。混合槽１０４はさらに、混合槽１０４から送出槽１０８へと流れる溶融ガラスが接続管１０７を通って流れるよう、接続管１０７によって送出槽１０８に流動的に連結されている。
Referring to FIG. 1 as an example, an exemplary
送出槽１０８は溶融ガラス１０６を、下降管１０９を通じてＦＤＭ１２０内へと供給する。ＦＤＭ１２０は、注入口１１０と、成形槽１１１と、少なくとも１つの延伸アセンブリ１５０とが中に位置付けられた、エンクロージャ１２２を備えている。図１に示されているように、下降管１０９からの溶融ガラス１０６は、成形槽１１１につながる注入口１１０内へと流れる。成形槽１１１は、溶融ガラス１０６を受け入れる開口１１２を含み、溶融ガラス１０６はトラフ１１３内へと流れた後に溢れ出て、２つの合流側面１１４ａおよび１１４ｂを流れ落ちてからこの２つの側面が結合する底部で共に融合する。次いで延伸アセンブリ１５０がこの溶融ガラス１０６に接触して下流方向１５１に延伸し、連続したガラスシート１４８が成形される。その後、連続したガラスシート１４８は個別のガラスシートに分割され得る。
The
本書では表面処理方法を、フュージョンドロープロセスによって成形されたガラスシートと併せて使用されるものとして説明しているが、この表面処理方法は、ガラスバッチ材料を溶解して溶融ガラスを形成し、この溶融ガラスを次いでガラスシートに成形する他のプロセスから成形されたガラスシートで用いることができることを理解されたい。例として限定するものではないが、本書で説明される牽引ロールも、アップドロープロセス、スロットドロープロセス、および他の類似するプロセスと併せて利用され得る。 In this document, the surface treatment method is described as being used in conjunction with a glass sheet formed by a fusion draw process. However, this surface treatment method melts a glass batch material to form a molten glass. It should be understood that molten glass can then be used with glass sheets formed from other processes that form glass sheets. By way of example and not limitation, the tow rolls described herein may also be utilized in conjunction with updraw processes, slot draw processes, and other similar processes.
フュージョンドロープロセスで作製されたガラスシートの寸法は、特に制限されるものではなく、本書で説明される処理方法は任意の寸法を有するガラスシートに適用され得る。しかしながら、いくつかの実施形態において、処理されるガラスシートの長さは約１００ｍｍを超えるものでもよく、またはさらには約２００ｍｍを超えるものでもよい。いくつかの実施形態において、処理されるガラスの長さは約３００ｍｍを超えるものでもよく、またはさらには約４００ｍｍを超えるものでもよい。他の実施形態において、ガラスシートの長さは５００ｍｍを超えるものでもよく、またはさらには６００ｍｍを超えるものでもよい。さらなる実施形態において、ガラスシートの長さは７００ｍｍを超えるものでもよく、またはさらには８００ｍｍを超えるものでもよい。さらなる実施形態において、ガラスシートの長さは約９００ｍｍを超えるものでもよく、またはさらには約１０００ｍｍを超えるものでもよい。同様に、処理されるガラスシートの幅は約１００ｍｍを超えるものでもよく、またはさらには約２００ｍｍを超えるものでもよい。いくつかの実施形態において、処理されるガラスの幅は約２５０ｍｍを超えるものでもよく、またはさらには約３００ｍｍを超えるものでもよい。処理されるガラスシートの厚さは、特に制限されるものではなく、本書で開示されるガラスシートを処理する方法は、薄型ガラスシートで使用され得る。実施形態において、処理されるガラスシートの厚さは約１．０ｍｍ以下でもよく、またはさらには約０．７ｍｍ以下でもよい。いくつかの実施形態において、処理されるガラスシートの厚さは約０．５ｍｍ以下でもよく、またはさらには約０．４ｍｍ以下でもよい。他の実施形態において、処理されるガラスシートの厚さは約０．３ｍｍ以下でもよく、またはさらには０．１ｍｍ以下でもよい。 The dimensions of the glass sheet produced by the fusion draw process are not particularly limited, and the processing methods described herein can be applied to glass sheets having arbitrary dimensions. However, in some embodiments, the length of the glass sheet being processed may be greater than about 100 mm, or even greater than about 200 mm. In some embodiments, the length of the glass being processed may be greater than about 300 mm, or even greater than about 400 mm. In other embodiments, the length of the glass sheet may be greater than 500 mm, or even greater than 600 mm. In further embodiments, the glass sheet length may be greater than 700 mm, or even greater than 800 mm. In further embodiments, the length of the glass sheet may be greater than about 900 mm, or even greater than about 1000 mm. Similarly, the width of the glass sheet to be treated may be greater than about 100 mm, or even greater than about 200 mm. In some embodiments, the width of the glass being processed may be greater than about 250 mm, or even greater than about 300 mm. The thickness of the glass sheet to be treated is not particularly limited, and the method for treating a glass sheet disclosed herein can be used with a thin glass sheet. In embodiments, the thickness of the glass sheet being processed may be about 1.0 mm or less, or even about 0.7 mm or less. In some embodiments, the thickness of the glass sheet being processed may be about 0.5 mm or less, or even about 0.4 mm or less. In other embodiments, the thickness of the glass sheet to be treated may be about 0.3 mm or less, or even 0.1 mm or less.
処理されるガラスシートの組成は、特に制限されるものではなく、本書で開示される処理は任意のガラス組成に適用され得る。いくつかの実施形態において、処理されるガラスは、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ・ホウアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ土類アルミノケイ酸塩ガラス、またはアルカリ土類ホウアルミノケイ酸塩ガラスでもよい。本書では、文脈が明らかに他に指示していなければ、「アルカリ」という用語はアルカリ金属（例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、およびＣｓ）を称し、また「アルカリ土類」はアルカリ土類金属（例えば、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、およびＢａ）を称する。 The composition of the glass sheet to be treated is not particularly limited, and the treatment disclosed herein can be applied to any glass composition. In some embodiments, the glass to be treated may be an alkali aluminosilicate glass, an alkali boroaluminosilicate glass, an alkaline earth aluminosilicate glass, or an alkaline earth boroaluminosilicate glass. In this document, unless the context clearly indicates otherwise, the term “alkali” refers to alkali metals (eg, Li, Na, K, Rb, and Cs), and “alkaline earth” refers to alkaline earth Refers to metals (eg, Be, Mg, Ca, Sr, and Ba).
いくつかの実施形態において、ガラスシートのａ面は、概して約０．１ｎｍから約１００ｎｍの平均表面粗さを有し得る。例えばいくつかの実施形態において、ａ面の表面は、約０．１ｎｍから約１００ｎｍ、約０．１６ｎｍから約０．２７ｎｍ、約０．２０ｎｍから約０．２７ｎｍ、あるいはさらには約０．２２ｎｍから約０．２５ｎｍの平均表面粗さを有し得る。いくつかの実施形態において、ガラスシートのａ面の平均表面粗さは、人間の目によって知覚可能なガラスシートの視覚的特性に影響を及ぼさないようなものとすることができる。 In some embodiments, the a-plane of the glass sheet can generally have an average surface roughness of about 0.1 nm to about 100 nm. For example, in some embodiments, the a-plane surface is from about 0.1 nm to about 100 nm, from about 0.16 nm to about 0.27 nm, from about 0.20 nm to about 0.27 nm, or even from about 0.22 nm. It may have an average surface roughness of about 0.25 nm. In some embodiments, the average surface roughness of the a-plane of the glass sheet can be such that it does not affect the visual properties of the glass sheet that are perceivable by the human eye.
上で簡単に述べたように、本開示に従って処理されるガラスシートは、ａ面とｂ面とを含み得る。ガラスシートのｂ面表面は、製造および続くハンドリングの際に機械的接触を受ける可能性があるため、ｂ面表面の品質要件はａ面表面の品質要件ほど厳しいものではなくてもよく、これによりｂ面のテクスチャリングの概念をより柔軟に実行に移すことが可能になる。ガラスシートのｂ面の変更での主な懸案事項は、人間の目で認識できない欠陥である。例えば約１００μｍを超えるｂ面上の欠陥は許容できないであろう。実施形態において、ガラスシートの約１５０μｍを超えるｂ面上の欠陥は許容できないであろう。 As briefly mentioned above, a glass sheet processed in accordance with the present disclosure may include an a-plane and a b-plane. Since the b-side surface of the glass sheet may be subjected to mechanical contact during manufacturing and subsequent handling, the quality requirements for the b-side surface may not be as stringent as the quality requirements for the a-side surface, The concept of b-side texturing can be implemented more flexibly. The main concern in changing the b-side of the glass sheet is a defect that cannot be recognized by the human eye. For example, defects on the b-plane exceeding about 100 μm would not be acceptable. In embodiments, defects on the b-plane that exceed about 150 μm of the glass sheet would not be acceptable.
本書で説明される方法において使用されるガラスシートは、最初は本書で上述した成形プロセスを用いて得られる。成形されたままの状態（すなわち、いかなる追加の表面処理なども伴わない）では、ガラスシートは特定の用途で必要とされる厚さ寸法を有していない可能性がある。ガラスシートの望ましい厚さおよび／または厚さ均一性は、パネル薄化技術を使用して達成することができる。パネル薄化技術は、ａ面表面の品質を低下させることなくｂ面からガラス基板の厚さを減少させる、化学的または機械的な方法を含み得る。機械的薄化は、平坦化するプロセスのため、様々なｂ面表面の特徴、欠陥、および汚染物質を抑制することができる。化学的薄化は、凹みおよび窪みなどの特徴を広げ得る。ガラスのｂ面表面の化学的性質は、特に薄化プロセスの使用を制限しない。従って上で論じたような厚さは、必要であれば、薄化プロセスを使用することによって達成することができる。 The glass sheets used in the methods described herein are initially obtained using the molding process described above in this document. In the as-formed state (ie, without any additional surface treatment, etc.), the glass sheet may not have the thickness dimension required for a particular application. The desired thickness and / or thickness uniformity of the glass sheet can be achieved using panel thinning techniques. Panel thinning techniques may include chemical or mechanical methods that reduce the thickness of the glass substrate from the b-plane without reducing the quality of the a-plane surface. Mechanical thinning is a flattening process that can suppress various b-plane surface features, defects, and contaminants. Chemical thinning can widen features such as dents and depressions. The b-surface chemistry of the glass does not specifically limit the use of the thinning process. Thus, the thickness as discussed above can be achieved by using a thinning process if necessary.
いくつかの実施形態によれば、その意図されている用途に適した寸法と組成とを有するガラスシートが得られた後、酸溶液、塩基溶液、中性溶液、またはその混合物を含む、処理溶液を用いて、ガラスシートの少なくとも一方の面にテクスチャリングしてもよい。実施形態において開示される溶液でガラスシートにテクスチャリングすると、ガラスシートの静電放電（ＥＳＤ）性能が向上する。処理溶液への露出は、許容できるｂ面の公差限界の範囲内で、さらにガラス表面の化学的性質を変化させたり、またガラスシートの表面を変形させたりすることができる。 According to some embodiments, a processing solution comprising an acid solution, a base solution, a neutral solution, or a mixture thereof after a glass sheet having the dimensions and composition suitable for its intended use is obtained. May be used to texture at least one surface of the glass sheet. Texturing a glass sheet with the solution disclosed in the embodiment improves the electrostatic discharge (ESD) performance of the glass sheet. The exposure to the treatment solution can further change the chemical properties of the glass surface or deform the surface of the glass sheet within an acceptable b-plane tolerance limit.
いくつかの実施形態によれば、ガラスシートを任意の適切な洗浄剤で洗浄して、粒子状物質および他の表面の汚染物質を、処理溶液での処理の前または後に除去してもよい。いくつかの実施形態において、洗浄剤は（横浜油脂工業製の）セミクリーンＫＧでもよいし、あるいは他の類似する洗浄剤でもよい。他の実施形態において洗浄剤は、他の洗剤、酸、塩基、過酸化物、またはその混合物を含み得る。洗剤は、界面活性剤、酸、塩基、およびキレート剤などを混合したものでもよい。いくつかの他の実施形態において清浄剤は、例えば、単一塩基、または過酸化物を含む塩基、単一酸、または過酸化物を含む酸など、本質的に非常に単純なものでもよい。ガラスシートを洗浄する継続時間および方法は、特に限定されるものではなく、吹付け、ディッピング、またはガラスシートの製造で使用される洗浄プロセスなど、任意の適切な方法とすることができる。 According to some embodiments, the glass sheet may be washed with any suitable cleaning agent to remove particulate matter and other surface contaminants before or after treatment with the treatment solution. In some embodiments, the cleaning agent may be a semi-clean KG (Yokohama Yushi Kogyo Co., Ltd.) or other similar cleaning agent. In other embodiments, the cleaning agent may include other detergents, acids, bases, peroxides, or mixtures thereof. The detergent may be a mixture of a surfactant, an acid, a base, a chelating agent, and the like. In some other embodiments, the detergent may be essentially very simple, for example, a single base, or a base containing a peroxide, a single acid, or an acid containing a peroxide. The duration and method of cleaning the glass sheet is not particularly limited and can be any suitable method such as spraying, dipping, or a cleaning process used in the manufacture of glass sheets.
ガラスシートを処理溶液で処理して、ガラスシートのＥＳＤ性能を変更することができる。いくつかの実施形態において、処理溶液は塩酸（ＨＣｌ）でもよい。ＨＣｌのモル濃度は約０．１５Ｍから約０．３５Ｍでもよく、あるいはさらには約０．２Ｍから約０．３Ｍでもよい。他の実施形態において、ＨＣｌのモル濃度は約０．２５Ｍでもよい。いくつかの実施形態において、処理溶液は硫酸（Ｈ2ＳＯ4）と水との混合物でもよい。いくつかの実施形態において、硫酸：水の混合物は１：４混合物でもよく、あるいはさらには１：３混合物でもよい。他の実施形態において、硫酸と水との混合物は１：２混合物でもよい。いくつかの実施形態において、処理溶液はフッ化ナトリウム（ＮａＦ）とリン酸（Ｈ3ＰＯ4）との希釈混合物でもよい。ＮａＦとＨ3ＰＯ4との例示的な混合物は、０．２ＭのＮａＦおよび１ＭのＨ3ＰＯ4の混合物でもよく、これを水で希釈して４：５混合物にしてもよい。さらに他の実施形態において、処理溶液はＨＣｌとフッ化水素酸（ＨＦ）の混合物でもよい。これらの実施形態において、ＨＣｌのモル濃度は約０．１５Ｍから約０．３５Ｍでもよく、あるいはさらには約０．２Ｍから約０．３Ｍでもよい。ＨＦはＨＣｌに、約１×１０-3Ｍ（Ｍ＝モル／Ｌ）から約１Ｍの濃度で加えてもよく、あるいはさらには約２×１０-3Ｍから約１×１０-4Ｍの濃度で加えてもよい。いくつかの実施形態では、２．５×１０-3ＭのＨＦをＨＣｌに加えてもよい。他の適切な酸として、ＨＮＯ3、酸性フッ化アンモニウム、フッ化アンモニウム、ＨＦ：ＮＨ4Ｆ混合物、ＨＦ：ＮＨ4ＨＦ混合物、あるいは他のものが挙げられる。処理溶液の他の配合も考えられ得ることを理解されたい。 The glass sheet can be treated with a treatment solution to change the ESD performance of the glass sheet. In some embodiments, the treatment solution may be hydrochloric acid (HCl). The molar concentration of HCl may be from about 0.15M to about 0.35M, or even from about 0.2M to about 0.3M. In other embodiments, the molar concentration of HCl may be about 0.25M. In some embodiments, the treatment solution may be a mixture of sulfuric acid (H 2 SO 4 ) and water. In some embodiments, the sulfuric acid: water mixture may be a 1: 4 mixture, or even a 1: 3 mixture. In other embodiments, the mixture of sulfuric acid and water may be a 1: 2 mixture. In some embodiments, the treatment solution may be a diluted mixture of sodium fluoride (NaF) and phosphoric acid (H 3 PO 4 ). An exemplary mixture of NaF and H 3 PO 4 may be a mixture of 0.2M NaF and 1M H 3 PO 4 , which may be diluted with water to form a 4: 5 mixture. In still other embodiments, the treatment solution may be a mixture of HCl and hydrofluoric acid (HF). In these embodiments, the molar concentration of HCl may be from about 0.15M to about 0.35M, or even from about 0.2M to about 0.3M. HF may be added to HCl at a concentration of about 1 × 10 −3 M (M = mol / L) to about 1M, or even a concentration of about 2 × 10 −3 M to about 1 × 10 −4 M. May be added. In some embodiments, 2.5 × 10 −3 M HF may be added to HCl. Other suitable acids include HNO 3 , ammonium acid fluoride, ammonium fluoride, HF: NH 4 F mixture, HF: NH 4 HF mixture, or others. It should be understood that other formulations of processing solutions can be envisaged.
ガラスシートを、例えば、ディップコーティング、ローラコーティング、またはスプレーコーティングなどの、任意の既知の方法によって処理溶液に露出することができる。ガラスシートを処理溶液内でディップコーティングする実施形態では、ガラスシートのａ面を覆うようにマスクを置いて、ガラスシートのａ面がテクスチャリングされるのを防いでもよい。マスク材料は特に限定されるものではなく、ガラスシートに付着することができ、かつガラスシートを処理溶液の影響から保護することができる、任意の材料を含み得る。マスク材料はさらに、処理プロセスが完了した後にガラスシートから容易に取り外されるべきである。例示的なマスクとして保護フィルム（Ｖｉｓｑｕｅｅｎまたはカプトン（Kapton））が挙げられ、これらの膜が残留物を残した場合、続く洗浄プロセスで洗い流すことができる。他の適切なマスク材料としては、フォトレジスト、ワックス、または他の除去可能なコーティングが挙げられる。 The glass sheet can be exposed to the processing solution by any known method, such as, for example, dip coating, roller coating, or spray coating. In embodiments where the glass sheet is dip coated in the processing solution, a mask may be placed over the a-side of the glass sheet to prevent the a-side of the glass sheet from being textured. The mask material is not particularly limited and may include any material that can adhere to the glass sheet and protect the glass sheet from the effects of processing solutions. Furthermore, the mask material should be easily removed from the glass sheet after the processing process is complete. Exemplary masks include protective films (Visqueen or Kapton), and if these films leave residue, they can be washed away in a subsequent cleaning process. Other suitable mask materials include photoresist, wax, or other removable coating.
処理の継続時間は特に限定されるものではなく、所望のテクスチャリングを達成するのに必要な時間の間、処理は行われるべきである。いくつかの実施形態において、処理の継続時間は約０．５分から約９０分でもよく、あるいはさらには約１分から約６０分でもよく、または約５分から約３０分でもよい。いくつかの実施形態において、処理の継続時間は約１０分から約２０分でもよい。他の実施形態において、処理時間は０．５分未満でもよく、あるいはさらには０．２５分未満でもよい。さらに他の実施形態において、処理時間は０．１分未満でもよい。 The duration of the process is not particularly limited, and the process should be performed for the time necessary to achieve the desired texturing. In some embodiments, the duration of the treatment may be from about 0.5 minutes to about 90 minutes, or even from about 1 minute to about 60 minutes, or from about 5 minutes to about 30 minutes. In some embodiments, the duration of the treatment may be about 10 minutes to about 20 minutes. In other embodiments, the processing time may be less than 0.5 minutes, or even less than 0.25 minutes. In still other embodiments, the processing time may be less than 0.1 minutes.
処理が行われる温度は、ガラスシートの組成と処理溶液の組成次第で変化し得る。いくつかの実施形態において、処理が行われる温度は約２０℃から約１００℃でもよく、あるいはさらには約４０℃から約９０℃でもよい。他の実施形態において、処理が行われる温度は約４０℃から約８０℃でもよく、あるいはさらには約５０℃から約７０℃でもよい。 The temperature at which the treatment is performed can vary depending on the composition of the glass sheet and the composition of the treatment solution. In some embodiments, the temperature at which the treatment is performed may be from about 20 ° C to about 100 ° C, or even from about 40 ° C to about 90 ° C. In other embodiments, the temperature at which the treatment is performed may be from about 40 ° C to about 80 ° C, or even from about 50 ° C to about 70 ° C.
いくつかの実施形態では、処理が終わった後、処理溶液は任意の適切な方法によってガラスシートから除去され得る。例えばいくつかの実施形態では、上で論じたように、処理されたガラスシートを洗浄することによって処理溶液を除去してもよい。他の実施形態では、処理溶液を、加熱、蒸発、または任意の他の適切な手段によって除去してもよい。さらに他の実施形態において、処理溶液は、例えば強制空気、ローラ、またはブレードなどによって物理的に除去され得る。当然のことながら、処理溶液は、本開示の範囲から逸脱しない任意の方法または装置で除去され得る。 In some embodiments, after processing is complete, the processing solution can be removed from the glass sheet by any suitable method. For example, in some embodiments, the treatment solution may be removed by washing the treated glass sheet, as discussed above. In other embodiments, the treatment solution may be removed by heating, evaporation, or any other suitable means. In yet other embodiments, the processing solution can be physically removed, such as by forced air, rollers, or blades. Of course, the processing solution may be removed by any method or apparatus that does not depart from the scope of the present disclosure.
ガラスシートの平均表面粗さが、処理プロセスの前および後に測定され得る。平均表面粗さは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定することができる。粗さは、上で定義されたＲａまたはＲｑの標準値を用いて測定される。いくつかの実施形態において、処理プロセス前のガラスシートの平均表面粗さは約０．１ｎｍから約１００ｎｍ、約０．１ｎｍから約０．３ｎｍ、あるいはさらには約０．１５ｎｍから約０．２５ｎｍである。いくつかの実施形態において、処理プロセス前の平均表面粗さは約０．２ｎｍから約０．２３ｎｍである。いくつかの実施形態では、平均表面粗さを、処理プロセスによって増加させることができる。従って、平均表面粗さを処理プロセス後に測定して、平均表面粗さの増加を処理プロセスの結果として判定してもよい。いくつかの実施形態において、処理プロセスに露出した後のガラスシートの平均表面粗さは約０．３ｎｍから約１００ｎｍ、あるいはさらには約０．３から約７５ｎｍとなり得る。他の実施形態において、処理プロセスに露出した後のガラスシートの平均表面粗さは約０．３ｎｍから約５０ｎｍ、あるいはさらには約０．３ｎｍから約２５ｎｍとなり得る。さらに他の実施形態において、処理プロセスに露出した後のガラスシートの平均表面粗さは約０．３ｎｍから約１５ｎｍ、あるいはさらには約０．４ｎｍから約１０ｎｍとなり得る。さらに他の実施形態において、処理プロセスに露出した後のガラスシートの平均表面粗さは約０．４ｎｍから約５ｎｍ、あるいはさらには約０．５ｎｍから約１．３ｎｍとなり得る。さらに他の実施形態において、処理プロセスに露出した後のガラスシートの平均表面粗さは約０．５ｎｍから約１．１５ｎｍとなり得る。他の実施形態において、処理プロセスに露出した後のガラスシートの平均表面粗さは約０．５ｎｍから約１．０ｎｍ、あるいはさらには約０．７ｎｍから約０．９ｎｍとなり得る。処理プロセスによって生じた平均表面粗さの増加は、限定するものではないが、ガラスシートの組成、処理溶液の組成、処理プロセスの継続時間、および／または処理プロセスの温度を含む、様々な条件に影響され得る。上の各パラメータを処理プロセスにおいて変更して、処理プロセス後に所望の平均表面粗さの増加を得ることができることを理解されたい。 The average surface roughness of the glass sheet can be measured before and after the treatment process. The average surface roughness can be measured using an atomic force microscope (AFM). Roughness is measured using Ra or Rq standard values defined above. In some embodiments, the average surface roughness of the glass sheet prior to the treatment process is from about 0.1 nm to about 100 nm, from about 0.1 nm to about 0.3 nm, or even from about 0.15 nm to about 0.25 nm. is there. In some embodiments, the average surface roughness before the treatment process is from about 0.2 nm to about 0.23 nm. In some embodiments, the average surface roughness can be increased by the treatment process. Thus, the average surface roughness may be measured after the treatment process and an increase in average surface roughness may be determined as a result of the treatment process. In some embodiments, the average surface roughness of the glass sheet after exposure to the treatment process can be from about 0.3 nm to about 100 nm, or even from about 0.3 to about 75 nm. In other embodiments, the average surface roughness of the glass sheet after exposure to the treatment process can be from about 0.3 nm to about 50 nm, or even from about 0.3 nm to about 25 nm. In yet other embodiments, the average surface roughness of the glass sheet after exposure to the treatment process can be from about 0.3 nm to about 15 nm, or even from about 0.4 nm to about 10 nm. In yet other embodiments, the average surface roughness of the glass sheet after exposure to the treatment process can be from about 0.4 nm to about 5 nm, or even from about 0.5 nm to about 1.3 nm. In yet other embodiments, the average surface roughness of the glass sheet after exposure to the treatment process can be from about 0.5 nm to about 1.15 nm. In other embodiments, the average surface roughness of the glass sheet after exposure to the treatment process can be from about 0.5 nm to about 1.0 nm, or even from about 0.7 nm to about 0.9 nm. The increase in average surface roughness caused by the treatment process can be at various conditions including, but not limited to, glass sheet composition, treatment solution composition, treatment process duration, and / or treatment process temperature. Can be affected. It should be understood that each of the above parameters can be altered in the processing process to obtain the desired average surface roughness increase after the processing process.
いくつかの実施形態によれば、ガラスシートの平均表面粗さと静電放電（ＥＳＤ）特性との間で相関を得ることができる。特に、ガラスシートの平均表面粗さが増加すると、そのデバイスのＥＳＤ特性が向上し得る。ガラスシートのＥＳＤ特性は、ガラスシートの処理された面で電圧を測定することによって判定することができる。上で論じたように、ガラスシートの一方の面の表面は、ガラスシートのＥＳＤ特性に悪影響を及ぼす電荷を蓄積し得る。シートに亘る電圧は、蓄積電荷の目安になる。従って、ガラスシートの処理された面の電圧がゼロに近づくにつれて、ガラスシートのＥＳＤ特性は概して向上する。いかなる特定の理論にも拘束されるものではないが、ガラスシートの処理された面の平均表面粗さを増加させることによって、ガラスシートの処理された面と、異なる材料から作製された構成要素との間の接触が減少すると一般に考えられる。従って、ガラスシートの処理された面の粗さを増加させることによって、摩擦帯電は減少または最小にされ得る。本書で説明される実施形態の処理によって付与されるガラス表面の最終的な組成は、摩擦帯電機構においても役割を果たし得る。 According to some embodiments, a correlation can be obtained between the average surface roughness of the glass sheet and electrostatic discharge (ESD) characteristics. In particular, increasing the average surface roughness of the glass sheet can improve the ESD characteristics of the device. The ESD characteristics of the glass sheet can be determined by measuring the voltage on the treated side of the glass sheet. As discussed above, the surface of one side of the glass sheet can accumulate charge that adversely affects the ESD properties of the glass sheet. The voltage across the sheet is a measure of the stored charge. Thus, the ESD characteristics of the glass sheet generally improve as the voltage on the treated side of the glass sheet approaches zero. Without being bound by any particular theory, by increasing the average surface roughness of the treated surface of the glass sheet, the treated surface of the glass sheet and components made from different materials It is generally considered that contact between the two decreases. Thus, by increasing the roughness of the treated surface of the glass sheet, triboelectric charging can be reduced or minimized. The final composition of the glass surface imparted by the processing of the embodiments described herein can also play a role in the tribocharging mechanism.
いくつかの実施形態によれば、以下の実施例において示されるように、接触剥離後のガラスシートの測定電圧は、例えばガラスシートの組成、ガラスシートのサイズ、処理溶液の組成、およびその組合せ次第で変化し得る。しかしながら実施形態によれば、ガラスシートの一方の面の表面粗さが増加すると電圧の減少は実現される。この電圧の減少は、接触剥離後かつ処理前に電圧を測定し、さらに接触剥離後かつ処理後に電圧を測定することによってパーセンテージで計算され得る。いくつかの実施形態において、電圧の減少の割合は約１．５％から約４０％、あるいはさらには約２．０％から約３５％となり得る。他の実施形態において、接触剥離後の電圧の減少の割合は約３．０％から約３０％、あるいはさらには約４．０％から約２５％となり得る。さらに他の実施形態において、接触剥離後の電圧の減少の割合は約５．０％から約２０％、あるいはさらには約７．０％から約１５％となり得る。いくつかの他の実施形態において、接触剥離後の電圧の減少の割合は約１２％、あるいはさらには約１０％となり得る。 According to some embodiments, as shown in the following examples, the measured voltage of the glass sheet after contact release depends on, for example, the composition of the glass sheet, the size of the glass sheet, the composition of the treatment solution, and combinations thereof Can change. However, according to the embodiment, a decrease in voltage is realized when the surface roughness of one side of the glass sheet increases. This voltage reduction can be calculated as a percentage by measuring the voltage after contact stripping and before processing, and further measuring the voltage after contact stripping and after processing. In some embodiments, the rate of voltage decrease can be from about 1.5% to about 40%, or even from about 2.0% to about 35%. In other embodiments, the rate of voltage decrease after contact stripping can be from about 3.0% to about 30%, or even from about 4.0% to about 25%. In still other embodiments, the rate of voltage decrease after contact stripping can be from about 5.0% to about 20%, or even from about 7.0% to about 15%. In some other embodiments, the rate of voltage decrease after contact stripping can be about 12%, or even about 10%.
実施形態において、処理された面の粗さの増加およびガラスシートの電圧の増加は、ガラスの組成、ガラスのサイズ、処理溶液の組成、処理プロセスの継続時間、および処理プロセスが行われる温度次第で変化し得るが、平均表面粗さの増加は、本書で論じられる各処理溶液を用いて各ガラス組成で達成され得る。それにより、ガラスシートのＥＳＤ特性は向上され得る。 In embodiments, the increase in the roughness of the treated surface and the increase in the voltage of the glass sheet depend on the glass composition, glass size, treatment solution composition, duration of the treatment process, and the temperature at which the treatment process takes place. While varying, an increase in average surface roughness can be achieved with each glass composition using each processing solution discussed herein. Thereby, the ESD characteristics of the glass sheet can be improved.
本開示は以下の例によってさらに明らかになるであろう。 The disclosure will be further clarified by the following examples.
実施例１
コーニング社製のアルミノケイ酸塩ガラスであるガラスタイプＩを、その保護用のＶｉｓｑｕｅｅｎフィルムから剥がし、標準的な洗浄プロセスを用いて４％のセミクリーンＫＧ（横浜油脂工業製）洗浄剤で洗浄した。ガラスを次いで、以下の表１に記載されているように、種々の時間および温度で種々の酸に浸した。各ガラスシートの厚さは０．５ｍｍであった。
Example 1
Glass type I, an aluminosilicate glass made by Corning, was peeled off the protective Visqueen film and washed with 4% semi-clean KG (Yokohama Yushi Kogyo) detergent using a standard cleaning process. The glass was then immersed in various acids at various times and temperatures as described in Table 1 below. The thickness of each glass sheet was 0.5 mm.
１２７ｍｍ×１２７ｍｍ×０．５ｍｍのガラスシートを、Harada Corporation製の市販のリフト試験機（lift tester）で試験し、さらに１８０ｍｍ×２３０ｍｍ×０．５ｍｍのガラスシートを、このサイズのガラスシートを支持するよう変更した類似のリフト試験機で試験した。表１で特定した酸に露出した後、表面を再び４％のセミクリーンＫＧで洗浄プロセスを用いて洗浄した。接触剥離後の電圧を、クラス１００クリーンルーム内において相対湿度１２％で測定した。ガラスタイプ毎に３つのサンプルを、各サンプルで３回リフトを実施することによって結果を得る。使用した試験装置に関わりなく、同じ傾向が測定された。表面の組成（ＸＰＳ）および平均表面粗さを、試験後のガラスシートで判定した。接触剥離後の測定電圧と平均表面粗さとの間に線形関数が存在することが判定された。平均では、接触剥離後の測定電圧は、ガラスタイプで異なっていた。接触剥離後に測定された電圧間の差は、ガラスシートのサイズが大きいと、より大きいものであった。これは、より大きいガラスシートで、多数の真空ポートが使用されることによるものと考えられる。真空ポートで最初に接触すると、１８０ｍｍ×２３０ｍｍ×０．５ｍｍと７３０ｍｍ×９２０ｍｍ×０．５ｍｍの両方のガラスシートで摩擦帯電が生じる。７３０ｍｍ×９２０ｍｍ×０．５ｍｍのシートは、真空ポート間で水平方向に前後にさらに強く引かれ、これによりさらなる摩擦帯電と電圧信号の増大が生じ、ガラスタイプ間でより大きな差をもたらした。
A 127 mm × 127 mm × 0.5 mm glass sheet is tested with a commercial lift tester manufactured by Harada Corporation, and a glass sheet of 180 mm × 230 mm × 0.5 mm is supported on this size glass sheet. Tested on a similar lift tester modified as described above. After exposure to the acids specified in Table 1, the surface was again cleaned with 4% semi-clean KG using a cleaning process. The voltage after contact peeling was measured at a relative humidity of 12% in a
実施例２
ここで図２〜６を参照し、４つのガラスタイプを、本書で説明した処理プロセスを用いて処理した。４つの異なるガラス組成、すなわち上述のガラスタイプＩ、ガラスタイプＩＩ、ガラスタイプＩＩＩ、およびガラスタイプＩＶを試験した。４つのガラスタイプは類似した組成を有し、概してアルミノケイ酸塩ガラスのカテゴリーに入る。種々の処理溶液を使用して、表１に示したように処理済みのガラスシートを準備したが、上述したように４つの異なるガラス組成を使用した。処理プロセスが完了した後、ガラスシートの平均表面粗さと接触剥離後の電圧とを以下のように試験した。
Example 2
Referring now to FIGS. 2-6, four glass types were processed using the processing process described herein. Four different glass compositions were tested: glass type I, glass type II, glass type III, and glass type IV described above. The four glass types have similar compositions and generally fall into the aluminosilicate glass category. A variety of treatment solutions were used to prepare treated glass sheets as shown in Table 1, but four different glass compositions were used as described above. After the treatment process was completed, the average surface roughness of the glass sheet and the voltage after contact peeling were tested as follows.
１８０ｍｍ×２３０ｍｍ×０．５ｍｍのガラスシートを、接地された３０４ＳＳチャックを備えたリフト試験機で試験した。−３９ｋＰａの真空を生成し、絶縁のべスペル（Vespel）ピン（半径５ｍｍ）を使用した。この試験はさらに、リフトピンの速度１０ｍｍ／秒および単一の真空ポートを使用した。ガラスのタイプ毎に３つのサンプルで実施し、ランダムな順序で実行した。サンプル毎に３つのリフトサイクルを実施した。リフトサイクル間で電離を用いて、ピン高さ８０ｍｍで値を報告した。リフトピンが動いている間に、ガラスでプローブ追跡を用いた。 A 180 mm × 230 mm × 0.5 mm glass sheet was tested on a lift tester equipped with a grounded 304SS chuck. A vacuum of −39 kPa was generated and insulating Vespel pins (5 mm radius) were used. This test further used a lift pin speed of 10 mm / sec and a single vacuum port. It was performed on three samples for each glass type and performed in random order. Three lift cycles were performed per sample. Values were reported at 80 mm pin height using ionization between lift cycles. Probe tracking was used on the glass while the lift pins were moving.
１２７ｍｍ×１２７ｍｍ×０．５ｍｍのガラスシートを、Harada Corporationから市販されているリフト試験機によって、絶縁黒色の陽極酸化されたアルミニウムチャックを用いて試験した。−９０ｋＰａの真空を生成し、絶縁のＰＯＭピン(半径２．５ｍｍ）を使用した。この試験はさらに、リフトピンの速度２７ｍｍ／秒と、単一供給により供給されるダブルチャネルの真空ポートを使用した。ガラスタイプ毎に３つのサンプルを試験し、ランダムな順序で実行した。サンプル毎に３つのリフトサイクルを実施し、リフトサイクル間で電離を用いた。ピン高さ２９ｍｍで値を報告した。リフトピンが動いている間に、プローブでガラスをなぞることは行わなかった。 A 127 mm × 127 mm × 0.5 mm glass sheet was tested with an insulating black anodized aluminum chuck by a lift tester commercially available from Harada Corporation. A vacuum of −90 kPa was generated and an insulating POM pin (radius 2.5 mm) was used. The test further used a lift pin speed of 27 mm / sec and a double channel vacuum port supplied by a single feed. Three samples for each glass type were tested and run in random order. Three lift cycles were performed for each sample, and ionization was used between lift cycles. Values were reported at a pin height of 29 mm. The glass was not traced with the probe while the lift pin was moving.
サンプルを４％のセミクリーンＫＧを用いて洗浄プロセスで清浄にし、１時間の間クリーンルーム内で調整してから相対湿度約１２％で試験を実行した。使用されたチャックとピンは、試験の１時間前に、ＨＥＰＡ吸引してＤＩクリーンルーム用ワイパーで拭いた。ガラスタイプＩＩの１つのサンプルを使用し、試験開始時に清浄なチャックとピンを面ｂに、次いで面ａに接触させ、面毎に６回繰り返した。 Samples were cleaned in a cleaning process using 4% semi-clean KG, conditioned in a clean room for 1 hour and then run at a relative humidity of about 12%. The chucks and pins used were suctioned with HEPA and wiped with a DI clean room wiper 1 hour before the test. Using one sample of glass type II, a clean chuck and pin were brought into contact with surface b and then surface a at the start of the test and repeated 6 times per surface.
試験の結果を図２〜６に示す。図２に異なる１０の結果が示されている。２−１は処理前のガラスタイプＩＶを示し、２−２は処理前のガラスタイプＩを示し、２−３はＮａＦとＨ3ＰＯ4との希釈混合物で処理した後のガラスタイプＩを示し、２−４はＨ2ＳＯ4で処理した後のガラスタイプＩを示し、２−５はＨＣｌで処理した後のガラスタイプＩを示し、２−６はＨＣｌおよびＨＦで処理した後のガラスタイプＩを示し、２−７は処理前のガラスタイプＩＩを示し、２−８はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩを示し、２−９は処理前のガラスタイプＩＩＩを示し、そして２−１０はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩＩを示す。図２のグラフは、１８０ｍｍ×２３０ｍｍ×０．５ｍｍのガラスシートで接触剥離後に測定された電圧をガラスタイプに対してプロットしたものであり、いずれのタイプの処理でもガラスの各タイプで電圧が０に近づくことを示している。 The results of the test are shown in FIGS. Ten different results are shown in FIG. 2-1 indicates glass type IV before treatment, 2-2 indicates glass type I before treatment, and 2-3 indicates glass type I after treatment with a diluted mixture of NaF and H 3 PO 4. 2-4 shows glass type I after treatment with H 2 SO 4 , 2-5 shows glass type I after treatment with HCl, 2-6 shows glass type after treatment with HCl and HF I represents glass type II before treatment, 2-8 represents glass type II after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4, and 2-9 represents glass type before treatment. III, and 2-10 indicates glass type III after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4 . The graph of FIG. 2 plots the voltage measured after contact peeling on a glass sheet of 180 mm × 230 mm × 0.5 mm against the glass type, and the voltage is 0 for each type of glass in any type of treatment. It shows that it approaches.
図３は、図２の電圧データを電圧の減少の割合で示したものである。電圧の減少の割合は、以下の方程式によって計算される。 FIG. 3 shows the voltage data of FIG. 2 as a percentage of voltage decrease. The rate of voltage decrease is calculated by the following equation:
ここで、Ｖｏはガラスシートの接触剥離後かつ処理前に測定された平均電圧であり、Ｖはガラスシートの接触剥離後かつ処理後に測定された平均電圧である。図３に異なる１０の結果が示されている。３−１は処理前のガラスタイプＩＶを示し、３−２は処理前のガラスタイプＩを示し、３−３はＮａＦとＨ3ＰＯ4との希釈混合物で処理した後のガラスタイプＩを示し、３−４はＨ2ＳＯ4で処理した後のガラスタイプＩを示し、３−５はＨＣｌで処理した後のガラスタイプＩを示し、３−６はＨＣｌおよびＨＦで処理した後のガラスタイプＩを示し、３−７は処理前のガラスタイプＩＩを示し、３−８はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩを示し、３−９は処理前のガラスタイプＩＩＩを示し、そして３−１０はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩＩを示す。図３のグラフは、各処理が行われた後に各ガラスタイプで測定された電圧が、減少していることを示している。 Here, Vo is an average voltage measured after contact peeling of the glass sheet and before processing, and V is an average voltage measured after contact peeling of the glass sheet and after processing. Ten different results are shown in FIG. 3-1 indicates glass type IV before treatment, 3-2 indicates glass type I before treatment, and 3-3 indicates glass type I after treatment with a diluted mixture of NaF and H 3 PO 4. 3-4 shows glass type I after treatment with H 2 SO 4 , 3-5 shows glass type I after treatment with HCl, 3-6 shows glass type after treatment with HCl and HF I, 3-7 represents glass type II before treatment, 3-8 represents glass type II after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4, and 3-9 represents glass type before treatment. III and 3-10 indicate glass type III after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4 . The graph of FIG. 3 shows that the voltage measured for each glass type after each treatment is reduced.
図４に異なる１０の結果が示されている。４−１は処理前のガラスタイプＩＶを示し、４−２は処理前のガラスタイプＩを示し、４−３はＮａＦとＨ3ＰＯ4との希釈混合物で処理した後のガラスタイプＩを示し、４−４はＨ2ＳＯ4で処理した後のガラスタイプＩを示し、４−５はＨＣｌで処理した後のガラスタイプＩを示し、４−６はＨＣｌおよびＨＦで処理した後のガラスタイプＩを示し、４−７は処理前のガラスタイプＩＩを示し、４−８はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩを示し、４−９は処理前のガラスタイプＩＩＩを示し、そして４−１０はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩＩを示す。図４のグラフは、１２７ｍｍ×１２７ｍｍ×０．５ｍｍのガラスシートで接触剥離後に測定された電圧をガラスタイプに対してプロットしたものであり、いずれのタイプの処理でもガラスの各タイプで電圧がゼロに近づくことを示している。 Ten different results are shown in FIG. 4-1 indicates glass type IV before processing, 4-2 indicates glass type I before processing, and 4-3 indicates glass type I after processing with a diluted mixture of NaF and H 3 PO 4. , 4-4 shows glass type I after treatment with H 2 SO 4 , 4-5 shows glass type I after treatment with HCl, 4-6 shows glass type after treatment with HCl and HF I indicates glass type II before treatment, 4-8 indicates glass type II after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4, and 4-9 indicates glass type before treatment. III, and 4-10 indicates glass type III after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4 . The graph of FIG. 4 plots the voltage measured after contact peeling on a 127 mm × 127 mm × 0.5 mm glass sheet against the glass type, and the voltage is zero for each type of glass in any type of treatment. It shows that it approaches.
図５は、図４の電圧データを電圧の減少の割合で示したものである。電圧の減少の割合は方程式（３）を用いて計算される。図５に異なる１０の結果が示されている。５−１は処理前のガラスタイプＩＶを示し、５−２は処理前のガラスタイプＩを示し、５−３はＮａＦとＨ3ＰＯ4との希釈混合物で処理した後のガラスタイプＩを示し、５−４はＨ2ＳＯ4で処理した後のガラスタイプＩを示し、５−５はＨＣｌで処理した後のガラスタイプＩを示し、５−６はＨＣｌおよびＨＦで処理した後のガラスタイプＩを示し、５−７は処理前のガラスタイプＩＩを示し、５−８はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩを示し、５−９は処理前のガラスタイプＩＩＩを示し、そして５−１０はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩＩを示す。図５のグラフは、各処理が行われた後に各ガラスタイプで測定された電圧が、減少していることを示している。 FIG. 5 shows the voltage data of FIG. 4 as a percentage of voltage decrease. The rate of voltage decrease is calculated using equation (3). Ten different results are shown in FIG. 5-1 indicates glass type IV before treatment, 5-2 indicates glass type I before treatment, and 5-2 indicates glass type I after treatment with a diluted mixture of NaF and H 3 PO 4. 5-4 shows glass type I after treatment with H 2 SO 4 , 5-5 shows glass type I after treatment with HCl, 5-6 shows glass type after treatment with HCl and HF I denotes glass type II before treatment, 5-8 denotes glass type II after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4, and 5-9 denotes glass type before treatment. III and 5-10 indicates glass type III after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4 . The graph of FIG. 5 shows that the voltage measured for each glass type after each treatment is reduced.
図６に異なる１０の結果が示されている。６−１は処理前のガラスタイプＩＶを示し、６−２は処理前のガラスタイプＩを示し、６−３はＮａＦとＨ3ＰＯ4との希釈混合物で処理した後のガラスタイプＩを示し、６−４はＨ2ＳＯ4で処理した後のガラスタイプＩを示し、６−５はＨＣｌで処理した後のガラスタイプＩを示し、６−６はＨＣｌおよびＨＦで処理した後のガラスタイプＩを示し、６−７は処理前のガラスタイプＩＩを示し、６−８はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩを示し、６−９は処理前のガラスタイプＩＩＩを示し、そして６−１０はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩＩを示す。図６のグラフは、平均表面粗さをガラスタイプに対してプロットしたものであり、ガラスの各タイプで処理プロセスが平均表面粗さの増加を生み出したことを示している。 FIG. 6 shows ten different results. 6-1 represents glass type IV before treatment, 6-2 represents glass type I before treatment, and 6-3 represents glass type I after treatment with a diluted mixture of NaF and H 3 PO 4. , 6-4 shows glass type I after treatment with H 2 SO 4 , 6-5 shows glass type I after treatment with HCl, 6-6 shows glass type after treatment with HCl and HF I represents glass type II before treatment, 6-8 represents glass type II after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4, and 6-9 represents glass type before treatment. III and 6-10 indicate glass type III after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4 . The graph of FIG. 6 is a plot of average surface roughness versus glass type, indicating that the treatment process produced an increase in average surface roughness for each type of glass.
図２〜６は、この例で実施される各タイプの処理が、平均表面粗さの増加を実現し、かつ電圧をゼロに近付けることを示している。しかしながら図２〜６は、種々の処理が様々なタイプのガラスで特にうまく機能することも示している。 FIGS. 2-6 show that each type of treatment performed in this example achieves an increase in average surface roughness and brings the voltage closer to zero. However, FIGS. 2-6 also show that the various processes work particularly well with various types of glass.
ここで図７を参照すると、このグラフは、図２および６に示したようなガラスタイプＩでの、平均表面粗さと接触剥離後に測定された電圧との比較を示したものである。特に図７は、１８０ｍｍ×２３０ｍｍ×０．５ｍｍのガラスシートでの、接触剥離後に測定された電圧対平均表面粗さのグラフを示している。図７の丸は処理前のガラスタイプＩを示し、図７の四角はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物を希釈したもので処理した後のガラスタイプＩを示し、図７の菱形はＨ2ＳＯ4で処理した後のガラスタイプＩを示し、図７の三角はＨＣｌで処理した後のガラスタイプＩを示し、そして図７の矢印はＨＣｌおよびＨＦで処理した後のガラスタイプＩを示す。図７から分かるように、平均表面粗さが増加すると、接触剥離後に測定された電圧は増加し（すなわち０に近づき）、それにより平均表面粗さと電圧との間の相関を立証する。図７の線は、プロットに対する線形回帰分析を示している。 Referring now to FIG. 7, this graph shows a comparison between the average surface roughness and the voltage measured after contact delamination for glass type I as shown in FIGS. In particular, FIG. 7 shows a graph of voltage versus average surface roughness measured after contact delamination on a 180 mm × 230 mm × 0.5 mm glass sheet. Circle in Figure 7 shows the glass type I pretreatment, square 7 shows a glass type I after treatment with those obtained by diluting a mixture of NaF and H 3 PO 4, rhombic 7 H 2 Glass type I after treatment with SO 4 is shown, triangles in FIG. 7 show glass type I after treatment with HCl, and arrows in FIG. 7 show glass type I after treatment with HCl and HF. As can be seen from FIG. 7, as the average surface roughness increases, the voltage measured after contact delamination increases (ie, approaches 0), thereby demonstrating a correlation between the average surface roughness and the voltage. The line in FIG. 7 shows the linear regression analysis for the plot.
ここで図８を参照すると、このグラフは、図４および６に示したガラスタイプＩでの、平均表面粗さと接触剥離後に測定された電圧との比較を示したものである。図８は、１２７ｍｍ×１２７ｍｍ×０．５ｍｍのガラスシートでの、接触剥離後の電圧対平均表面粗さのグラフを示している。図８の丸は処理前のガラスタイプＩを示し、図８の四角はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物を希釈したもので処理した後のガラスタイプＩを示し、図８の菱形はＨ2ＳＯ4で処理した後のガラスタイプＩを示し、図８の三角はＨＣｌで処理した後のガラスタイプＩを示し、そして図８の矢印はＨＣｌおよびＨＦで処理した後のガラスタイプＩを示す。図８から分かるように、平均表面粗さが増加すると、接触剥離後に測定された電圧は増加し（すなわち０に近づき）、それにより平均表面粗さと電圧との間の相関を立証する。図８の線は、プロットに対する線形回帰分析を示している。 Referring now to FIG. 8, this graph shows a comparison between the average surface roughness and the voltage measured after contact delamination for the glass type I shown in FIGS. FIG. 8 shows a graph of voltage versus average surface roughness after contact delamination on a 127 mm × 127 mm × 0.5 mm glass sheet. Circle in Figure 8 shows the glass type I pretreatment, square 8 shows a glass type I after treatment with those obtained by diluting a mixture of NaF and H 3 PO 4, rhombic 8 H 2 Glass type I after treatment with SO 4 is shown, triangles in FIG. 8 show glass type I after treatment with HCl, and arrows in FIG. 8 show glass type I after treatment with HCl and HF. As can be seen from FIG. 8, as the average surface roughness increases, the voltage measured after contact delamination increases (ie, approaches 0), thereby demonstrating a correlation between the average surface roughness and the voltage. The line in FIG. 8 shows a linear regression analysis for the plot.
実施例３
実施例３では、上の実施例で論じた方法を用いてガラスタイプＩＩおよびガラスタイプＩＩＩで試験を実施した。７３０ｍｍ×９２０ｍｍ×０．５ｍｍのガラスシートで、このガラスシートのサイズを支持するよう変更されたチャックを備えた市販のリフト試験機を、接地された３０４ＳＳチャックを用いて使用した。−３９ｋＰａの真空を生成し、絶縁のべスペルピン（半径５ｍｍ）を使用した。リフトピンの速度は１０ｍｍ／秒であり、装置は２０の真空ポートを備えたものであった。ガラスのタイプ毎に３つのサンプルを抽出し、ランダムな順序で実行した。サンプル毎に６つのリフトサイクルを実施し、リフトサイクル間で電離を用いた。ピン高さ８０ｍｍで値を報告した。リフトピンが動いている間に、プローブでガラスをなぞった。サンプルを標準的な洗浄プロセスを用いて４％のセミクリーンＫＧで清浄にし、１時間の間クリーンルーム内で調整してから相対湿度約１２％で試験を実行した。チャックとピンは、試験の１時間前に、ＨＥＰＡ吸引してＤＩクリーンルーム用ワイパーで拭いた。ガラスタイプＩＩの１つのサンプルを使用し、試験開始時に清浄なチャックとピンを面ｂに、次いで面ａに接触させ、面毎に６回繰り返した。
Example 3
In Example 3, tests were performed on glass type II and glass type III using the methods discussed in the above example. A commercial lift tester equipped with a 730 mm × 920 mm × 0.5 mm glass sheet and a chuck modified to support the size of the glass sheet was used with a grounded 304SS chuck. A vacuum of -39 kPa was generated and insulating Vespel pins (5 mm radius) were used. The lift pin speed was 10 mm / sec and the device was equipped with 20 vacuum ports. Three samples were extracted for each glass type and run in random order. Six lift cycles were performed for each sample, and ionization was used between lift cycles. Values were reported at a pin height of 80 mm. While the lift pin was moving, the glass was traced with the probe. Samples were cleaned with 4% semi-clean KG using a standard wash process, conditioned in a clean room for 1 hour and then run at a relative humidity of about 12%. The chuck and pin were sucked with HEPA and wiped with a DI clean room wiper 1 hour before the test. Using one sample of glass type II, a clean chuck and pin were brought into contact with surface b and then surface a at the start of the test and repeated 6 times per surface.
ここで、試験の結果を示している図９を参照する。図９において、９−１は処理前のガラスタイプＩＩを示し、９−２はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩを示し、９−３は処理前のガラスタイプＩＩＩを示し、そして９−４はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩＩを示す。図９は、接触剥離後に測定された電圧対ガラスタイプを示し、処理によって電圧が増加した（すなわち０に近づく）ことを示唆している。 Reference is now made to FIG. 9, which shows the results of the test. In FIG. 9, 9-1 shows the glass type II before processing, 9-2 shows the glass type II after processing with the mixture of NaF and H 3 PO 4, and 9-3 shows the glass type before processing. III and 9-4 indicate glass type III after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4 . FIG. 9 shows the voltage versus glass type measured after contact delamination, suggesting that the treatment increased the voltage (ie, approached 0).
図１０は、図９の電圧データを電圧の減少の割合で示したものである。電圧の減少の割合は方程式（３）を用いて計算される。図１０において、１０−１は処理前のガラスタイプＩＩを示し、１０−２はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩを示し、１０−３は処理前のガラスタイプＩＩＩを示し、そして１０−４はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩＩを示す。図１０のグラフは、各処理が行われた後に各ガラスタイプで測定された電圧が、減少していることを示している。 FIG. 10 shows the voltage data of FIG. 9 as a voltage decrease rate. The rate of voltage decrease is calculated using equation (3). In FIG. 10, 10-1 shows the glass type II before processing, 10-2 shows the glass type II after processing with a mixture of NaF and H 3 PO 4, and 10-3 shows the glass type before processing. III and 10-4 indicate glass type III after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4 . The graph of FIG. 10 shows that the voltage measured for each glass type after each treatment is reduced.
実施例４
実施例４では、上の実施例で論じた方法を用いて、ガラスタイプＩＶ、ガラスタイプＩＩ、およびガラスタイプＶで試験を実施した。７３０ｍｍ×９２０ｍｍ×０．５ｍｍのガラスシートで、このガラスシートのサイズを支持するよう変更されたチャックを備えた市販のリフト試験機を使用した。チャックは接地された３０４ＳＳであった。−３９ｋＰａの真空を生成し、絶縁のべスペルピン（半径５ｍｍ）を使用した。リフトピンの速度は１０ｍｍ／秒であり、装置は２０の真空ポートを備えたものであった。ガラスのタイプ毎に３つのサンプルを試験し、ランダムな順序で実行した。サンプル毎に３つのリフトサイクルを実施し、リフトサイクル間で電離を用いた。ピン高さ８０ｍｍで値を報告した。
Example 4
In Example 4, testing was performed on glass type IV, glass type II, and glass type V using the methods discussed in the above example. A commercial lift tester equipped with a 730 mm × 920 mm × 0.5 mm glass sheet and a chuck modified to support the size of the glass sheet was used. The chuck was grounded 304SS. A vacuum of -39 kPa was generated and insulating Vespel pins (5 mm radius) were used. The lift pin speed was 10 mm / sec and the device was equipped with 20 vacuum ports. Three samples for each glass type were tested and run in random order. Three lift cycles were performed for each sample, and ionization was used between lift cycles. Values were reported at a pin height of 80 mm.
ここで、試験の結果を示している図１１を参照する。図１１において、１１−１は処理前のガラスタイプＩＶを示し、１１−２は処理前のガラスタイプＩＩを示し、１１−３はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩを示し、１１−４は処理前のガラスタイプＶを示し、そして１１−５はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＶを示す。図１１は、接触剥離後に測定された電圧対ガラスタイプを示し、処理によって電圧が増加した（すなわち０に近づく）ことを示唆している。 Reference is now made to FIG. 11 showing the results of the test. 11, 11-1 denotes a glass type IV pretreatment, 11-2 denotes a glass type II pretreatment, glass type after the 11-3 was treated with a mixture of NaF and H 3 PO 4 II, 11-4 indicates glass type V before treatment, and 11-5 indicates glass type V after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4 . FIG. 11 shows the voltage versus glass type measured after contact delamination, suggesting that the treatment increased the voltage (ie, approached 0).
図１２は、図１１の電圧データを電圧の減少の割合で示したものである。電圧の減少の割合は方程式（３）を用いて計算される。図１２において、１２−１は処理前のガラスタイプＩＩを示し、１２−２はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩを示し、１２−３は処理前のガラスタイプＩＩＩを示し、そして１２−４はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩＩを示す。図１２のグラフは、各処理が行われた後に各ガラスタイプで測定された電圧が、減少していることを示している。 FIG. 12 shows the voltage data of FIG. 11 as a rate of voltage decrease. The rate of voltage decrease is calculated using equation (3). In FIG. 12, 12-1 shows glass type II before processing, 12-2 shows glass type II after processing with a mixture of NaF and H 3 PO 4, and 12-3 shows glass type before processing. III and 12-4 indicate glass type III after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4 . The graph of FIG. 12 shows that the voltage measured for each glass type after each treatment is reduced.
請求される主題の精神および範囲から逸脱することなく、本書において説明された実施形態の種々の改変および変形が作製可能であることは当業者には明らかであろう。従って、本書において説明された種々の実施形態の改変および変形が、添付の請求項およびその同等物の範囲内であるならば、本明細書はこのような改変および変形を含むと意図されている。 It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made to the embodiments described herein without departing from the spirit and scope of the claimed subject matter. Thus, it is intended that the specification include such modifications and variations, provided that the modifications and variations of the various embodiments described herein are within the scope of the appended claims and their equivalents. .
１００ ガラス製造装置
１２０ フュージョンドロー装置（ＦＤＭ）
１４８ ガラスシート
100
148 glass sheet
図１２は、図１１の電圧データを電圧の減少の割合で示したものである。電圧の減少の割合は方程式（３）を用いて計算される。図１２において、１２−１は処理前のガラスタイプＩＶを示し、１２−２は処理前のガラスタイプＩＩを示し、１２−３はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＩＩを示し、１２−４は処理前のガラスタイプＶを示し、そして１２−５はＮａＦとＨ3ＰＯ4との混合物で処理した後のガラスタイプＶを示す。図１２のグラフは、各処理が行われた後に各ガラスタイプで測定された電圧が、減少していることを示している。 FIG. 12 shows the voltage data of FIG. 11 as a rate of voltage decrease. The rate of voltage decrease is calculated using equation (3). 12, 12-1 denotes a glass type I V pretreatment, 12-2 denotes a glass type II pretreatment, glass after 12-3 was treated with a mixture of NaF and H 3 PO 4 It indicates the type II, 12 4 denotes a glass type V pretreatment, and 12 5 shows the glass type V after treatment with a mixture of NaF and H 3 PO 4. The graph of FIG. 12 shows that the voltage measured for each glass type after each treatment is reduced.
Claims (10)
前記ガラスシートの少なくとも一方の面を処理溶液で、２０℃から１００℃の温度で、かつ０．５分から９０分の間処理するステップであって、該処理が前記ガラスシートの前記少なくとも一方の面の平均表面粗さを増加させるステップ、および、
前記処理溶液を除去するステップ、
を有してなり、前記ガラスシートの処理された前記少なくとも一方の面の、前記処理の後の前記平均表面粗さが、０．３ｎｍから１００ｎｍであり、かつ前記処理の前の前記ガラスシートと前記処理の後の前記ガラスシートとの間の電圧の減少の割合が、接触剥離後に測定して約１．５％から約４０％であることを特徴とする方法。 In the method of improving the electrostatic discharge characteristics of the glass sheet,
Treating at least one side of the glass sheet with a treatment solution at a temperature of 20 ° C. to 100 ° C. for 0.5 to 90 minutes, wherein the treatment comprises the at least one side of the glass sheet. Increasing the average surface roughness of, and
Removing the treatment solution;
The average surface roughness after the treatment of the treated at least one surface of the glass sheet is 0.3 nm to 100 nm, and the glass sheet before the treatment The method wherein the rate of voltage decrease between the glass sheet after the treatment is from about 1.5% to about 40% as measured after contact peeling.
前記ガラスシートの第２の面は、前記処理溶液で処理されず、かつ約０．１ｎｍから約０．３ｎｍの前記平均表面粗さを有していることを特徴とする請求項１から６いずれか１項記載の方法。 A first surface of the glass sheet is treated with the treatment solution and has an average surface roughness of about 0.3 nm to about 100 nm after the treatment;
The second surface of the glass sheet is not treated with the treatment solution and has the average surface roughness of about 0.1 nm to about 0.3 nm. The method according to claim 1.
約０．３ｎｍから約１００ｎｍの平均表面粗さを有している、第１の面、および、
約０．１ｎｍから約１００ｎｍの平均表面粗さを有している、第２の面、
を備え、
前記ガラスシートの長さが少なくとも約１００ｍｍであり、かつ、
前記ガラスシートの厚さが約１．０ｍｍ未満であることを特徴とするガラスシート。 A glass sheet,
A first surface having an average surface roughness of about 0.3 nm to about 100 nm; and
A second surface having an average surface roughness of about 0.1 nm to about 100 nm;
With
The glass sheet has a length of at least about 100 mm, and
The glass sheet has a thickness of less than about 1.0 mm.
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