JP2016205831A - 流体漏洩検知システム及び流体処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
高圧流体を扱う装置システムでは漏洩が生じた場合、急に停止することができず、労力と大幅なダウンタイムが生じる。
深刻な漏洩事故を未然に防ぐためにも、漏洩が微少な段階で検知できることが極めて重要である。
具体的には、高温、高圧水や蒸気の輸送配管と保温材との間に、漏洩した水や蒸気が流れやすい漏洩物質伝搬空間を設け、この空間を輸送配管内圧よりも低圧に保持するものである。
漏洩物質伝搬空間に水や蒸気が噴出すると、空間内が配管よりも低圧に保持されているため、漏洩物質は断熱膨張して低温となり、該空間に急激に充填されて管軸方向の流れが生じる。
漏洩物質伝搬空間の温度もしくは流速を測定することにより、漏洩の発生を知ることができる。
また、配管同士を接続する継手部は、その構成上漏洩箇所が必然的に限定されるため、漏洩物質伝搬空間を設ける必要性に乏しい。
図1乃至図6に第1の実施形態を示す。
まず、図1に基づいて、本実施形態に係る流体処理装置1について説明する。流体処理装置1は、有機物を含む処理対象流体を分解し無害化する流体処理装置である。
原水タンク2には、攪拌機3によって攪拌され、有機物濃度が均一に調整された処理対象流体としての廃水Wが貯留されている。
バルブ4を開いて廃水Wを原水供給ポンプ5で加圧送液し、反応槽6へ供給する。反応槽6は、廃水Wと酸化剤との混合流体中の有機物を分解し、廃水Wを処理するための反応槽である。
廃水Wは流体漏洩検知システム10を介して反応槽6に供給される。
反応槽6内で廃水Wと空気Aとが混合され、高温高圧下で水中燃焼が行われる。反応後の流体は熱交換器11で降温され、フィルタ12を通った後、背圧弁13で大気圧へと降圧される。その後、気液分離器14で排ガスと排液とに分離され、それぞれ排出される。
配管15は廃水Wが反応槽6に導入される直前の配管であり、配管16は反応槽6内に挿入される配管である。
継手部17は、ステンレス(SUS316)製の面シール継手である。継手部17としては、例えばVCR(登録商標)継手を採用することができる。
配管16の接続側端部にはフランジ部16aが形成されており、配管16に廃水Wの移動方向下流側から挿入されたグランド21の凹部21aの底面にフランジ部16aを溶接することにより、配管16とグランド21とが一体に接合されている。
雄ナット20と配管16との間には、面シールとしてのガスケット22が配置されている。
袋ナット23を回転操作して締め付けていくと、袋ナット23の内方底面23bがグランド21の外方端面21bに当接し、ガスケット22が圧縮されて密閉性が確保される。
高温高圧下で水中燃焼が正常に行われているとき、反応槽6の温度は400〜600℃程度となるため、継手部17と反応槽6との温度差は60〜260℃程度となる。
そのため、継手部17は、腐食による破損に加え、継手構成部材の金属膨張による歪みから生じる漏洩も考えられ、漏洩が生じやすい部分である。
すなわち、漏洩した廃水Wは、非溶接部分と、雄ナット20及びグランド21と袋ナットと23との間の微小隙間を伝って継手部17の外部に漏れる。
漏洩した廃水Wは100気圧から大気圧まで減圧され、断熱膨張し、漏洩した廃水Wは飽和水蒸気温度、すなわち100℃の水蒸気および液体水となる。
漏洩した廃水Wの流路周辺の部材の温度を測定できるように、温度センサ18が設置されている。温度センサ18は、継手部17を構成する継手構成部材に接触して設けられている。
本実施形態では、廃水Wの流路の中心から径方向の最も外側に位置する継手構成部材としての袋ナット23の外面に接触して温度センサ18が設けられている。
温度センサ18はリード線24により漏洩検知装置19に接続されている。温度センサ18を設置する継手構成部材は袋ナット23に限定されない。
漏洩検知装置19が漏洩と判定した場合には、流体処理装置1に警報を出力し、流体処理装置の停止プロセスに移行する。
図5は、漏洩時の温度センサ18の測定温度の時間変化について説明する図である。漏洩した廃水Wの流路周辺の部材(本実施形態では袋ナット23)の温度を直接測定することで、漏洩による温度変化を正確に検知できる。
金属膨張等により微少な漏洩を繰り返す場合は、部材温度は図5(b)に示すような時間変化を示す。
継手部17の部材が金属膨張により歪むことでガスケット22の密閉性が失われ、微少な漏洩が起こる。
このとき、漏洩した廃水Wにより部材の温度が低下することで歪みが緩和されてガスケット22の密閉性が復活して漏洩が止まることがある。しかし、漏洩が止まると、再び部材の温度が上昇し、漏洩が再発する。この現象を繰り返すことで断続的な漏洩が起こる。
温度センサ18により測定された温度データは、漏洩検知装置19に送られ、温度表示及び温度監視が行われる(S1)。漏洩検知装置19では、予め設定した漏洩判定時間での温度変化量の計算が行われ(S2)、温度測定値及び温度変化量が許容範囲内かどうかの比較が行われる(S3)。
温度測定値と温度変化量のいずれか一方あるいは双方が許容範囲外であった場合、流体漏洩と判断し、警報が出力される(S4)。その後、反応槽6での反応を停止させるために、図1のバルブ4を閉め、バルブ25を開いて原水供給ポンプ5による供給対象を廃水Wから水WTに切り替える(S5)。図1において、符号26は水WTの貯留タンクを示している。
S2において、温度変化量は次式により求めることができる。
温度変化量=(温度最大値−温度最小値)/サンプリング時間
サンプリング時間の間の測定温度の最大値と最小値との差が設定値以上になったとき、漏洩と判断する。
温度測定値は、定常状態の温度を参考にして、任意の許容温度幅を設定し、運転時の温度測定値が許容温度幅を出た場合に漏洩と判断する。
温度低下が小さく、温度測定値の許容範囲内であった場合は、温度変化量で漏洩を検知できる。
温度変化量が非常に緩やかな場合は、時間とともに温度は低下していくため、温度測定値による漏洩判定により漏洩の検知ができる。
したがって、温度変化量と温度測定値の一方及び双方によって漏洩の有無を判断することにより確実に漏洩の検知ができる。
本実施形態における温度センサ27は棒状の形状を有し、袋ナット23の外面には棒状の温度センサ27を安定に載置ないし保持できる溝形状の位置決め部28が形成されている。
位置決め部28は断面三角形で配管15や配管16の長手方向に沿って形成されている。位置決め部28に棒状(ここでは円柱状)の温度センサ27を当てると、図7(b)に示すように温度センサ27は位置決め部28の両側のテーパ面に接触して安定に保持される。図7(b)では、袋ナット23の内方における継手構成部材は省略している。
温度センサ27を位置決め部28にセットした後、固定バンド30を袋ナット23の外周面に巻き付け、ボルト31で締め付けることにより温度センサ27を安定に固定することができる。
上記固定構成により、温度センサ27を温度検知対象部材としての袋ナット23に対して毎回同じ位置に且つ同じ接触状態で固定でき、接触状態が変化することによる検知精度の不安定性を防止できる。
ボルト31に伸縮可能なバネを設け、締め付け力が可変な構成としてもよい。
また、処理対象流体を酸化分解により処理する流体処理装置への流体漏洩検知システムの適用例を示したが、高圧流体を扱う他の分野においても同様に実施することができる。
本発明の実施の形態に記載された効果は、本発明から生じる最も好適な効果を例示したに過ぎず、本発明による効果は、本発明の実施の形態に記載されたものに限定されるものではない。
6 反応槽
10 流体漏洩検知システム
17 継手部
18、27 温度センサ
19 漏洩検知装置
23 継手構成部材としての袋ナット
28 位置決め部
29 固定部材
Claims (8)
- 加圧された流体が流れる流路同士を接続する継手部と、
前記継手部を構成する継手構成部材に接触して設けられ、該継手構成部材の温度を検知する温度センサと、
前記温度センサの検知情報に基づいて前記継手構成部材の温度変化を監視し、前記流体の漏れを判断する漏洩検知装置と、
を有する流体漏洩検知システム。 - 請求項1に記載の流体漏洩検知システムにおいて、
前記漏洩検知装置は、温度測定値又は温度変化量の一方又は双方が所定の範囲を外れたときに、前記流体が漏洩したと判断する流体漏洩検知システム。 - 請求項1又は2に記載の流体漏洩検知システムにおいて、
前記継手構成部材が、前記温度センサを位置決めするための位置決め部を有している流体漏洩検知システム。 - 請求項3に記載の流体漏洩検知システムにおいて、
前記温度センサが棒状であり、前記位置決め部が前記棒状の温度センサを安定に載置ないし保持できる溝形状を有している流体漏洩検知システム。 - 請求項3又は4に記載の流体漏洩検知システムにおいて、
前記温度センサを前記位置決め部に固定する固定部材を有している流体漏洩検知システム。 - 請求項5に記載の流体漏洩検知システムにおいて、
前記固定部材は、前記継手構成部材の熱膨張係数と同一あるいは近い材料からなる流体漏洩検知システム。 - 請求項5又は6に記載の流体漏洩検知システムにおいて、
前記固定部材は、締め付けて固定することが可能な構成を有している流体漏洩検知システム。 - 処理対象流体と酸化剤との混合流体中の有機物を分解し、前記処理対象流体を処理するための反応槽と、
前記反応槽の上流側又は下流側に配置された請求項1〜7のいずれか1つに記載の流体漏洩検知システムと、
を有する流体処理装置。
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