JP2016209794A - Gas treatment equipment - Google Patents

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泰世司 曽師
Yasuyoshi Soshi
泰世司 曽師
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Kurashima Takeo
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide gas treatment equipment which enables a gas mixed with harmful substances to efficiently be treated with a relatively simple device.SOLUTION: A gas treatment device is provided in place of conventional gas treatment equipment, where the gas treatment device has a hollow conical inner tube getting shrunk in diameter downward to form an exhaust port at the bottom, a swirl flow formation means that is a disk-like member installed at the top end of the conical inner tube and has at least two gas swirl tray-like plates provided with a plurality of through-holes, and a jet means having a jet nozzle for jetting a compressed gas, which is fed to the top part of the conical inner tube along the top inner peripheral surface of the conical inner tube, in a direction along the swirling direction of the gas, thereby keeping at least two gas swirl tray-like plates vertically stacked with gaps from each other.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ガスを処理するガス処理設備に関する。特に、不純物、有害物質を含むガスを処理するのに適したガス処理装置に関する。   The present invention relates to a gas processing facility for processing gas. In particular, the present invention relates to a gas processing apparatus suitable for processing a gas containing impurities and harmful substances.

一般的に、ガス中には、NOxやダイオキシン類、放射性物質など気体状態や分子レベルの大きさで存在する有害物質の他に、粉塵などの固体状態で存在する物質が混在している。   In general, in a gas, in addition to harmful substances existing in a gaseous state or molecular level such as NOx, dioxins, and radioactive substances, substances existing in a solid state such as dust are mixed.

排気ガス中の微粉状固体、放射性物質を除去するものとしては、従来から遠心力方式を採用するサイクロンや、濾過方式を採用するバグフィルタなどが知られている。これらのものは、いずれも、排気ガス中の微粉状固体だけを分離収集するもので、気体状態の大気汚染物質、放射性物質までは、除去することができず、そのほとんどが大気中に放出されている。   Conventionally, a cyclone employing a centrifugal force method, a bag filter employing a filtration method, and the like are known for removing finely divided solids and radioactive substances in exhaust gas. These are all separated and collected only in the form of pulverized solids in exhaust gas, and it is impossible to remove gaseous air pollutants and radioactive materials, most of which are released into the atmosphere. ing.

そこで、この気体状態の大気汚染物質、放射性物質を除去するためには、大気汚染物質、放射性物質を吸収する水溶液を利用する化学的設備が別途必要である。この化学的設備は、気体の大気汚染物質、放射性物質と水溶液とが反応する反応槽の他に、水溶液を設備内で循環させる装置、新たに水溶液を供給する装置、水溶液を処理する装置などが備えられている。   Therefore, in order to remove the gaseous air pollutants and radioactive substances, a chemical facility using an aqueous solution that absorbs the air pollutants and radioactive substances is required separately. In addition to the reaction tank that reacts gaseous air pollutants, radioactive substances and aqueous solutions, this chemical equipment includes equipment that circulates aqueous solutions in equipment, equipment that supplies new aqueous solutions, and equipment that treats aqueous solutions. Is provided.

したがって、固体状態で存在する有害物質と気体状態で存在する大気汚染物質、放射性物質が混存するガスを処理するためには、従来、サイクロンなどの集塵器と化学設備とを組み合わせた装置が、一般的に用いられている。   Therefore, in order to treat harmful substances that exist in the solid state, air pollutants that exist in the gaseous state, and gas mixed with radioactive substances, conventionally, a device that combines a dust collector such as a cyclone and chemical equipment, Commonly used.

しかしながら、このようなガス処理装置では、化学設備が非常に大型化し、装置の製造コストが嵩むと共に、水溶液の供給および処理を行わなければならないので、ランニングコストが嵩んでしまう。このため、化学業界や製鉄業界など、製品等の製造過程で大量の排気ガスが発生してしまう業界では、化学設備を用いずとも、気体状態の大気汚染物質を除去できるものが非常に望まれている。   However, in such a gas processing apparatus, the chemical equipment becomes very large, the manufacturing cost of the apparatus increases, and the supply and processing of the aqueous solution must be performed, which increases the running cost. For this reason, in industries where a large amount of exhaust gas is generated in the manufacturing process of products, such as the chemical industry and the steel industry, it is highly desirable to be able to remove gaseous air pollutants without using chemical equipment. ing.

そこで、このよう要望に応えるものとして、本出願の出願人自身が出願した国際公開WO 92/02292号公報に記載されているガス処理装置がある。   Therefore, as a response to such a demand, there is a gas processing device described in International Publication WO 92/02292 filed by the applicant of the present application.

このガス処理装置は、下方に向かうにつれて縮径されている円錐状内筒と、この円錐状内筒の上部内周面に沿って圧縮気体を噴出する噴出ノズルとを有し、円錐状内筒の上部に排気ガスを吸い込む上部開口が形成され、円錐状内筒の下部に排出口が形成されているものである。   This gas processing apparatus has a conical inner cylinder that is reduced in diameter as it goes downward, and an ejection nozzle that ejects compressed gas along the upper inner peripheral surface of the conical inner cylinder. An upper opening for sucking exhaust gas is formed in the upper part of the cylinder, and a discharge port is formed in the lower part of the conical inner cylinder.

この排気ガス処理装置において、固体状態で存在する公害物質と気体状態で存在する大気汚染物質とが混存する排気ガスを処理するメカニズムは、以下のようものである。   In this exhaust gas treatment apparatus, the mechanism for treating the exhaust gas in which the pollutant present in the solid state and the air pollutant present in the gas state are mixed is as follows.

円錐状内筒内は、圧縮気体の流入により、圧力が上昇すると共に、圧縮気体の断熱膨張等で温度が低下する。このため、円錐状内筒内に流入した排気ガス中の気体の汚染物質の一部は、圧力の上昇と温度低下により、液体に変化する。液体に成った大気汚染物質は、これが円錐状内筒内の渦流の中で微粉状固体の汚染物質と衝突して、これに吸着する。この微粉状固体は、遠心力の作用により、除去される。すなわち、気体の汚染物質は、微粉状固体に吸着されたかたちで、微粉状固体と共に、排気ガスから除去され、排出口から排出される。   The pressure in the conical inner cylinder increases due to the inflow of compressed gas, and the temperature decreases due to adiabatic expansion of the compressed gas. For this reason, a part of the gaseous pollutants in the exhaust gas flowing into the conical inner cylinder changes into a liquid due to an increase in pressure and a decrease in temperature. The air pollutant that has become a liquid collides with a finely divided solid pollutant in the vortex flow in the conical inner cylinder and is adsorbed thereto. This finely divided solid is removed by the action of centrifugal force. That is, the gaseous pollutant is removed from the exhaust gas together with the finely divided solid in the form of being adsorbed by the finely divided solid and discharged from the outlet.

前述した国際公開WO 92/02292号公報に記載されている排気ガス処理装置は、比較的簡易な設備で、固体状態で存在する公害物質と気体状態で存在する大気汚染物質とが混存する排気ガスを効率よく処理することができ、製造コスト及びランニングコストが嵩まず、非常に優れたものであると言える。   The exhaust gas treatment apparatus described in the above-mentioned International Publication WO 92/02292 is a relatively simple facility, and an exhaust gas in which a pollutant present in a solid state and an air pollutant present in a gaseous state coexist. It can be said that the production cost and the running cost are not high and it is very excellent.

しかしながら、公害問題が騒がれている昨今では、常に、排気ガスをより効率よく処理することが望まれている。   However, in recent years when pollution problems are a problem, it is always desired to treat exhaust gas more efficiently.

また、近年、原子力発電所での事故により、放射性物質が環境に流出した。
放射性物質を含むガスから放射物質をより効率よく処理することが望まれている。
特に、ガス中から放射性物質等の有害物質を分離したいとの社会的要請が高まっている。
In recent years, radioactive materials have leaked into the environment due to accidents at nuclear power plants.
It is desired to more efficiently treat radioactive material from a gas containing radioactive material.
In particular, there is an increasing social demand for separating harmful substances such as radioactive substances from gas.

そこで、本発明は、このような要望に応えるべく、固体状態で存在する有害物質と気体状態や分子レベルの大きさで存在する有害物質とが混存するガスを比較的簡易な装置で、効率よく処理することができるガス処理設備を提供することを目的とする。   Therefore, in order to meet such a demand, the present invention efficiently uses a relatively simple device to efficiently mix a gas containing a harmful substance existing in a solid state and a harmful substance existing in a gaseous state or a molecular level. It aims at providing the gas processing equipment which can be processed.

上記目的を達成するため、本発明に係るガスを処理するガス処理設備を、ガス処理装置を、備え、前記ガス処理装置が、下方に向かうにつれて縮径されていき下部に排出口を形成される中空の円錐状内筒と、前記円錐状内筒の上端に設置される円板状部材であって、複数の貫通孔が形成されているガス旋回皿状板を持つ旋回流形成手段と、前記円錐状内筒の上部内周面に沿い且つ該円錐状内筒の上部に送り込まれてきた前記ガスを旋回させる方向に沿った方向に圧縮気体を噴出する噴出ノズルを持つ噴射手段と、を有するものとした。   In order to achieve the above object, a gas processing facility for processing a gas according to the present invention is provided with a gas processing device, and the gas processing device is reduced in diameter as it goes downward, and a discharge port is formed in a lower portion. A hollow conical inner cylinder, and a swirl flow forming means having a gas swirling dish-shaped plate, which is a disk-like member installed at the upper end of the conical inner cylinder and in which a plurality of through holes are formed; Injection means having an ejection nozzle that ejects compressed gas in a direction along the direction of swirling the gas that has been fed into the upper portion of the conical inner cylinder and along the upper inner peripheral surface of the conical inner cylinder. It was supposed to be.

上記本発明の構成により、前記ガス処理装置が、円錐状内筒と旋回流形成手段と噴射手段とを有する。円錐状内筒が、下方に向かうにつれて縮径されていき下部に排出口を形成される中空のものである。旋回流形成手段の旋回皿状板が、前記円錐状内筒の上端に設置される円板状部材であって、複数の貫通孔が形成されている。噴射手段の噴射ノズルが、前記円錐状内筒の上部内周面に沿い且つ該円錐状内筒の上部に送り込まれてきた前記ガスを旋回させる方向に沿った方向に圧縮気体を噴出する。
その結果、ガス中の液状または固体の物質を円錐状内筒の内壁で旋回させつつ固化させて下端の排出口から排出でき、排出口に背圧が生じてもガスの流れを乱さない。
According to the configuration of the present invention, the gas processing apparatus includes a conical inner cylinder, a swirl flow forming unit, and an injection unit. The conical inner cylinder is a hollow one that is reduced in diameter as it goes downward and a discharge port is formed in the lower part. The swirling plate-like plate of the swirling flow forming means is a disk-like member installed at the upper end of the conical inner cylinder, and has a plurality of through holes. The injection nozzle of the injection means injects the compressed gas in a direction along the upper inner peripheral surface of the conical inner cylinder and along the direction in which the gas fed to the upper portion of the conical inner cylinder is swirled.
As a result, the liquid or solid substance in the gas can be solidified while swirling on the inner wall of the conical inner cylinder and discharged from the discharge port at the lower end, and the gas flow is not disturbed even if back pressure is generated at the discharge port.

以下に、本発明の実施形態に係るガス処理設備を説明する。本発明は、以下に記載した実施形態のいずれか、またはそれらの中の二つ以上が組み合わされた態様を含む。   Below, the gas treatment equipment concerning the embodiment of the present invention is explained. The present invention includes any of the embodiments described below, or a combination of two or more of them.

本発明の実施形態に係るガス処理設備は、前記旋回流形成手段が少なくとも2つのガス旋回皿状板を持ち、少なくとも2つのガス旋回皿状板が互いに隙間を空けて上下に重なるものとした。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記旋回流形成手段が少なくとも2つの2つのガス旋回皿状板を持つ。少なくとも2つのガス旋回皿状板が互いに隙間を空けて上下に重なる。
その結果、ガス中の液状または固体の物質を円錐状内筒の内壁で旋回させつつ固化させて下端の排出口から排出でき、排出口に背圧が生じてもガスの流れを乱さない。
In the gas processing facility according to the embodiment of the present invention, the swirl flow forming means has at least two gas swirl dish plates, and the at least two gas swirl dish plates overlap each other with a gap therebetween.
With the configuration of the embodiment according to the present invention, the swirl flow forming means has at least two gas swirl dish plates. At least two gas swirl plates overlap each other with a gap therebetween.
As a result, the liquid or solid substance in the gas can be solidified while swirling on the inner wall of the conical inner cylinder and discharged from the discharge port at the lower end, and the gas flow is not disturbed even if back pressure is generated at the discharge port.

また、本発明の実施形態に係るガス処理設備は、前記噴射手段の噴射ノズルである第一噴射ノズルが、少なくとも2つのガス旋回皿状板に挟まれた隙間に圧縮ガスを噴出する。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記噴射手段の第一噴射ノズルが、少なくとも2つのガス旋回皿状板に挟まれた隙間に圧縮ガスを噴出する。
その結果、2つのガス旋回皿状板に挟まれた隙間に入ったガスを円錐状内筒に沿って旋回させる。
In the gas processing facility according to the embodiment of the present invention, the first injection nozzle which is the injection nozzle of the injection means injects the compressed gas into the gap sandwiched between at least two gas swirling dish-like plates.
With the configuration of the embodiment according to the present invention, the first injection nozzle of the injection unit jets the compressed gas into the gap sandwiched between at least two gas swirling dish-like plates.
As a result, the gas that has entered the gap between the two gas swirling dishes is swirled along the conical inner cylinder.

また、本発明の実施形態に係るガス処理設備は、前記噴射手段の噴射ノズルである第二噴射ノズルが、少なくとも2つのガス旋回皿状板の下の空間に圧縮ガスを噴出する。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記噴射手段の第二噴射ノズルが、少なくとも2つのガス旋回皿状板の下の空間に圧縮ガスを噴出する。
その結果、少なくとも2つのガス旋回皿状板を通過したガスを円錐状内筒に沿って旋回させる。
In the gas processing facility according to the embodiment of the present invention, the second injection nozzle that is the injection nozzle of the injection means injects the compressed gas into the space under the at least two gas swirling plate-like plates.
With the configuration of the embodiment according to the present invention, the second injection nozzle of the injection unit jets the compressed gas into the space under the at least two gas swirling dish-like plates.
As a result, the gas that has passed through the at least two gas swirling dishes is swirled along the conical inner cylinder.

また、本発明の実施形態に係るガス処理設備は、前記排ガス処理装置が、パイプであって一方の端部を前記排出口に連通する微粉排出管と、前記微粉排出管の流れを遮る様に設けられる円板状部材であって複数の貫通穴を形成されている微粉排出管円板状部材と、を有する。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記排ガス処理装置が、微粉排出管と微粉排出管円板状部材とを有する。微粉排出管とが、パイプであって一方の端部を前記排出口に連通する。微粉排出管円板状部材が、前記微粉排出管の流れを遮る様に設けられる円板状部材であって複数の貫通穴を形成されている。
その結果、微粉排出管の下方の端部に背圧が生じても排出口でのガスの流れの乱れを抑制できる。
Further, in the gas treatment facility according to the embodiment of the present invention, the exhaust gas treatment device is configured to block a flow of the fine powder discharge pipe, which is a pipe and one end portion of which communicates with the discharge port, and the flow of the fine powder discharge pipe. A fine powder discharge tube disk-shaped member provided with a plurality of through holes.
With the configuration of the embodiment according to the present invention, the exhaust gas treatment apparatus includes a fine powder discharge pipe and a fine powder discharge pipe disk-shaped member. The fine powder discharge pipe is a pipe, and one end thereof communicates with the discharge port. The fine powder discharge pipe disk-shaped member is a disk-shaped member provided so as to block the flow of the fine powder discharge pipe, and is formed with a plurality of through holes.
As a result, even if a back pressure is generated at the lower end of the fine powder discharge pipe, the turbulence of the gas flow at the discharge port can be suppressed.

また、本発明の実施形態に係るガス処理設備は、バグフィルタ式処理装置を、備え、前記バグフィルタ式処理装置が、ケーシングと、前記ケーシングを吸込室と排気室に仕切り開口である仕切り板開口を設けられる仕切り板と、開口をもつ袋状であって該開口を前記仕切り板開口に連通する濾布と、を有し、前記微粉排出管が前記ケーシングを上から貫通し他方の端部を前記吸込室の内部に位置する。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記バグフィルタ式処理装置が、ケーシングと仕切り板と濾布とを有する。仕切り板が、前記ケーシングを吸込室と排気室に仕切り、開口である仕切り板開口を設けられる。濾布が、開口をもつ袋状であって、該開口を前記仕切り板開口に連通する。前記微粉排出管が前記ケーシングを上から貫通し他方の端部を前記吸込室の内部に位置する。
その結果、排ガス処理装置で処理されたガス中の微粉を濾布で濾すことをできる。
A gas processing facility according to an embodiment of the present invention includes a bag filter type processing device, and the bag filter type processing device has a casing, and a partition plate opening that is a partition opening into the suction chamber and the exhaust chamber. And a filter cloth that is in the form of a bag having an opening and communicates the opening with the opening of the partition plate, and the fine powder discharge pipe penetrates the casing from above and has the other end thereof. Located inside the suction chamber.
With the configuration of the embodiment according to the present invention, the bag filter processing apparatus includes a casing, a partition plate, and a filter cloth. A partition plate partitions the casing into a suction chamber and an exhaust chamber, and a partition plate opening that is an opening is provided. The filter cloth has a bag shape with an opening, and the opening communicates with the partition plate opening. The fine powder discharge pipe penetrates the casing from above, and the other end is located inside the suction chamber.
As a result, fine powder in the gas treated by the exhaust gas treatment device can be filtered with a filter cloth.

また、本発明の実施形態に係るガス処理設備は、前記バグフィルタ処理装置が、前記濾布の開口に設けられる板状部材であって複数の貫通穴を形成されている濾布開口円板状部材と、を有する。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記バグフィルタ処理装置の濾布開口円板状部材が、前記濾布の開口に設けられる円板状部材であって複数の貫通穴を形成されている。
その結果、背圧が前記排気室に生じても前記吸込室でのガスの流れの乱れを抑制できる。
Further, in the gas processing facility according to the embodiment of the present invention, the bag filter processing device is a plate-like member provided in the opening of the filter cloth, and a plurality of through holes are formed in the filter cloth opening disk shape. And a member.
With the configuration of the embodiment according to the present invention, the filter cloth opening disk-shaped member of the bag filter processing apparatus is a disk-shaped member provided in the opening of the filter cloth, and a plurality of through holes are formed. .
As a result, even if a back pressure is generated in the exhaust chamber, the turbulence of the gas flow in the suction chamber can be suppressed.

また、本発明の実施形態に係るガス処理設備は、前記バグフィルタ処理装置が、前記濾布の内側と濾布の外側とに高周波電圧を印加する高周波電圧印加手段と、を有する。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記バグフィルタ処理装置の高周波電圧印加手段が、前記濾布の内側と濾布の外側とに高周波電圧を印加する。
その結果、吸込室にガスの流れの乱れが生じても、微粉の逆流を抑制できる。
Moreover, the gas processing equipment which concerns on embodiment of this invention has the high frequency voltage application means in which the said bag filter processing apparatus applies a high frequency voltage to the inner side of the said filter cloth, and the outer side of the filter cloth.
With the configuration of the embodiment according to the present invention, the high-frequency voltage applying means of the bag filter processing apparatus applies a high-frequency voltage to the inside of the filter cloth and the outside of the filter cloth.
As a result, even if the gas flow is disturbed in the suction chamber, the backflow of fine powder can be suppressed.

以上説明したように、本発明に係るガス処理設備は、その構成により、以下の効果を有する。
複数の貫通孔が形成される円板状部材であるガス旋回皿状板を下方に向うにつれ縮径し下部に排出口を形成される円錐状内筒の上端に設置し、噴射ノズルが円錐状内筒の上部内周面に沿い且つ該円錐状内筒の上部に送り込まれてきた前記ガスを旋回させる方向に沿った方向に圧縮気体を噴出する様にしたので、ガス中の液状または固体の物質を円錐状内筒の内壁で旋回させつつ固化させて下端の排出口から排出でき、排出口に背圧が生じても円錐状内筒でのガスの流れの乱れを抑制できる。
また、複数の貫通孔が形成される円板状部材である2つのガス旋回皿状板を下方に向うにつれ縮径し下部に排出口を形成される円錐状内筒の上端に設置する様にしたので、ガス中の液状または固体の物質を円錐状内筒の内壁で旋回させつつ固化させて下端の排出口から排出でき、排出口に背圧が生じてもガスの流れを乱さない。
また、第一噴射ノズルが少なくとも2つのガス旋回皿状板に挟まれた隙間に圧縮ガスを噴出する様にしたので、2つのガス旋回皿状板に挟まれた隙間に入ったガスを円錐状内筒に沿って旋回させる。
また、第二噴射ノズルが、少なくとも2つのガス旋回皿状板の下の空間に圧縮ガスを噴出する様にしたので、少なくとも2つのガス旋回皿状板を通過したガスを円錐状内筒に沿って旋回させる。
また、複数の貫通穴を形成されている微粉排出管円板状部材を上方の端部を前記排出口に連通する前記微粉排出管の流れを遮る様に設ける様にしたので、微粉排出管の下方の端部に背圧が生じても排出口でのガスの流れの乱れを抑制できる。
また、前記微粉排出管が前記ケーシングを上から貫通し他方の端部を前記吸込室の内部に位置し、吸込室と排気室を仕切る前記仕切り板開口に袋状の濾布の開口を連通する様にしたので、排ガス処理装置で処理されたガス中の微粉を濾布で濾すことをできる。
また、複数の貫通穴が形成される円板状部材を前記濾布の開口に設ける様にしたので、背圧が前記排気室に生じても前記吸込室でのガスの流れの乱れを抑制できる。
また、前記濾布の内側と濾布の外側とに高周波電圧を印加する様にしたので、吸込室にガスの流れの乱れが生じても、微粉の逆流を抑制できる。
その結果、効率よく処理することができるガス処理設備を提供できる。
As described above, the gas processing facility according to the present invention has the following effects due to its configuration.
The gas swirl dish plate, which is a disk-shaped member with a plurality of through-holes, is installed at the upper end of a conical inner cylinder whose diameter is reduced toward the bottom and a discharge port is formed in the lower part. The compressed gas is ejected in a direction along the direction of swirling the gas that has been fed into the upper inner peripheral surface of the inner cylinder and the upper part of the conical inner cylinder. The substance can be solidified while swirling on the inner wall of the conical inner cylinder and discharged from the discharge port at the lower end, and even if back pressure is generated at the discharge port, disturbance of gas flow in the conical inner cylinder can be suppressed.
In addition, two gas swirling dish-shaped plates, which are disk-shaped members in which a plurality of through-holes are formed, are arranged at the upper end of a conical inner cylinder whose diameter is reduced as it goes downward and a discharge port is formed in the lower part. Therefore, the liquid or solid substance in the gas can be solidified while swirling on the inner wall of the conical inner cylinder and discharged from the discharge port at the lower end, and the gas flow is not disturbed even if back pressure is generated at the discharge port.
In addition, since the first injection nozzle jets the compressed gas into the gap sandwiched between at least two gas swirl dish plates, the gas in the gap sandwiched between the two gas swirl dish plates is conical. Turn along the inner cylinder.
Further, since the second injection nozzle jets the compressed gas into the space below the at least two gas swirling dish-shaped plates, the gas that has passed through the at least two gas swirling dish-shaped plates flows along the conical inner cylinder. And turn.
In addition, since the fine powder discharge pipe disk-shaped member in which a plurality of through holes are formed is provided so as to block the flow of the fine powder discharge pipe communicating with the discharge port at the upper end, the fine powder discharge pipe Even if back pressure is generated at the lower end, it is possible to suppress the disturbance of the gas flow at the outlet.
The fine powder discharge pipe penetrates the casing from above, the other end is located inside the suction chamber, and the opening of the bag-like filter cloth communicates with the partition plate opening that partitions the suction chamber and the exhaust chamber. Since it was made to do it, the fine powder in the gas processed with the exhaust gas processing apparatus can be filtered with a filter cloth.
In addition, since a disk-like member in which a plurality of through holes are formed is provided at the opening of the filter cloth, it is possible to suppress disturbance of gas flow in the suction chamber even if back pressure is generated in the exhaust chamber. .
Further, since the high frequency voltage is applied to the inside of the filter cloth and the outside of the filter cloth, the backflow of fine powder can be suppressed even if the gas flow is disturbed in the suction chamber.
As a result, it is possible to provide a gas processing facility capable of efficiently processing.

本発明の第一の実施形態に係るガス処理設備の斜視図である。It is a perspective view of the gas treatment equipment concerning a first embodiment of the present invention. 本発明の第一の実施形態に係るガス処理設備の正面断面図である。It is front sectional drawing of the gas processing equipment which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一の実施形態に係るガス旋回筒の斜視図である。It is a perspective view of the gas turning cylinder which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一の実施形態に係るガス旋回筒のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of the gas turning cylinder which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一の実施形態に係るガス旋回皿状板の平面図である。It is a top view of the gas swirl plate according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第一の実施形態に係るガス処理設備のB−B断面図である。It is a BB sectional view of the gas treatment equipment concerning a first embodiment of the present invention. 本発明の第一の実施形態に係るガス処理設備のC−C断面図である。It is CC sectional drawing of the gas processing equipment which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一の実施形態に係るバグフィルタの正面断面図である。It is front sectional drawing of the bag filter which concerns on 1st embodiment of this invention. 本発明の第一の実施形態に係るバグフィルタのD−D矢視図である。FIG. 3 is a DD arrow view of the bag filter according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第一の実施形態に係るガス旋回皿状板の平面図である。It is a top view of the gas swirl plate according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第二の実施形態に係るガス処理設備の斜視図である。It is a perspective view of the gas treatment equipment concerning a second embodiment of the present invention. 本発明の第二の実施形態に係るガス処理装置の正面断面図である。It is front sectional drawing of the gas processing apparatus which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第二の実施形態に係るスクリーンフィルタ処理装置の斜視図である。It is a perspective view of the screen filter processing apparatus which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第二の実施形態に係るガス処理装置のE−E断面図である。It is EE sectional drawing of the gas processing apparatus which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第二の実施形態に係るガス処理装置のF−F断面図である。It is FF sectional drawing of the gas processing apparatus which concerns on 2nd embodiment of this invention. 本発明の第三の実施形態に係るガス処理装置の斜視図である。It is a perspective view of the gas treatment apparatus concerning a third embodiment of the present invention. 本発明の第四の実施形態に係るガス処理装置の正面断面図である。It is front sectional drawing of the gas treatment apparatus which concerns on 4th embodiment of this invention.

以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照して説明する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.

最初に、本発明の第一の実施形態にかかるガス処理設備を、図を基に、説明する
図1は、本発明の実施形態に係るガス処理設備の斜視図である。図2は、本発明の実施形態に係るガス処理設備の正面断面図である。図3は、本発明の実施形態に係るガス旋回筒の斜視図である。図4は、本発明の実施形態に係るガス旋回筒のA−A断面図である。図5は、本発明の実施形態に係るガス旋回皿状板の平面図である。図6は、本発明の実施形態に係るガス処理設備のB−B断面図である。図7は、本発明の実施形態に係るガス処理設備のC−C断面図である。図8は、本発明の実施形態に係るバグフィルタの正面断面図である。図9は、本発明の実施形態に係るバグフィルタのD−D矢視図である。図10は、本発明の第一の実施形態に係るガス旋回皿状板の平面図である。
First, a gas processing facility according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a gas processing facility according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a front sectional view of the gas processing facility according to the embodiment of the present invention. FIG. 3 is a perspective view of the gas swirl tube according to the embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA of the gas swirl tube according to the embodiment of the present invention. FIG. 5 is a plan view of the gas swirl dish according to the embodiment of the present invention. FIG. 6 is a BB cross-sectional view of the gas processing facility according to the embodiment of the present invention. FIG. 7 is a CC cross-sectional view of the gas processing facility according to the embodiment of the present invention. FIG. 8 is a front sectional view of the bag filter according to the embodiment of the present invention. FIG. 9 is a DD arrow view of the bag filter according to the embodiment of the present invention. FIG. 10 is a plan view of the gas swirl dish plate according to the first embodiment of the present invention.

この実施形態におけるガス処理設備は、ガスを処理する装置である。ガスは、ボイラーから排気される高温のガス中であってもよい。ガス中には、ダイオキシン類やNOxやSOxなど気体状態で存在する大気汚染物質の他に、粉塵などの固体状態で存在する物質を含んでいる。
ガスは、放射性物質を含むものであってもよい。ガスは、放射能汚染された物質を焼却して排気されるガスであってもよい。
ガスは、前処理としてサイクロン式処理装置で処理されたものであってもよい。
The gas processing facility in this embodiment is an apparatus for processing gas. The gas may be in a hot gas exhausted from the boiler. The gas contains substances present in a solid state such as dust, in addition to air pollutants such as dioxins, NOx and SOx present in a gaseous state.
The gas may contain a radioactive substance. The gas may be a gas exhausted by incineration of a radioactively contaminated substance.
The gas may be processed by a cyclone processing apparatus as a pretreatment.

この実施形態におけるガス処理設備は、ガスを冷却する冷却手段である冷却器と、この冷却器で冷却されたガスを処理するガス処理設備とで構成されてもよい。
ガス処理設備は、ガス処理装置10とバグフィルタ式処理装置80とで構成されてもよい。
The gas processing facility in this embodiment may be composed of a cooler that is a cooling unit that cools the gas, and a gas processing facility that processes the gas cooled by the cooler.
The gas processing facility may be composed of the gas processing device 10 and the bag filter type processing device 80.

ガス処理装置10は、圧縮気体供給手段4とガス旋回筒16と円錐状内筒11と旋回流形成手段と噴射手段と冷却手段と圧縮空気分配手段とケーシング28とで構成されてもよい。
ガス処理装置10は、圧縮気体供給手段4とガス旋回筒16と円錐状内筒11と旋回流形成手段と噴射手段と冷却手段と圧縮空気分配手段とケーシング28と微粉排出管59とで構成されてもよい。
ガス処理装置10は、圧縮気体供給手段4とガス旋回筒16と円錐状内筒11と旋回流形成手段と噴射手段と冷却手段と圧縮空気分配手段とケーシング28と微粉排出管59と微粉排出管円板状部材95とで構成されてもよい。
The gas processing apparatus 10 may include a compressed gas supply means 4, a gas swirl cylinder 16, a conical inner cylinder 11, a swirl flow forming means, an injection means, a cooling means, a compressed air distribution means, and a casing 28.
The gas processing apparatus 10 includes a compressed gas supply means 4, a gas swirl cylinder 16, a conical inner cylinder 11, a swirl flow forming means, an injection means, a cooling means, a compressed air distribution means, a casing 28, and a fine powder discharge pipe 59. May be.
The gas processing apparatus 10 includes a compressed gas supply means 4, a gas swirl cylinder 16, a conical inner cylinder 11, a swirl flow forming means, an injection means, a cooling means, a compressed air distribution means, a casing 28, a fine powder discharge pipe 59, and a fine powder discharge pipe. The disc-shaped member 95 may be used.

圧縮気体供給手段4は、圧縮空気分配手段を介して噴射手段に圧縮気体を供給する手段である。
圧縮気体供給手段は、コンプレッサ4であってもよい。
例えば、コンプレッサ4は、複数の噴出ノズル19、19、・・・に圧縮空気を供給する
The compressed gas supply means 4 is means for supplying compressed gas to the injection means via the compressed air distribution means.
The compressed gas supply means may be the compressor 4.
For example, the compressor 4 supplies compressed air to the plurality of ejection nozzles 19, 19.

ガス旋回筒16は、ガスを旋回させて、円錐状内筒11の上部に案内する部材である。
例えば、ガス旋回筒16は、中空円筒状を成し、その下端面が開口している。
中空円筒内にガスを取り入れるための矩形状の複数の開口17、17、・・・が、ガス旋回筒16の側周に形成されている。
開口17から中空円筒内に流入したガスを、円錐状内筒11の中心軸Cを中心として、上から見て時計回り方向または反時計回り方向の一方に旋回させる旋回羽根18が、各開口17、17、・・・・の縁に取り付けられている。ガス旋回筒16は、後述するガス旋回皿状板13の真上に設けられる。
図3、図4は、円錐状内筒11の中心軸Cを中心として、上から見て時計回り方向に旋回させる旋回羽根18が、各開口17、17、・・・・の縁に取り付けられているガス旋回筒16の構造の一例を示す。
The gas revolving cylinder 16 is a member that revolves gas and guides it to the upper part of the conical inner cylinder 11.
For example, the gas revolving cylinder 16 has a hollow cylindrical shape, and its lower end surface is open.
A plurality of rectangular openings 17, 17,... For taking gas into the hollow cylinder are formed on the side periphery of the gas swirl cylinder 16.
A swirl vane 18 that swirls the gas flowing into the hollow cylinder from the opening 17 around the central axis C of the conical inner cylinder 11 in one of the clockwise direction and the counterclockwise direction as viewed from above is provided in each opening 17. , 17,... The gas swirl cylinder 16 is provided directly above the gas swirl dish 13 described later.
3 and 4, swirl vanes 18 that are swung clockwise around the central axis C of the conical inner cylinder 11 are attached to the edges of the openings 17, 17,... An example of the structure of the gas revolving cylinder 16 is shown.

円錐状内筒11は、下方に向かうにつれて縮径されていき下部に排出口12を形成される中空の部材である。
すなわち、円錐状内筒11の内面は、底部を上にした円錐台の輪郭を想定できる。
例えば、円錐状内筒11は、その上端に円錐の輪郭台の底面に該当する箇所に開口である上部開口を設けられ、その下端に円錐台の輪郭の頂点に該当する箇所に開口である下部開口を設けられ、この下部開口が排出口12を形成している。
この排出口12には、バグフィルタ式処理装置80の側面下部まで伸びている微粉排出管59が接続されていてもよい。後出するガス旋回皿状板13が、円錐状内筒11の上部開口に設けられる。
The conical inner cylinder 11 is a hollow member that is reduced in diameter as it goes downward and has a discharge port 12 formed in the lower part.
In other words, the inner surface of the conical inner cylinder 11 can assume the outline of a truncated cone with the bottom up.
For example, the conical inner cylinder 11 is provided with an upper opening which is an opening at a position corresponding to the bottom surface of the conical contour base at the upper end, and a lower portion which is an opening at a position corresponding to the apex of the contour of the truncated cone at the lower end. An opening is provided, and this lower opening forms a discharge port 12.
A fine powder discharge pipe 59 extending to the lower part of the side surface of the bag filter type processing apparatus 80 may be connected to the discharge port 12. A gas swirling dish-like plate 13 to be described later is provided in the upper opening of the conical inner cylinder 11.

旋回流形成手段は、円錐状内筒11の内部に上から下に流れる旋回流れを生成しようとする手段である。
旋回流形成手段は、ガス旋回皿状板13を持ってもよい。
旋回流形成手段は、少なくとも2つのガス旋回皿状板13を持ち、少なくとも2つのガス旋回皿状板13a、13bが互いに隙間を空けて上下に重なる構造をしていてもよい。
複数のガス旋回皿状板13a、13b・・・が互いに隙間を空けて上下に重なる構造をしていてもよい。
旋回流形成手段は、複数のガス旋回皿状板13を持ち、複数のガス旋回皿状板13a、13b・・・が互いに隙間を空けて上下に重なる構造をしていてもよい。
2つのガス旋回皿状板13a、13bが、上から見て後述する貫通孔が可能なかぎり重ならない様になっていてもよい。
複数のガス旋回皿状板13a、13b・・・が、上から見て後述する貫通孔が可能なかぎり重ならない様になっていてもよい。
図10が、上から見て後述する過半数の貫通孔が重ならない様になっている2つのガス旋回皿状板13a、13bを示す。
The swirl flow forming means is means for generating a swirl flow that flows from top to bottom inside the conical inner cylinder 11.
The swirl flow forming means may have a gas swirl plate 13.
The swirling flow forming means may have at least two gas swirling dish-like plates 13 and have a structure in which at least two gas swirling dish-like plates 13a and 13b overlap each other with a gap therebetween.
A plurality of gas swirling plate-like plates 13a, 13b,... May overlap each other with a gap therebetween.
The swirl flow forming means may have a plurality of gas swirl dish plates 13 and a plurality of gas swirl dish plates 13a, 13b,...
The two gas swirling plate-like plates 13a and 13b may be configured such that through holes described later are not overlapped as much as possible when viewed from above.
The plurality of gas swirling plate-like plates 13a, 13b,... May be configured not to overlap as much as possible through holes, which will be described later, when viewed from above.
FIG. 10 shows two gas swirl dish plates 13a and 13b that are configured so that a majority of through holes, which will be described later, do not overlap when viewed from above.

ガス旋回皿状板13は、円錐状内筒11の上端に設置される円板状部材であって、複数の貫通孔が形成されている。
ガス旋回皿状板13は、円錐状内筒11の上端に設置される円板状部材であって、該円錐状内筒の中心軸に近づくに連れて次第に下方に突出して行く皿状を成し、複数の貫通孔が形成されていてもよい。
ガス旋回皿状板13は、円錐状内筒11の上端に設置される円板状部材であって、ガスを旋回させる方向に向かってその上面からその下面に貫通している複数の貫通孔が形成されていてもよい。
ガス旋回皿状板13は、円錐状内筒11の上端に設置される円板状部材であって、円錐状内筒11の中心軸に近づくに連れて次第に下方に突出して行く皿状を成し、ガスを旋回させる方向に向かってその上面からその下面に貫通している複数の貫通孔が形成されていてもよい。
The gas swirl plate 13 is a disk-like member installed at the upper end of the conical inner cylinder 11 and has a plurality of through holes.
The gas swirling dish-shaped plate 13 is a disk-shaped member installed at the upper end of the conical inner cylinder 11 and has a dish shape that gradually protrudes downward as it approaches the central axis of the conical inner cylinder. A plurality of through holes may be formed.
The gas swirl plate 13 is a disk-shaped member installed at the upper end of the conical inner cylinder 11, and has a plurality of through holes penetrating from its upper surface to its lower surface in the gas swirling direction. It may be formed.
The gas swirling dish-shaped plate 13 is a disk-shaped member installed at the upper end of the conical inner cylinder 11 and has a dish shape that gradually protrudes downward as it approaches the central axis of the conical inner cylinder 11. And the some through-hole penetrated from the upper surface to the lower surface toward the direction which turns gas may be formed.

例えば、ガス旋回皿状板13は、その上面から下面に複数の貫通孔14、14・・・が形成されている。
例えば、貫通孔14、14・・・は、円錐状内筒11の中心軸Cを中心として、スパイラル状に描いた線分上に形成されている。
例えば、貫通孔14は、ここを通過したガスが上から見て時計回り方向の旋回流となるよう、ガス旋回皿状板13の上面から下面に斜めで、且つ円錐状内筒11の中心軸Cを中心として時計回り方向に貫通している。
図5は、貫通孔14、14・・・が、円錐状内筒11の中心軸Cを中心として、スパイラル状に描いた線分上に形成され、ここを通過したガスが上から見て時計回り方向の旋回流となるよう、ガス旋回皿状板13の上面から下面に斜めで、且つ円錐状内筒11の中心軸Cを中心として上から見て時計回り方向に貫通している様子を示す。
For example, the gas swirling dish-shaped plate 13 has a plurality of through holes 14, 14...
For example, the through holes 14, 14... Are formed on a line segment drawn in a spiral shape with the central axis C of the conical inner cylinder 11 as the center.
For example, the through hole 14 is slanted from the upper surface to the lower surface of the gas swirling dish 13 so that the gas passing through it has a clockwise swirling flow when viewed from above, and the central axis of the conical inner cylinder 11 It penetrates clockwise around C.
In FIG. 5, the through-holes 14, 14... Are formed on a line segment drawn in a spiral shape with the central axis C of the conical inner cylinder 11 as the center, and the gas passing through the through-holes 14, 14. A state in which the gas swirl dish 13 is penetrated in a clockwise direction when viewed from above with the center axis C of the conical inner cylinder 11 as a center so that a swirl flow in the rotation direction is obtained. Show.

噴射手段は、円錐状内筒11の内部にガスの旋回流を発生させるために、円錐状内筒11の内部にガスを噴射する手段である。
噴射手段は、噴射ノズル19で構成されてもよい。
噴射手段は、複数の噴射ノズル19で構成されてもよい。
噴射手段は、複数の第一噴射ノズル19aと複数の第二噴射ノズル19bとで構成されてもよい。
噴射手段は、複数の第一噴射ノズル19aと複数の第二噴射ノズル19bと・・・複数の第N噴射ノズル19nとで構成されてもよい。
噴射ノズル19は、円錐状内筒の上部内周面に沿い且つ該円錐状内筒の上部に送り込まれてきたガスを旋回させる方向に沿った方向に圧縮気体を噴出するノズルである。
例えば、各々の噴出ノズル19a、19bの先端部は、この先端部から噴射される圧縮空気が、円錐状内筒11の上部内周面に沿い、円錐状内筒11の中心軸Cを中心として上から見て時計回り方向または反時計回り方向のうちの一方の方向に旋回するよう、曲げられている。
図6は、各々の噴出ノズル19a、19bの先端部は、この先端部から噴射される圧縮空気が、円錐状内筒11の上部内周面に沿い、円錐状内筒11の中心軸Cを中心として上から見て時計回り方向に旋回するよう、曲げられている様子を示す。
図6は、円錐状内筒11内での圧縮空気の噴射方向を理解し易くするために、ガス旋回皿状板13を省略している。
The injection means is means for injecting gas into the conical inner cylinder 11 in order to generate a swirling flow of gas inside the conical inner cylinder 11.
The spraying unit may be composed of the spray nozzle 19.
The spray unit may be composed of a plurality of spray nozzles 19.
The injection means may be composed of a plurality of first injection nozzles 19a and a plurality of second injection nozzles 19b.
The injection means may be composed of a plurality of first injection nozzles 19a, a plurality of second injection nozzles 19b, and a plurality of Nth injection nozzles 19n.
The injection nozzle 19 is a nozzle that ejects compressed gas in a direction along the direction in which the gas fed along the upper inner peripheral surface of the conical inner cylinder and the gas fed into the upper portion of the conical inner cylinder is swirled.
For example, at the tip of each of the ejection nozzles 19a and 19b, the compressed air injected from the tip is along the upper inner peripheral surface of the conical inner cylinder 11, and the center axis C of the conical inner cylinder 11 is the center. It is bent so as to turn in one of a clockwise direction and a counterclockwise direction as viewed from above.
In FIG. 6, the tip of each of the ejection nozzles 19 a and 19 b is arranged such that the compressed air injected from the tip is along the upper inner peripheral surface of the conical inner cylinder 11, and the central axis C of the conical inner cylinder 11 is set. It shows a state of being bent so as to turn clockwise as viewed from above.
In FIG. 6, the gas swirling plate 13 is omitted in order to facilitate understanding of the jet direction of the compressed air in the conical inner cylinder 11.

噴射手段の噴射ノズルである第一噴射ノズル19aが、少なくとも2つのガス旋回皿状板13a、13bに挟まれた隙間に圧縮ガスを噴出してもよい。   The first injection nozzle 19a, which is an injection nozzle of the injection means, may jet the compressed gas into a gap sandwiched between at least two gas swirling plate-like plates 13a and 13b.

噴射手段の噴射ノズルである第二噴射ノズル19bが、少なくとも2つのガス旋回皿状板13a、13bの下の空間に圧縮ガスを噴出してもよい。   The 2nd injection nozzle 19b which is an injection nozzle of an injection means may inject a compressed gas into the space under the at least 2 gas swirl plate 13a, 13b.

噴射手段の噴射ノズルである第一噴射ノズル19aが、少なくとも2つのガス旋回皿状板に挟まれた隙間に圧縮ガスを噴出し、噴射手段の噴射ノズルである第二噴射ノズル19bが、少なくとも2つのガス旋回皿状板の下の空間に圧縮ガスを噴出してもよい。   The first injection nozzle 19a which is an injection nozzle of the injection means injects compressed gas into a gap sandwiched between at least two gas swirling dish plates, and the second injection nozzle 19b which is an injection nozzle of the injection means has at least 2 The compressed gas may be ejected into the space under the two gas swirling plates.

冷却手段は、円錐状内筒11を流れるガスを冷却する手段である。
冷却手段は、冷却ジャケット20を持っていてもよい。
冷却ジャケット20は、円錐状内筒11の外周面を覆い、この外周面との間に冷却水が供給される。
例えば、冷却ジャケット20には、その下部に冷却水供給配管21aが接続され、その上部に冷却水排水配管21bが接続されている。冷却水供給配管21a及び冷却水排水配管21bには、それぞれ、この中を流れる冷却水の流量を調節する流量調節弁22a,22b、及び、冷却水の温度を測定する温度計23a,23bが設けられている。
図2は、冷却ジャケット20が、その下部に冷却水供給配管21aが接続され、その上部に冷却水排水配管21bが接続される様子を示す。
さらに、冷却水供給配管21a及び冷却水排水配管21bには、それぞれ、この中を流れる冷却水の流量を調節する流量調節弁22a,22b、及び、冷却水の温度を測定する温度計23a,23bが設けられている。
The cooling means is means for cooling the gas flowing through the conical inner cylinder 11.
The cooling means may have a cooling jacket 20.
The cooling jacket 20 covers the outer circumferential surface of the conical inner cylinder 11, and cooling water is supplied between the outer circumferential surface.
For example, the cooling jacket 20 has a cooling water supply pipe 21a connected to the lower part thereof, and a cooling water drain pipe 21b connected to the upper part thereof. The cooling water supply pipe 21a and the cooling water drain pipe 21b are provided with flow rate adjusting valves 22a and 22b for adjusting the flow rate of the cooling water flowing therethrough and thermometers 23a and 23b for measuring the temperature of the cooling water, respectively. It has been.
FIG. 2 shows a state in which the cooling jacket 20 has a cooling water supply pipe 21a connected to its lower part and a cooling water drain pipe 21b connected to its upper part.
Further, the cooling water supply pipe 21a and the cooling water drain pipe 21b are respectively provided with flow rate adjusting valves 22a and 22b for adjusting the flow rate of the cooling water flowing therein, and thermometers 23a and 23b for measuring the temperature of the cooling water. Is provided.

ケーシング28は、円錐状内筒11及びガス旋回筒16を覆う部材である。
ケーシング28は、外筒25と外筒上蓋26aと外筒底蓋26cとで構成される。
外筒25は、冷却ジャケット20が取り付けられている円錐状内筒11及びガス旋回筒16の外周を覆ってもよい。
外套上蓋26aが、外筒25の上部を塞ぐ。外套上蓋26aは、外筒25の上部開口を塞いでいる。
吸気口29aが、外筒25に形成される。
例えば、この吸気口29aには、冷却器及び送風ファンを介して、ボイラーから伸びているガスダクト5が接続されている。
外筒底蓋26cが、外筒25の下部を塞ぐ。
微粉排出管59が外筒底部26cを貫く。
図2は、外筒15と外筒上蓋26aと外筒底蓋26bとが、冷却ジャケット20が取り付けられている円錐状内筒11及びガス旋回筒16の周囲を覆う様子を示す。
The casing 28 is a member that covers the conical inner cylinder 11 and the gas revolving cylinder 16.
The casing 28 includes an outer cylinder 25, an outer cylinder upper lid 26a, and an outer cylinder bottom lid 26c.
The outer cylinder 25 may cover the outer periphery of the conical inner cylinder 11 and the gas swirl cylinder 16 to which the cooling jacket 20 is attached.
A mantle upper lid 26 a closes the upper portion of the outer cylinder 25. The mantle upper cover 26 a closes the upper opening of the outer cylinder 25.
An intake port 29 a is formed in the outer cylinder 25.
For example, the gas duct 5 extending from the boiler is connected to the intake port 29a via a cooler and a blower fan.
The outer cylinder bottom lid 26c closes the lower part of the outer cylinder 25.
The fine powder discharge pipe 59 penetrates the outer cylinder bottom part 26c.
FIG. 2 shows a state in which the outer cylinder 15, the outer cylinder upper lid 26 a and the outer cylinder bottom lid 26 b cover the periphery of the conical inner cylinder 11 and the gas turning cylinder 16 to which the cooling jacket 20 is attached.

圧縮空気分配手段は、圧縮ガスを複数の噴出ノズル19へ分配する手段である。
圧縮空気分配手段は、コンプレッサからの圧縮空気を複数の噴出ノズル19へ分配してもよい。
圧縮空気分配手段は、圧縮空気分配器27で構成される。
圧縮空気分配手段は、少なくとも2つの圧縮空気分配器27である第一圧縮空気分配器27aと第二圧縮空気分配器27bとで構成されてもよい。
例えば、圧縮空気分配器27は、外筒25の回りに設けられる。
コンプレッサから伸びている圧縮空気供給配管58が、圧縮空気分配器に接続されている。
例えば、圧縮空気分配器27には、7つの噴出ノズル19、19、・・・が設けられている。噴出ノズル19の先端部は、この先端部から噴射される圧縮空気が、円錐状内筒11の上部内周面に沿い、円錐状内筒11の中心軸Cを中心として上から見て時計回り方向に旋回するよう、曲げられている。
例えば、2つの圧縮空気分配器27a、27bには、7つの第一噴出ノズル19a、19a、・・・、と7つの第二噴出ノズル19b、19b・・・・とが各々に設けられている。
The compressed air distributing means is means for distributing the compressed gas to the plurality of ejection nozzles 19.
The compressed air distribution means may distribute the compressed air from the compressor to the plurality of ejection nozzles 19.
The compressed air distributor is composed of a compressed air distributor 27.
The compressed air distributing means may be composed of at least two compressed air distributors 27, a first compressed air distributor 27a and a second compressed air distributor 27b.
For example, the compressed air distributor 27 is provided around the outer cylinder 25.
A compressed air supply pipe 58 extending from the compressor is connected to the compressed air distributor.
For example, the compressed air distributor 27 is provided with seven ejection nozzles 19, 19,. The tip of the ejection nozzle 19 is clockwise when the compressed air injected from the tip is along the upper inner peripheral surface of the conical inner cylinder 11 and viewed from above around the central axis C of the conical inner cylinder 11. It is bent to turn in the direction.
For example, two compressed air distributors 27a and 27b are provided with seven first jet nozzles 19a, 19a,... And seven second jet nozzles 19b, 19b,. .

微粉排出管59は、円錐状内筒11の排出口12から排出された微粉を含むガスを後述するバグフィルタ式処理装置80に案内する管である。
微粉排出管59は、パイプであって一方の端部を排出口に連通し、他方の端部をバグフィルタ式処理装置80の吸込室82に開放する。
例えば、微粉排出管59は、垂直に延びるパイプであって上方の端部を排出口に連通し、下方の端部をバグフィルタ式処理装置80の吸込室82に開放する。
The fine powder discharge pipe 59 is a pipe for guiding a gas containing fine powder discharged from the discharge port 12 of the conical inner cylinder 11 to a bag filter type processing device 80 described later.
The fine powder discharge pipe 59 is a pipe having one end communicating with the discharge port and the other end opened to the suction chamber 82 of the bag filter type processing apparatus 80.
For example, the fine powder discharge pipe 59 is a pipe that extends vertically, communicates the upper end with the discharge port, and opens the lower end to the suction chamber 82 of the bag filter type processing apparatus 80.

微粉排出管円板状部材95は、微粉排出管59の流れを遮る様に設けられる円板状部材であって複数の貫通穴を形成されている部材である。
微粉排出管円板状部材95は、微粉排出管59の下方の端部の流れを遮る様に設けられる円板状部材であって複数の貫通穴を形成されていてもよい。
微粉排出管円板状部材95は、微粉排出管59の途中の流れを遮る様に設けられる円板状部材であって複数の貫通穴を形成されていてもよい。
例えば、微粉排出管円板状部材95は、微粉排出管59の中心軸に近づくに連れて次第に上方に突出して行く皿状を形成し、複数の貫通孔が形成されている。
例えば、微粉排出管円板状部材95は、微粉排出管59の中心軸に近づくに連れて次第に上方に突出して行く皿状を形成し、下から見て時計方向または反時計方向の一方の方向に向かってその下面からその上面に貫通している複数の貫通孔が形成されている。
例えば、微粉排出管円板状部材95は、微粉排出管59の中心軸に近づくに連れて次第に上方に突出して行く皿状を形成し、下から見て時計方向に向かってその下面からその上面に貫通している複数の貫通孔が形成されている。
The fine powder discharge pipe disk-shaped member 95 is a disk-shaped member provided so as to block the flow of the fine powder discharge pipe 59 and is formed with a plurality of through holes.
The fine powder discharge pipe disk-shaped member 95 is a disk-shaped member provided so as to block the flow at the lower end of the fine powder discharge pipe 59, and a plurality of through holes may be formed.
The fine powder discharge pipe disk-shaped member 95 is a disk-shaped member provided so as to block the flow in the middle of the fine powder discharge pipe 59, and a plurality of through holes may be formed.
For example, the fine powder discharge pipe disk-like member 95 forms a dish shape that gradually protrudes upward as it approaches the central axis of the fine powder discharge pipe 59, and has a plurality of through holes.
For example, the fine powder discharge pipe disk-shaped member 95 forms a dish shape that gradually protrudes upward as it approaches the central axis of the fine powder discharge pipe 59, and is one of the clockwise or counterclockwise directions when viewed from below. A plurality of through holes penetrating from the lower surface to the upper surface are formed.
For example, the fine powder discharge pipe disk-shaped member 95 forms a dish shape that gradually protrudes upward as it approaches the central axis of the fine powder discharge pipe 59, and when viewed from below, the bottom face thereof from the lower face toward the clockwise direction. A plurality of through holes penetrating through are formed.

バグフィルタ式処理装置80は、濾布81、81、・・・とスクリュー89とケーシング85と逆洗装置90とで構成される。
バグフィルタ式処理装置80は、濾布81、81、・・・とスクリュー89とケーシング85と逆洗装置90と濾布支持体81aとで構成されてもよい。
バグフィルタ式処理装置80は、濾布81、81、・・・とスクリュー89とケーシング85と逆洗装置90と濾布開口円板状部材96とで構成されてもよい。
バグフィルタ式処理装置80は、濾布81、81、・・・とスクリュー89とケーシング85と逆洗装置90と高周波電圧印加手段97とで構成されてもよい。
バグフィルタ式処理装置80は、濾布81、81、・・・とスクリュー89とケーシング85と逆洗装置90と仕切り板84とで構成されてもよい。
バグフィルタ式処理装置80は、濾布81、81、・・・とスクリュー89とケーシング85と逆洗装置90と濾布支持体81aと濾布開口円板状部材96と高周波電圧印加手段97と仕切り板84とで構成されてもよい。
The bag filter type processing device 80 includes filter cloths 81, 81,..., A screw 89, a casing 85, and a backwash device 90.
The bag filter type processing apparatus 80 may be composed of filter cloths 81, 81,..., A screw 89, a casing 85, a backwashing apparatus 90, and a filter cloth support 81a.
The bag filter type processing device 80 may be configured by filter cloths 81, 81,..., A screw 89, a casing 85, a backwash device 90, and a filter cloth opening disk member 96.
The bag filter type processing device 80 may include filter cloths 81, 81,..., A screw 89, a casing 85, a backwash device 90, and a high-frequency voltage applying unit 97.
The bag filter type processing apparatus 80 may be configured by filter cloths 81, 81,..., A screw 89, a casing 85, a backwash device 90, and a partition plate 84.
The bag filter processing device 80 includes filter cloths 81, 81,..., Screws 89, a casing 85, a backwash device 90, a filter cloth support 81a, a filter cloth opening disk member 96, and a high-frequency voltage applying means 97. You may be comprised with the partition plate 84. FIG.

濾布81は、開口をもつ袋状であって該開口を後述する仕切り板開口に連通するものである。
例えば、濾布81は、円筒状を成し、上部が開口し、下部に底を有している。この濾布81は、濾布81の上部開口縁が仕切り板87に設けられる仕切り板開口に連通する。
The filter cloth 81 has a bag shape with an opening, and communicates the opening with a partition plate opening to be described later.
For example, the filter cloth 81 has a cylindrical shape, an upper portion is open, and a bottom portion is provided at the bottom. The filter cloth 81 communicates with the partition plate opening provided at the partition plate 87 at the upper opening edge of the filter cloth 81.

濾布支持体81aは、濾布81を支持する構造体である。
例えば、濾布支持体81aは、円柱状の輪郭をもつ構造体であって、一方の端部にフランジをもつ。
円柱状の輪郭をもつ構造体が、濾布81を内側から支持する。
The filter cloth support 81 a is a structure that supports the filter cloth 81.
For example, the filter cloth support 81a is a structure having a cylindrical outline, and has a flange at one end.
A structure having a cylindrical outline supports the filter cloth 81 from the inside.

ケーシング85は、吸込室82と排気室83とを合わせた空間を形成する部材である。
仕切り板84は、ケーシング85を吸込室82と排気室83に仕切り、開口である仕切り板開口を設けられる板部材である。
例えば、ケーシング85は、上部が四角筒型を成し、下部が四角錐型を成している。ケーシング85の四角錐型部分の内部は、前述した仕切り板87により上下に仕切られ、その下側が吸込室82、その上側が排気室83を形成している。
排気室83を形成するケーシング85の側壁には、排気口88が形成されている。吸込室82内には、仕切り板84により支持された複数の濾布81、81、・・・・が配されている。
ガス処理装置10から伸びている微粉排出管59の下端開口59aが吸込室82の内部に位置する。
The casing 85 is a member that forms a space that combines the suction chamber 82 and the exhaust chamber 83.
The partition plate 84 is a plate member that partitions the casing 85 into a suction chamber 82 and an exhaust chamber 83 and is provided with a partition plate opening that is an opening.
For example, the casing 85 has a quadrangular cylindrical shape at the top and a quadrangular pyramid at the bottom. The inside of the quadrangular pyramidal portion of the casing 85 is partitioned up and down by the partition plate 87 described above, and the lower side forms a suction chamber 82 and the upper side forms an exhaust chamber 83.
An exhaust port 88 is formed in the side wall of the casing 85 that forms the exhaust chamber 83. In the suction chamber 82, a plurality of filter cloths 81, 81,... Supported by a partition plate 84 are arranged.
A lower end opening 59 a of the fine powder discharge pipe 59 extending from the gas processing apparatus 10 is located inside the suction chamber 82.

スクリュー89は、ガス中の微粉状固体を目的の方向に送る機械要素である。
スクリュー89が、ケーシング85の四角錐型部分の下部に設けられている。
微粉排出口86が、このスクリュー89の下部であってケーシング85を形成する壁面に形成される。
例えば、スクリュー89は、ガス中の微粉状固体とガス中の液体とを混合して、一体として微粉排出口86から系外へ排出する。
The screw 89 is a mechanical element that sends a finely divided solid in a gas in a target direction.
A screw 89 is provided in the lower part of the quadrangular pyramid portion of the casing 85.
A fine powder discharge port 86 is formed on the wall surface forming the casing 85 below the screw 89.
For example, the screw 89 mixes the fine powdered solid in the gas and the liquid in the gas, and discharges them as a unit from the fine powder discharge port 86 to the outside of the system.

逆洗装置90は、濾布81の目詰まりを解消するための装置である。
例えば、逆洗装置90は、ヘッダ91と逆洗配管92、92、・・・とで構成される。
ヘッダ91は、圧縮空気が一時的に溜められる容器である。
逆洗配管92、92、・・・は、ヘッダ91内の圧縮空気を濾布81、81、・・・・の内部に導く配管である。
逆洗装置90を作動させると、背圧が濾布81に作用し、濾布81の目詰まりが解消される。
The backwash device 90 is a device for eliminating clogging of the filter cloth 81.
For example, the backwash device 90 includes a header 91 and backwash pipes 92, 92,.
The header 91 is a container in which compressed air is temporarily stored.
The backwash pipes 92, 92,... Are pipes that guide the compressed air in the header 91 into the filter cloths 81, 81,.
When the backwash device 90 is operated, the back pressure acts on the filter cloth 81, and the clogging of the filter cloth 81 is eliminated.

濾布開口円板状部材96は、濾布81の開口に設けられる円板状の板材であって、複数の貫通孔を設けられる部材である。
逆洗装置90の逆洗配管92が、濾布開口円板状部材96を貫通する。
逆洗装置90の逆洗配管92が、濾布開口円板状部材96の中心を貫通してもよい。
例えば、濾布開口円板状部材96は、複数の貫通孔が形成されて、中心部に逆洗装置90の逆洗配管92が貫通する。
例えば、濾布開口円板状部材96は、濾布81の開口の中心軸に近づくに連れて次第に下方に突出して行く皿状を成し、複数の貫通孔が形成されて、中心部に逆洗装置90の逆洗配管92が貫通する。
例えば、微粉排出管円板状部材96は、濾布81の中心軸に近づくに連れて次第に下方に突出して行く皿状を成し、上から見て時計方向または反時計方向の一方の方向に向かってその上面からその下面に貫通している複数の貫通孔が形成されて、中心部に逆洗装置90の逆洗配管92が貫通する。
例えば、微粉排出管円板状部材96は、濾布81の中心軸に近づくに連れて次第に下方に突出して行く皿状を成し、上から見て時計方向に向かってその上面からその下面に貫通している複数の貫通孔が形成されて、中心部に逆洗装置90の逆洗配管92が貫通する。
The filter cloth opening disk-shaped member 96 is a disk-shaped plate material provided in the opening of the filter cloth 81, and is a member provided with a plurality of through holes.
A backwash pipe 92 of the backwash device 90 passes through the filter cloth opening disk-like member 96.
The backwash pipe 92 of the backwash device 90 may pass through the center of the filter cloth opening disk member 96.
For example, the filter cloth opening disk-like member 96 is formed with a plurality of through holes, and the backwash pipe 92 of the backwash device 90 passes through the center.
For example, the filter cloth opening disk-shaped member 96 has a dish shape that gradually protrudes downward as it approaches the central axis of the opening of the filter cloth 81, and has a plurality of through holes formed at the center. The backwash pipe 92 of the washing device 90 penetrates.
For example, the fine powder discharge pipe disk-shaped member 96 has a dish shape that gradually protrudes downward as it approaches the central axis of the filter cloth 81, and is seen in one of the clockwise or counterclockwise directions when viewed from above. A plurality of through holes penetrating from the upper surface to the lower surface are formed, and the backwash pipe 92 of the backwash device 90 penetrates through the center.
For example, the fine powder discharge tube disk-shaped member 96 has a dish shape that gradually protrudes downward as it approaches the central axis of the filter cloth 81, and from the upper surface to the lower surface in the clockwise direction when viewed from above. A plurality of penetrating through holes are formed, and the backwash pipe 92 of the backwash device 90 penetrates through the center.

高周波電圧印加手段97は、濾布81の内側と濾布81の外側との間に高周波電圧を印加する手段である。
高周波電圧印加手段97は、濾布81の内側と濾布81の外側との間に数万ボルト、数メガヘルツの高周波電圧を印加させてもよい。
高周波電圧印加手段97は、逆洗装置90を作用させるときに濾布81の内側と濾布81の外側との間に高周波電圧を印加してもよい。
高周波電圧印加手段97は、逆洗配管92から逆洗のための高圧ガスを吐出させるときに濾布81の内側と濾布81の外側との間に高周波電圧を印加してもよい。
例えば、高周波電圧印加手段97は、濾布支持体に設けられた金属電極と吸込室82に下げられたアンテナとを設け、金属電極とアンテナとに高周波電圧を印加する電気機器とで構成される。
例えば、高周波電圧印加手段97は、濾布支持体に設けられた金網状の金属電極と吸込室82に下げられたアンテナとを設け、金属電極とアンテナとに高周波電圧を印加する電気機器とで構成される。
アンテナは、金網を長尺の形状にしたものであってもい。
アンテナは、金属の棒状のものであってもよい。
アンテナが、複数の濾布支持体の間に設けられてもよい。
複数のアンテナが、複数の濾布支持体の間に各々に設けられてもよい。
The high frequency voltage applying unit 97 is a unit that applies a high frequency voltage between the inside of the filter cloth 81 and the outside of the filter cloth 81.
The high frequency voltage application means 97 may apply a high frequency voltage of several tens of thousands volts and several megahertz between the inside of the filter cloth 81 and the outside of the filter cloth 81.
The high-frequency voltage application unit 97 may apply a high-frequency voltage between the inside of the filter cloth 81 and the outside of the filter cloth 81 when the backwash device 90 is operated.
The high-frequency voltage application unit 97 may apply a high-frequency voltage between the inside of the filter cloth 81 and the outside of the filter cloth 81 when high-pressure gas for backwashing is discharged from the backwash pipe 92.
For example, the high-frequency voltage applying means 97 includes a metal electrode provided on the filter cloth support and an antenna lowered to the suction chamber 82, and is configured by an electric device that applies a high-frequency voltage to the metal electrode and the antenna. .
For example, the high-frequency voltage applying means 97 includes a metal mesh-like metal electrode provided on the filter cloth support and an antenna lowered to the suction chamber 82, and an electric device that applies a high-frequency voltage to the metal electrode and the antenna. Composed.
The antenna may be a long wire net.
The antenna may be a metal rod.
An antenna may be provided between the plurality of filter cloth supports.
A plurality of antennas may be provided between each of the plurality of filter cloth supports.

次に、本発明の第一の実施形態にかかるガス処理設備の作用について説明する。   Next, the operation of the gas processing facility according to the first embodiment of the present invention will be described.

ガス処理装置10へ流入したガスは、ガス吸込ライン29を通って、外筒25の内周面と冷却ジャケット20の外周面との間を通って上昇する。この過程で、ガスは、冷却ジャケット20内の冷却水と熱交換して冷却される。ガスは、外筒25の内周面とガス旋回筒16の間に至ると、ガス旋回筒16の複数の開口17、17、・・・からガス旋回筒16内に流入する。ガスは、この過程で、ガス旋回筒16の各開口17、17、・・・に設けられている旋回羽根18、18、・・・で、時計回り又は反時計回りの旋回力が加えられる。ガス旋回筒16内のガスは、旋回しつつ下方に向い、ガス旋回皿状板13の貫通孔14を通過して、円錐状内筒11内に流入する。この過程でも、ガス旋回皿状板13の貫通孔14がガスの旋回方向に貫通しているため、ガスの旋回性が高まる。   The gas flowing into the gas processing apparatus 10 passes through the gas suction line 29 and rises between the inner peripheral surface of the outer cylinder 25 and the outer peripheral surface of the cooling jacket 20. In this process, the gas is cooled by exchanging heat with the cooling water in the cooling jacket 20. When the gas reaches between the inner peripheral surface of the outer cylinder 25 and the gas swirl cylinder 16, the gas flows into the gas swirl cylinder 16 from the plurality of openings 17, 17. In this process, the gas is subjected to a clockwise or counterclockwise swirl force at swirl vanes 18, 18,... Provided in the openings 17, 17,. The gas in the gas swirl tube 16 turns downward while swirling, passes through the through hole 14 of the gas swirl plate 13 and flows into the conical inner tube 11. Even in this process, since the through hole 14 of the gas swirling plate 13 penetrates in the gas swirl direction, the gas swirlability is improved.

ガス処理装置10の円錐状内筒11内には、ガスの他に、コンプレッサ4からの圧縮空気も噴出ノズル19から供給される。圧縮空気は、この実施形態において、4.5〜7.0kg/cm2程度に調整されて、ガスの旋回方向に、噴出ノズル19から円錐状内筒11内に噴射される。従って、円錐状内筒11内の圧力は高まると共に、円錐状内筒11内のガスの旋回力も高まる。なお、一台のガス処理装置10に供給される圧縮空気の量は、一台のガス処理装置10に流入するガス量が約22Nm3/minであるとすると、0.25Nm3/minと、非常に僅かである。   In addition to the gas, compressed air from the compressor 4 is also supplied from the ejection nozzle 19 into the conical inner cylinder 11 of the gas processing apparatus 10. In this embodiment, the compressed air is adjusted to about 4.5 to 7.0 kg / cm 2 and is injected into the conical inner cylinder 11 from the ejection nozzle 19 in the gas turning direction. Therefore, the pressure in the conical inner cylinder 11 increases and the turning force of the gas in the conical inner cylinder 11 also increases. It should be noted that the amount of compressed air supplied to one gas processing apparatus 10 is very low at 0.25 Nm 3 / min, assuming that the amount of gas flowing into one gas processing apparatus 10 is about 22 Nm 3 / min. There are few.

円錐状内筒11では、圧縮空気の流入により、特定の圧力まで上昇すると共に、特定の温度まで低下する。この温度低下は、圧縮空気の断熱膨張効果と、サイクロン固有の効果とによって生じる。さらに、円錐状内筒11内の気体は、冷却ジャケット20内の冷却水によっても冷却される。円錐状内筒11内の圧力上昇と温度低下により、ガス中の気体汚染物質は液化して、ガス中の微粉状固体に吸着される。さらに、ガス中の気体汚染物質は、圧縮空気中の水分が凝縮して水になったものに溶け込み、この水がガス中の微粉状固体に吸着される。微粉状固体は、以上のように、圧縮空気中の水と液化した気体汚染物質とを吸着し、微粉状固体相互に付着し合い、比較的大きな塊に成ると共に重たくなって、気体汚染物質及び微粉状固体がほぼ除去されたガスと共に旋回しつつ下降して行く段階で、遠心力を受けて、ガスから分離される。   In the conical inner cylinder 11, the pressure increases to a specific pressure and decreases to a specific temperature due to the inflow of compressed air. This temperature drop is caused by the adiabatic expansion effect of compressed air and the effect unique to the cyclone. Furthermore, the gas in the conical inner cylinder 11 is also cooled by the cooling water in the cooling jacket 20. The gas pollutant in the gas is liquefied by the pressure increase and temperature decrease in the conical inner cylinder 11, and is adsorbed by the fine powder solid in the gas. Further, the gaseous pollutant in the gas dissolves in the water which is condensed from the water in the compressed air, and this water is adsorbed by the finely divided solid in the gas. As described above, the finely divided solid adsorbs the water in the compressed air and the liquefied gaseous pollutant, adheres to the finely divided solid, becomes a relatively large lump and becomes heavy, and the gaseous pollutant and At the stage where the finely divided solid descends while swirling with the substantially removed gas, it is separated from the gas under centrifugal force.

ここで、ガス中の気体汚染物質の除去メカニズムについて、窒素酸化物とダイオキシン類を例として以下に説明する。   Here, the mechanism for removing gaseous pollutants in the gas will be described below using nitrogen oxides and dioxins as examples.

大気汚染に関する公害物質のなかで、今日最も大きな問題とされているのは窒素酸化物とダイオキシン類である。   Among the pollutants related to air pollution, nitrogen oxides and dioxins are the biggest problems today.

窒素酸化物である二酸化窒素NO2は、近年、光化学的“スモッグ”現象を誘発するものとして、また、特異な悪臭を放つものとして、特に問題となっている気体である。窒素酸化物は、石炭、石油等のような化石燃料の燃焼過程や、硝酸等を製造する化学工程において発生する。窒素化物の中で、一酸化窒素NОは前述した化石燃料の燃焼時に酸素と窒素が直接反応して生成され、二酸化窒素NОは一酸化窒素が再び酸化反応を起こして生成されるものである。このNОは、冷却されると、二分子結合反応を起こし、無色の液状四酸化窒素(NО)に変化する。 Nitrogen dioxide NO2, which is a nitrogen oxide, is a gas that has been particularly problematic in recent years, as it induces a photochemical “smog” phenomenon and emits a peculiar odor. Nitrogen oxides are generated in the combustion process of fossil fuels such as coal and petroleum, and in the chemical process for producing nitric acid and the like. Among the nitrides, nitric oxide NO is produced by the direct reaction of oxygen and nitrogen during the combustion of the fossil fuel described above, and nitrogen dioxide NO 2 is produced by the oxidation reaction of nitric oxide again. . When this NO 2 is cooled, it undergoes a bimolecular bond reaction and changes to colorless liquid nitric oxide (N 2 O 4 ).

その反応式は、2NO2⇔N24+Q・・・・・・・・・・・・・(1)
となる。この反応は、可逆反応であり発熱反応で、温度が低下しても、圧力が増加しても、平衡反応式(1)は右側に進行して、NO2は、液状の四酸化窒素N24に変化する。
The reaction formula is 2NO 2 ⇔N 2 O 4 + Q (1)
It becomes. This reaction is a reversible and exothermic reaction, and even if the temperature decreases or the pressure increases, the equilibrium reaction formula (1) proceeds to the right and NO 2 is liquid nitrogen tetroxide N 2. Change to O 4 .

このように、NO2が液状のN24に変化した雰囲気中に、微粉状固体が存在すると、微量のN24でも、微粉状固体に吸着してしまい、この微粉状粒子と共に除去される。従って、この実施形態のように、ガス雰囲気の圧力が高められ、且つガスが冷却すると、ガス中の気体状汚染物質の多くは、液化し、微粉状固体に吸着されてしまう。なお、ガス中の気体状汚染物質の液化に関する詳細な内容については、日本分析化学会関東支部で発刊された“公害分析指針”の大気篇に記述されている。 Thus, if a finely divided solid is present in an atmosphere in which NO 2 is changed to liquid N 2 O 4 , even a small amount of N 2 O 4 is adsorbed to the finely divided solid and removed together with the finely divided particles. Is done. Therefore, as in this embodiment, when the pressure of the gas atmosphere is increased and the gas is cooled, most of the gaseous contaminants in the gas are liquefied and adsorbed on the finely divided solid. The details of the liquefaction of gaseous pollutants in gas are described in the “Air Pollution Guidelines” published by the Kanto Branch of the Analytical Chemical Society of Japan.

ダイオキシン類は、二つのベンゼン環を二つの酸素原子で結んでいる塩素化ダイオキシンと、二つのベンゼン環を一つの酸素原子で結んでいる塩素化ジベンゾフランとの両方を合わせた総称である。このダイオキシン類は、ベトナム戦争で使用され、多数の奇形児を発生させた枯葉材に大量に含まれていたことで、知られるようになったもので、近年では、都市ゴミ焼却炉のガス中からも検出され、さらに、この焼却炉の近所に住んでいる母親の母乳からも検出されたことで大きな問題となっている。   Dioxins are a collective term for both chlorinated dioxins in which two benzene rings are connected by two oxygen atoms and chlorinated dibenzofurans in which two benzene rings are connected by one oxygen atom. These dioxins became known because they were used in the Vietnam War and were contained in large quantities in dead leaves that caused many malformed children. It has also been detected from breast milk of mothers who live in the neighborhood of this incinerator.

ゴミ等の焼却過程でのダイオキシン類の生成は、焼却炉内おいて生成される場合と、焼却炉から排出されたガスの冷却過程で生成される場合とに分けられる。   Generation of dioxins in the incineration process of garbage and the like is divided into a case where it is generated in the incinerator and a case where it is generated in the cooling process of the gas discharged from the incinerator.

焼却炉内では、ゴミ等の焼却初期段階で、大量の炭化水素(C)が発生し、これが空気と接触して炭酸ガスと水とに分解するのが通常であるが、これと空気との接触が悪いと、ダイオキシン類又はダイオキシン類に似た構造を持つ物質(前駆体)が生成されることになる。また、焼却炉内でダイオキシン類が生成されていなくても、ダイオキシン類の前駆体が生成されていれば、ガスの冷却過程で、塩化銅、塩化鉄、炭素等を触媒として、この前駆体がダイオキシン類に合成されることがある。特に、ガスの温度が300℃付近では、この合成反応が起こりやすい。なお、約300℃は、ダイオキシン類の融点でもある。 In an incinerator, a large amount of hydrocarbon (C n H m ) is generated at the initial stage of incineration of garbage, etc., and this usually comes into contact with air and decomposes into carbon dioxide and water. If the contact with air is poor, dioxins or a substance (precursor) having a structure similar to that of dioxins is generated. In addition, even if dioxins are not generated in the incinerator, if a precursor of dioxins is generated, this precursor is converted into a catalyst using copper chloride, iron chloride, carbon, etc. during the gas cooling process. May be synthesized into dioxins. In particular, when the gas temperature is around 300 ° C., this synthesis reaction tends to occur. In addition, about 300 degreeC is also melting | fusing point of dioxins.

そこで、この実施形態では、ガスが大気に放出される前に、ダイオキシン類の合成温度である300℃未満に、ガスの温度を下げ、前駆体をダイオキシン類に合成させてしまうと共に、合成されたダイオキシン類及びガス中に予め含まれていたダイオキシン類をほとんど微粉化して、これを捕集している。具体的に、この実施形態では、ボイラー1で発生した800℃以上のガスを冷却器2で120℃程度まで下げ、さらに、ガス処理装置10A内の冷却ジャケット20や、円筒状内筒11内での断熱膨張等で、円筒状内筒11内でのガス温度を70℃程度にまで下げている。この結果、円筒状内筒11内では、ガス中のダイオキシン類は、そのほとんどが微粉化される。微粉化したダイオキシン類は、前述したように、圧縮空気中の水と液化した気体汚染物質と吸着し、微粉状固体相互に付着し合い、比較的大きな塊と成って、気体汚染物質及び微粉状固体がほぼ除去されたガスと共に旋回しつつ下降して行く段階で、遠心力を受けて、ガスから分離される。   Therefore, in this embodiment, before the gas is released into the atmosphere, the temperature of the gas is lowered to less than 300 ° C., which is the synthesis temperature of dioxins, and the precursor is synthesized into dioxins and synthesized. Dioxins and dioxins previously contained in the gas are almost pulverized and collected. Specifically, in this embodiment, the gas of 800 ° C. or higher generated in the boiler 1 is lowered to about 120 ° C. by the cooler 2, and further, in the cooling jacket 20 in the gas processing apparatus 10 A or the cylindrical inner cylinder 11. The gas temperature in the cylindrical inner cylinder 11 is lowered to about 70 ° C. by adiabatic expansion of the gas. As a result, most of the dioxins in the gas are pulverized in the cylindrical inner cylinder 11. As described above, finely divided dioxins adsorb water in compressed air and liquefied gaseous pollutants, adhere to each other in fine powder solids, and form relatively large lumps. When the solid is swirling and descending with the substantially removed gas, the solid is separated from the gas under centrifugal force.

ガス中の気体汚染物質の除去過程で、重要なものは、旋回流形成手段であるガス旋回筒16及びガス旋回皿状板13と、冷却ジャケット20である。   What is important in the process of removing gaseous pollutants in the gas is the gas swirl cylinder 16 and the gas swirl dish 13 which are swirl flow forming means, and the cooling jacket 20.

ガス旋回筒16及びガス旋回皿状板13は、円錐状内筒11内のガスの旋回性を高めることで、ガス中の微粉状固体を遠心力で分離する効果を高めていると共に、ガスの冷却効果も高めている。ガスの冷却効果の向上は、以下のようなメカニズムである。円錐状内筒11内で旋回流が形成されると、円錐状内筒11の中心軸近傍の圧力が小さくなり、円錐状内筒11の外周側の圧力が高まる。従って、円錐状内筒11内のガスの旋回性が高められると、円錐状内筒11の中心軸近傍と外周側との圧力格差がさらに大きくなる。このため、ガス旋回筒16及びガス旋回皿状板13で、円錐状内筒11内のガスの旋回性が高められると、圧縮空気が旋回しつつ円錐状内筒11の中心軸に近づく過程での、圧縮空気の断熱膨脹率が高まって、ガスの冷却効果も高められる。なお、ガス旋回筒16及びガス旋回皿状板13は、円錐状内筒11内のガスの旋回性を高める役割の他に、ガス旋回筒16及びガス旋回皿状板13のそれぞれの下流側の圧力が何らかの原因で高まってきて、ガスが逆流するのを防ぐ役割も担っている。   The gas swirl cylinder 16 and the gas swirl dish 13 enhance the gas swirlability in the conical inner cylinder 11, thereby enhancing the effect of separating the finely divided solid in the gas by centrifugal force. The cooling effect is also enhanced. The improvement of the gas cooling effect is as follows. When a swirl flow is formed in the conical inner cylinder 11, the pressure in the vicinity of the central axis of the conical inner cylinder 11 decreases, and the pressure on the outer peripheral side of the conical inner cylinder 11 increases. Therefore, when the gas swirlability in the conical inner cylinder 11 is improved, the pressure difference between the vicinity of the central axis of the conical inner cylinder 11 and the outer peripheral side is further increased. For this reason, when the swirlability of the gas in the conical inner cylinder 11 is enhanced by the gas swirling cylinder 16 and the gas swirling dish-shaped plate 13, the compressed air is swirling and approaches the central axis of the conical inner cylinder 11. As a result, the adiabatic expansion rate of the compressed air is increased, and the gas cooling effect is enhanced. The gas swirling cylinder 16 and the gas swirling dish-shaped plate 13 are provided on the downstream side of the gas swirling cylinder 16 and the gas swirling dish-shaped plate 13 in addition to the role of improving the gas swirlability in the conical inner cylinder 11. It also plays a role in preventing the gas from flowing back due to pressure increasing for some reason.

また、冷却ジャケット20も、ガスを冷却している。この冷却ジャケット20は、外筒25とジャケット20との間を通過しているガスのみならず、円錐状内筒11内を通過しているガスも冷却している、言い替えると、ガス処理装置10に流入した直後のガスとガス処理装置10から流出する直前のガスとを冷却しており、効率よくガスを冷却している。なお、円錐状内筒11内でのガスの温度は、冷却水供給配管21a及び冷却水排水配管21bに設けられている流量調節弁22a,22bの弁開度を調節して、冷却ジャケット20に供給される冷却水量を制御することで、調整する。   The cooling jacket 20 also cools the gas. The cooling jacket 20 cools not only the gas passing between the outer cylinder 25 and the jacket 20 but also the gas passing through the conical inner cylinder 11, in other words, the gas processing apparatus 10. The gas immediately after flowing into the gas and the gas immediately before flowing out from the gas processing apparatus 10 are cooled, and the gas is efficiently cooled. The temperature of the gas in the conical inner cylinder 11 is adjusted to the cooling jacket 20 by adjusting the valve opening degree of the flow rate adjusting valves 22a and 22b provided in the cooling water supply pipe 21a and the cooling water drain pipe 21b. It is adjusted by controlling the amount of cooling water supplied.

ダイオキシン類を含む微粉状固体は、以上のように、圧縮空気中の水と液化した気体汚染物質とを吸着し、微粉状固体相互に付着し合い、比較的大きな塊と成って、気体汚染物質及び微粉状固体がほぼ除去されたガスと共に、円錐状内筒11の排出口12から微粉排出管59を経て、バグフィルタ式処理装置80の吸込室82内に送られる。   As described above, finely divided solids containing dioxins adsorb water in compressed air and liquefied gaseous pollutants, adhere to each other and form a relatively large lump. In addition, the gas from which the pulverulent solid is substantially removed is sent from the discharge port 12 of the conical inner cylinder 11 through the fine powder discharge pipe 59 into the suction chamber 82 of the bag filter type processing apparatus 80.

バグフィルタ式処理装置80の吸込室82に送られるガス等のうち、比較的大きな微粉は、そのまま落下し、ケーシング85の下部に設けられているスクリュー89によって、微粉排出口86から排出される。また、ガス中に浮遊している比較的小さな微粉は、ガスが濾布の外周側から内周側へ通過する過程で、濾布81に捕集される。濾布81を通過したガスは、濾布81の上部開口から排気室83に至り、排気室83から排気口88を経て、大気中に排気される。   Of the gas sent to the suction chamber 82 of the bag filter type processing apparatus 80, relatively large fine powder falls as it is and is discharged from the fine powder discharge port 86 by the screw 89 provided at the lower portion of the casing 85. Further, relatively small fine particles floating in the gas are collected by the filter cloth 81 in the process of passing the gas from the outer peripheral side to the inner peripheral side of the filter cloth. The gas that has passed through the filter cloth 81 reaches the exhaust chamber 83 from the upper opening of the filter cloth 81, and is exhausted from the exhaust chamber 83 through the exhaust port 88 to the atmosphere.

濾布81の外周に微粉が付着し、濾布81の外周側と内周側との差圧が大きくなると、逆洗装置90から濾布81の内周側へ圧縮空気が送られ、濾布81の外周に付着していた微粉が払い落される。この微粉は、ケーシング85の下部に設けられている微粉排出口86から排出される。なお、この実施形態では、逆洗装置90から圧縮空気で濾布に付着した微粉を払い落すようにしているが、この逆洗装置90の換わりに、濾布81を振動させるバイブレータを設けてもよい。   When fine powder adheres to the outer periphery of the filter cloth 81 and the differential pressure between the outer peripheral side and the inner peripheral side of the filter cloth 81 increases, compressed air is sent from the backwash device 90 to the inner peripheral side of the filter cloth 81, The fine powder adhering to the outer periphery of 81 is removed. The fine powder is discharged from a fine powder discharge port 86 provided at the lower portion of the casing 85. In this embodiment, fine powder adhering to the filter cloth with compressed air is removed from the backwashing device 90, but a vibrator that vibrates the filter cloth 81 may be provided instead of the backwashing device 90. Good.

以上のように、この実施形態におけるガス処理設備では、別途大きな化学設備を設けずとも、ガス中の気体及び微粉状固体の汚染物質を除去することができるので、ランニングコストおよび製造コストを削減することができる。   As described above, in the gas processing facility in this embodiment, the gas and fine powder solid contaminants in the gas can be removed without providing a separate large chemical facility, thereby reducing running costs and manufacturing costs. be able to.

また、このガス処理設備では、円錐状内筒11内のガス中の微粉状固体は、液化した気体汚染物質や圧縮空気中の水を吸着し、次第に湿ってくるため、微粉状固体相互が付着し合う。従って、かなり粒径の小さい微粉状固体であっても、次第に大きな粒径になるので、単なるサイクロンによる微粉状固体分離よりも、粒径の小さい微粉状固体を分離することができる。また、ガス式処理装置10を通過した後、微粉は、濾布81で捕集される。 ここで注目すべき点は、ガス処理装置10を出た微粉が僅かに湿っているため、濾布81に付着し易く、同径の微粉で乾いているものよりも、遥かに捕集効率が高くなることである。従って、微粉等の除去効率を高めることができる。   Further, in this gas processing facility, the finely divided solid in the gas in the conical inner cylinder 11 adsorbs the liquefied gaseous pollutant and the water in the compressed air and gradually gets wet. Hold on. Therefore, even a finely divided solid having a considerably small particle diameter gradually becomes a large particle diameter, so that a finely divided solid having a small particle diameter can be separated as compared with a finely divided solid separated by a simple cyclone. Further, after passing through the gas processing apparatus 10, the fine powder is collected by the filter cloth 81. The point to be noted here is that the fine powder exiting the gas treatment device 10 is slightly moistened, so that it easily adheres to the filter cloth 81 and has a much higher collection efficiency than the dry powder of the same diameter. To be higher. Therefore, the removal efficiency of fine powder and the like can be increased.

以上、本発明の第一の実施形態では、ガス発生源としてボイラーを例示したが、本発明は、これに限定されるものではなく、ガスを発生するものであれば、例えば、船舶や車両等のディーゼルエンジン、化学プラントの反応器、ゴミ焼却炉などに適用してもよい。   As described above, in the first embodiment of the present invention, the boiler is exemplified as the gas generation source. However, the present invention is not limited to this, and any gas can be generated, for example, a ship or a vehicle. The present invention may be applied to diesel engines, chemical plant reactors, garbage incinerators, and the like.

また、以上の実施形態では、ガス発生源に対して、一台のガス処理装置を設けたが、ガス中の有害物除去の能力を高めるために、さらに多数のガス処理装置を直列的に設けてもよい。また、ガスの処理量を多くするために、ガス発生源に対して、複数のガス処理装置を並列的に設けてもよい。   In the above embodiment, one gas processing device is provided for the gas generation source. However, in order to increase the ability to remove harmful substances in the gas, a larger number of gas processing devices are provided in series. May be. Moreover, in order to increase the amount of gas processing, a plurality of gas processing apparatuses may be provided in parallel with respect to the gas generation source.

本発明によれば、円錐状内筒内でガスの圧力を高めると共に冷却することで、ガス中の気体汚染物質を液化し、これをガス中の微粉状固体に吸着させ、この微粉状固体をバグフィルタに吸着させるので、別途、化学設備を設けずとも、ガス中の気体及び微粉状固体の汚染物質を除去することができ、ランニングコストおよび製造コストを削減することができる。   According to the present invention, by increasing and cooling the pressure of the gas in the conical inner cylinder, the gas pollutants in the gas are liquefied and adsorbed by the finely divided solid in the gas. Since it is adsorbed on the bag filter, gas and fine solid contaminants in the gas can be removed without separately providing chemical equipment, and running costs and manufacturing costs can be reduced.

特に、本発明では、円錐状内筒内でガス中の微粉を湿らせているので、円錐状内筒の下流側に設けた濾布による微粉状固体の捕集効率が高められる。   In particular, in the present invention, since the fine powder in the gas is moistened in the conical inner cylinder, the collection efficiency of the fine powder solid by the filter cloth provided on the downstream side of the conical inner cylinder is enhanced.

次ぎに、本発明の第二の実施形態に係るガス処理装置を、図を基に、説明する。
図11は、本発明の第二の実施形態に係るガス処理設備の斜視図である。図12は、本発明の第二の実施形態に係るガス処理装置の正面断面図である。図13は、本発明の第二の実施形態に係るスクリーンフィルタ処理装置の斜視図である。図14は、本発明の第二の実施形態に係るガス処理装置のE−E断面図である。図15は、本発明の第二の実施形態に係るガス処理装置のF−F断面図である。
Next, a gas processing apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 11 is a perspective view of a gas processing facility according to the second embodiment of the present invention. FIG. 12 is a front sectional view of a gas processing apparatus according to the second embodiment of the present invention. FIG. 13 is a perspective view of a screen filter processing apparatus according to the second embodiment of the present invention. FIG. 14 is an EE cross-sectional view of a gas processing apparatus according to the second embodiment of the present invention. FIG. 15 is an FF cross-sectional view of the gas processing apparatus according to the second embodiment of the present invention.

この実施形態におけるガス処理設備は、ガスを処理する装置である。ガスは、ボイラーから排気される高温のガス中であってもよい。ガス中には、ダイオキシン類やNOxやSOxなど気体状態で存在する大気汚染物質の他に、粉塵などの固体状態で存在する物質を含んでいる。
ガスは、放射性物質を含むものであってもよい。ガスは、放射能汚染された物質を焼却して排気されるガスであってもよい。
ガスは、前処理としてサイクロン式処理装置で処理されたものであってもよい。
The gas processing facility in this embodiment is an apparatus for processing gas. The gas may be in a hot gas exhausted from the boiler. The gas contains substances present in a solid state such as dust, in addition to air pollutants such as dioxins, NOx and SOx present in a gaseous state.
The gas may contain a radioactive substance. The gas may be a gas exhausted by incineration of a radioactively contaminated substance.
The gas may be processed by a cyclone processing apparatus as a pretreatment.

この実施形態におけるガス処理設備は、ガスを冷却する冷却手段である冷却器と、この冷却器で冷却されたガスを処理するガス処理設備とで構成されてもよい。
ガス処理設備は、ガス処理装置10と微粉排出管59と微粉分散室30とスクリーンフィルタ式処理装置40と微粉案内管60とバグフィルタ式処理装置80とで構成されてもよい。
The gas processing facility in this embodiment may be composed of a cooler that is a cooling unit that cools the gas, and a gas processing facility that processes the gas cooled by the cooler.
The gas processing facility may include the gas processing device 10, the fine powder discharge pipe 59, the fine powder dispersion chamber 30, the screen filter type processing apparatus 40, the fine powder guide pipe 60, and the bag filter type processing apparatus 80.

ガス処理装置10は、圧縮気体供給手段とガス旋回筒16と円錐状内筒11と旋回流形成手段と噴射手段と冷却手段と圧縮空気分配手段とケーシング28とで構成されてもよい。   The gas processing apparatus 10 may include a compressed gas supply means, a gas swirl cylinder 16, a conical inner cylinder 11, a swirl flow forming means, an injection means, a cooling means, a compressed air distribution means, and a casing.

ガス旋回筒16と円錐状内筒11と旋回流形成手段と噴射手段と冷却手段と外筒25の基本構造は、第一の実施形態にかかるガス処理装置のものと同じなので説明を省略する。   Since the basic structure of the gas swirl cylinder 16, the conical inner cylinder 11, the swirl flow forming means, the injection means, the cooling means, and the outer cylinder 25 is the same as that of the gas processing apparatus according to the first embodiment, description thereof is omitted.

圧縮空気分配手段は、圧縮ガスを複数の噴出ノズル19へ分配する手段である。
圧縮空気分配手段は、コンプレッサからの圧縮空気を複数の噴出ノズル19へ分配してもよい。
圧縮空気分配手段は、圧縮空気分配器27と水抜きライン27cとで構成される。
例えば、圧縮空気分配器27は、外筒25の上部に設けられる。
水抜きライン27cは、圧縮空気分配器27に溜まった液体を抜くラインである。
コンプレッサから伸びている圧縮空気供給配管58が、圧縮空気分配器27に接続されている。
例えば、圧縮空気分配器27には、7つの噴出ノズル19、19、・・・が設けられている。噴出ノズル19の先端部は、この先端部から噴射される圧縮空気が、円錐状内筒11の上部内周面に沿い、円錐状内筒11の中心軸Cを中心として上から見て時計回り方向に旋回するよう、曲げられている。
例えば、圧縮空気分配器27には、7つの第一噴出ノズル19a、19a、・・・、とい7つの第二噴射ノズル19b、19b・・・・とが各々に設けられている。
The compressed air distributing means is means for distributing the compressed gas to the plurality of ejection nozzles 19.
The compressed air distribution means may distribute the compressed air from the compressor to the plurality of ejection nozzles 19.
The compressed air distribution means includes a compressed air distributor 27 and a drain line 27c.
For example, the compressed air distributor 27 is provided in the upper part of the outer cylinder 25.
The drain line 27 c is a line for draining the liquid accumulated in the compressed air distributor 27.
A compressed air supply pipe 58 extending from the compressor is connected to the compressed air distributor 27.
For example, the compressed air distributor 27 is provided with seven ejection nozzles 19, 19,. The tip of the ejection nozzle 19 is clockwise when the compressed air injected from the tip is along the upper inner peripheral surface of the conical inner cylinder 11 and viewed from above around the central axis C of the conical inner cylinder 11. It is bent to turn in the direction.
For example, the compressed air distributor 27 is provided with seven first jet nozzles 19a, 19a,... And seven second jet nozzles 19b, 19b,.

微粉排出管59は、円錐状内筒11の排出口12から排出された微粉を含むガスを後述する微粉分散室30を経てスクリーンフィルタ式処理装置40へ案内する管である。
微粉排出管59は、パイプであって一方の端部を排出口に連通する。
例えば、微粉排出管59は、垂直に延びるパイプであって上方の端部を排出口に連通し、下方の端部を微粉分散室30に連通する。
The fine powder discharge pipe 59 is a pipe that guides the gas containing fine powder discharged from the discharge port 12 of the conical inner cylinder 11 to the screen filter type processing device 40 through the fine powder dispersion chamber 30 described later.
The fine powder discharge pipe 59 is a pipe and communicates one end with the discharge port.
For example, the fine powder discharge pipe 59 is a vertically extending pipe that communicates the upper end with the discharge port and communicates the lower end with the fine powder dispersion chamber 30.

微粉分散室30は、微粉排出管59から排出された微粉を含む流れを分散してスクリーンフィルタ式処理装置20に供給する部屋である。
微粉分散室30は、ガス処理装置の下方に配置される。
微粉分散室30は、上部を外筒中蓋26bで仕切られる。
微粉排出管59の下端が外筒中蓋26bを貫通する。
微粉分散室30は、微粉分散板31と微粉案内板32とで構成される。
微粉分散板31は、頂点を微粉排出管59の下方の端部に向けて位置する円錐状の板部材である。
The fine powder dispersion chamber 30 is a room in which a flow containing fine powder discharged from the fine powder discharge pipe 59 is dispersed and supplied to the screen filter processing apparatus 20.
The fine powder dispersion chamber 30 is disposed below the gas processing apparatus.
The upper part of the fine powder dispersion chamber 30 is partitioned by the outer cylinder inner lid 26b.
The lower end of the fine powder discharge pipe 59 penetrates the outer cylinder inner lid 26b.
The fine powder dispersion chamber 30 includes a fine powder dispersion plate 31 and a fine powder guide plate 32.
The fine powder dispersion plate 31 is a conical plate member whose apex is located toward the lower end of the fine powder discharge pipe 59.

微粉案内板32は、微粉分散板31で分散された微粉を含む流れを下方に位置するスクリーンフィルタ式処理装置40に案内する板である。
微粉案内板32は、微粉分散室30とスクリーンフィルタ式処理装置40との間を間仕切る様に配された多くの貫通穴を形成された板である。
微粉排出管59から排出された微粉は、微粉分散板31により分散され、微粉案内板32に形成された多数の貫通穴を通過してスクリーンフィルタ式処理装置40へ落ちる。
図14は、微粉分散室30の内部を上から見た様子を示す。
The fine powder guide plate 32 is a plate that guides the flow containing the fine powder dispersed by the fine powder dispersion plate 31 to the screen filter type processing device 40 located below.
The fine powder guide plate 32 is a plate in which many through holes are formed so as to partition the fine powder dispersion chamber 30 and the screen filter type processing device 40.
The fine powder discharged from the fine powder discharge pipe 59 is dispersed by the fine powder dispersion plate 31, passes through many through holes formed in the fine powder guide plate 32, and falls to the screen filter type processing device 40.
FIG. 14 shows the inside of the fine powder dispersion chamber 30 as viewed from above.

微粉案内板32は、微粉分散室30とスクリーンフィルタ式処理装置40との間を間仕切る様に配され、ガスを旋回させる方向に向かってその上面からその下面に貫通している複数の貫通孔が形成されていてもよい。
例えば、微粉案内板32は、その上面から下面に複数の貫通孔が形成されている。
例えば、貫通孔は、微粉排出管59の中心軸Cを中心として、スパイラル状に描いた線分上に形成されている。
例えば、貫通孔は、ここを通過したガスが上から見て時計回り方向の旋回流となるよう、微粉案内板32の上面から下面に斜めで、且つ中心軸Cを中心として時計回り方向に貫通している。
図14の下図は、微粉案内板32に形成される1個の貫通穴の断面形状を示す。
例えば、微粉案内板32に形成される貫通穴は、下方に向かうに従い斜めに傾斜するヒレ状の突起を形成される。
微粉を含むガスは、微粉案内板32に形成される貫通穴に案内されて、下方に設けられるスクリーンフィルタ式処理装置40に導入される。
The fine powder guide plate 32 is arranged so as to partition the fine powder dispersion chamber 30 and the screen filter type processing device 40, and has a plurality of through holes penetrating from the upper surface to the lower surface in the direction in which the gas is swirled. May be formed.
For example, the fine powder guide plate 32 is formed with a plurality of through holes from the upper surface to the lower surface.
For example, the through hole is formed on a line segment drawn in a spiral shape around the central axis C of the fine powder discharge pipe 59.
For example, the through hole is inclined from the upper surface to the lower surface of the fine powder guide plate 32 in the clockwise direction so that the gas that has passed through here becomes a swirling flow in the clockwise direction when viewed from above, and the clockwise through the central axis C. doing.
The lower view of FIG. 14 shows the cross-sectional shape of one through hole formed in the fine powder guide plate 32.
For example, the through-hole formed in the fine powder guide plate 32 is formed with a fin-like projection that is inclined obliquely as it goes downward.
The gas containing fine powder is guided to a through hole formed in the fine powder guide plate 32 and introduced into a screen filter type processing apparatus 40 provided below.

スクリーンフィルタ式処理装置40は、微粉を含む流れをスクリーン状の部材に通して微粉を分級する装置である。
スクリーンフィルタ式処理装置40は、微粉分散室30の下方に配される。
スクリーンフィルタ式処理装置40は 吸着ペーパー41と供給ロール軸42と巻き取りロール軸43と薬液供給装置44とで構成される。
吸着ペーパー41は、微粉を吸着させるシート状部材である。
例えば、吸着ペーパー41は、粉末活性炭が付着されている。
流れが吸着ペーパ41を通る過程で、流れに含まれていた微粉(ダイオキシン類を含む)が吸着ペーパ41に捕集される。
吸着ペーパには、薬液供給装置50から供給されたアンモニアが付着していてもよい。 ガス処理装置10内で液化されなかったNOxは、この吸着ペーパー41を通る過程で、窒素と水に分解する。
また、脱硝率を高めるために、この吸着ペーパー41に、NOxとアンモニアとの反応を促進する触媒を予め付着させておいてもよい。
吸着ぺーパー41は、紙、樹脂性濾布、その他でできている。
供給ロール軸42に巻かれた吸着ペーパー41は、巻き取りロール軸43に巻き取られる。
吸着ペーパー41が目詰まりしない様に、供給ロール軸42から新たな吸着ペーパ41が流れの中に供給される。
薬液供給装置44は、吸着ペーパー41に薬液を供給する装置である。
薬液供給装置44は、吸着ペーパー41に微粉状の触媒を供給する装置であってもよい。微粉状の触媒は、吸着ペーパー41に取り込まれた微粉の化学分解を促進させる触媒である。
薬液供給装置44は、吸着ペーパー41に微粉を捕捉する薬液を供給してもよい。
薬液供給装置44は、吸着ペーパー41に微粉を分解する薬液を供給してもよい。
例えば、薬液供給装置44は、吸着ペーパー41にアンモニアを供給する。
The screen filter type processing apparatus 40 is an apparatus for classifying fine powder by passing a flow containing fine powder through a screen-shaped member.
The screen filter type processing device 40 is disposed below the fine powder dispersion chamber 30.
The screen filter type processing device 40 includes an adsorbing paper 41, a supply roll shaft 42, a take-up roll shaft 43, and a chemical solution supply device 44.
The adsorption paper 41 is a sheet-like member that adsorbs fine powder.
For example, the activated paper 41 is attached with powdered activated carbon.
In the process in which the flow passes through the adsorption paper 41, fine powder (including dioxins) contained in the flow is collected in the adsorption paper 41.
Ammonia supplied from the chemical supply device 50 may adhere to the adsorbing paper. NOx that has not been liquefied in the gas processing apparatus 10 is decomposed into nitrogen and water in the process of passing through the adsorption paper 41.
In order to increase the denitration rate, a catalyst that promotes the reaction between NOx and ammonia may be attached in advance to the adsorption paper 41.
The adsorption paper 41 is made of paper, resinous filter cloth, or the like.
The suction paper 41 wound around the supply roll shaft 42 is wound around the winding roll shaft 43.
New suction paper 41 is supplied from the supply roll shaft 42 into the flow so that the suction paper 41 is not clogged.
The chemical solution supply device 44 is a device that supplies the chemical solution to the adsorption paper 41.
The chemical solution supply device 44 may be a device that supplies fine powder catalyst to the adsorption paper 41. The fine powder catalyst is a catalyst that promotes chemical decomposition of the fine powder taken into the adsorption paper 41.
The chemical solution supply device 44 may supply the adsorption paper 41 with a chemical solution that captures fine powder.
The chemical solution supply device 44 may supply the adsorption paper 41 with a chemical solution that decomposes fine powder.
For example, the chemical solution supply device 44 supplies ammonia to the adsorption paper 41.

微粉案内管60は、スクリーンフィルタ式処理装置40を通過した微粉を含む流れをバスフィルタ式処理装置に案内する配管である。
例えば、微粉案内管60は、バグフィルタ式処理装置80の排気室83を貫通して配される配管である。
多数の微粉案内管60が、外筒底蓋26Cと仕切り板84を貫通する。
スクリーンフィルタ式処理装置40を通過した微粉を含む流れは、微粉案内管60を通過して、吸込室82に案内される。
The fine powder guide pipe 60 is a pipe that guides the flow including the fine powder that has passed through the screen filter type processing apparatus 40 to the bass filter type processing apparatus.
For example, the fine powder guide pipe 60 is a pipe arranged through the exhaust chamber 83 of the bag filter type processing apparatus 80.
A large number of fine powder guide tubes 60 penetrate the outer cylinder bottom lid 26 </ b> C and the partition plate 84.
The flow containing the fine powder that has passed through the screen filter type processing apparatus 40 passes through the fine powder guide tube 60 and is guided to the suction chamber 82.

ケーシング28は、円錐状内筒11及びガス旋回筒16とスクリーンフィルタ式処理装置80とを覆う部材である。
ケーシング28は、外筒25と外筒上蓋26aと外筒中蓋26bと外筒底蓋26cとで構成される。
外筒25は、冷却ジャケット20が取り付けられている円錐状内筒11及びガス旋回筒16の外周を覆ってもよい。
外套上蓋26aが、外筒25の上部を塞ぐ。外套上蓋26aは、外筒25の上部開口を塞いでいる。
吸気口29aが、外筒25に形成される。
例えば、この吸気口29aには、冷却器及び送風ファンを介して、ボイラーから伸びているガスダクト5が接続されている。
外筒中部26cが、外筒25の中間を間仕切る。
外筒底部26cが、外筒25の下部を塞ぐ。
微粉排出管59が外筒中部26bを貫く。
微粉案内管60が外筒底部26cを貫く。
図11は、外筒15と外筒上蓋26aと外筒中蓋26bとが、冷却ジャケット20が取り付けられている円錐状内筒11及びガス旋回筒16の周囲を覆う様子を示す。
図11は、該当15と外筒中蓋26bと外筒底蓋26cとがスクリーンフィルタ式処理装置80の周囲を覆う様子を示す。
The casing 28 is a member that covers the conical inner cylinder 11 and the gas revolving cylinder 16 and the screen filter type processing device 80.
The casing 28 includes an outer cylinder 25, an outer cylinder upper lid 26a, an outer cylinder middle lid 26b, and an outer cylinder bottom lid 26c.
The outer cylinder 25 may cover the outer periphery of the conical inner cylinder 11 and the gas swirl cylinder 16 to which the cooling jacket 20 is attached.
A mantle upper lid 26 a closes the upper portion of the outer cylinder 25. The mantle upper cover 26 a closes the upper opening of the outer cylinder 25.
An intake port 29 a is formed in the outer cylinder 25.
For example, the gas duct 5 extending from the boiler is connected to the intake port 29a via a cooler and a blower fan.
The outer cylinder middle part 26 c partitions the middle of the outer cylinder 25.
The outer cylinder bottom part 26 c closes the lower part of the outer cylinder 25.
The fine powder discharge pipe 59 penetrates the outer cylinder middle part 26b.
The fine powder guide tube 60 penetrates the outer cylinder bottom portion 26c.
FIG. 11 shows a state in which the outer cylinder 15, the outer cylinder upper lid 26 a, and the outer cylinder middle lid 26 b cover the periphery of the conical inner cylinder 11 and the gas turning cylinder 16 to which the cooling jacket 20 is attached.
FIG. 11 shows a state where the corresponding 15, the outer cylinder inner lid 26 b, and the outer cylinder bottom lid 26 c cover the periphery of the screen filter type processing device 80.

バグフィルタ式処理装置80の構造は、第一の実施形態にかかるガス処理設備のものと同じなので説明を省略する。   Since the structure of the bag filter type processing apparatus 80 is the same as that of the gas processing facility according to the first embodiment, the description thereof is omitted.

次に、本発明の第二の実施形態にかかるガス処理設備の作用について説明する。   Next, the operation of the gas processing facility according to the second embodiment of the present invention will be described.

ガス処理装置10へ流入したガスは、ガス吸込ライン29を通って、外筒25の内周面と冷却ジャケット20の外周面との間を通って行く。この過程で、ガスは、冷却ジャケット20内の冷却水と熱交換して冷却される。ガスは、外筒25の内周面とガス旋回筒16の間に至ると、ガス旋回筒16の複数の開口17、17、・・・からガス旋回筒16内に流入する。ガスは、この過程で、ガス旋回筒16の各開口17、17、・・・に設けられている旋回羽根18、18、・・・で、時計回り方向の旋回力が加えられる。ガス旋回筒16内のガスは、時計回りに旋回しつつ下方に向い、ガス旋回皿状板13の貫通孔14を通過して、円錐状内筒11内に流入する。この過程でも、ガス旋回皿状板13の貫通孔14がガスの旋回方向に貫通しているため、ガスの旋回性が高まる。   The gas flowing into the gas processing apparatus 10 passes through the gas suction line 29 and passes between the inner peripheral surface of the outer cylinder 25 and the outer peripheral surface of the cooling jacket 20. In this process, the gas is cooled by exchanging heat with the cooling water in the cooling jacket 20. When the gas reaches between the inner peripheral surface of the outer cylinder 25 and the gas swirl cylinder 16, the gas flows into the gas swirl cylinder 16 from the plurality of openings 17, 17. In this process, a swirl force in the clockwise direction is applied to the gas through swirl vanes 18, 18,... Provided in the openings 17, 17,. The gas in the gas swirl tube 16 turns downward while swirling clockwise, passes through the through hole 14 of the gas swirl plate 13 and flows into the conical inner tube 11. Even in this process, since the through hole 14 of the gas swirling plate 13 penetrates in the gas swirl direction, the gas swirlability is improved.

ガス処理装置10の円錐状内筒11内には、ガスの他に、コンプレッサ4からの圧縮空気も噴出ノズル19から供給される。圧縮空気は、この実施形態において、4.5〜7.0kg/cm2程度に調整されて、ガスの旋回方向に、噴出ノズル19から円錐状内筒11内に噴射される。従って、円錐状内筒11内の圧力は高まると共に、円錐状内筒11内のガスの旋回力も高まる。なお、一台のガス処理装置10に供給される圧縮空気の量は、一台のガス処理装置10に流入するガス量が約22Nm3/minであるとすると、0.25Nm3/minと、非常に僅かである。   In addition to the gas, compressed air from the compressor 4 is also supplied from the ejection nozzle 19 into the conical inner cylinder 11 of the gas processing apparatus 10. In this embodiment, the compressed air is adjusted to about 4.5 to 7.0 kg / cm 2 and is injected into the conical inner cylinder 11 from the ejection nozzle 19 in the gas turning direction. Therefore, the pressure in the conical inner cylinder 11 increases and the turning force of the gas in the conical inner cylinder 11 also increases. It should be noted that the amount of compressed air supplied to one gas processing apparatus 10 is very low at 0.25 Nm 3 / min, assuming that the amount of gas flowing into one gas processing apparatus 10 is about 22 Nm 3 / min. There are few.

円錐状内筒11では、圧縮空気の流入により、特定の圧力まで上昇すると共に、特定の温度まで低下する。この温度低下は、圧縮空気の断熱膨張効果と、サイクロン固有の効果とによって生じている。さらに、円錐状内筒11内の気体は、冷却ジャケット20内の冷却水によっても冷却される。円錐状内筒11内の圧力上昇と温度低下により、ガス中の気体汚染物質は液化して、ガス中の微粉状固体に吸着される。さらに、ガス中の気体汚染物質は、圧縮空気中の水分が凝縮して水になったものに溶け込み、この水がガス中の微粉状固体に吸着される。微粉状固体は、以上のように、圧縮空気中の水と液化した気体汚染物質とを吸着し、微粉状固体相互に付着し合い、比較的大きな塊に成ると共に重たくなって、気体汚染物質及び微粉状固体がほぼ除去されたガスと共に旋回しつつ下降して行く段階で、遠心力を受けて、ガスから分離される。   In the conical inner cylinder 11, the pressure increases to a specific pressure and decreases to a specific temperature due to the inflow of compressed air. This temperature drop is caused by the adiabatic expansion effect of compressed air and the effect unique to the cyclone. Furthermore, the gas in the conical inner cylinder 11 is also cooled by the cooling water in the cooling jacket 20. The gas pollutant in the gas is liquefied by the pressure increase and temperature decrease in the conical inner cylinder 11, and is adsorbed by the fine powder solid in the gas. Further, the gaseous pollutant in the gas dissolves in the water which is condensed from the water in the compressed air, and this water is adsorbed by the finely divided solid in the gas. As described above, the finely divided solid adsorbs the water in the compressed air and the liquefied gaseous pollutant, adheres to the finely divided solid, becomes a relatively large lump and becomes heavy, and the gaseous pollutant and At the stage where the finely divided solid descends while swirling with the substantially removed gas, it is separated from the gas under centrifugal force.

ガス中の気体汚染物質の除去メカニズムは、第一の実施形態にかかるガス処理装置のものと同じなので、説明を省略する。   The mechanism for removing gaseous pollutants in the gas is the same as that of the gas processing apparatus according to the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

ガス処理装置10を通過した微粉は、スクリーンフィルタ式処理装置40とバグフィルタ式処理装置80とで捕集される。
ガス処理装置10を出た微粉が僅かに湿っているため、濾布81に付着し易く、同径の微粉で乾いているものよりも、遥かに捕集効率が高くなることである。従って、微粉等の除去効率を高めることができる。
The fine powder that has passed through the gas processing device 10 is collected by the screen filter processing device 40 and the bag filter processing device 80.
Since the fine powder exiting the gas processing apparatus 10 is slightly moist, it is easy to adhere to the filter cloth 81, and the collection efficiency is much higher than that of the dry powder of the same diameter. Therefore, the removal efficiency of fine powder and the like can be increased.

次ぎに、本発明の第三の実施形態に係るガス処理装置を、図を基に、説明する。
図16は、本発明の第三の実施形態に係るガス処理装置の斜視図である。
図16は、他の実施形態の図では省略したガス発生源を図示する。
Next, a gas processing apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 16 is a perspective view of a gas processing apparatus according to the third embodiment of the present invention.
FIG. 16 illustrates a gas generation source omitted in the drawings of other embodiments.

以下に、ガス発生源の一例を簡単に説明する。
例えば、ガス発生源は、ボイラー1と冷却器2と送風ファン3と連通管5とで構成される。
ボイラー1は、内部で重油やその他の可燃性物質を燃焼させる機器である、
冷却器2は、ボイラー1で発生したガスを冷却する機器である。
送風ファン3は、この冷却器2で冷却された排気ガスをガス処理装置に送風する送風器である。
連通管5は、ボイラー1で発生したガスを冷却器2と送風ファン3を介してガス処理装置10へ導く配管である。
冷却器で冷却されたガスは、微粉を含む。
例えば、微粉はいわゆるPM2.5である。
例えば、微粉は放射性セシウムを含むものである。
例えば、冷却器で冷却されたガスは、気化した物質を含む。
例えば、冷却器で冷却されたガスは、液状の物質を含む。
Below, an example of a gas generation source is demonstrated easily.
For example, the gas generation source includes a boiler 1, a cooler 2, a blower fan 3, and a communication pipe 5.
Boiler 1 is a device that burns heavy oil and other flammable substances inside.
The cooler 2 is a device that cools the gas generated in the boiler 1.
The blower fan 3 is a blower that blows the exhaust gas cooled by the cooler 2 to the gas processing device.
The communication pipe 5 is a pipe that guides the gas generated in the boiler 1 to the gas processing device 10 via the cooler 2 and the blower fan 3.
The gas cooled by the cooler contains fine powder.
For example, the fine powder is so-called PM2.5.
For example, the fine powder contains radioactive cesium.
For example, the gas cooled by the cooler contains vaporized material.
For example, the gas cooled by the cooler includes a liquid substance.

ガス処理設備は、ガス処理装置10と微粉排出管59と微粉分散室30とスクリーンフィルタ式処理装置40と微粉案内管60とバグフィルタ式処理装置80と液循環装置とで構成されてもよい。   The gas processing facility may be configured by the gas processing device 10, the fine powder discharge pipe 59, the fine powder dispersion chamber 30, the screen filter type processing apparatus 40, the fine powder guide pipe 60, the bag filter type processing apparatus 80, and the liquid circulation device.

ガス処理装置10は、圧縮気体供給手段4とガス旋回筒16と円錐状内筒11と旋回流形成手段と噴射手段と冷却手段と圧縮空気分配手段とケーシング28とで構成されてもよい。   The gas processing apparatus 10 may include a compressed gas supply means 4, a gas swirl cylinder 16, a conical inner cylinder 11, a swirl flow forming means, an injection means, a cooling means, a compressed air distribution means, and a casing 28.

圧縮気体供給手段4とガス旋回筒16と円錐状内筒11と旋回流形成手段と噴射手段と冷却手段と外筒25の基本構造は、第一の実施形態にかかるガス処理装置のものと同じなので説明を省略する。   The basic structure of the compressed gas supply means 4, the gas swirl cylinder 16, the conical inner cylinder 11, the swirl flow forming means, the injection means, the cooling means, and the outer cylinder 25 is the same as that of the gas processing apparatus according to the first embodiment. Therefore, explanation is omitted.

微粉案内管60とバグフィルタ式処理装置80とは、第二の実施形態にかかるガス処理装置のものと同じなので、説明を省略する。   Since the fine powder guide tube 60 and the bag filter type processing device 80 are the same as those of the gas processing device according to the second embodiment, the description thereof is omitted.

液循環装置は、スクリーンフィルタ式処理装置40から排出されスクリュー89に集まった液を捕集し循環する装置である。
液循環装置は、下部コーン型タンク61と液体循環ポンプとで構成される。
下部コーン型タンク61は、スクリュー90に集まった液を一時的に溜めるタンクである。下部コーン型タンク61の下部には内部に溜まったスラッジを排出するスラッジ排出口が形成される。
下部コーン型タンク61に溜まった液は、PHを調整されて、液体循環ポンプにより送られる。
例えば、液体循環ポンプは、液を排気ガス旋回筒16に送る。
The liquid circulation device is a device that collects and circulates the liquid discharged from the screen filter type processing device 40 and collected in the screw 89.
The liquid circulation device includes a lower cone type tank 61 and a liquid circulation pump.
The lower cone type tank 61 is a tank for temporarily storing the liquid collected in the screw 90. A sludge discharge port for discharging sludge accumulated inside is formed in the lower portion of the lower cone type tank 61.
The liquid accumulated in the lower cone type tank 61 is adjusted in pH and sent by a liquid circulation pump.
For example, the liquid circulation pump sends the liquid to the exhaust gas revolving cylinder 16.

第三の実施形態に係るガス処理装置の作用は、第二の実施形態かかるガス処理装置の作用と同じなので、説明を省略する。   Since the operation of the gas processing apparatus according to the third embodiment is the same as that of the gas processing apparatus according to the second embodiment, the description thereof is omitted.

次に、本発明の第四の実施形態に係るガス処理装置10を、図を基に、説明する。
図17は、本発明の第四の実施形態に係るガス処理装置の側面断面図である。
Next, the gas processing apparatus 10 which concerns on 4th embodiment of this invention is demonstrated based on a figure.
FIG. 17 is a side cross-sectional view of a gas processing apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.

第四の実施形態に係るガス処理装置は、圧縮気体供給手段4と複数のガス旋回筒16と複数の円錐状内筒11と複数の旋回流形成手段と複数の噴射手段と複数の冷却手段と複数の圧縮空気分配手段とケーシング28とで構成されてもよい。
複数のガス旋回筒16と複数の円錐状内筒11と複数の旋回流形成手段と複数の噴射手段と複数の冷却手段と複数の圧縮空気分配手段と複数のバグフィルタ式処理装置80とが一つのケーシングに内蔵される。
The gas processing apparatus according to the fourth embodiment includes a compressed gas supply means 4, a plurality of gas swirling cylinders 16, a plurality of conical inner cylinders 11, a plurality of swirling flow forming means, a plurality of injection means, and a plurality of cooling means. A plurality of compressed air distribution means and the casing 28 may be used.
A plurality of gas swirling cylinders 16, a plurality of conical inner cylinders 11, a plurality of swirling flow forming means, a plurality of injection means, a plurality of cooling means, a plurality of compressed air distributing means, and a plurality of bag filter processing devices 80 are provided. Built in one casing.

本発明の第四の実施形態に係るガス処理装置10の作用は、前述のガス処理装置の作用と同じなので、説明を省略する。   Since the operation of the gas processing apparatus 10 according to the fourth embodiment of the present invention is the same as that of the above-described gas processing apparatus, description thereof is omitted.

以下に、本発明の実施形態に係るガス処理装置のガス処理メカニズムを詳述する。   Below, the gas processing mechanism of the gas processing apparatus which concerns on embodiment of this invention is explained in full detail.

ガス旋回皿状板は、上部から送りこまれてきたガスを流形上部の貫通穴を仮想の2本線に沿って渦状に形成され、順次排出されるガス流が大口から縮小口に貫通するよう形成されている。穴のガス排出口にヘラ状の突起を付けガスの旋回の角度を設定することによりガスは抵抗なく回転羽に従って安定して渦流をつくり激化した粒子同士が激突し効率よく吸着を高める。
ガス旋回皿状板は、部材に加工を加えた皿状の板である。
単独のガス旋回皿状板の円形の中心を摩擦抵抗の少ないもので支え、ガス旋回皿状板の下から熱すると、大から小貫通穴から排ガスを通過させると熱しられた空気の流れに沿って回転する。羽と羽の向き方向を調整することにより加速を推進し安定した渦流を形成するガス旋回皿状板を選択することができる。
The gas swirling plate is formed in a spiral shape along the virtual two lines through the through hole in the upper part of the flow shape of the gas fed from the top, and the gas flow that is sequentially discharged penetrates from the large mouth to the reduction mouth Has been. By attaching a spatula-shaped projection to the gas outlet of the hole and setting the angle of the gas swirling, the gas stably creates a swirl according to the rotating blade without resistance, and the intensified particles collide with each other and efficiently enhance the adsorption.
The gas swirling dish-shaped plate is a dish-shaped plate obtained by processing a member.
Supporting the circular center of a single gas swirling plate with a low frictional resistance, when heated from the bottom of the gas swirling plate, if the exhaust gas is passed from the large to small through holes, it follows the flow of heated air. Rotate. By adjusting the direction of the wings, it is possible to select a gas swirl plate that promotes acceleration and forms a stable vortex.

渦流回転の抵抗を抑え気体を通過可能な多数の激突羽を二段階に設け高圧の空気ノズルの瞬間摩擦力と回転羽根の激突で微粒子分離と粘着率を高めるために特殊ノズルを2段にしてケーシング内に流れ込む圧力を高め激突し一定の圧力を維持でき微粒子粉塵中のPM2.5はケーシング内で粘着率を増進通過可能となる。   A large number of clashing blades that can control the resistance of vortex rotation and pass through gas are provided in two stages, and the special nozzle is arranged in two stages in order to increase the fine particle separation and adhesion by the instantaneous frictional force of the high-pressure air nozzle and the clashing of the rotating blades. The pressure flowing into the casing can be increased and slammed to maintain a constant pressure, so that PM2.5 in the fine particle dust can pass through the adhesion rate in the casing.

化学平術の移動の方向濃度・圧力・温度濃度を増加(滅少)すると濃度が滅少する方向に反応が起きる新しい平術にする左右に反応が起きる圧力を増すと圧力が(滅少)する方向に反応が起こる(左右への反応が)新しい平術に達する(左右に)達する。
温度2NОf生成反応は濃度の高くすると吸収する方向に平術は左に移動温度を低くすると発熱する方向に右移動する(発熱反応)。
Direction of movement of chemical flattening Increases (decreases) concentration, pressure, and temperature concentration. A new leveling occurs in which the reaction decreases in the direction that the concentration decreases. The reaction takes place in the direction of the action (the reaction from side to side) reaches a new operation (from side to side).
When the concentration is high, the temperature 2NO 2 f production reaction is absorbed in the direction of absorption, and the flattening moves to the left in the direction of heat generation when the moving temperature is lowered (exothermic reaction).

ケイシング内は圧縮気体の流入により、圧力が上昇すると共に、圧縮気体の断熱膨張で温度が低下する。このため、ケーシング内に流れ流入した排気ガスの中気体の汚染物質の一部は、圧力の上昇と濃度低下により、気体に変化する。液体に成り大気汚染は、これが円錐状筒内渦流の中で微粉状固体の汚染物質と激突して、これに吸着する。この微粉状固体は、遠心力の作用により、除去されすなわち、気体の汚染物質は、微粉状固体が重なり吸着したかたちで、微粉状固体はフィルターで処理され、排気ガスから除去され排出口から排出される。   In the casing, the pressure increases due to the inflow of compressed gas, and the temperature decreases due to adiabatic expansion of the compressed gas. For this reason, some of the pollutants in the exhaust gas flowing into the casing and flowing into the casing change into gas due to an increase in pressure and a decrease in concentration. The air pollution becomes liquid and collides with the fine powder solid pollutant in the conical cylinder vortex, and is adsorbed thereto. This finely divided solid is removed by the action of centrifugal force, that is, the gaseous pollutant is in the form of the finely divided solid adsorbed, and the finely divided solid is treated with a filter, removed from the exhaust gas and discharged from the outlet. Is done.

国際特許3135519号公開に記載されている排気ガス除去装置は、比較的簡単な設備で固体状態で存在する公害物質と気体状態で存在する大気汚染物質等が混存する排気ガスを効率よく処理することができ製造コスト及びランニングコストが嵩まず非常に優れた物であると言えよう   The exhaust gas removal device described in the publication of International Patent No. 3135519 efficiently treats exhaust gas in which pollutants present in solid state and air pollutants present in gaseous state coexist with relatively simple equipment. It can be said that the manufacturing cost and running cost are not high and it is very excellent.

しかしながら、PM2.5の様な微粒子が高温度燃焼が進むと灰塵から出る量が増加している現状です、また東北震災での放射能の草木中のセシュウム処理が進まず山積です。これらの要望に応えるべき固体状態で存在する。公害物質と気体状態で存在する大気汚染物質とう混存する、排気ガスは比較的簡易な装置で、効率よく処理することができる排気ガス処理装置、及びこれを備えている排気ガス処理装置を提供することを目的とする。   However, the amount of particulates such as PM2.5 that are emitted from ash dust is increasing as high-temperature combustion progresses, and the cesium treatment in radioactive plants in the Tohoku Earthquake has not progressed. It exists in the solid state to meet these demands. Provided is an exhaust gas processing apparatus capable of efficiently processing exhaust gas mixed with pollutants and air pollutants present in a gaseous state, and a relatively simple apparatus, and an exhaust gas processing apparatus including the exhaust gas processing apparatus. For the purpose.

第一乃至第四の排気ガス処理設備は、下方に向かうにつれて縮径され、その上部に排気ガスを取り入れる上部開口が形成されていると共に、その下部に内部を通過した排気ガスの構成物質を排出する下部開口が形成されている中空の円錐状筒と、円錐状筒の上部内周面に沿い且つ該円錐状筒の中心軸を中心として旋回する方向に、圧縮気体を噴出する噴出ノズルと、噴出ノズルに圧縮気体を供給する圧縮気体供給手段を設けている。一つの圧力タンクから二段階の位置に短長のノズルを使用している。   The first to fourth exhaust gas treatment facilities are reduced in diameter toward the lower side, and an upper opening for taking in the exhaust gas is formed at the upper part, and exhaust gas constituents passing through the inside are discharged at the lower part. A hollow conical cylinder in which a lower opening is formed, an ejection nozzle that ejects compressed gas in a direction along the upper inner peripheral surface of the conical cylinder and turning around the central axis of the conical cylinder, A compressed gas supply means for supplying compressed gas to the ejection nozzle is provided. A short nozzle is used in two stages from one pressure tank.

冷却手段は、円錐状筒の外周面を覆い、該円錐状筒の該外周面との間に冷媒が供給される冷却ジャケットと、冷却ジャケット内に冷媒を供給する冷媒供給手段と、冷媒ジャケット内から冷媒を排出する冷媒排出手段と、を有している。   The cooling means includes a cooling jacket that covers the outer peripheral surface of the conical cylinder and is supplied with a refrigerant between the outer peripheral surface of the conical cylinder, a refrigerant supply means that supplies the refrigerant into the cooling jacket, And a refrigerant discharge means for discharging the refrigerant from.

円錐状筒の下部開口からの排出物が入り込み、上部に排気ガス中の気体成分の圧力を調整する排気口が形成され、下部に排気ガス中の微粉状固体を排出する排出口が形成されている   Exhaust from the lower opening of the conical cylinder enters, an exhaust port for adjusting the pressure of the gas component in the exhaust gas is formed in the upper part, and an exhaust port for discharging the fine powder solid in the exhaust gas is formed in the lower part Have

第二乃至第三の実施形態にかかるガス処理設備は、ケーシング内の気体流路中に配され、気体が通過可能な多数の微細な孔を有するシートと、を備えている。   The gas processing equipment according to the second to third embodiments includes a sheet that is arranged in a gas flow path in the casing and has a large number of fine holes through which gas can pass.

第一乃至第四のガス処理装置は、排気ガスを処理する。排気ガス発生源から円錐状筒内に該排気ガスが入り込む装置を処理数に合わせて、処理できる。   The first to fourth gas processing devices process exhaust gas. An apparatus in which the exhaust gas enters the conical cylinder from the exhaust gas generation source can be processed according to the number of processes.

第一乃至第四の実施形態に係るガス処理設備は、円錐状筒の中心軸を中心として排気ガスを旋回させて、排気ガスを円錐状筒の上部開口から円錐状筒内に送り込む旋回流形成手段を備えている。   In the gas processing facility according to the first to fourth embodiments, the swirl flow is formed by swirling the exhaust gas around the central axis of the conical cylinder and feeding the exhaust gas into the conical cylinder from the upper opening of the conical cylinder. Means.

旋回流形成手段は、円錐状筒の上端に設置され、中空円筒状を成し、その側周に中空円筒内に排ガスを取り入れる開口が形成され、開口から中空円筒内に流入した排気ガスを旋回させる旋回羽根が該開口の縁に取り付けられている排気ガス旋回筒を有している。   The swirling flow forming means is installed at the upper end of the conical cylinder, has a hollow cylindrical shape, and an opening for taking in the exhaust gas into the hollow cylinder is formed on the side periphery thereof, and the exhaust gas flowing into the hollow cylinder is swirled from the opening. The swirl vane has an exhaust gas swirl cylinder attached to the edge of the opening.

旋回流形成手段は、円錐状筒の上端に設置され、円錐状筒の中心軸に近づくに連れて次第に下方に突出して行く皿状を成し、その上面から、前排気ガスを旋回させる方向に向かってその下面に貫通している複数の貫通孔が形成されている排気ガス旋回皿状板を有している。   The swirling flow forming means is installed at the upper end of the conical cylinder, forms a dish shape that gradually protrudes downward as it approaches the central axis of the conical cylinder, and in the direction of swirling the front exhaust gas from its upper surface An exhaust gas swirling dish-like plate having a plurality of through holes penetrating on the lower surface thereof is formed.

第二乃至第四の実施形態に係るガス処理設備のシートは、帯状を成しているスクリーンフィルタであり.、スクリーンフィルタが巻き付いている供給ロール軸と、スクリーンフィルタが巻き付く巻取りロール軸と、巻取ロール軸を回転させる巻取り機構と、を備え、供給ロール軸と巻取ロール軸とは、供給ロール軸から供給され巻取ロール軸に巻き付く前のスクリーンフィルタが、ケーシング内の気体流路中に位置するよう、配されていることを特徴とするものである。   The sheet of the gas treatment facility according to the second to fourth embodiments is a screen filter having a band shape, a supply roll shaft around which the screen filter is wound, and a winding roll shaft around which the screen filter is wound. A winding mechanism that rotates the take-up roll shaft, and the supply roll shaft and the take-up roll shaft are supplied from the supply roll shaft and the screen filter before being wound around the take-up roll shaft is gas in the casing. It is arranged so that it may be located in a flow path.

微粒子は比較的小さな物質PM2.5などのをスクリーンフィルタの表面に吸着し残流した微粒子及びPM2.5の様な超微粒子を捉えるための処理新手段としてもうけ此処を通過した微粒子を後方のバックフィルターで排ガス微粉処理する。   The fine particles are adsorbed on the surface of the screen filter by a relatively small substance such as PM2.5, and the fine particles that have flown back as a new processing means for capturing fine particles that have flowed back and ultra-fine particles such as PM2.5. Treat the exhaust gas with a filter.

スクリーンフィルタは排ガス処理すると水分が濃縮して、特に有害物質が気体状態化して固体状の表面に吸着する、混ん存する多種の物質なのと形成された微粒子はスクリーンフィルタ表面に吸着し巻き取られて処理されるスクリリーンフィルタは、最も吸着効率の良い物トイレットペーパに糸を加えて耐久を持たしたもので良い低価額で処理しやすい。   When the screen filter is treated with exhaust gas, the water is concentrated, especially the harmful substances are gasified and adsorbed on the solid surface, and the formed fine particles are adsorbed on the surface of the screen filter and wound up. The screener filter to be processed can be a low-cost and easy-to-process filter that is durable by adding yarn to toilet paper with the highest adsorption efficiency.

第一乃至第四の実施形態に係るガス処理設備は、ノズルを複数備えていることを特徴とし、微粒子は十分拡大し除去しやすい状態である。   The gas processing equipment according to the first to fourth embodiments is characterized by including a plurality of nozzles, and the fine particles are sufficiently expanded and easily removed.

スクリーンフィルタには、排気ガス中の特定成分を吸着する物質と該特定成分と反応する物質と特定成分の反応を促進する物質のうち、少なくとも一つ吸着している。   The screen filter adsorbs at least one of a substance that adsorbs a specific component in exhaust gas, a substance that reacts with the specific component, and a substance that promotes the reaction of the specific component.

第一乃至第四の実施形態に係るガス処理設備は、排気ガス発生源から排気ガスを冷却する冷却手段と冷却された排気ガスを上流側排気ガス処理装置に送り込む手段とを備える。   The gas processing equipment according to the first to fourth embodiments includes cooling means for cooling the exhaust gas from the exhaust gas generation source and means for sending the cooled exhaust gas to the upstream side exhaust gas processing apparatus.

直接真下に向かい排出されたガスを排気ガスを旋回する方向に向かってその下面に通ずる複数の貫通孔が形成され排気ガスが平均広い範囲にスクリーンフィルター表面に吸着するような貫通皿が形成される特徴とするものである。   A plurality of through-holes are formed through which the exhaust gas directly directed downward passes through the lower surface of the exhaust gas in the direction of swirling the exhaust gas, and a through dish is formed so that the exhaust gas is adsorbed on the surface of the screen filter in a wide average range. It is a feature.

スクリーンフィルタが巻き付いている供給ロール軸と、スクリーンフィルタが巻取りロール軸と、巻き取り軸ロールぺーパ備えていることを特徴とするものである。ロール軸で巻き取るスクリーンフィルタが設けられている。   The present invention is characterized in that a supply roll shaft around which a screen filter is wound, a screen filter includes a winding roll shaft, and a winding shaft roll paper. A screen filter that is wound around a roll shaft is provided.

ケーシングの下部には、排気ガス及び圧縮中の水分と化学物質が濃縮された微粒子を吸着するよう形成されたシート帯状を成しているスクリーンフィルタを設けることにより水滴吸収に役立ち排出口に背圧が生じてもガスの流れを乱さないでドレン処理が不必要となりコストが軽減された。   The lower part of the casing is equipped with a screen filter in the form of a sheet band formed to adsorb exhaust gas and fine particles that are condensed with moisture and chemical substances during compression. Even if this occurs, the draining process is unnecessary without disturbing the gas flow, and the cost is reduced.

下流側にPTFE製の濾布バクフィルタ式処理装置を二段方式で処理する。   A PTFE filter cloth back filter type processing device is processed downstream by a two-stage system.

複数の貫通孔が形成される円板状部材である二つのガス旋回皿状板を下方に向うにつれて縮径し下部に排を形成され円錐状内筒の上端に処理量に合わせ、数に態様、同じケーシング内でより多く排ガスを処理できる   Two gas swirling dish-shaped plates, which are disk-shaped members in which a plurality of through-holes are formed, are reduced in diameter as they are directed downward, and are formed at the lower portion, and the upper end of the conical inner cylinder is adjusted to the amount to be processed. Can handle more exhaust gas in the same casing

燃焼時に発生する、微粒子処理は微粉塵状固体の汚染物質と気体大気汚染物質が混存する排気ガス中の微粒子を効率よくスクリーンフィルタの表面に吸着する様、該排気ガスを旋回させる旋回羽根が該開口の縁に取り付けられている排気ガス旋回筒を有していることを特徴とし比較的簡易な装置で効率よく処理できる。   The fine particle treatment that occurs during combustion is performed by a swirling blade that swirls the exhaust gas so that the fine particles in the exhaust gas in which contaminants of fine dust solids and gaseous air pollutants coexist are efficiently adsorbed to the surface of the screen filter. It has an exhaust gas revolving cylinder attached to the edge of the opening, and can be processed efficiently with a relatively simple device.

スクリーンフィルタが、ケーシング内の気体流路中に位置するよう、配されていることを特徴とするものである。粒子は比較的小さな物質粒子をスクリーンフィルタの表面に吸着し残流した微粒子及びPM2.5の様な超微粒子を捉えるための処理新手段としてもうけ此処を通過した微粒子を後方のバックフィルターの摩耗を防止するガス処理装置で排ガス微粉処理を特徴とする。   The screen filter is arranged so as to be located in the gas flow path in the casing. The particles are adsorbed on the surface of the screen filter by relatively small substance particles, and as a new processing means to catch the ultra fine particles such as PM2.5, the fine particles that have passed through here are used to wear the back filter. Features exhaust gas fines treatment with gas treatment equipment to prevent.

シートは、帯状を成しているスクリーンフィルタである。シートは、帯状を成しているスクリーンフィルタである。   The sheet is a screen filter having a band shape. The sheet is a screen filter having a band shape.

粘着率を増進するため水分粘着率を増進するため水分調整を比較的簡易に処理することで、圧力上昇と温度低下により、ガス中の気体汚染物質は液化して、ガス中の微粉状固体に吸着される。   By increasing the pressure and temperature, the gas contaminants in the gas can be liquefied to a finely divided solid in the gas. Adsorbed.

水滴が固形物の粘土濃度か吸着率を決定つける。排ガス中の微粉固体に吸着される、以上ように、圧縮空気中の水滴と液化した気体汚染物質を吸着し微粉状固体相互に付着しあい、比較的大きな塊に成ると共に重たくなって気体汚染物質及び微粉状固体がほぼ除去されたガスと共に旋回しつつ下降してゆく段階で遠心力を受けてガスから分離され水分が吸着されるので圧縮空気の流入により、とくていの圧力まで上昇すると共に、特定の温度まで低下する。温度低下により空気の断熱膨張効果とサイクロン固有の効果とによって生じている。さらに、円錐状内航内の気体は、冷却ジャケット内の冷却される。円錐状内筒の圧力上昇と温度低下により、ガス中の気体汚染物質は液化して、ガス中の微粉状固体に吸着され残された液体はロールペーパに吸着される。   Water droplets determine solid clay concentration or adsorption rate. Adsorbed by the fine solids in the exhaust gas, as described above, the water droplets in the compressed air and the liquefied gaseous contaminants are adsorbed and adhered to each other, forming a relatively large lump and becoming heavier, At the stage where the finely divided solid is swirling and descending with the gas that has been almost removed, it is separated from the gas by the centrifugal force and moisture is adsorbed. The temperature drops to This is caused by the adiabatic expansion effect of air and the effect unique to the cyclone due to the temperature drop. Furthermore, the gas in the conical coast is cooled in the cooling jacket. Gaseous contaminants in the gas are liquefied by the pressure increase and temperature decrease of the conical inner cylinder, and the remaining liquid adsorbed by the finely divided solid in the gas is adsorbed by the roll paper.

一般廃棄物処理SОX・塩化水素・ダイオキシン・シアン系(重金属)類資・ヒ素・等そのほか問題化されている。最近は燃焼が高温度化されPM2.5の様な微粒子が大量排出され人体に影響が出て新たに規制の一科目に増加される。
本発明の実施形態にかかるガス処理設備はこれらの微粒子の処理にすぐれた効果を発揮する。
General waste treatment SOX, hydrogen chloride, dioxin, cyanide (heavy metal) materials, arsenic, etc. Recently, the temperature of combustion has been raised, and particulates such as PM2.5 are discharged in large quantities, affecting the human body and increasing to a new subject of regulation.
The gas processing facility according to the embodiment of the present invention exhibits an excellent effect in processing these fine particles.

特定化学物質対象物質に、塩素化ジベンゾフラン・(PCDD)・ベンゼン・スチレン・ホルムアルデヒド・シアン化合物・有機リン・クロム・トリクロロエチレン・(HCN)・すず・水銀・鉛・ヒ素・カドニウム・放射能中セシウム、等がある。
環境庁・通産省が共同で2002年4月から特定の化学物質(PRTR)法第1種特定化学物質についてはMSDSの対処となる化学物質354種類化合物名では約500種類といわれている。
Specified chemical substances include chlorinated dibenzofurans, (PCDD), benzene, styrene, formaldehyde, cyanide compounds, organic phosphorus, chromium, trichlorethylene, (HCN), tin, mercury, lead, arsenic, cadmium, cesium in radioactivity, Etc.
Since April 2002, the Environment Agency and the Ministry of International Trade and Industry have said that there are about 354 types of chemical substances (PRTR) law class 1 specified chemical substances, and about 500 types of chemical names that are handled by MSDS.

さらに、本発明の実施形態にかかるガス処理設備はセシウム処理にもすぐれた効果を発揮する。
瓦礫・草花・山の揚土・土の処理・燃焼炉で焼き排ガスと混合するセシウムを、本ガス処理設備で処理できる。処理後は量が1000分の1に縮小され、安全性を確保し鉛容器に入れて保管する。微粒子と燃焼灰も同じく処理できる。
Furthermore, the gas treatment facility according to the embodiment of the present invention exhibits an excellent effect on cesium treatment.
Cesium mixed with exhaust gas baked in rubble / flowers / mountain uplift / dirt treatment / combustion furnace can be treated with this gas treatment facility. After processing, the quantity is reduced to 1/1000, ensuring safety and storing in a lead container. Fine particles and combustion ash can be treated in the same way.

セシュウム単体処理ではなく草木・土壌・揚土を燃焼処理で処理燃焼時に酸素窒素直接反応して精製され二酸化窒素2NООの反応式どうり平術状態にある時NО濃度を増すとNО濃度が滅少する方向に反応が起きて新しい平術に達する炭素元素微粒子を個体の窒素その他高分子中の化学物質を固形物化する固形物の濃度設定が重要であり微秒な水滴調整のためボルテクス原理を応用して温度差を作り微秒な水滴を得ることができ濃度設定及び瞬間的撹拌が可能となった。 Plants, soils, and soils are not treated with cesium alone, but are treated with combustion treatments and purified by direct reaction with oxygen and nitrogen during combustion. Nitrogen dioxide 2NO 2 N 2 O 2 reaction formula increases the NO 2 concentration when in a flat state and NO 2 concentration is the concentration setting of the solids solids of chemicals individuals nitrogen other in the polymer elemental carbon particles reaching the new flat surgery happening reaction in the direction of small dark are important micro seconds waterdrops For adjustment, the vortex principle was applied to create a temperature difference and fine water droplets could be obtained, allowing concentration setting and instantaneous stirring.

以上説明したように、本発明の実施形態に係るガス処理設備は、その構成により、以下の効果を有する。
複数の貫通孔が形成される円板状部材であるガス旋回皿状板13を下方に向うにつれ縮径し下部に排出口12を形成される円錐状内筒11の上端に設置し、噴射ノズル19が円錐状内筒11の上部内周面に沿い且つ該円錐状内筒11の上部に送り込まれてきたガスを旋回させる方向に沿った方向に圧縮気体を噴出する様にしたので、ガス中の液状または固体の物質を円錐状内筒11の内壁で旋回させつつ固化させて下端の排出口12から排出でき、排出口12に背圧が生じてもガスの流れを乱さない。
また、複数の貫通孔が形成される円板状部材である2つのガス旋回皿状板13を下方に向うにつれ縮径し下部に排出口12を形成される円錐状内筒11の上端に設置する様にしたので、ガス中の液状または固体の物質を円錐状内筒11の内壁で旋回させつつ固化させて下端の排出口12から排出でき、排出口12に背圧が生じてもガスの流れを乱さない。
また、第一噴射ノズル19aが少なくとも2つのガス旋回皿状板13に挟まれた隙間に圧縮ガスを噴出する様にしたので、2つのガス旋回皿状板13に挟まれた隙間に入ったガスを円錐状内筒11に沿って旋回させる。
また、第二噴射ノズル19bが、少なくとも2つのガス旋回皿状板13の下の空間に圧縮ガスを噴出する様にしたので、少なくとも2つのガス旋回皿状板13を通過したガスを円錐状内筒に沿って旋回させる。
複数の貫通孔が形成される円板状部材であるガス旋回皿状板13を下方に向うにつれ縮径し下部に排出口12を形成される円錐状内筒11の上端に設置し、噴射ノズル19が円錐状内筒11の上部内周面に沿い且つ該円錐状内筒11の上部に送り込まれてきたガスを旋回させる方向に沿った方向に圧縮気体を噴出する様にしたので、ガス中の液状または固体の物質を円錐状内筒11の内壁で旋回させつつ固化させて下端の排出口12から排出でき、排出口12に背圧が生じても円錐状内筒でのガスの流れの乱れを抑制できる。
また、複数の貫通穴を形成されている微粉排出管円板状部材95を上方の端部を排出口に連通する微粉排出管59の流れを遮る様に設ける様にしたので、微粉排出管59の下方の端部に背圧が生じても排出口でのガスの流れの乱れを抑制できる。
また、微粉排出管59がケーシング28を上から貫通し下方の端部を吸込室82の内部に位置し、吸込室と排気室を仕切る仕切り板84の開口に袋状の濾布81の開口を連通する様にしたので、排ガス処理装置で処理されたガス中の微粉を濾布で濾すことをできる。
また、複数の貫通穴が形成される濾布開口円板状部材96を濾布81の開口に設ける様にしたので、背圧が排気室83に生じても吸込室82でのガスの流れの乱れを抑制できる。
また、濾布81の内側と外側とに高周波電圧を印加する様にしたので、吸込室82にガスの流れの乱れが生じても、微粉の逆流を抑制できる。
その結果、ガス中に含まれる微粒子を効率良く捕捉でき、またガス中に含まれる微粒子を効率よく分離できる。
例えば、ガス中に含まれる有毒な微粒子を効率よく捕捉でき、また、ガス中に含まれる有毒な微粒子を効率よく分離できる。
例えば、ガス中に含まれる放射性物質の微粒子を効率よく捕捉でき、また、ガス中に含まれる放射性物質の微粒子を効率よく分離できる。
As described above, the gas processing facility according to the embodiment of the present invention has the following effects due to its configuration.
A gas swirling dish-like plate 13 which is a disc-like member in which a plurality of through-holes are formed is installed at the upper end of a conical inner cylinder 11 whose diameter is reduced as it goes downwards and a discharge port 12 is formed in the lower part. Since the gas 19 is ejected in a direction along the upper inner peripheral surface of the conical inner cylinder 11 and along the direction in which the gas fed into the upper part of the conical inner cylinder 11 is swirled, The liquid or solid substance can be solidified while swirling on the inner wall of the conical inner cylinder 11 and discharged from the discharge port 12 at the lower end, and even if back pressure is generated at the discharge port 12, the gas flow is not disturbed.
Further, the two gas swirling dish-like plates 13 which are disk-like members in which a plurality of through holes are formed are arranged at the upper end of the conical inner cylinder 11 whose diameter is reduced as it goes downward and the discharge port 12 is formed in the lower part. As a result, the liquid or solid substance in the gas can be solidified while swirling on the inner wall of the conical inner cylinder 11 and discharged from the discharge port 12 at the lower end. Does not disturb the flow.
Further, since the first injection nozzle 19a jets the compressed gas into the gap sandwiched between the at least two gas swirling plate-like plates 13, the gas entering the gap sandwiched between the two gas swirling plate-like plates 13 is used. Is swung along the conical inner cylinder 11.
Further, since the second injection nozzle 19b jets the compressed gas into the space below the at least two gas swirling dish-shaped plates 13, the gas that has passed through the at least two gas swirling dish-shaped plates 13 is allowed to flow into the conical shape. Turn along the cylinder.
A gas swirling dish-like plate 13 which is a disc-like member in which a plurality of through-holes are formed is installed at the upper end of a conical inner cylinder 11 whose diameter is reduced as it goes downwards and a discharge port 12 is formed in the lower part. Since the gas 19 is ejected in a direction along the upper inner peripheral surface of the conical inner cylinder 11 and along the direction in which the gas fed into the upper part of the conical inner cylinder 11 is swirled, The liquid or solid substance can be solidified while swirling on the inner wall of the conical inner cylinder 11 and discharged from the discharge port 12 at the lower end. Even if back pressure is generated at the discharge port 12, the gas flow in the conical inner cylinder Disturbance can be suppressed.
In addition, the fine powder discharge pipe disk-shaped member 95 in which a plurality of through holes are formed is provided so as to block the flow of the fine powder discharge pipe 59 whose upper end communicates with the discharge port. Even if a back pressure is generated at the lower end of the gas, disturbance of the gas flow at the discharge port can be suppressed.
Further, the fine powder discharge pipe 59 penetrates the casing 28 from above, the lower end is located inside the suction chamber 82, and the opening of the bag-like filter cloth 81 is formed in the opening of the partition plate 84 that partitions the suction chamber and the exhaust chamber. Since it was made to communicate, the fine powder in the gas processed with the exhaust gas processing apparatus can be filtered with a filter cloth.
In addition, since the filter cloth opening disk-like member 96 in which a plurality of through holes are formed is provided in the opening of the filter cloth 81, the flow of gas in the suction chamber 82 is prevented even if back pressure occurs in the exhaust chamber 83. Disturbance can be suppressed.
Moreover, since the high frequency voltage is applied to the inside and the outside of the filter cloth 81, the backflow of fine powder can be suppressed even if the gas flow is disturbed in the suction chamber 82.
As a result, the fine particles contained in the gas can be efficiently captured, and the fine particles contained in the gas can be efficiently separated.
For example, toxic fine particles contained in the gas can be efficiently captured, and toxic fine particles contained in the gas can be efficiently separated.
For example, the radioactive substance fine particles contained in the gas can be efficiently captured, and the radioactive substance fine particles contained in the gas can be efficiently separated.

本発明は以上に述べた実施形態に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変更が可能である。   The present invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.

1 ボイラー
2 冷却器
3 送風ブロアー
5 連通管
10 ガス処理装置
11 円錐状内筒
12 排出口
13 ガス旋回皿状板
14 貫通孔
16 ガス旋回筒
17 開口
18 旋回羽根
19 噴出ノズル
19a 第一噴射ノズル
19b 第二噴射ノズル
20 冷却ジャケット(冷却手段)
21a 冷却水供給配管
21b 冷却水排水配管
22a 流量調節弁
22b 流量調節弁
23a 温度計
23b 温度計
25 外筒、
26a 外筒上蓋
26b 外筒中蓋
26c 外筒底蓋
27 圧縮空気分配器
27a 第一圧縮空気分配器
27b 第二圧縮空気分配器
27c 水抜きライン
28 ケーシング
29 ガス吸込ライン
29a 吸気口
30 微粉分散室
31 微粉分散板
32 微粉案内板
40 スクリーンフィルタ式処理装置
41 吸着ペーパー
42 供給ロール軸
43 巻き取りロール軸
44 薬液供給装置
58 圧縮空気供給配管
59 微粉排出管
60 微粉案内管
61 下部コーン型タンク
69 液体循環ポンプ
80 バグフィルタ式処理装置
81 濾布
82 吸込室
83 排気室
84 仕切り板
85 ケーシング
86 微粉排出口
88 排気口
89 スクリュー
90 逆洗装置。
91 ヘッダ
92 逆洗配管
95 微粉排出管円板状部材
96 濾布開口円板状部材
97 高周波電圧印加手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Boiler 2 Cooler 3 Blower blower 5 Communication pipe 10 Gas processing apparatus 11 Conical inner cylinder 12 Discharge port 13 Gas swirling plate-like plate 14 Through-hole 16 Gas swirling cylinder 17 Opening 18 Swirling blade 19 Jet nozzle 19a First injection nozzle 19b Second injection nozzle 20 Cooling jacket (cooling means)
21a Cooling water supply pipe 21b Cooling water drain pipe 22a Flow control valve 22b Flow control valve 23a Thermometer
23b thermometer 25 outer cylinder,
26a Outer cylinder top cover 26b Outer cylinder middle cover 26c Outer cylinder bottom cover 27 Compressed air distributor 27a First compressed air distributor 27b Second compressed air distributor 27c Drain line 28 Casing 29 Gas suction line 29a Inlet 30 Fine powder dispersion chamber 31 Fine powder dispersion plate 32 Fine powder guide plate 40 Screen filter type processing device 41 Adsorption paper 42 Supply roll shaft 43 Winding roll shaft 44 Chemical liquid supply device 58 Compressed air supply pipe 59 Fine powder discharge pipe 60 Fine powder guide pipe 61 Lower cone type tank 69 Liquid circulation Pump 80 Bag filter type processing device 81 Filter cloth 82 Suction chamber 83 Exhaust chamber 84 Partition plate 85 Casing 86 Fine powder discharge port 88 Exhaust port 89 Screw 90 Backwash device.
91 Header 92 Backwash pipe 95 Fine powder discharge pipe disk-shaped member 96 Filter cloth opening disk-shaped member 97 High frequency voltage applying means

特許第2912216号Japanese Patent No. 2912216 特許第3135519号Japanese Patent No. 3135519

Claims (11)

ガスを処理するガス処理設備であって、
ガス処理装置を、
備え、
前記ガス処理装置が、
下方に向かうにつれて縮径されていき下部に排出口を形成される中空の円錐状筒と、
前記円錐状筒の上端に設置される円板状部材であって、複数の貫通孔が形成されている少なくとも2つのガス旋回皿状板を持つ旋回流形成手段と、
前記円錐状筒の上部内周面に沿い且つ該円錐状筒の上部に送り込まれてきた前記ガスを旋回させる方向に沿った方向に圧縮気体を噴出する噴出ノズルを持つ噴射手段と、
を有し、
少なくとも2つのガス旋回皿状板が互いに隙間を空けて上下に重なる、
ことを特徴とするガス処理設備。
A gas processing facility for processing gas,
Gas treatment equipment,
Prepared,
The gas processing device is
A hollow conical tube that is reduced in diameter as it goes downward and forms a discharge port at the bottom,
A disc-like member installed at the upper end of the conical cylinder, wherein the swirling flow forming means has at least two gas swirling dish-like plates in which a plurality of through holes are formed;
An injection means having an ejection nozzle that ejects compressed gas in a direction along the direction of swirling the gas that has been fed into the upper portion of the conical cylinder along the upper inner peripheral surface of the conical cylinder;
Have
At least two gas swirl plates overlap each other with a gap between them,
A gas processing facility characterized by that.
前記噴射手段の噴射ノズルである第一噴射ノズルが、少なくとも2つのガス旋回皿状板に挟まれた隙間に圧縮ガスを噴出する、
ことを特徴とする請求項1に記載のガス処理設備。
A first injection nozzle, which is an injection nozzle of the injection means, injects compressed gas into a gap sandwiched between at least two gas swirling plates;
The gas processing facility according to claim 1.
前記噴射手段の噴射ノズルである第二噴射ノズルが、少なくとも2つのガス旋回皿状板の下の空間に圧縮ガスを噴出する、
ことを特徴とする請求項2に記載のガス処理設備。
A second injection nozzle that is an injection nozzle of the injection means injects compressed gas into a space under at least two gas swirling dish-like plates;
The gas processing facility according to claim 2.
前記排ガス処理装置が、パイプであって一方の端部を前記排出口に連通する微粉排出管と、
前記微粉排出管の流れを遮る様に設けられる円板状部材であって複数の貫通穴を形成されている微粉排出管円板状部材と、
を有する、
ことを特徴とする請求項3に記載のガス処理設備。
The exhaust gas treatment device is a fine powder discharge pipe that is a pipe and communicates one end with the discharge port;
A disk-shaped member provided so as to block the flow of the fine powder discharge pipe, and a plurality of through holes are formed;
Having
The gas processing facility according to claim 3.
バグフィルタ式処理装置を、
備え、
前記バグフィルタ式処理装置が、
ケーシングと、
前記ケーシングを吸込室と排気室に仕切り開口である仕切り板開口を設けられる仕切り板と、
開口をもつ袋状であって該開口を前記仕切り板開口に連通する濾布と、
を有し、
前記微粉排出管が前記ケーシングを上から貫通し他方の端部を前記吸込室の内部に位置する、
ことを特徴とする請求項4に記載のガス処理設備、
Bug filter processor
Prepared,
The bug filter type processing device comprises:
A casing,
A partition plate provided with a partition plate opening which is a partition opening in the suction chamber and the exhaust chamber;
A filter cloth in the form of a bag having an opening and communicating the opening with the partition plate opening;
Have
The fine powder discharge pipe penetrates the casing from above and the other end is located inside the suction chamber;
The gas processing facility according to claim 4,
前記バグフィルタ処理装置が、
前記濾布の開口に設けられる板状部材であって複数の貫通穴を形成されている濾布開口板状部材と、
を有する、
ことを特徴とする請求項5に記載のガス処理設備。
The bug filter processing device comprises:
A filter cloth opening plate-like member which is a plate-like member provided in the opening of the filter cloth and has a plurality of through holes formed therein;
Having
The gas processing facility according to claim 5.
前記バグフィルタ処理装置が、
前記濾布の内側と濾布の外側とに高周波電圧を印加する高周波電圧印加手段と、
を有する、
ことを特徴とする請求項6に記載のガス処理設備。
The bug filter processing device comprises:
High-frequency voltage applying means for applying a high-frequency voltage to the inside of the filter cloth and the outside of the filter cloth;
Having
The gas processing facility according to claim 6.
ガスを処理するガス処理設備であって、
ガス処理装置を、
備え、
前記ガス処理装置が、
下方に向かうにつれて縮径されていき下部に排出口を形成される中空の円錐状筒と、
前記円錐状筒の上端に設置される円板状部材であって、複数の貫通孔が形成されているガス旋回皿状板を持つ旋回流形成手段と、
前記円錐状筒の上部内周面に沿い且つ該円錐状筒の上部に送り込まれてきた前記ガスを旋回させる方向に沿った方向に圧縮気体を噴出する噴出ノズルを持つ噴射手段と、
パイプであって一方の端部を前記排出口に連通する微粉排出管と、
前記微粉排出管の流れを遮る様に設けられる円板状部材であって複数の貫通穴を形成されている微粉排出管円板状部材と、
を有する、
ことを特徴とするガス処理設備。
A gas processing facility for processing gas,
Gas treatment equipment,
Prepared,
The gas processing device is
A hollow conical tube that is reduced in diameter as it goes downward and forms a discharge port at the bottom,
A disc-like member installed at the upper end of the conical cylinder, and a swirling flow forming means having a gas swirling dish-like plate in which a plurality of through holes are formed;
An injection means having an ejection nozzle that ejects compressed gas in a direction along the direction of swirling the gas that has been fed into the upper portion of the conical cylinder along the upper inner peripheral surface of the conical cylinder;
A fine powder discharge pipe that is a pipe and communicates one end with the discharge port;
A disk-shaped member provided so as to block the flow of the fine powder discharge pipe, and a plurality of through holes are formed;
Having
A gas processing facility characterized by that.
ガスを処理するガス処理設備であって、
ガス処理装置と、
バグフィルタ式処理装置と、
備え、
前記ガス処理装置が、
下方に向かうにつれて縮径されていき下部に排出口を形成される中空の円錐状筒と、
パイプであって一方の端部を前記排出口に連通する微粉排出管と、
を有し、
前記バグフィルタ処理装置が、
ケーシングと、
前記ケーシングを吸込室と排気室に仕切り開口である仕切り板開口を設けられる仕切り板と、
開口をもつ袋状であって該開口を前記仕切り板開口に連通する濾布と、
を有し、
前記微粉排出管が前記ケーシングを上から貫通し他方の端部を前記吸込室の内部に位置する、
ことを特徴とするガス処理設備。
A gas processing facility for processing gas,
A gas treatment device;
A bug filter processing device;
Prepared,
The gas processing device is
A hollow conical tube that is reduced in diameter as it goes downward and forms a discharge port at the bottom,
A fine powder discharge pipe that is a pipe and communicates one end with the discharge port;
Have
The bug filter processing device comprises:
A casing,
A partition plate provided with a partition plate opening which is a partition opening in the suction chamber and the exhaust chamber;
A filter cloth in the form of a bag having an opening and communicating the opening with the partition plate opening;
Have
The fine powder discharge pipe penetrates the casing from above and the other end is located inside the suction chamber;
A gas processing facility characterized by that.
ガスを処理するガス処理設備であって、
ガス処理装置と、
バグフィルタ式処理装置と、
備え、
前記バグフィルタ処理装置が、
ケーシングと、
前記ケーシングを吸込室と排気室に仕切り開口である仕切り板開口を設けられる仕切り板と、
開口をもつ袋状であって該開口を前記仕切り板開口に連通する濾布と、
前記濾布の開口に設けられる板状部材であって複数の貫通穴を形成されている濾布開口板状部材と、を有し、
前記ガス処理装置が処理したガスを前記吸込室に導入する、
ことを特徴とするガス処理設備。
A gas processing facility for processing gas,
A gas treatment device;
A bug filter processing device;
Prepared,
The bug filter processing device comprises:
A casing,
A partition plate provided with a partition plate opening which is a partition opening in the suction chamber and the exhaust chamber;
A filter cloth in the form of a bag having an opening and communicating the opening with the partition plate opening;
A plate-like member provided in the opening of the filter cloth and having a plurality of through holes, and a filter cloth opening plate-like member,
Introducing the gas processed by the gas processing device into the suction chamber;
A gas processing facility characterized by that.
ガスを処理するガス処理設備であって、
ガス処理装置と、
バグフィルタ式処理装置と、
備え、
前記バグフィルタ処理装置が、
ケーシングと、
前記ケーシングを吸込室と排気室に仕切り開口である仕切り板開口を設けられる仕切り板と、
開口をもつ袋状であって該開口を前記仕切り板開口に連通する濾布と、
前記濾布の内側と濾布の外側とに高周波電圧を印加する高周波電圧印加手段と、
を有し、
前記ガス処理装置が処理したガスを前記吸込室に導入する、
ことを特徴とするガス処理設備。
A gas processing facility for processing gas,
A gas treatment device;
A bug filter processing device;
Prepared,
The bug filter processing device comprises:
A casing,
A partition plate provided with a partition plate opening which is a partition opening in the suction chamber and the exhaust chamber;
A filter cloth in the form of a bag having an opening and communicating the opening with the partition plate opening;
High-frequency voltage applying means for applying a high-frequency voltage to the inside of the filter cloth and the outside of the filter cloth;
Have
Introducing the gas processed by the gas processing device into the suction chamber;
A gas processing facility characterized by that.
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