JP2016212009A - 欠陥検査方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記膜形成工程の実施後に、前記膜の表面に形成された突起部を表面検査装置で検出する検出工程とを含み、
前記膜形成工程では、前記表面検査装置の欠陥検出感度である検査装置検出感度、検出のターゲットとなる欠陥サイズ、及び予め定められた100%以上の率である安全率を用いた以下の式1を満たすように前記膜の膜厚を設定することを特徴とする。
式1 膜厚≧(検査装置検出感度−欠陥サイズ)×安全率
前記膜形成工程の実施前に、前記ウェーハの表面に存在する欠陥の分布を前記表面検査装置により検出する膜形成前検出工程と、
前記検出工程にて検出された欠陥分布のうち、前記膜形成前検出工程にて検出された欠陥分布から増加した座標点の観察又は分析を行う観察分析工程とを含む。
前記第1の取得工程の実施後に、前記ウェーハの表面に存在する突起状の欠陥を拡張させるための膜を前記ウェーハ上に形成する膜形成工程と、
前記膜形成工程の実施後に、前記膜の表面に形成された欠陥の分布を前記表面検査装置により取得する第2の取得工程と、
前記第2の取得工程にて取得された欠陥分布のうち、前記第1の取得工程にて取得された欠陥分布から増加した座標点の観察又は分析を行う観察分析工程と、
を含むことを特徴とする。
式1 膜厚≧(検査装置検出感度−欠陥サイズ)×安全率
2、10、15 パーティクル
4、9 シリコン窒化膜
5、11、12、14 突起部
Claims (8)
- ウェーハの表面に存在する突起状の欠陥を拡張させるための膜を前記ウェーハ上に形成する膜形成工程と、
前記膜形成工程の実施後に、前記膜の表面に形成された突起部を表面検査装置で検出する検出工程とを含み、
前記膜形成工程では、前記表面検査装置の欠陥検出感度である検査装置検出感度、検出のターゲットとなる欠陥サイズ、及び予め定められた100%以上の率である安全率を用いた以下の式1を満たすように前記膜の膜厚を設定することを特徴とする欠陥検査方法。
式1 膜厚≧(検査装置検出感度−欠陥サイズ)×安全率 - 前記安全率が110%以上であることを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査方法。
- 前記欠陥は、パーティクル又はPID(Polishing Induced Defect)であることを特徴とする請求項1又は2に記載の欠陥検査方法。
- 前記表面検査装置は、ウェーハ表面にレーザー光を照射し、散乱されたレーザー光に基づいて欠陥を検出する装置であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の欠陥検査方法。
- 前記膜がシリコン窒化膜であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の欠陥検査方法。
- 前記検出工程は、前記膜の表面に形成された欠陥の分布を検出する工程であり、
前記膜形成工程の実施前に、前記ウェーハの表面に存在する欠陥の分布を前記表面検査装置により検出する膜形成前検出工程と、
前記検出工程にて検出された欠陥分布のうち、前記膜形成前検出工程にて検出された欠陥分布から増加した座標点の観察又は分析を行う観察分析工程とを含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の欠陥検査方法。 - 前記観察分析工程では電子顕微鏡により前記増加した座標点の観察を行うことを特徴とする請求項6に記載の欠陥検査方法。
- ウェーハの表面に存在する欠陥の分布を表面検査装置により取得する第1の取得工程と、
前記第1の取得工程の実施後に、前記ウェーハの表面に存在する突起状の欠陥を拡張させるための膜を前記ウェーハ上に形成する膜形成工程と、
前記膜形成工程の実施後に、前記膜の表面に形成された欠陥の分布を前記表面検査装置により取得する第2の取得工程と、
前記第2の取得工程にて取得された欠陥分布のうち、前記第1の取得工程にて取得された欠陥分布から増加した座標点の観察又は分析を行う観察分析工程と、
を含むことを特徴とする欠陥検査方法。
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