KR20140079073A - Touch panel with anti reflection layer and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

Provided is a touch panel comprising: a substrate; a plurality of first sensor electrodes arranged in parallel along a first direction on the substrate; a plurality of second sensor electrodes spaced apart from the first sensor electrodes and arranged in parallel along a second direction crossing the first direction at a right angle; a first bridge connecting mutually adjacent first sensor electrodes to each other among the first sensor electrodes in the first direction; an insulation layer formed on the substrate where the first sensor electrodes, the second sensor electrodes, and the first bridge are formed; and a second bridge connecting mutually adjacent second sensor electrodes to each other among the second sensor electrodes in the second direction via a hole penetrating the insulation layer, wherein the first bridge and the second bridge cross each other.

Description

반사방지층을 포함하는 터치 패널 및 이의 제조 방법{TOUCH PANEL WITH ANTI REFLECTION LAYER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a touch panel including an antireflection layer and a manufacturing method thereof,

본 발명은 터치 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것으로 특히, 반사방지층을 포함하는 터치 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel and a method of manufacturing the touch panel, and more particularly, to a touch panel including an antireflection layer and a manufacturing method thereof.

터치 패널은 스마트폰, 태블릿 컴퓨터, 게임기, 학습보조장치 및 카메라 등의 전자 장치에 구비된 표시 패널의 표면을 손이나 펜을 사용하여 누름으로써, 2차원의 좌표 데이터를 입력하는 장치이다. 이러한 터치 패널은 조작이 용이하고 각종 디스플레이 장치에 폭넓게 응용될 수 있다는 점에서 널리 사용되고 있다.The touch panel is a device for inputting two-dimensional coordinate data by pressing the surface of a display panel provided in an electronic device such as a smart phone, a tablet computer, a game machine, a learning assisting device, and a camera by using a hand or a pen. Such a touch panel is widely used because it is easy to operate and widely applicable to various display devices.

일반적으로 터치 패널은 광 투과성 필름 또는 글라스 소재의 기판 상에 매트릭스 형태로 구비된 센서전극, 상기 센서전극을 연결하는 브릿지 전극 및 상기 브릿지 전극 사이에 구비되는 절연층을 포함하여 형성된다.Generally, the touch panel includes a sensor electrode provided in a matrix form on a substrate of a light transmitting film or a glass substrate, a bridge electrode connecting the sensor electrode, and an insulating layer provided between the bridge electrodes.

상기 터치 패널은 각종 디스플레이 장치의 표면에 직접 부착되어 사용될 수 있다. 이러한 터치 패널이 부착된 디스플레이 장치를 볼 때, 외광으로 인한 반사 때문에 시인성이 떨어질 수 있다.The touch panel may be directly attached to the surface of various display devices. When a display device having such a touch panel is viewed, the visibility may be deteriorated due to reflection due to external light.

상기와 같은 외광으로 인한 반사를 방지하여 시인성을 개선하기 위해서 터치 패널 상부 기재 표면에 수십~수백 나노 미터 크기의 거칠기(roughness)를 갖는 요철을 형성하여 외광으로 인한 확산 반사(diffuse reflection)를 방지하는 AG 코팅(Anti-Glare coating) 방식이 제안되었으나, 헤이즈(Haze)가 높아져 선명도가 떨어지는 단점이 있다.In order to prevent reflection due to external light and improve visibility, irregularities having a roughness of several tens to several hundreds of nanometers are formed on the surface of the upper substrate of the touch panel to prevent diffuse reflection due to external light AG coating (anti-glare coating) method has been proposed, but it has a disadvantage in that sharpness is lowered due to an increase in haze.

이에 최근에는 굴절률이 서로 다른 두 층 이상의 박막을 형성하여 외광으로 인한 직접 반사(specular reflection)를 방지하는 AR 코팅(Anti-Reflection coating) 방식이 제안되었다.Recently, an anti-reflection coating method has been proposed in which a thin film of two or more layers having different refractive indices is formed to prevent specular reflection due to external light.

상기 AR 코팅은 고굴절률층 및 저굴절률층을 교대로 적층하는 코팅 방식으로 입사되는 외광은 상기 적층된 각 박막의 경계면에서 소멸 간섭을 일으키게 된다. 상기 적층되는 박막간의 굴절률 차이가 클수록, 적층되는 박막의 개수가 증가할수록 반사율이 낮아질 수 있다. 그러나, 실제로 터치 패널 상에 AR층을 구현함에 있어서는 상기 AR층을 무한정 두껍게 할 수는 없고, 일정 두께 이하로 형성할 수밖에 없는 제약이 있다. The AR coating is a coating method in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated, and extraneous light is extinguished at an interface between the laminated thin films. As the refractive index difference between the deposited thin films increases, the reflectance decreases as the number of deposited thin films increases. However, in realizing the AR layer on the touch panel in practice, the AR layer can not be made indefinitely thick, and there is a restriction that it can not be formed to a certain thickness or less.

이에 본 발명에서는 터치 패널 제조 공정 상에서 반사 방지막을 형성하여 제조 공정이 간단하고, 별도의 반사 방지층을 구비하지 않아도 되는 터치 패널 및 이의 제조 방법을 제공하고자 한다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a touch panel and a method of manufacturing the touch panel in which an antireflection film is formed in a manufacturing process of a touch panel, so that a manufacturing process is simple and a separate antireflection layer is not required.

기판, 상기 기판 상에 제 1 방향을 따라 나란하게 배치되는 복수개의 제 1 센서전극, 상기 기판 상에, 상기 제 1 센서전극과 이격되어, 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향을 따라 나란하게 배치되는 복수개의 제 2 센서전극, 상기 복수개의 제 1 센서전극 중 서로 인접한 제 1 센서전극들을 상기 제 1 방향으로 연결하는 제 1 브릿지, 상기 복수개의 제 1 센서전극, 제 2 센서전극 및 제 1 브릿지가 형성된 기판상에 형성되는 절연층 및 상기 절연층을 관통하는 홀을 통하여 상기 복수개의 제 2 센서전극 중 서로 인접한 제 2 센서전극들을 상기 제 2 방향으로 연결하는 제 2 브릿지를 포함하며, 상기 제 1 브릿지 및 제 2 브릿지는 서로 교차되는 것을 특징으로 하는 터치 패널을 제공한다.A plasma display apparatus comprising: a substrate; a plurality of first sensor electrodes arranged on the substrate in parallel along a first direction; a plurality of first sensor electrodes arranged on the substrate in parallel with each other along a second direction orthogonal to the first direction, A plurality of second sensor electrodes disposed in the first direction, a first bridge connecting the first sensor electrodes adjacent to each other in the first direction among the plurality of first sensor electrodes, a first bridge connecting the first sensor electrodes, And a second bridge connecting the second sensor electrodes adjacent to each other in the second direction among the plurality of second sensor electrodes through an insulating layer formed on the substrate on which the bridge is formed and a hole penetrating the insulating layer, Wherein the first bridge and the second bridge intersect each other.

상기 절연층은 적어도 하나 이상의 저굴절층 및 고굴절층으로 형성될 수 있다.The insulating layer may be formed of at least one low refractive index layer and a high refractive index layer.

상기 저굴절층은 MgF2, NaF 및 CaF2 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있다.The low refraction layer may include at least one of MgF 2 , NaF, and CaF 2 .

상기 고굴절층은 CeF3, Al2O3, ZrO2, TiO2 및 Nb2Ox 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있다.The high refractive index layer may include at least one of CeF 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2, and Nb 2 O x .

기판 상에 복수개의 제 1 센서전극, 제 2 센서전극 및 제 1 브릿지를 패터닝하는 단계, 상기 제 1 센서전극, 제 2 센서전극 및 제 1 브릿지가 패터닝된 기판 상에 절연층을 형성하는 단계, 상기 제 2 센서전극을 덮는 절연층을 관통하여 상기 제 2 센서전극의 일부를 노출시키는 홀을 형성하는 단계, 상기 제 2 센서전극의 일부를 노출시키는 홀을 채우면서 상기 절연층 상에 제 2 브릿지층을 형성하는 단계, 상기 제 2 브릿지층을 패터닝하여 제 2 브릿지를 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널 제조 방법을 제공한다.Patterning a plurality of first sensor electrodes, a second sensor electrode, and a first bridge on a substrate, forming an insulating layer on the substrate on which the first sensor electrode, the second sensor electrode, and the first bridge are patterned, Forming a hole through the insulating layer covering the second sensor electrode to expose a part of the second sensor electrode, filling a hole exposing a part of the second sensor electrode, And forming a second bridge by patterning the second bridge layer.

상기 절연층을 형성하는 단계는 저굴절층을 형성하는 단계 및 고굴절층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The step of forming the insulating layer may include forming a low refractive layer and forming a high refractive layer.

상기 저굴절층을 형성하는 단계 및 고굴절층을 형성하는 단계는 각각 2회 내지 5회 실시될 수 있다.The step of forming the low refraction layer and the step of forming the high refraction layer may be performed two to five times, respectively.

상기 저굴절층을 형성하는 단계 및 고굴절층을 형성하는 단계는 스핀 코팅 공정, 프린팅 공정, 스퍼터링 공정, 화학 기상 증착 공정, 원자층 적층 공정 및 진공 증착 공정 중 어느 하나의 공정을 이용하여 형성될 수 있다.The forming of the low refractive index layer and the forming of the high refractive index layer may be performed using any one of a spin coating process, a printing process, a sputtering process, a chemical vapor deposition process, an atomic layer deposition process, and a vacuum deposition process have.

본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널은 외광으로 인한 반사를 방지하여 시인성을 개선할 수 있다. 또한, 절연 기능 및 반사 방지 기능을 하는 절연층을 통하여 별도의 반사 방지층 형성 공정을 생략할 수 있다.The touch panel according to an embodiment of the present invention can prevent reflection due to external light and improve visibility. In addition, a separate antireflection layer forming step can be omitted through an insulating layer having an insulating function and an antireflection function.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이다.
도 2는 도 1의 터치 패널의 일부(A)를 확대한 도이다.
도 3은 도 2에서 Ⅰ-Ⅱ를 따라 절단한 단면도이다.
도 4a 내지 도 4f는 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 도이다.
1 is a schematic plan view of a touch panel according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is an enlarged view of a part (A) of the touch panel of Fig.
Fig. 3 is a cross-sectional view taken along line I-II in Fig. 2; Fig.
4A to 4F are views illustrating a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널에 대하여 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명한다. 본 발명의 범위가 하기 설명하는 실시예나 도면들에 의해 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다.Hereinafter, a touch panel according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims and their equivalents. will be.

본 명세서에 있어서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것이며, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.In this specification, specific structural and functional descriptions are merely illustrative and are for the purpose of describing the embodiments of the present invention only, and embodiments of the present invention may be embodied in various forms and are limited to the embodiments described herein And all changes, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention are to be understood as being included therein.

참고로, 상기 도면에서는, 이해를 돕기 위하여 각 구성요소와 그 형상 등이 간략하게 그려지거나 또는 과장되어 그려지기도 하였다. 도면상에서 동일한 부호로 표시된 요소는 동일한 요소를 의미한다.For reference, in order to facilitate understanding, each component and its shape or the like are briefly drawn or exaggerated in the above drawings. The same reference numerals denote the same elements in the drawings.

또한, 어떤 층이나 구성요소가 다른 층이나 또는 구성요소의 '상/위(on)'에 또는 '하/아래(under)'에 있다라고 기재되는 경우에는, 상기 어떤 층이나 구성요소가 상기 다른 층이나 구성요소와 직접 접촉하여 배치된 경우뿐만 아니라, 그 사이에 제3의 층이 개재되어 배치된 경우까지 모두 포함하는 의미이다.It is also to be understood that when a layer or element is described as being "on" or "under" another layer or element, But includes not only the case where the first layer is disposed in direct contact with the layer or the constituent elements but also the case where the third layer is disposed interposed therebetween.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 센서 패널의 개략적인 평면도이다. 도 2는 도 1의 터치 패널의 일부(A)를 확대한 도이다. 도 3은 도 2에서 Ⅰ-Ⅱ를 따라 절단한 단면도이다.1 is a schematic plan view of a sensor panel according to an embodiment of the present invention. Fig. 2 is an enlarged view of a part (A) of the touch panel of Fig. Fig. 3 is a cross-sectional view taken along line I-II in Fig. 2; Fig.

도 1에 도시된 본 발명의 일실시예에서는 설명의 간략화를 위하여, 제 1 방향은 도면의 좌측에서 우측으로 향하는 방향으로 정하고, 제 2 방향은 도면의 위에서 아래로 향하는 방향으로 정하였다. 도 1에서 예시된 방향은 제 1 방향과 제 2 방향에 대한 일례로써 상기 제 1 방향과 제 2 방향은 도 1의 일례에서와 다른 방향으로 결정할 수도 있음은 물론이다. In the embodiment of the present invention shown in Fig. 1, for the sake of simplicity of description, the first direction is set to the direction from the left to the right in the drawing, and the second direction is set to the direction from the top to the bottom in the drawing. The directions illustrated in FIG. 1 are examples of the first direction and the second direction, and the first direction and the second direction may be determined to be directions different from those in the example of FIG.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 상기 터치 패널(100)은 기판(110), 상기 기판 상에 제 1 방향을 따라 나란하게 배치되는 복수개의 제 1 센서전극(210), 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향을 따라 나란하게 배치되는 복수개의 제 2 센서전극(220), 상기 복수개의 제 1 센서전극 중 서로 인접한 제 1 센서전극들을 상기 제 1 방향으로 연결하는 제 1 브릿지(230), 상기 복수개의 제 1 센서전극, 제 2 센서전극 및 제 1 브릿지가 형성된 기판상에 형성되는 절연층(300) 및 상기 절연층을 관통하는 홀(400)을 통하여 상기 복수개의 제 2 센서전극 중 서로 인접한 제 2 센서전극들을 상기 제 2 방향으로 연결하는 제 2 브릿지(240)를 포함할 수 있다.1 to 3, the touch panel 100 includes a substrate 110, a plurality of first sensor electrodes 210 arranged in parallel along a first direction on the substrate, A first bridge 230 connecting the first sensor electrodes adjacent to each other in the first direction among the plurality of first sensor electrodes, the first sensor electrode 220 disposed in parallel with the first sensor electrode 220, (300) formed on a substrate on which a plurality of first sensor electrodes, a second sensor electrode and a first bridge are formed, and a hole (400) penetrating the insulating layer, And a second bridge 240 connecting the second sensor electrodes in the second direction.

또한, 상기 터치 패널(100)의 베젤부에는 상기 제 1 센서전극(210) 및 제 2 센서전극(220)과 연결되는 배선회로(도시되지 않음)등이 위치할 수 있다.A wiring circuit (not shown) connected to the first sensor electrode 210 and the second sensor electrode 220 may be disposed on the bezel portion of the touch panel 100.

상기 기판(110)은 고분자 필름, 플라스틱 또는 유기 중 어느 하나를 이용하여 형성될 수 있다. 이하에서 상기 기판(110)은 투명한 소재의 고분자 필름을 이용하는 것을 예로 들어 설명한다. 상기 투명한 소재의 고분자 필름으로는 PET를 이용할 수 있다.The substrate 110 may be formed using any one of a polymer film, a plastic film, and an organic film. Hereinafter, the substrate 110 will be described using a polymer film of a transparent material as an example. As the polymer film of the transparent material, PET can be used.

상기 제 1 센서전극(210) 및 제 2 센서전극(220)은 손가락 또는 터치펜 등과 같은 입력 장치가 접촉되었는지 여부를 판단하는 역할을 한다.The first sensor electrode 210 and the second sensor electrode 220 function to determine whether an input device such as a finger or a touch pen is in contact.

도 1에서, 상기 제 1 센서전극(210) 및 제 2 센서전극(220)은 마름모 형상을 가지는 것으로 도시되어 있으나, 반드시 마름모 형태로 한정되는 것은 아니며, 삼각형, 정사각형, 직사각형 및 원형과 같이 다양한 형태로 형성될 수 있다.1, the first sensor electrode 210 and the second sensor electrode 220 are shown to have a rhombic shape. However, the first sensor electrode 210 and the second sensor electrode 220 are not necessarily formed in a rhombic shape, but may be various shapes such as a triangle, a square, As shown in FIG.

상기 제 1 센서전극(210) 및 제 2 센서전극(220)의 개수 및 크기는 상기 터치 패널(100)의 해상도 및 상기 터치 패널(100)이 부착되는 디스플레이의 종류 및 크기에 따라 달라질 수 있다.The number and size of the first sensor electrode 210 and the second sensor electrode 220 may vary depending on the resolution of the touch panel 100 and the type and size of the display to which the touch panel 100 is attached.

상기 제 1 브릿지(230)는 상기 복수개의 제 1 센서전극(210)을 서로 연결시키는 역할을 하고, 상기 제 2 브릿지(240)는 상기 복수개의 제 2 센서전극(220)을 서로 연결시키는 역할을 한다.The first bridge 230 connects the plurality of first sensor electrodes 210 and the second bridge 240 connects the plurality of second sensor electrodes 220 to each other. do.

상기 제 1 브릿지(230) 및 제 2 브릿지(240)는 상기 절연층(300)을 사이에 두고 서로 교차된다.The first bridge 230 and the second bridge 240 intersect with each other with the insulating layer 300 interposed therebetween.

상기 제 1 센서전극(210), 제 2 센서전극(220), 제 1 브릿지(230) 및 제 2 브릿지(240)은 금속 또는 도전성을 갖는 투명재료로 형성될 수 있다. 이러한 도전성을 갖는 투명 재료로서 투명 전도성 산화물(TCO:Transparent Conductive Oxide)을 사용할 수 있다.The first sensor electrode 210, the second sensor electrode 220, the first bridge 230, and the second bridge 240 may be formed of a metal or a transparent conductive material. A transparent conductive oxide (TCO: Transparent Conductive Oxide) can be used as the transparent material having such conductivity.

이러한 투명 전도성 산화물(TCO)로는 인듐 주석 산화물(ITO:Indium Tin Oxide), 인듐 아연 산화물(IZO:Indium Zinc Oxide) 및 아연 산화물(ZnO) 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 서로 조합되어 사용될 수 있다.Indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), and zinc oxide (ZnO) may be used as the transparent conductive oxide (TCO). These may be used alone or in combination with each other.

상기 제 1 센서전극(210), 제 2 센서전극(220), 제 1 브릿지(230) 및 제 2 브릿지(240)은 동일한 재료에 의하여 형성될 수도 있고, 서로 다른 재료에 의하여 형성될 수도 있다. 제조상 편의성을 고려할 때 상기 제 1 센서전극(210), 제 2 센서전극(220), 제 1 브릿지(230) 및 제 2 브릿지(240)은 동일한 재료로 형성되는 것이 바람직하다.The first sensor electrode 210, the second sensor electrode 220, the first bridge 230, and the second bridge 240 may be formed of the same material or different materials. The first sensor electrode 210, the second sensor electrode 220, the first bridge 230, and the second bridge 240 may be formed of the same material.

상기 제 1 센서전극(210), 제 2 센서전극(220) 및 제 1 브릿지(230)가 형성된 기판(110) 상에는 절연층(300)이 형성될 수 있다.The insulating layer 300 may be formed on the substrate 110 on which the first sensor electrode 210, the second sensor electrode 220 and the first bridge 230 are formed.

상기 절연층(300)은 적어도 하나 이상의 저굴절층(310) 및 고굴절층(320)으로 이루어진 다층 구조로 형성될 수 있다. 상기 절연층(300)은 상기 저굴절층(310) 및 고굴절층(320)이 교대로 반복되어 형성될 수 있다.The insulating layer 300 may have a multi-layer structure including at least one low refractive index layer 310 and a high refractive index layer 320. The insulating layer 300 may be formed by alternately repeating the low refractive index layer 310 and the high refractive index layer 320.

도 3에서는 상기 절연층(300)이 저굴절층(311), 고굴절층(321), 저굴절층(312) 및 고굴절층(322)의 순서로 적층된 구조로 도시되었으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 저굴절층(310) 및 고굴절층(320)은 2회 내지 5회 교대로 적층될 수 있다.3, the insulating layer 300 is formed by stacking a low refraction layer 311, a high refraction layer 321, a low refraction layer 312, and a high refraction layer 322 in this order. However, the present invention is not limited thereto The low refraction layer 310 and the high refraction layer 320 may be alternately laminated two to five times.

상기 저굴절층(310)은 굴절률 1.3 이상 1.5 이하의 유기물 또는 무기물을 포함하여 형성될 수 있다. 상기 저굴절층(310)은 MgF2, NaF 및 CaF2 등을 사용하여 형성할 수 있다.The low refraction layer 310 may include an organic or inorganic material having a refractive index of 1.3 to 1.5. The low refractive layer 310 can be formed using, for example, MgF2, NaF and CaF 2.

상기 고굴절층(320)은 굴절률 1.5 초과 2.5 이하의 유기물 또는 무기물을 포함하여 형성될 수 있다. 상기 고굴절층은 CeF3, Al2O3, ZrO2, TiO2 및 Nb2Ox 등을 사용할 수 있다.The high refractive index layer 320 may include an organic material or an inorganic material having a refractive index of 1.5 or more and 2.5 or less. The high refractive index layer may use CeF 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2 and Nb 2 O x .

상기와 같이 저굴절층(310) 및 고굴절층(320)이 교대로 반복되어 적층된 상기 절연층(300)은 상기 제 1 브릿지(230) 및 제 2 브릿지(240)를 전기적으로 절연시키는 기능과 동시에 반사 방지 기능을 할 수 있다.The insulating layer 300 in which the low refractive index layer 310 and the high refractive index layer 320 are alternately repeatedly laminated has a function of electrically insulating the first bridge 230 and the second bridge 240, At the same time, the reflection prevention function can be performed.

상기 절연층(300)에 외광이 입사되는 경우 상기 적층된 각 박막의 경계면에서 입사된 외광이 반사되지 않고 투과 또는 흡수될 수 있다. 상기 절연층(300)에 적층되는 박막간의 굴절률 차이가 클수록, 적층되는 박막의 개수가 증가할수록 외광 반사율이 낮아질 수 있다.When external light is incident on the insulating layer 300, external light incident at the interface between the stacked thin films can be transmitted or absorbed without being reflected. The greater the difference in refractive index between the thin films deposited on the insulating layer 300, the lower the reflectance of the external light as the number of deposited thin films increases.

도 4a 내지 도 4f는 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 도이다.4A to 4F are views illustrating a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, (a) 기판 상에 복수개의 제 1 센서전극, 제 2 센서전극 및 제 1 브릿지를 패터닝하는 단계, (b) 상기 제 1 센서전극, 제 2 센서전극 및 제 1 브릿지가 패터닝된 기판 상에 절연층을 형성하는 단계, (c) 상기 제 2 센서전극을 덮는 절연층을 관통하여 상기 제 2 센서전극의 일부를 노출시키는 홀을 형성하는 단계, (d) 상기 제 2 센서전극의 일부를 노출시키는 홀을 채우면서 상기 절연층 상에 제 2 브릿지층을 형성하는 단계, (e) 상기 제 2 브릿지층을 패터닝하여 제 2 브릿지를 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention includes the steps of: (a) patterning a plurality of first sensor electrodes, a second sensor electrode, and a first bridge on a substrate; (b) Forming an insulating layer on the substrate on which the second sensor electrode and the first bridge are patterned, (c) forming a hole through the insulating layer covering the second sensor electrode to expose a part of the second sensor electrode (D) forming a second bridge layer on the insulating layer while filling a hole exposing a part of the second sensor electrode, (e) patterning the second bridge layer to form a second bridge .

도 4a를 참조하면, 기판(110) 상에 제 1 센서전극(210), 제 2 센서전극(미도시) 및 제 1 브릿지(230)를 형성한다.Referring to FIG. 4A, a first sensor electrode 210, a second sensor electrode (not shown), and a first bridge 230 are formed on a substrate 110.

상기 기판(110) 상에 제 1 센서전극(미도시), 제 2 센서전극(220) 및 제 1 브릿지(230) 형성용 물질을 도포한 후, 패터닝하여 상기 기판(110) 상에 제 1 센서전극(미도시), 제 2 센서전극(220) 및 제 1 브릿지(230)를 형성할 수 있다.(Not shown), a second sensor electrode 220 and a material for forming the first bridge 230 are coated on the substrate 110 and then patterned to form a first sensor An electrode (not shown), a second sensor electrode 220, and a first bridge 230 may be formed.

상기 제 1 센서전극(미도시), 제 2 센서전극(220) 및 제 1 브릿지는 투명 전도성 산화물(TCO)를 사용하여 형성될 수 있다. 이러한 투명 전도성 산화물(TCO)로는 ITO, IZO, ZnO등이 사용될 수 있다.The first sensor electrode (not shown), the second sensor electrode 220, and the first bridge may be formed using a transparent conductive oxide (TCO). ITO, IZO, ZnO, or the like may be used as the transparent conductive oxide (TCO).

상기 제 1 센서전극(미도시), 제 2 센서전극(220) 및 제 1 브릿지(230) 형성용 물질을 도포하는 방법으로는 스핀 코팅 공정, 프린팅 공정, 스퍼터링 공정, 화학 기상 증착 공정, 원자층 적층 공정 및 진공 증착 공정 중 어느 하나의 공정을 이용할 수 있다.As a method of applying the material for forming the first sensor electrode (not shown), the second sensor electrode 220 and the first bridge 230, a spin coating process, a printing process, a sputtering process, a chemical vapor deposition process, Any one of a lamination process and a vacuum deposition process can be used.

도 4b를 참조하면, 상기 제 1 센서전극(미도시), 제 2 센서전극(220) 및 제 1 브릿지(230)가 형성된 기판(110) 상에 절연층(300)이 형성된다.Referring to FIG. 4B, an insulating layer 300 is formed on a substrate 110 on which the first sensor electrode (not shown), the second sensor electrode 220, and the first bridge 230 are formed.

상기 절연층(300)을 형성하는 단계는, 저굴절층(310)을 형성하는 단계 및 고굴절층(320)을 형성하는 단계를 포함한다.The step of forming the insulating layer 300 includes the steps of forming the low refraction layer 310 and forming the high refraction layer 320.

상기 저굴절층(310)을 형성하는 단계 및 고굴절층(320)을 형성하는 단계는 각각 2회 내지 5회 반복 실시될 수 있다.The step of forming the low refraction layer 310 and the step of forming the high refraction layer 320 may be repeated two to five times, respectively.

상기 저굴절층(310)은 MgFx, SiOx, NaF 및 CaFx 중 적어도 하나를 사용하여 형성될 수 있으며, 상기 고굴절층(320)은 CeFx, Al2Ox, ZrOx, TiOx 및 Nb2Ox 중 적어도 하나를 사용하여 형성될 수 있다.The low refractive index layer 310 may be formed using at least one of MgF x , SiO x , NaF, and CaF x . The high refractive index layer 320 may be formed of CeF x , Al 2 Ox, ZrO x, TiO x, and Nb 2 & lt ; RTI ID = 0.0 > x . ≪ / RTI >

상기 저굴절층(310) 및 고굴절층(320)은 스핀 코팅 공정, 프린팅 공정, 스퍼터링 공정, 화학 기상 증착 공정, 원자층 적층 공정 및 진공 증착 공정 중 어느 하나의 공정을 이용하여 형성될 수 있다.The low refraction layer 310 and the high refraction layer 320 may be formed using any one of a spin coating process, a printing process, a sputtering process, a chemical vapor deposition process, an atomic layer deposition process, and a vacuum deposition process.

도 4c를 참조하면, 상기 절연층(300)을 관통하여 상기 제 2 센서전극(220)의 일부를 노출시키는 홀(400)을 형성한다.Referring to FIG. 4C, a hole 400 is formed through the insulating layer 300 to expose a portion of the second sensor electrode 220.

상기 홀(400)은 상기 복수개의 제 2 센서전극(220)을 상기 제 2 브릿지(240)로 전기적으로 연결하기 위한 것이다. 상기 홀(400)은 상기 제 2 센서전극(220) 상부에 배치되는 절연층(300)을 관통하여 형성될 수 있다.The hole 400 is for electrically connecting the plurality of second sensor electrodes 220 to the second bridge 240. The hole 400 may be formed through the insulating layer 300 disposed on the second sensor electrode 220.

도 4d 및 도 4e를 참조하면, 상기 절연층(300) 상에 제 2 브릿지층을 형성한다. 상기 제 2 센서전극의 일부를 노출시키는 홀(400)을 채우면서 상기 절연층(300) 상에 제 2 브릿지층을 형성한 후, 상기 제 2 브릿지층을 패터닝하여 제 2 브릿지(240)를 형성한다.4D and 4E, a second bridge layer is formed on the insulating layer 300. Referring to FIG. A second bridge layer is formed on the insulation layer 300 while filling a hole 400 exposing a part of the second sensor electrode and then the second bridge layer is patterned to form a second bridge 240 do.

이상에서 설명된 터치 패널의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명의 보호범위는 본 발명 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등예를 포함할 수 있다.The embodiments of the touch panel described above are merely illustrative, and the scope of protection of the present invention may include various modifications and equivalents as long as those skilled in the art can understand the present invention.

100 : 터치 패널 110 : 기판
210 : 제 1 센서전극 220 : 제 2 센서전극
230 : 제 1 브릿지 240 : 제 2 브릿지
300 : 절연층 310 : 저굴절층(311,312)
320 : 고굴절층(321,322) 400 : 홀
100: touch panel 110: substrate
210: first sensor electrode 220: second sensor electrode
230: first bridge 240: second bridge
300: insulating layer 310: low refractive layer 311, 312:
320: high-refraction layer (321,322) 400: hole

Claims (8)

기판;
상기 기판 상에 제 1 방향을 따라 나란하게 배치되는 복수개의 제 1 센서전극;
상기 기판 상에, 상기 제 1 센서전극과 이격되어, 상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향을 따라 나란하게 배치되는 복수개의 제 2 센서전극;
상기 복수개의 제 1 센서전극 중 서로 인접한 제 1 센서전극들을 상기 제 1 방향으로 연결하는 제 1 브릿지;
상기 복수개의 제 1 센서전극, 제 2 센서전극 및 제 1 브릿지가 형성된 기판상에 형성되는 절연층; 및
상기 절연층을 관통하는 홀을 통하여 상기 복수개의 제 2 센서전극 중 서로 인접한 제 2 센서전극들을 상기 제 2 방향으로 연결하는 제 2 브릿지;를 포함하며,
상기 제 1 브릿지 및 제 2 브릿지는 서로 교차되는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
Board;
A plurality of first sensor electrodes arranged on the substrate in parallel along a first direction;
A plurality of second sensor electrodes disposed on the substrate, the second sensor electrodes being spaced apart from the first sensor electrodes and arranged in a second direction orthogonal to the first direction;
A first bridge connecting the first sensor electrodes adjacent to each other among the plurality of first sensor electrodes in the first direction;
An insulating layer formed on the substrate on which the plurality of first sensor electrodes, the second sensor electrode, and the first bridge are formed; And
And a second bridge connecting second sensor electrodes adjacent to each other of the plurality of second sensor electrodes through the hole passing through the insulating layer in the second direction,
Wherein the first bridge and the second bridge intersect each other.
제 1 항에 있어서, 상기 절연층은 적어도 하나 이상의 저굴절층 및 고굴절층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 패널.The touch panel of claim 1, wherein the insulating layer is formed of at least one low refraction layer and a high refraction layer. 제 2 항에 있어서, 상기 저굴절층은 MgF2, NaF 및 CaF2 중 적어도 하나를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 패널.The touch panel of claim 2, wherein the low refractive index layer is formed of at least one of MgF 2 , NaF, and CaF 2 . 제 2 항에 있어서, 상기 고굴절층은 CeF3, Al2O3, ZrO2, TiO2 및 Nb2Ox 중 적어도 하나를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 패널.The touch panel of claim 2, wherein the high refractive index layer comprises at least one of CeF 3 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2, and Nb 2 O x . 기판 상에 복수개의 제 1 센서전극, 제 2 센서전극 및 제 1 브릿지를 패터닝하는 단계;
상기 제 1 센서전극, 제 2 센서전극 및 제 1 브릿지가 패터닝된 기판 상에 절연층을 형성하는 단계;
상기 제 2 센서전극을 덮는 절연층을 관통하여 상기 제 2 센서전극의 일부를 노출시키는 홀을 형성하는 단계;
상기 제 2 센서전극의 일부를 노출시키는 홀을 채우면서 상기 절연층 상에 제 2 브릿지층을 형성하는 단계;
상기 제 2 브릿지층을 패터닝하여 제 2 브릿지를 형성하는 단계;를 포함하는 터치 패널 제조 방법.
Patterning a plurality of first sensor electrodes, a second sensor electrode, and a first bridge on a substrate;
Forming an insulating layer on the substrate on which the first sensor electrode, the second sensor electrode, and the first bridge are patterned;
Forming a hole through the insulating layer covering the second sensor electrode to expose a part of the second sensor electrode;
Forming a second bridge layer on the insulating layer while filling a hole exposing a part of the second sensor electrode;
And patterning the second bridge layer to form a second bridge.
제 5 항에 있어서, 상기 절연층을 형성하는 단계는,
저굴절층을 형성하는 단계; 및
고굴절층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 제조 방법.
6. The method of claim 5, wherein forming the insulating layer comprises:
Forming a low refraction layer; And
And forming a high-refractive-index layer.
제 5 항에 있어서, 상기 저굴절층을 형성하는 단계 및 고굴절층을 형성하는 단계는 각각 2회 내지 5회 실시하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 제조 방법.The method according to claim 5, wherein the step of forming the low refractive index layer and the step of forming the high refractive index layer are performed two to five times, respectively. 제 5 항에 있어서, 상기 저굴절층을 형성하는 단계 및 고굴절층을 형성하는 단계는 스핀 코팅 공정, 프린팅 공정, 스퍼터링 공정, 화학 기상 증착 공정, 원자층 적층 공정 및 진공 증착 공정 중 어느 하나의 공정을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 패널 제조 방법.The method according to claim 5, wherein the forming of the low refractive index layer and the forming of the high refractive index layer are performed by any one of a spin coating process, a printing process, a sputtering process, a chemical vapor deposition process, an atomic layer deposition process and a vacuum deposition process The method of manufacturing a touch panel according to claim 1,
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