JP2016506574A - Touch panel including antireflection layer and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
基板１１０と、該基板１１０上に第１方向に沿って並んで配置される複数個の第１のセンサ電極２１０と、前記基板１１０上に、前記第１のセンサ電極２１０と離隔され、前記第１方向と直交する第２方向に沿って並んで配置される複数個の第２のセンサ電極２２０と、前記複数個の第１のセンサ電極２１０のうち互いに隣接する第１のセンサ電極２１０を前記第１方向に連結する第１のブリッジ２３０と、前記複数個の第１のセンサ電極２１０、前記複数個の第２のセンサ電極２２０および前記第１のブリッジ２３０が形成された基板１１０上に形成される絶縁層３００と、前記絶縁層３００を貫通するビアホールを介して、前記複数個の第２のセンサ電極２２０のうち互いに隣接する第２のセンサ電極２２０を前記第２方向に連結する第２のブリッジ２４０と、を含み、前記第１のブリッジ２３０および前記第２のブリッジ２４０は、互いに交差するタッチパネル１００を提供する。【選択図】図３A substrate 110; a plurality of first sensor electrodes 210 arranged side by side along the first direction on the substrate 110; and the first sensor electrode 210 spaced apart from the first sensor electrode 210 on the substrate 110; A plurality of second sensor electrodes 220 arranged side by side along a second direction orthogonal to one direction, and the first sensor electrodes 210 adjacent to each other among the plurality of first sensor electrodes 210; The first bridge 230 connected in the first direction, the plurality of first sensor electrodes 210, the plurality of second sensor electrodes 220, and the first bridge 230 are formed on the substrate 110. The second sensor electrodes 220 adjacent to each other among the plurality of second sensor electrodes 220 are connected in the second direction through the insulating layer 300 to be formed and via holes penetrating the insulating layer 300. It includes a bridge 240, wherein the first bridge 230 and the second bridge 240 provides a touch panel 100 that intersect each other. [Selection] Figure 3
Description
本発明は、タッチパネルおよびその製造方法に関するものであって、特に反射防止層を含むタッチパネルおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to a touch panel and a manufacturing method thereof, and more particularly to a touch panel including an antireflection layer and a manufacturing method thereof.
タッチパネルは、スマートフォン、タブレットコンピュータ、ゲーム機、学習補助装置およびカメラなどの電子装置に備えられた表示パネルの表面を手やペンを用いて押すことによって、２次元の座標データを入力する装置である。このようなタッチパネルは、操作が容易で、各種ディスプレイ装置に幅広く応用されることができるという点で広く用いられている。 The touch panel is a device that inputs two-dimensional coordinate data by pressing the surface of a display panel provided in an electronic device such as a smartphone, a tablet computer, a game machine, a learning assistance device, or a camera with a hand or a pen. . Such touch panels are widely used in that they are easy to operate and can be widely applied to various display devices.
一般に、タッチパネルは、光透過性フィルムまたはガラス素材の基板上にマトリックスの形態に備えられたセンサ電極と、該センサ電極を連結するブリッジ電極と、前記ブリッジ電極との間に備えられる絶縁層とを含んで形成される。 Generally, a touch panel includes a sensor electrode provided in the form of a matrix on a substrate of a light transmissive film or a glass material, a bridge electrode that connects the sensor electrode, and an insulating layer provided between the bridge electrode. Formed.
前記タッチパネルは、各種ディスプレイ装置の表面に直接付着させて用いられることができる。このようなタッチパネルが付着しているディスプレイ装置を見る場合、外光による反射のために視認性が低下するおそれがある。 The touch panel can be directly attached to the surface of various display devices. When viewing a display device to which such a touch panel is attached, the visibility may be reduced due to reflection by external light.
前記のような外光による反射を防止し、視認性を改善するために、タッチパネル上部の基材表面に数十〜数百ナノメートルサイズの粗さ（ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）を有する凹凸を形成し、外光による拡散反射（ｄｉｆｆｕｓｅ ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）を防止するＡＧコーティング（Ａｎｔｉ−Ｇｌａｒｅ ｃｏａｔｉｎｇ）方式が提案されたが、ヘイズ（Ｈａｚｅ）が大きくなり、鮮明度が劣るという短所がある。 In order to prevent reflection due to external light as described above and improve visibility, the surface of the base material on the upper part of the touch panel is formed with unevenness having a roughness of several tens to several hundreds of nanometers. An AG coating (Anti-Glare coating) method that prevents diffuse reflection due to the light has been proposed, but has a disadvantage that the haze increases and the sharpness is inferior.
これに対して最近では、屈折率が互いに異なる二層以上の薄膜を形成し、外光による直接反射（ｓｐｅｃｕｌａｒ ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）を防止するＡＲコーティング（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ｃｏａｔｉｎｇ）方式が提案された。 On the other hand, recently, an AR coating (Anti-Reflection coating) system has been proposed in which two or more thin films having different refractive indexes are formed to prevent direct reflection by external light.
前記ＡＲコーティングは、高屈折率層および低屈折率層を交互に積層するコーティング方法であって、入射される外光は、前記積層された各薄膜の境界面で消滅の干渉を引き起こす。前記積層される薄膜間の屈折率の差が大きいほど、また積層される薄膜の数が増加するほど反射率が低下することがある。しかしながら、実際にタッチパネル上にＡＲ層を具現する場合において、前記ＡＲ層を無限に厚くすることはできず、一定の厚さ以下に形成しなければならないという制約がある。 The AR coating is a coating method in which high-refractive index layers and low-refractive index layers are alternately stacked, and incident external light causes annihilation interference at the interface between the stacked thin films. The reflectance may decrease as the difference in refractive index between the stacked thin films increases and as the number of stacked thin films increases. However, when the AR layer is actually implemented on the touch panel, the AR layer cannot be made infinitely thick, and there is a restriction that it must be formed below a certain thickness.
これに対して本発明は、反射防止層または反射防止機能を有する層を含むタッチパネルおよびその製造方法を提供するものである。 In contrast, the present invention provides a touch panel including an antireflection layer or a layer having an antireflection function, and a method for manufacturing the same.
本発明の一例によるタッチパネルは、基板と、該基板上に第１方向に沿って並んで配置される複数個の第１のセンサ電極と、前記基板上に前記第１のセンサ電極と離隔され、前記第１方向と直交する第２方向に沿って並んで配置される複数個の第２のセンサ電極と、前記複数個の第１のセンサ電極のうち、互いに隣接する第１のセンサ電極を前記第１方向に連結する第１のブリッジと、前記複数個の第１のセンサ電極、前記複数個の第２のセンサ電極および前記第１のブリッジが形成された基板上に形成される絶縁層と、前記絶縁層を貫通するビアホールを介して、前記複数個の第２のセンサ電極のうち、互いに隣接する第２のセンサ電極を前記第２方向に連結する第２のブリッジと、を含み、前記第１のブリッジおよび前記第２のブリッジは、互いに交差する。 The touch panel according to an example of the present invention is separated from the substrate, a plurality of first sensor electrodes arranged side by side along the first direction on the substrate, and the first sensor electrode on the substrate, A plurality of second sensor electrodes arranged side by side along a second direction perpendicular to the first direction, and the first sensor electrodes adjacent to each other among the plurality of first sensor electrodes A first bridge connected in a first direction; an insulating layer formed on a substrate on which the plurality of first sensor electrodes, the plurality of second sensor electrodes, and the first bridge are formed; A second bridge connecting the second sensor electrodes adjacent to each other in the second direction among the plurality of second sensor electrodes through a via hole penetrating the insulating layer, and A first bridge and the second bridge; , To cross each other.
本発明の一例によるタッチパネルにおいて、前記絶縁層は、少なくとも一つ以上の低屈折層および高屈折層を含む。 In the touch panel according to an example of the present invention, the insulating layer includes at least one low refractive layer and high refractive layer.
本発明の一例によるタッチパネルにおいて、前記低屈折層は、ＭｇＦ２、ＮａＦおよびＣａＦ２のうち、少なくとも一つを含む。 In the touch panel according to an example of the present invention, the low refractive layer includes at least one of MgF 2 , NaF and CaF 2 .
本発明の一例によるタッチパネルにおいて、前記高屈折層は、ＣｅＦ３、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２およびＮｂ２ＯＸのうち、少なくとも一つを含む。 In the touch panel according to an example of the present invention, the high refractive layer includes at least one of CeF 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2, and Nb 2 O X.
本発明の他の一例によるタッチパネルは、基板と、該基板上に第１方向に沿って並んで配置される複数個の第１のセンサ電極と、前記基板上に、前記第１のセンサ電極と離隔され、前記第１方向と直交する第２方向に沿って並んで配置される複数個の第２のセンサ電極と、前記複数個の第１のセンサ電極のうち、互いに隣接する第１のセンサ電極を前記第１方向に連結する第１のブリッジと、前記複数個の第１のセンサ電極、前記複数個の第２のセンサ電極および前記第１のブリッジが形成された基板上に形成される絶縁層と、該絶縁層を貫通するビアホールを介して、前記複数個の第２のセンサ電極のうち、互いに隣接する第２のセンサ電極を前記第２方向に連結する第２のブリッジと、前記複数個のセンサ電極および前記ブリッジが配置された基板上に配置される反射防止層と、を含む。 A touch panel according to another example of the present invention includes a substrate, a plurality of first sensor electrodes arranged side by side along the first direction on the substrate, and the first sensor electrode on the substrate. A plurality of second sensor electrodes spaced apart and arranged along a second direction orthogonal to the first direction, and the first sensors adjacent to each other among the plurality of first sensor electrodes A first bridge connecting electrodes in the first direction; and a plurality of first sensor electrodes, a plurality of second sensor electrodes, and a first bridge formed on a substrate on which the first bridge is formed. An insulating layer, and a second bridge connecting the second sensor electrodes adjacent to each other in the second direction among the plurality of second sensor electrodes through a via hole penetrating the insulating layer; A plurality of sensor electrodes and the bridge are arranged Including anti-reflection layer disposed on a substrate with a.
本発明の他の一例によるタッチパネルにおいて、前記反射防止層は、フィルム基材と、該フィルム基材上に配置される低屈折層と、該低屈折層上に配置される高屈折層と、を含む。 In the touch panel according to another example of the present invention, the antireflection layer includes a film base, a low refractive layer disposed on the film base, and a high refractive layer disposed on the low refractive layer. Including.
本発明の他の一例によるタッチパネルにおいて、前記低屈折層と高屈折層は、交互に繰り返されて設けられる。 In the touch panel according to another example of the present invention, the low refractive layer and the high refractive layer are alternately provided.
本発明の他の一例によるタッチパネルにおいて、前記低屈折層と高屈折層は、２回ないし５回、交互に繰り返されて設けられる。 In the touch panel according to another example of the present invention, the low refractive layer and the high refractive layer are alternately provided twice to five times.
本発明の他の一例によるタッチパネルにおいて、前記低屈折層の屈折率は１．３以上１．５未満である。 In the touch panel according to another example of the present invention, the low refractive layer has a refractive index of 1.3 or more and less than 1.5.
本発明の他の一例によるタッチパネルにおいて、前記高屈折層の屈折率は１．５以上２．５以下である。 In the touch panel according to another example of the present invention, the refractive index of the high refractive layer is 1.5 or more and 2.5 or less.
本発明の他の一例によるタッチパネルにおいて、前記低屈折層は、ＭｇＦ２、ＮａＦおよびＣａＦ２のうち、少なくとも一つを含む。 In the touch panel according to another example of the present invention, the low refractive layer includes at least one of MgF 2 , NaF and CaF 2 .
本発明の他の一例によるタッチパネルにおいて、前記高屈折層は、ＣｅＦ３、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２およびＮｂ２ＯＸのうち、少なくとも一つを含む。 In the touch panel according to another example of the present invention, the high refractive layer includes at least one of CeF 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2, and Nb 2 O X.
本発明の一例によるタッチパネルの製造方法は、基板上に複数個の第１のセンサ電極、第２のセンサ電極および第１のブリッジを形成する段階と、前記第１のセンサ電極、前記第２のセンサ電極および前記第１のブリッジが形成された基板上に絶縁層を形成する段階と、前記第２のセンサ電極を覆う絶縁層を貫通して前記第２のセンサ電極の一部を露出させるビアホールを形成する段階と、前記第２のセンサ電極の一部を露出させるビアホールを満たしつつ前記絶縁層上に第２のブリッジ層を形成する段階と、前記第２のブリッジ層をパターニングして第２のブリッジを形成する段階と、を含む。 According to an embodiment of the present invention, there is provided a method for manufacturing a touch panel, comprising: forming a plurality of first sensor electrodes, a second sensor electrode, and a first bridge on a substrate; and the first sensor electrode and the second sensor electrode. Forming an insulating layer on the substrate on which the sensor electrode and the first bridge are formed; and a via hole that exposes a part of the second sensor electrode through the insulating layer covering the second sensor electrode. Forming a second bridge layer on the insulating layer while filling a via hole exposing a part of the second sensor electrode, and patterning the second bridge layer to form a second Forming a bridge.
前記絶縁層を形成する段階は、低屈折層を形成する段階と、高屈折層を形成する段階と、を含む。 Forming the insulating layer includes forming a low refractive layer and forming a high refractive layer.
前記低屈折層を形成する段階および前記高屈折層を形成する段階は、それぞれ２回ないし５回実施される。 The step of forming the low refractive layer and the step of forming the high refractive layer are performed twice to five times, respectively.
前記低屈折層を形成する段階および前記高屈折層を形成する段階は、スピンコーティング工程、印刷工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、原子層積層工程および真空蒸着工程のうち、いずれかの工程を利用して形成される。 The step of forming the low refractive layer and the step of forming the high refractive layer may be any one of a spin coating process, a printing process, a sputtering process, a chemical vapor deposition process, an atomic layer stacking process, and a vacuum deposition process. It is formed using.
本発明の一例によるタッチパネルは、絶縁機能および反射防止機能をする絶縁層を介して外光による反射を防止し、視認性を改善させることができる。 A touch panel according to an example of the present invention can prevent reflection by external light through an insulating layer having an insulating function and an antireflection function, and can improve visibility.
また、本発明の他の一例による反射防止層を含むタッチパネルは、外光による反射を防止し、視認性を改善させることができる。 In addition, a touch panel including an antireflection layer according to another example of the present invention can prevent reflection due to external light and improve visibility.
以下、添付された図面を参照して本発明を詳しく説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
本発明は、様々な変更が可能であり、様々な形態で実施することができるところ、特定の実施例のみ図面に例示し、本文ではこれを中心に説明する。しかしながら、本発明の範囲は前記特定の実施例に限定されるものではなく、本発明の思想および技術範囲に含まれるすべての変更、均等物ないし代替物は、本発明の範囲に含まれるものとして理解されるべきである。 The present invention can be modified in various ways and can be implemented in various forms. However, only specific embodiments are illustrated in the drawings, and this will be mainly described in the text. However, the scope of the present invention is not limited to the specific embodiments described above, and all modifications, equivalents or alternatives included in the spirit and technical scope of the present invention are included in the scope of the present invention. Should be understood.
本明細書において、ある部分が他の部分と連結されているとしたとき、これは直接連結されている場合だけでなく、その中間に他の素子を間に置いて電気的に連結されている場合も含む。また、ある部分がある構成要素を含むとしたとき、これは特に反対の記載がない限り、他の構成要素を除外するものでなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。 In this specification, when a certain part is connected to another part, this is not only directly connected but also electrically connected with another element in between. Including cases. In addition, when a certain part includes a component, this means that the component does not exclude other components and can further include other components unless otherwise stated.
本明細書においては、第１、第２、第３などの用語は、多様な構成要素を説明するために用いることができるが、これらの構成要素は、前記用語により限定されるものではない。前記用語は一つの構成要素を他の構成要素と区別する目的で用いられる。たとえば、本発明の権利範囲から外れることなく、第１の構成要素が第２のまたは第３の構成要素などと命名されることができ、同様に第２のまたは第３の構成要素も相互に命名されうる。 In this specification, terms such as first, second, and third can be used to describe various components, but these components are not limited to the terms. The terms are used to distinguish one component from another component. For example, a first component can be named a second or third component, etc., without departing from the scope of the present invention, and similarly, a second or third component can also be referred to each other. Can be named.
本発明を明確に説明するため、説明と関係のない部分については省略し、明細書全体を通じて同一または類似の構成要素については同一の参照符号を付ける。 In order to clearly describe the present invention, portions not related to the description are omitted, and the same reference numerals are given to the same or similar components throughout the specification.
図１は、本発明の一例によるタッチパネルの概略的な平面図であり、図２は図１に示すタッチパネルの一部（Ａ）を拡大した図である。また、図３は図２のＩ−ＩＩに沿って切断した断面図である。 FIG. 1 is a schematic plan view of a touch panel according to an example of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a part (A) of the touch panel shown in FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line I-II in FIG.
図１において説明の便宜上、図面の左から右に向かう方向を第１方向と定め、図面の上から下に向かう方向を第２方向と定める。前記第１方向および前記第２方向は、例示的なもので、図１に示す方向に限定されないのはもちろんである。 In FIG. 1, for convenience of explanation, a direction from the left to the right in the drawing is defined as a first direction, and a direction from the top to the bottom in the drawing is defined as a second direction. Of course, the first direction and the second direction are illustrative and are not limited to the directions shown in FIG.
図１ないし図３を参照すると、本発明の一例によるタッチパネル１００は、基板１１０と、前記基板上に第１方向に沿って並んで配置される複数個の第１のセンサ電極２１０と、前記第１方向と直交する第２方向に沿って並んで配置される複数個の第２のセンサ電極２２０と、前記複数個の第１のセンサ電極のうち、互いに隣接する第１のセンサ電極を前記第１方向に連結する第１のブリッジ２３０と、前記複数個の第１のセンサ電極、第２のセンサ電極および第１のブリッジが形成された基板上に形成される絶縁層３００と、前記絶縁層を貫通するビアホールを介して、前記複数個の第２のセンサ電極のうち、互いに隣接する第２のセンサ電極を前記第２方向に連結する第２のブリッジ２４０と、を含むことができる。 1 to 3, a touch panel 100 according to an example embodiment of the present invention includes a substrate 110, a plurality of first sensor electrodes 210 arranged on the substrate along a first direction, and the first sensor electrode 210. A plurality of second sensor electrodes 220 arranged side by side along a second direction orthogonal to one direction, and the first sensor electrodes adjacent to each other among the plurality of first sensor electrodes are A first bridge 230 connected in one direction; an insulating layer 300 formed on a substrate on which the plurality of first sensor electrodes, second sensor electrodes and first bridges are formed; and the insulating layer And a second bridge 240 connecting the second sensor electrodes adjacent to each other in the second direction among the plurality of second sensor electrodes through a via hole penetrating through the first sensor electrode.
また、前記タッチパネル１００のベゼル部には、前記第１のセンサ電極２１０および第２のセンサ電極２２０と連結される配線回路（図示せず）などが位置することができる。 In addition, a wiring circuit (not shown) connected to the first sensor electrode 210 and the second sensor electrode 220 may be positioned on the bezel portion of the touch panel 100.
前記基板１１０は、高分子フィルム、プラスチック、または有機材料のいずれかを利用して形成することができる。以下は前記基板１１０として、透明な素材の高分子フィルムを利用する場合を例に挙げて説明する。前記透明な素材の高分子フィルムとしては、ＰＥＴを利用することができる。 The substrate 110 may be formed using any one of a polymer film, a plastic, and an organic material. Hereinafter, a case where a transparent polymer film is used as the substrate 110 will be described as an example. As the transparent polymer film, PET can be used.
前記第１のセンサ電極２１０および第２のセンサ電極２２０は、指またはタッチペンなどのような入力装置が接触されたかどうかを判断する役割を果たす。 The first sensor electrode 210 and the second sensor electrode 220 serve to determine whether an input device such as a finger or a touch pen is touched.
図１において、前記第１のセンサ電極２１０および第２のセンサ電極２２０は、菱形形状を有することが示されているが、必ずしも菱形に限定されるものではなく、三角形、正方形、長方形および円のように多様な形態で形成することができる。 In FIG. 1, the first sensor electrode 210 and the second sensor electrode 220 are shown to have a rhombus shape, but are not necessarily limited to a rhombus shape, and are triangular, square, rectangular, and circular shapes. Thus, it can be formed in various forms.
前記第１のセンサ電極２１０および第２のセンサ電極２２０の個数およびサイズは、前記タッチパネル１００の解像度と、前記タッチパネル１００が取り付けられるディスプレイの種類およびサイズに応じて変更することができる。 The number and size of the first sensor electrode 210 and the second sensor electrode 220 can be changed according to the resolution of the touch panel 100 and the type and size of the display to which the touch panel 100 is attached.
前記第１のブリッジ２３０は、前記複数個の第１のセンサ電極２１０を互いに連結させる役割を果たし、前記第２のブリッジ２４０は、前記複数個の第２のセンサ電極２２０を互いに連結させる役割を果たす。 The first bridge 230 serves to connect the plurality of first sensor electrodes 210 to each other, and the second bridge 240 serves to connect the plurality of second sensor electrodes 220 to each other. Fulfill.
前記第１のブリッジ２３０および第２のブリッジ２４０は、前記絶縁層３００を間に置いて互いに交差する。 The first bridge 230 and the second bridge 240 cross each other with the insulating layer 300 in between.
前記第１のセンサ電極２１０、第２のセンサ電極２２０、第１のブリッジ２３０および第２のブリッジ２４０は、金属または導電性を有する透明材料で形成されることができる。このような導電性を有する透明材料として透明導電性酸化物（ＴＣＯ；Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｏｘｉｄｅ）を用いることができる。 The first sensor electrode 210, the second sensor electrode 220, the first bridge 230, and the second bridge 240 may be formed of a metal or a conductive transparent material. A transparent conductive oxide (TCO) can be used as the transparent material having such conductivity.
このような透明導電性酸化物（ＴＣＯ）としては、インジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、および酸化亜鉛（ＺｎＯ）などを用いることができる。これらは単独で、または互いに組み合わせて用いることができる。 As such a transparent conductive oxide (TCO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), or the like is used. it can. These can be used alone or in combination with each other.
前記第１のセンサ電極２１０、第２のセンサ電極２２０、第１のブリッジ２３０および第２のブリッジ２４０は、同じ材料で形成されることもでき、別の材料で形成されることもできる。製造時の利便性を考慮すると、前記第１のセンサ電極２１０、第２のセンサ電極２２０、第１のブリッジ２３０および第２のブリッジ２４０は、同じ材料で形成されることが好ましい。 The first sensor electrode 210, the second sensor electrode 220, the first bridge 230, and the second bridge 240 may be formed of the same material, or may be formed of different materials. In consideration of convenience during manufacturing, the first sensor electrode 210, the second sensor electrode 220, the first bridge 230, and the second bridge 240 are preferably formed of the same material.
前記第１のセンサ電極２１０、第２のセンサ電極２２０および第１のブリッジ２３０が形成された基板１１０上に絶縁層３００が形成されることができる。 An insulating layer 300 may be formed on the substrate 110 on which the first sensor electrode 210, the second sensor electrode 220, and the first bridge 230 are formed.
前記絶縁層３００は、少なくとも一つ以上の低屈折層３１０および高屈折層３２０からなる多層構造で形成されることができる。前記絶縁層３００は、前記低屈折層３１０および高屈折層３２０が交互に繰り返されて形成されることができる。 The insulating layer 300 may have a multilayer structure including at least one low refractive layer 310 and high refractive layer 320. The insulating layer 300 may be formed by alternately repeating the low refractive layer 310 and the high refractive layer 320.
図３においては、前記絶縁層３００が低屈折層３１１、高屈折層３２１、低屈折層３１２および高屈折層３２２の順に積層された構造として示されたが、これに限定されるものではなく、前記低屈折層３１０および高屈折層３２０は、２回ないし５回交互に積層することができる。 In FIG. 3, the insulating layer 300 is shown as a structure in which a low refractive layer 311, a high refractive layer 321, a low refractive layer 312 and a high refractive layer 322 are laminated in this order, but the present invention is not limited thereto. The low refractive layer 310 and the high refractive layer 320 may be alternately stacked 2 to 5 times.
前記低屈折層３１０は、屈折率１．３以上１．５未満の有機物または無機物を含んで形成することができる。前記低屈折層３１０は、ＭｇＦ２、ＮａＦおよびＣａＦ２などを使用して形成することができる。 The low refractive layer 310 may include an organic material or an inorganic material having a refractive index of 1.3 or more and less than 1.5. The low refractive layer 310 may be formed using MgF 2 , NaF, CaF 2 or the like.
前記高屈折層３２０は、屈折率１．５以上２．５以下の有機物または無機物を含んで形成することができる。前記高屈折層は、ＣｅＦ３、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２およびＮｂ２ＯＸなどを用いることができる。 The high refractive layer 320 may include an organic material or an inorganic material having a refractive index of 1.5 to 2.5. For the high refractive layer, CeF 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2, Nb 2 O X, or the like can be used.
前記のように低屈折層３１０および高屈折層３２０が交互に繰り返されて積層された前記絶縁層３００は、前記第１のブリッジ２３０および第２のブリッジ２４０を電気的に絶縁させる機能と同時に反射防止機能をすることができる。 The insulating layer 300 in which the low-refractive layer 310 and the high-refractive layer 320 are alternately and repeatedly stacked as described above reflects simultaneously with the function of electrically insulating the first bridge 230 and the second bridge 240. Prevent function.
前記絶縁層３００に外光が入射される場合、前記積層された各薄膜の境界面から入射された外光が反射されずに透過または吸収されることができる。前記絶縁層３００に積層される薄膜間の屈折率の差が大きいほど、また積層される薄膜の個数が増加するほど外光反射率が低下する。 When external light is incident on the insulating layer 300, the external light incident from the boundary surfaces of the stacked thin films can be transmitted or absorbed without being reflected. As the difference in refractive index between the thin films stacked on the insulating layer 300 increases and the number of thin films stacked increases, the external light reflectance decreases.
図４は、本発明の他の一例によるタッチパネルの概略的な平面図であり、図５は、図４に示すタッチパネルの概略的な断面図である。以下で、本発明の一例によるタッチパネルに関する説明と重複する内容は省略する。 FIG. 4 is a schematic plan view of a touch panel according to another example of the present invention, and FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the touch panel shown in FIG. Hereinafter, the description overlapping with the description of the touch panel according to an example of the present invention will be omitted.
図４および図５を参照すると、本発明の他の一例によるタッチパネル１００は、基板１１０、前記基板上に第１方向に沿って並んで配置される複数個の第１のセンサ電極２１０と、前記第１方向と直交する第２方向に沿って並んで配置される複数個の第２のセンサ電極２２０と、前記複数個の第１のセンサ電極のうち、互いに隣接する第１のセンサ電極を前記第１方向に連結する第１のブリッジ２３０と、前記複数個の第１のセンサ電極、第２のセンサ電極および第１のブリッジが形成された基板上に形成される絶縁層３００と、前記絶縁層を貫通するビアホールを介して、前記複数個の第２のセンサ電極のうち、互いに隣接する第２のセンサ電極を前記第２方向に連結する第２のブリッジ２４０と、前記複数個のセンサ電極２１０、２２０およびブリッジ２３０、２４０が配置された基板上に配置される反射防止層４００と、を含むことができる。 4 and 5, a touch panel 100 according to another example of the present invention includes a substrate 110, a plurality of first sensor electrodes 210 arranged side by side along a first direction on the substrate, A plurality of second sensor electrodes 220 arranged side by side along a second direction orthogonal to the first direction, and the first sensor electrodes adjacent to each other among the plurality of first sensor electrodes are A first bridge 230 connected in a first direction; an insulating layer 300 formed on a substrate on which the plurality of first sensor electrodes, second sensor electrodes and first bridges are formed; and the insulation A second bridge 240 connecting the second sensor electrodes adjacent to each other in the second direction among the plurality of second sensor electrodes through a via hole penetrating the layer; and the plurality of sensor electrodes 210, 220 An anti-reflection layer 400 that bridges 230 and 240 are disposed arranged on the substrate and may include.
前記反射防止層４００は、フィルム基材４３０と、前記フィルム基材４３０上に配置される低屈折層４１０と、該低屈折層上に配置される高屈折層４２０とからなる多層構造により形成されることができる。前記反射防止層４００は、前記低屈折層４１０と高屈折層４２０とが交互に繰り返されて形成されることができる。 The antireflection layer 400 is formed of a multilayer structure including a film base 430, a low refractive layer 410 disposed on the film base 430, and a high refractive layer 420 disposed on the low refractive layer. Can. The antireflection layer 400 may be formed by alternately repeating the low refractive layer 410 and the high refractive layer 420.
図５において、前記反射防止層４００は、前記フィルム基材４３０上に低屈折層４１１、高屈折層４２１、低屈折層４１２および高屈折層４２２の順に積層された構造で図示されたが、これに限定されるものでなく、前記低屈折層４１０および高屈折層４２０は、２回ないし５回交互に積層されることができる。 In FIG. 5, the antireflection layer 400 has a structure in which a low refraction layer 411, a high refraction layer 421, a low refraction layer 412 and a high refraction layer 422 are sequentially laminated on the film base 430. The low refractive layer 410 and the high refractive layer 420 may be alternately stacked twice to five times.
前記反射防止層４００に外光が入射される場合、前記積層された各薄膜の境界面から入射された外光が反射されずに透過または吸収されることができる。前記入射される光量に比し透過または吸収される光量は、前記反射防止層４００に積層される薄膜間の屈折率との差が大きいほど、また積層される高屈折−低屈折薄膜の個数が増加するほど増加する。したがって、前記の積層された高屈折−低屈折薄膜の個数が増加するほど外光反射率が低くなり視認性が改善されることができる。 When external light is incident on the antireflection layer 400, the external light incident from the boundary surfaces of the laminated thin films can be transmitted or absorbed without being reflected. The amount of light transmitted or absorbed as compared to the amount of incident light is larger as the difference in refractive index between the thin films stacked on the antireflection layer 400 is larger, and the number of high refractive-low refractive thin films stacked is larger. It increases as the number increases. Accordingly, as the number of the laminated high refractive-low refractive thin films increases, the external light reflectance decreases and the visibility can be improved.
また、前記第１のセンサ電極２１０、第２のセンサ電極２２０、第１のブリッジ２３０および第２のブリッジ２４０などの材料として用いることができるＩＴＯ（ｎ＝２．０）は、一般に高屈折率を有する材料であるため、前記反射防止層４００の低屈折層４１１と１つの高屈折−低屈折層をなし、反射防止機能を向上させることができる。 ITO (n = 2.0), which can be used as a material for the first sensor electrode 210, the second sensor electrode 220, the first bridge 230, the second bridge 240, and the like, generally has a high refractive index. Therefore, the low-refractive layer 411 and one high-refractive-low-refractive layer of the antireflection layer 400 are formed, and the antireflection function can be improved.
前記フィルム基材４３０は、透明な素材の絶縁膜を用いて形成されることができる。前記フィルム基材４３０は、公知の透明なプラスチックフィルムの中から適宜選択して利用することができる。このようなプラスチックフィルムとしては、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリイミドフィルム、シクロオレフィン樹脂フィルムとアクリル樹脂フィルムなどがある。 The film base 430 may be formed using a transparent insulating film. The film base 430 can be used by appropriately selecting from known transparent plastic films. Examples of such plastic films include polyester films, polyethylene films, polypropylene films, triacetyl cellulose films, polyvinyl chloride films, polyvinyl alcohol films, polyimide films, cycloolefin resin films, and acrylic resin films.
前記フィルム基材４３０は、透明または半透明、または着色していても構わない。また、前記フィルム基材４３０の厚さは、特に制限はないが、一般に３０ないし２００μｍの厚さの範囲を有する。また、前記フィルム基材４３０上に形成される層との密着性を向上させるために、前記フィルム基材４３０の一面または両面に酸化法や凹凸化法などによる表面処理を施すことができる。前記酸化法としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理および紫外線照射処理などを挙げることができ、前記凹凸化法としては、サンドブラスト法や溶剤処理法などが挙げられる。 The film substrate 430 may be transparent, translucent, or colored. The thickness of the film base 430 is not particularly limited, but generally has a thickness in the range of 30 to 200 μm. In addition, in order to improve the adhesion to the layer formed on the film base 430, one or both surfaces of the film base 430 can be subjected to a surface treatment by an oxidation method, an unevenness method, or the like. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, plasma treatment, chromic acid treatment, flame treatment, hot air treatment, and ultraviolet irradiation treatment. Examples of the unevenness method include a sand blast method and a solvent treatment method. .
前記フィルム基材４３０の背面には、粘着剤層４４０が備えられてもよい。前記粘着剤層４４０を構成する粘着剤は、光学用途に適した粘着剤が用いられることができ、このような粘着剤としては、ウレタン系粘着剤およびシリコーン系粘着剤を用いることができる。前記粘着剤層の厚さは、１０ないし６０μｍの範囲の値を有することができる。 An adhesive layer 440 may be provided on the back surface of the film substrate 430. As the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer 440, a pressure-sensitive adhesive suitable for optical applications can be used. As such a pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive and a silicone-based pressure-sensitive adhesive can be used. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer may have a value in the range of 10 to 60 μm.
前記低屈折層４１０は、屈折率１．３以上１．５未満の有機物または無機物を含んで形成することができる。前記低屈折層４１０は、ＭｇＦ２、ＮａＦおよびＣａＦ２などを使用して形成することができる。 The low refractive layer 410 may include an organic material or an inorganic material having a refractive index of 1.3 or more and less than 1.5. The low refractive layer 410 may be formed using MgF 2 , NaF, CaF 2 or the like.
前記高屈折層４２０は、屈折率１．５以上２．５以下の有機物または無機物を含んで形成することができる。前記高屈折層４２０は、ＣｅＦ３、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２およびＮｂ２ＯＸなどを用いることができる。 The high refractive layer 420 may include an organic material or an inorganic material having a refractive index of 1.5 or more and 2.5 or less. The high refractive layer 420 may be made of CeF 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2, Nb 2 O X, or the like.
前記低屈折層４１０および高屈折層４２０は、前記フィルム基材４３０上にスピンコーティング工程、印刷工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、原子層積層工程および真空蒸着工程のいずれかの工程を利用して形成することができる。 The low-refractive layer 410 and the high-refractive layer 420 use any one of a spin coating process, a printing process, a sputtering process, a chemical vapor deposition process, an atomic layer stacking process, and a vacuum deposition process on the film substrate 430. Can be formed.
前記反射防止層４００に外光が入射された場合、前記積層された各薄膜の境界面から入射された外光が反射されずに透過または吸収されることができる。前記反射防止層４００に積層される薄膜間の屈折率の差が大きいほど、また積層された薄膜の個数が増加するほど外光反射率が低下する。 When external light is incident on the antireflection layer 400, the external light incident from the boundary surfaces of the stacked thin films can be transmitted or absorbed without being reflected. The greater the difference in refractive index between the thin films laminated on the antireflection layer 400 and the greater the number of laminated thin films, the lower the external light reflectance.
図６ａないし図６ｅは、本発明の一例によるタッチパネルの製造方法を説明するための図である。 6A to 6E are views for explaining a touch panel manufacturing method according to an example of the present invention.
本発明の一例によるタッチパネルの製造方法は、（ａ）基板上に複数個の第１のセンサ電極、第２のセンサ電極および第１のブリッジをパターニングする段階と、（ｂ）前記第１のセンサ電極、第２のセンサ電極と、第１のブリッジがパターニングされた基板上に絶縁層を形成する段階と、（ｃ）前記第２のセンサ電極を覆う絶縁層を貫通して前記第２のセンサ電極の一部を露出させるビアホールを形成する段階と、（ｄ）前記第２のセンサ電極の一部を露出させるビアホールを満たしつつ、前記絶縁層上に第２のブリッジ層を形成する段階と、（ｅ）前記第２のブリッジ層をパターニングして第２のブリッジを形成する段階と、を含む。 A touch panel manufacturing method according to an example of the present invention includes: (a) patterning a plurality of first sensor electrodes, second sensor electrodes, and first bridges on a substrate; and (b) the first sensor. Forming an insulating layer on an electrode, a second sensor electrode, and a substrate on which the first bridge is patterned; and (c) penetrating the insulating layer covering the second sensor electrode to form the second sensor. Forming a via hole exposing a portion of the electrode; and (d) forming a second bridge layer on the insulating layer while filling the via hole exposing a portion of the second sensor electrode; (E) patterning the second bridge layer to form a second bridge.
図６ａを参照すると、基板１１０上に第１のセンサ電極（図示せず）、第２のセンサ電極２２０および第１のブリッジ２３０を形成する。 Referring to FIG. 6 a, a first sensor electrode (not shown), a second sensor electrode 220, and a first bridge 230 are formed on the substrate 110.
前記基板１１０上に第１のセンサ電極（図示せず）、第２のセンサ電極２２０および第１のブリッジ２３０形成用材料を塗布した後、パターニングして前記基板１１０上に第１のセンサ電極（図示せず）、第２のセンサ電極２２０および第１のブリッジ２３０を形成することができる。 A first sensor electrode (not shown), a second sensor electrode 220, and a first bridge 230 forming material are applied on the substrate 110, and then patterned to form a first sensor electrode (on the substrate 110). The second sensor electrode 220 and the first bridge 230 can be formed.
前記第１のセンサ電極（図示せず）、第２のセンサ電極２２０および第１のブリッジは、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）を用いて形成することができる。これらの透明導電性酸化物（ＴＣＯ）としては、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯなどを用いることができる。 The first sensor electrode (not shown), the second sensor electrode 220, and the first bridge can be formed using a transparent conductive oxide (TCO). As these transparent conductive oxides (TCO), ITO, IZO, ZnO or the like can be used.
前記第１のセンサ電極（図示せず）、第２のセンサ電極２２０および第１のブリッジ２３０形成用材料を塗布する方法としては、スピンコーティング工程、印刷工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、原子層積層工程および真空蒸着工程のいずれかの工程を利用することができる。 As a method of applying the first sensor electrode (not shown), the second sensor electrode 220, and the first bridge 230 forming material, a spin coating process, a printing process, a sputtering process, a chemical vapor deposition process, Any one of an atomic layer stacking process and a vacuum deposition process can be used.
図６ｂを参照すると、前記第１のセンサ電極（図示せず）、第２のセンサ電極２２０と第１のブリッジ２３０が形成された基板１１０上に絶縁層３００が形成される。 Referring to FIG. 6B, an insulating layer 300 is formed on the substrate 110 on which the first sensor electrode (not shown), the second sensor electrode 220, and the first bridge 230 are formed.
前記絶縁層３００を形成する段階は、低屈折層３１０を形成する段階および高屈折層３２０を形成する段階を含む。 Forming the insulating layer 300 includes forming a low refraction layer 310 and forming a high refraction layer 320.
前記低屈折層３１０を形成する段階および高屈折層３２０を形成する段階は、それぞれ２回ないし５回繰り返し実施することができる。 The step of forming the low-refractive layer 310 and the step of forming the high-refractive layer 320 may be repeated twice to five times.
前記低屈折層３１０は、ＭｇＦＸ、ＳｉＯＸ、ＮａＦおよびＣａＦＸのうち、少なくとも一つを用いて形成することができ、前記高屈折層３２０は、ＣｅＦＸ、Ａｌ２ＯＸ、ＺｒＯＸ、ＴｉＯＸおよびＮｂ２ＯＸのうち、少なくとも一つを用いて形成されることができる。 The low refractive layer 310 may be formed using at least one of MgF X , SiO X , NaF and CaF X , and the high refractive layer 320 may include CeF X , Al 2 O X , ZrO X , It may be formed using at least one of TiO X and Nb 2 O X.
前記低屈折層３１０および高屈折層３２０は、スピンコーティング工程、印刷工程、スパッタリング工程、化学気相蒸着工程、原子層積層工程および真空蒸着工程のいずれかの工程を利用して形成することができる。 The low refractive layer 310 and the high refractive layer 320 can be formed using any one of a spin coating process, a printing process, a sputtering process, a chemical vapor deposition process, an atomic layer stacking process, and a vacuum deposition process. .
図６ｃを参照すると、前記絶縁層３００を貫通して前記第２のセンサ電極２２０の一部を露出させるビアホールを形成する。 Referring to FIG. 6 c, a via hole is formed through the insulating layer 300 to expose a part of the second sensor electrode 220.
前記ビアホールは、前記複数個の第２のセンサ電極２２０を前記第２のブリッジ２４０に電気的に連結するためのものである。前記ビアホールは、前記第２のセンサ電極２２０の上部に配置される絶縁層３００を貫通して形成することができる。 The via hole is for electrically connecting the plurality of second sensor electrodes 220 to the second bridge 240. The via hole may be formed through the insulating layer 300 disposed on the second sensor electrode 220.
図６ｄおよび図６ｅを参照すると、前記絶縁層３００上に第２のブリッジ層を形成する。前記第２のセンサ電極２２０の一部を露出させるビアホールを満たしつつ、前記絶縁層３００上に第２のブリッジ層を形成した後、前記第２のブリッジ層をパターニングして第２のブリッジ２４０を形成する。 Referring to FIGS. 6 d and 6 e, a second bridge layer is formed on the insulating layer 300. A second bridge layer is formed on the insulating layer 300 while filling a via hole exposing a part of the second sensor electrode 220, and then the second bridge layer is patterned to form a second bridge 240. Form.
以上で説明したタッチパネルの実施例は、例示的なものに過ぎず、本発明の保護範囲は、本発明の技術分野の通常の知識を有する者であれば、これより様々な変形および均等例を含むことができる。 The embodiments of the touch panel described above are merely illustrative, and the scope of protection of the present invention includes various modifications and equivalent examples as long as they have ordinary knowledge in the technical field of the present invention. Can be included.
１００ タッチパネル、
１１０ 基板、
２１０ 第１のセンサ電極、
２２０ 第２のセンサ電極、
２３０ 第１のブリッジ、
２４０ 第２のブリッジ、
３００ 絶縁層、
３１０ 低屈折層（３１１、３１２）、
３２０ 高屈折層（３２１、３２２）、
４００ 反射防止層、
４１０ 絶縁層（４１１、４１２）、
４２０ 高屈折層（４２１、４２２）、
４３０ フィルム基材。
100 touch panel,
110 substrates,
210 first sensor electrode;
220 second sensor electrode;
230 first bridge,
240 second bridge,
300 insulation layer,
310 low refractive layer (311 312),
320 high refractive layer (321, 322),
400 antireflection layer,
410 insulating layers (411, 412),
420 highly refractive layers (421, 422),
430 Film substrate.
Claims (16)
該基板上に第１方向に沿って並んで配置される複数個の第１のセンサ電極と、
前記基板上に、前記第１のセンサ電極と離隔され、前記第１方向と直交する第２方向に沿って並んで配置される複数個の第２のセンサ電極と、
前記複数個の第１のセンサ電極のうち、互いに隣接する第１のセンサ電極を前記第１方向に連結する第１のブリッジと、
前記複数個の第１のセンサ電極、前記複数個の第２のセンサ電極および前記第１のブリッジが形成された基板上に形成される絶縁層と、
該絶縁層を貫通するビアホールを介して、前記複数個の第２のセンサ電極のうち、互いに隣接する第２のセンサ電極を前記第２方向に連結する第２のブリッジと、を含み、
前記第１のブリッジおよび前記第２のブリッジは、互いに交差するタッチパネル。 A substrate,
A plurality of first sensor electrodes arranged side by side along the first direction on the substrate;
A plurality of second sensor electrodes spaced apart from the first sensor electrode and arranged side by side along a second direction orthogonal to the first direction on the substrate;
A first bridge connecting the first sensor electrodes adjacent to each other in the first direction among the plurality of first sensor electrodes;
An insulating layer formed on a substrate on which the plurality of first sensor electrodes, the plurality of second sensor electrodes, and the first bridge are formed;
A second bridge connecting the second sensor electrodes adjacent to each other in the second direction among the plurality of second sensor electrodes through a via hole penetrating the insulating layer;
The first bridge and the second bridge are touch panels that intersect each other.
該基板上に第１方向に沿って並んで配置される複数個の第１のセンサ電極と、
前記基板上に、前記第１のセンサ電極と離隔され、前記第１方向と直交する第２方向に沿って並んで配置される複数個の第２のセンサ電極と、
前記複数個の第１のセンサ電極のうち、互いに隣接する第１のセンサ電極を前記第１方向に連結する第１のブリッジと、
前記複数個の第１のセンサ電極、前記複数個の第２のセンサ電極および前記第１のブリッジが形成された基板上に形成される絶縁層と、
該絶縁層を貫通するビアホールを介して、前記複数個の第２のセンサ電極のうち、互いに隣接する第２のセンサ電極を前記第２方向に連結する第２のブリッジと、
前記複数個のセンサ電極および前記ブリッジが配置された基板上に配置される反射防止層と、を含むタッチパネル。 A substrate,
A plurality of first sensor electrodes arranged side by side along the first direction on the substrate;
A plurality of second sensor electrodes spaced apart from the first sensor electrode and arranged side by side along a second direction orthogonal to the first direction on the substrate;
A first bridge connecting the first sensor electrodes adjacent to each other in the first direction among the plurality of first sensor electrodes;
An insulating layer formed on a substrate on which the plurality of first sensor electrodes, the plurality of second sensor electrodes, and the first bridge are formed;
A second bridge connecting the second sensor electrodes adjacent to each other in the second direction among the plurality of second sensor electrodes via a via hole penetrating the insulating layer;
An antireflection layer disposed on a substrate on which the plurality of sensor electrodes and the bridge are disposed.
フィルム基材と、
該フィルム基材上に配置される低屈折層と、
該低屈折層上に配置される高屈折層と、を含む、請求項５に記載のタッチパネル。 The antireflection layer is
A film substrate;
A low refractive layer disposed on the film substrate;
The touch panel according to claim 5, comprising a high refractive layer disposed on the low refractive layer.
前記第１のセンサ電極、前記第２のセンサ電極および前記第１のブリッジが形成された基板上に絶縁層を形成する段階と、
前記第２のセンサ電極を覆う絶縁層を貫通して前記第２のセンサ電極の一部を露出させるビアホールを形成する段階と、
前記第２のセンサ電極の一部を露出させるビアホールを満たしつつ、前記絶縁層上に第２のブリッジ層を形成する段階と、
前記第２のブリッジ層をパターニングして第２のブリッジを形成する段階と、を含む、タッチパネルの製造方法。 Forming a plurality of first sensor electrodes, second sensor electrodes and a first bridge on a substrate;
Forming an insulating layer on the substrate on which the first sensor electrode, the second sensor electrode, and the first bridge are formed;
Forming a via hole that penetrates an insulating layer covering the second sensor electrode and exposes a part of the second sensor electrode;
Forming a second bridge layer on the insulating layer while filling a via hole exposing a portion of the second sensor electrode;
And patterning the second bridge layer to form a second bridge.
低屈折層を形成する段階と、
高屈折層を形成する段階と、を含む、請求項１３に記載のタッチパネルの製造方法。 Forming the insulating layer comprises:
Forming a low refractive layer;
The method for manufacturing a touch panel according to claim 13, comprising a step of forming a highly refractive layer.
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