JP2016211470A - 排気浄化装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 排気通路へ供給する還元剤の供給量を増やすことの可能な排気浄化装置を提供する。【解決手段】 排気浄化装置1は、供給器10、触媒、および気圧低下手段30を備える。供給器10は、排気通路3に露出する供給口13から排気通路3へ還元剤を供給する。触媒は、排気通路3において供給器10の下流側に設けられ、還元剤を用いて排気を浄化する。気圧低下手段30は、排気通路3を流れる排気の速度を変え、供給口13の付近の気圧を供給器本体11の内側の気圧より下げることが可能である。これにより、供給器本体11から供給口13を通じて排気通路3へ還元剤が吸い出される。【選択図】図2
Description
本発明は、排気浄化装置に関する。
従来、内燃機関の排気を浄化する排気浄化装置が知られている。
特許文献1に記載の排気浄化装置は、内燃機関の排気通路に還元剤を供給する供給器(燃料改質器)と、排気通路において供給器の下流側に設けられた触媒(選択還元型触媒)とを備えている。この排気浄化装置が備える供給器は、燃料を改質して生成した水素を含むガスを還元剤として排気通路へ供給している。排気通路を流れる排気とその還元剤とが触媒に流入すると、排気に含まれるNOxがN2に還元される。
特許文献1に記載の排気浄化装置は、内燃機関の排気通路に還元剤を供給する供給器(燃料改質器)と、排気通路において供給器の下流側に設けられた触媒(選択還元型触媒)とを備えている。この排気浄化装置が備える供給器は、燃料を改質して生成した水素を含むガスを還元剤として排気通路へ供給している。排気通路を流れる排気とその還元剤とが触媒に流入すると、排気に含まれるNOxがN2に還元される。
ところで、特許文献1に記載の排気浄化装置が備える供給器は、エアタンクまたはコンプレッサーから供給器に導入される空気の圧力を用いて、還元剤を排気通路へ供給している。そのため、内燃機関の運転条件が高負荷となり触媒の上流側に位置する排気通路の気圧が高くなると、エアタンクまたはコンプレッサーのエネルギ消費量の増加や、エアタンクまたはコンプレッサーの出力限界により供給器から排気通路へ供給される還元剤の量の減少のおそれがある。
また、特許文献1に記載の排気浄化装置において、供給器から排気通路へ供給する還元剤の量を増やす場合、エアタンクまたはコンプレッサーの体格が大型化するか、または、コンプレッサーの電力消費量が増大することが懸念される。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、排気通路へ供給する還元剤の供給量を増やすことの可能な排気浄化装置を提供することを目的とする。
また、特許文献1に記載の排気浄化装置において、供給器から排気通路へ供給する還元剤の量を増やす場合、エアタンクまたはコンプレッサーの体格が大型化するか、または、コンプレッサーの電力消費量が増大することが懸念される。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、排気通路へ供給する還元剤の供給量を増やすことの可能な排気浄化装置を提供することを目的とする。
本発明の排気浄化装置は、供給器、触媒、および気圧低下手段を備える。供給器は、還元剤が流れる供給器本体、及び、供給器本体から排気通路へ還元剤を供給する供給口を有する。触媒は、排気通路において供給器の下流側に設けられ、還元剤を用いて排気を浄化する。気圧低下手段は、排気通路を流れる排気の速度を変え、供給口の付近の気圧を供給器本体の内側の気圧より下げることが可能である。
これにより、供給器本体から供給口を通じて排気通路へ還元剤が吸い出される。そのため、排気浄化装置は、還元剤の供給量を増やすことができる。
これにより、供給器本体から供給口を通じて排気通路へ還元剤が吸い出される。そのため、排気浄化装置は、還元剤の供給量を増やすことができる。
以下、本発明の複数の実施形態による排気浄化装置を図面に基づいて説明する。なお、複数の実施形態において実質的に同一の構成には同一の符号を付して説明を省略する。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態を図1から図3に示す。本実施形態による排気浄化装置1は、内燃機関2の排気通路3に設けられ、内燃機関2から排出される排気を浄化するものである。
排気浄化装置1は、排気通路3に還元剤を供給する供給器10、排気通路3において供給器10の下流側に設けられる触媒20、及び、気圧低下手段30などを備えている。
本発明の第1実施形態を図1から図3に示す。本実施形態による排気浄化装置1は、内燃機関2の排気通路3に設けられ、内燃機関2から排出される排気を浄化するものである。
排気浄化装置1は、排気通路3に還元剤を供給する供給器10、排気通路3において供給器10の下流側に設けられる触媒20、及び、気圧低下手段30などを備えている。
図2に示すように、供給器10は、供給器本体11、突出部12、供給口13、燃料添加弁14、ガス導入孔15、ヒーター16および改質触媒17などを有している。
供給器本体11の内側には、燃料と、その燃料を改質した改質ガスとが流れる空間が形成されている。
突出部12は、供給器本体11から排気通路3へ突出している部分である。この突出部12において排気通路3の中央側に供給口13が設けられている。なお、供給口13は、突出部12において排気通路3の下流側に設けてもよい。
供給器本体11の内側には、燃料と、その燃料を改質した改質ガスとが流れる空間が形成されている。
突出部12は、供給器本体11から排気通路3へ突出している部分である。この突出部12において排気通路3の中央側に供給口13が設けられている。なお、供給口13は、突出部12において排気通路3の下流側に設けてもよい。
燃料添加弁14は、供給器本体11の内側の空間に燃料を噴射供給する。ガス導入孔15は、図示していないエアタンク、コンプレッサー、吸気通路または排気通路3などに接続され、供給器本体11の内側の空間に空気又は排気を導入する。
ヒーター16は、供給器本体11の内側の燃料を、例えば400から600℃程度に加熱する。改質触媒17は、燃料を酸化し、アルデヒドなどを含む改質ガスに改質する。この改質ガスは、排気通路3を流れる排気を触媒20で浄化する際に還元剤として機能するものである。
ヒーター16は、供給器本体11の内側の燃料を、例えば400から600℃程度に加熱する。改質触媒17は、燃料を酸化し、アルデヒドなどを含む改質ガスに改質する。この改質ガスは、排気通路3を流れる排気を触媒20で浄化する際に還元剤として機能するものである。
図1に示すように、触媒20は、排気通路3において供給器10の下流側に設けられている。触媒20として、NOx吸蔵還元触媒が例示される。この触媒20は、排気に含まれるNOxをNO2に酸化し、これを硝酸塩(NO3 -)として吸蔵し、その硝酸塩を上述した還元剤によりN2に還元するものである。これにより、排気に含まれるNOxは、N2、CO2、H2Oなどに浄化され、大気に排出される。
なお、触媒20は、ここで説明したものに限らず、金属又は非金属からなる種々のNOx浄化用触媒を採用することが可能である。
なお、触媒20は、ここで説明したものに限らず、金属又は非金属からなる種々のNOx浄化用触媒を採用することが可能である。
第1実施形態の触媒20は、排気通路3に設けられたターボチャージャーを構成するタービン4よりも上流側に設けられている。そのため、この触媒20には、内燃機関2から排出された高温の排気が流入する。したがって、触媒20における酸化還元反応が活発に行われるので、排気の浄化効率を高めることが可能である。
なお、図1では、吸気通路に設けられるターボチャージャーを構成するコンプレッサーは、図示を省略している。
なお、図1では、吸気通路に設けられるターボチャージャーを構成するコンプレッサーは、図示を省略している。
図2に示すように、第1実施形態の気圧低下手段30は、供給器10よりも上流の排気通路3の壁面に設けられる溝部31である。この溝部31は、排気通路3の内壁が外側へ凹み、断面が略半円状に形成されている。これにより、溝部31の内壁に沿った排気の流れと、排気通路3の中央部付近を流れる排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図2の矢印Aに示すように、溝部31の下流に渦が生成される。この渦は、供給器10の供給口13に隣接する位置に生成される。
排気の流れに渦が生成されると、渦の中心の気圧が低くなり、渦の外側から渦の中心へ排気が引き込まれる。これにより、供給口13の付近の気圧が供給器本体11の内側の気圧より低くなり、供給器10の供給口13から排気通路3へ還元剤が吸い出される。
即ち、供給口13は気圧低下手段30により渦が生成される箇所に設けられる。或いは、供給口13は、その渦に排気が引き込まれることにより排気通路3の気圧が低下する箇所に設けられる。
供給器10から排気通路3に吸い出された還元剤は、渦によって排気と攪拌され、触媒20に流入する。そして、触媒20に吸蔵された硝酸塩をN2に還元する。
即ち、供給口13は気圧低下手段30により渦が生成される箇所に設けられる。或いは、供給口13は、その渦に排気が引き込まれることにより排気通路3の気圧が低下する箇所に設けられる。
供給器10から排気通路3に吸い出された還元剤は、渦によって排気と攪拌され、触媒20に流入する。そして、触媒20に吸蔵された硝酸塩をN2に還元する。
次に、還元剤の有無によるNOx低減率を調べた実験結果を図3に示す。
この実験は、触媒20を備えた環状炉に対し「N2,O2,CO2,H2Oを含むガスと、N2、HC+N2を含むガスと、還元剤とを混合したガス」を供給し、または「N2,O2,CO2,H2Oを含むガスと、N2、HC+N2を含むガスとを混合したガス」を供給し、その環状炉の温度を変化させ、環状炉から排出されたガスをフーリエ変換赤外分光光度計(FTIR)により計測したものである。なお、この実験において、排気はNOxを含むものであり、還元剤にはアルデヒドを使用した。
以下、「N2,O2,CO2,H2Oを含むガスと、N2、HC+N2を含むガスと、還元剤とを混合したガス」を還元剤混合ガスといい、「N2,O2,CO2,H2Oを含むガスと、N2、HC+N2を含むガスとを混合したガス」を還元剤非混合ガスというものとする。
この実験は、触媒20を備えた環状炉に対し「N2,O2,CO2,H2Oを含むガスと、N2、HC+N2を含むガスと、還元剤とを混合したガス」を供給し、または「N2,O2,CO2,H2Oを含むガスと、N2、HC+N2を含むガスとを混合したガス」を供給し、その環状炉の温度を変化させ、環状炉から排出されたガスをフーリエ変換赤外分光光度計(FTIR)により計測したものである。なお、この実験において、排気はNOxを含むものであり、還元剤にはアルデヒドを使用した。
以下、「N2,O2,CO2,H2Oを含むガスと、N2、HC+N2を含むガスと、還元剤とを混合したガス」を還元剤混合ガスといい、「N2,O2,CO2,H2Oを含むガスと、N2、HC+N2を含むガスとを混合したガス」を還元剤非混合ガスというものとする。
図3の破線Cは、触媒20を入れた環状炉に対し「還元剤混合ガス」を供給し、その環状炉から排出されたガスに含まれるNOxの低減率を示したものである。
一方、図3の実線Dは、触媒20を入れた環状炉に対し「還元剤非混合ガス」を供給し、その環状炉から排出されたガスに含まれるNOxの低減率を示したものである。
実験の結果、「還元剤混合ガス」を供給した場合、「還元剤非混合ガス」を供給した場合よりも低温でNOxの低減率が高くなることが判明した。
一方、図3の実線Dは、触媒20を入れた環状炉に対し「還元剤非混合ガス」を供給し、その環状炉から排出されたガスに含まれるNOxの低減率を示したものである。
実験の結果、「還元剤混合ガス」を供給した場合、「還元剤非混合ガス」を供給した場合よりも低温でNOxの低減率が高くなることが判明した。
第1実施形態の排気浄化装置1は、次の作用効果を奏する。
(1)第1実施形態では、気圧低下手段30は、排気通路3を流れる排気の速度を変え、供給口13の付近の気圧を供給器本体11の内側の気圧より下げることが可能である。
これにより、供給器本体11から供給口13を通じて排気通路3へ還元剤が吸い出される。そのため、排気浄化装置1は、還元剤の供給量を増やすことができる。
さらに、排気浄化装置1は、排気通路3に設けられたターボチャージャーのタービン4の上流と下流の圧力差等を利用することなく、供給器10から排気通路3へ還元剤を供給することが容易になる。そのため、排気浄化装置1を内燃機関2の近くに配置することが可能である。そうすることで、排気浄化装置1は、触媒20に流入する排気の温度を高め、触媒20での反応を高効率化し、NOxの低減率を高めることができる。
(1)第1実施形態では、気圧低下手段30は、排気通路3を流れる排気の速度を変え、供給口13の付近の気圧を供給器本体11の内側の気圧より下げることが可能である。
これにより、供給器本体11から供給口13を通じて排気通路3へ還元剤が吸い出される。そのため、排気浄化装置1は、還元剤の供給量を増やすことができる。
さらに、排気浄化装置1は、排気通路3に設けられたターボチャージャーのタービン4の上流と下流の圧力差等を利用することなく、供給器10から排気通路3へ還元剤を供給することが容易になる。そのため、排気浄化装置1を内燃機関2の近くに配置することが可能である。そうすることで、排気浄化装置1は、触媒20に流入する排気の温度を高め、触媒20での反応を高効率化し、NOxの低減率を高めることができる。
(2)第1実施形態では、気圧低下手段30は、排気通路3の排気の流れに速度差を与え、排気通路3の排気の流れに渦を生成する。供給器10の供給口13は、気圧低下手段30により渦が生成される箇所、または、その渦に排気が引き込まれることにより排気通路3の気圧が低下する箇所に設けられる。
これにより、渦の中心の気圧が低くなり、渦の外側から渦の中心へ排気が引き込まれる。そのため、供給器10の供給口13から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
さらに、排気通路3に吸い出された還元剤は、渦によって排気と攪拌され、素早く混合される。したがって、供給器10と触媒20との距離を近づけることが可能となり、排気浄化装置1の体格を小型化することができる。
これにより、渦の中心の気圧が低くなり、渦の外側から渦の中心へ排気が引き込まれる。そのため、供給器10の供給口13から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
さらに、排気通路3に吸い出された還元剤は、渦によって排気と攪拌され、素早く混合される。したがって、供給器10と触媒20との距離を近づけることが可能となり、排気浄化装置1の体格を小型化することができる。
(3)第1実施形態では、気圧低下手段30は、供給器10の供給口13より上流の排気通路3の壁面に設けられ、供給口13に隣接する流れに渦を生成する溝部31である。
気圧低下手段30としての溝部31は、排気通路3の流れに速度差を生じさせ、溝部31の下流に渦を生成することが可能である。そのため、排気浄化装置1は、溝部31による簡素な構成で渦を生成し、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
なお、排気通路3の壁面に設ける溝部31の形状は、上述したように断面が略半円状のものに限らず、実験などにより適宜設定される。また、溝部31の個数は、1個または複数個としてもよい。
気圧低下手段30としての溝部31は、排気通路3の流れに速度差を生じさせ、溝部31の下流に渦を生成することが可能である。そのため、排気浄化装置1は、溝部31による簡素な構成で渦を生成し、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
なお、排気通路3の壁面に設ける溝部31の形状は、上述したように断面が略半円状のものに限らず、実験などにより適宜設定される。また、溝部31の個数は、1個または複数個としてもよい。
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態を図4に示す。第2実施形態の気圧低下手段30は、供給器10よりも上流の排気通路3の壁面に設けられる突部32である。この突部32は、排気通路3の内壁から内側に突出し、断面が略矩形状に形成されている。これにより、突部32に沿った排気の流れと、排気通路3の中央部付近を流れる排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図4の矢印Eに示すように、突部32の下流に渦が生成される。この渦は、供給器10の供給口13に隣接する位置に生成される。
本発明の第2実施形態を図4に示す。第2実施形態の気圧低下手段30は、供給器10よりも上流の排気通路3の壁面に設けられる突部32である。この突部32は、排気通路3の内壁から内側に突出し、断面が略矩形状に形成されている。これにより、突部32に沿った排気の流れと、排気通路3の中央部付近を流れる排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図4の矢印Eに示すように、突部32の下流に渦が生成される。この渦は、供給器10の供給口13に隣接する位置に生成される。
第2実施形態においても、突部32により、排気通路3の流れに速度差が生じるので、突部32の下流に渦が生成される。そのため、排気浄化装置1は、突部32による簡素な構成で渦を生成し、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが可能である。
なお、排気通路3の壁面に設ける突部32の形状は、上述したように断面が略矩形状のものに限らず、実験などにより適宜設定される。また、突部32の個数は、1個または複数個としてもよい。
なお、排気通路3の壁面に設ける突部32の形状は、上述したように断面が略矩形状のものに限らず、実験などにより適宜設定される。また、突部32の個数は、1個または複数個としてもよい。
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態を図5に示す。第3実施形態では、排気浄化装置1は、排気通路3に設けられたターボチャージャーのタービン4よりも下流側に設けられている。
タービン4の上流側に位置する排気通路3と、供給器10が有するガス導入孔15とを、連通路5が連通している。タービン4の上流側の気圧は、タービン4の下流側の気圧よりも高い。そのため、供給器本体11の内側の気圧は、供給器10の供給口13が露出するタービン4の下流側の排気通路3の気圧よりも高くなる。したがって、第3実施形態では、供給器10から排気通路3へ供給する還元剤の供給量を増やすことが可能である。
なお、第3実施形態においても、排気通路3に気圧低下手段30を設け、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが好ましい。
本発明の第3実施形態を図5に示す。第3実施形態では、排気浄化装置1は、排気通路3に設けられたターボチャージャーのタービン4よりも下流側に設けられている。
タービン4の上流側に位置する排気通路3と、供給器10が有するガス導入孔15とを、連通路5が連通している。タービン4の上流側の気圧は、タービン4の下流側の気圧よりも高い。そのため、供給器本体11の内側の気圧は、供給器10の供給口13が露出するタービン4の下流側の排気通路3の気圧よりも高くなる。したがって、第3実施形態では、供給器10から排気通路3へ供給する還元剤の供給量を増やすことが可能である。
なお、第3実施形態においても、排気通路3に気圧低下手段30を設け、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが好ましい。
(第4実施形態)
本発明の第4実施形態を図6および図7に示す。第4実施形態の気圧低下手段30は、供給器10よりも上流の排気通路3の壁面の一部に設けられる構造体33である。この構造体33は、板状に形成され、板厚方向に通じる孔34を有する。これにより、構造体33の孔34を通過した排気の流れと、構造体33の孔34を除く位置における構造体33の下流側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図6の矢印Fに示すように、構造体33の下流に渦が生成される。この渦は、供給器10の供給口13に隣接する位置に生成される。
本発明の第4実施形態を図6および図7に示す。第4実施形態の気圧低下手段30は、供給器10よりも上流の排気通路3の壁面の一部に設けられる構造体33である。この構造体33は、板状に形成され、板厚方向に通じる孔34を有する。これにより、構造体33の孔34を通過した排気の流れと、構造体33の孔34を除く位置における構造体33の下流側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図6の矢印Fに示すように、構造体33の下流に渦が生成される。この渦は、供給器10の供給口13に隣接する位置に生成される。
第4実施形態においても、構造体33により、排気通路3の流れに速度差が生じるので、構造体33の下流に渦が生成される。そのため、排気浄化装置1は、構造体33による簡素な構成で渦を生成し、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが可能である。
なお、排気通路3の壁面に設ける構造体33は、上述したように板状のものに限らず、実験などにより適宜設定することが可能である。
なお、排気通路3の断面は、図7に示した矩形状のものに限らず、円形としてもよい。
なお、排気通路3の壁面に設ける構造体33は、上述したように板状のものに限らず、実験などにより適宜設定することが可能である。
なお、排気通路3の断面は、図7に示した矩形状のものに限らず、円形としてもよい。
(第5実施形態)
本発明の第5実施形態を図8に示す。第5実施形態では、気圧低下手段30としての構造体33は、複数個の孔34を有する。これにより、構造体33の複数の孔34を通過した排気の流れと、構造体33の複数個の孔34を除く位置における構造体33の下流側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、構造体33の下流に渦が生成される。この渦は、供給器10の供給口13に隣接する位置に生成される。
本発明の第5実施形態を図8に示す。第5実施形態では、気圧低下手段30としての構造体33は、複数個の孔34を有する。これにより、構造体33の複数の孔34を通過した排気の流れと、構造体33の複数個の孔34を除く位置における構造体33の下流側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、構造体33の下流に渦が生成される。この渦は、供給器10の供給口13に隣接する位置に生成される。
第5実施形態においても、排気浄化装置1は、構造体33による簡素な構成で渦を生成し、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが可能である。
なお、排気通路3の壁面に設ける構造体33は、上述した形状のものに限らず、実験などにより適宜設定される。また、構造体33は、網状のものとしてもよい。
なお、排気通路3の断面は、図8に示した矩形状のものに限らず、円形としてもよい。
なお、排気通路3の壁面に設ける構造体33は、上述した形状のものに限らず、実験などにより適宜設定される。また、構造体33は、網状のものとしてもよい。
なお、排気通路3の断面は、図8に示した矩形状のものに限らず、円形としてもよい。
(第6実施形態)
本発明の第6実施形態を図9及び図10に示す。第6実施形態の気圧低下手段30は、供給器10よりも上流の排気通路3の内壁に螺旋状に延びる複数の溝部31である。この溝部31は、排気通路3の内壁の略全周に亘り設けられている。これにより、図9の矢印Gに示すように、排気通路3の排気の流れに渦が生成される。この渦の中心と排気通路3の中心軸とは、略同じ位置か又は近い位置となる。
また、第6実施形態では、供給器10の突出部12が渦の中心または中心近くまで延びており、そこに供給口13が設けられている。
本発明の第6実施形態を図9及び図10に示す。第6実施形態の気圧低下手段30は、供給器10よりも上流の排気通路3の内壁に螺旋状に延びる複数の溝部31である。この溝部31は、排気通路3の内壁の略全周に亘り設けられている。これにより、図9の矢印Gに示すように、排気通路3の排気の流れに渦が生成される。この渦の中心と排気通路3の中心軸とは、略同じ位置か又は近い位置となる。
また、第6実施形態では、供給器10の突出部12が渦の中心または中心近くまで延びており、そこに供給口13が設けられている。
第6実施形態では、気圧低下手段30が排気通路3の中心軸又は中心軸に近い位置に大きな渦を生成し、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが可能である。
なお、第6実施形態では、排気通路3の内壁に螺旋状の溝部31を設けた。これに代えて、排気浄化装置1は、排気通路3の内壁から内側へ突出する螺旋状の突部32を設けてもよい。
なお、第6実施形態では、排気通路3の内壁に螺旋状の溝部31を設けた。これに代えて、排気浄化装置1は、排気通路3の内壁から内側へ突出する螺旋状の突部32を設けてもよい。
(第7実施形態)
本発明の第7実施形態を図11に示す。第7実施形態の排気浄化装置1は、排気通路3の内側に小管50を備えている。第7実施形態では、気圧低下手段30は、その小管50の内壁に形成されたベンチュリ管35である。図11の矢印Hに示すように、ベンチュリ管35は、その内側を流れる排気の流速を速くすることが可能である。
また、ベンチュリ管35の下流では、ベンチュリ管35から流出する排気の流れと、ベンチュリ管35の外側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図11の矢印Iに示すように、ベンチュリ管35の下流に渦が生成される。
本発明の第7実施形態を図11に示す。第7実施形態の排気浄化装置1は、排気通路3の内側に小管50を備えている。第7実施形態では、気圧低下手段30は、その小管50の内壁に形成されたベンチュリ管35である。図11の矢印Hに示すように、ベンチュリ管35は、その内側を流れる排気の流速を速くすることが可能である。
また、ベンチュリ管35の下流では、ベンチュリ管35から流出する排気の流れと、ベンチュリ管35の外側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図11の矢印Iに示すように、ベンチュリ管35の下流に渦が生成される。
第7実施形態では、供給器10の突出部12と小管50とが接続され、突出部12に設けられた供給口13がベンチュリ管35の内側の流路に連通している。ベンチュリ管35の流路を流れる排気の流速が速くなると、その気圧が低くなるので、供給器10の供給口13から排気通路3へ還元剤が吸い出される。これにより、排気浄化装置1は、供給器10から排気通路3へ供給する還元剤の供給量を増やすことができる。
また、第7実施形態では、小管50の下流に生成される渦により、排気と還元剤とを撹拌することが可能である。
また、第7実施形態では、小管50の下流に生成される渦により、排気と還元剤とを撹拌することが可能である。
(第8実施形態)
本発明の第8実施形態を図12に示す。第8実施形態では、気圧低下手段30は、一端が排気通路3に接続され、他端が図示していないエアタンク、コンプレッサー、吸気通路または排気通路3などに接続された合流管36である。合流管36は、排気通路3に空気又は排気を供給する。これにより、合流管36から排気通路3に供給された空気又は排気の流れと、排気通路3の中心軸に沿った排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図12の矢印Jに示すように、供給器10の供給口13の付近に渦が生成される。
第8実施形態においても、排気浄化装置1は、合流管36から排気通路3に供給する空気又は排気により渦を生成し、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが可能である。
本発明の第8実施形態を図12に示す。第8実施形態では、気圧低下手段30は、一端が排気通路3に接続され、他端が図示していないエアタンク、コンプレッサー、吸気通路または排気通路3などに接続された合流管36である。合流管36は、排気通路3に空気又は排気を供給する。これにより、合流管36から排気通路3に供給された空気又は排気の流れと、排気通路3の中心軸に沿った排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図12の矢印Jに示すように、供給器10の供給口13の付近に渦が生成される。
第8実施形態においても、排気浄化装置1は、合流管36から排気通路3に供給する空気又は排気により渦を生成し、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが可能である。
(第9実施形態)
本発明の第9実施形態を図13及び図14に示す。第9実施形態は、気圧低下手段30は、突出部12の外壁に設けられた気流案内溝37である。気流案内溝37は、排気通路3の中心軸に対し、傾斜するように設けられている。また、第9実施形態では、供給器10の供給口13は、突出部12において排気通路3の下流側に設けられている。
図13の矢印K1及びK2に示すように、気流案内溝37は、突出部12の外壁に沿った排気の速度及び方向を変え、供給口13の下流に渦を生成することが可能である。これにより、渦の中心の気圧が低くなる。したがって、排気浄化装置1は、供給器10の供給口13から渦の中心へ還元剤を吸い出すことが可能である。
なお、第9実施形態では、突出部12の外壁に気流案内溝37を設けた。これに代えて、排気浄化装置1は、突出部12の外壁から外側へ突出する気流案内凸部を設けてもよい。
本発明の第9実施形態を図13及び図14に示す。第9実施形態は、気圧低下手段30は、突出部12の外壁に設けられた気流案内溝37である。気流案内溝37は、排気通路3の中心軸に対し、傾斜するように設けられている。また、第9実施形態では、供給器10の供給口13は、突出部12において排気通路3の下流側に設けられている。
図13の矢印K1及びK2に示すように、気流案内溝37は、突出部12の外壁に沿った排気の速度及び方向を変え、供給口13の下流に渦を生成することが可能である。これにより、渦の中心の気圧が低くなる。したがって、排気浄化装置1は、供給器10の供給口13から渦の中心へ還元剤を吸い出すことが可能である。
なお、第9実施形態では、突出部12の外壁に気流案内溝37を設けた。これに代えて、排気浄化装置1は、突出部12の外壁から外側へ突出する気流案内凸部を設けてもよい。
(第10実施形態)
本発明の第10実施形態を図15に示す。第10実施形態では、供給器10の突出部12は、排気通路3の中心軸に沿って延びる延伸部18を有している。そのため、突出部12の外壁に設けられた気流案内溝37は、上述した第9実施形態のものより、排気通路3の中心軸方向に長く形成されている。また、気流案内溝37は、突出部12の外壁に螺旋状に形成してもよい。
第10実施形態では、突出部12の外壁に沿った排気の速度と方向を大きく変えることで、供給口13の下流に生成される渦の中心の気圧を低くすることが可能である。したがって、排気浄化装置1は、供給器10から排気通路3へ供給する還元剤の供給量を増やすことができる。
本発明の第10実施形態を図15に示す。第10実施形態では、供給器10の突出部12は、排気通路3の中心軸に沿って延びる延伸部18を有している。そのため、突出部12の外壁に設けられた気流案内溝37は、上述した第9実施形態のものより、排気通路3の中心軸方向に長く形成されている。また、気流案内溝37は、突出部12の外壁に螺旋状に形成してもよい。
第10実施形態では、突出部12の外壁に沿った排気の速度と方向を大きく変えることで、供給口13の下流に生成される渦の中心の気圧を低くすることが可能である。したがって、排気浄化装置1は、供給器10から排気通路3へ供給する還元剤の供給量を増やすことができる。
(第11実施形態)
本発明の第11実施形態を図16に示す。第11実施形態では、気圧低下手段30は、供給器10の供給口13より上流の排気通路3に設けられる上流側構造体38である。上流側構造体38として、例えばディーゼル用酸化触媒(DOC:Diesel Oxidation Catalyst)またはディーゼルパティキュレートフィルター(DPF:Diesel Particulate Filter)などが挙げられる。
上流側構造体38は、供給器10の供給口13側に位置する箇所381の通気抵抗が小さく形成され、供給口13とは反対側に位置する箇所382の通気抵抗が大きく形成される。これにより、通気抵抗が小さい箇所381の下流側の排気の流れと、通気抵抗が大きい箇所382の下流側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図16の矢印Lに示すように、上流側構造体38の下流に渦が生成される。この渦は、供給器10の供給口13に隣接する位置に生成される。
第11実施形態においても、排気浄化装置1は、上流側構造体38により渦を生成し、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
本発明の第11実施形態を図16に示す。第11実施形態では、気圧低下手段30は、供給器10の供給口13より上流の排気通路3に設けられる上流側構造体38である。上流側構造体38として、例えばディーゼル用酸化触媒(DOC:Diesel Oxidation Catalyst)またはディーゼルパティキュレートフィルター(DPF:Diesel Particulate Filter)などが挙げられる。
上流側構造体38は、供給器10の供給口13側に位置する箇所381の通気抵抗が小さく形成され、供給口13とは反対側に位置する箇所382の通気抵抗が大きく形成される。これにより、通気抵抗が小さい箇所381の下流側の排気の流れと、通気抵抗が大きい箇所382の下流側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図16の矢印Lに示すように、上流側構造体38の下流に渦が生成される。この渦は、供給器10の供給口13に隣接する位置に生成される。
第11実施形態においても、排気浄化装置1は、上流側構造体38により渦を生成し、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
(第12実施形態)
本発明の第12実施形態を図17に示す。第12実施形態では、気圧低下手段30は、排気通路3の内径が下流側に向かって拡がった排気通路3の拡張部40である。拡張部40は、排気通路3の内壁から排気の流れが剥離可能な角度で内径が拡がっている。これにより、排気通路3の内壁から排気が剥離した箇所と、その剥離箇所より内側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図17の矢印Mに示すように、拡張部40に渦が生成される。この渦の中心の気圧が低下することにより、渦の上流側の排気が渦に吸い込まれる。したがって、渦の上流側の排気の流速が速くなる。
本発明の第12実施形態を図17に示す。第12実施形態では、気圧低下手段30は、排気通路3の内径が下流側に向かって拡がった排気通路3の拡張部40である。拡張部40は、排気通路3の内壁から排気の流れが剥離可能な角度で内径が拡がっている。これにより、排気通路3の内壁から排気が剥離した箇所と、その剥離箇所より内側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図17の矢印Mに示すように、拡張部40に渦が生成される。この渦の中心の気圧が低下することにより、渦の上流側の排気が渦に吸い込まれる。したがって、渦の上流側の排気の流速が速くなる。
供給器10の供給口13は、拡張部40より上流側で、排気の流速が速くなる箇所に設けられている。これにより、排気浄化装置1は、排気の流速が速くなることに伴う気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
(第13実施形態)
本発明の第13実施形態を図18に示す。第13実施形態では、供給器10の供給口13は、排気通路3の拡張部40で渦が生成される箇所に設けられている。これにより、排気浄化装置1は、その渦の中心の気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
本発明の第13実施形態を図18に示す。第13実施形態では、供給器10の供給口13は、排気通路3の拡張部40で渦が生成される箇所に設けられている。これにより、排気浄化装置1は、その渦の中心の気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
(第14実施形態)
本発明の第14実施形態を図19に示す。第14実施形態では、気圧低下手段30は、排気通路3の曲部41である。曲部41は、排気通路3の内壁から排気の流れが剥離する角度で曲がっている。これにより、曲部41の下流側で排気通路3の内壁から排気が剥離した箇所と、その剥離箇所よりも排気通路3の中心軸側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図19の矢印Nに示すように、曲部41の下流に渦が生成される。
供給器10の供給口13は、排気通路3の曲部41の下流に渦が生成される箇所に設けられている。これにより、排気浄化装置1は、その渦の中心の気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
本発明の第14実施形態を図19に示す。第14実施形態では、気圧低下手段30は、排気通路3の曲部41である。曲部41は、排気通路3の内壁から排気の流れが剥離する角度で曲がっている。これにより、曲部41の下流側で排気通路3の内壁から排気が剥離した箇所と、その剥離箇所よりも排気通路3の中心軸側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図19の矢印Nに示すように、曲部41の下流に渦が生成される。
供給器10の供給口13は、排気通路3の曲部41の下流に渦が生成される箇所に設けられている。これにより、排気浄化装置1は、その渦の中心の気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
なお、曲部41の下流側に生成された渦に排気が吸い込まれることで、渦の上流側の排気の流速が速くなる。そのため、供給器10の供給口13は、曲部41より上流側で、排気の流速が速くなる箇所に設けてもよい。これにより、排気浄化装置1は、排気の流速が速くなることに伴う気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことができる。
(第15実施形態)
本発明の第15実施形態を図20に示す。第15実施形態では、気圧低下手段30は、供給器10の供給口13より上流の排気通路3に設けられる気流制御弁42である。気流制御弁42として、例えば排気再循環(EGR:Exhaust Gas Recirculation)装置が備えるEGR通路と排気通路3との接続箇所に設けられるものが挙げられる。なお、EGR通路については図示を省略している。
気流制御弁42により、排気通路3の内壁と気流制御弁42と開口部を通過した排気の流れと、気流制御弁42の下流側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図20の矢印Pに示すように、気流制御弁42の下流に渦が生成される。
供給器10の供給口13は、気流制御弁42により渦が生成される箇所に設けられている。渦の中心の気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤が吸い出される。
本発明の第15実施形態を図20に示す。第15実施形態では、気圧低下手段30は、供給器10の供給口13より上流の排気通路3に設けられる気流制御弁42である。気流制御弁42として、例えば排気再循環(EGR:Exhaust Gas Recirculation)装置が備えるEGR通路と排気通路3との接続箇所に設けられるものが挙げられる。なお、EGR通路については図示を省略している。
気流制御弁42により、排気通路3の内壁と気流制御弁42と開口部を通過した排気の流れと、気流制御弁42の下流側の排気の流れとに速度差が生じる。そのため、図20の矢印Pに示すように、気流制御弁42の下流に渦が生成される。
供給器10の供給口13は、気流制御弁42により渦が生成される箇所に設けられている。渦の中心の気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤が吸い出される。
第15実施形態では、排気浄化装置1は、排気の浄化とは異なる目的で排気通路3に設置される構成を気圧低下手段30として機能させ、その下流に渦が生成される箇所に供給器10の供給口13を設けることで、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが可能である。
(第16実施形態)
本発明の第16実施形態を図21に示す。第16実施形態では、気圧低下手段30は、供給器10の供給口13より上流の排気通路3に設けられるタービン43である。タービン43として、発電機またはターボチャージャー等のようなエネルギ回収機が挙げられる。
図16の矢印Qに示すように、タービン43の下流には渦が生成される。
供給器10の供給口13は、タービン43により渦が生成される箇所に設けられている。渦の中心の気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤が吸い出される。
第16実施形態においても、排気浄化装置1は、排気の浄化とは異なる目的で排気通路3に設置される構成を気圧低下手段30として機能させ、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが可能である。
本発明の第16実施形態を図21に示す。第16実施形態では、気圧低下手段30は、供給器10の供給口13より上流の排気通路3に設けられるタービン43である。タービン43として、発電機またはターボチャージャー等のようなエネルギ回収機が挙げられる。
図16の矢印Qに示すように、タービン43の下流には渦が生成される。
供給器10の供給口13は、タービン43により渦が生成される箇所に設けられている。渦の中心の気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤が吸い出される。
第16実施形態においても、排気浄化装置1は、排気の浄化とは異なる目的で排気通路3に設置される構成を気圧低下手段30として機能させ、供給器10から排気通路3へ還元剤を吸い出すことが可能である。
(第17実施形態)
本発明の第17実施形態を図22に示す。第17実施形態の排気浄化装置1は、排気通路3の内側に小管50を備えている。第17実施形態では、気圧低下手段30は、その小管50の内壁に設けられた突部32である。図17の矢印Rに示すように、小管50の内側において、突部32の下流には渦が生成される。
供給器10の供給口13は、小管50の内側の流路に連通している。そのため、小管50の内側に生成された渦の中心へ供給器10の供給口13から還元剤が吸い出される。
本発明の第17実施形態を図22に示す。第17実施形態の排気浄化装置1は、排気通路3の内側に小管50を備えている。第17実施形態では、気圧低下手段30は、その小管50の内壁に設けられた突部32である。図17の矢印Rに示すように、小管50の内側において、突部32の下流には渦が生成される。
供給器10の供給口13は、小管50の内側の流路に連通している。そのため、小管50の内側に生成された渦の中心へ供給器10の供給口13から還元剤が吸い出される。
第17実施形態では、排気通路3の一部に小管50を設けることにより、排気通路3において小管50の上流側の気圧が上昇することを抑制することができる。
また、第17実施形態では、小管50の内側の流路で渦を生成することにより、渦の中心の気圧を大きく低下させ、供給器10から排気通路3へ供給する還元剤の供給量を増やすことができる。
さらに、第17実施形態では、気圧低下手段30と小管50とを組み合わせてアッセンブリとして、それを排気通路3に容易に組み付けることが可能である。
また、第17実施形態では、小管50の内側の流路で渦を生成することにより、渦の中心の気圧を大きく低下させ、供給器10から排気通路3へ供給する還元剤の供給量を増やすことができる。
さらに、第17実施形態では、気圧低下手段30と小管50とを組み合わせてアッセンブリとして、それを排気通路3に容易に組み付けることが可能である。
なお、第17実施形態では、気圧低下手段30としての突部32を小管50の内側に設けた。これに代えて、排気浄化装置1は、上述した第1から第16実施形態で説明した気圧低下手段30としての構成を小管50の内側に設けてもよい。
(第18実施形態)
本発明の第18実施形態を図23に示す。第18実施形態の排気浄化装置1は、導入通路39およびポンプ51を備えている。
導入通路39は、一端が供給器本体11のガス導入孔15に接続され、他端が排気通路3に接続される。
ポンプ51は、導入通路39に設けられ、排気通路3から吸い出した排気を供給器本体11に導入する。これにより、供給器本体11の内側の気圧が高くなり、供給器10から排気通路3へ還元剤が供給される。
また、導入通路39の他端が排気通路3に接続される箇所では、排気が導入通路39に吸い出されることで、気圧が低下する。そのため、供給器10から排気通路3へ供給される還元剤を増やすことができる。
さらに、第18実施形態では、ポンプ51は、排気通路3の排気を供給器本体11に供給するので、その仕事量を低減することが可能である。したがって、排気浄化装置1は、小型のポンプ51を使用することができる。また、排気浄化装置1は、ポンプ51の消費電力を低減することができる。
本発明の第18実施形態を図23に示す。第18実施形態の排気浄化装置1は、導入通路39およびポンプ51を備えている。
導入通路39は、一端が供給器本体11のガス導入孔15に接続され、他端が排気通路3に接続される。
ポンプ51は、導入通路39に設けられ、排気通路3から吸い出した排気を供給器本体11に導入する。これにより、供給器本体11の内側の気圧が高くなり、供給器10から排気通路3へ還元剤が供給される。
また、導入通路39の他端が排気通路3に接続される箇所では、排気が導入通路39に吸い出されることで、気圧が低下する。そのため、供給器10から排気通路3へ供給される還元剤を増やすことができる。
さらに、第18実施形態では、ポンプ51は、排気通路3の排気を供給器本体11に供給するので、その仕事量を低減することが可能である。したがって、排気浄化装置1は、小型のポンプ51を使用することができる。また、排気浄化装置1は、ポンプ51の消費電力を低減することができる。
(第19実施形態)
本発明の第19実施形態を図24に示す。第19実施形態の排気浄化装置1は、供給器10の供給口13に逆止弁52を備えている。逆止弁52は、供給器10の内側から排気通路3へ還元剤の流出を許容する。また、逆止弁52は、排気通路3から供給器10の内側へ排気の流入を遮断する。
第19実施形態では、内燃機関2が備える排気バルブの開閉などに伴う排気の脈動に対し、排気通路3から供給器10の内側へ排気が流入することを防ぐことが可能である。
また、第19実施形態では、排気浄化装置1は、その排気の脈動を利用して、供給器10から排気通路3へ還元剤を排出することも可能である。
本発明の第19実施形態を図24に示す。第19実施形態の排気浄化装置1は、供給器10の供給口13に逆止弁52を備えている。逆止弁52は、供給器10の内側から排気通路3へ還元剤の流出を許容する。また、逆止弁52は、排気通路3から供給器10の内側へ排気の流入を遮断する。
第19実施形態では、内燃機関2が備える排気バルブの開閉などに伴う排気の脈動に対し、排気通路3から供給器10の内側へ排気が流入することを防ぐことが可能である。
また、第19実施形態では、排気浄化装置1は、その排気の脈動を利用して、供給器10から排気通路3へ還元剤を排出することも可能である。
(比較例)
本発明に対する比較例を図25に示す。比較例の排気浄化装置は、排気通路3の内壁の全体をベンチュリ管300としている。ベンチュリ管300は、その内側を流れる排気の流速を速くすることが可能である。供給器10の供給口13は、ベンチュリ管300により排気の流速が速くなる箇所に設けられている。そのため、排気の流速が速くなることに伴う気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤が吸い出される。
しかしながら、比較例の構成では、排気通路3の横断面全体をベンチュリ管300としているので、ベンチュリ管300よりも上流側の気圧が上昇することが考えられる。そのため、内燃機関2の出力が低下するおそれがある。
これに対し、上述した本発明の第1から第19実施形態の構成では、気圧低下手段30よりも上流側の気圧の上昇が抑制されるので、内燃機関2の出力低下のおそれがない。
本発明に対する比較例を図25に示す。比較例の排気浄化装置は、排気通路3の内壁の全体をベンチュリ管300としている。ベンチュリ管300は、その内側を流れる排気の流速を速くすることが可能である。供給器10の供給口13は、ベンチュリ管300により排気の流速が速くなる箇所に設けられている。そのため、排気の流速が速くなることに伴う気圧の低下により、供給器10から排気通路3へ還元剤が吸い出される。
しかしながら、比較例の構成では、排気通路3の横断面全体をベンチュリ管300としているので、ベンチュリ管300よりも上流側の気圧が上昇することが考えられる。そのため、内燃機関2の出力が低下するおそれがある。
これに対し、上述した本発明の第1から第19実施形態の構成では、気圧低下手段30よりも上流側の気圧の上昇が抑制されるので、内燃機関2の出力低下のおそれがない。
(他の実施形態)
(1)上述した実施形態では、触媒20として、NOx吸蔵還元触媒を例示した。これに対し、他の実施形態では、触媒20は、SCR(Selective Catalytic Reduction)触媒、ディーゼル用酸化触媒(DOC)、または、ディーゼルPM−NOx同時低減(DPNR:Diesel PM-NOx Reduction)触媒など、種々の触媒を採用することが可能である。
(1)上述した実施形態では、触媒20として、NOx吸蔵還元触媒を例示した。これに対し、他の実施形態では、触媒20は、SCR(Selective Catalytic Reduction)触媒、ディーゼル用酸化触媒(DOC)、または、ディーゼルPM−NOx同時低減(DPNR:Diesel PM-NOx Reduction)触媒など、種々の触媒を採用することが可能である。
(2)上述した実施形態では、還元剤として、燃料を酸化して生成したアルデヒドなどを含む改質ガスを例示した。これに対し、他の実施形態では、排気に含まれる成分および触媒の材質などに応じて、燃料または尿素などの種々の還元剤を採用することが可能である。
このように、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、上述した複数の実施形態を組み合わせることに加え、発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の形態で実施することができる。
このように、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、上述した複数の実施形態を組み合わせることに加え、発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の形態で実施することができる。
1 ・・・排気浄化装置
2 ・・・内燃機関
3 ・・・排気通路
10・・・供給器
11・・・供給器本体
13・・・供給口
20・・・触媒
30・・・気圧低下手段
2 ・・・内燃機関
3 ・・・排気通路
10・・・供給器
11・・・供給器本体
13・・・供給口
20・・・触媒
30・・・気圧低下手段
Claims (15)
- 内燃機関(2)の排気通路(3)を流れる排気を浄化する排気浄化装置において、
還元剤が流れる供給器本体(11)、及び、前記供給器本体から前記排気通路へ前記還元剤を供給する供給口(13)を有する供給器(10)と、
前記排気通路において前記供給器の下流側に設けられ、前記還元剤を用いて排気を浄化する触媒(20)と、
前記排気通路を流れる排気の速度を変え、前記供給口の付近の気圧を前記供給器本体の内側の気圧より下げることの可能な気圧低下手段(30−43)と、を備えることを特徴とする排気浄化装置。 - 前記気圧低下手段は、前記排気通路の排気の流れに速度差を与え、前記排気通路の排気の流れに渦を生成するものであり、
前記供給器の前記供給口は、その渦が生成される箇所、または、その渦に排気が引き込まれることにより気圧が低下する箇所に設けられることを特徴とする請求項1に記載の排気浄化装置。 - 前記気圧低下手段は、前記供給器の前記供給口より上流に位置する前記排気通路の壁面に設けられ、前記供給口に隣接する流れに渦を生成する溝部(31)、突部(32)または構造体(33)であることを特徴とする請求項1または2に記載の排気浄化装置。
- 前記突部または前記溝部は、前記排気通路の壁面を螺旋状に延び、前記供給器の前記供給口の付近の流れに渦を生成することを特徴とする請求項3に記載の排気浄化装置。
- 前記構造体は、前記排気通路の壁面の一部に設けられ、1個又は複数の孔(34)を有することを特徴とする請求項3に記載の排気浄化装置。
- 前記排気通路の内側に設けられた小管(50)をさらに備え、
前記供給器の前記供給口は、前記小管の内側の流路に露出しており、
前記気圧低下手段は、前記小管に設けられていることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の排気浄化装置。 - 前記気圧低下手段は、前記小管の内壁に形成されたベンチュリ管(35)であることを特徴とする請求項6に記載の排気浄化装置。
- 前記気圧低下手段は、前記排気通路に排気または空気を供給し、前記供給器の前記供給口の付近の流れに渦を生成する合流管(36)であることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の排気浄化装置。
- 前記供給器は、前記供給器本体から前記排気通路へ突出すると共に前記供給口が設けられた突出部(12)を有し、
前記気圧低下手段は、前記突出部の外壁に設けられ、前記突出部の外壁に沿った排気の速度を変え、前記供給口の下流に渦を生成する気流案内溝(37)または気流案内凸部であることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の排気浄化装置。 - 前記気圧低下手段は、前記供給器の前記供給口より上流の前記排気通路に設けられた上流側触媒(38)であり、
前記上流側触媒は、前記供給口側に位置する箇所(381)の通気抵抗よりも、前記供給口とは反対側に位置する箇所(382)の通気抵抗が大きく形成され、前記供給器の前記供給口の付近に渦を生成することを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の排気浄化装置。 - 前記気圧低下手段は、前記供給器の前記供給口より上流の前記排気通路に設けられる気流制御弁(42)またはタービン(43)であり、
前記供給器の前記供給口は、前記気流制御弁または前記タービンの下流に渦が生成される箇所に設けられることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の排気浄化装置。 - 前記気圧低下手段は、前記排気通路の内壁から排気の流れが剥離可能な角度で内径が下流側に向かって拡がっている前記排気通路の拡張部(40)であり、
前記供給器の前記供給口は、前記拡張部により渦が生成される箇所、または、その渦により排気の流れが速くなる箇所に設けられることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の排気浄化装置。 - 前記気圧低下手段は、前記排気通路の内壁から排気の流れが剥離可能な角度で曲がっている前記排気通路の曲部(41)であり、
前記供給器の前記供給口は、前記排気通路の前記曲部の下流に渦が生成される箇所、または、その渦により排気の流れが速くなる箇所に設けられることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の排気浄化装置。 - 前記供給器の前記供給口に設けられ、前記供給器の内側から前記排気通路へ前記還元剤の流出を許容し、前記排気通路から前記供給器の内側へ排気の流入を遮断する逆止弁(52)を備えることを特徴とする請求項1から13のいずれか一項に記載の排気浄化装置。
- 一端が前記供給器本体に接続され、他端が前記排気通路に接続される導入通路(39)と、
前記導入通路に設けられ、前記排気通路から吸い出した排気を前記供給器に導入するポンプ(51)と、を備えることを特徴とする請求項1から14のいずれか一項に記載の排気浄化装置。
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