JP2016504495A - 層表面の構造化方法およびそのための装置 - Google Patents
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Abstract
Description
この課題は、表面構造化を可能にする化学組成でのターゲットを陰極として使用した陰極火花蒸着によるPVDコーティングによって解決される。
陰極火花蒸着は、様々な基材および基材材料を薄い層でコーティングするための、当業者に非常によく知られた方法である。この方法ではターゲットが火花放電の陰極として接続され、ターゲット上で活動する火花の作用によりターゲット材料が蒸発する。詳しくは文献でこのコーティング方法の基礎を確認することができる。陰極火花蒸着は、金属層の製造(つまり反応ガスなしでのターゲット材料の蒸着)も、例えば窒素、酸素、炭化水素、Si含有ガスのような反応ガスを使用したセラミックス層の製造も可能にする。つまり、例えばMoターゲット(Moはモリブデンを表す)が窒素雰囲気中で陰極の火花によって蒸発すると、基材表面ではMo−N層が形成され、このMo−N層の組成および相は、例えば窒素流量、Mo蒸発速度、基材温度などのようなプロセスパラメータに左右される。このような層は、大きな硬度を有することができ(15Gpa〜35GPaの間)、かつ工具表面およびコンポーネント表面の摩耗防止の分野での用途で用いることができる。
[表1]マトリクス元素およびドーピング元素を示す表である。
[表2]マトリクス元素の融点および蒸気圧を示す表である。
[表3]ドーピング元素の融点および蒸気圧を示す表である。
[表4]低融点の酸化物および窒化物または蒸気圧の高い酸化物および窒化物を示す表である。
・ ターゲット作製の際、ターゲット中でMoとCuの間の緊密な結合をもたらすことができず、特にCu含有率が約4原子%超ではできない。
・ ターゲット表面が、陰極の火花の影響により、Mo表面からMo−Cu混晶表面へと変換される。
・ 過剰なCu割合は、Moに比べて大きな程度で(異なる蒸気圧)、ターゲット表面から蒸発し、一番外側のターゲット表面ではCuの貧化が生じる。
・ 融解温度が非常に異なっていることが飛沫を発生させ、この飛沫の正確な形成プロセスは明らかではない。もしかするとこの飛沫はターゲット表面下でのCuの液化/蒸発により、つまりMoが固相で存在し、しかしCuが液状である温度で引き起こされるのかもしれない。
・ マトリクス層が、好ましくは、HITが20GPa超、好ましくは25GPa超の硬質物質層であった。
・ マトリクス層は適用において自己潤滑性の特性を有しており、これが潤滑剤不足の条件下でも不具合を阻止した。
・ マトリクス層は、標準的な後処理により容易に飛沫を取り除くことができた。
・ この標準的な後処理により、「谷構造」を有しており、かつ潤滑剤を収容するのに適した層表面が提供された。
− コーティングのための材料源としての第1のターゲットを選択する工程
− 少なくとも選択されたターゲットを含む火花蒸着源を備えたコーティングチャンバを準備する工程
− コーティングすべき基材をコーティングチャンバに設置する工程
− 火花蒸着に適したプロセス圧力へとコーティングチャンバをポンプ排出する工程
− 点火して火花を活動させ、これにより第1のターゲットから材料が蒸発し、この材料がコーティングすべき基材上に、場合によってはコーティングチャンバに導入された反応ガスとの反応後に、沈積する工程を有する、
火花蒸着による気相からの堆積に基づくコーティング方法において、
第1のターゲットが、マトリクス成分よりドーピング成分が少なくとも600℃低い融点を有しており、かつドーピング成分の融解した滴がマトリクス成分の固体の表面を濡らさないような、少なくとも1種のマトリクス成分およびドーピング成分を含むことを特徴とするコーティング方法を開示した。
Claims (13)
- −コーティングのための材料源としての第1のターゲットを選択する工程
−少なくとも選択されたターゲットを含む火花蒸着源を備えたコーティングチャンバを準備する工程
−コーティングすべき基材をコーティングチャンバに設置する工程
−火花蒸着に適したプロセス圧力へとコーティングチャンバをポンプ排出する工程、及び
−点火して火花を活動させ、これにより第1のターゲットから材料が蒸発し、材料がコーティングすべき基材上に、場合によってはコーティングチャンバに導入された反応ガスとの反応後に、沈積する工程を有する、
火花蒸着による気相からの堆積に基づくコーティング方法において、
第1のターゲットが、マトリクス成分よりドーピング成分が少なくとも600℃低い融点を有しており、かつドーピング成分の融解した滴がマトリクス成分の固体の表面を濡らさないような、少なくとも1種のマトリクス成分およびドーピング成分を含むことを特徴とするコーティング方法。 - ドーピング成分の融解した滴が、マトリクス成分の固体の表面で少なくとも90°の接触角をなすことを特徴とする、請求項1に記載のコーティング方法。
- マトリクス成分がIr、Mo、Nb、Os、Re、Rh、Ta、Ti、V、W、Zr、またはそれらの合金によって構成された第1の群からの元素の少なくとも1種から成るように、第1のターゲットが選択されることを特徴とする、請求項1または2に記載のコーティング方法。
- ドーピング成分がAg、Ca、Ce、Cu、Dy、Er、Eu、Gd、La、Mg、Nd、Pb、Sb、Sm、Sr、Tl、Y、Yb、Zn、またはそれらの合金によって構成された第2の群からの少なくとも1種の元素から成るように、第1のターゲットが選択されることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載のコーティング方法。
- マトリクス成分とドーピング成分の融点が少なくとも800℃、好ましくは少なくとも1000℃異なっているようにマトリクス成分とドーピング成分からの組合せが存在するよう、第1のターゲットが選択されることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載のコーティング方法。
- 第1のターゲット中でドーピング成分が、相図に基づいてマトリクス成分と混晶を形成し得るより高い濃度で存在することを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載のコーティング方法。
- 最初に、実質的にドーピング成分を含まない第2のターゲットによってコーティングし、それから上張層を施すために第1のターゲットによってコーティングすることを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載のコーティング方法。
- 請求項1から7のいずれか一項に記載のコーティング方法が実施され、こうして生じた層が研磨され、これにより層表面にある飛沫が少なくとも部分的に除去され、かつ実質的に円形の直径でのくぼみ成形部が後に残ることを特徴とする構造化された層の製造方法。
- 飛沫が部分的にくぼみ成形部に塗り込められることを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- PVDコーティングのための材料源として適しており、その際、マトリクス成分よりドーピング成分が少なくとも600℃低い融点を有しており、かつドーピング成分の融解した滴がマトリクス成分の固体の表面を濡らさず、好ましくは少なくとも90°の接触角をなすような、少なくとも1種のマトリクス成分およびドーピング成分を含むターゲット。
- ターゲット表面でのドーピング成分の濃度が参照部でのドーピング成分の濃度に比べて少なくとも25%低く、参照部として、ターゲット表面からターゲット裏面までの半分の距離が規定されていることを特徴とする、請求項10に記載のターゲット。
- 火花蒸着に特有の飛沫を有する少なくとも1つの層を含む層系によってコーティングされた基材において、層の表面が、大部分で1〜数百ナノメートルのオーダーの実質的に円形の直径でのくぼみ成形部を有することを特徴とする基材。
- 層の表面が上張層によって構成されており、上張層と基材の間に少なくとももう1つの層が配置されており、前記層が、表面に比べてコーティング中の飛沫の激しさが弱いことを示す飛沫密度を有することを特徴とする、請求項12に記載の基材。
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