JP2016210962A - Electrode forming composition, electrode manufactured using the same, and solar cell - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrode forming composition having excellent continuous printability and capable of increasing adhesion force between a substrate and an electrode pattern and improving efficiency and reliability of a solar cell.SOLUTION: An electrode forming composition includes: a conductive powder; a glass frit; and an organic vehicle including an organic binder, a multi-functional (meth)acrylate compound and a solvent. The multi-functional (meth)acrylate compound has a molecular weight from 200 to 500, and is contained in an amount of 0.15 to 2 wt.% based on 100 wt.% of the electrode forming composition.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、電極形成用組成物ならびにこれを用いて製造された電極および太陽電池に関するものである。   The present invention relates to an electrode forming composition, and an electrode and a solar cell produced using the composition.

太陽電池は、太陽光の光子(photon)を電気に変換させるpn接合の光電効果を利用して電気エネルギーを発生させる。太陽電池は、pn接合が構成される半導体ウエハまたは基板の上下面にそれぞれ前面電極と後面電極とが形成されている。太陽電池は、半導体ウエハに入射する太陽光によってpn接合の光電効果が誘導され、これから発生した電子が電極を通して外部に流れる電流を提供する。   A solar cell generates electric energy by using a photoelectric effect of a pn junction that converts sunlight photons into electricity. In the solar cell, a front electrode and a rear electrode are respectively formed on the upper and lower surfaces of a semiconductor wafer or substrate on which a pn junction is formed. In a solar cell, a photoelectric effect of a pn junction is induced by sunlight incident on a semiconductor wafer, and an electron generated therefrom provides a current that flows to the outside through an electrode.

このような太陽電池の電極は、電極形成用組成物の塗布、パターニングおよび焼成によって、ウエハの表面に一定のパターンで形成される。   The electrodes of such a solar cell are formed in a certain pattern on the surface of the wafer by applying, patterning and baking the electrode forming composition.

太陽電池の変換効率を向上させるために、基板との接触性を向上して接触抵抗(Rc)とシリーズ抵抗(Rs)とを最小化させたり、有機物でスクリーンマスクのパターンの線幅を小さく調節したりすることにより、微細線幅(fine line)を形成して短絡電流(Isc)を高める方法が知られている。 In order to improve the conversion efficiency of solar cells, contact resistance (Rc) and series resistance (Rs) are minimized by improving the contact with the substrate, and the line width of the screen mask pattern is adjusted to be small with organic matter For example, a method of increasing the short-circuit current (I sc ) by forming a fine line width is known.

しかし、スクリーンマスクを利用して電極パターンの線幅を減少させる方法は、シリーズ抵抗(Rs)の上昇を誘発し、微細パターンの連続印刷性を低下させることがある。   However, the method of reducing the line width of the electrode pattern using a screen mask may increase the series resistance (Rs) and reduce the continuous printability of the fine pattern.

基板に形成された電極パターンは、太陽電池を構成するセルがリボンで互いに連結して最終モジュールとして製作される工程において、基板によく付着していなければならないが、電極パターンが基板から剥離し、導通不良が発生して信頼性が低下することがある。   The electrode pattern formed on the substrate must be well attached to the substrate in the process where the cells constituting the solar cell are connected to each other with a ribbon and manufactured as a final module, but the electrode pattern peels off the substrate, Failure of conduction may occur and reliability may be reduced.

そのため、電極パターン形成時の印刷性を確保しつつ、電極パターンの付着性を向上させることができる電極形成用組成物が要求されている。   Therefore, there is a demand for an electrode forming composition that can improve the adhesion of the electrode pattern while ensuring the printability during the formation of the electrode pattern.

韓国公開特許第10−2009−0128082号公報Korean Published Patent No. 10-2009-0128082 韓国公開特許第10−2013−0136725号公報Korean Published Patent No. 10-2013-0136725

本発明は、上記点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、連続印刷性に優れ、基板と電極パターンとの付着力を増加させて太陽電池の効率と信頼性とを向上させることのできる電極形成用組成物を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to improve the efficiency and reliability of a solar cell by increasing the adhesion between a substrate and an electrode pattern, with excellent continuous printability. It is providing the composition for electrode formation which can be made to be made.

本発明の他の目的は、前記電極形成用組成物を用いて製造された電極を提供することである。   Another object of the present invention is to provide an electrode manufactured using the electrode forming composition.

また他の目的は、前記電極を含む太陽電池を提供することである。   Another object is to provide a solar cell including the electrode.

前記およびその他の目的は、下記で説明する本発明によって全て達成することができる。   The above and other objects can all be achieved by the present invention described below.

上記課題を解決するための本発明に係る一実施形態は、導電性粉末と、ガラスフリットと、有機バインダー、多官能性(メタ)アクリレート化合物および溶媒を含む有機ビヒクルと、を含む電極形成用組成物であって、前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、200〜500の分子量を有し、前記電極形成用組成物100重量%に対して0.15〜2重量%で含まれる電極形成用組成物を提供する。   One embodiment according to the present invention for solving the above-mentioned problems is a composition for forming an electrode, which comprises a conductive powder, a glass frit, and an organic vehicle containing an organic binder, a polyfunctional (meth) acrylate compound and a solvent. The polyfunctional (meth) acrylate compound has a molecular weight of 200 to 500 and is contained in an amount of 0.15 to 2% by weight with respect to 100% by weight of the electrode forming composition. A composition is provided.

本発明の一実施形態によれば、前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、ジ(メタ)アクリレート化合物、トリ(メタ)アクリレート化合物、テトラ(メタ)アクリレート化合物およびこれらの混合物からなる群より選択される。   According to one embodiment of the present invention, the polyfunctional (meth) acrylate compound is selected from the group consisting of di (meth) acrylate compounds, tri (meth) acrylate compounds, tetra (meth) acrylate compounds, and mixtures thereof. Is done.

本発明の一実施形態によれば、前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートおよびこれらの混合物からなる群より選択される。   According to one embodiment of the present invention, the polyfunctional (meth) acrylate compound is trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (Meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate and mixtures thereof Selected from the group.

本発明の一実施形態によれば、前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、前記電極形成用組成物100重量%に対して0.15〜2重量%の量で含まれる。   According to an embodiment of the present invention, the polyfunctional (meth) acrylate compound is included in an amount of 0.15 to 2% by weight with respect to 100% by weight of the electrode forming composition.

本発明の一実施形態によれば、前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、250〜400の分子量を有する。   According to one embodiment of the present invention, the polyfunctional (meth) acrylate compound has a molecular weight of 250-400.

本発明の一実施形態によれば、前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、前記電極形成用組成物を200〜400℃で熱処理した後に生成された膜に、残存することができる。   According to an embodiment of the present invention, the polyfunctional (meth) acrylate compound can remain in a film formed after heat-treating the electrode forming composition at 200 to 400 ° C.

本発明の一実施形態によれば、前記ガラスフリットは、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリットおよびこれらの混合物からなる群より選択される。   According to an embodiment of the present invention, the glass frit is selected from the group consisting of bismuth-based glass frit, lead-based glass frit, and mixtures thereof.

本発明の一実施形態によれば、前記ビスマス系ガラスフリットは、ビスマス(Bi)−テルリウム(Te)ガラスフリットであってよい。   According to an embodiment of the present invention, the bismuth-based glass frit may be a bismuth (Bi) -tellurium (Te) glass frit.

本発明の一実施形態によれば、前記ビスマス(Bi)−テルリウム(Te)ガラスフリットは、酸化物換算でテルリウム20〜80モル%とビスマス20〜80モル%とを含む。   According to one embodiment of the present invention, the bismuth (Bi) -tellurium (Te) glass frit contains 20-80 mol% tellurium and 20-80 mol% bismuth in terms of oxide.

本発明の一実施形態によれば、前記電極形成用組成物は、前記導電性粉末60〜95重量%;前記ガラスフリット0.5〜20重量%;および前記有機ビヒクル1〜30重量%を含む。   According to an embodiment of the present invention, the composition for forming an electrode includes the conductive powder 60 to 95% by weight; the glass frit 0.5 to 20% by weight; and the organic vehicle 1 to 30% by weight. .

本発明の一実施形態によれば、前記電極形成用組成物は、表面処理剤、分散剤、揺変剤、可塑剤、粘度安定化剤、消泡剤、顔料、紫外線安定剤、酸化防止剤およびカップリング剤からなる群より選択される添加剤を1種以上さらに含む。   According to one embodiment of the present invention, the electrode forming composition comprises a surface treatment agent, a dispersant, a thixotropic agent, a plasticizer, a viscosity stabilizer, an antifoaming agent, a pigment, an ultraviolet stabilizer, and an antioxidant. And one or more additives selected from the group consisting of coupling agents.

本発明の他の実施形態は、前記電極形成用組成物を用いて製造される電極を提供する。   Other embodiment of this invention provides the electrode manufactured using the said composition for electrode formation.

本発明のまた他の実施形態は、前記電極を含む太陽電池を提供する。   Another embodiment of the present invention provides a solar cell including the electrode.

本発明による電極形成用組成物は、連続印刷性に優れ、基板と電極パターンとの付着力を増加させて太陽電池の効率を向上させることができる。   The composition for forming an electrode according to the present invention is excellent in continuous printability, and can increase the adhesion between the substrate and the electrode pattern to improve the efficiency of the solar cell.

本発明の一実施形態に係る太陽電池の構造を簡略的に示した概略図である。It is the schematic which showed simply the structure of the solar cell which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、添付した図面を参考として本発明の実施形態について本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。しかし、本発明は、多様な異なる形態で実現でき、ここで説明する実施例に限定されない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art to which the present invention pertains can easily implement the embodiments. However, the present invention can be implemented in a variety of different forms and is not limited to the embodiments described herein.

図面では様々な層および領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。明細書全体にわたって類似の部分については同一の図面符号を付し、重複する説明を省略する。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上」にあるとするとき、これは他の部分の「直ぐ上」にある場合だけでなく、その間にまた他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の「直ぐ上」にあるとするときには、その間に他の部分がないことを意味する。   In the drawings, the thickness is shown enlarged to clearly represent the various layers and regions. The dimensional ratios in the drawings are exaggerated for convenience of explanation, and may differ from actual ratios. Similar parts are denoted by the same reference numerals throughout the specification, and redundant description is omitted. When a layer, membrane, region, plate, etc. is “on top” of another part, this is not just “on top” of the other part, but also another part in between Including. Conversely, when a certain part is “just above” another part, it means that there is no other part between them.

本発明の一実施形態は、導電性粉末と、ガラスフリットと、有機バインダー、多官能性(メタ)アクリレート化合物および溶媒を含む有機ビヒクルと、を含む電極形成用組成物を提供する。   One embodiment of the present invention provides an electrode-forming composition comprising a conductive powder, glass frit, and an organic vehicle comprising an organic binder, a polyfunctional (meth) acrylate compound and a solvent.

以下、本発明を詳しく説明する。   The present invention will be described in detail below.

本発明の一実施形態である電極形成用組成物は、導電性粉末を含む。   The composition for electrode formation which is one Embodiment of this invention contains electroconductive powder.

電極形成用組成物は、導電性粉末として金属粉末を使用することができる。金属粉末は、銀(Ag)、金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、レニウム(Re)、チタニウム(Ti)、ニオビウム(Nb)、タンタル(Ta)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、モリブデン(Mo)、バナジウム(V)、亜鉛(Zn)、マグネシウム(Mg)、イットリウム(Y)、コバルト(Co)、ジルコニウム(Zr)、鉄(Fe)、タングステン(W)、錫(Sn)、クロム(Cr)、マンガン(Mn)等を含むことができる。これらのうち、導電性粉末の金属粉末としては、銀(Ag)が好ましい。   The electrode forming composition can use metal powder as the conductive powder. The metal powder is silver (Ag), gold (Au), palladium (Pd), platinum (Pt), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), osmium (Os), iridium (Ir), rhenium (Re), titanium. (Ti), Niobium (Nb), Tantalum (Ta), Aluminum (Al), Copper (Cu), Nickel (Ni), Molybdenum (Mo), Vanadium (V), Zinc (Zn), Magnesium (Mg), Yttrium (Y), cobalt (Co), zirconium (Zr), iron (Fe), tungsten (W), tin (Sn), chromium (Cr), manganese (Mn), and the like can be included. Of these, silver (Ag) is preferable as the metal powder of the conductive powder.

導電性粉末は、ナノサイズまたはマイクロサイズの粒径を有する粉末であってよいが、例えば、数十〜数百ナノメートルの大きさの導電性粉末、数〜数十マイクロメートルの導電性粉末であってもよく、2つ以上の互いに異なるサイズを有する導電性粉末を混合して使用してもよい。   The conductive powder may be a powder having a nano-size or micro-size particle size, for example, a conductive powder having a size of several tens to several hundreds of nanometers, a conductive powder having a size of several tens to several tens of micrometers. Two or more conductive powders having different sizes may be mixed and used.

導電性粉末は、粒子の形状が球状、板状、または無定形の形状を有することができる。導電性粉末の平均粒径(D50)(体積換算)は、好ましくは0.1μm〜10μmであり、より好ましくは0.5μm〜5μmである。平均粒径は、イソプロピルアルコール(IPA)に導電性粉末を超音波で常温(24℃〜25℃)で3分間分散させた後、CILAS社製の1064LDモデルを用いて測定したものである。導電性粉末の平均粒径が前記範囲内であれば、接触抵抗と線抵抗が低くなる効果を有することができる。   The conductive powder can have a spherical shape, a plate shape, or an amorphous shape. The average particle diameter (D50) (volume conversion) of the conductive powder is preferably 0.1 μm to 10 μm, more preferably 0.5 μm to 5 μm. The average particle diameter is measured using a 1064LD model manufactured by CILAS after dispersing conductive powder in isopropyl alcohol (IPA) at room temperature (24 ° C. to 25 ° C.) for 3 minutes. If the average particle diameter of the conductive powder is within the above range, the contact resistance and the line resistance can be reduced.

導電性粉末は、電極形成用組成物の総量100重量%に対して60〜95重量%で含まれるのが好ましい。導電性粉末が前記範囲で含有されることで、抵抗の増加によって変換効率が低くなるのを防止することができ、有機ビヒクル量の相対的な減少でペースト化が困難になるのを防止することができる。導電性粉末は、より好ましくは電極形成用組成物の総量100重量%に対して70〜90重量%で含まれる。   The conductive powder is preferably contained at 60 to 95% by weight with respect to 100% by weight of the total amount of the electrode forming composition. By containing the conductive powder in the above range, it is possible to prevent the conversion efficiency from being lowered due to the increase in resistance, and to prevent the paste from becoming difficult due to the relative decrease in the amount of the organic vehicle. Can do. More preferably, the conductive powder is contained in an amount of 70 to 90% by weight based on 100% by weight of the total amount of the electrode forming composition.

本発明の一実施形態である電極形成用組成物は、ガラスフリットを含む。   The composition for electrode formation which is one Embodiment of this invention contains a glass frit.

ガラスフリット(glass frit)は、電極形成用組成物の焼成工程中に反射防止膜をエッチング(etching)し、導電性粉末粒子を溶融させて抵抗が低くなるようにエミッタ領域に導電性粉末の金属結晶粒子を生成させ、導電性粉末とウエハとの間の接着力を向上させ、焼結時に軟化して焼成温度をより下げる効果を誘導する。   Glass frit is a conductive powder metal in the emitter region that etches the antireflective coating during the firing process of the electrode-forming composition to melt the conductive powder particles and lower the resistance. Crystal particles are generated, the adhesive force between the conductive powder and the wafer is improved, and the effect of lowering the firing temperature by softening during sintering is induced.

太陽電池の効率を増加させるために太陽電池の面積を増加させると、太陽電池の接触抵抗が高くなり得るので、pn接合(pn junction)に対する被害を最小化すると同時に、直列抵抗を最小化させなければならない。また、多様な面抵抗のウエハの増加によって焼成温度の変動幅が大きくなるので、広い焼成温度でも熱安定性を十分に確保可能なガラスフリットを使用することが好ましい。   Increasing the area of the solar cell to increase the efficiency of the solar cell can increase the contact resistance of the solar cell, so the damage to the pn junction must be minimized while at the same time minimizing the series resistance. I must. In addition, since the variation range of the firing temperature is increased by increasing the number of wafers having various sheet resistances, it is preferable to use a glass frit that can sufficiently ensure thermal stability even at a wide firing temperature.

ガラスフリットは、通常、電極形成用組成物に使用される有鉛ガラスフリットおよび無鉛ガラスフリットのうちのいずれか1つ以上が使用できる。   As the glass frit, any one or more of a leaded glass frit and a lead-free glass frit usually used in an electrode forming composition can be used.

ガラスフリットは、好ましくは、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリットおよびこれらの混合物からなる群より選択される。   The glass frit is preferably selected from the group consisting of bismuth-based glass frit, lead-based glass frit and mixtures thereof.

ガラスフリットは、鉛(Pb)、テルリウム(Te)、ビスマス(Bi)、リチウム(Li)、リン(P)、ゲルマニウム(Ge)、ガリウム(Ga)、セリウム(Ce)、鉄(Fe)、ケイ素(Si)、亜鉛(Zn)、タングステン(W)、マグネシウム(Mg)、セシウム(Cs)、ストロンチウム(Sr)、モリブデン(Mo)、チタニウム(Ti)、錫(Sn)、インジウム(In)、バナジウム(V)、バリウム(Ba)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、砒素(As)、コバルト(Co)、ジルコニウム(Zr)、マンガン(Mn)およびアルミニウム(Al)から選択される1種以上の元素を含むことができる。   Glass frit consists of lead (Pb), tellurium (Te), bismuth (Bi), lithium (Li), phosphorus (P), germanium (Ge), gallium (Ga), cerium (Ce), iron (Fe), silicon (Si), zinc (Zn), tungsten (W), magnesium (Mg), cesium (Cs), strontium (Sr), molybdenum (Mo), titanium (Ti), tin (Sn), indium (In), vanadium (V), barium (Ba), nickel (Ni), copper (Cu), sodium (Na), potassium (K), arsenic (As), cobalt (Co), zirconium (Zr), manganese (Mn) and aluminum One or more elements selected from (Al) can be included.

ビスマス系ガラスフリットは、ビスマス(Bi)−テルリウム(Te)ガラスフリットであるのが好ましい。   The bismuth-based glass frit is preferably a bismuth (Bi) -tellurium (Te) glass frit.

ビスマス(Bi)−テルリウム(Te)ガラスフリットは、好ましくは、酸化物換算でテルリウム20〜80モル%およびビスマス20〜80モル%を含む。ビスマス(Bi)−テルリウム(Te)ガラスフリットの各成分が前記範囲の含有量であれば、優れた太陽電池の変換効率(efficiency)および電極パターンの付着強度(adhesion strength)を同時に確保可能である。   The bismuth (Bi) -tellurium (Te) glass frit preferably contains 20-80 mol% tellurium and 20-80 mol% bismuth in terms of oxide. If each component of the bismuth (Bi) -tellurium (Te) glass frit is within the above range, it is possible to simultaneously ensure excellent conversion efficiency (efficiency) of the solar cell and adhesion strength (adhesion strength) of the electrode pattern. .

ガラスフリットは、通常の方法を用いて、前述した元素の酸化物から由来するものであってよい。例えば、前記元素の酸化物を特定組成で混合して製造した混合物を溶融した後、クエンチング(quenching)してから、再び粉砕して得ることができる。前記混合工程は、ボールミル(ball mill)またはプラネタリーミル(planetary mill)を用いて実施できる。前記溶融工程は、700℃〜1300℃の条件で実施可能であり、前記クエンチング工程は、常温(24℃〜25℃)で実施可能である。前記粉砕工程は、ディスクミル(disk mill)、プラネタリーミルなどによって実施できるが、これに限定されるものではない。   The glass frit may be derived from the oxides of the elements described above using conventional methods. For example, it can be obtained by melting a mixture prepared by mixing oxides of the above elements with a specific composition, quenching, and then grinding again. The mixing process may be performed using a ball mill or a planetary mill. The melting step can be performed at 700 ° C. to 1300 ° C., and the quenching step can be performed at room temperature (24 ° C. to 25 ° C.). The pulverization process may be performed by a disk mill, a planetary mill, or the like, but is not limited thereto.

ガラスフリットは、平均粒径(D50)(体積換算)が0.1μm〜10μmのものが使用可能である。また、ガラスフリットは、好ましくは、電極形成用組成物の総量100重量%に対して0.5〜20重量%で含まれる。ガラスフリットが前記範囲内で含有されることで、電極の電気的特性を阻害しない範囲で電極パターンの付着強度(adhesion strength)を向上させることができる。なお、平均粒径(D50)は、溶媒にガラスフリットを超音波で、常温(24℃〜25℃)で3分間分散させた後、CILAS社製の1064LDモデルを用いて測定したものである。   A glass frit having an average particle diameter (D50) (volume conversion) of 0.1 μm to 10 μm can be used. The glass frit is preferably contained in an amount of 0.5 to 20% by weight based on 100% by weight of the total amount of the electrode forming composition. When the glass frit is contained within the above range, the adhesion strength of the electrode pattern can be improved within a range that does not hinder the electrical characteristics of the electrode. The average particle diameter (D50) is measured using a 1064LD model manufactured by CILAS after dispersing glass frit in a solvent for 3 minutes at room temperature (24 ° C. to 25 ° C.).

ガラスフリットの形状は、球状でも無定形状(non−shape)でも構わない。一実施形態において、転移温度が異なる2種のガラスフリットを使用してもよい。例えば、転移温度が200℃以上350℃以下の第1ガラスフリットと、転移温度が350℃超過550℃以下の第2ガラスフリットを、1:0.2〜1:1の重量比で混合して使用することができる。   The shape of the glass frit may be spherical or non-shaped. In one embodiment, two glass frits with different transition temperatures may be used. For example, a first glass frit having a transition temperature of 200 ° C. or more and 350 ° C. or less and a second glass frit having a transition temperature exceeding 350 ° C. and not more than 550 ° C. are mixed at a weight ratio of 1: 0.2 to 1: 1. Can be used.

本発明の一実施形態である電極形成用組成物は、有機ビヒクルを含む。   The composition for electrode formation which is one Embodiment of this invention contains an organic vehicle.

有機ビヒクルは、電極形成用組成物の無機成分と機械的混合を通じて、電極形成用組成物に印刷に適した粘度および流変学的特性を付与する。有機ビヒクルは、有機バインダー、多官能性(メタ)アクリレート化合物および溶媒を含む。   The organic vehicle imparts viscosity and rheological properties suitable for printing to the electrode forming composition through mechanical mixing with the inorganic components of the electrode forming composition. The organic vehicle includes an organic binder, a polyfunctional (meth) acrylate compound and a solvent.

有機バインダーは、アクリレート系またはセルロース系樹脂などを使用することができ、エチルセルロースが一般的に使用される樹脂である。また、エチルヒドロキシエチルセルロース、ニトロセルロース、エチルセルロースとフェノール系樹脂との混合物、アルキド樹脂、フェノール系樹脂、アクリル酸エステル系樹脂、キシレン系樹脂、ポリブテン系樹脂、ポリエステル系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、木材ロジン(rosin)またはアルコールのポリメタクリレート等も使用することができる。   As the organic binder, an acrylate-based or cellulose-based resin can be used, and ethyl cellulose is a resin that is generally used. Also, ethyl hydroxyethyl cellulose, nitrocellulose, mixture of ethyl cellulose and phenol resin, alkyd resin, phenol resin, acrylate resin, xylene resin, polybutene resin, polyester resin, urea resin, melamine resin Vinyl acetate resin, wood rosin, alcohol polymethacrylate, and the like can also be used.

有機バインダーの重量平均分子量(Mw)は、好ましくは30,000〜200,000g/molであり、より好ましくは40,000〜150,000g/molである。重量平均分子量(Mw)が前記範囲内である場合、印刷性の面で優れた効果を有することができるため好ましい。なお、有機バインダーの重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)を用いて測定した値である。   The weight average molecular weight (Mw) of the organic binder is preferably 30,000 to 200,000 g / mol, and more preferably 40,000 to 150,000 g / mol. When the weight average molecular weight (Mw) is within the above range, it is preferable because an excellent effect can be obtained in terms of printability. The weight average molecular weight of the organic binder is a value measured using gel permeation chromatography (GPC).

多官能性(メタ)アクリレート化合物は、2つ以上のアクリレート基またはメタクリレート基を有する化合物を意味する。つまり、単官能性(メタ)アクリレート化合物は、本発明では排除される。   A polyfunctional (meth) acrylate compound means a compound having two or more acrylate groups or methacrylate groups. That is, monofunctional (meth) acrylate compounds are excluded in the present invention.

本発明において、多官能性(メタ)アクリレート化合物は、ジ(メタ)アクリレート化合物、トリ(メタ)アクリレート化合物、テトラ(メタ)アクリレート化合物およびこれらの混合物からなる群より選択されるのが好ましい。   In the present invention, the polyfunctional (meth) acrylate compound is preferably selected from the group consisting of di (meth) acrylate compounds, tri (meth) acrylate compounds, tetra (meth) acrylate compounds, and mixtures thereof.

さらには、多官能性(メタ)アクリレート化合物は、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートおよびこれらの混合物からなる群より選択されるのがより好ましい。   Furthermore, the polyfunctional (meth) acrylate compounds are trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di More selected from the group consisting of (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate and mixtures thereof. preferable.

多官能性(メタ)アクリレート化合物は、好ましくは200〜500、より好ましくは250〜400、さらに好ましくは250〜360の分子量を有する。分子量が前記範囲内であれば、良好な連続印刷性を確保し、シリーズ抵抗(Rs)の増加を最小化することにより、効率を向上させることができる。   The polyfunctional (meth) acrylate compound preferably has a molecular weight of 200 to 500, more preferably 250 to 400, and still more preferably 250 to 360. If the molecular weight is within the above range, the efficiency can be improved by ensuring good continuous printability and minimizing the increase in series resistance (Rs).

多官能性(メタ)アクリレート化合物は、200℃〜400℃で熱処理された後にも熱硬化されずに膜に残存することができる。つまり、多官能性(メタ)アクリレート化合物は、熱処理によって熱硬化されずに膜内に残存することにより、多官能性基が基板とパターンとの接着性を向上させる役割を果たすことができる。   The polyfunctional (meth) acrylate compound can remain in the film without being thermally cured even after heat treatment at 200 ° C. to 400 ° C. That is, the polyfunctional (meth) acrylate compound remains in the film without being thermally cured by heat treatment, so that the polyfunctional group can play a role of improving the adhesion between the substrate and the pattern.

すなわち、多官能性(メタ)アクリレート化合物は、前記電極形成用組成物を200〜400℃で熱処理した後に生成された膜に残存するものである。   That is, a polyfunctional (meth) acrylate compound remains in the film | membrane produced | generated after heat-processing the said composition for electrode formation at 200-400 degreeC.

多官能性(メタ)アクリレート化合物は、電極形成用組成物100重量%に対して、好ましくは0.15〜2重量%、より好ましくは0.2〜2重量%で含まれる。前記範囲で、電極形成用組成物の連続印刷性を向上させることができ、電極パターンと基板との付着力を向上させることができる。   The polyfunctional (meth) acrylate compound is contained in an amount of preferably 0.15 to 2% by weight, more preferably 0.2 to 2% by weight with respect to 100% by weight of the electrode forming composition. In the said range, the continuous printability of the composition for electrode formation can be improved, and the adhesive force of an electrode pattern and a board | substrate can be improved.

溶媒としては、例えば、ヘキサン、トルエン、テキサノール(texanol)(登録商標)(2,2,4−トリメチルペンタン−1,3−ジオールモノイソブチラート)、メチルセロソルブ(methyl cellosolve)、エチルセロソルブ、シクロヘキサノン、ブチルセロソルブ、脂肪族アルコール(aliphatic alcohol)、ブチルカルビトール(ジエチレングリコールモノブチルエーテル)、ジブチルカルビトール(ジエチレングリコールジブチルエーテル)、ブチルカルビトールアセテート(ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、へキシレングリコール、テルピネオール(terpineol)、メチルエチルケトン、ベンジルアルコール、ガンマブチロラクトン、乳酸エチルなどを単独または2種以上混合して使用することができる。   Examples of the solvent include hexane, toluene, texanol (registered trademark) (2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol monoisobutyrate), methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and cyclohexanone. , Butyl cellosolve, aliphatic alcohol, butyl carbitol (diethylene glycol monobutyl ether), dibutyl carbitol (diethylene glycol dibutyl ether), butyl carbitol acetate (diethylene glycol monobutyl ether acetate), propylene glycol monomethyl ether, hexylene glycol, terpineol (Terpineol), methyl ethyl ketone, benzyl alcohol, Gamma butyrolactone, ethyl lactate and the like can be used alone or in combination of two or more.

有機ビヒクルの含有量は、電極形成用組成物の総量100重量%に対して、好ましくは1〜30重量%、より好ましくは5〜15重量%で含まれる。前記範囲であれば、電極パターンと基板との付着強度を向上させることができ、優れた連続印刷性を確保することができる。   The content of the organic vehicle is preferably 1 to 30% by weight and more preferably 5 to 15% by weight with respect to 100% by weight of the total amount of the electrode forming composition. If it is the said range, the adhesive strength of an electrode pattern and a board | substrate can be improved and the outstanding continuous printability can be ensured.

電極形成用組成物は、上述した構成要素のほか、流動特性、工程特性および安定性を向上させるために、必要に応じて通常の添加剤をさらに含むことができる。添加剤は、表面処理剤、分散剤、揺変剤、可塑剤、粘度安定化剤、消泡剤、顔料、紫外線安定剤、酸化防止剤、カップリング剤などを単独または2種以上混合して使用することができる。   In addition to the above-described constituent elements, the electrode-forming composition may further contain a conventional additive as necessary in order to improve flow characteristics, process characteristics, and stability. Additives include surface treatment agents, dispersants, thixotropic agents, plasticizers, viscosity stabilizers, antifoaming agents, pigments, UV stabilizers, antioxidants, coupling agents, etc., alone or in combination. Can be used.

添加剤は、電極形成用組成物の総量100重量%に対して、0.1〜5重量%で含まれてもよいが、必要に応じて含有量を変更することができる。添加剤の含有量は、電極形成用組成物の印刷特性、分散性および保存安定性を考慮して選択可能である。   Although an additive may be contained at 0.1 to 5% by weight with respect to 100% by weight of the total amount of the electrode forming composition, the content can be changed as necessary. The content of the additive can be selected in consideration of the printing characteristics, dispersibility, and storage stability of the electrode forming composition.

本発明の他の実施形態によれば、前記電極形成用組成物を用いて形成される電極が提供される。   According to other embodiment of this invention, the electrode formed using the said composition for electrode formation is provided.

電極は、電極形成用組成物の塗布、パターニングおよび焼成により、ウエハの表面に一定のパターンで形成可能である。前記電極形成用組成物の塗布は、スクリーンプリンティング、グラビアオフセット工法、ロータリースクリーンプリンティング工法またはリフトオフ法などの多様な方法が使用できるが、これに限定されるものではない。塗布した電極形成用組成物は、一定のパターンを有し、10μm〜40μmの厚さを有することが好ましい。   The electrode can be formed in a certain pattern on the surface of the wafer by applying, patterning and baking the electrode forming composition. The electrode forming composition can be applied by various methods such as screen printing, gravure offset method, rotary screen printing method, lift-off method, but is not limited thereto. The applied electrode forming composition preferably has a certain pattern and a thickness of 10 μm to 40 μm.

パターニングした電極形成用組成物の焼成工程は、下記太陽電池の製作工程で詳しく説明する。   The baking process of the patterned electrode forming composition will be described in detail in the following solar cell manufacturing process.

また本発明の他の実施形態によれば、前記電極を含む太陽電池が提供される。図1を参照して本発明の一実施形態に係る太陽電池を説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る太陽電池の構造を簡略に示した概略図である。なお、矢印である符号300は、光の入射方向を示す。   Moreover, according to other embodiment of this invention, the solar cell containing the said electrode is provided. A solar cell according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic view schematically showing the structure of a solar cell according to an embodiment of the present invention. In addition, the code | symbol 300 which is an arrow shows the incident direction of light.

図1を参照すれば、p層(またはn層)101およびエミッタとしてのn層(またはp層)102を含む基板100上に、電極形成用組成物を印刷し焼成して、後面電極210および前面電極230を形成することができる。例えば、電極形成用組成物を基板100の後面に印刷塗布した後、約200℃〜400℃の温度で、約10〜60秒程度熱処理して、後面電極のための事前準備段階を行うことができる。このとき、熱処理後の電極形成用組成物には、多官能性(メタ)アクリレート化合物が熱硬化されずに残存する。   Referring to FIG. 1, an electrode-forming composition is printed and fired on a substrate 100 including a p-layer (or n-layer) 101 and an n-layer (or p-layer) 102 as an emitter, and a rear electrode 210 and A front electrode 230 can be formed. For example, the electrode forming composition may be printed on the rear surface of the substrate 100 and then heat-treated at a temperature of about 200 ° C. to 400 ° C. for about 10 to 60 seconds to perform a preliminary preparation step for the rear electrode. it can. At this time, the polyfunctional (meth) acrylate compound remains in the electrode-forming composition after the heat treatment without being thermally cured.

また、基板100の前面に電極形成用組成物を印刷した後、乾燥して、前面電極のための事前準備段階を行うことができる。以降、400℃〜980℃、好ましくは700℃〜980℃で、約30秒〜210秒焼成する焼成過程を行って、前面電極および後面電極を形成することができる。   In addition, the electrode forming composition may be printed on the front surface of the substrate 100 and then dried to perform a preliminary preparation step for the front electrode. Thereafter, a front electrode and a rear electrode can be formed by performing a baking process of baking at 400 ° C. to 980 ° C., preferably 700 ° C. to 980 ° C. for about 30 seconds to 210 seconds.

以下、実施例を通じて、本発明をより具体的に説明するが、これらの実施例は単に説明の目的のためのものであって、本発明を制限するものと解釈されてはならない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, these examples are merely for the purpose of explanation and should not be construed as limiting the present invention.

実施例1〜7および比較例1〜11
有機バインダー(エチルセルロース、Dow chemical company、STD4)(Mw=50,000g/mol)とテキサノール(登録商標)(Eastman)とを60℃で十分に溶解した後、平均粒径(体積換算)が2.0μmの球状の銀粉末(Dowa Hightech Co.LTD AG−5−11F)、平均粒径が1.0μm(体積換算)であり、Bi−Te系無鉛ガラス粉末(ABT−1、旭硝子株式会社製)、(メタ)アクリレート化合物、分散剤(BYK−chemie、BYK−102)および揺変剤(Elementis Co.、Thixatrol ST)を投入してミキシング後、3本ロールミルで混合分散させて、電極形成用組成物を製造した。
Examples 1-7 and Comparative Examples 1-11
After sufficiently dissolving an organic binder (ethyl cellulose, Dow chemical company, STD4) (Mw = 50,000 g / mol) and Texanol (registered trademark) (Eastman) at 60 ° C., the average particle size (volume conversion) is 2. 0 μm spherical silver powder (Dowa Hightech Co. LTD AG-5-11F), average particle size is 1.0 μm (volume conversion), Bi-Te lead-free glass powder (ABT-1, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) , (Meth) acrylate compound, dispersing agent (BYK-chemie, BYK-102) and thixotropic agent (Elementis Co., Thixatrol ST), mixing and dispersing with a three-roll mill, and composition for electrode formation The thing was manufactured.

Bi−Te系無鉛ガラス粉末は、旭硝子株式会社製、ABT−1を用いた。   ABT-1 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. was used as the Bi-Te lead-free glass powder.

(メタ)アクリレート化合物としては、Miwon Specialty Chemical社の下記化合物を使用した。   As the (meth) acrylate compound, the following compound of Miwon Specialty Chemical was used.

(A)単官能アクリレート化合物のフェノール(EO)4アクリレート(Phenol(EO)4Acrylate)(Miramer M4144、分子量:324)、
(B)二官能アクリレート化合物のポリエチレングリコ−ル200ジアクリレート(Polyethylene glycol 200 Diacrylate)(Miramer M282、分子量:308)、
(C)三官能アクリレート化合物のペンタエリスリトールトリアクリレート(Pentaerythritol triacrylate)(Miramer M340、分子量:298)、
(D)四官能アクリレート化合物のペンタエリスリトールテトラアクリレート(Pentaerythritol Tetraacrylate)(Miramer M420、分子量:352)および
(E)三官能アクリレート化合物のトリメチロールプロパン(EO)15(Trimethylolpropane(EO)15)(Miramer M3150、分子量:956)を使用した。
(A) Phenol (EO) 4 acrylate (Miramer M4144, molecular weight: 324) of monofunctional acrylate compound,
(B) Polyethylene glycol 200 diacrylate of a bifunctional acrylate compound (Miramer M282, molecular weight: 308),
(C) Pentaerythritol triacrylate of a trifunctional acrylate compound (Miramer M340, molecular weight: 298),
(D) tetrafunctional acrylate compound pentaerythritol tetraacrylate (Miramer M420, molecular weight: 352) and (E) trifunctional acrylate compound trimethylolpropane (EO) 15 (Trimethylolpropane (EO) 15) (Miramer M , Molecular weight: 956).

使用した各成分の含有量(重量%)を下記表1に記載した。   The content (% by weight) of each component used is shown in Table 1 below.

電極パターンの印刷性の評価
実施例1〜7および比較例1〜11により製造した電極形成用組成物をウエハの上に前面印刷した後、印刷された電極のLine Broken数を肉眼で数えて、下記基準により評価した。その結果を下記表2に記載した。なお、印刷された電極のラインが断線となったものを、Line Brokenと判断した。
Evaluation of Printability of Electrode Pattern After front-printing the electrode-forming composition produced in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 11 on the wafer, the number of line brokens of the printed electrodes was counted with the naked eye, Evaluation was made according to the following criteria. The results are shown in Table 2 below. In addition, what the line of the printed electrode was disconnected was judged as Line Broken.

5A:0個、4A:0個を超えて3個未満、3A:3個以上6個未満、2A:6個以上12個未満、1A:12個以上15個未満、および0A:15個以上。   5A: 0, 4A: More than 0 and less than 3, 3A: 3 or more and less than 6, 2A: 6 or more and less than 12, 1A: 12 or more and less than 15, and 0A: 15 or more.

電極パターンの付着力の評価
400meshスクリーンで5cm×5cmサイズで正四角形となるように、ウエハの上に実施例1〜7および比較例1〜11により製造した電極形成用組成物を前面印刷して、300〜400℃の間で乾燥してサンプルを製作した。格子付着性の評価(ASTMD3359)に基づいてcrosscut knifeで100個の格子模様を作って、金属付着力専用テープ(3M、#610)を付けてから外し、取れた格子数を下記基準により換算して結果値を区分した。その結果を下記表2に記載した。
Evaluation of Adhesiveness of Electrode Pattern The electrode-forming compositions produced in Examples 1-7 and Comparative Examples 1-11 were printed on the front surface of the wafer so as to form a regular square with a size of 5 cm × 5 cm on a 400 mesh screen. The sample was produced by drying between 300-400 ° C. Based on the evaluation of grid adhesion (ASTM D3359), make 100 grid patterns with cross knife, attach and remove the metal adhesion tape (3M, # 610), and convert the number of grids taken according to the following criteria. The result values were divided. The results are shown in Table 2 below.

5B:0%、4B:0%を超えて5%未満、3B:5%以上15%未満、2B:15%以上35%未満、1B:35%以上65%未満、および0B:65%以上。   5B: 0%, 4B: more than 0% and less than 5%, 3B: 5% or more and less than 15%, 2B: 15% or more and less than 35%, 1B: 35% or more and less than 65%, and 0B: 65% or more.

表2を参照すれば、実施例1〜7の電極形成用組成物で製造された電極パターンに対する比較例1、2、3、5、7および9の電極形成用組成物で製造された電極パターンは、付着力が良くなく、比較例4、6、8、10および11の場合、付着力は良好であるが、印刷性の不足によりRs上昇を招いて、効率に逆効果を与えると予想される。これに対し、実施例1〜7の電極形成用組成物で製造された電極パターンは、付着力に優れながらも十分な印刷性を確保して効率向上に寄与すると判断される。   Referring to Table 2, the electrode patterns manufactured with the electrode forming compositions of Comparative Examples 1, 2, 3, 5, 7 and 9 with respect to the electrode patterns manufactured with the electrode forming compositions of Examples 1-7. The adhesive force is not good, and in Comparative Examples 4, 6, 8, 10 and 11, the adhesive force is good, but it is expected that Rs will increase due to insufficient printability and adversely affect the efficiency. The On the other hand, it is judged that the electrode pattern manufactured with the composition for electrode formation of Examples 1-7 ensures sufficient printability, but contributes to efficiency improvement, although it is excellent in adhesive force.

太陽電池の電気的効率の評価
ウエハ(ボロンがドーピングされたpタイプのウエハ)の前面にテクスチャリング(texturing)した後、POClでn+層を形成し、その上に窒化ケイ素(SiNx:H)を反射防止膜として形成させたMulticrystallineウエハ)の前面に、実施例1〜7および比較例1〜11により製造した電極形成用組成物を、それぞれ一定のパターンでスクリーン印刷し、赤外線乾燥炉を用いて300〜400℃の温度で乾燥させた。以降、ウエハの後面にアルミニウムペーストを印刷した後、同様な方法で乾燥した。前記過程で形成したセルを、ベルト型焼成炉を用いて400〜900℃の温度で30秒から50秒間焼成を行って、テスト用セルを製作した。
Evaluation of electrical efficiency of solar cell After texturing the front surface of a wafer (a p-type wafer doped with boron), an n + layer is formed with POCl 3 and silicon nitride (SiNx: H) is formed thereon. The electrode forming compositions produced in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 11 were screen-printed in a predetermined pattern on the front surface of a multicrystalline line wafer formed with an antireflection film, and an infrared drying furnace was used. And dried at a temperature of 300 to 400 ° C. Thereafter, an aluminum paste was printed on the rear surface of the wafer and then dried in the same manner. The cell formed in the above process was baked at a temperature of 400 to 900 ° C. for 30 seconds to 50 seconds using a belt-type baking furnace to manufacture a test cell.

製作したテスト用セルの電気的特性(短絡電流(Isc(A))、曲線因子(fill factor)および効率)を、太陽電池効率測定装備(Pasan社、CT−801)を用いて測定した。その結果を下記表3に記載した。   The electrical characteristics (short circuit current (Isc (A)), fill factor and efficiency) of the manufactured test cell were measured using a solar cell efficiency measurement equipment (Pasan, CT-801). The results are shown in Table 3 below.

表3を参照すれば、実施例1〜7の電極形成用組成物を用いて製造された太陽電池は、比較例1〜11による電極形成用組成物を用いて製造された太陽電池に比べて、FFと効率が全て良好な値を示した。   Referring to Table 3, the solar cells manufactured using the electrode forming compositions of Examples 1 to 7 are compared to the solar cells manufactured using the electrode forming compositions of Comparative Examples 1 to 11. , FF and efficiency all showed good values.

本発明の単なる変形や変更は、この分野における通常の知識を有する者によって容易に実施可能であり、このような変形や変更は全て本発明の領域に含まれるものと見なされる。   Only variations and modifications of the present invention can be readily implemented by those having ordinary knowledge in the art, and all such variations and modifications are considered to be within the scope of the present invention.

100 基板、
101 p層(またはn層)、
102 n層(またはp層)、
210 後面電極、
230 前面電極、
300 光。
100 substrates,
101 p layer (or n layer),
102 n layer (or p layer),
210 rear electrode,
230 Front electrode,
300 light.

Claims (13)

導電性粉末と、
ガラスフリットと、
有機バインダー、多官能性(メタ)アクリレート化合物および溶媒を含む有機ビヒクルと、を含む電極形成用組成物であって、
前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、200〜500の分子量を有し、前記電極形成用組成物100重量%に対して、0.15〜2重量%で含まれる、電極形成用組成物。
Conductive powder;
Glass frit,
An organic binder containing an organic binder, a polyfunctional (meth) acrylate compound and a solvent, and an electrode forming composition comprising:
The polyfunctional (meth) acrylate compound has a molecular weight of 200 to 500, and is contained at 0.15 to 2% by weight with respect to 100% by weight of the electrode forming composition.
前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、ジ(メタ)アクリレート化合物、トリ(メタ)アクリレート化合物、テトラ(メタ)アクリレート化合物およびこれらの混合物からなる群より選択される、請求項1に記載の電極形成用組成物。   The electrode according to claim 1, wherein the polyfunctional (meth) acrylate compound is selected from the group consisting of a di (meth) acrylate compound, a tri (meth) acrylate compound, a tetra (meth) acrylate compound, and a mixture thereof. Forming composition. 前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートおよびこれらの混合物からなる群より選択される、請求項1または2に記載の電極形成用組成物。   The polyfunctional (meth) acrylate compound includes trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) 2) selected from the group consisting of acrylate), hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate and mixtures thereof. 2. The composition for forming an electrode according to 2. 前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、前記電極形成用組成物100重量%に対して0.2〜2重量%の量で含まれる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の電極形成用組成物。   The electrode according to any one of claims 1 to 3, wherein the polyfunctional (meth) acrylate compound is contained in an amount of 0.2 to 2 wt% with respect to 100 wt% of the electrode forming composition. Forming composition. 前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、250〜400の分子量を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の電極形成用組成物。   The composition for electrode formation according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyfunctional (meth) acrylate compound has a molecular weight of 250 to 400. 前記多官能性(メタ)アクリレート化合物は、前記電極形成用組成物を200〜400℃で熱処理した後に生成された膜に残存するものである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の電極形成用組成物。   The said polyfunctional (meth) acrylate compound remains in the film | membrane produced | generated after heat-processing the said composition for electrode formation at 200-400 degreeC, The any one of Claims 1-5. Electrode forming composition. 前記ガラスフリットは、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリットおよびこれらの混合物からなる群より選択される、請求項1〜6のいずれか1項に記載の電極形成用組成物。   The composition for forming an electrode according to any one of claims 1 to 6, wherein the glass frit is selected from the group consisting of a bismuth glass frit, a lead glass frit, and a mixture thereof. 前記ビスマス系ガラスフリットは、ビスマス(Bi)−テルリウム(Te)ガラスフリットである、請求項7に記載の電極形成用組成物。   The composition for forming an electrode according to claim 7, wherein the bismuth-based glass frit is a bismuth (Bi) -tellurium (Te) glass frit. 前記ビスマス(Bi)−テルリウム(Te)ガラスフリットは、酸化物換算でテルリウム20〜80モル%とビスマス20〜80モル%を含むガラスフリットである、請求項8に記載の電極形成用組成物。   The composition for forming an electrode according to claim 8, wherein the bismuth (Bi) -tellurium (Te) glass frit is a glass frit containing 20 to 80 mol% tellurium and 20 to 80 mol% bismuth in terms of oxide. 前記電極形成用組成物は、前記導電性粉末60〜95重量%;前記ガラスフリット0.5〜20重量%;および前記有機ビヒクル1〜30重量%を含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の電極形成用組成物。   The electrode forming composition includes 60 to 95% by weight of the conductive powder; 0.5 to 20% by weight of the glass frit; and 1 to 30% by weight of the organic vehicle. The composition for electrode formation as described in the item. 前記電極形成用組成物は、表面処理剤、分散剤、揺変剤、可塑剤、粘度安定化剤、消泡剤、顔料、紫外線安定剤、酸化防止剤およびカップリング剤からなる群より選択される添加剤を1種以上さらに含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載の電極形成用組成物。   The electrode forming composition is selected from the group consisting of a surface treatment agent, a dispersant, a thixotropic agent, a plasticizer, a viscosity stabilizer, an antifoaming agent, a pigment, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, and a coupling agent. The composition for forming an electrode according to any one of claims 1 to 10, further comprising one or more additives. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の電極形成用組成物を用いて製造される電極。   The electrode manufactured using the composition for electrode formation of any one of Claims 1-11. 請求項12に記載の電極を含む太陽電池。   A solar cell comprising the electrode according to claim 12.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69910335T2 (en) * 1998-12-11 2004-07-01 E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington Composition for a photosensitive conductive tape containing silver and the tape treated therewith
KR100996235B1 (en) * 2004-06-01 2010-11-25 주식회사 동진쎄미켐 Pb free Ag paste composition for PDP address electrode
KR20120008135A (en) * 2010-07-16 2012-01-30 주식회사 동진쎄미켐 Thermosetting electrode paste composition for low temperature firing containing adherence-enhancing agent
JP5559509B2 (en) * 2009-10-28 2014-07-23 昭栄化学工業株式会社 Conductive paste for solar cell electrode formation
KR101309813B1 (en) * 2010-12-10 2013-09-23 제일모직주식회사 Composition for forming electrode and electrode produced thereby
CN102956283B (en) * 2012-10-25 2016-08-03 上海玻纳电子科技有限公司 A kind of new and effective crystal silicon solar batteries unleaded silver slurry and preparation and application thereof
DE102014014322B4 (en) * 2014-10-01 2017-11-23 Ferro Gmbh Tellurate-Fügeglas with processing temperatures ≦ 400 ° C.

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