JP2016187332A - 有価物生成方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】原料ガス生成部2からの原料ガスgを相転移性不純物質除去部10に通して、原料ガスg中のナフタレン等の相転移性不純物質を除去する。その後、原料ガスgを固液捕捉部30に通して、原料ガスg中の固形又は液状の不純物質を除去する。その後、原料ガスgを有価物生成反応部6へ導入して、エタノール等の有価物の生成反応を起こさせる。
【選択図】図1
Description
本発明は、かかる知見及び考察に基づいてなされたものであり、合成ガス等の原料ガスの生成部から有価物生成反応部までの供給路上で相転移可能な相転移性不純物質を含む合成ガスから有価物を生成する際に、相転移性不純物質による種々の不具合又は悪影響を回避又は軽減することを目的とする。
原料ガス生成部からの原料ガスを相転移性不純物質除去部に通して、気相と固相の間で相転移可能な相転移性不純物質を前記原料ガスから除去する相転移性不純物質除去工程と、
前記相転移性不純物質除去工程後の原料ガスを固液捕捉部に通して、前記原料ガス中の固形又は液状の不純物質を捕捉する固液捕捉工程と、
前記固液捕捉工程後の原料ガスを有価物生成反応部へ導入して前記有価物の生成反応を起こさせる反応工程と
を備えたことを特徴とする。
この有価物生成方法によれば、原料ガスを固液捕捉部ひいては有価物生成反応部に導入する前に、原料ガス中のナフタレン等の相転移性不純物質を除去することができる。これによって、固液捕捉部の詰まりを抑制したり、有価物生成反応部への相転移性不純物質の混入を防止したりできる等、相転移性不純物質による種々の不具合又は悪影響を回避又は軽減することができる。
なお、「不純物質の除去」とは、原料ガスから当該不純物質の少なくとも一部を除去することを意味し、原料ガスから当該不純物質を完全に除去することに限定されない。
前記原料ガスを第1ガス冷却部に通して冷却する第1冷却工程と、
前記冷却後の原料ガスを、相転移性不純物質の固化物を捕捉する相転移性不純物質捕捉部に通す相転移性不純物質捕捉工程と
を含むことが好ましい。
冷却によってナフタレン等の相転移性不純物質を固相化させることができる。その後、前記相転移性不純物質の固化物を相転移性不純物質捕捉部によって捕捉して除去できる。
第2冷却工程によって、原料ガスに含まれる水分を十分に凝縮させ除去したうえで固液捕捉部に導入できる。これによって、固液捕捉部が水分で詰まるのを抑制できる。予め相転移性不純物質を除去しておくことで固液捕捉部の詰まりを一層抑制できる。
前記相転移性不純物質除去工程で相転移性不純物質を十分に除去した原料ガスを培地に供給することで、ガス資化性微生物を安定的に培養することができる。
気相と固相の間で相転移可能な相転移性不純物質を前記原料ガスから除去する相転移性不純物質除去部と、
前記原料ガス中の固形又は液状の不純物質を捕捉する固液捕捉部と、
前記原料ガスから前記有価物の生成反応を起こさせる有価物生成反応部と、
を備え、前記原料ガスの供給路に沿って上流側から、前記相転移性不純物質除去部、前記固液捕捉部、前記有価物生成反応部の順に配置されていることを特徴とする。
この有価物生成装置によれば、前記相転移性不純物質除去部によって前記原料ガス中の相転移性不純物質を除去する。次に、前記固液捕捉部によって、前記原料ガス中の固形又は液状の不純物質を捕捉する。次に、前記有価物生成反応部によって、前記原料ガスから前記有価物の生成反応を起こさせる。これによって、固液捕捉部の詰まりを抑制したり、有価物生成反応部への相転移性不純物質の混入を防止したりできる等、相転移性不純物質による種々の不具合又は悪影響を回避又は軽減することができる。
前記原料ガスを冷却する第1冷却部と、
前記相転移性不純物質の固化物を捕捉する相転移性不純物質捕捉部と、
を含み、前記供給路に沿って上流側から、前記第1冷却部、前記相転移性不純物質捕捉部の順に配置されていることが好ましい。
前記第1冷却部によって前記原料ガスを冷却することによって、ナフタレン等の相転移性不純物質を固相化させることができる。その後、前記相転移性不純物質捕捉部によって相転移性不純物質の固化物を捕捉することができる。
前記相転移性不純物質捕捉部のフィルタの目を粗くすることで、該フィルタが相転移性不純物質の固化物や、場合によっては凝縮水等によって詰まるのを抑制できる。
前記固液捕捉部のフィルタの目を細かくすることで、ススやタール等の固形又は液状の不純物質を確実に捕捉して除去できる。また、前記相転移性不純物質の大部分を相転移性不純物質捕捉部で予め除去しておくことで、固液捕捉部のフィルタの詰まりを抑制できる。前記相転移性不純物質捕捉部を透過した相転移性不純物質の固化物については、固液捕捉部において確実に捕捉して除去することができる。
前記第2冷却部が、前記原料ガスを通しながら冷却する第2冷却路を含み、
前記第1冷却路のコンダクタンスが、前記第2冷却路のコンダクタンスよりも大きいことが好ましい。
前記第1冷却路のコンダクタンスを大きくすることで、前記第1冷却路が前記相転移性不純物質の固化物で詰まるのを抑制できる。一方、前記第2冷却路のコンダクタンスを小さくし、ひいては、前記第2冷却路を構成する冷却管を小径にすることで、第2冷却路における原料ガスの冷却効率を高めることができ、原料ガスに含まれる水分を確実に凝縮させて除去できる。さらには、固液捕捉部が水分で詰まるのを確実に抑制できる。
前記相転移性不純物質除去部で相転移性不純物質を十分に除去した原料ガスを培地に供給することで、ガス資化性微生物を安定的に培養することができる。
図1に示すように、有価物生成システム1は、合成ガス生成部2(原料ガス生成部)と、有価物生成装置3とを備えている。合成ガス生成部2において合成ガスg(原料ガス)が生成される。有価物生成装置3において合成ガスgから有価物が生成される。生成目的の有価物は、例えばエタノール(C2H5OH)である。
第1冷却部11の底部からドレイン路15が延び出ている。
第2冷却部20の底部からドレイン路25が延び出ている。
図示は省略するが、有価物生成反応部6の後段には、蒸留塔を含む精製部が設けられている。
<合成ガス生成工程>
合成ガス生成部2において廃棄物を燃焼することによって合成ガスgを生成する。この合成ガスgを供給路4へ導出する。上述したように、導出時の合成ガスgの温度は、常温より高温である。
上記合成ガスgを相転移性不純物質除去部10に通して、合成ガスg中のナフタレン、1−ナフトール、その他の相転移性不純物質(以下、適宜「ナフタレン等」と称す。)を除去する。
詳述すると、先ず、合成ガスgを第1冷却部11によって冷却する。すなわち、合成ガスgを第1冷却路14に通すとともに、冷媒路16に冷媒r1を通すことで熱交換させる。これによって、合成ガスgが、例えば常温程度まで冷却される。冷却によって、合成ガスg中のナフタレン等が、ガスから固体に昇華(固相化)される。
冷却管13を比較的大径とし、第1冷却路14のコンダクタンスを比較的大きくすることによって、第1冷却路14がナフタレン等の固化物によって詰まるのを抑制できる。
冷却によって合成ガスg中の水分の一部が凝縮する。凝縮水は、ドレイン路15から排出される。
冷却後の合成ガスgを第1冷却部11から相転移性不純物質捕捉部12へ送り、フィルタ17に通す。これによって、合成ガスg中のナフタレン等の固化物をフィルタ17にて捕捉でき、合成ガスgからナフタレン等を除去できる。フィルタ17の目を比較的粗くすることで、フィルタ17がナフタレン等の固化物や凝縮水によって詰まるのを抑制でき、フィルタ17の交換頻度を少なくすることができる。
その後、合成ガスgを第2冷却部20に導入して更に冷却する。すなわち、合成ガスgを第2冷却路22に通すとともに、冷媒路24に冷媒r2を通すことで熱交換させる。これによって、合成ガスgを第1冷却工程よりも低温にし、好ましくは零度近くにする。冷却管23を小径にすることで、合成ガスgの冷却効率を高めることができる。これによって、合成ガスg中の水分を十分に凝縮させることができ、合成ガスgの水分含有量をほとんど零にできる。
予め、相転移性不純物質除去部10でナフタレン等を除去したうえで、第2冷却部20による第2冷却工程を行うことによって、第2冷却路22の詰まりを抑制することができる。
第2冷却部20で凝縮した水は、ドレイン路25から排出される。
その後、合成ガスgを固液捕捉部30へ送り、フィルタ32に通す。このフィルタ32によって合成ガスg中のススやタール等の固形又は液状の不純物質を捕捉して除去できる。
第2冷却部20で予め合成ガスg中の水分を除去したうえで、固液捕捉部30による固液捕捉工程を行うことによって、フィルタ32の詰まりを抑制することができる。
さらには、相転移性不純物質除去部10で予めナフタレン等を除去したうえで、固液捕捉部30による固液捕捉工程を行うことによって、フィルタ32の詰まりを一層確実に抑制することができる。
なお、相転移性不純物質除去部10を通過したナフタレン等の固化物は、固液捕捉部30によって捕捉することができる。
その後、合成ガスgをガス状不純物質除去部40に導入する。ガス状不純物質除去部40においてH2S,O2,BTEX等のガス状の不純物質を除去する。
この結果、合成ガスgをクリーンな状態にすることができる。
その後、合成ガスgを有価物生成反応部6の培養液に導入する。有価物生成反応部6においては、培養液中のガス資化性微生物が、合成ガスgのCO及びH2等を摂取して、エタノール等を発酵生成する。つまり、合成ガスgを原料にしてエタノール(有価物)の生成反応を起こすことができる。
予め合成ガスg中の、O2、BTEX、H2S等のガス状の不純物質や、スス、タール等の固形又は液状の不純物質を除去しておくことで、ガス資化性微生物を安定的に培養できる。
更には、予め合成ガスg中のナフタレン等の相転移性不純物をも除去しておくことで、ガス資化性微生物を一層安定的に培養できる。
上記培養液の一部を蒸留塔(図示せず)へ導入して蒸留する。これによって、エタノールを抽出することができる。
2段(複数段)の冷却部11,20によって合成ガスgを段階的に冷却しながら、段階ごとにフィルタ17,32の目を細かくすることで、各種の不純物を効率的に除去することができる。
フィルタ17が詰まって来たら交換する。フィルタ32も同様である。上述したように、有価物生成装置3によれば、フィルタ17,23の詰まりを抑制できるから、交換頻度を少なくできる。したがって、メンテナンスを簡易化でき、運転コストを低減できる。
例えば、相転移性不純物質除去部10が、オイルスクラバを含んでいてもよい。オイルスクラバを用いて、ナフタレン等の相転移性不純物質を除去してもよい。
相転移性不純物質は、気相から液相を経ずに固相になるナフタレン、1−ナフトール、2−ナフトール等の昇華性物質に限られず、気相から液相を経て固相になるものであってもよい。
生成目的の有価物は、エタノールに限られず、酢酸やメタノール等であってもよい。
有価物生成反応部6が、合成ガスgを金属触媒に接触させることでエタノール等の有価物を生成するものであってもよい。
原料ガス生成部2は、廃棄物処理施設に限られず、製鉄所や石炭発電所等であってもよい。原料ガスは、製鉄所の副生ガス(転炉、高炉ガス等)であってもよい。
2 合成ガス生成部(原料ガス生成部)
3 有価物生成装置
4 供給路
5 浄化処理部
6 有価物生成反応部
10 相転移性不純物質除去部
11 第1冷却部
12 相転移性不純物質捕捉部
13 冷却管
14 第1冷却路
15 ドレイン路
16 冷媒路
17 相転移性不純物質捕捉フィルタ
20 第2冷却部
23 冷却管
22 第2冷却路
24 冷媒路
25 ドレイン路
30 固液捕捉部
32 固液捕捉フィルタ
40 ガス状不純物質除去部
g 合成ガス(原料ガス)
r1 冷媒
r2 冷媒
Claims (10)
- 原料ガスから有価物を生成する方法であって、
原料ガス生成部からの原料ガスを相転移性不純物質除去部に通して、気相と固相の間で相転移可能な相転移性不純物質を前記原料ガスから除去する相転移性不純物質除去工程と、
前記相転移性不純物質除去工程後の原料ガスを固液捕捉部に通して、前記原料ガス中の固形又は液状の不純物質を捕捉する固液捕捉工程と、
前記固液捕捉工程後の原料ガスを有価物生成反応部へ導入して前記有価物の生成反応を起こさせる反応工程と
を備えたことを特徴とする有価物生成方法。 - 前記相転移性不純物質除去工程が、
前記原料ガスを第1ガス冷却部に通して冷却する第1冷却工程と、
前記冷却後の原料ガスを、相転移性不純物質の固化物を捕捉する相転移性不純物質捕捉部に通す相転移性不純物質捕捉工程と
を含むことを特徴とする請求項1に記載の有価物生成方法。 - 前記相転移性不純物質捕捉工程の後、かつ前記固液捕捉工程の前に、前記原料ガスを第2ガス冷却部に通して前記第1冷却工程よりも低温にする第2冷却工程を実行することを特徴とする請求項2に記載の有価物生成方法。
- 前記反応工程では、液状の培地中でガス資化性微生物を培養するとともに、前記原料ガスを前記培地に供給して、前記ガス資化性微生物の発酵によって前記有価物を生成することを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の有価物生成方法。
- 原料ガス生成部において生成された原料ガスから有価物を生成する装置であって、
気相と固相の間で相転移可能な相転移性不純物質を前記原料ガスから除去する相転移性不純物質除去部と、
前記原料ガス中の固形又は液状の不純物質を捕捉する固液捕捉部と、
前記原料ガスから前記有価物の生成反応を起こさせる有価物生成反応部と、
を備え、前記原料ガスの供給路に沿って上流側から、前記相転移性不純物質除去部、前記固液捕捉部、前記有価物生成反応部の順に配置されていることを特徴とする有価物生成装置。 - 前記相転移性不純物質除去部が、
前記原料ガスを冷却する第1冷却部と、
前記相転移性不純物質の固化物を捕捉する相転移性不純物質捕捉部と、
を含み、前記供給路に沿って上流側から、前記第1冷却部、前記相転移性不純物質捕捉部の順に配置されていることを特徴とする請求項5に記載の有価物生成装置。 - 前記相転移性不純物質捕捉部のフィルタが、前記固液捕捉部のフィルタよりも目が粗いことを特徴とする請求項6に記載の有価物生成装置。
- 前記供給路に沿って前記相転移性不純物質捕捉部と前記固液捕捉部との間には、前記原料ガスを前記第1冷却部よりも低温にする第2冷却部が設けられていることを特徴とする請求項6又は7に記載の有価物生成装置。
- 前記第1冷却部が、前記原料ガスを通しながら冷却する第1冷却路を含み、
前記第2冷却部が、前記原料ガスを通しながら冷却する第2冷却路を含み、
前記第1冷却路のコンダクタンスが、前記第2冷却路のコンダクタンスよりも大きいことを特徴とする請求項8に記載の有価物生成装置。 - 前記有価物生成反応部が、液状の培地中でガス資化性微生物を培養する培養槽を含み、前記原料ガスが前記培地に供給され、前記ガス資化性微生物の発酵によって前記有価物が生成されることを特徴とする請求項5〜9の何れか1項に記載の有価物生成装置。
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