JP2016215417A - Thermal print head and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermal print head for allowing efficient formation of a protective layer covering heating sections without causing failures such as damage and disconnection of an electrode layer in manufacturing of the thermal print head and a method for manufacturing the thermal print head.SOLUTION: A thermal print head 10A includes: a substrate 100; a plurality of heating sections arranged in a longitudinal direction of the substrate to be closer to one side in a transverse direction on the substrate 100; a conductor connected to each heating section; and a protective layer 150 for covering at least the plurality of heating sections. In the substrate 100, a girder section 400 having a prescribed thickness is formed. A prescribed region on the one side in the transverse direction of the substrate 100 in the girder section 400 is covered with the protective layer 150. A region located on the other side in the transverse direction of the substrate in the girder section 400 across a boundary 402 between the region and the region covered with the protective layer 150 is not covered with the protective layer 150.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、サーマルプリントヘッド、およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a thermal print head and a manufacturing method thereof.

いわゆる薄膜型のサーマルプリントヘッドの製造において、発熱部の形成後にこの発熱部を覆う保護層を形成する場合、たとえば、特許文献1の図11、図12に示されているように、複数枚の基板をそれらの発熱部を露出させつつずらせ重ねた状態においてスパッタリング、あるいはCVD法を適用することが行われることがある。このような保護層の形成方法では、下位にある基板における保護層を形成する必要のない領域を上位に重ねた基板が都合よくマスクすることができるので、保護層の材料を節約することができるとともに、製造効率を上げることができる。   In the manufacture of a so-called thin film type thermal print head, when a protective layer covering the heat generating portion is formed after the heat generating portion is formed, for example, as shown in FIG. 11 and FIG. Sputtering or a CVD method may be applied in a state where the substrates are overlapped while exposing their heating portions. In such a method for forming a protective layer, since the substrate on which the upper layer is overlapped can be conveniently masked in the lower substrate, the material for the protective layer can be saved. At the same time, the production efficiency can be increased.

しかしながら、このような保護層の形成方法を採用する場合、基板の裏面にバリ等の突起が存在すると、その下位に位置する基板上の微細な電極層を損傷、または断線させることがある。   However, when such a method for forming a protective layer is employed, if a projection such as a burr exists on the back surface of the substrate, a fine electrode layer on the substrate located below the substrate may be damaged or disconnected.

特開2006−56046号公報JP 2006-56046 A

本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、薄膜型のサーマルプリントヘッドの製造において、発熱部を覆う保護層の効率的な形成を、電極層の損傷、断線といった不具合を発生させることなく行うことができる技術を提供することをその課題とする。   The present invention has been conceived under the circumstances described above, and in the manufacture of a thin-film thermal print head, the efficient formation of a protective layer covering the heat generating portion, such as damage to the electrode layer and disconnection. It is an object of the present invention to provide a technique that can be performed without causing a defect.

上記の課題を解決するため、本発明では、次の技術的手段を採用した。   In order to solve the above problems, the present invention employs the following technical means.

本発明の第1の側面によって提供されるサーマルプリントヘッドは、基板と、この基板上の短手方向一方寄りに当該基板の長手方向に並ぶ複数の発熱部と、各発熱部に繋がる導体と、少なくとも上記複数の発熱部を覆う保護層と、を備えるサーマルプリントヘッドにおいて、上記基板には、所定厚みの桁部が形成されており、当該桁部における上記基板の短手方向一方側の所定領域は上記保護層に覆われており、当該保護層で覆われた領域に対して境界を挟んで当該桁部における上記基板の短手方向他方側に位置する領域は上記保護層に覆われていないことを特徴とする。   The thermal print head provided by the first aspect of the present invention includes a substrate, a plurality of heat generating portions arranged in the longitudinal direction of the substrate closer to one side in the short direction on the substrate, and a conductor connected to each heat generating portion, A thermal print head comprising at least a protective layer that covers the plurality of heat generating portions, wherein the substrate has a girder portion having a predetermined thickness, and the girder portion has a predetermined region on one side in the short side direction of the substrate. Is covered with the protective layer, and the region located on the other side in the short direction of the substrate in the girder across the boundary to the region covered with the protective layer is not covered with the protective layer It is characterized by that.

好ましい実施の形態では、上記導体は、上記各発熱部から上記基板の短手方向他方側に延びる信号用導体を含む。   In a preferred embodiment, the conductor includes a signal conductor extending from each of the heat generating portions to the other side in the short direction of the substrate.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記各発熱部よりも上記基板の短手方向他方側において、上記信号用導体を避けた領域に形成されている。   In a preferred embodiment, the beam portion is formed in a region avoiding the signal conductor on the other side in the short direction of the substrate than the heat generating portions.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記基板の長手方向両端部に形成されたものを含む。   In a preferred embodiment, the girders include those formed at both longitudinal ends of the substrate.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、所定のペースト材料を印刷・焼成することにより形成されている。   In a preferred embodiment, the girder is formed by printing and baking a predetermined paste material.

好ましい実施の形態では、上記ペースト材料は、ガラス系ペースト材料である。   In a preferred embodiment, the paste material is a glass-based paste material.

好ましい実施の形態では、上記信号用導体は、上記基板上に形成した下地層上に形成されており、上記桁部は、上記下地層と同一材料で形成されている。   In a preferred embodiment, the signal conductor is formed on a base layer formed on the substrate, and the beam portion is formed of the same material as the base layer.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記下地層と同時に同一厚みで形成されたものである。   In a preferred embodiment, the girder is formed with the same thickness as the underlayer.

好ましい実施の形態では、上記下地層は、上記信号用導体の上記基板の短手方向他方側の下層に形成されており、当該下地層の上記基板の短手方向一方側の縁は、上記桁部における上記境界よりも上記基板の短手方向他方側に位置している。   In a preferred embodiment, the base layer is formed in a lower layer on the other side in the short side direction of the substrate of the signal conductor, and an edge on one side in the short side direction of the substrate of the base layer is formed on the girder. It is located on the other side in the short direction of the substrate from the boundary in the part.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記下地層と独立している。   In a preferred embodiment, the beam portion is independent of the base layer.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記下地層と連続している。   In a preferred embodiment, the beam portion is continuous with the base layer.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、平面視矩形である。   In a preferred embodiment, the beam portion is rectangular in plan view.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、平面視円形である。   In a preferred embodiment, the beam portion is circular in plan view.

好ましい実施の形態では、上記信号用導体は、上記基板上に形成した下地層上に形成されており、上記桁部は、上記下地層に重ねて形成されている。   In a preferred embodiment, the signal conductor is formed on a base layer formed on the substrate, and the girder is formed so as to overlap the base layer.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記基板に対する貼着物によって形成されている。   In a preferred embodiment, the girder is formed by an attachment to the substrate.

好ましい実施の形態では、上記貼着物は、テープである。   In preferable embodiment, the said sticking thing is a tape.

本発明の第1の側面によって提供されるサーマルプリントヘッドの製造方法は、基板と、この基板上の短手方向一方寄りに当該基板の長手方向に並ぶ複数の発熱部と、各発熱部に繋がる導体と、少なくとも上記複数の発熱部を覆う保護層と、を備えるサーマルプリントヘッドの製造方法であって、上記複数の発熱部および上記導体の形成を終えた複数の基板中間体を上記複数の発熱部が臨むように上記基板の短手方向にずらせて積層保持し、スパッタリングまたはCVD法を施すことにより上記保護層を形成するにあたり、上記基板中間体には、所定厚みの桁部を形成しておき、上記基板中間体の短手方向一方側の縁が、当該基板中間体が積層される下位の上記基板中間体における上記桁部の上記基板の短手方向中間部に位置するように複数の上記基板中間体を積層保持することを特徴とする。   The method for manufacturing a thermal printhead provided by the first aspect of the present invention is connected to a substrate, a plurality of heat generating portions arranged in the longitudinal direction of the substrate closer to one side in the short direction on the substrate, and each heat generating portion. A method of manufacturing a thermal print head comprising a conductor and a protective layer covering at least the plurality of heat generating portions, wherein the plurality of heat generating portions and the plurality of substrate intermediates after the formation of the conductors When the protective layer is formed by laminating and holding the substrate in the short direction so that the portion faces, and applying sputtering or CVD method, the substrate intermediate is formed with a girder having a predetermined thickness. And a plurality of edges of one side in the short direction of the substrate intermediate are positioned at a middle portion in the short direction of the substrate of the spar in the lower substrate intermediate on which the substrate intermediate is stacked. Characterized by holding a stack of the substrate intermediate.

好ましい実施の形態では、上記導体は、上記各発熱部から上記基板の短手方向他方側に延びる信号用導体を含む。   In a preferred embodiment, the conductor includes a signal conductor extending from each of the heat generating portions to the other side in the short direction of the substrate.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記各発熱部よりも上記基板の短手方向他方側において、上記信号系導体リードを避けた領域に形成する。   In a preferred embodiment, the girder is formed in a region avoiding the signal system conductor lead on the other side in the short direction of the substrate than the heat generating portions.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記基板の長手方向両端部に形成されたものを含む。   In a preferred embodiment, the girders include those formed at both longitudinal ends of the substrate.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、所定のペースト材料を印刷・焼成することにより形成される。   In a preferred embodiment, the girder is formed by printing and baking a predetermined paste material.

好ましい実施の形態では、上記ペースト材料は、ガラス系ペースト材料である。   In a preferred embodiment, the paste material is a glass-based paste material.

好ましい実施の形態では、上記信号用導体は、上記基板上に形成した下地層上に形成され、上記桁部は、上記下地層と同一材料で形成される。   In a preferred embodiment, the signal conductor is formed on a base layer formed on the substrate, and the beam portion is formed of the same material as the base layer.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記下地層と同時に同一厚みで形成される。   In a preferred embodiment, the girder is formed at the same thickness as the underlayer.

好ましい実施の形態では、上記下地層は、上記信号用導体の上記基板の短手方向他方側の下層に形成されており、当該下地層の上記基板の短手方向一方側の縁は、上記桁部における上記境界よりも上記基板の短手方向他方側に位置している。   In a preferred embodiment, the base layer is formed in a lower layer on the other side in the short side direction of the substrate of the signal conductor, and an edge on one side in the short side direction of the substrate of the base layer is formed on the girder. It is located on the other side in the short direction of the substrate from the boundary in the part.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記下地層と独立している。   In a preferred embodiment, the beam portion is independent of the base layer.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記下地層と連続している。   In a preferred embodiment, the beam portion is continuous with the base layer.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、平面視矩形である。   In a preferred embodiment, the beam portion is rectangular in plan view.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、平面視円形である。   In a preferred embodiment, the beam portion is circular in plan view.

好ましい実施の形態では、上記信号用導体は、上記基板上に形成した下地層上に形成されており、上記桁部は、上記下地層に重ねて形成されている。   In a preferred embodiment, the signal conductor is formed on a base layer formed on the substrate, and the girder is formed so as to overlap the base layer.

好ましい実施の形態では、上記桁部は、上記基板に対する貼着物によって形成される。   In a preferred embodiment, the girder is formed by an attachment to the substrate.

好ましい実施の形態では、上記貼着物は、テープである。   In preferable embodiment, the said sticking thing is a tape.

好ましい実施の形態では、上記保護層の形成後、上記貼着物を除去する。   In preferable embodiment, the said sticking thing is removed after formation of the said protective layer.

このような構成によれば、上位にある基板中間体の短手方向一方側の縁が下位にある基板中間体に設けた桁部に必ず載るので、仮に上位にある基板中間体の短手方向一方側の縁の下面にバリが突出していたとしても、このバリが下位にある基板中間体の上面に接触することが回避される。したがって、複数の基板中間体をそれらの発熱部を露出させつつ、短手方向にずらせて積層した状態でスパッタリング、あるいはCVD法によって保護層を形成する際に、上位にある基板中間体に生じたバリが下位にある基板中間体上の信号用導体を破損、または断線させるといった不都合の発生を解消することができる。   According to such a configuration, since the edge on one side of the upper substrate intermediate is always placed on the girder provided in the lower substrate intermediate, the shorter direction of the upper substrate intermediate is assumed. Even if a burr protrudes from the lower surface of the edge on one side, the burr is prevented from contacting the upper surface of the underlying substrate intermediate. Therefore, when a protective layer is formed by sputtering or CVD in a state where a plurality of substrate intermediates are stacked while being shifted in the short side direction while exposing their heating portions, they are generated in the upper substrate intermediate. The occurrence of inconvenience such as breakage or disconnection of the signal conductor on the substrate intermediate body in which the burrs are lower can be eliminated.

本発明のその他の特徴および利点は、図面を参照して以下に行う詳細な説明から、より明らかとなろう。   Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the drawings.

本発明の第1実施形態に係るサーマルプリントヘッドの全体略示平面図である。1 is an overall schematic plan view of a thermal print head according to a first embodiment of the present invention. 図1に示すサーマルプリントヘッドの拡大部分平面図である。FIG. 2 is an enlarged partial plan view of the thermal print head shown in FIG. 1. 図2のIII-III線に沿う切断端面図である。FIG. 3 is a cut end view taken along line III-III in FIG. 2. 図2のIV-IV線に沿う切断端面図である。FIG. 4 is a cut end view taken along line IV-IV in FIG. 2. 図2のIII-III線に沿う切断端面に相当する部分において、ヘッド基板の製造工程を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing process of a head board | substrate in the part corresponded in the cutting end surface in alignment with the III-III line of FIG. 図2のIV-IV線に沿う切断端面に相当する部分において、ヘッド基板の製造工程を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing process of a head board | substrate in the part corresponded in the cut end surface in alignment with the IV-IV line | wire of FIG. ヘッド基板の裏面縁部に形成されるバリの態様の説明図である。It is explanatory drawing of the aspect of the burr | flash formed in the back surface edge part of a head substrate. 図6に続くヘッド基板の製造工程を示す図であって、ヘッド基板は、図2のIV-IV線に沿う切断端面に相当する端面で示している。FIG. 7 is a diagram illustrating a manufacturing process of the head substrate subsequent to FIG. 6, and the head substrate is indicated by an end surface corresponding to a cutting end surface along line IV-IV in FIG. 2. 図5に続くヘッド基板の製造工程を示す図であって、ヘッド基板は、図2のIII-III線に沿う切断端面に相当する端面で示している。FIG. 6 is a diagram illustrating a manufacturing process of the head substrate subsequent to FIG. 5, and the head substrate is indicated by an end surface corresponding to a cut end surface along the line III-III in FIG. 2. 図8に続くヘッド基板の製造工程を示す図であって、ヘッド基板は、図2のIV-IV線に沿う切断端面に相当する端面で示している。FIG. 9 is a diagram illustrating a manufacturing process of the head substrate subsequent to FIG. 8, and the head substrate is indicated by an end surface corresponding to a cut end surface along the line IV-IV in FIG. 2. 図9に続くヘッド基板の製造工程を示す図であって、ヘッド基板は、図2のIII-III線に沿う切断断面に相当する端面で示している。FIG. 10 is a diagram illustrating a manufacturing process of the head substrate subsequent to FIG. 9, and the head substrate is shown by an end surface corresponding to a cross section taken along line III-III in FIG. 2. 本発明の第2実施形態に係るサーマルプリントヘッドの拡大部分平面図である。It is an enlarged partial top view of the thermal print head concerning a 2nd embodiment of the present invention. 図12のXIII-XIII線に沿う切断端面図である。FIG. 13 is a cut end view taken along line XIII-XIII in FIG. 12. 本発明の第3実施形態に係るサーマルプリントヘッドの拡大部分平面図である。FIG. 6 is an enlarged partial plan view of a thermal print head according to a third embodiment of the present invention. 図14のXV-XV線に沿う切断端面図である。FIG. 15 is a cut end view taken along line XV-XV in FIG. 14. 図14のXVI-XVI線に沿う切断端面図である。FIG. 15 is a cut end view taken along line XVI-XVI in FIG. 14. 本発明の第4実施形態に係るサーマルプリントヘッドの切断端面図であって、第2実施形態についての図13に相当する図である。FIG. 14 is a cut end view of a thermal print head according to a fourth embodiment of the present invention, corresponding to FIG. 13 for the second embodiment.

以下、本発明の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

図1〜図11は、本発明の第1実施形態に係るサーマルプリントヘッド10Aを示す。図1〜図4示すように、このサーマルプリントヘッド10Aは、ヘッド基板100と、回路基板300と、このヘッド基板100と回路基板300の下位においてこれらを搭載する放熱板500とを有する。ヘッド基板100は、その短手方向一方寄りにこのヘッド基板100の長手方向に並ぶ複数の発熱部110と、各発熱部110に繋がる導体200と、少なくとも複数の発熱部110を覆う保護層150と、を基本的に有する。回路基板300には、駆動ICが搭載されている。   1 to 11 show a thermal print head 10A according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIGS. 1 to 4, the thermal print head 10 </ b> A includes a head substrate 100, a circuit board 300, and a heat sink 500 on which these are mounted below the head substrate 100 and the circuit board 300. The head substrate 100 includes a plurality of heat generating portions 110 arranged in the longitudinal direction of the head substrate 100 toward one side in the short direction, a conductor 200 connected to each heat generating portion 110, and a protective layer 150 covering at least the plurality of heat generating portions 110. , Basically. A driving IC is mounted on the circuit board 300.

ヘッド基板100は、少なくともその上面(主面)100aは絶縁性をもっており、たとえば、アルミナセラミックによって形成される。このヘッド基板100はまた、平面視長矩形状をしているとともに、所定の厚みを有する。このヘッド基板100は、集合基板の状態で各単位基板領域に発熱部110やリード用導体200等を一括形成した後に、たとえば、レーザスクライブを経て単位基板に分割して得られる。   The head substrate 100 has at least an upper surface (main surface) 100a having an insulating property, and is formed of alumina ceramic, for example. The head substrate 100 is also rectangular in plan view and has a predetermined thickness. The head substrate 100 is obtained by forming the heat generating portion 110, the lead conductor 200, and the like in each unit substrate region in a collective substrate state, and then dividing the unit substrate into unit substrates through laser scribing, for example.

ヘッド基板100は、いわゆる薄膜型と称されるタイプに分類されるサーマルプリントヘッド用に構成されたものであり、以下その構成を具体的に説明する。   The head substrate 100 is configured for a thermal print head classified into a so-called thin film type, and the configuration will be specifically described below.

ヘッド基板100の主面100aの短手方向一方寄り(図2の上方、図3、図4の左方)には、部分グレーズ130が形成されている。この部分グレーズ130は、図3に示すように、断面においてなだらかな山状に突出した形態をもっており、ヘッド基板100の短手方向一方側の縁100bに対して平行をなすように直線状に延びている。この部分グレーズ130は、ガラス系ペーストを印刷、焼成することによって形成される。この部分グレーズ130の基板短手方向(副走査方向)の幅は、たとえば500〜700μm、頂部の高さはたとえば18〜50μmである。   A partial glaze 130 is formed on one side of the main surface 100a of the head substrate 100 toward the short side (upward in FIG. 2, left in FIGS. 3 and 4). As shown in FIG. 3, the partial glaze 130 has a shape that protrudes gently in a cross section, and extends linearly so as to be parallel to the edge 100 b on one side in the short direction of the head substrate 100. ing. The partial glaze 130 is formed by printing and baking a glass-based paste. The width of the partial glaze 130 in the short side direction (sub-scanning direction) of the substrate is, for example, 500 to 700 μm, and the height of the top is, for example, 18 to 50 μm.

部分グレーズ130の上面には、この部分グレーズ130が延びる方向に直線状に並ぶ複数の発熱部110が形成されている。この発熱部110は、部分グレーズ130を含むヘッド基板100上に抵抗体220を層状に形成するとともに、部分グレーズ130の頂部において所定幅の領域に抵抗体220が露出するように導体200を層状に積層形成することにより形成される。抵抗体200は、たとえばTaSiO2やTaNを材料とし、スパッタリング、またはCVD法により、たとえば厚み300〜2000Åに形成される。導体200は、たとえばAlを材料とし、スパッタリング、またはCVD法により、たとえば厚み0.3〜0.8μmに形成される。なお、導体200としては、Al層の下層にTa層を薄膜形成してもよい。本実施形態の場合、導体200は、ヘッド基板100の短手方向一方側から櫛歯状に延びて先端が部分グレーズ130上に至るコモン用導体202と、ヘッド基板100の短手方向他方側から各別に延びて先端が部分グレーズ130上において上記各コモン用導体202の先端と対向する信号用導体201とを含む。コモン用導体202は、コモン電極パターン202aに共通に接続されている。各信号用導体201は、ヘッド基板100の短手方向他方側に終端部201aを有しており、この終端部201aには、ワイヤボンディング用のパッド212が形成されている。なお、上記コモン用導体202、信号用導体201および各発熱部110を形成するために抵抗体層220および各導体層210に対し行うパターニングは、ヘッド基板100上に積層させた抵抗体層220および導体層210にフォトリソ法によるエッチングを施すことにより行うことができる。 On the upper surface of the partial glaze 130, a plurality of heat generating portions 110 arranged in a straight line in the extending direction of the partial glaze 130 are formed. In the heat generating part 110, the resistor 220 is formed in layers on the head substrate 100 including the partial glaze 130, and the conductor 200 is layered so that the resistor 220 is exposed in a region having a predetermined width at the top of the partial glaze 130. It is formed by stacking. The resistor 200 is made of, for example, TaSiO 2 or TaN, and is formed to a thickness of, for example, 300 to 2000 mm by sputtering or a CVD method. The conductor 200 is made of, for example, Al, and is formed with a thickness of, for example, 0.3 to 0.8 μm by sputtering or CVD. As the conductor 200, a Ta layer may be formed as a thin film under the Al layer. In the case of the present embodiment, the conductor 200 includes a common conductor 202 extending in a comb shape from one side in the short direction of the head substrate 100 and having a tip on the partial glaze 130, and from the other side in the short direction of the head substrate 100. Each of the signal conductors 201 extends separately and has a distal end facing the distal end of each common conductor 202 on the partial glaze 130. The common conductor 202 is commonly connected to the common electrode pattern 202a. Each signal conductor 201 has a terminal portion 201a on the other side in the short side of the head substrate 100, and a wire bonding pad 212 is formed on the terminal portion 201a. The patterning performed on the resistor layer 220 and each conductor layer 210 to form the common conductor 202, the signal conductor 201, and each heat generating portion 110 is performed on the resistor layer 220 laminated on the head substrate 100 and This can be performed by etching the conductor layer 210 by photolithography.

各信号用導体201のヘッド基板100の短手方向他方側の部分201bは、ヘッド基板100に形成した下地層140の上に積層して形成されている。この下地層140は、たとえばガラス系ペーストを印刷、焼成することにより、たとえば2〜100μmの厚みに形成される。この下地層140上にワイヤボンディング用のパッド212が位置することになり、これにより、上記パッド212へのワイヤボンディングを適切に行うことができる。なお、本実施形態では、下地層140のヘッド基板100の短手方向一方側の端縁140aは、ヘッド基板100の長手方向に延びており、かつ、部分グレーズ130から離間して位置させられている。   A portion 201 b on the other side in the short side direction of the head substrate 100 of each signal conductor 201 is formed on the base layer 140 formed on the head substrate 100. The foundation layer 140 is formed to a thickness of 2 to 100 μm, for example, by printing and baking a glass paste, for example. The wire bonding pad 212 is positioned on the base layer 140, whereby the wire bonding to the pad 212 can be appropriately performed. In the present embodiment, the edge 140a on one side in the short direction of the head substrate 100 of the base layer 140 extends in the longitudinal direction of the head substrate 100 and is positioned away from the partial glaze 130. Yes.

ヘッド基板100における上記信号用導体201が存在しない所定位置に、桁部400が形成されている。この桁部400は、上記下地層140の形成時に同時に形成される。したがって、この桁部400は、下地層140と同じガラス系ペーストを印刷、焼成することにより、下地層140の厚みと同じ厚み(たとえば2〜100μm)に形成される。本実施形態において、この桁部400は、下地層140に対して離間した位置に、独立して設けられている。この桁部400の平面視形状は、本実施形態では矩形状であるが、これに限定されない。円形、三角形等、どのような平面形状をもっていてもよい。また、本実施形態において、この桁部400は、ヘッド基板100の長手方向の両端部に2箇所形成されているが、この桁部400の数は限定されない。なお、この桁部400のヘッド基板100の短手方向の位置は、短手方向一方側の端縁400aが、上記下地層140の端縁140aよりもヘッド基板100の短手方向一方側にずれていることが必要である。   A girder 400 is formed at a predetermined position on the head substrate 100 where the signal conductor 201 does not exist. The girder 400 is formed simultaneously with the formation of the base layer 140. Therefore, the girder 400 is formed to have the same thickness (for example, 2 to 100 μm) as the thickness of the foundation layer 140 by printing and baking the same glass paste as that of the foundation layer 140. In the present embodiment, the beam portion 400 is independently provided at a position separated from the base layer 140. The plan view shape of the girder 400 is rectangular in this embodiment, but is not limited to this. It may have any planar shape such as a circle or a triangle. Further, in this embodiment, the girder 400 is formed at two positions on both ends in the longitudinal direction of the head substrate 100, but the number of the girder 400 is not limited. The position of the girder 400 in the short direction of the head substrate 100 is such that the edge 400a on one side in the short direction is shifted to the one side in the short direction of the head substrate 100 from the edge 140a of the base layer 140. It is necessary to be.

保護層150は、後記する方法によって、たとえばSiNやSiCを材料とし、スパッタリング、またはCVD法により、たとえば2〜8μmの厚みに形成される。本実施形態では、この保護層150は、ヘッド基板100の短手方向一方側の縁100bから短手方向他方側への所定幅の領域をヘッド基板100の長手方向全長にわたって覆い、発熱部110、コモン用導体202、および、信号用導体201を保護している。この保護層150のヘッド基板100の短手方向他方側の端縁150bは、ヘッド基板100の長手方向に直線状に延びており、桁部400をヘッド基板100の長手方向に横断しているとともに、上記下地層140の上記端縁140aよりもヘッド基板100の短手方向一方側にずれて位置している。   The protective layer 150 is formed to a thickness of, for example, 2 to 8 μm by sputtering or CVD using, for example, SiN or SiC as a material by a method described later. In this embodiment, the protective layer 150 covers a region having a predetermined width from the edge 100b on one side in the short direction of the head substrate 100 to the other side in the short direction over the entire length in the longitudinal direction of the head substrate 100, The common conductor 202 and the signal conductor 201 are protected. An edge 150b of the protective layer 150 on the other side in the short side direction of the head substrate 100 extends linearly in the longitudinal direction of the head substrate 100 and crosses the beam portion 400 in the longitudinal direction of the head substrate 100. The base layer 140 is shifted from the edge 140a to the one side in the short direction of the head substrate 100.

したがって、図4に良く表れているように、桁部400におけるヘッド基板100の短手方向一方側の領域は保護層150に覆われ、この保護層150で覆われた領域に対して境界402を挟んで反対側(ヘッド基板100の短手方向他方側)の領域は、保護層150で覆われていない。また、信号用導体201のうち、上記下地層140の上に形成されている部分は、上記保護層150に覆われておらず、したがって、ワイヤボンディング用のパッド212は、露出させられている。   Therefore, as clearly shown in FIG. 4, the region on one side in the short side direction of the head substrate 100 in the beam portion 400 is covered with the protective layer 150, and the boundary 402 is defined with respect to the region covered with the protective layer 150. A region on the opposite side (the other side in the short side direction of the head substrate 100) is not covered with the protective layer 150. Further, a portion of the signal conductor 201 formed on the base layer 140 is not covered with the protective layer 150, and thus the wire bonding pad 212 is exposed.

上記のように構成されたヘッド基板100は、放熱板500の上に重ね固定されるとともに、この放熱板500にはまた、駆動IC310が搭載された回路基板300が上記ヘッド基板100と隣接するようにして固定される。駆動IC310と上記信号用導体201のワイヤボンディング用のパッド212との間、および駆動IC310と回路基板300上の適所間は、ボンディングワイヤ320によって結線される。また、コモン電極パターン202aの適所と回路基板300上の適所間もまた、ボンディングワイヤ(図示略)によって結線される。そして、駆動IC310およびこれに結線されるボンディングワイヤ320は、たとえば、エポキシ系の保護樹脂330で覆われる。   The head substrate 100 configured as described above is overlaid and fixed on the heat radiating plate 500, and the circuit substrate 300 on which the driving IC 310 is mounted is adjacent to the head substrate 100. Fixed. Bonding wires 320 connect between the driving IC 310 and the wire bonding pads 212 of the signal conductor 201 and between the driving IC 310 and appropriate positions on the circuit board 300. Further, the appropriate position of the common electrode pattern 202a and the appropriate position on the circuit board 300 are also connected by a bonding wire (not shown). The driving IC 310 and the bonding wire 320 connected to the driving IC 310 are covered with, for example, an epoxy-based protective resin 330.

駆動IC310に入力される制御信号により、選択された信号用導体201への通電がオンさると、当該信号用導体201と上記部分グレーズ130上で対向するコモン用導体202との間に露出する抵抗体(発熱部110)が選択的に昇温させられ、これにより、部分グレーズ130の頂部領域に接触する感熱記録媒体(図示略)が発色し、あるいは、インクリボンの昇華性インクが記録紙に転写されて、印字が行われる。   When energization of the selected signal conductor 201 is turned on by a control signal input to the drive IC 310, the resistance exposed between the signal conductor 201 and the common conductor 202 facing the partial glaze 130. The temperature of the body (heat generating part 110) is selectively raised, whereby a heat-sensitive recording medium (not shown) that contacts the top area of the partial glaze 130 develops color or the sublimation ink of the ink ribbon is applied to the recording paper. The image is transferred and printed.

次に、上記構成のヘッド基板100の製造工程を図5、図6、図8〜図11を参照して説明する。なお、図5、図9、図11において、ヘッド基板100は、図2のIII-III線に沿う切断端面に相当する端面で示し、図6、図8、図10において、ヘッド基板100は、図2のIV-IV線に沿う切断端面に相当する端面で示している。   Next, the manufacturing process of the head substrate 100 configured as described above will be described with reference to FIGS. 5, 6, and 8 to 11. 5, 9, and 11, the head substrate 100 is shown by an end surface corresponding to a cut end surface along the line III-III in FIG. 2. In FIGS. 6, 8, and 10, the head substrate 100 is It is shown by an end face corresponding to a cut end face along line IV-IV in FIG.

図5(a)に示すように、ヘッド基板100の短手方向一方側寄りの上面に、部分グレーズ130を印刷、焼成により形成する。この部分グレーズ130の形成には、上記したように、たとえば、ガラス系ペーストを用いる。   As shown in FIG. 5A, a partial glaze 130 is formed on the upper surface of the head substrate 100 closer to one side in the short direction by printing and baking. For forming the partial glaze 130, for example, a glass-based paste is used as described above.

次に、図5(b)および図6(b)に示すように、ヘッド基板100の短手方向他方側寄りの上面に、下地層140を、ヘッド基板100の長手方向両端部に桁部400を、印刷、焼成により形成する。これら下地層140と桁部400とは、同一のガラス系ペーストを用いて同時に形成する。下地層140と桁部400を形成するためのガラスペーストは、軟化点温度が上記部分グレーズ130の形成に用いるガラス系ペーストよりも低いものが用いられる。   Next, as shown in FIGS. 5B and 6B, the base layer 140 is formed on the upper surface of the head substrate 100 near the other side in the short side direction, and the girder portions 400 are disposed at both longitudinal ends of the head substrate 100. Are formed by printing and baking. The underlayer 140 and the girder 400 are simultaneously formed using the same glass paste. As the glass paste for forming the underlayer 140 and the girder part 400, a glass paste having a softening point temperature lower than that of the glass paste used for forming the partial glaze 130 is used.

次に、図5(c)および図6(c)に示すように、抵抗体層220を、TaSiO2やTaNを材料としたスパッタリング、またはCVD法により、たとえば厚み300〜2000Åの厚みに形成する。 Next, as shown in FIGS. 5C and 6C, the resistor layer 220 is formed to a thickness of, for example, 300 to 2000 mm by sputtering or CVD using TaSiO 2 or TaN as a material. .

次に、図5(d)および図6(d)に示すように、導体層210を、Alを用いたスパッタリング、またはCVD法により、たとえば0.3〜0.8μmの厚みに形成する。なお、Al層の形成に先立って、Taによる厚み0.1μm以下の薄膜層を形成しておくこともできる。   Next, as shown in FIGS. 5D and 6D, the conductor layer 210 is formed to a thickness of, for example, 0.3 to 0.8 μm by sputtering using Al or CVD. Prior to the formation of the Al layer, a thin film layer of Ta having a thickness of 0.1 μm or less can be formed.

次いで、図5(e)に示すように、抵抗体層220および導体層210に対してフォトリソ法を用いた所定のエッチング処理を行うことにより、パターニングされたコモン用導体202および信号用導体201を形成する。こうして形成された信号用導体201は、ヘッド基板100の長手方向に隣接するものどうしが分離され、また、各信号用導体201の先端とコモン用導体202との間に、抵抗体層130が露出させられる。こうして露出させられた抵抗体層220が、発熱部110を形成する。なお、本実施形態では、図6(e)に示すように、桁部400の上面に抵抗体層220およびその上層の導体層210を残置させているが、これに限らず、抵抗体層220および導体層210をエッチングにより除去してもよい。   Next, as shown in FIG. 5E, by performing a predetermined etching process using a photolithography method on the resistor layer 220 and the conductor layer 210, the patterned common conductor 202 and signal conductor 201 are changed. Form. The signal conductors 201 thus formed are separated from one another adjacent to the longitudinal direction of the head substrate 100, and the resistor layer 130 is exposed between the tip of each signal conductor 201 and the common conductor 202. Be made. The resistor layer 220 thus exposed forms the heat generating portion 110. In the present embodiment, as shown in FIG. 6E, the resistor layer 220 and the upper conductor layer 210 are left on the upper surface of the beam portion 400. However, the present invention is not limited to this, and the resistor layer 220 is not limited thereto. The conductor layer 210 may be removed by etching.

以上の工程は、複数行、複数列の単位基板領域が形成された集合基板(図示略)に対して行われ、この集合基板にたとえばレーザスクライブ法によって切断溝を形成し、この切断溝に沿って集合基板を分割することによって各単位ヘッド基板100が得られる。   The above steps are performed on a collective substrate (not shown) in which a plurality of rows and a plurality of columns of unit substrate regions are formed. A cut groove is formed on the collective substrate by, for example, a laser scribing method. Thus, each unit head substrate 100 is obtained by dividing the aggregate substrate.

レーザスクライブ法は、集合基板の裏面側からレーザスポットを切断予定ラインに沿って移動させながら、高出力レーザを断続的に照射することにより行われる。この方法によってスクライブされ、かつ分割された単位ヘッド基板100の裏面周部には、図7に示すように、高熱で溶融したセラミック材料が盛り上がって固化したような、数μm(たとえば2μm)以下の突出量の鋭利な突起(バリ)120が発生することがある。   The laser scribing method is performed by intermittently irradiating a high-power laser while moving the laser spot along the line to be cut from the back side of the collective substrate. As shown in FIG. 7, on the back surface peripheral portion of the unit head substrate 100 scribed and divided by this method, a ceramic material melted by high heat is raised and solidified, and is several μm (for example, 2 μm) or less. A sharp protrusion 120 (burr) may be generated.

上記したように分割されたヘッド基板100に対する保護層150の形成は、次のようにして行われる。   The formation of the protective layer 150 on the head substrate 100 divided as described above is performed as follows.

まず、図8および図9に示すように、複数枚のヘッド基板100を、それらの短手方向一方側の上面所定幅領域、すなわち、部分グレーズ130および発熱部110が形成された短手方向所定幅領域を露出させるようにずらせながら積層保持する。このとき、図8に表れているように、上位のヘッド基板100の下面の上記短手方向一方側の縁100bが、下位のヘッド基板100の桁部400上に位置するようにする。すなわち、上位のヘッド基板100の上記縁100bが、下位のヘッド基板100の桁部400の中間部に載るようにする。この状態において、桁部400の厚みは上記したようにたとえば2〜100μmであるので、上位のヘッド基板100に裏面に突起(バリ)120が生じていたとしても、この突起(バリ)120の突出量が上記桁部400の厚み以下である限りにおいて、当該突起(バリ)120が下位のヘッド基板100の上面の信号用導体201に接触することはなく、信号用導体201を損傷、断線させるといった不具合は起こり得ない。   First, as shown in FIGS. 8 and 9, the plurality of head substrates 100 are preliminarily arranged in the short side direction in which the upper surface predetermined width region on one side in the short side direction, that is, the partial glaze 130 and the heat generating portion 110 are formed. The stacked layers are held while being shifted so that the width region is exposed. At this time, as shown in FIG. 8, the edge 100 b on one side in the short direction of the lower surface of the upper head substrate 100 is positioned on the beam portion 400 of the lower head substrate 100. That is, the edge 100 b of the upper head substrate 100 is placed on the middle portion of the beam portion 400 of the lower head substrate 100. In this state, the thickness of the beam portion 400 is, for example, 2 to 100 μm as described above. Therefore, even if the upper head substrate 100 has a protrusion (burr) 120 on the back surface, the protrusion (burr) 120 protrudes. As long as the amount is equal to or less than the thickness of the beam portion 400, the protrusion (burr) 120 does not contact the signal conductor 201 on the upper surface of the lower head substrate 100, and the signal conductor 201 is damaged or disconnected. No fault can occur.

より詳しくは、上位のヘッド基板100の裏面の縁100bの、ヘッド基板100の長手方向中間部のみに上記突起(バリ)120が生じ、下位のヘッド基板100の桁部400に載る部位に上記突起(バリ)120が生じていない場合であっても、桁部400の厚みが上記突起(バリ)120の突出量を上回る限りにおいて、上位のヘッド基板100の突起(バリ)120が下位のヘッド基板100の信号用導体201に接触し、かつ、これを損傷、断線させるといったことはない。   More specifically, the protrusion (burr) 120 is generated only in the longitudinal direction intermediate portion of the head substrate 100 at the edge 100 b of the back surface of the upper head substrate 100, and the protrusion is formed on a portion of the lower head substrate 100 on the beam portion 400. Even when the (burr) 120 is not generated, the protrusion (burr) 120 of the upper head substrate 100 is the lower head substrate as long as the thickness of the beam portion 400 exceeds the protrusion amount of the protrusion (burr) 120. There is no contact with 100 signal conductors 201 and no damage or disconnection.

そして、上位のヘッド基板100の縁100bの裏面側において、上記桁部400に載る部位に上記突起(バリ)120が生じている場合には、その突起(バリ)120の突出量だけさらに上位のヘッド基板100を下位のヘッド基板100から遠ざけることができるため、なおさら、上位のヘッド基板100の突起(バリ)120が下位のヘッド基板100の信号用導体201に接触することはなく、信号用導体201を損傷、断線させるといった可能性は低くなる。   If the protrusions (burrs) 120 are formed on the back surface side of the edge 100 b of the upper head substrate 100 and are placed on the beam part 400, the protrusions of the protrusions (burrs) 120 are further higher. Since the head substrate 100 can be moved away from the lower head substrate 100, the protrusion (burr) 120 of the upper head substrate 100 does not contact the signal conductor 201 of the lower head substrate 100. The possibility of damaging or disconnecting 201 is reduced.

次いで、図10および図11に示すように、スパッタリング、あるいはCVD法により、複数のヘッド基板100における発熱部110を含むヘッド基板100の短手方向所定幅領域に、保護層150が一括形成され、図1〜図4に示し、かつ上記した構成のヘッド基板100が得られる。   Next, as shown in FIGS. 10 and 11, a protective layer 150 is collectively formed in a predetermined width region of the head substrate 100 including the heat generating portions 110 in the plurality of head substrates 100 by sputtering or CVD, The head substrate 100 shown in FIGS. 1 to 4 and configured as described above is obtained.

このような保護層150の形成方法では、上位のヘッド基板100が下位のヘッド基板100における保護層150を形成する必要のない領域を都合よくマスクすることができる。これにより、別途のマスクを必要とすることなく、また、保護層150の形成材料を節約しつつ、保護層150の形成を効率よく行うことが可能となり、しかも、上記したように、レーザスクライブ法を利用した先進的かつ効率的な基板分割方法を採用しながらも、このような基板分割方法によってヘッド基板100の裏面周囲に生じうる突起(バリ)120によってヘッド基板100の表面に形成された微細な幅の信号用導体201が損傷、断線するといった不具合の発生を回避することができる。   In such a method for forming the protective layer 150, the upper head substrate 100 can conveniently mask a region in the lower head substrate 100 where the protective layer 150 does not need to be formed. This makes it possible to efficiently form the protective layer 150 without the need for a separate mask and while saving the material for forming the protective layer 150, and as described above, the laser scribing method. While adopting an advanced and efficient substrate dividing method using a substrate, a fine pattern formed on the surface of the head substrate 100 by protrusions (burrs) 120 that can be generated around the back surface of the head substrate 100 by such a substrate dividing method. It is possible to avoid the occurrence of a problem that the signal conductor 201 having a wide width is damaged or disconnected.

本実施形態においては、桁部400は、下地層140と同時形成されているので、桁部を設けるための別途の工程は必要ない。   In this embodiment, since the girder part 400 is formed simultaneously with the base layer 140, a separate process for providing the girder part is not necessary.

図12、図13は、本発明の第2実施形態に係るサーマルプリントヘッド10Bを示す。これらの図において、図1〜図4に示し、かつ上記した第1実施形態に係るサーマルプリントヘッド10Aと同一または類似の部材または部分には、同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。   12 and 13 show a thermal print head 10B according to a second embodiment of the present invention. In these drawings, the same or similar members or parts as those of the thermal print head 10A according to the first embodiment shown in FIGS. 1 to 4 are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted. To do.

本実施形態に係るサーマルプリントヘッド10Bのヘッド基板100に設ける桁部400は、下地層140から一体的に延出した形態をもっている。すなわち、信号用導体201の下位にヘッド基板100の長手方向に延びて形成される下地層140の両端部から信号用導体201のない領域に半島状に一体延出し、先端平面視が矩形状をした桁部400が設けられている。この桁部400の端縁(ヘッド基板100の短手方向一方側の端)400aは、やはり、下地層140の端縁140aに対してヘッド基板100の短手方向一方側にずれて位置させられている。そして、本実施形態においても、桁部400におけるヘッド基板100の短手方向一方側の領域は保護層150に覆われ、この保護層150で覆われた領域に対して境界402を挟んで反対側(ヘッド基板100の短手方向他方側)の領域は、保護層150で覆われていない。また、信号用電極層201のうち、上記下地層140の上に形成されている部分は、上記保護層150に覆われておらず、ワイヤボンディング用のパッド212は、露出させられている。本実施形態において、桁部400は、下地層140と一体に連続しているから、当然に、下地層140と同時に形成される。また、桁部400の先端形状は、矩形にかぎらず、円弧状等、どのような形状をしていてもよい。   The girder portion 400 provided on the head substrate 100 of the thermal print head 10B according to the present embodiment has a form extending integrally from the base layer 140. That is, a peninsula is integrally extended from both end portions of the base layer 140 formed extending in the longitudinal direction of the head substrate 100 below the signal conductor 201 to a region where the signal conductor 201 is not formed, and the front end plan view is rectangular. The girders 400 are provided. The edge 400 (the end on one side in the short direction of the head substrate 100) 400a of the girder 400 is positioned so as to be shifted to the one side in the short direction of the head substrate 100 with respect to the edge 140a of the base layer 140. ing. Also in this embodiment, the region on one side in the short direction of the head substrate 100 in the beam portion 400 is covered with the protective layer 150, and the opposite side of the region covered with the protective layer 150 with the boundary 402 interposed therebetween. The region on the other side in the short direction of the head substrate 100 is not covered with the protective layer 150. In addition, a portion of the signal electrode layer 201 formed on the base layer 140 is not covered with the protective layer 150, and the wire bonding pad 212 is exposed. In the present embodiment, the girder 400 is integrally formed with the base layer 140, so that it is naturally formed simultaneously with the base layer 140. Further, the shape of the tip of the girder 400 is not limited to a rectangle, and may be any shape such as an arc.

ヘッド基板100に対する保護層150の形成は、図5〜図11を参照して上述したのと同様にして行われる。図12、図13において、境界402の位置は、保護層150の形成時に当該ヘッド基板100の上位に積層されるヘッド基板100の端縁100bの位置を示す。   The formation of the protective layer 150 on the head substrate 100 is performed in the same manner as described above with reference to FIGS. 12 and 13, the position of the boundary 402 indicates the position of the edge 100 b of the head substrate 100 that is stacked above the head substrate 100 when the protective layer 150 is formed.

この実施形態に係るヘッド基板100においても、第1実施形態について上述したのと同様の利点を享受することができることは、明らかであろう。   It will be apparent that the head substrate 100 according to this embodiment can enjoy the same advantages as those described above for the first embodiment.

図14、図15、図16は、本発明の第3実施形態に係るサーマルプリントヘッド10Cを示す。これらの図において、図1〜図4に示し、かつ上記した第1実施形態に係るサーマルプリントヘッド10Aと同一または類似の部材または部分には、同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。   14, 15, and 16 show a thermal print head 10C according to a third embodiment of the present invention. In these drawings, the same or similar members or parts as those of the thermal print head 10A according to the first embodiment shown in FIGS. 1 to 4 are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted. To do.

本実施形態に係るサーマルプリントヘッド10Cのヘッド基板100に設ける桁部400は、下地層140に重ねてガラス系ペーストを印刷、焼成することによって、たとえば2〜100μmの厚みで設けられている。この桁部400の平面視形状は、矩形である。この桁部400の形成には、下地層140の形成に用いるガラス系ペーストよりも軟化点が低いガラス系ペーストが用いられる。下地層140は、信号用導体201の下層にたとえば2〜100μmの厚みに形成されるが、本実施形態では、そのヘッド基板100の短手方向一方側の端縁140aは、部分グレーズ130に対して比較的近接した位置に及んでおり、長手方向の端部は、ヘッド基板100の両端部まで及んでいる。桁部400はまた、信号用導体201、コモン用導体202、ないしコモン用配線パターン201aを形成する以前に形成され、本実施形態では、図14および図16に示されるように、コモン電極パターン202aが桁部400の上をヘッド基板100の短手方向に横断して延びている。本実施形態において、保護層150は、ヘッド基板100の短手方向一方側の所定幅領域を覆い、そのヘッド基板100の短手方向他方側の端縁150bは、下地層140の端縁140aよりもヘッド基板100の短手方向他方側に変位して位置させられ、かつ、桁部400の中間部をヘッド基板100の長手方向に横断している。したがって、本実施形態においても、桁部400におけるヘッド基板100の短手方向一方側の領域は保護層150に覆われ、この保護層150で覆われた領域に対して境界402を挟んで反対側(ヘッド基板100の短手方向他方側)の領域は、保護層150で覆われていない。また、信号用導体201のうち、ヘッド基板100の短手方向他方側の部分は、上記保護層150に覆われておらず、ワイヤボンディング用のパッド212は、露出させられている。ワイヤボンディング用のパッド212と回路基板300上の配線パターンとの間はボンディングワイヤ320で結線され、このボンディングワイヤ320は、駆動IC310を覆う保護樹脂330で覆われている。本実施形態においても、桁部の平面視形状は、矩形にかぎらず、円弧状等、どのような形状をしていてもよい。さらに、本実施形態では、桁部400の上面にコモン電極パターン202aが横断しているが、コモン電極パターン202aを、桁部400を避けるようにして形成して、桁部400の上面にコモン電極パターン202aを形成しないようにすることもできる。   The girder part 400 provided on the head substrate 100 of the thermal print head 10C according to the present embodiment is provided with a thickness of, for example, 2 to 100 μm by printing and baking a glass-based paste on the base layer 140. The plan view shape of the beam portion 400 is a rectangle. For forming the girder 400, a glass paste having a softening point lower than that of the glass paste used for forming the underlayer 140 is used. The underlayer 140 is formed to have a thickness of, for example, 2 to 100 μm below the signal conductor 201. In the present embodiment, the edge 140a on one side in the short side direction of the head substrate 100 is formed with respect to the partial glaze 130. The end portions in the longitudinal direction extend to both end portions of the head substrate 100. The girder 400 is also formed before the signal conductor 201, the common conductor 202, or the common wiring pattern 201a is formed. In this embodiment, as shown in FIGS. 14 and 16, the common electrode pattern 202a is formed. Extends across the beam 400 in the transverse direction of the head substrate 100. In the present embodiment, the protective layer 150 covers a predetermined width region on one side in the short direction of the head substrate 100, and the edge 150 b on the other side in the short direction of the head substrate 100 is more than the edge 140 a of the base layer 140. Also, the head substrate 100 is displaced to the other side in the short side direction of the head substrate 100 and crosses the intermediate portion of the beam portion 400 in the longitudinal direction of the head substrate 100. Therefore, also in the present embodiment, the region on one side in the short direction of the head substrate 100 in the beam portion 400 is covered with the protective layer 150, and the opposite side of the region covered with the protective layer 150 across the boundary 402. The region on the other side in the short direction of the head substrate 100 is not covered with the protective layer 150. Further, of the signal conductor 201, the other side of the head substrate 100 in the short side direction is not covered with the protective layer 150, and the wire bonding pad 212 is exposed. A wire bonding pad 212 and a wiring pattern on the circuit board 300 are connected by a bonding wire 320, and the bonding wire 320 is covered with a protective resin 330 that covers the drive IC 310. Also in this embodiment, the plan view shape of the girder portion is not limited to a rectangle, and may be any shape such as an arc shape. Furthermore, in the present embodiment, the common electrode pattern 202a crosses the upper surface of the beam part 400. However, the common electrode pattern 202a is formed so as to avoid the beam part 400, and the common electrode pattern 202a is formed on the upper surface of the beam part 400. The pattern 202a may not be formed.

ヘッド基板100に対する保護層150の形成は、図5〜図11を参照して上述したのと同様にして行われる。図14、図16において、境界402の位置は、保護層150の形成時に当該ヘッド基板100の上位に積層されるヘッド基板100の端縁100bの位置を示す。   The formation of the protective layer 150 on the head substrate 100 is performed in the same manner as described above with reference to FIGS. 14 and 16, the position of the boundary 402 indicates the position of the edge 100 b of the head substrate 100 that is stacked above the head substrate 100 when the protective layer 150 is formed.

この実施形態に係るヘッド基板100においても、第1実施形態について上述したのと同様の利点を享受することができることは、明らかであろう。   It will be apparent that the head substrate 100 according to this embodiment can enjoy the same advantages as those described above for the first embodiment.

図17は、本発明の第4実施形態に係るサーマルプリントヘッド10Dを示す。これらの図においても、図1〜図4に示し、かつ上記した第1実施形態に係るサーマルプリントヘッド10Aと同一または類似の部材または部分には、同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。   FIG. 17 shows a thermal print head 10D according to the fourth embodiment of the present invention. Also in these drawings, the same or similar members or parts as those of the thermal print head 10A according to the first embodiment shown in FIGS. 1 to 4 are given the same reference numerals for detailed description. Omitted.

本実施形態に係るサーマルプリントヘッド10Dのヘッド基板100に設ける桁部400は、ヘッド基板100における信号用導体201が形成されていない、たとえば、ヘッド基板100の長手方向両端部の領域に、たとえば、30〜100μmの厚みのテープ410等のシート状の貼着物を設けることによって形成されている。このテープ410は、保護層150を設ける以前に設けられる。そして、このテープ410を貼着するべき位置は、ヘッド基板100上に下地層140が設けられる場合には、テープ410のヘッド基板100の短手方向一方側の端縁410aが下地層140の端縁140aよりもヘッド基板100の短手方向一方側にずれるように設定される。そして、本実施形態においても、桁部400におけるヘッド基板100の短手方向一方側の領域は保護層150に覆われ、この保護層150で覆われた領域に対して境界402を挟んで反対側(ヘッド基板100の短手方向他方側)の領域は、保護層150で覆われていない。また、信号用導体201のうち、上記下地層140の上に形成されている部分は、上記保護層150に覆われておらず、ワイヤボンディング用のパッド212は、露出させられている。また、桁部400の平面視形状は、矩形にかぎらず、円形等、どのような形状をしていてもよい。   The girder portion 400 provided on the head substrate 100 of the thermal print head 10D according to the present embodiment is not formed with the signal conductor 201 on the head substrate 100, for example, in the regions at both ends in the longitudinal direction of the head substrate 100. It is formed by providing a sheet-like sticking object such as a tape 410 having a thickness of 30 to 100 μm. This tape 410 is provided before the protective layer 150 is provided. When the base layer 140 is provided on the head substrate 100, the edge 410 a on one side in the short direction of the head substrate 100 of the tape 410 is the end of the base layer 140. It is set so as to be shifted to one side in the short direction of the head substrate 100 from the edge 140a. Also in this embodiment, the region on one side in the short direction of the head substrate 100 in the beam portion 400 is covered with the protective layer 150, and the opposite side of the region covered with the protective layer 150 with the boundary 402 interposed therebetween. The region on the other side in the short direction of the head substrate 100 is not covered with the protective layer 150. The portion of the signal conductor 201 formed on the base layer 140 is not covered with the protective layer 150, and the wire bonding pad 212 is exposed. Further, the plan view shape of the beam portion 400 is not limited to a rectangle, and may be any shape such as a circle.

ヘッド基板100に対する保護層150の形成は、図5〜図11を参照して上述したのと同様にして行われる。図14において、境界402の位置は、保護層150の形成時に当該ヘッド基板100の上位に積層されるヘッド基板100の端縁100bの位置を示す。テープ410は、保護層150の形成工程後、そのまま残置させておいてもよいし、除去してもよい。   The formation of the protective layer 150 on the head substrate 100 is performed in the same manner as described above with reference to FIGS. In FIG. 14, the position of the boundary 402 indicates the position of the edge 100 b of the head substrate 100 that is stacked above the head substrate 100 when the protective layer 150 is formed. The tape 410 may be left as it is after the step of forming the protective layer 150 or may be removed.

なお、本実施形態のように、桁部400をテープ410等の貼着物で形成する場合、ヘッド基板100上に下地層140が形成されているかどうかは、問われない。   Note that, when the girder 400 is formed of an adhesive such as the tape 410 as in the present embodiment, it does not matter whether the base layer 140 is formed on the head substrate 100.

この実施形態に係るヘッド基板100においても、第1実施形態について上述したのと同様の利点を享受することができることは、明らかであろう。   It will be apparent that the head substrate 100 according to this embodiment can enjoy the same advantages as those described above for the first embodiment.

もちろん、この発明の範囲は上述した実施形態に限定されず、各請求項に記載した事項の範囲内でのあらゆる変更は、すべて本発明の範囲に含まれる。   Of course, the scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and all modifications within the scope of the matters described in the claims are all included in the scope of the present invention.

たとえば、実施形態では、発熱部110の形態が、部分グレーズ130上において、部分グレーズ130の一方側(ヘッド基板100の短手方向一方側)のコモン電極パターン202aから櫛歯状に延びるコモン用導体202と、部分グレーズ130の他方側(ヘッド基板100の短手方向他方側)から延びる信号用導体201とが対向する領域に露出する抵抗体層220によって形成することとしたが、たとえば、特開2012−111051号公報に記載されているような、いわゆる折り返し式の導体を形成し、部分グレーズ上において、コモン側の導体と信号側の導体を対向させて発熱部110を形成するタイプの薄膜型サーマルプリントヘッドにおいて、ヘッド基板に保護層を形成する場合にも同様に本発明を適用することができる。   For example, in the embodiment, the shape of the heat generating portion 110 is a common conductor extending in a comb shape from the common electrode pattern 202a on one side of the partial glaze 130 (one side in the short direction of the head substrate 100) on the partial glaze 130. 202 and the resistor layer 220 exposed in a region where the signal conductor 201 extending from the other side of the partial glaze 130 (the other side in the short side of the head substrate 100) is opposed. A thin film type of a type in which a so-called folded-type conductor is formed as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-1111051, and the heat generating portion 110 is formed by facing the common-side conductor and the signal-side conductor on the partial glaze. In the case of forming a protective layer on the head substrate in the thermal print head, the present invention can be similarly applied.

また、実施形態では、部分グレーズ130上に発熱部110を設けているが、たとえば、ヘッド基板100上にいわゆる全面グレーズを形成し、この全面グレーズ上の所定部位に発熱部110を形成するタイプの薄膜型サーマルプリントヘッドにおいて、保護層150を形成する場合にも同様に本発明を適用することができる。この場合、全面グレーズを形成するためのガラス系ペーストよりれ軟化温度が低いガラス系ペーストを所定厚みに印刷、焼成することにより桁部400を形成したり、テープ等の貼着物を設けることにより桁部400を形成したりすればよい。   In the embodiment, the heat generating portion 110 is provided on the partial glaze 130. For example, a so-called full glaze is formed on the head substrate 100, and the heat generating portion 110 is formed at a predetermined portion on the full glaze. In the case of forming the protective layer 150 in the thin film thermal print head, the present invention can be similarly applied. In this case, a girder portion 400 is formed by printing and baking a glass paste having a lower softening temperature than a glass paste for forming a full glaze to a predetermined thickness, or by providing an adhesive such as a tape. The part 400 may be formed.

さらに、実施形態では、ヘッド基板100には駆動ICを搭載せず、放熱板500上にヘッド基板100と隣接させて配置した回路基板300上に駆動IC310を搭載しているが、ヘッド基板100上に駆動ICを搭載するタイプのサーマルプリントヘッドにおいて、ヘッド基板100に保護層150を形成する場合にも同様に本発明を適用することができる。   Furthermore, in the embodiment, the drive IC is not mounted on the head substrate 100, and the drive IC 310 is mounted on the circuit board 300 disposed adjacent to the head substrate 100 on the heat sink 500. The present invention can be similarly applied to the case where the protective layer 150 is formed on the head substrate 100 in the type of thermal print head in which the driving IC is mounted.

10A サーマルプリントヘッド
10B サーマルプリントヘッド
10C サーマルプリントヘッド
10D サーマルプリントヘッド
100 ヘッド基板
100a 主面(ヘッド基板の)
100b 縁(短手方向一方側)
110 発熱部
130 部分グレーズ
140 下地層
140a 端縁(下地層の)
150 保護層
150b 端縁
201 信号用導体
201a 終端部
201b 下地層上に形成される部分(信号用導体)
212 パッド(ワイヤボンディング用)
202 コモン用導体
202a コモン電極パターン
210 導体層
220 抵抗体層
300 回路基板
310 駆動IC
320 ボンディングワイヤ
330 保護樹脂
400 桁部
400a 端縁
410 テープ
500 放熱板
10A Thermal print head 10B Thermal print head 10C Thermal print head 10D Thermal print head 100 Head substrate 100a Main surface (head substrate)
100b Edge (one side in the short direction)
110 Heating part 130 Partial glaze 140 Underlayer 140a Edge (underlayer)
150 Protective layer 150b Edge 201 Signal conductor 201a Termination portion 201b Part formed on base layer (signal conductor)
212 Pad (for wire bonding)
202 Common conductor 202a Common electrode pattern 210 Conductor layer 220 Resistor layer 300 Circuit board 310 Drive IC
320 Bonding wire 330 Protective resin 400 Girder part 400a Edge 410 Tape 500 Heat sink

Claims (33)

基板と、この基板上の短手方向一方寄りに当該基板の長手方向に並ぶ複数の発熱部と、各発熱部に繋がる導体と、少なくとも上記複数の発熱部を覆う保護層と、を備えるサーマルプリントヘッドにおいて、
上記基板には、所定厚みの桁部が形成されており、当該桁部における上記基板の短手方向一方側の所定領域は上記保護層に覆われており、当該保護層で覆われた領域に対して境界を挟んで当該桁部における上記基板の短手方向他方側に位置する領域は上記保護層に覆われていないことを特徴とする、サーマルプリントヘッド。
Thermal print comprising: a substrate; a plurality of heat generating portions arranged in the longitudinal direction of the substrate on one side of the substrate in the short direction; a conductor connected to each heat generating portion; and a protective layer covering at least the plurality of heat generating portions. In the head
The substrate has a girder having a predetermined thickness, and a predetermined region on one side of the substrate in the short direction of the substrate is covered with the protective layer, and the region covered with the protective layer On the other hand, a region located on the other side in the short direction of the substrate in the girder across the boundary is not covered with the protective layer.
上記導体は、上記各発熱部から上記基板の短手方向他方側に延びる信号用導体を含む、請求項1に記載のサーマルプリントヘッド。   2. The thermal print head according to claim 1, wherein the conductor includes a signal conductor extending from each of the heat generating portions to the other side in the short direction of the substrate. 上記桁部は、上記各発熱部よりも上記基板の短手方向他方側において、上記信号用導体を避けた領域に形成されている、請求項2に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 2, wherein the girder is formed in a region avoiding the signal conductor on the other side in the short direction of the substrate than the heat generating portions. 上記桁部は、上記基板の長手方向両端部に形成されたものを含む、請求項3に記載のサーマルプリントヘッド。   4. The thermal print head according to claim 3, wherein the girder includes those formed at both ends in the longitudinal direction of the substrate. 上記桁部は、所定のペースト材料を印刷・焼成することにより形成されている、請求項1ないし4のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。   5. The thermal print head according to claim 1, wherein the girder is formed by printing and baking a predetermined paste material. 上記ペースト材料は、ガラス系ペーストである、請求項5に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 5, wherein the paste material is a glass-based paste. 上記信号用導体は、上記基板上に形成した下地層上に形成されており、上記桁部は、上記下地層と同一材料で形成されている、請求項5または6に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 5 or 6, wherein the signal conductor is formed on an underlayer formed on the substrate, and the beam portion is formed of the same material as the underlayer. 上記桁部は、上記下地層と同時に同一厚みで形成されたものである、請求項7に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 7, wherein the girder is formed at the same thickness as the underlayer. 上記下地層は、上記信号用導体の上記基板の短手方向他方側の下層に形成されており、当該下地層の上記基板の短手方向一方側の端縁は、上記桁部における上記境界よりも上記基板の短手方向他方側に位置している、請求項7または8に記載のサーマルプリントヘッド。   The underlayer is formed in a lower layer on the other side in the short direction of the substrate of the signal conductor, and an edge of the under layer on one side in the short side of the substrate is from the boundary in the girder. The thermal print head according to claim 7, wherein the thermal print head is located on the other side in the short direction of the substrate. 上記桁部は、上記下地層と独立している、請求項9に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 9, wherein the girder is independent of the base layer. 上記桁部は、上記下地層と連続している、請求項9に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 9, wherein the girder is continuous with the base layer. 上記桁部は、平面視矩形である、請求項10に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 10, wherein the girder has a rectangular shape in plan view. 上記桁部は、平面視円形である、請求項10に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 10, wherein the girder is circular in plan view. 上記信号用導体は、上記基板上に形成した下地層上に形成されており、上記桁部は、上記下地層に重ねて形成されている、請求項5または6に記載のサーマルプリントヘッド。   7. The thermal print head according to claim 5, wherein the signal conductor is formed on an underlayer formed on the substrate, and the beam portion is formed so as to overlap the underlayer. 上記桁部は、上記基板に対する貼着物によって形成されている、請求項1ないし4のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to any one of claims 1 to 4, wherein the girder portion is formed by an attachment to the substrate. 上記貼着物は、テープである、請求項14に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 14, wherein the attachment is a tape. 基板と、この基板上の短手方向一方寄りに当該基板の長手方向に並ぶ複数の発熱部と、各発熱部に繋がる導体と、少なくとも上記複数の発熱部を覆う保護層と、を備えるサーマルプリントヘッドの製造方法であって、
上記複数の発熱部および上記導体の形成を終えた複数の基板中間体を上記複数の発熱部が臨むように上記基板の短手方向にずらせて積層保持し、スパッタリングまたはCVD法を施すことにより上記保護層を形成するにあたり、
上記基板中間体には、所定厚みの桁部を形成しておき、上記基板中間体の短手方向一方側の縁が、当該基板中間体が積層される下位の上記基板中間体における上記桁部の上記基板の短手方向中間部に位置するように複数の上記基板中間体を積層保持することを特徴とする、サーマルプリントヘッドの製造方法。
Thermal print comprising: a substrate; a plurality of heat generating portions arranged in the longitudinal direction of the substrate on one side of the substrate in the short direction; a conductor connected to each heat generating portion; and a protective layer covering at least the plurality of heat generating portions. A method of manufacturing a head,
The plurality of heat generating portions and the plurality of substrate intermediates after the formation of the conductors are stacked and held in the short direction of the substrate so that the plurality of heat generating portions face each other, and then subjected to sputtering or CVD method. In forming the protective layer,
The substrate intermediate is formed with a girder having a predetermined thickness, and the edge on one side in the short direction of the substrate intermediate is the girder in the lower substrate intermediate on which the substrate intermediate is stacked. A method of manufacturing a thermal print head, comprising: laminating and holding a plurality of the substrate intermediates so as to be positioned in a short-side intermediate portion of the substrate.
上記導体は、上記各発熱部から上記基板の短手方向他方側に延びる信号用導体を含む、請求項17に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   The method of manufacturing a thermal print head according to claim 17, wherein the conductor includes a signal conductor extending from each of the heat generating portions to the other side in the short direction of the substrate. 上記桁部は、上記各発熱部よりも上記基板の短手方向他方側において、上記信号用導体を避けた領域に形成する、請求項18に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   19. The method of manufacturing a thermal print head according to claim 18, wherein the girder is formed in a region avoiding the signal conductor on the other side in the short direction of the substrate than the heat generating portions. 上記桁部は、上記基板の長手方向両端部に形成されたものを含む、請求項19に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   The method for manufacturing a thermal print head according to claim 19, wherein the girder portion includes those formed at both ends in the longitudinal direction of the substrate. 上記桁部は、所定のペースト材料を印刷・焼成することにより形成される、請求項17ないし20のいずれかに記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   21. The method of manufacturing a thermal print head according to claim 17, wherein the girder is formed by printing and baking a predetermined paste material. 上記ペースト材料は、ガラス系ペースト材料である、請求項21に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   The method for manufacturing a thermal print head according to claim 21, wherein the paste material is a glass-based paste material. 上記信号用導体は、上記基板上に形成した下地層上に形成され、上記桁部は、上記下地層と同一材料で形成される、請求項21または22に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   23. The method of manufacturing a thermal print head according to claim 21, wherein the signal conductor is formed on a base layer formed on the substrate, and the beam portion is formed of the same material as the base layer. 上記桁部は、上記下地層と同時に同一厚みで形成される、請求項23に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   The method for manufacturing a thermal print head according to claim 23, wherein the girder is formed with the same thickness as the underlayer. 上記下地層は、上記信号用導体の上記基板の短手方向他方側の下層に形成されており、当該下地層の上記基板の短手方向一方側の縁は、上記桁部における上記境界よりも上記基板の短手方向他方側に位置している、請求項23または24に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   The underlayer is formed in a lower layer on the other side in the short direction of the substrate of the signal conductor, and an edge of the under layer on the one side in the short direction of the substrate is more than the boundary in the beam portion. The manufacturing method of the thermal print head of Claim 23 or 24 located in the transversal direction other side of the said board | substrate. 上記桁部は、上記下地層と独立している、請求項25に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   26. The method of manufacturing a thermal print head according to claim 25, wherein the girder is independent of the base layer. 上記桁部は、上記下地層と連続している、請求項25に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   26. The method of manufacturing a thermal print head according to claim 25, wherein the girder is continuous with the base layer. 上記桁部は、平面視矩形である、請求項26に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   27. The method of manufacturing a thermal print head according to claim 26, wherein the girder has a rectangular shape in plan view. 上記桁部は、平面視円形である、請求項26に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   27. The method of manufacturing a thermal print head according to claim 26, wherein the girder is circular in plan view. 上記信号用導体は、上記基板上に形成した下地層上に形成されており、上記桁部は、上記下地層に重ねて形成されている、請求項21または22に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   The manufacturing of the thermal print head according to claim 21 or 22, wherein the signal conductor is formed on an underlayer formed on the substrate, and the girders are formed to overlap the underlayer. Method. 上記桁部は、上記基板に対する貼着物によって形成されている、請求項17ないし20のいずれかに記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   The method for manufacturing a thermal print head according to any one of claims 17 to 20, wherein the girder portion is formed by a sticking material to the substrate. 上記貼着物は、テープである、請求項30に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   The method for manufacturing a thermal print head according to claim 30, wherein the sticking object is a tape. 上記保護層の形成後、上記貼着物を除去する、請求項31または32に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。   The manufacturing method of the thermal print head of Claim 31 or 32 which removes the said sticking thing after formation of the said protective layer.
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