JP2016173873A - Glass substrate for magnetic recording medium, and magnetic recording medium - Google Patents

Glass substrate for magnetic recording medium, and magnetic recording medium Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass substrate for magnetic recording medium that is used for a magnetic recording medium with a small error generation rate.SOLUTION: A glass substrate for magnetic recording medium is provided. A pseudo-elastic deformation amount A is 2.0 μm or less, where the pseudo-elastic deformation amount A denotes an absolute value of a difference between a flatness obtained by supporting opposite ends of the glass substrate in a diameter direction from a lower surface side, applying load to a central upper surface of the glass substrate for 48 hours and then removing the load, and leaving the glass substrate for 5 hours, and a flatness before application of the load. The glass of the glass substrate contains AlOof 5 mol% or more. The content of BOis 0.1 mol% or more and 15 mol% or less, or one or less type of alkali metal oxide is contained. The content of the alkali metal oxide is 0 mol% or more and 25 mol% or less, or two or more types of the alkali metal oxide are contained. The content of the alkali metal oxide is more than 0 mol% and equal to or less than 20 mol%.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、磁気記録媒体用のガラス基板および磁気記録媒体に関する。   The present invention relates to a glass substrate for a magnetic recording medium and a magnetic recording medium.

磁気記録装置等に用いられる磁気記録媒体用基板としては、従来、アルミニウム合金基板が使用されてきたが、高記録密度化の要求に伴い、アルミニウム合金基板に比べて硬く、平坦性や平滑性に優れるガラス基板が主流となってきている。   Conventionally, an aluminum alloy substrate has been used as a substrate for a magnetic recording medium used in a magnetic recording apparatus or the like. However, with the demand for higher recording density, it is harder and more flat and smooth than an aluminum alloy substrate. Excellent glass substrates are becoming mainstream.

近年、磁気記録媒体はさらに高記録密度化、高速回転化が進んできたことにより、磁気記録媒体の半径/トラック位置情報を記録しているサーボ情報を磁気ヘッドが見失い、読み取り/書き込みエラー(以下、エラーとも記載する)が発生する現象が従来よりも多く発生するようになってきている。   In recent years, magnetic recording media have further increased in recording density and speeded up, so that the magnetic head has lost the servo information recording the radius / track position information of the magnetic recording medium, and read / write errors (hereinafter referred to as “read / write errors”). , Which is also referred to as an error) occurs more frequently than before.

このようなエラーの発生は、高記録密度化に伴う狭トラック幅化、高速回転化に伴うディスクフラッタリングの発生による機械的振動が原因であると考えられてきた。   The occurrence of such errors has been considered to be caused by mechanical vibration due to the occurrence of disk fluttering accompanying the narrowing of track width and high-speed rotation accompanying high recording density.

このため、このようなエラーを抑制するため、例えば、磁気記録媒体用のガラス基板の材料として比弾性が高い材料を使用し、フラッタリングを抑制することが行われてきた。なお、比弾性とは比ヤング率ともいい、ヤング率をガラスの密度で割った量で、軽くて強い、軽くて変形しにくい、という特性をあらわす指針となる量である。   For this reason, in order to suppress such an error, for example, a material having high specific elasticity has been used as a material for a glass substrate for a magnetic recording medium, and fluttering has been suppressed. The specific elasticity is also referred to as specific Young's modulus, which is an amount obtained by dividing the Young's modulus by the density of the glass, and is an amount that serves as a guideline indicating characteristics such as light and strong, light and difficult to deform.

また、特許文献1には、厚さ方向の対称性が所定の範囲内の磁気記録媒体用ガラス基板を選択することにより、ハードディスクとしたときに磁気記録媒体に記録されたサーボ情報のエラーを少なくする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が記載されている。   Further, in Patent Document 1, by selecting a glass substrate for a magnetic recording medium whose symmetry in the thickness direction is within a predetermined range, errors in servo information recorded on the magnetic recording medium when a hard disk is formed can be reduced. A method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk is described.

特開2010−277679号公報JP 2010-277679 A

上記のように磁気記録媒体用のガラス基板を選択することにより磁気記録媒体のエラーの発生を抑制する方法が従来から検討されてきたが、エラーの発生を十分には抑制できていなかった。   As described above, methods for suppressing the occurrence of errors in the magnetic recording medium by selecting the glass substrate for the magnetic recording medium have been studied, but the occurrence of errors has not been sufficiently suppressed.

そこで、本発明は上記従来技術が有する問題に鑑み、エラーの発生率の低い磁気記録媒体に用いられる磁気記録媒体用のガラス基板を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-described problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a glass substrate for a magnetic recording medium used for a magnetic recording medium having a low error rate.

上記課題を解決するため本発明は磁気記録媒体用のガラス基板であって、
前記ガラス基板の直径方向の両端部を下面側から支持し、前記ガラス基板の中央部上面に荷重を48時間加えた後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、
荷重を加える前の平坦度との差の絶対値を擬弾性変形量Aとした場合に、
前記擬弾性変形量Aが2.0μm以下であり、
前記ガラス基板のガラスは、Alを5mol%以上含有しており、
の含有量が0.1mol%以上15mol%以下、または含有するアルカリ金属酸化物は1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下、またはアルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下である磁気記録媒体用のガラス基板を提供する。
In order to solve the above problems, the present invention is a glass substrate for a magnetic recording medium,
Supporting both ends in the diameter direction of the glass substrate from the lower surface side, removing the load after applying the load to the upper surface of the central portion of the glass substrate for 48 hours, flatness at the time of 5 hours after removing the load,
When the absolute value of the difference from the flatness before applying a load is the pseudoelastic deformation amount A,
The pseudoelastic deformation amount A is 2.0 μm or less,
The glass of the glass substrate contains 5 mol% or more of Al 2 O 3 ,
The content of B 2 O 3 is 0.1 mol% or more and 15 mol% or less, or the alkali metal oxide is contained in one or less, and the content of alkali metal oxide is 0 mol% or more and 25 mol% or less, or alkali metal oxidation Provided is a glass substrate for a magnetic recording medium containing two or more kinds of substances and having an alkali metal oxide content of more than 0 mol% and no more than 20 mol%.

本発明によれば、エラーの発生率の低い磁気記録媒体に用いられる磁気記録媒体用のガラス基板を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the glass substrate for magnetic recording media used for the magnetic recording medium with a low incidence rate of an error can be provided.

座屈変形と曲げ変形の説明図Explanation of buckling deformation and bending deformation 磁性層成膜工程における保持冶具の構成例の説明図Explanatory drawing of a configuration example of the holding jig in the magnetic layer deposition process 擬弾性変形量の測定フローの説明図Explanatory diagram of measurement flow for pseudoelastic deformation 擬弾性変形量測定の際の荷重付加方法の説明図Explanatory diagram of load application method for pseudoelastic deformation measurement 本発明の実施例における荷重除去直後の平坦度の荷重除去前の荷重印加時間依存性を示す図The figure which shows the load application time dependence before the load removal of the flatness immediately after the load removal in the Example of this invention. 本発明の実施例における荷重除去直後の平坦度の荷重除去前の荷重印加時間依存性を示す図The figure which shows the load application time dependence before the load removal of the flatness immediately after the load removal in the Example of this invention. 本発明の実施例における24h荷重印加後、荷重除去後の平坦度の荷重解放後経過時間依存性を示す図The figure which shows the elapsed time dependence after the load release of the flatness after a load removal in the Example of this invention after 24h load application. 本発明の実施例における24h荷重印加後、荷重除去後の平坦度の荷重解放後経過時間依存性を示す図The figure which shows the elapsed time dependence after the load release of the flatness after a load removal in the Example of this invention after 24h load application.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
[第1の実施形態]
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法の構成例について説明を行う。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and the following embodiments are not departed from the scope of the present invention. Various modifications and substitutions can be made.
[First Embodiment]
A configuration example of a method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present embodiment will be described.

本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、ガラス基板を含む磁気記録媒体の製造方法であって、ガラス基板に、座屈変形及び曲げ変形の少なくともいずれかの変形を生じることを含む。   The method for manufacturing a magnetic recording medium according to this embodiment is a method for manufacturing a magnetic recording medium including a glass substrate, and includes generating at least one of buckling deformation and bending deformation on the glass substrate.

そして、ガラス基板のガラスは、Alを5mol%以上含有することができる。 Then, the glass of the glass substrate, the Al 2 O 3 may contain more than 5 mol%.

さらに、ガラス基板のガラスは、Bの含有量を0.1mol%以上15mol%以下とするか、または、ガラス基板のガラスは含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下とするか、または、アルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下とすることができる。 Further, the glass of the glass substrate has a B 2 O 3 content of 0.1 mol% or more and 15 mol% or less, or the glass of the glass substrate contains one or less alkali metal oxides, The oxide content can be 0 mol% or more and 25 mol% or less, or two or more kinds of alkali metal oxides can be contained, and the alkali metal oxide content can be more than 0 mol% and 20 mol% or less.

本発明の発明者らは、ガラス基板(磁気記録媒体用ガラス基板)の材料として比弾性が高い材料を使用した場合であっても、磁気記録媒体にエラーが起きることの原因について検討を行った。なお、比弾性とは比ヤング率ともいい、ガラスのヤング率をガラスの密度で割った量で、軽くて強い、軽くて変形しにくい、という特性をあらわす指針となる量である。   The inventors of the present invention have examined the cause of the error in the magnetic recording medium even when a material having high specific elasticity is used as the material of the glass substrate (glass substrate for magnetic recording medium). . The specific elasticity is also referred to as specific Young's modulus, which is an amount obtained by dividing the Young's modulus of glass by the density of the glass, and is an amount that serves as a guideline indicating the characteristics of being light and strong, light and difficult to deform.

検討の結果、磁気記録媒体の製造工程においてガラス基板に力(荷重)が加わり座屈変形または曲げ変形を生じた場合、変形後、力(荷重)を除去するとガラス基板は元の形状へと戻るが、ガラス基板のガラス組成により、力(荷重)を除去してからの挙動が異なることが判明した。すなわち、同じ形状であるにも関わらずガラス組成によって、力(荷重)を除去してから短時間で元の形状に戻るガラス基板と、力(荷重)を除去してから長い時間をかけて徐々に元の形状へと戻るガラス基板とが存在することが判明した。このような、力(荷重)を除去してから元の形状に戻るまでに長い時間がかかる変形を遅延復元変形ということがある。なお、以下の記載において単に「変形」と記載した場合であっても、「遅延復元変形を伴う変形」を指す場合がある。   As a result of investigation, when a force (load) is applied to the glass substrate in the magnetic recording medium manufacturing process to cause buckling deformation or bending deformation, the glass substrate returns to its original shape when the force (load) is removed after the deformation. However, it has been found that the behavior after removing the force (load) varies depending on the glass composition of the glass substrate. In other words, the glass composition returns to the original shape in a short time after removing the force (load) despite the same shape, and gradually takes a long time after removing the force (load). It was found that there was a glass substrate that returned to its original shape. Such deformation that takes a long time to remove the force (load) and return to the original shape may be referred to as delayed restoration deformation. In the following description, even when “deformation” is simply described, it may indicate “deformation accompanied by delay restoration deformation”.

そして、力(荷重)を除去してから元の変形が戻るまでに長い時間がかかるガラス基板を含む磁気記録媒体の場合、サーボ情報の書き込むタイミングによってはガラス基板(磁気記録媒体)が復元している途中でサーボ情報を書き込むことになる。このため、サーボ情報を書き込んでからさらにその位置が変化するため、エラー発生の原因の一つとなることを見出し、本発明を完成させた。   And in the case of a magnetic recording medium including a glass substrate that takes a long time from the removal of force (load) until the original deformation returns, the glass substrate (magnetic recording medium) may be restored depending on the writing timing of servo information. Servo information will be written in the middle. For this reason, since the position of the servo information is changed after the servo information is written, it has been found that this is one of the causes of errors, and the present invention has been completed.

本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においては、上述のように製造工程の間にガラス基板に座屈変形及び曲げ変形の少なくともいずれかの変形を生じることを含む。   In the method of manufacturing a magnetic recording medium according to this embodiment, as described above, at least one of buckling deformation and bending deformation is generated in the glass substrate during the manufacturing process.

ここで、座屈変形及び曲げ変形について図1を用いて説明する。   Here, buckling deformation and bending deformation will be described with reference to FIG.

まず、座屈変形について図1(A)を用いて説明する。図1(A)はガラス基板10を側面から見た図を示している。座屈変形とは、ガラス基板10の側面部に対して、図中ブロック矢印X1、X2で示したように、ガラス基板10の主平面11、12と平行な対向する2つの力を加えた際に、図中点線で示したようにガラス基板が主平面11、12と垂直な方向に生じる変形である。なお、図1(A)では、ガラス基板が下に凸の形状に変形した例を示しているが、係る形態に限定されるものではなく、上に凸の形状に変形してもよい。   First, buckling deformation will be described with reference to FIG. FIG. 1A shows the glass substrate 10 as viewed from the side. Buckling deformation is when two opposing forces parallel to the main planes 11 and 12 of the glass substrate 10 are applied to the side surface of the glass substrate 10 as indicated by the block arrows X1 and X2 in the figure. Further, as shown by the dotted line in the figure, the glass substrate is a deformation that occurs in a direction perpendicular to the main planes 11 and 12. Note that FIG. 1A illustrates an example in which the glass substrate is deformed in a downwardly convex shape, but the present invention is not limited to such a form, and the glass substrate may be deformed in an upwardly convex shape.

曲げ変形について図1(B)を用いて説明する。図1(B)はガラス基板10を側面から見た図を示している。曲げ変形とは、例えばガラス基板10の一方の主平面11と、他方の主平面12とに、それぞれ、主平面11、12に略垂直で、対向する力Y1、Y2が加わることにより、図中点線で示したようにガラス基板が主平面11、12と垂直な方向に生じる変形である。   The bending deformation will be described with reference to FIG. FIG. 1B shows the glass substrate 10 as viewed from the side. Bending deformation means that, for example, forces Y1 and Y2 that are substantially perpendicular to the main planes 11 and 12 and are opposite to each other are applied to one main plane 11 and the other main plane 12 of the glass substrate 10, respectively. As indicated by the dotted line, the glass substrate is deformed in a direction perpendicular to the main planes 11 and 12.

ガラス基板に座屈変形及び曲げ変形の少なくともいずれかの変形が生じること、とはガラス基板単体や磁気記録媒体に上述の力が加わり、ガラス基板単体、または、ガラス基板及びガラス基板の表面に形成された磁性層等が変形することを意味している。なお、磁気記録媒体に力(荷重)が加わった場合、磁性層等はガラス基板の変形にあわせて変形するため磁気記録媒体についても磁気記録媒体に含まれるガラス基板と同様の挙動を示すこととなる。また、ガラス基板の変形が遅延復元変形の場合であっても同様に磁性層等はガラス基板の変形に合わせて変形するため、磁気記録媒体についても磁気記録媒体に含まれるガラス基板と同様の挙動を示すこととなる。   That at least one of buckling deformation and bending deformation occurs in the glass substrate means that the above-mentioned force is applied to the glass substrate alone or the magnetic recording medium, and the glass substrate alone or the glass substrate and the surface of the glass substrate are formed. This means that the formed magnetic layer or the like is deformed. When a force (load) is applied to the magnetic recording medium, the magnetic layer and the like are deformed in accordance with the deformation of the glass substrate, so that the magnetic recording medium behaves similarly to the glass substrate included in the magnetic recording medium. Become. In addition, even when the deformation of the glass substrate is delayed recovery deformation, the magnetic layer and the like are similarly deformed in accordance with the deformation of the glass substrate. Will be shown.

ガラス基板に力(荷重)が加わる場合として、ガラス基板を保持冶具により保持し搬送する場合や、ガラス基板をカセット等に収めて搬送する場合等が考えられ、主にガラス基板が冶具等と接触した状態で搬送する際に変形が生じると考えられる。   As a case where force (load) is applied to the glass substrate, there are cases where the glass substrate is held and transported by a holding jig, or when the glass substrate is placed in a cassette or the like, and the glass substrate is mainly in contact with the jig or the like. It is considered that deformation occurs when transported in the state of being carried out.

後述のように本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、ガラス基板上に磁性層を成膜する磁性層成膜工程と、磁気記録媒体をカセット内に保持する磁気記録媒体保持工程と、から選択される1以上の工程を有していることが好ましい。   As will be described later, the method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present embodiment includes a magnetic layer film forming step for forming a magnetic layer on a glass substrate and a magnetic recording medium holding step for holding the magnetic recording medium in a cassette. It is preferable to have one or more steps selected.

磁性層成膜工程においては後述のようにガラス基板を保持冶具により保持、搬送して成膜工程に供することから、保持冶具により力が加えられ、ガラス基板に変形が生じ易い。これは、磁性層成膜工程では、磁性層を成膜する前あるいは成膜中であれば例えばガラス基板の両面に磁性層を成膜するため、磁性層を成膜した後であれば成膜した磁性層を保護するため、ガラス基板の端面(側面)部分でガラス基板を保持することが好ましい。ところが、後述する図6に示したように、ガラス基板の材質によっては、30秒程度連続して荷重(力)を加えた場合でも遅延復元変形を生じる場合がある。このため、磁性層成膜工程においてガラス基板の端面部分を保持した場合、上述の座屈変形に伴う遅延復元変形を生じ易くなる。特に、近年注目される熱アシスト磁気記録方式の磁気記録媒体においては、磁性層成膜工程で高温での熱処理を行う必要があるとされている。高温での熱処理の場合、昇降温(加熱と冷却)等のためにガラス基板を長時間保持する必要があることから、今後特に磁性層成膜工程でのガラス基板の変形が問題となるものと考えられる。   In the magnetic layer forming step, as described later, the glass substrate is held and transported by a holding jig and used for the film forming step. Therefore, force is applied by the holding jig, and the glass substrate is likely to be deformed. This is because the magnetic layer is formed before or after the magnetic layer is formed, for example, because the magnetic layer is formed on both surfaces of the glass substrate. In order to protect the magnetic layer, it is preferable to hold the glass substrate at the end surface (side surface) portion of the glass substrate. However, as shown in FIG. 6 to be described later, depending on the material of the glass substrate, delayed restoration deformation may occur even when a load (force) is applied continuously for about 30 seconds. For this reason, when the end surface portion of the glass substrate is held in the magnetic layer forming step, the delayed recovery deformation accompanying the above-described buckling deformation is likely to occur. In particular, in a heat-assisted magnetic recording type magnetic recording medium that has been attracting attention in recent years, it is said that it is necessary to perform heat treatment at a high temperature in the magnetic layer forming step. In the case of heat treatment at high temperature, it is necessary to hold the glass substrate for a long time in order to raise and lower the temperature (heating and cooling), so that deformation of the glass substrate in the magnetic layer deposition process will become a problem in the future. Conceivable.

次に、磁気記録媒体保持工程はカセット内にガラス基板を保持する工程であり、ガラス基板は減圧された梱包容器内に収めて出荷、搬送されるため、ガラス基板に荷重が加わり変形が生じ易い。このため、例えば磁性層成膜工程と、磁気記録媒体保持工程と、から選択された1以上の工程において、ガラス基板に座屈変形及び曲げ変形の少なくともいずれかの変形を生じることができる。   Next, the magnetic recording medium holding step is a step of holding the glass substrate in the cassette, and the glass substrate is stored in a decompressed packing container and shipped and transported. . For this reason, at least one of buckling deformation and bending deformation can occur in the glass substrate in one or more processes selected from, for example, a magnetic layer film forming process and a magnetic recording medium holding process.

なお、磁性層成膜工程及び磁気記録媒体保持工程について説明したが、ガラス基板に力(荷重)が加わるのは係る工程に限られるものではない。磁性層成膜工程等以外にも、例えば磁気記録媒体の製造方法の工程間において、ガラス基板を機械搬送するため、ガラス基板を保持冶具により保持、搬送する際にガラス基板に力(荷重)が加わる場合がある。このため、磁気記録媒体の製造方法の工程間においてガラス基板を搬送する際にもガラス基板に座屈変形または曲げ変形が生じる場合もある。   Although the magnetic layer film forming step and the magnetic recording medium holding step have been described, the application of force (load) to the glass substrate is not limited to such a step. In addition to the magnetic layer film forming step, for example, the glass substrate is mechanically transported between the steps of the method for manufacturing the magnetic recording medium. Therefore, when the glass substrate is held and transported by the holding jig, a force (load) is applied to the glass substrate. May join. For this reason, even when the glass substrate is transported between the steps of the method of manufacturing the magnetic recording medium, the glass substrate may be buckled or bent.

そして、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法において、磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスは、Alを5mol%以上含有することができる。さらに磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスは、Bの含有量が0.1mol%以上15mol%以下、または、含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下、または、アルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下であることが好ましい。また、ここでのアルカリ金属酸化物とは、アルカリ金属酸化物であればよく、あらゆるアルカリ金属酸化物を含む。典型的にはアルカリ金属酸化物としては、LiO、NaO、KOが挙げられる。 The method of manufacturing a magnetic recording medium of the present embodiment, the glass of a glass substrate included in the magnetic recording medium, the Al 2 O 3 may contain more than 5 mol%. Furthermore, the glass of the glass substrate contained in the magnetic recording medium has a B 2 O 3 content of 0.1 mol% or more and 15 mol% or less, or contains one or less alkali metal oxides. The content is preferably 0 mol% or more and 25 mol% or less, or two or more kinds of alkali metal oxides are contained, and the content of alkali metal oxides is preferably more than 0 mol% and 20 mol% or less. In addition, the alkali metal oxide here may be any alkali metal oxide, and includes any alkali metal oxide. Typically, examples of the alkali metal oxide include Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O.

これは、本発明の発明者らの検討によると、Alの含有量を5mol%以上とすることにより、ガラス基板のヤング率を十分に高めることができるためである。 This is because, according to the study by the inventors of the present invention, the Young's modulus of the glass substrate can be sufficiently increased by setting the content of Al 2 O 3 to 5 mol% or more.

また、ガラス基板のガラスの、Bの含有量が0.1mol%以上15mol%以下、またはガラス基板のガラスが含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下、またはガラス基板のガラスがアルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下の場合、ガラス基板に力(荷重)が加わり変形した場合でも、力(荷重)を除去してから元の形状へと戻るまでの時間が短くなるためである。すなわち、ガラス基板に加わっていた力(荷重)を除去した後、ガラス基板が変形している時間が短くなるためである。 Further, the content of B 2 O 3 in the glass of the glass substrate is 0.1 mol% or more and 15 mol% or less, or the alkali metal oxide contained in the glass of the glass substrate is one or less, and the content of the alkali metal oxide When the amount is 0 mol% or more and 25 mol% or less, or when the glass of the glass substrate contains two or more kinds of alkali metal oxides and the content of alkali metal oxides is more than 0 mol% and 20 mol% or less, force (load) is applied to the glass substrate. This is because, even when the deformation is caused by the addition of (), the time from the removal of the force (load) to the return to the original shape is shortened. That is, after the force (load) applied to the glass substrate is removed, the time during which the glass substrate is deformed is shortened.

本実施形態の磁気記録媒体の製造方法において、磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスは、Bの含有量が0.1mol%以上15mol%以下であることがより好ましい。これはガラス基板に力(荷重)が加わり変形した場合でも、力(荷重)を除去してからもとの形状へと戻るまでの時間をより短くすることができるためである。 In the method for producing a magnetic recording medium of the present embodiment, the glass substrate glass contained in the magnetic recording medium preferably has a B 2 O 3 content of 0.1 mol% or more and 15 mol% or less. This is because even when a force (load) is applied to the glass substrate and the glass substrate is deformed, the time from the removal of the force (load) to returning to the original shape can be shortened.

特に、磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスがBを含有する場合、Bの含有量の下限値は0.2mol%以上がより好ましく、0.5mol%以上がさらに好ましい。また、Bの含有量の上限値は12mol%以下が好ましく、10mol%以下がより好ましく、5mol%以下がさらに好ましく、2mol%未満であることが特に好ましい。Bの含有量が2mol%未満の場合、ガラス基板に力(荷重)が加わり、変形した場合に力(荷重)を除去した後の変位の時間を短くできることに加えて、比弾性の高いガラス基板とすることができる。このため、磁気記録媒体を高速回転させた場合でも、フラッタリングの発生をより抑制し、磁気記録媒体の読み取り/書き込みエラーの発生を特に抑制することが可能になる。 In particular, if the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium contains B 2 O 3, the lower limit of the content of B 2 O 3 is more preferably not less than 0.2 mol%, further preferably at least 0.5 mol% . Further, the upper limit of the content of B 2 O 3 is preferably 12 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, further preferably 5 mol% or less, and particularly preferably less than 2 mol%. When the content of B 2 O 3 is less than 2 mol%, a force (load) is applied to the glass substrate, and when it is deformed, the displacement time after removing the force (load) can be shortened. A high glass substrate can be obtained. For this reason, even when the magnetic recording medium is rotated at a high speed, the occurrence of fluttering can be further suppressed, and the occurrence of reading / writing errors of the magnetic recording medium can be particularly suppressed.

また、磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスとして、含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下のガラスを用いた場合、アルカリ金属酸化物の含有量は22mol%以下であることがより好ましい。アルカリ金属酸化物の含有量は10mol%以下であることがさらに好ましい。なお、含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下とは、例えばNaO、KO、LiO等のアルカリ金属酸化物から選択される1種類のアルカリ金属酸化物を含有しているか、アルカリ金属酸化物を含有していないことを意味している。 In addition, when the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium is a glass having one or less alkali metal oxides and an alkali metal oxide content of 0 mol% or more and 25 mol% or less, an alkali metal is used. The oxide content is more preferably 22 mol% or less. More preferably, the content of the alkali metal oxide is 10 mol% or less. In addition, the alkali metal oxide to be contained is one kind or less, for example, contains one kind of alkali metal oxide selected from alkali metal oxides such as Na 2 O, K 2 O, Li 2 O, This means that no alkali metal oxide is contained.

本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスとして、アルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下のガラスを用いた場合、アルカリ金属酸化物の含有量は17mol%以下がより好ましく、10mol%以下がさらに好ましい。   When the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment contains two or more kinds of alkali metal oxides and the glass having an alkali metal oxide content of more than 0 mol% and no more than 20 mol%, an alkali is used. The content of the metal oxide is more preferably 17 mol% or less, and further preferably 10 mol% or less.

なお、アルカリ金属酸化物を2種類以上含有するとは、例えばNaO、KO、LiO等のアルカリ金属酸化物から選択される2種類以上のアルカリ金属酸化物を含有していることを意味している。この場合、各アルカリ金属酸化物の含有量は特に限定されるものではなく任意の含有量とすることができる。例えば各アルカリ金属酸化物の含有量(モル%)が均等になるようにすることもできる。 In addition, containing two or more types of alkali metal oxides includes, for example, two or more types of alkali metal oxides selected from alkali metal oxides such as Na 2 O, K 2 O, and Li 2 O. Means. In this case, the content of each alkali metal oxide is not particularly limited, and can be any content. For example, the content (mol%) of each alkali metal oxide can be made uniform.

このように、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスとして、所定の成分を含有するガラスを用いることにより、ガラス基板に力(荷重)が加わり、変形した場合でもサーボ情報を書き込むまでにガラス基板は力(荷重)を除去した後の復原力による変位を終え、または、ほぼ終えた状態となる。このため、サーボ情報を書き込んだ後のガラス基板(磁気記録媒体)は変位しない、または、変位の程度が軽微となり、書き込んだサーボ情報の位置がずれることを防止し、エラーの発生率を抑制することができる。   As described above, by using glass containing a predetermined component as the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment, force (load) is applied to the glass substrate, and servo information is written even when the glass substrate is deformed. By the time, the glass substrate has finished or almost finished displacement due to the restoring force after removing the force (load). For this reason, the glass substrate (magnetic recording medium) after the servo information has been written is not displaced, or the degree of displacement is small, preventing the position of the written servo information from shifting and suppressing the error rate. be able to.

また、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスは、Alを5mol%以上20mol%以下含有することが好ましい。Al含有量の下限値は8mol%以上がより好ましく、10mol%以上がさらに好ましく、11.5mol%以上が特に好ましい。Alの含有量の上限値は17.5mol%以下がより好ましく、15mol%以下がさらに好ましい。 Moreover, it is preferable that the glass of the glass substrate contained in the magnetic recording medium of this embodiment contains 5 mol% or more and 20 mol% or less of Al 2 O 3 . The lower limit of the Al 2 O 3 content is more preferably 8 mol% or more, further preferably 10 mol% or more, and particularly preferably 11.5 mol% or more. The upper limit of the content of Al 2 O 3 is more preferably 17.5 mol% or less, and further preferably 15 mol% or less.

また、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法において、磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスは、SiOを55mol%以上75mol%以下と、アルカリ土類金属酸化物を0mol%以上30mol%以下と、を含有することが好ましい。特に、SiOは66mol%以上75mol%以下含有することがより好ましく、66mol%以上70mol%以下含有することがさらに好ましい。アルカリ土類金属酸化物は5mol%以上30mol%以下含有することがより好ましく、16mol%以上30mol%以下含有することがさらに好ましい。 Further, in the method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present embodiment, the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium has a SiO 2 content of 55 mol% to 75 mol% and an alkaline earth metal oxide content of 0 mol% to 30 mol%. It is preferable to contain. In particular, SiO 2 is preferably contained in an amount of 66 mol% to 75 mol%, and more preferably 66 mol% to 70 mol%. The alkaline earth metal oxide is more preferably contained in an amount of 5 mol% to 30 mol%, and more preferably 16 mol% to 30 mol%.

磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスとして、Bの含有量が0.1mol%以上15mol%以下のガラスを用いた場合、アルカリ金属酸化物を0mol%以上25mol%以下含有することが好ましい。特に、アルカリ金属酸化物を0mol%以上15mol%以下含有することがより好ましく、0mol%以上2.5mol%以下含有することがさらに好ましい。 When glass having a B 2 O 3 content of 0.1 mol% or more and 15 mol% or less is used as the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium, an alkali metal oxide may be contained in an amount of 0 mol% or more and 25 mol% or less. preferable. In particular, the alkali metal oxide is more preferably contained in an amount of 0 mol% or more and 15 mol% or less, and further preferably 0 mol% or more and 2.5 mol% or less.

また、ガラス基板は比弾性(比ヤング率)が高いことが好ましく、例えば32MNm/kg以上であることが好ましく、33MNm/kg以上であることがより好ましい。比弾性が高いことにより、磁気記録媒体を高速回転させた場合でも、フラッタリングの発生をより抑制し、磁気記録媒体の読み取り/書き込みエラーの発生を特に抑制することが可能になる。   The glass substrate preferably has a high specific elasticity (specific Young's modulus), for example, preferably 32 MNm / kg or more, and more preferably 33 MNm / kg or more. Due to the high specific elasticity, even when the magnetic recording medium is rotated at high speed, the occurrence of fluttering can be further suppressed, and the occurrence of read / write errors of the magnetic recording medium can be particularly suppressed.

さらに、用いるガラス基板は荷重を加えた場合でも平坦度が変化しにくいガラス基板であることが好ましい。例えば、後述する擬弾性変形量を測定する際と同様にして荷重を24時間加えた場合、すなわち、ガラス基板の直径方向の両端部を下面側から支持し、ガラス基板の中央部上面に荷重24時間を加えた場合、荷重を加える前後での平坦度の変化率が200%以下であることが好ましい。特に荷重を加える前後での平坦度の変化率が100%以下であることがより好ましい。   Furthermore, it is preferable that the glass substrate to be used is a glass substrate whose flatness hardly changes even when a load is applied. For example, when a load is applied for 24 hours in the same manner as when measuring the amount of pseudoelastic deformation described later, that is, both ends in the diameter direction of the glass substrate are supported from the lower surface side, and the load 24 is applied to the upper surface of the central portion of the glass substrate. When time is added, it is preferable that the rate of change in flatness before and after the load is applied is 200% or less. In particular, the rate of change in flatness before and after applying a load is more preferably 100% or less.

なお、荷重を加える前後での平坦度の変化率は、ガラス基板に荷重を24時間加えた後、荷重を除去した直後の平坦度をF(24h)、荷重を加える前のガラス基板の平坦度をF(−24h)とした場合、以下の式で表わされる。
(荷重を加える前後での平坦度の変化率)=|F(24h)−F(−24h)|/F(−24h)×100
次に、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法の具体的な工程の構成例について説明する。
The flatness change rate before and after the load was applied was F (24 h) after the load was applied to the glass substrate for 24 hours, and the flatness of the glass substrate before the load was applied. Where F (−24h) is expressed by the following formula.
(Change rate of flatness before and after applying load) = | F (24h) −F (−24h) | / F (−24h) × 100
Next, a configuration example of specific steps of the method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present embodiment will be described.

本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、ガラス基板上に磁性層を成膜する磁性層成膜工程と、前記磁気記録媒体をカセット内に保持する磁気記録媒体保持工程と、から選択される1以上の工程を有していることが好ましい。また、係る工程に限定されるものではなく、さらに任意に工程を設けることができる。   The method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present embodiment is selected from a magnetic layer forming process for forming a magnetic layer on a glass substrate and a magnetic recording medium holding process for holding the magnetic recording medium in a cassette. It is preferable to have one or more steps. Moreover, it is not limited to the process concerned, A process can be provided arbitrarily further.

具体的には例えば以下の工程を含むことができる。
(a)ガラス基板を用意するガラス基板準備工程
(b)ガラス基板上に磁性層を成膜する磁性層成膜工程
(c)磁気層成膜工程において得られた磁気記録媒体をカセット内に保持する磁気記録媒体保持工程
各工程について以下に説明する。
(a)ガラス基板準備工程
ガラス基板準備工程は、磁気記録媒体に要求される仕様に合わせたガラス基板を準備する工程であり、その詳細については特に限定されるものではない。
Specifically, for example, the following steps can be included.
(A) Glass substrate preparation step for preparing a glass substrate (b) Magnetic layer formation step for forming a magnetic layer on the glass substrate (c) Magnetic recording medium obtained in the magnetic layer formation step is held in a cassette Magnetic Recording Medium Holding Process Each process will be described below.
(A) Glass substrate preparation process A glass substrate preparation process is a process of preparing the glass substrate according to the specification requested | required of a magnetic recording medium, The details are not specifically limited.

ガラス基板準備工程は、例えばさらに以下の工程1〜4を含むことができる。
(工程1)ガラス素基板から、中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工した後、内周端面と外周端面を面取り加工する形状付与工程。
(工程2)ガラス基板の端面(内周端面及び外周端面)を研磨する端面研磨工程。
(工程3)ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程。
(工程4)ガラス基板を洗浄して乾燥する洗浄工程。
The glass substrate preparation step can further include the following steps 1 to 4, for example.
(Step 1) A shape imparting step of chamfering the inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface after processing from a glass base substrate into a disk-shaped glass substrate having a circular hole in the center.
(Step 2) An end surface polishing step for polishing the end surfaces (the inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface) of the glass substrate.
(Step 3) A main surface polishing step for polishing the main surface of the glass substrate.
(Step 4) A cleaning step of cleaning and drying the glass substrate.

ここで、(工程1)の形状付与工程は、フロート法、フュージョン法、プレス成形法、ダウンドロー法またはリドロー法で成形されたガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工するものである。   Here, the shape imparting step of (Step 1) includes a glass substrate having a circular shape in the center, and a glass substrate formed by a float method, a fusion method, a press forming method, a down draw method or a redraw method. To be processed.

用いるガラス素基板は、特に限定されるものではないが、上述の磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスと同様の組成を有するガラス素基板を用いることが好ましい。   Although the glass substrate used is not particularly limited, it is preferable to use a glass substrate having the same composition as the glass of the glass substrate contained in the magnetic recording medium described above.

具体的には用いるガラス素基板のガラスは、Alを5mol%以上含有することができる。さらにガラス素基板のガラスは、Bの含有量が0.1mol%以上15mol%以下、または、含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下、または、アルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下であることが好ましい。 Specifically, the glass of the glass base substrate to be used can contain 5 mol% or more of Al 2 O 3 . Furthermore, the glass of the glass base substrate has a B 2 O 3 content of 0.1 mol% or more and 15 mol% or less, or contains one or less alkali metal oxide, and the content of alkali metal oxide is 0 mol%. It is preferable that the content is 25 mol% or less, or two or more alkali metal oxides are contained, and the content of the alkali metal oxide is more than 0 mol% and 20 mol% or less.

ガラス素基板のガラスがBを含有する場合、Bの含有量の下限値は0.2mol%以上がより好ましく、0.5mol%以上がさらに好ましい。また、Bの含有量の上限値は12mol%以下が好ましく、10mol%以下がより好ましく、5mol%以下がさらに好ましく、2mol%未満であることが特に好ましい。 If the glass of the glass-containing substrate contains B 2 O 3, the lower limit of the content of B 2 O 3 is more preferably not less than 0.2 mol%, more 0.5 mol% is more preferred. Further, the upper limit of the content of B 2 O 3 is preferably 12 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, further preferably 5 mol% or less, and particularly preferably less than 2 mol%.

また、ガラス素基板のガラスとして、含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下のガラスを用いた場合、アルカリ金属酸化物の含有量は22mol%以下であることがより好ましい。アルカリ金属酸化物の含有量は10mol%以下であることがさらに好ましい。なお、アルカリ金属酸化物を含まなくてもよい。   In addition, when the glass of the glass base substrate contains not more than one kind of alkali metal oxide and the glass having an alkali metal oxide content of 0 mol% or more and 25 mol% or less, the content of alkali metal oxide is used. Is more preferably 22 mol% or less. More preferably, the content of the alkali metal oxide is 10 mol% or less. Note that the alkali metal oxide may not be included.

ガラス素基板のガラスとして、アルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下のガラスを用いた場合、アルカリ金属酸化物の含有量は17mol%以下がより好ましく、10mol%以下がさらに好ましい。   When the glass of the glass base substrate contains two or more kinds of alkali metal oxides, and the glass having an alkali metal oxide content of more than 0 mol% and no more than 20 mol%, the alkali metal oxide content is 17 mol%. The following is more preferable, and 10 mol% or less is more preferable.

また、ガラス素基板のガラスは、Alを5mol%以上20mol%以下含有することが好ましい。Alの含有量の下限値は8mol%以上が好ましく、10mol%以上がより好ましく、11.5mol%以上がさらに好ましい。Alの含有量の上限値は17.5mol%以下がより好ましく、15mol%以下がさらに好ましい。 The glass of the glass-containing substrate is preferably containing Al 2 O 3 less 5 mol% or more 20 mol%. The lower limit of the content of Al 2 O 3 is preferably 8 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, and further preferably 11.5 mol% or more. The upper limit of the content of Al 2 O 3 is more preferably 17.5 mol% or less, and further preferably 15 mol% or less.

さらにガラス素基板のガラスは、SiOを55mol%以上75mol%以下と、アルカリ土類金属酸化物を0mol%以上30mol%以下と、を含有することが好ましい。特に、SiOは66mol%以上75mol%以下含有することがより好ましく、66mol%以上70mol%以下含有することがさらに好ましい。アルカリ土類金属酸化物は5mol%以上30mol%以下含有することがより好ましく、16mol%以上30mol%以下含有することがさらに好ましい。 Furthermore, the glass of the glass base substrate preferably contains 55 mol% or more and 75 mol% or less of SiO 2 and 0 mol% or more and 30 mol% or less of alkaline earth metal oxide. In particular, SiO 2 is preferably contained in an amount of 66 mol% or more and 75 mol% or less, and more preferably 66 mol% or more and 70 mol% or less. The alkaline earth metal oxide is more preferably contained in an amount of 5 mol% to 30 mol%, and more preferably 16 mol% to 30 mol%.

ガラス素基板のガラスとして、Bの含有量が0.1mol%以上15mol%以下のガラスを用いた場合、アルカリ金属酸化物を0mol%以上25mol%以下含有することが好ましい。特に、アルカリ金属酸化物を0mol%以上15mol%以下含有することがより好ましく、0mol%以上2.5mol%以下含有することがさらに好ましい。 When glass having a B 2 O 3 content of 0.1 mol% or more and 15 mol% or less is used as the glass of the glass base substrate, the alkali metal oxide is preferably contained in an amount of 0 mol% or more and 25 mol% or less. In particular, the alkali metal oxide is more preferably contained in an amount of 0 mol% or more and 15 mol% or less, and further preferably 0 mol% or more and 2.5 mol% or less.

ガラス素基板は比弾性(比ヤング率)が高いことが好ましく、例えば32MNm/kg以上であることが好ましく、33MNm/kg以上であることがより好ましい。   The glass substrate preferably has a high specific elasticity (specific Young's modulus), for example, preferably 32 MNm / kg or more, and more preferably 33 MNm / kg or more.

そして、(工程2)の端面研磨工程は、ガラス基板の端面(側面部と面取り部)を端面研磨するものである。   And the end surface grinding | polishing process of (process 2) end-polishes the end surface (a side surface part and a chamfering part) of a glass substrate.

(工程3)の主平面研磨工程については、両面研磨装置を用い、ガラス基板の主平面に研磨液を供給しながらガラス基板の上下主平面を同時に研磨するものである。ガラス基板の研磨は、1次研磨のみでもよく、1次研磨と2次研磨を実施してもよく、2次研磨の後に3次研磨を実施してもよい。   About the main plane polishing process of (Process 3), the upper and lower main planes of a glass substrate are grind | polished simultaneously using a double-side polish apparatus, supplying polishing liquid to the main plane of a glass substrate. The glass substrate may be polished only by primary polishing, primary polishing and secondary polishing may be performed, or tertiary polishing may be performed after secondary polishing.

上記(工程3)の主平面研磨工程の前において、主平面のラップ(例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど)を実施してもよい。また、各工程間にガラス基板の洗浄(工程間洗浄)やガラス基板表面のエッチング(工程間エッチング)を実施してもよい。なお、主平面のラップとは広義の主平面の研磨である。
(b)磁性層成膜工程
磁性層成膜工程は、ガラス基板上に磁性層(磁性膜)を形成する工程である。この際形成する磁性層の構成については特に限定されるものではなく、磁気記録媒体に要求される性能等により任意に選択することができる。
Prior to the main plane polishing step (step 3), a main plane wrap (eg, loose abrasive wrap, fixed abrasive wrap, etc.) may be performed. In addition, glass substrate cleaning (inter-process cleaning) and glass substrate surface etching (inter-process etching) may be performed between the processes. The main plane lapping is polishing of the main plane in a broad sense.
(B) Magnetic Layer Film Formation Step The magnetic layer film formation step is a step of forming a magnetic layer (magnetic film) on the glass substrate. The configuration of the magnetic layer formed at this time is not particularly limited, and can be arbitrarily selected depending on the performance required for the magnetic recording medium.

また、磁性層以外に下地層や保護層、潤滑層等の構成を任意に選択し、ガラス基板と磁性層との間、または、磁性層表面に形成することができる。   In addition to the magnetic layer, the underlayer, protective layer, lubricating layer, and the like can be arbitrarily selected and formed between the glass substrate and the magnetic layer or on the surface of the magnetic layer.

磁気記録媒体には例えば水平磁気記録方式、垂直磁気記録方式、熱アシスト磁気記録方式等があり、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においてはいずれの方式の磁気記録媒体に対しても適用することができる。ここでは垂直磁気記録方式を例に、ガラス基板表面に磁性層を含む磁気記録媒体を構成する各層の形成手順を以下に説明する。   The magnetic recording medium includes, for example, a horizontal magnetic recording system, a perpendicular magnetic recording system, a heat-assisted magnetic recording system, and the like, and the magnetic recording medium manufacturing method of this embodiment is applicable to any type of magnetic recording medium. be able to. Here, the perpendicular magnetic recording method is taken as an example, and the formation procedure of each layer constituting a magnetic recording medium including a magnetic layer on the glass substrate surface will be described below.

磁気記録媒体は、例えばその表面に磁性層、保護層、潤滑膜を備えた構成とすることができる。そして、垂直磁気記録方式の場合、磁気ヘッドからの記録磁界を環流させる役割を果たす軟磁性材料からなる軟磁性下地層を配するのが一般的である。このため、ガラス基板表面から順に、例えば、軟磁性下地層、非磁性中間層、垂直記録用磁性層、保護層、潤滑膜のように積層することができる。   For example, the magnetic recording medium may have a structure including a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating film on the surface thereof. In the case of the perpendicular magnetic recording system, a soft magnetic underlayer made of a soft magnetic material that plays a role of circulating a recording magnetic field from a magnetic head is generally provided. For this reason, in order from the glass substrate surface, for example, a soft magnetic underlayer, a nonmagnetic intermediate layer, a perpendicular recording magnetic layer, a protective layer, and a lubricating film can be laminated.

垂直磁気記録方式の磁気記録媒体を構成する各層について以下に説明する。   Each layer constituting the perpendicular magnetic recording type magnetic recording medium will be described below.

軟磁性下地層としては例えば、CoNiFe、FeCoB、CoCuFe、NiFe、FeAlSi、FeTaN、FeN、FeTaC、CoFeB、CoZrN等を使用できる。   As the soft magnetic underlayer, for example, CoNiFe, FeCoB, CoCuFe, NiFe, FeAlSi, FeTaN, FeN, FeTaC, CoFeB, CoZrN, or the like can be used.

そして、非磁性中間層は、Ru、Ru合金等から構成することができる。この非磁性中間層は垂直記録用磁性層のエピタキシャル成長を容易にするための機能、及び軟磁性下地層と記録用磁性層との間での磁気交換結合を断つ機能を有する。   The nonmagnetic intermediate layer can be made of Ru, Ru alloy or the like. This nonmagnetic intermediate layer has a function for facilitating the epitaxial growth of the perpendicular recording magnetic layer and a function for breaking the magnetic exchange coupling between the soft magnetic underlayer and the recording magnetic layer.

垂直記録用磁性層は、磁化容易軸が基板面に対して垂直方向を向いた磁性膜であり、少なくともCo、Ptを含んでいる。そして、高い固有媒体ノイズの原因となる粒間交換結合を低減するため、良好に隔離された微粒子構造(グラニュラー構造)とするのが良い。具体的には、CoPt系合金などに酸化物(SiO、SiO、Cr、CoO、Ta、TiO等)や、Cr、B、Cu、Ta、Zrなどを添加したものを用いるのがよい。 The perpendicular recording magnetic layer is a magnetic film having an easy axis of magnetization oriented in a direction perpendicular to the substrate surface, and includes at least Co and Pt. In order to reduce intergranular exchange coupling that causes high intrinsic medium noise, a well-isolated fine particle structure (granular structure) is preferable. Specifically, an oxide (SiO 2 , SiO, Cr 2 O 3 , CoO, Ta 2 O 3 , TiO 2, etc.), Cr, B, Cu, Ta, Zr or the like added to a CoPt alloy or the like Should be used.

ここまで説明した軟磁性下地層、非磁性中間層、垂直記録用磁性層はインラインスパッタ法、DCマグネトロンスパッタ法などで連続的に製造することができる。   The soft magnetic underlayer, nonmagnetic intermediate layer, and perpendicular recording magnetic layer described so far can be continuously manufactured by an in-line sputtering method, a DC magnetron sputtering method, or the like.

次いで、保護層は垂直記録用磁性層の腐食を防ぎ、かつ、磁気ヘッドが媒体に接触した場合でも媒体表面の損傷を防ぐために設けられたものであり、垂直記録用磁性層の上に設けられる。保護層としてはC、ZrO、SiOなどを含む材料を用いることができる。 Next, the protective layer is provided to prevent corrosion of the perpendicular recording magnetic layer and to prevent damage to the surface of the medium even when the magnetic head comes into contact with the medium, and is provided on the perpendicular recording magnetic layer. . As the protective layer, a material containing C, ZrO 2 , SiO 2 or the like can be used.

その形成方法としては、例えばインラインスパッタ法、CVD法、スピンコート法などを用いることができる。   As the formation method, for example, an in-line sputtering method, a CVD method, a spin coating method, or the like can be used.

保護層の表面には磁気ヘッドと磁気記録媒体(磁気ディスク)との摩擦を低減するために、潤滑層を形成する。潤滑層は、例えばパーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などを用いることができる。潤滑層についてはディップ法、スプレー法などで形成することができる。   A lubricating layer is formed on the surface of the protective layer in order to reduce friction between the magnetic head and the magnetic recording medium (magnetic disk). For the lubricating layer, for example, perfluoropolyether, fluorinated alcohol, fluorinated carboxylic acid, or the like can be used. The lubricating layer can be formed by a dip method, a spray method, or the like.

ここでは、垂直磁気記録方式の磁気記録媒体について説明してきたが、上述のように係る形態に限定されるものではなく、例えば熱アシスト磁気記録方式等他の磁気記録媒体とすることもできる。例えば熱アシスト磁気記録方式の磁気記録媒体とする場合、磁性層はFePt、SmCo等を含んでいることが好ましい。また、磁性層以外の構成についても、各記録方式に応じて任意の構成とすることができる。 Here, the perpendicular magnetic recording type magnetic recording medium has been described. However, the present invention is not limited to the above-described form, and other magnetic recording media such as a thermally assisted magnetic recording type may be used. For example, when a magnetic recording medium of a thermally assisted magnetic recording system is used, the magnetic layer preferably contains FePt, SmCo 5 or the like. Also, the configuration other than the magnetic layer can be arbitrarily configured according to each recording method.

そして、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においては、磁性層成膜工程を含むことができる。そして、磁性層成膜工程において、例えばガラス基板をチャック等の保持冶具により保持し、加熱等を行いながら、ガラス基板の表面に磁性層を形成することができる。磁性層成膜工程で用いる保持冶具は特に限定されないが、例えば図2に示すように、ガラス基板20の外径の端面部分(側面部分)の複数点において、複数の保持冶具の保持部材211、212、213により挟んで保持することができる。これらの保持部材211〜213は、図2中にブロック矢印A、B、Cで示したように、ガラス基板の中心方向に向かう力を加えることによりガラス基板20を保持することができる。保持部材211〜213は、ガラス基板20の主平面と平行な方向に力を加えているが、力の大きさによっては、ガラス基板20は、主平面とは垂直な方向に座屈変形する場合がある。保持部材211〜213近傍のガラス基板20は局所的な変形を伴うことが多く、遅延復元変形が発生する場合があり、遅延復元変形が発生した場合、サーボ情報の読み取りエラーが発生しやすい。   The magnetic recording medium manufacturing method of this embodiment can include a magnetic layer film forming step. Then, in the magnetic layer forming step, for example, the magnetic layer can be formed on the surface of the glass substrate while holding the glass substrate with a holding jig such as a chuck and performing heating or the like. The holding jig used in the magnetic layer film forming step is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 2, holding members 211 of a plurality of holding jigs at a plurality of points on the end surface portion (side surface portion) of the outer diameter of the glass substrate 20. 212 and 213 can be held. These holding members 211 to 213 can hold the glass substrate 20 by applying a force toward the center of the glass substrate as indicated by block arrows A, B, and C in FIG. The holding members 211 to 213 apply a force in a direction parallel to the main plane of the glass substrate 20, but depending on the magnitude of the force, the glass substrate 20 is buckled and deformed in a direction perpendicular to the main plane. There is. The glass substrate 20 in the vicinity of the holding members 211 to 213 is often accompanied by local deformation, and delay restoration deformation may occur. When the delay restoration deformation occurs, a servo information reading error is likely to occur.

なお、図2中では3点でガラス基板を保持した保持冶具を例に説明したが、3点に限定されるものではなく、2点もしくは4点以上で保持する保持冶具を用いることもできる。   In FIG. 2, the holding jig that holds the glass substrate at three points has been described as an example. However, the holding jig is not limited to three points, and a holding jig that holds two or more points can also be used.

ここでは、ガラス基板の外径側から中心方向に向かって保持冶具により力を加えてガラス基板を保持した例を挙げて説明したが、係る形態に限定されるものではない。例えば、ガラス基板の中央部に形成された開口部に2以上の保持部材を配置し、ガラス基板の開口部のガラス基板の端面(以下、内径ともいう)側から外径方向に向かって力を加えてガラス基板を保持することもできる。   Here, although the example which hold | maintained the glass substrate by applying force with the holding jig toward the center direction from the outer diameter side of the glass substrate was demonstrated, it is not limited to the form which concerns. For example, two or more holding members are disposed in the opening formed in the central portion of the glass substrate, and a force is applied in the outer diameter direction from the end surface (hereinafter also referred to as an inner diameter) side of the glass substrate opening. In addition, a glass substrate can be held.

また、ガラス基板の中央部に形成された開口部、及びガラス基板の外径の端面部分両方にそれぞれ複数の保持部材を設けることもできる。この場合、ガラス基板の中央部に形成された開口部に設けた保持部材は内径側から外径方向に向かって力を加え、ガラス基板の外径の端面部分に配置した保持部材は外径側から中心方向に向かって力を加えることによりガラス基板を保持することができる。   In addition, a plurality of holding members can be provided in both the opening formed in the central portion of the glass substrate and the end surface portion of the outer diameter of the glass substrate. In this case, the holding member provided in the opening formed in the central portion of the glass substrate applies a force from the inner diameter side toward the outer diameter direction, and the holding member disposed on the end surface portion of the outer diameter of the glass substrate is on the outer diameter side. The glass substrate can be held by applying a force from the center toward the center.

上述のようなガラス基板20の端面部分の複数点に力を加えて保持する保持冶具に限定されるものではなく、他の形態の保持冶具で保持しながらガラス基板上に磁性層を成膜することもできる。   The present invention is not limited to a holding jig that applies force to a plurality of points on the end surface portion of the glass substrate 20 as described above, and a magnetic layer is formed on the glass substrate while being held by another form of holding jig. You can also.

ここでは、磁性層を成膜する場合について説明したが、下地層や保護層、潤滑層等をガラス基板上に形成する場合(下地層成膜工程、保護層成膜工程、潤滑層成膜工程等)についても同様の保持冶具を用いて成膜することができ、この場合、同様に座屈変形する場合がある。
(c)磁気記録媒体保持工程
磁気記録媒体保持工程は磁性層成膜工程において得られた磁気記録媒体をカセット内に保持する工程である。
Although the case where the magnetic layer is formed has been described here, the underlayer, the protective layer, the lubricating layer, and the like are formed on the glass substrate (the underlayer forming step, the protective layer forming step, the lubricating layer forming step). Etc.) can also be formed using the same holding jig, and in this case, buckling deformation may occur in the same manner.
(C) Magnetic recording medium holding step The magnetic recording medium holding step is a step of holding the magnetic recording medium obtained in the magnetic layer forming step in the cassette.

一般的にガラス基板上に磁性層等を形成することにより得られた磁気記録媒体は、ハードディスクドライブの製造工場へと出荷、搬送される。   Generally, a magnetic recording medium obtained by forming a magnetic layer or the like on a glass substrate is shipped and transported to a hard disk drive manufacturing factory.

このため、磁気記録媒体は、カセット内に収められてその製造工程を終了する。磁気記録媒体はカセット内に収められるのみでも足りるが、さらに減圧された梱包容器(包装)内に収めることが好ましい。   For this reason, the magnetic recording medium is housed in the cassette and the manufacturing process is completed. The magnetic recording medium need only be stored in the cassette, but it is preferable that the magnetic recording medium is further stored in a decompressed packing container (packaging).

カセット内に保持され、場合によっては減圧された梱包容器内に収められた、磁気記録媒体(ガラス基板)には荷重が加わり、磁気記録媒体、すなわち、磁気記録媒体に含まれるガラス基板に座屈変形または曲げ変形が生じる場合がある。このため磁気記録媒体保持工程で磁気記録媒体を保持したカセットの梱包内では、磁気記録媒体に力が加えられた状態となり、該梱包を開封することにより力が除去され、磁気記録媒体(ガラス基板)は元の形状へと変位することとなる。   A load is applied to the magnetic recording medium (glass substrate), which is held in a cassette and stored in a decompressed packing container in some cases, and buckles the magnetic recording medium, that is, the glass substrate included in the magnetic recording medium. Deformation or bending deformation may occur. For this reason, in the packaging of the cassette holding the magnetic recording medium in the magnetic recording medium holding step, a force is applied to the magnetic recording medium, and the force is removed by opening the packaging, and the magnetic recording medium (glass substrate) ) Will be displaced to the original shape.

なお、例えば磁気記録媒体成膜工程後、場所を変えることなくハードディスクドライブの製造工程を実施する場合、本工程を行わないこともできる。   For example, when the hard disk drive manufacturing process is performed without changing the location after the magnetic recording medium film forming process, this process can be omitted.

以上に説明した磁気記録媒体の製造方法により得られた磁気記録媒体は、さらに、磁気記録媒体をハードディスクドライブ(HDD)に組み込むハードディスク組立工程や、サーボ情報を書き込むサーボ情報書き込み工程を実施することにより、ハードディスクドライブを製造することができる。   The magnetic recording medium obtained by the magnetic recording medium manufacturing method described above is further subjected to a hard disk assembly process for incorporating the magnetic recording medium into a hard disk drive (HDD) and a servo information writing process for writing servo information. Can manufacture hard disk drives.

そして、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法によれば、磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスとして、Alを5mol%以上含有することができる。また、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスとして、所定量のBを含有するガラス基板、またはアルカリ金属酸化物の含有量が所定の範囲内であるガラス基板、を用いている。このため、磁気記録媒体の製造方法においてガラス基板に、座屈変形及び曲げ変形の少なくともいずれかの変形を生じることを含んでいた場合でも、力(荷重)を除去してから元の形状へと戻るまでの時間が特に短くなる。このため、ガラス基板(磁気記録媒体)に力(荷重)が加わり、変形した場合でもサーボ情報を書き込むまでにガラス基板(磁気記録媒体)は力(荷重)を除去した後の復原力による変位を終え、または、ほぼ終えた状態となる。従って、サーボ情報を書き込んだ後のガラス基板(磁気記録媒体)は変位しない、または、変位の程度が軽微となり、書き込んだサーボ情報の位置がずれることを防止し、エラーの発生率を抑制することができる。 Then, according to the manufacturing method of the magnetic recording medium of the present embodiment, as the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium, the Al 2 O 3 may contain more than 5 mol%. Further, as the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment, a glass substrate containing a predetermined amount of B 2 O 3 or a glass substrate having an alkali metal oxide content within a predetermined range, Used. For this reason, even when the method of manufacturing a magnetic recording medium includes the generation of at least one of buckling deformation and bending deformation in the glass substrate, the force (load) is removed and then returned to the original shape. The time to return is particularly short. For this reason, a force (load) is applied to the glass substrate (magnetic recording medium), and even when the glass substrate (magnetic recording medium) is deformed, the glass substrate (magnetic recording medium) is displaced by the restoring force after the force (load) is removed before servo information is written. Finished or almost finished. Therefore, the glass substrate (magnetic recording medium) after the servo information is written is not displaced, or the degree of displacement is slight, preventing the position of the written servo information from shifting and suppressing the error rate. Can do.

次に、本実施形態の磁気記録媒体について説明する。   Next, the magnetic recording medium of this embodiment will be described.

本実施形態の磁気記録媒体は、ガラス基板上に磁性層が成膜された磁気記録媒体とすることができ、特にガラス基板上に磁性層が成膜されたサーボ情報書き込み用の磁気記録媒体とすることができる。磁気記録媒体のガラス基板上には、例えば磁性層や、下地層や保護層、潤滑層等も任意に設けることができる。そして、本実施形態の磁気記録媒体においては、ガラス基板のガラスは、Alを5mol%以上含有することができる。また、本実施形態の磁気記録媒体においてはガラス基板のガラスは、Bの含有量が0.1mol%以上15mol%以下、または、含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下、または、アルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下であることが好ましい。ここでのアルカリ金属酸化物とは、アルカリ金属酸化物であればよく、あらゆるアルカリ金属酸化物を含む。典型的にはアルカリ金属酸化物としては、LiO、NaO、KOが挙げられる。 The magnetic recording medium of this embodiment can be a magnetic recording medium in which a magnetic layer is formed on a glass substrate, and in particular, a magnetic recording medium for servo information writing in which a magnetic layer is formed on a glass substrate; can do. On the glass substrate of the magnetic recording medium, for example, a magnetic layer, an underlayer, a protective layer, a lubricating layer, and the like can be arbitrarily provided. And, in the magnetic recording medium of the present embodiment, the glass of the glass substrate, the Al 2 O 3 may contain more than 5 mol%. In the magnetic recording medium of the present embodiment, the glass of the glass substrate has a B 2 O 3 content of 0.1 mol% or more and 15 mol% or less, or contains one or less alkali metal oxides. The metal oxide content is preferably 0 mol% or more and 25 mol% or less, or two or more alkali metal oxides are contained, and the alkali metal oxide content is preferably more than 0 mol% and 20 mol% or less. The alkali metal oxide here may be any alkali metal oxide, and includes any alkali metal oxide. Typically, examples of the alkali metal oxide include Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O.

これは、ガラス基板のガラスの、Alの含有量を5mol%以上とすることにより、ガラス基板のヤング率を十分に高めることができるためである。 This is because the Young's modulus of the glass substrate can be sufficiently increased by setting the Al 2 O 3 content of the glass of the glass substrate to 5 mol% or more.

また、ガラス基板のガラスの、Bの含有量が0.1mol%以上15mol%以下、またはガラス基板のガラスが含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下、またはガラス基板のガラスがアルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下の場合、ガラス基板に力(荷重)が加わり変形した場合でも、力(荷重)を除去してから元の形状へと戻るまでの時間が短くなるためである。すなわち、ガラス基板に加わっていた力(荷重)を除去した後、ガラス基板が変形している時間が短くなるためである。 Further, the content of B 2 O 3 in the glass of the glass substrate is 0.1 mol% or more and 15 mol% or less, or the alkali metal oxide contained in the glass of the glass substrate is one or less, and the content of the alkali metal oxide When the amount is 0 mol% or more and 25 mol% or less, or when the glass of the glass substrate contains two or more kinds of alkali metal oxides and the content of alkali metal oxides is more than 0 mol% and 20 mol% or less, force (load) is applied to the glass substrate. This is because, even when the deformation is caused by the addition of (), the time from the removal of the force (load) to the return to the original shape is shortened. That is, after the force (load) applied to the glass substrate is removed, the time during which the glass substrate is deformed is shortened.

本実施形態の磁気記録媒体において、磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスは、Bの含有量が0.1mol%以上15mol%以下であることがより好ましい。これはガラス基板に力(荷重)が加わり変形した場合でも、力(荷重)を除去してからもとの形状へと戻るまでの時間をより短くすることができるためである。 In the magnetic recording medium of the present embodiment, the glass of the glass substrate contained in the magnetic recording medium preferably has a B 2 O 3 content of 0.1 mol% or more and 15 mol% or less. This is because even when a force (load) is applied to the glass substrate and the glass substrate is deformed, the time from the removal of the force (load) to returning to the original shape can be shortened.

特に、磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスがBを含有する場合、Bの含有量の下限値は0.2mol%以上がより好ましく、0.5mol%以上がさらに好ましい。また、Bの含有量の上限値は12mol%以下が好ましく、10mol%以下がより好ましく、5mol%以下がさらに好ましく、2mol%未満であることが特に好ましい。Bの含有量が2mol%未満の場合、ガラス基板に力(荷重)が加わり、変形した場合に力(荷重)を除去した後の変位の時間を短くできることに加えて、比弾性の高いガラス基板とすることができる。このため、磁気記録媒体を高速回転させた場合でも、フラッタリングの発生をより抑制し、磁気記録媒体の読み取り/書き込みエラーの発生を特に抑制することが可能になる。 In particular, if the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium contains B 2 O 3, the lower limit of the content of B 2 O 3 is more preferably not less than 0.2 mol%, further preferably at least 0.5 mol% . Further, the upper limit of the content of B 2 O 3 is preferably 12 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, further preferably 5 mol% or less, and particularly preferably less than 2 mol%. When the content of B 2 O 3 is less than 2 mol%, a force (load) is applied to the glass substrate, and when it is deformed, the displacement time after removing the force (load) can be shortened. A high glass substrate can be obtained. For this reason, even when the magnetic recording medium is rotated at a high speed, the occurrence of fluttering can be further suppressed, and the occurrence of reading / writing errors of the magnetic recording medium can be particularly suppressed.

また、磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスとして、含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下のガラスを用いた場合、アルカリ金属酸化物の含有量は22mol%以下であることがより好ましい。アルカリ金属酸化物の含有量は10mol%以下であることがさらに好ましい。なお、含有するアルカリ金属酸化物が1種類以下とは、例えばNaO、KO、LiO等のアルカリ金属酸化物から選択される1種類のアルカリ金属酸化物を含有しているか、アルカリ金属酸化物を含有していないことを意味している。 In addition, when the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium is a glass having one or less alkali metal oxides and an alkali metal oxide content of 0 mol% or more and 25 mol% or less, an alkali metal is used. The oxide content is more preferably 22 mol% or less. More preferably, the content of the alkali metal oxide is 10 mol% or less. In addition, the alkali metal oxide to be contained is one kind or less, for example, contains one kind of alkali metal oxide selected from alkali metal oxides such as Na 2 O, K 2 O, Li 2 O, This means that no alkali metal oxide is contained.

本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスとして、アルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下のガラスを用いた場合、アルカリ金属酸化物の含有量は17mol%以下がより好ましく、10mol%以下がさらに好ましい。   When the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment contains two or more kinds of alkali metal oxides and the glass having an alkali metal oxide content of more than 0 mol% and no more than 20 mol%, an alkali is used. The content of the metal oxide is more preferably 17 mol% or less, and further preferably 10 mol% or less.

なお、アルカリ金属酸化物を2種類以上含有するとは、例えばNaO、KO、LiO等のアルカリ金属酸化物から選択される2種類以上のアルカリ金属酸化物を含有していることを意味している。この場合、各アルカリ金属酸化物の含有量は特に限定されるものではなく任意の含有量とすることができる。例えば各アルカリ金属酸化物の含有量(モル%)が均等になるようにすることもできる。 In addition, containing two or more types of alkali metal oxides includes, for example, two or more types of alkali metal oxides selected from alkali metal oxides such as Na 2 O, K 2 O, and Li 2 O. Means. In this case, the content of each alkali metal oxide is not particularly limited, and can be any content. For example, the content (mol%) of each alkali metal oxide can be made uniform.

このように、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスとして、所定の成分を含有するガラス基板を用いることにより、ガラス基板に力(荷重)が加わり、変形した場合でもサーボ情報を書き込むまでにガラス基板は力(荷重)を除去した後の復原力による変位を終え、または、ほぼ終えた状態となる。このため、サーボ情報を書き込んだ後のガラス基板(磁気記録媒体)は変位しない、または、変位の程度が軽微となり、書き込んだサーボ情報の位置がずれることを防止し、エラーの発生率を抑制することができる。   As described above, by using a glass substrate containing a predetermined component as the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment, force (load) is applied to the glass substrate and servo information can be obtained even when the glass substrate is deformed. By the time the writing is completed, the glass substrate finishes or is almost completely displaced by the restoring force after removing the force (load). For this reason, the glass substrate (magnetic recording medium) after the servo information has been written is not displaced, or the degree of displacement is small, preventing the position of the written servo information from shifting and suppressing the error rate. be able to.

また、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスは、Alを5mol%以上20mol%以下含有することが好ましい。Al含有量の下限値は8mol%以上がより好ましく、10mol%以上がさらに好ましく、11.5mol%以上が特に好ましい。Alの含有量の上限値は17.5mol%以下がより好ましく、15mol%以下がさらに好ましい。 Moreover, it is preferable that the glass of the glass substrate contained in the magnetic recording medium of this embodiment contains 5 mol% or more and 20 mol% or less of Al 2 O 3 . The lower limit of the Al 2 O 3 content is more preferably 8 mol% or more, further preferably 10 mol% or more, and particularly preferably 11.5 mol% or more. The upper limit of the content of Al 2 O 3 is more preferably 17.5 mol% or less, and further preferably 15 mol% or less.

また、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスは、SiOを55mol%以上75mol%以下と、アルカリ土類金属酸化物を0mol%以上30mol%以下と、を含有することが好ましい。特に、SiOは66mol%以上75mol%以下含有することがより好ましく、66mol%以上70mol%以下含有することがさらに好ましい。アルカリ土類金属酸化物は5mol%以上30mol%以下含有することがより好ましく、16mol%以上30mol%以下含有することがさらに好ましい。 The glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment preferably contains 55 mol% or more and 75 mol% or less of SiO 2 and 0 mol% or more and 30 mol% or less of alkaline earth metal oxide. . In particular, SiO 2 is preferably contained in an amount of 66 mol% to 75 mol%, and more preferably 66 mol% to 70 mol%. The alkaline earth metal oxide is more preferably contained in an amount of 5 mol% to 30 mol%, and more preferably 16 mol% to 30 mol%.

特に、磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラスとして、Bの含有量が0.1mol%以上15mol%以下のガラスを用いた場合、アルカリ金属酸化物を0mol%以上25mol%以下含有することが好ましい。さらには、アルカリ金属酸化物を0mol%以上15mol%以下含有することがより好ましく、0mol%以上2.5mol%以下含有することがさらに好ましい。 In particular, when a glass having a B 2 O 3 content of 0.1 mol% or more and 15 mol% or less is used as the glass of the glass substrate included in the magnetic recording medium, the alkali metal oxide is contained in an amount of 0 mol% or more and 25 mol% or less. It is preferable. Furthermore, it is more preferable to contain 0 mol% or more and 15 mol% or less of an alkali metal oxide, and it is further more preferable to contain 0 mol% or more and 2.5 mol% or less.

また、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板は、比弾性(比ヤング率)が高いことが好ましく、例えば32MNm/kg以上であることが好ましく、33MNm/kg以上であることがより好ましい。比弾性が高いことにより、磁気記録媒体を高速回転させた場合でも、フラッタリングの発生をより抑制し、磁気記録媒体の読み取り/書き込みエラーの発生を特に抑制することが可能になる。   Further, the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment preferably has a high specific elasticity (specific Young's modulus), for example, preferably 32 MNm / kg or more, and more preferably 33 MNm / kg or more. . Due to the high specific elasticity, even when the magnetic recording medium is rotated at high speed, the occurrence of fluttering can be further suppressed, and the occurrence of read / write errors of the magnetic recording medium can be particularly suppressed.

本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板は、擬弾性変形量Aが2.0μm以下であることが好ましい。なお、擬弾性変形量Aの下限値は0μmとなる。これは、後述する擬弾性変形量B、擬弾性変形量Cについても同様のことがいえる。   The glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment preferably has a pseudoelastic deformation amount A of 2.0 μm or less. The lower limit value of the pseudoelastic deformation amount A is 0 μm. The same can be said for the pseudoelastic deformation amount B and the pseudoelastic deformation amount C described later.

ここで擬弾性変形量Aとは、ガラス基板の直径方向の両端部を下面側から支持し、ガラス基板の中央部上面に荷重を48時間加えた後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、荷重を加える前の平坦度との差の絶対値を意味する。   Here, the pseudo elastic deformation amount A means that both ends of the glass substrate in the diameter direction are supported from the lower surface side, the load is removed for 48 hours after being applied to the upper surface of the central portion of the glass substrate, and 5 hours after the load is removed. It means the absolute value of the difference between the flatness at the time of elapse and the flatness before the load is applied.

特に、擬弾性変形量Aは具体的には例えば以下のようにして算出することができる。まず、ガラス基板の対向する2箇所に設けられた弦と円弧によって囲まれ、弦と円弧との間の距離の最大値はガラス基板の直径の2.3%〜7.7%の長さである、直径方向の両端部を下面側から支持する。そして、ガラス基板の直径の35〜80%の長さの幅であり、該幅方向の中心線はガラス基板の中心を通り、弦と平行であるガラス基板の中央領域上面に、(ガラス基板の主平面の面積)mm×2.28mN/mmにより計算される荷重を48時間加える。その後、荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、荷重を加える前の平坦度との差の絶対値を擬弾性変形量Aとすることができる。 In particular, the pseudoelastic deformation amount A can be specifically calculated as follows, for example. First, it is surrounded by a string and an arc provided at two opposing positions on the glass substrate, and the maximum distance between the string and the arc is 2.3% to 7.7% of the diameter of the glass substrate. A certain diametrical both ends are supported from the lower surface side. Then, the width is 35 to 80% of the diameter of the glass substrate, and the center line in the width direction passes through the center of the glass substrate and is on the upper surface of the central region of the glass substrate that is parallel to the string (of the glass substrate). The area calculated by the area of the main plane) mm 2 × 2.28 mN / mm 2 is applied for 48 hours. Thereafter, the load is removed, and the absolute value of the difference between the flatness after 5 hours from the removal of the load and the flatness before the load is applied can be defined as the pseudoelastic deformation amount A.

従って、擬弾性変形量Aの値が小さいほど、ガラス基板を変形させた荷重(力)を除去した後、短時間で元の形状に戻ることができるガラス基板、磁気記録媒体であることを示す。   Therefore, the smaller the value of the pseudoelastic deformation amount A, the more the glass substrate or magnetic recording medium that can return to its original shape in a short time after removing the load (force) that deformed the glass substrate. .

擬弾性変形量Aを測定する際に、ガラス基板に荷重を48時間加えているのは、本発明の発明者らの検討によると、ガラス基板の組成によらずガラス基板に荷重を加える時間が16時間程度で平坦度の変化が飽和してきていることが確認された。このため、平坦度の変化が飽和し、それ以上長く荷重をかけても平坦度の変化が起きない時間という観点から48時間としている。   When measuring the pseudoelastic deformation amount A, the load is applied to the glass substrate for 48 hours, according to the study of the inventors of the present invention, the time for applying the load to the glass substrate regardless of the composition of the glass substrate. It was confirmed that the change in flatness was saturated in about 16 hours. For this reason, the change in flatness is saturated, and the time is set to 48 hours from the viewpoint that the change in flatness does not occur even when a load is applied for a longer time.

荷重を取り除いた後5時間後の平坦度を比較の対象としているのは、磁性層成膜工程や、磁気記録媒体保持工程等を行い、磁気記録媒体を製造した後、サーボ情報を書き込むまでの間に磁気記録媒体をハードディスクに組み込むハードディスク組み込み工程等行う。こため、通常、磁気記録媒体を製造した後、すなわち、磁性層成膜工程後、または、磁気記録媒体保持工程で形成した梱包を開封した後、サーボ情報を書き込むまで少なくとも5〜12時間程度かかるためである。   The flatness after 5 hours after removing the load is the target of comparison. After the magnetic recording medium is manufactured, the magnetic recording medium holding process, etc. are performed, and the servo information is written. In the meantime, a hard disk assembling step for incorporating the magnetic recording medium into the hard disk is performed. For this reason, it usually takes at least 5 to 12 hours to write servo information after the magnetic recording medium is manufactured, that is, after the magnetic layer deposition process or after opening the package formed in the magnetic recording medium holding process. Because.

本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板の擬弾性変形量Aが上記範囲の場合、ガラス基板(磁気記録媒体)が座屈変形や曲げ変形等の変形をした場合でも、ガラス基板、磁気記録媒体が短時間で元の形状に戻れることを示している。また、さらに時間経過により変位する場合でもその変位幅は、擬弾性変形量Aの値以下となり、平坦度の変位の幅が小さいことを示している。このため、擬弾性変形量Aが上記範囲を有することによりサーボ情報を書き込み後の変位幅は小さくなりエラーの発生をより抑制することが可能になる。   When the pseudo-elastic deformation amount A of the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment is in the above range, even when the glass substrate (magnetic recording medium) is deformed such as buckling deformation or bending deformation, the glass substrate, magnetic It shows that the recording medium can return to its original shape in a short time. Further, even when the displacement is caused by the passage of time, the displacement width is equal to or less than the value of the pseudoelastic deformation amount A, indicating that the displacement width of the flatness is small. For this reason, when the pseudo elastic deformation amount A has the above range, the displacement width after writing the servo information becomes small, and it becomes possible to further suppress the occurrence of an error.

磁気記録媒体のガラス基板において、擬弾性変形量Aは1.5μm以下であることがより好ましく、1.0μm以下であることがさらに好ましく、0.4μm以下であることが特に好ましい。   In the glass substrate of the magnetic recording medium, the pseudoelastic deformation amount A is more preferably 1.5 μm or less, further preferably 1.0 μm or less, and particularly preferably 0.4 μm or less.

また、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板において、ガラス基板直径方向の両端部を下面側から支持し、ガラス基板の中央部(中心を含む中央領域)上面に荷重を48時間加えた後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、荷重を取り除いた後48時間経過時の平坦度との差の絶対値を擬弾性変形量Bとする。この場合に、ガラス基板は擬弾性変形量Bが1.5μm以下であることが好ましい。   Further, in the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment, both end portions in the glass substrate diameter direction are supported from the lower surface side, and a load is applied to the upper surface of the central portion (central region including the center) of the glass substrate for 48 hours. The absolute value of the difference between the flatness after 5 hours after removing the load and the flatness after 48 hours after removing the load is defined as a pseudoelastic deformation amount B. In this case, the glass substrate preferably has a pseudoelastic deformation amount B of 1.5 μm or less.

擬弾性変形量Bは具体的には例えば以下のようにして算出することができる。まず、ガラス基板の対向する2箇所に設けられた弦と円弧によって囲まれ、弦と円弧との間の距離の最大値はガラス基板の直径の2.3%〜7.7%の長さである、直径方向の両端部を下面側から支持する。ガラス基板の直径の35〜80%の長さの幅であり、該幅方向の中心線はガラス基板の中心を通り、弦と平行であるガラス基板の中央領域上面に、(ガラス基板の主平面の面積)mm×2.28mN/mmにより計算される荷重を48時間加える。その後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、荷重を取り除いた後48時間経過時の平坦度との差の絶対値を擬弾性変形量Bとすることができる。 Specifically, the pseudoelastic deformation amount B can be calculated as follows, for example. First, it is surrounded by a string and an arc provided at two opposing positions on the glass substrate, and the maximum distance between the string and the arc is 2.3% to 7.7% of the diameter of the glass substrate. A certain diametrical both ends are supported from the lower surface side. The width is 35 to 80% of the diameter of the glass substrate, and the center line in the width direction passes through the center of the glass substrate and is on the upper surface of the central region of the glass substrate parallel to the chord (the main plane of the glass substrate The load calculated by mm 2 × 2.28 mN / mm 2 is applied for 48 hours. Thereafter, the load is removed, and the absolute value of the difference between the flatness after the lapse of 5 hours after the removal of the load and the flatness after the lapse of 48 hours after the removal of the load can be set as the pseudoelastic deformation amount B.

擬弾性変形量Bは、荷重を除去してから5時間経過時から48時間経過時の間の平坦度の変化量を意味している。このため、その値が小さいほど、荷重を除去して5時間経過時からの平坦度の変化量が小さいことを意味している。   The pseudo-elastic deformation amount B means the amount of change in flatness between the lapse of 5 hours and the lapse of 48 hours after the load is removed. For this reason, it means that the smaller the value is, the smaller the amount of change in flatness after 5 hours after removing the load.

従って、擬弾性変形量Bが上記規定を満たすことによって、例えば荷重を除去してから5時間後にサーボ情報を書き込んだ場合、その後の平坦度の変化が小さい、すなわちガラス基板(磁気記録媒体)の変位量が小さいこととなる。このため、書き込んだサーボ情報の位置がずれることを防止し、エラーの発生率をより抑制することが可能になる。   Accordingly, if the pseudo-elastic deformation amount B satisfies the above-mentioned definition, for example, when servo information is written 5 hours after the load is removed, the subsequent flatness change is small, that is, the glass substrate (magnetic recording medium) The amount of displacement will be small. For this reason, it is possible to prevent the position of the written servo information from shifting and to further suppress the error occurrence rate.

擬弾性変形量Bの値としては、サーボ情報を書き込んだ後、データの読み取り、書き込みを行う際に許容される変形量であればよく特に限定されないが、上記のように1.5μm以下であることが好ましい。擬弾性変形量Bとしては、1.0μm以下であることがより好ましく、0.5μm以下であることがより好ましく、0.4μm以下であることが特に好ましい。   The value of the pseudo-elastic deformation amount B is not particularly limited as long as it is a deformation amount allowed when data is read and written after servo information is written, but is 1.5 μm or less as described above. It is preferable. The pseudoelastic deformation amount B is more preferably 1.0 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, and particularly preferably 0.4 μm or less.

さらに、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板において、ガラス基板の直径方向の両端部を下面側から支持し、ガラス基板の中央部(中心を含む中央領域)上面に荷重を48時間加えた後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後、5時間経過時の平坦度を擬弾性変形量Cとする。この場合に、ガラス基板は擬弾性変形量Cが2.5μm以下であることが好ましく、2.0μm以下であることが好ましく、1.5μm以下であることが好ましく、1.0μm以下であることがより好ましい。   Further, in the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment, both ends in the diameter direction of the glass substrate are supported from the lower surface side, and a load is applied to the upper surface of the central portion (central region including the center) of the glass substrate for 48 hours. After removing the load, the flatness after the lapse of 5 hours is defined as a pseudoelastic deformation amount C after the load is removed. In this case, the glass substrate preferably has a pseudoelastic deformation amount C of 2.5 μm or less, preferably 2.0 μm or less, preferably 1.5 μm or less, and 1.0 μm or less. Is more preferable.

擬弾性変形量Cは具体的には例えば以下のようにして算出することができる。まず、ガラス基板の対向する2箇所に設けられた弦と円弧によって囲まれ、弦と円弧との間の距離の最大値はガラス基板の直径の2.3%〜7.7%の長さである、直径方向の両端部を下面側から支持する。そしてガラス基板の直径の35〜80%の長さの幅であり、該幅方向の中心線はガラス基板の中心を通り、弦と平行であるガラス基板の中央領域上面に、(ガラス基板の主平面の面積)mm×2.28mN/mmにより計算される荷重を48時間加える。その後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後、5時間経過時の平坦度を擬弾性変形量Cとすることができる。 Specifically, the pseudoelastic deformation amount C can be calculated as follows, for example. First, it is surrounded by a string and an arc provided at two opposing positions on the glass substrate, and the maximum distance between the string and the arc is 2.3% to 7.7% of the diameter of the glass substrate. A certain diametrical both ends are supported from the lower surface side. The glass substrate has a width of 35 to 80% of the diameter of the glass substrate, and the center line in the width direction passes through the center of the glass substrate and is placed on the upper surface of the central region of the glass substrate parallel to the chord (main glass substrate). The area calculated by plane area) mm 2 × 2.28 mN / mm 2 is applied for 48 hours. Thereafter, the load is removed, and after removing the load, the flatness after the lapse of 5 hours can be set as the pseudoelastic deformation amount C.

擬弾性変形量Cは、その値が小さいほど荷重除去後5時間経過時における平坦度が小さいことを示している。係るパラメータを充足するガラス基板は、荷重を48時間加えているにもかかわらず、変形量が少ないことおよび/または荷重を除去してから5時間で平坦度が回復していることを示している。このため、荷重除去後5時間経過時にサーボ情報を書き込んだとしても、ガラス基板のその後の変形量は小さく、エラーの発生率をより抑制することが可能になる。   The pseudoelastic deformation amount C indicates that the smaller the value is, the smaller the flatness is after 5 hours have elapsed after the load is removed. A glass substrate that satisfies such parameters shows that although the load is applied for 48 hours, the deformation is small and / or the flatness is restored in 5 hours after the load is removed. . For this reason, even if servo information is written when five hours have elapsed after the load is removed, the subsequent deformation amount of the glass substrate is small, and the error rate can be further suppressed.

ここまで説明した擬弾性変形量A〜Cの測定方法について図3、4を用いて説明する。   A method for measuring the pseudoelastic deformation amounts A to C described so far will be described with reference to FIGS.

なお、以下の説明、図3において各時間での平坦度はF(xh)のように表わす。式中xは、荷重を取り除いた時点を基準(0h)とし、荷重を取り除いてからの経過時間を示している。また、荷重を取り除く前の時間はマイナスで表わされる。このため、例えば、F(−48h)とは、荷重を取り除く48時間前、すなわち荷重を加える前のガラス基板の平坦度を示している。   In the following description and FIG. 3, the flatness at each time is expressed as F (xh). In the equation, x represents the elapsed time since the load was removed, with the time when the load was removed as the reference (0h). Also, the time before the load is removed is represented by a minus value. Therefore, for example, F (−48h) indicates the flatness of the glass substrate 48 hours before removing the load, that is, before applying the load.

まず、擬弾性変形量測定フローについて、図3を用いて説明する。   First, the pseudo-elastic deformation measurement flow will be described with reference to FIG.

測定は、図3に示すように、まず、荷重を加える前に、ガラス基板の平坦度F(−48h)を測定する(図3中(1)の点)。その後、ガラス基板に後述する方法により、48時間荷重を加える。これは、本発明者らの検討によるといずれのガラス基板においても荷重を加えてから16時間程度で平坦度の変化が飽和することが確認されたためである。このため、平坦度の変化が飽和し、それ以上長く荷重をかけても平坦度の変化が起きない時間という観点から48時間としている。   As shown in FIG. 3, first, before applying a load, the flatness F (−48 h) of the glass substrate is measured (point (1) in FIG. 3). Thereafter, a load is applied to the glass substrate by a method described later for 48 hours. This is because according to the study by the present inventors, it was confirmed that the change in flatness was saturated in about 16 hours after applying a load on any glass substrate. For this reason, the change in flatness is saturated, and the time is set to 48 hours from the viewpoint that the change in flatness does not occur even when a load is applied for a longer time.

48時間経過後荷重を取り除き(図3中(2)の点)、荷重を取り除いた後5時間経過したときに平坦度を再度測定して(図3中(3)の点)これをF(5h)とした。これは、上述のように、一般的に、磁性層成膜工程や、磁気記録媒体保持工程で形成した梱包を開封した後5〜12時間程度してからサーボ情報の書き込みが行われているためである。   The load was removed after 48 hours (point (2) in FIG. 3), and the flatness was measured again when 5 hours passed after the load was removed (point (3) in FIG. 3). 5h). This is because, as described above, servo information is generally written after about 5 to 12 hours after opening the package formed in the magnetic layer forming step or the magnetic recording medium holding step. It is.

また、荷重を取り除いた後、48時間経過したときの平坦度を測定して(図3中(4)の点)これをF(48h)とした。これは、一般的なハードディスクドライブの組立工程において、磁性層成膜工程や、磁気記録媒体保持工程で形成した梱包を開封後48時間程度経過した時点でリード・ライトテストを行うためである。   Further, after removing the load, the flatness when 48 hours passed was measured (point (4) in FIG. 3), and this was defined as F (48h). This is because, in a general hard disk drive assembly process, a read / write test is performed when about 48 hours have elapsed after opening the package formed in the magnetic layer deposition process or the magnetic recording medium holding process.

そして、擬弾性変形量Aは上記のように、荷重を加える前の平坦度F(−48h)と、荷重を取り除いた後5時間経過した時の平坦度との差の絶対値により算出され、以下の式で表わされる。   Then, as described above, the pseudoelastic deformation amount A is calculated by the absolute value of the difference between the flatness F (−48 h) before the load is applied and the flatness when 5 hours have elapsed after the load is removed, It is represented by the following formula.

(擬弾性変形量A)=|F(5h)−F(−48h)|
擬弾性変形量Aの値が小さいほど、荷重を加えることによって生じた変形から元のガラス基板の形状(平坦度)に戻っていることを示している。
(Pseudoelastic deformation amount A) = | F (5h) −F (−48h) |
It shows that the smaller the value of the pseudoelastic deformation amount A is, the more the shape (flatness) is restored from the deformation caused by applying the load.

また、擬弾性変形量Bは上記のように荷重を取り除いた後5時間経過した時の平坦度と、48時間経過した時の平坦度の差の絶対値により算出され、以下の式で表わされる。   The pseudoelastic deformation amount B is calculated by the absolute value of the difference between the flatness when 5 hours have elapsed after removing the load as described above and the flatness when 48 hours have elapsed, and is expressed by the following equation. .

(擬弾性変形量B)=|F(5h)−F(48h)|
擬弾性変形量Cは、荷重を除去した後5時間経過した時の平坦度を表わしている。このため、以下の式で表わされる。
(Pseudoelastic deformation amount B) = | F (5h) −F (48h) |
The pseudoelastic deformation amount C represents the flatness when 5 hours have elapsed after the load is removed. For this reason, it is represented by the following formula.

(擬弾性変形量C)=F(5h)
ガラス基板の平坦度を測定する手段については特に限定されるものではなく、例えば位相測定干渉法(フェイズシフト法)により測定を行うことができる。
(Pseudoelastic deformation amount C) = F (5 h)
The means for measuring the flatness of the glass substrate is not particularly limited, and for example, measurement can be performed by a phase measurement interferometry (phase shift method).

次に、擬弾性変形量を測定する際の、ガラス基板に荷重を加える方法について以下に説明する。   Next, a method for applying a load to the glass substrate when measuring the amount of pseudoelastic deformation will be described below.

ガラス基板に荷重を加える際には、ガラス基板の対向する直径方向の両端部を下面側から支持し、ガラス基板の中心を含む中央部にガラス基板の上面から垂直下方に荷重を加えることにより行う。   When applying a load to the glass substrate, both ends in the diametrical direction facing the glass substrate are supported from the lower surface side, and the load is applied vertically downward from the upper surface of the glass substrate to the central portion including the center of the glass substrate. .

具体的な例について、図4を用いて説明する。   A specific example will be described with reference to FIG.

図4は擬弾性変形量を測定するために、ガラス基板43に荷重45を加えている構成例を示したものであり、図4(A)は横側面図、図4(B)は上面図をそれぞれ示したものである。   FIG. 4 shows a configuration example in which a load 45 is applied to the glass substrate 43 in order to measure the amount of pseudoelastic deformation. FIG. 4 (A) is a lateral side view, and FIG. 4 (B) is a top view. Is shown respectively.

図4にあるように、ガラス基板43の両端部を支持するためV字ブロック41を用い、その上にガラス基板43、荷重(重石)45を配置してガラス基板43に荷重を加える。   As shown in FIG. 4, a V-shaped block 41 is used to support both ends of the glass substrate 43, and a glass substrate 43 and a load (heavy stone) 45 are arranged thereon to apply a load to the glass substrate 43.

V字ブロック41はその中央部にV字状の切り込み部42を有している。そして、V字状の切り込み部42を覆うようにガラス基板43を配置することによりガラス基板43の両端部44のみを下面側から支持することができるように構成されている。なお、ガラス基板43を支持する部材としては、V字ブロックに限定されるものではなく、ガラス基板43の両端部44を支持できるものであればよい。例えば四角柱形状のブロック2つを所定の間隔を空けて、ガラス基板43の両端部分44を支持できるように配置したものでもよい。   The V-shaped block 41 has a V-shaped cutout 42 at the center thereof. And it arrange | positions so that the both ends 44 of the glass substrate 43 can be supported from the lower surface side by arrange | positioning the glass substrate 43 so that the V-shaped cut | notch part 42 may be covered. The member that supports the glass substrate 43 is not limited to the V-shaped block, and any member that can support both end portions 44 of the glass substrate 43 may be used. For example, two rectangular column shaped blocks may be arranged so as to support both end portions 44 of the glass substrate 43 with a predetermined interval.

この場合、V字ブロックと接触し、ガラス基板43を支持する直径方向の両端2箇所に設けられた両端部(支持部)44は、それぞれ弦441、442と円弧によって囲まれている。そして、弦441と弦442はV字ブロックの切り込み部の端部であり、平行になっている。そして、弦と円弧の間の距離の最大値、すなわち、図4中のW1はそれぞれ、例えばガラス基板43の直径の2.3%〜7.7%の長さとすることが好ましく、直径の4.0%〜6.0%とすることがより好ましい。これは、支持する部分の範囲が狭すぎると、荷重を加えた場合にガラス基板43がずれ落ちて破損する恐れがあるためであり、広すぎると、荷重部分との間の距離が短くなり、平坦度の変化が出にくくなり、測定の分解能が低くなるためである。   In this case, both end portions (support portions) 44 that are in contact with the V-shaped block and are provided at two diametrical ends that support the glass substrate 43 are surrounded by strings 441 and 442 and arcs, respectively. The strings 441 and 442 are the end portions of the cut portion of the V-shaped block and are parallel to each other. Then, the maximum value of the distance between the chord and the arc, that is, W1 in FIG. 4 is preferably set to a length of 2.3% to 7.7% of the diameter of the glass substrate 43, for example. More preferably, the content is set to 0.0% to 6.0%. This is because if the range of the portion to be supported is too narrow, the glass substrate 43 may slip off and be damaged when a load is applied. If it is too wide, the distance between the load portion will be shortened, This is because the flatness hardly changes and the resolution of measurement is lowered.

荷重については、ガラス基板43の中心を含む中央部に荷重を加えることができればよく、特にその配置、荷重の大きさについて限定されるものではない。   The load is not particularly limited as long as the load can be applied to the central portion including the center of the glass substrate 43, and the arrangement and the magnitude of the load are not particularly limited.

例えば図4に示すように、ガラス基板43の中央部に直方体の荷重(重石)を配置することによって行うことができる。この場合、荷重はガラス基板43を支持する両端部を構成する弦441、442と平行になるように配置することが好ましい。また、荷重は図4(B)に示すように、弦441、442と平行な中心線から一定の距離の幅(範囲)のガラス基板43を全て覆うように配置することが好ましい。例えば荷重(重石)として、その幅すなわち、図4中のW2の長さがガラス基板43の直径の35%〜80%である直方体を好ましく用いることができ、35%〜50%のものをより好ましく使用することができる。   For example, as shown in FIG. 4, it can be performed by placing a rectangular parallelepiped load (weight) in the center of the glass substrate 43. In this case, it is preferable that the load be arranged so as to be parallel to the strings 441 and 442 constituting both end portions supporting the glass substrate 43. Further, as shown in FIG. 4B, the load is preferably arranged so as to cover the entire glass substrate 43 having a width (range) of a certain distance from the center line parallel to the strings 441 and 442. For example, a rectangular parallelepiped whose width, that is, the length of W2 in FIG. 4 is 35% to 80% of the diameter of the glass substrate 43 can be preferably used as the load (weight), and more than 35% to 50%. It can be preferably used.

これは、例えば荷重を加える範囲が狭すぎる場合、荷重が狭い範囲に集中する、荷重が不安定となり転倒する、などによってガラス基板43を破損する恐れがあるためであり、荷重を加える範囲が広すぎる場合、支持している両端部との間の距離が狭くなり、平坦度の変化が出にくくなり、測定の分解能が低くなるためである。   This is because, for example, when the range to which the load is applied is too narrow, the glass substrate 43 may be damaged due to the load being concentrated in a narrow range, the load becoming unstable and falling, and the range to which the load is applied is wide. This is because if the distance is too large, the distance between the two supporting end portions becomes narrow, the flatness hardly changes, and the measurement resolution becomes low.

荷重(重石)の縦方向の長さとしては、上記のようにガラス基板43の直径と同じ長さ、または、それ以上の長さであることが好ましい。   The length of the load (heavy stone) in the vertical direction is preferably the same length as the diameter of the glass substrate 43 as described above, or a length longer than that.

荷重の重さとしても特に限定されるものではなく、擬弾性による変形が十分に起こり、かつガラス基板43を破損しない範囲であれば良く、用いるガラス基板43の面積や強度等に応じて選択することができる。   The weight of the load is not particularly limited as long as it is within a range in which deformation due to pseudoelasticity occurs sufficiently and the glass substrate 43 is not damaged, and is selected according to the area and strength of the glass substrate 43 to be used. be able to.

例えば、ガラス基板43の主平面の面積1mmあたり、0.233gf(2.28mN)の荷重になるように選択することができる。すなわち、((磁気記録媒体用)ガラス基板の主平面の面積)mm×0.233gf/mm(2.28mN/mm)により計算される荷重を加えることができる。例えば、外径が65mm、内径(中央部の円孔の直径)が20mmのガラス基板(2.5インチのガラス基板)の場合、700gf(6.86N)の荷重をガラス基板43の中央部上面に加えることになる。 For example, the load can be selected to be 0.233 gf (2.28 mN) per 1 mm 2 of the main plane area of the glass substrate 43. That is, a load calculated by (area of main plane of glass substrate (for magnetic recording medium)) mm 2 × 0.233 gf / mm 2 (2.28 mN / mm 2 ) can be applied. For example, in the case of a glass substrate (2.5 inch glass substrate) having an outer diameter of 65 mm and an inner diameter (diameter of the circular hole in the central portion) of 20 mm, a load of 700 gf (6.86 N) is applied to the upper surface of the central portion of the glass substrate 43. Will be added to.

なお、ガラス基板に加わる力(荷重)は同じでも、ガラス基板の板厚が薄くなれば座屈変形、曲げ変形とも応力としては大きくなるため、より局所的な変形が起こりやすくなる。このような場合においては本実施形態で開示した磁気記録媒体がより有効に機能することになる。たとえば断面が矩形の角柱の単純はりの両端を保持し中央に一定荷重とした際の中央部のたわみ量dは以下の式で与えられる。   Even if the force (load) applied to the glass substrate is the same, if the plate thickness of the glass substrate is reduced, both the buckling deformation and the bending deformation increase as stress, so that local deformation is more likely to occur. In such a case, the magnetic recording medium disclosed in the present embodiment functions more effectively. For example, the deflection amount d of the central portion when both ends of a simple beam of a rectangular column having a rectangular cross section are held at the center and given a constant load is given by the following equation.

d=(PL)/(48EI)
P:中心荷重 L:はりの長さ E:材料のヤング率
I=断面二次モーメント=(bh)/12 b:角柱の幅 h:厚み
このため遅延復元変形量もガラス基板の厚みの3乗に反比例し、厚みが薄くなるほど著しく遅延復元変形量が大きくなる可能性がある。しかし、本実施形態の磁気記録媒体によれば、ガラス基板の板厚が薄い場合でも、サーボ情報書き込むまでに変位を終え、またはほぼ終えた状態となる。
d = (PL 3 ) / (48EI)
P: center load L: length of beam E: Young's modulus of material I = second moment of section = (bh 3 ) / 12 b: width of prism h: thickness Therefore, the amount of delayed recovery deformation is also 3 of the thickness of the glass substrate There is a possibility that the amount of delayed restoration deformation increases remarkably as the thickness is reduced in inverse proportion to the power. However, according to the magnetic recording medium of the present embodiment, even when the glass substrate is thin, the displacement is finished or almost finished before the servo information is written.

以上、本実施形態の磁気記録媒体について説明してきたが、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板に力(荷重)が加わり、変形した場合でもサーボ情報を書き込むまでにガラス基板(磁気記録媒体)は力(荷重)を除去した後の復原力による変位を終え、または、ほぼ終えた状態となる。従って、サーボ情報を書き込んだ後のガラス基板は変位しない、または、変位の程度が軽微となり、書き込んだサーボ情報の位置がずれることを防止し、エラーの発生率を抑制することができる。
[第2の実施形態]
本実施形態の磁気記録媒体の構成例について説明を行う。
The magnetic recording medium of the present embodiment has been described above. However, even when a force (load) is applied to the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment and deformed, the glass substrate (magnetic recording The medium is in a state where the displacement due to the restoring force after removing the force (load) is finished or almost finished. Therefore, the glass substrate after the servo information is written is not displaced, or the degree of displacement is small, and the position of the written servo information is prevented from shifting, and the error rate can be suppressed.
[Second Embodiment]
A configuration example of the magnetic recording medium of the present embodiment will be described.

本実施形態の磁気記録媒体は、ガラス基板上に磁性層が成膜されたサーボ情報書き込み用の磁気記録媒体である。そして、該磁気記録媒体に含まれるガラス基板の擬弾性変形量Aが2.0μm以下となっていることが好ましい。なお、擬弾性変形量Aの下限値は0μmとなる。これは、後述する擬弾性変形量B、擬弾性変形量Cについても同様のことがいえる。   The magnetic recording medium of this embodiment is a servo information writing magnetic recording medium in which a magnetic layer is formed on a glass substrate. The pseudo elastic deformation amount A of the glass substrate included in the magnetic recording medium is preferably 2.0 μm or less. The lower limit value of the pseudoelastic deformation amount A is 0 μm. The same can be said for the pseudoelastic deformation amount B and the pseudoelastic deformation amount C described later.

ここで擬弾性変形量Aとは、該磁気記録媒体に含まれるガラス基板の直径方向の両端部を下面側から支持し、ガラス基板の中央部上面に荷重を48時間加えた後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、荷重を加える前の平坦度との差の絶対値を意味する。   Here, the pseudoelastic deformation amount A means that both ends in the diameter direction of the glass substrate included in the magnetic recording medium are supported from the lower surface side, and the load is removed after the load is applied to the upper surface of the central portion of the glass substrate for 48 hours. It means the absolute value of the difference between the flatness when 5 hours have elapsed after removing the load and the flatness before applying the load.

特に、擬弾性変形量Aは具体的には例えば以下のようにして算出することができる。まず、ガラス基板の対向する2箇所に設けられた弦と円弧によって囲まれ、弦と円弧との間の距離の最大値はガラス基板の直径の2.3%〜7.7%の長さである、直径方向の両端部を下面側から支持する。そして、ガラス基板の直径の35〜80%の長さの幅であり、該幅方向の中心線はガラス基板の中心を通り、弦と平行であるガラス基板の中央領域上面に、(ガラス基板の主平面の面積)mm×2.28mN/mmにより計算される荷重を48時間加える。その後、荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、荷重を加える前の平坦度との差の絶対値を擬弾性変形量Aとすることができる。 In particular, the pseudoelastic deformation amount A can be specifically calculated as follows, for example. First, it is surrounded by a string and an arc provided at two opposing positions on the glass substrate, and the maximum distance between the string and the arc is 2.3% to 7.7% of the diameter of the glass substrate. A certain diametrical both ends are supported from the lower surface side. Then, the width is 35 to 80% of the diameter of the glass substrate, and the center line in the width direction passes through the center of the glass substrate and is on the upper surface of the central region of the glass substrate that is parallel to the string (of the glass substrate). The area calculated by the area of the main plane) mm 2 × 2.28 mN / mm 2 is applied for 48 hours. Thereafter, the load is removed, and the absolute value of the difference between the flatness after 5 hours from the removal of the load and the flatness before the load is applied can be defined as the pseudoelastic deformation amount A.

従って、擬弾性変形量Aの値が小さいほど、磁気記録媒体(ガラス基板)を変形させた荷重(力)を除去した後、短時間で元の形状に戻ることができる磁気記録媒体であることを示す。   Therefore, the smaller the value of the pseudoelastic deformation amount A, the more the magnetic recording medium can return to its original shape in a short time after removing the load (force) that deformed the magnetic recording medium (glass substrate). Indicates.

擬弾性変形量Aを測定する際に、ガラス基板に荷重を48時間加えているのは、本発明の発明者らの検討によると、ガラス基板の組成によらずガラス基板に荷重を加える時間が16時間程度で平坦度の変化が飽和してきていることが確認された。このため、平坦度の変化が飽和し、それ以上長く荷重をかけても平坦度の変化が起きない時間という観点から48時間としている。   When measuring the pseudoelastic deformation amount A, the load is applied to the glass substrate for 48 hours, according to the study of the inventors of the present invention, the time for applying the load to the glass substrate regardless of the composition of the glass substrate. It was confirmed that the change in flatness was saturated in about 16 hours. For this reason, the change in flatness is saturated, and the time is set to 48 hours from the viewpoint that the change in flatness does not occur even when a load is applied for a longer time.

荷重を取り除いた後5時間後の平坦度を比較の対象としているのは、磁性層成膜工程や、磁気記録媒体保持工程等を行い、磁気記録媒体を製造した後、サーボ情報を書き込むまでの間に磁気記録媒体をハードディスクに組み込むハードディスク組み込み工程等行う。こため、通常、磁気記録媒体を製造した後、すなわち、磁性層成膜工程後、または、磁気記録媒体保持工程で形成した梱包を開封した後、サーボ情報を書き込むまで少なくとも5〜12時間程度かかるためである。   The flatness after 5 hours after removing the load is the target of comparison. After the magnetic recording medium is manufactured, the magnetic recording medium holding process, etc. are performed, and the servo information is written. In the meantime, a hard disk assembling step for incorporating the magnetic recording medium into the hard disk is performed. For this reason, it usually takes at least 5 to 12 hours to write servo information after the magnetic recording medium is manufactured, that is, after the magnetic layer deposition process or after opening the package formed in the magnetic recording medium holding process. Because.

本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板の擬弾性変形量Aが上記範囲の場合、ガラス基板(磁気記録媒体)が座屈変形や曲げ変形等の変形をした場合でも、ガラス基板、磁気記録媒体が短時間で元の形状に戻れることを示している。また、さらに時間経過により変位する場合でもその変位幅は、擬弾性変形量Aの値以下となり、平坦度の変位の幅が小さいことを示している。このため、擬弾性変形量Aが上記範囲を有することによりサーボ情報を書き込み後の変位幅は小さくなりエラーの発生をより抑制することが可能になる。   When the pseudo-elastic deformation amount A of the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment is in the above range, even when the glass substrate (magnetic recording medium) is deformed such as buckling deformation or bending deformation, the glass substrate, magnetic It shows that the recording medium can return to its original shape in a short time. Further, even when the displacement is caused by the passage of time, the displacement width is equal to or less than the value of the pseudoelastic deformation amount A, indicating that the displacement width of the flatness is small. For this reason, when the pseudo elastic deformation amount A has the above range, the displacement width after writing the servo information becomes small, and it becomes possible to further suppress the occurrence of an error.

磁気記録媒体のガラス基板において、擬弾性変形量Aは1.5μm以下であることがより好ましく、1.0μm以下であることがさらに好ましく、0.4μm以下であることが特に好ましい。   In the glass substrate of the magnetic recording medium, the pseudoelastic deformation amount A is more preferably 1.5 μm or less, further preferably 1.0 μm or less, and particularly preferably 0.4 μm or less.

また、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板において、ガラス基板直径方向の両端部を下面側から支持し、ガラス基板の中央部(中心を含む中央領域)上面に荷重を48時間加えた後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、荷重を取り除いた後48時間経過時の平坦度との差の絶対値を擬弾性変形量Bとする。この場合に、ガラス基板は擬弾性変形量Bが1.5μm以下であることが好ましい。   Further, in the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment, both end portions in the glass substrate diameter direction are supported from the lower surface side, and a load is applied to the upper surface of the central portion (central region including the center) of the glass substrate for 48 hours. The absolute value of the difference between the flatness after 5 hours after removing the load and the flatness after 48 hours after removing the load is defined as a pseudoelastic deformation amount B. In this case, the glass substrate preferably has a pseudoelastic deformation amount B of 1.5 μm or less.

擬弾性変形量Bは具体的には例えば以下のようにして算出することができる。まず、ガラス基板の対向する2箇所に設けられた弦と円弧によって囲まれ、弦と円弧との間の距離の最大値はガラス基板の直径の2.3%〜7.7%の長さである、直径方向の両端部を下面側から支持する。ガラス基板の直径の35〜80%の長さの幅であり、該幅方向の中心線はガラス基板の中心を通り、弦と平行であるガラス基板の中央領域上面に、(ガラス基板の主平面の面積)mm×2.28mN/mmにより計算される荷重を48時間加える。その後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、荷重を取り除いた後48時間経過時の平坦度との差の絶対値を擬弾性変形量Bとすることができる。 Specifically, the pseudoelastic deformation amount B can be calculated as follows, for example. First, it is surrounded by a string and an arc provided at two opposing positions on the glass substrate, and the maximum distance between the string and the arc is 2.3% to 7.7% of the diameter of the glass substrate. A certain diametrical both ends are supported from the lower surface side. The width is 35 to 80% of the diameter of the glass substrate, and the center line in the width direction passes through the center of the glass substrate and is on the upper surface of the central region of the glass substrate parallel to the chord (the main plane of the glass substrate The load calculated by mm 2 × 2.28 mN / mm 2 is applied for 48 hours. Thereafter, the load is removed, and the absolute value of the difference between the flatness after the lapse of 5 hours after the removal of the load and the flatness after the lapse of 48 hours after the removal of the load can be set as the pseudoelastic deformation amount B.

擬弾性変形量Bは、荷重を除去してから5時間経過時から48時間経過時の間の平坦度の変化量を意味している。このため、その値が小さいほど、荷重を除去して5時間経過時からの平坦度の変化量が小さいことを意味している。   The pseudo-elastic deformation amount B means the amount of change in flatness between the lapse of 5 hours and the lapse of 48 hours after the load is removed. For this reason, it means that the smaller the value is, the smaller the amount of change in flatness after 5 hours after removing the load.

従って、擬弾性変形量Bが上記規定を満たすことによって、例えば荷重を除去してから5時間後にサーボ情報を書き込んだ場合、その後の平坦度の変化が小さい、すなわち磁気記録媒体(ガラス基板)の変位量が小さいこととなる。このため、書き込んだサーボ情報の位置がずれることを防止し、エラーの発生率をより抑制することが可能になる。   Therefore, when the pseudo-elastic deformation amount B satisfies the above-mentioned definition, for example, when servo information is written 5 hours after the load is removed, the change in flatness after that is small, that is, the magnetic recording medium (glass substrate) The amount of displacement will be small. For this reason, it is possible to prevent the position of the written servo information from shifting and to further suppress the error occurrence rate.

擬弾性変形量Bの値としては、サーボ情報を書き込んだ後、データの読み取り、書き込みを行う際に許容される変形量であればよく特に限定されないが、上記のように1.5μm以下であることが好ましい。擬弾性変形量Bとしては、1.0μm以下であることがより好ましく、0.5μm以下であることがより好ましく、0.4μm以下であることが特に好ましい。   The value of the pseudo-elastic deformation amount B is not particularly limited as long as it is a deformation amount allowed when data is read and written after servo information is written, but is 1.5 μm or less as described above. It is preferable. The pseudoelastic deformation amount B is more preferably 1.0 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, and particularly preferably 0.4 μm or less.

さらに、本実施形態の磁気記録媒体に含まれるガラス基板において、ガラス基板の直径方向の両端部を下面側から支持し、ガラス基板の中央部(中心を含む中央領域)上面に荷重を48時間加えた後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後、5時間経過時の平坦度を擬弾性変形量Cとする。この場合に、ガラス基板は擬弾性変形量Cが2.5μm以下であることが好ましく、2.0μm以下であることが好ましく、1.5μm以下であることが好ましく、1.0μm以下であることがより好ましい。   Further, in the glass substrate included in the magnetic recording medium of the present embodiment, both ends in the diameter direction of the glass substrate are supported from the lower surface side, and a load is applied to the upper surface of the central portion (central region including the center) of the glass substrate for 48 hours. After removing the load, the flatness after the lapse of 5 hours is defined as a pseudoelastic deformation amount C after the load is removed. In this case, the glass substrate preferably has a pseudoelastic deformation amount C of 2.5 μm or less, preferably 2.0 μm or less, preferably 1.5 μm or less, and 1.0 μm or less. Is more preferable.

擬弾性変形量Cは具体的には例えば以下のようにして算出することができる。まず、ガラス基板の対向する2箇所に設けられた弦と円弧によって囲まれ、弦と円弧との間の距離の最大値はガラス基板の直径の2.3%〜7.7%の長さである、直径方向の両端部を下面側から支持する。そしてガラス基板の直径の35〜80%の長さの幅であり、該幅方向の中心線はガラス基板の中心を通り、弦と平行であるガラス基板の中央領域上面に、(ガラス基板の主平面の面積)mm×2.28mN/mmにより計算される荷重を48時間加える。その後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後、5時間経過時の平坦度を擬弾性変形量Cとすることができる。 Specifically, the pseudoelastic deformation amount C can be calculated as follows, for example. First, it is surrounded by a string and an arc provided at two opposing positions on the glass substrate, and the maximum distance between the string and the arc is 2.3% to 7.7% of the diameter of the glass substrate. A certain diametrical both ends are supported from the lower surface side. The glass substrate has a width of 35 to 80% of the diameter of the glass substrate, and the center line in the width direction passes through the center of the glass substrate and is placed on the upper surface of the central region of the glass substrate parallel to the chord (main glass substrate). The area calculated by plane area) mm 2 × 2.28 mN / mm 2 is applied for 48 hours. Thereafter, the load is removed, and after removing the load, the flatness after the lapse of 5 hours can be set as the pseudoelastic deformation amount C.

擬弾性変形量Cは、その値が小さいほど荷重除去後5時間経過時における平坦度が小さいことを示している。係るパラメータを充足するガラス基板は、荷重を48時間加えているにもかかわらず、変形量が少ないことおよび/または荷重を除去してから5時間で平坦度が回復していることを示している。このため、荷重除去後5時間経過時にサーボ情報を書き込んだとしても、磁気記録媒体(ガラス基板)のその後の変形量は小さく、エラーの発生率をより抑制することが可能になる。   The pseudoelastic deformation amount C indicates that the smaller the value is, the smaller the flatness is after 5 hours have elapsed after the load is removed. A glass substrate that satisfies such parameters shows that although the load is applied for 48 hours, the deformation is small and / or the flatness is restored in 5 hours after the load is removed. . For this reason, even if the servo information is written when 5 hours have elapsed after the load is removed, the subsequent deformation amount of the magnetic recording medium (glass substrate) is small, and the error occurrence rate can be further suppressed.

ここまで説明した擬弾性変形量A〜Cの測定は、第1の実施形態で説明した擬弾性変形量A〜Cの測定方法と同様にして行うことができるため、ここでは説明を省略する。   Since the measurement of the pseudo elastic deformation amounts A to C described so far can be performed in the same manner as the measurement method of the pseudo elastic deformation amounts A to C described in the first embodiment, the description is omitted here.

以上、本実施形態の磁気記録媒体について説明してきたが、本実施形態の磁気記録媒体は、該磁気記録媒体に力(荷重)が加わり、変形した場合でもサーボ情報を書き込むまでに磁気記録媒体は力(荷重)を除去した後の復原力による変位を終え、または、ほぼ終えた状態となる。従って、サーボ情報を書き込んだ後の磁気記録媒体は変位しない、または、変位の程度が軽微となり、書き込んだサーボ情報の位置がずれることを防止し、エラーの発生率を抑制することができる。   The magnetic recording medium according to the present embodiment has been described above. However, the magnetic recording medium according to the present embodiment does not have the magnetic recording medium until the servo information is written even when a force (load) is applied to the magnetic recording medium and the magnetic recording medium is deformed. The displacement due to the restoring force after removing the force (load) is finished or almost finished. Therefore, the magnetic recording medium after the servo information is written does not displace or the degree of displacement becomes small, and the position of the written servo information can be prevented from shifting and the error rate can be suppressed.

以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Specific examples will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

[実験例1]
まず、以下の実施例、比較例において磁気記録媒体に用いるガラス基板の評価方法、及び、ガラス基板表面に磁性層などの薄膜を成膜した磁気記録媒体の評価方法について説明する。
(1)荷重除去直後の平坦度の荷重除去前の荷重印加時間依存性の評価
荷重除去前の荷重印加時間を変化させ、荷重(力)を除去した直後の平坦度の変化を評価した。
[Experiment 1]
First, an evaluation method of a glass substrate used for a magnetic recording medium in the following examples and comparative examples, and an evaluation method of a magnetic recording medium in which a thin film such as a magnetic layer is formed on the glass substrate surface will be described.
(1) Evaluation of dependence of flatness immediately after load removal on load application time before load removal The load application time before load removal was changed, and the change in flatness immediately after the load (force) was removed was evaluated.

ガラス基板に荷重(力)を加える方法について説明する。   A method for applying a load (force) to the glass substrate will be described.

まず、図4に示すように磁気記録媒体に用いるガラス基板43の両端部分をV字ブロック41により支持した
支持部分44は直径方向の両端に配置されており、2つの両端部(支持部)は弦441、442と(弦により切り取られた短い方の弧である)円弧によって囲まれており、2つの両端部は同一の形状になっている。そして、弦441、442と円弧の間の距離の最大値W1はガラス基板43の直径の5.4%(3.5mm)になるように配置した。
First, as shown in FIG. 4, support portions 44 in which both end portions of a glass substrate 43 used for a magnetic recording medium are supported by V-shaped blocks 41 are arranged at both ends in the diametrical direction, and two end portions (support portions) are It is surrounded by the strings 441 and 442 and an arc (which is the shorter arc cut by the string), and the two ends are identical in shape. The maximum distance W1 between the chords 441 and 442 and the circular arc is 5.4% (3.5 mm) of the diameter of the glass substrate 43.

次に、V字ブロック41によって支持された両端部分を構成する弦441、442と平行になるように、荷重45をガラス基板43の主平面上に配置した。本実施例では、荷重45のサイズとしては、その横幅、すなわち、図4中のW2がガラス基板43の直径の38.5%(25mm)であり、700gf(6.86N)である荷重を用いた。この場合、荷重45の幅方向の中心線がガラス基板43の中心を通るように配置する。   Next, a load 45 was placed on the main plane of the glass substrate 43 so as to be parallel to the strings 441 and 442 constituting both end portions supported by the V-shaped block 41. In this embodiment, as the size of the load 45, the width, that is, W2 in FIG. 4 is 38.5% (25 mm) of the diameter of the glass substrate 43, and a load of 700 gf (6.86 N) is used. It was. In this case, the load 45 is arranged so that the center line in the width direction passes through the center of the glass substrate 43.

また、縦方向については、図4に示したものと同様に荷重45の横幅の範囲全体に渡ってガラス基板43を完全に覆うよう、ガラス基板43の直径よりも長いものを用いた。   Further, in the vertical direction, the one longer than the diameter of the glass substrate 43 was used so as to completely cover the glass substrate 43 over the entire width range of the load 45 as in the case shown in FIG.

荷重時間による平坦度の変化の評価においては、荷重(力)を加える時間を変化させ、それによるガラス基板の平坦度の評価を行うため、各試料について後掲する表2に示した荷重印加時間の間、上記のようにガラス基板上に荷重を配置し、荷重除去後すぐに平坦度の測定を行った。   In the evaluation of the change in flatness due to the load time, the load application time shown in Table 2 shown below for each sample is performed in order to change the time during which the load (force) is applied and thereby evaluate the flatness of the glass substrate. In the meantime, the load was placed on the glass substrate as described above, and the flatness was measured immediately after the load was removed.

そして、各ガラス基板について所定の時間、荷重を加えた後これを取り除いた直後の平坦度を測定した。平坦度の測定は、位相測定干渉法(フェイズシフト法)により行った。具体的には、干渉式平坦度測定機(Zygo社製、型式:Zygo GI Flat(MESA))を使用し、680nmの測定波長で測定した。
(2)荷重除去後の平坦度の荷重解放後経過時間依存性の評価
ガラス基板に24時間荷重を加えた後、荷重を除去し、荷重除去後の平坦度の変化を評価した。
And the flatness immediately after removing this after adding a load about each glass substrate for the predetermined time was measured. The flatness was measured by phase measurement interferometry (phase shift method). Specifically, an interference type flatness measuring device (manufactured by Zygo, model: Zygo GI Flat (MESA)) was used, and measurement was performed at a measurement wavelength of 680 nm.
(2) Evaluation of dependency of flatness after load removal on elapsed time after release of load After a load was applied to the glass substrate for 24 hours, the load was removed, and the change in flatness after the load was removed was evaluated.

ガラス基板に荷重を加える方法は、(1)荷重除去直後の平坦度の荷重除去前の荷重印加時間依存性の評価の場合と同様にして行い、24時間荷重を加えた。   The method of applying a load to the glass substrate was performed in the same manner as in the case of (1) the evaluation of the load application time dependency of the flatness immediately after the load removal before the load removal, and the load was applied for 24 hours.

そして、荷重を除去後、後掲する表3中、荷重解放後経過時間で示した所定の時間毎に平坦度の測定を行った。平坦度の測定は(1)荷重除去直後の平坦度の荷重除去前の荷重印加時間依存性の評価の場合と同様に位相測定干渉法(フェイズシフト法)により行った。
(3)擬弾性変形量A〜C
擬弾性変形量A〜Cの評価を行うに当たって、第1の実施形態に説明したように、ガラス基板に荷重を加える前の平坦度F(−48h)と、荷重を48時間加えた後これを取り除いてから5時間、48時間経過時の平坦度F(5h)、F(48h)をそれぞれ測定した。
Then, after removing the load, the flatness was measured every predetermined time indicated by the elapsed time after the load release in Table 3 to be described later. The flatness was measured by (1) phase measurement interferometry (phase shift method) in the same manner as in the case of evaluation of the load application time dependency of the flatness immediately after load removal and before load removal.
(3) Pseudoelastic deformation amounts A to C
In evaluating the pseudoelastic deformation amounts A to C, as described in the first embodiment, the flatness F (−48 h) before applying a load to the glass substrate, and after applying the load for 48 hours, The flatness F (5 h) and F (48 h) at the lapse of 5 hours and 48 hours after the removal were measured.

各時間における平坦度の測定は、位相測定干渉法(フェイズシフト法)により行った。具体的には、干渉式平坦度測定機(Zygo社製、型式:Zygo GI Flat(MESA))を使用し、680nmの測定波長で測定した。   The flatness at each time was measured by a phase measurement interferometry (phase shift method). Specifically, an interference type flatness measuring device (manufactured by Zygo, model: Zygo GI Flat (MESA)) was used, and measurement was performed at a measurement wavelength of 680 nm.

その後、測定した各平坦度から以下の式により擬弾性変形量A〜Cを算出した。
(擬弾性変形量A)=|F(5h)−F(−48h)|
(擬弾性変形量B)=|F(5h)−F(48h)|
(擬弾性変形量C)=F(5h)
ここで、ガラス基板に荷重を加える方法については、(1)荷重除去直後の平坦度の荷重除去前の荷重印加時間依存性の評価の場合と同様にして行い、荷重は48時間加えた。
(4)リード・ライトテスト
得られた磁気記録媒体について、以下に説明する手順によりリード・ライトテストを行った。
Thereafter, pseudoelastic deformation amounts A to C were calculated from the measured flatnesses by the following formula.
(Pseudoelastic deformation amount A) = | F (5h) −F (−48h) |
(Pseudoelastic deformation amount B) = | F (5h) −F (48h) |
(Pseudoelastic deformation amount C) = F (5 h)
Here, the method of applying a load to the glass substrate was performed in the same manner as in the case of (1) the evaluation of the load application time dependency of the flatness immediately after the load removal before the load removal, and the load was applied for 48 hours.
(4) Read / Write Test The obtained magnetic recording medium was subjected to a read / write test according to the procedure described below.

具体的には、ガラス基板に磁性層等を形成した磁気記録媒体をハードディスクドライブ(HDD)に組み込み、下記の手順にてサーボ情報を書き込んだ。その後、下記実施例の手順により、トラック密度約254kTPI(Track per inch)、線記録密度約1500BPI(Bit per inch)の条件にて磁気信号を記録し、その信号を読み出すときのエラー発生の有無を確認した。   Specifically, a magnetic recording medium having a magnetic layer formed on a glass substrate was incorporated into a hard disk drive (HDD), and servo information was written according to the following procedure. Thereafter, according to the procedure of the following embodiment, a magnetic signal is recorded under the condition of a track density of about 254 kTPI (Track per inch) and a linear recording density of about 1500 BPI (Bit per inch), and whether or not an error occurs when reading the signal confirmed.

本実施例では、例1〜例10の磁気記録媒体を作成し、その評価を行った。例1〜例10の磁気記録媒体は、表1に示すように磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラス組成が異なっている。例1〜7が実施例、例8〜例10が比較例となっている。   In this example, the magnetic recording media of Examples 1 to 10 were prepared and evaluated. As shown in Table 1, the magnetic recording media of Examples 1 to 10 differ in the glass composition of the glass substrate included in the magnetic recording medium. Examples 1 to 7 are examples, and examples 8 to 10 are comparative examples.

Figure 2016173873

(ガラス基板の製造)
各ガラス基板は、表1の例1〜例10のガラス組成を有するガラス素基板を用いて、以下の手順により、直径65mm、板厚0.635mm、中央部に20mmの円孔を有するドーナツ形状に加工した。なお、表1中ROはガラス素基板のガラス組成のうちのアルカリ土類金属酸化物の含有量について、ROはガラス素基板のガラス組成のうちアルカリ金属酸化物の含有量についてそれぞれ示している。また、表中「−」は係る成分を含まない、すなわち係る成分の含有量が0であることを意味している。
Figure 2016173873

(Manufacture of glass substrates)
Each glass substrate is a donut shape having a diameter of 65 mm, a plate thickness of 0.635 mm, and a central hole of 20 mm using the glass base substrate having the glass composition of Examples 1 to 10 in Table 1 according to the following procedure. It was processed into. In Table 1, RO represents the content of alkaline earth metal oxide in the glass composition of the glass substrate, and R 2 O represents the content of alkali metal oxide in the glass composition of the glass substrate. Yes. In the table, “-” means that such a component is not included, that is, the content of the component is 0.

まず、ガラス素基板から中央部に円孔を有する円盤形状ガラス基板に加工する。   First, the glass base substrate is processed into a disk-shaped glass substrate having a circular hole in the center.

この円盤形状ガラス基板の内周端面と外周端面を、面取り角度45°のガラス基板が得られるように面取り加工を行う(内周面取り工程、外周面取り工程)。   The inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface of the disk-shaped glass substrate are chamfered so as to obtain a glass substrate with a chamfering angle of 45 ° (inner peripheral chamfering step, outer peripheral chamfering step).

面取り加工後、アルミナ砥粒を用いてガラス基板上下主平面をラッピング加工し、砥粒を洗浄除去する。   After chamfering, the upper and lower principal planes of the glass substrate are lapped using alumina abrasive grains, and the abrasive grains are washed and removed.

次に、ガラス基板の外周側面部と外周面取り部を、研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液を用いて研磨し、外周側面と外周面取り部の加工変質層(傷など)を除去し、鏡面となるように外周端面を研磨加工する(外周端面研磨工程)。   Next, the outer peripheral side surface portion and the outer peripheral chamfered portion of the glass substrate are polished using a polishing liquid containing a polishing brush and cerium oxide abrasive grains, and the work-affected layer (such as scratches) on the outer peripheral side surface and outer peripheral chamfered portion is removed. The outer peripheral end face is polished so as to be a mirror surface (outer peripheral end face polishing step).

外周端面研磨後、ガラス基板の内周側面部と内周面取り部を研磨ブラシと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液用いて研磨し、内周側面部と内周面取り部の加工変質層(傷など)を除去し、鏡面となるように内周端面を研磨加工する(内周端面研磨工程)。内周端面研磨したガラス基板は、砥粒を洗浄除去する。   After the outer peripheral end surface is polished, the inner peripheral side surface portion and inner peripheral chamfered portion of the glass substrate are polished with a polishing liquid containing a polishing brush and cerium oxide abrasive grains, and a work-affected layer (scratches) on the inner peripheral side surface portion and inner peripheral chamfered portion Etc.) and the inner peripheral end face is polished so as to be a mirror surface (inner peripheral end face polishing step). The glass substrate subjected to the inner peripheral end surface polishing removes the abrasive grains.

ガラス基板の端面を加工した後、ダイヤモンド砥粒を含有する固定粒工具と研削液を用いて、ガラス基板上下主平面をラッピング加工し、洗浄する。   After processing the end face of the glass substrate, the upper and lower main planes of the glass substrate are lapped using a fixed grain tool containing diamond abrasive grains and a grinding liquid, and cleaned.

次に、研磨具として硬質ウレタン製の研磨パッドと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液を用いて、22B型両面研磨装置(スピードファム社製、製品名:DSM22B−6PV−4MH)により上下主平面を1次研磨し、酸化セリウムを洗浄除去した。   Next, using a polishing liquid containing a hard urethane polishing pad and cerium oxide abrasive grains as a polishing tool, a 22B-type double-side polishing apparatus (product name: DSM22B-6PV-4MH manufactured by Speedfam Co., Ltd.) Was ground to remove cerium oxide.

1次研磨後のガラス基板は、研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、上記の酸化セリウム砥粒よりも平均粒径が小さい酸化セリウム砥粒を含有する研磨液を用いて、22B型両面研磨装置により上下主平面を2次研磨し、酸化セリウムを洗浄除去した。   The glass substrate after the primary polishing is a 22B double-sided polishing using a polishing pad containing a soft urethane polishing pad as a polishing tool and a cerium oxide abrasive having an average particle size smaller than that of the cerium oxide abrasive. The upper and lower main planes were secondarily polished by an apparatus, and cerium oxide was removed by washing.

2次研磨後のガラス基板は、3次研磨(仕上げ研磨)を行う。3次研磨の研磨具として軟質ウレタン製研磨パッドとコロイダルシリカを含有する研磨液を用いて、両面研磨装置により上下主平面を研磨加工した。   The glass substrate after the secondary polishing is subjected to tertiary polishing (finish polishing). Using a polishing liquid containing a soft urethane polishing pad and colloidal silica as a polishing tool for tertiary polishing, the upper and lower main planes were polished by a double-side polishing apparatus.

仕上げ研磨(3次研磨)したガラス基板は、スクラブ洗浄、洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い(精密洗浄)、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥した。   The glass substrate after final polishing (tertiary polishing) is subjected to scrub cleaning, ultrasonic cleaning immersed in a detergent solution, ultrasonic cleaning immersed in pure water (precision cleaning), and isopropyl alcohol vapor. Dried.

得られた各ガラス基板について、(1)荷重除去直後の平坦度の荷重除去前の荷重印加時間依存性の評価、(2)荷重除去後の平坦度の荷重解放後経過時間依存性の評価、(3)擬弾性変形量A〜Cの評価を行った。   For each glass substrate obtained, (1) evaluation of load application time dependence before load removal of flatness immediately after load removal, (2) evaluation of elapsed time dependence after load release of flatness after load removal, (3) Pseudoelastic deformation amounts A to C were evaluated.

まず、例1、例8、例9の磁気記録媒体で用いるガラス基板について(1)荷重除去直後の平坦度の荷重除去前の荷重印加時間依存性の評価を行ったので結果を表2に示す。また、表2の結果をグラフにしたものを図5、図6に示す。図6は横軸に示した荷重印加時間を対数軸にして示したものである。   First, with respect to the glass substrates used in the magnetic recording media of Examples 1, 8, and 9, (1) The load application time dependency of the flatness immediately after the load removal before the load removal was evaluated, and the results are shown in Table 2. . Moreover, what made the result of Table 2 into a graph is shown in FIG. 5, FIG. FIG. 6 shows the load application time shown on the horizontal axis as a logarithmic axis.

Figure 2016173873

表2、図5、図6の結果から明らかなように、例8、例9の磁気記録媒体で用いるガラス基板については、荷重を加えることにより平坦度が大きくなり、10時間を越えた辺りで平坦度の変化が飽和することが確認できた。この場合、荷重を加えはじめてから24時間における平坦度の変化率は、例8のガラス基板は870%、例9のガラス基板は3300%であった。
Figure 2016173873

As is apparent from the results of Table 2, FIG. 5, and FIG. 6, the glass substrates used in the magnetic recording media of Examples 8 and 9 increased in flatness by applying a load, and exceeded about 10 hours. It was confirmed that the change in flatness was saturated. In this case, the rate of change in flatness after 24 hours from the start of applying the load was 870% for the glass substrate of Example 8 and 3300% for the glass substrate of Example 9.

これに対して、実施例である例1の磁気記録媒体で用いるガラス基板については、荷重を加えても平坦度は殆ど変化なく、荷重を加えはじめてから24時間における平坦度の変化率が20%であることが確認できた。   On the other hand, for the glass substrate used in the magnetic recording medium of Example 1 as an example, the flatness hardly changes even when a load is applied, and the change rate of the flatness in 24 hours after the load is applied is 20%. It was confirmed that.

これらの結果から、ガラス基板の組成により荷重に対する平坦度の変化が異なることが確認できた。特にBを7.6mol%含有する例1のガラス基板については、上述のように平坦度の変化が小さいことが確認できた。 From these results, it was confirmed that the change in flatness with respect to the load differs depending on the composition of the glass substrate. In particular, for the glass substrate of Example 1 containing 7.6 mol% of B 2 O 3 , it was confirmed that the change in flatness was small as described above.

次に、例1〜例10のガラス基板について(2)荷重除去後の平坦度の荷重解放後経過時間依存性の評価を行ったので結果を表3に示す。また、表3の結果をグラフにしたものを、図7、図8に示す。図8は、図7の平坦度が小さい領域を拡大して示したものである。   Next, since the dependence of the flatness after load removal on the elapsed time after the load release was evaluated for the glass substrates of Examples 1 to 10, the results are shown in Table 3. Moreover, what made the result of Table 3 into a graph is shown in FIG. 7, FIG. FIG. 8 is an enlarged view of a region having a small flatness in FIG.

(2)荷重除去後の平坦度の荷重解放後経過時間依存性の評価は上述のように荷重を24時間加えた後、荷重を除去し、荷重除去後の平坦度の変化を評価したものである。   (2) The evaluation of the dependence of the flatness after removing the load on the elapsed time after release of the load is as follows. After the load was applied for 24 hours, the load was removed and the change in the flatness after removing the load was evaluated. is there.

Figure 2016173873

表3の結果によると、例1〜例7の磁気記録媒体で用いるガラス基板についてはいずれも24時間荷重を加えた直後の平坦度が小さく、荷重を除去した後、時間の経過に関わらず平坦度の変化は殆ど見られなかった。
Figure 2016173873

According to the results in Table 3, the glass substrates used in the magnetic recording media of Examples 1 to 7 all have a small flatness immediately after applying a load for 24 hours, and are flat regardless of the passage of time after the load is removed. Little change in degree was seen.

これに対して、例8〜10の磁気記録媒体で用いるガラス基板は、24時間荷重を加えた直後の平坦度が大きくなっており、荷重を除去後時間の経過に伴い平坦度が徐々に小さくなることが確認できた。   In contrast, the glass substrates used in the magnetic recording media of Examples 8 to 10 have higher flatness immediately after the load is applied for 24 hours, and the flatness gradually decreases with the passage of time after the load is removed. It was confirmed that

係る結果からも、ガラス基板のガラスの組成によって、荷重を加えた際の平坦度の変化が異なることが確認できた。また、荷重を除去した後の復原力による変位もガラス基板のガラスの組成により異なることが確認できた。   From these results, it was confirmed that the change in flatness when a load was applied was different depending on the glass composition of the glass substrate. Moreover, it has confirmed that the displacement by the restoring force after removing a load also changes with glass compositions of a glass substrate.

特に例8〜例10の磁気記録媒体で用いたガラス基板の場合、荷重を加えた際の平坦度の変化が大きいことが確認できた。このため、これらのガラス基板を磁気記録媒体とした場合、例えば荷重を除去してから5時間後にサーボ情報を書き込むと、その後サーボ情報の位置が大きく変化し、エラー発生の原因となることが分かる。   In particular, in the case of the glass substrate used in the magnetic recording media of Examples 8 to 10, it was confirmed that the change in flatness when a load was applied was large. For this reason, when these glass substrates are used as magnetic recording media, for example, if servo information is written 5 hours after the load is removed, the position of the servo information will change greatly thereafter, causing an error. .

例1〜例10のガラス基板について、擬弾性変形量A〜Cについての評価結果と、比弾性の計算結果を表4に示す。   Table 4 shows the evaluation results of the pseudoelastic deformation amounts A to C and the calculation results of specific elasticity for the glass substrates of Examples 1 to 10.

Figure 2016173873

表4によると、例1〜7の磁気記録媒体に用いるガラス基板は比弾性が29MNm/kg以上と高くなっていることが確認できる。中でもBの含有量が2.0mol%未満である例5、例6のガラス基板については比弾性が34MNm/kgと特に高くなっていることが確認できた。また、Bを含有していないが、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%である例7のガラス基板についても比弾性が34MNm/kgと特に高くなっていることが確認できた。比弾性が高い値をとることにより、磁気記録媒体とした場合に、磁気記録媒体を高速回転させた場合でも、フラッタリングの発生を抑制し、磁気記録媒体の読み取り/書き込みエラーの発生を特に抑制することが可能になる。
Figure 2016173873

According to Table 4, it can be confirmed that the glass substrate used for the magnetic recording media of Examples 1 to 7 has a high specific elasticity of 29 MNm / kg or more. In particular, it was confirmed that the specific elasticity of the glass substrates of Examples 5 and 6 in which the content of B 2 O 3 was less than 2.0 mol% was as high as 34 MNm / kg. Moreover, it was confirmed that the specific elasticity of the glass substrate of Example 7 which does not contain B 2 O 3 but has an alkali metal oxide content of 0 mol% is particularly high at 34 MNm / kg. By taking a high value of specific elasticity, even when a magnetic recording medium is used, even when the magnetic recording medium is rotated at a high speed, fluttering is suppressed and reading / writing errors of the magnetic recording medium are particularly suppressed. It becomes possible to do.

荷重を加える前の平坦度と、荷重を加え、荷重を除去した後5時間経過した時点での平坦度との差の絶対値を示す擬弾性変形量Aは、例1〜7の磁気記録媒体で用いるガラス基板は2.0μm以下と例8〜10の磁気記録媒体で用いるガラス基板と比較して小さい値であることが確認できた。特に例1〜6の磁気記録媒体で用いるガラス基板は、擬弾性変形量Aは0.1μm以下とより小さい値となることが確認できた。   The pseudoelastic deformation amount A, which shows the absolute value of the difference between the flatness before applying the load and the flatness after 5 hours have passed since the load was added and removed, is the magnetic recording medium of Examples 1-7. It was confirmed that the glass substrate used in 1 was 2.0 μm or less, which was a smaller value than the glass substrate used in the magnetic recording media of Examples 8 to 10. In particular, it was confirmed that the glass substrate used in the magnetic recording media of Examples 1 to 6 had a pseudo-elastic deformation amount A of 0.1 μm or less and a smaller value.

また、荷重を除去後5時間経過時の平坦度と、荷重を除去後48時間経過時の平坦度との差の絶対値を示す擬弾性変形量Bも例1〜7の磁気記録媒体で用いるガラス基板についてはいずれも1.5μm以下と、例8〜10の磁気記録媒体で用いるガラス基板と比較して非常に小さい値であることが確認できた。この場合も例1〜6の磁気記録媒体で用いるガラス基板の擬弾性変形量Bは0.1μm以下であり、特に小さくなることが確認できた。   Further, the pseudo-elastic deformation amount B indicating the absolute value of the difference between the flatness after 5 hours from the removal of the load and the flatness after 48 hours from the removal of the load is also used in the magnetic recording media of Examples 1 to 7. It was confirmed that all the glass substrates were 1.5 μm or less, which was a very small value compared to the glass substrates used in the magnetic recording media of Examples 8 to 10. Also in this case, the pseudoelastic deformation amount B of the glass substrate used in the magnetic recording media of Examples 1 to 6 was 0.1 μm or less, and it was confirmed that it was particularly small.

さらに、荷重を除去後5時間経過時の平坦度を示す擬弾性変形量Cも例1〜7の磁気記録媒体で用いるガラス基板については2.5μm以下と、例8〜10の磁気記録媒体で用いるガラス基板と比較して小さい値であることが確認できた。また、例1〜6の磁気記録媒体で用いるガラス基板は、1.0μm以下と特に小さい値となった。   Further, the pseudoelastic deformation amount C indicating the flatness after the lapse of 5 hours after removing the load is 2.5 μm or less for the glass substrate used in the magnetic recording media of Examples 1 to 7, and the magnetic recording media of Examples 8 to 10 It was confirmed that the value was smaller than that of the glass substrate used. Further, the glass substrate used in the magnetic recording media of Examples 1 to 6 had a particularly small value of 1.0 μm or less.

荷重を加える時間が異なるものの(2)荷重除去後の平坦度の荷重解放後経過時間依存性の評価でも説明したように、例1〜7の磁気記録媒体で用いるガラス基板は荷重の除去直後においても平坦度が小さく、荷重を除去後の平坦度の変化も小さくなる。このため、上述のように擬弾性変形量も小さくなったと考えられる。
(磁気記録媒体の製造)
次に、例1〜例10の磁気記録媒体で用いるそれぞれのガラス基板に下地層、磁性層、保護層、潤滑層を順次設けて例1〜例10の磁気記録媒体を各100枚ずつ製造した。
Although the time for applying the load is different, (2) the glass substrate used in the magnetic recording media of Examples 1 to 7 is immediately after the removal of the load, as described in the evaluation of the dependence of the flatness after the load removal on the elapsed time after the release of the load. The flatness is small, and the change in flatness after removing the load is also small. For this reason, it is considered that the amount of pseudoelastic deformation is also reduced as described above.
(Manufacture of magnetic recording media)
Next, an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer were sequentially provided on each glass substrate used in the magnetic recording media of Examples 1 to 10, and 100 magnetic recording media of Examples 1 to 10 were manufactured. .

具体的な手順を説明すると、例1〜10の各磁気記録媒体用のガラス基板の表面に、インライン型スパッタリング装置を用いて、軟磁性下地層としてNiFe層、非磁性中間層としてRu層、垂直磁気記録層としてCoCrPtSiOのグラニュラ構造層を、順次積層した。次に、CVD法にてダイヤモンドライクカーボン膜を保護層として形成した。その後、ディップ法によってパーフルオロポリエーテルを有する潤滑膜を形成し、磁気記録媒体とした。 The specific procedure will be described. On the surface of the glass substrate for each magnetic recording medium of Examples 1 to 10, using an in-line type sputtering apparatus, a NiFe layer as a soft magnetic underlayer, a Ru layer as a nonmagnetic intermediate layer, a perpendicular layer A CoCrPtSiO 2 granular structure layer was sequentially laminated as a magnetic recording layer. Next, a diamond-like carbon film was formed as a protective layer by a CVD method. Thereafter, a lubricating film having perfluoropolyether was formed by a dip method to obtain a magnetic recording medium.

得られた磁気記録媒体をそれぞれシッピングカセット(エンテグリス社製)に収納し、400mmHgの真空度でAlラミネート袋に真空包装し、48時間放置した。   Each of the obtained magnetic recording media was stored in a shipping cassette (manufactured by Entegris), vacuum packaged in an Al laminate bag at a vacuum degree of 400 mmHg, and left for 48 hours.

48時間後包装を開封し、磁気記録媒体を取り出してHDD装置に組み上げ、254kTPIに対応する条件でサーボ情報を書き込んだ。サーボ情報書き込みは、開封後5時間後に行った。サーボ情報書き込みから43時間後(開封後48時間後)に、HDDのリード・ライトテストを実施した。   After 48 hours, the package was opened, the magnetic recording medium was taken out, assembled into an HDD device, and servo information was written under conditions corresponding to 254 kTPI. Servo information was written 5 hours after opening. An HDD read / write test was performed 43 hours after servo information writing (48 hours after opening).

リード・ライトテストの結果、例1〜例7の磁気記録媒体においては、試験に供した100枚の磁気記録媒体いずれにおいてもエラーは発生しなかったが、例8〜例10の磁気記録媒体においては、1%程度のエラーが外周部に集中して発生した。   As a result of the read / write test, no error occurred in any of the 100 magnetic recording media subjected to the test in the magnetic recording media of Examples 1 to 7, but in the magnetic recording media of Examples 8 to 10. An error of about 1% was concentrated on the outer periphery.

例8〜10の磁気記録媒体においてエラー発生率が大きくなった原因は以下のように考えられる。   The cause of the increased error occurrence rate in the magnetic recording media of Examples 8 to 10 is considered as follows.

シッピングカセット内に保持された磁気記録媒体は、真空包装による大気からの圧力で変形し、開包後はそれぞれの磁気記録媒体に含まれるガラス基板の特性に従って徐々に元の形状に戻る。しかしながら、例8〜10では上記ガラス基板の評価から明らかなように、荷重が加えられた後、荷重を除去すると徐々にガラス基板の形状が変化する。このため、サーボ情報書き込み時に、ガラス基板はまだ形状変化している途中であり、サーボ情報書き込み後さらに形状が変化する。従って、サーボ情報書き込み後のリード・ライトテスト時にサーボ情報の位置ずれが発生したものと考えられる。   The magnetic recording medium held in the shipping cassette is deformed by the pressure from the atmosphere by vacuum packaging, and after opening, gradually returns to the original shape according to the characteristics of the glass substrate contained in each magnetic recording medium. However, in Examples 8 to 10, as apparent from the evaluation of the glass substrate, the shape of the glass substrate gradually changes when the load is removed after the load is applied. For this reason, the shape of the glass substrate is still changing when the servo information is written, and the shape further changes after the servo information is written. Therefore, it is considered that the servo information is misaligned during the read / write test after writing the servo information.

形状の変化は外周ほど顕著なため、ガラス基板によっては外周部にエラーが集中したものと推認される。   Since the change in shape is more noticeable at the outer periphery, it is presumed that errors are concentrated on the outer periphery depending on the glass substrate.

例8、9の磁気記録媒体で用いたガラス基板は、例1〜例4で用いたガラス基板よりも比弾性が高く、フラッタリングが抑えられるため、従来の磁気記録媒体についての考えによれば、磁気記録媒体の実装評価においてエラーの発生が抑制されるはずである。しかしながら、上記のようにエラーの発生率が高かった。   The glass substrates used in the magnetic recording media of Examples 8 and 9 have higher specific elasticity than the glass substrates used in Examples 1 to 4 and can suppress fluttering. Therefore, according to the conventional magnetic recording media, In addition, the occurrence of errors should be suppressed in the mounting evaluation of the magnetic recording medium. However, the error rate was high as described above.

これは、例8、9の磁気記録媒体の製造工程においてガラス基板に座屈変形または曲げ変形を生じたにも関わらず、ガラス基板のガラスの組成の選択が適切でなかったため、変形後、元の形状に戻る過程でサーボ情報が書き込まれたためと考えられる。   This is because, in spite of buckling deformation or bending deformation of the glass substrate in the manufacturing processes of the magnetic recording media of Examples 8 and 9, the selection of the glass composition of the glass substrate was not appropriate, so that after the deformation, This is probably because the servo information was written in the process of returning to the shape.

これらの結果から、磁気記録媒体のエラーの発生を充分に抑制するためには、従来考えられていたようにガラス基板として比弾性が高いガラス基板を用いるだけでは不充分であり、Bの含有量が所定の範囲にあるガラス基板、または、アルカリ金属酸化物の含有量が所定量以下のガラス基板を選択する必要があることが分かる。
[実験例2]
本実施例では、例11〜例24の磁気記録媒体を作成し、その評価を行った。例11〜例24の磁気記録媒体は、表5に示すように磁気記録媒体に含まれるガラス基板のガラス組成が異なっている。例11〜21が実施例、例22〜例24が比較例となっている。
(ガラス基板の製造)
各ガラス基板は、表5の例11〜例24のガラス組成を有するガラス素基板を用いて、直径65mm、板厚0.635mm、中央部に20mmの円孔を有するドーナツ形状のガラス基板を作製した。ガラス基板の作製手順は実験例1と同様にして行ったため説明を省略する。
From these results, in order to sufficiently suppress the occurrence of errors in the magnetic recording medium, it is not sufficient to use a glass substrate having a high specific elasticity as a glass substrate as conventionally considered, and B 2 O 3 It can be seen that it is necessary to select a glass substrate having a predetermined content within a predetermined range or a glass substrate having an alkali metal oxide content equal to or lower than a predetermined amount.
[Experiment 2]
In this example, magnetic recording media of Examples 11 to 24 were prepared and evaluated. As shown in Table 5, the magnetic recording media of Examples 11 to 24 differ in the glass composition of the glass substrate included in the magnetic recording medium. Examples 11 to 21 are examples, and examples 22 to 24 are comparative examples.
(Manufacture of glass substrates)
For each glass substrate, a glass substrate having the glass composition of Examples 11 to 24 in Table 5 is used to produce a donut-shaped glass substrate having a diameter of 65 mm, a plate thickness of 0.635 mm, and a 20 mm circular hole in the center. did. Since the glass substrate was manufactured in the same manner as in Experimental Example 1, the description thereof was omitted.

表5中ROはガラス素基板のガラス組成のうちのアルカリ土類金属酸化物の含有量について、ROはガラス素基板のガラス組成のうちアルカリ金属酸化物の含有量についてそれぞれ示している。また、表中「−」は係る成分を含まない、すなわち係る成分の含有量が0であることを意味している。 In Table 5, RO represents the content of alkaline earth metal oxide in the glass composition of the glass base substrate, and R 2 O represents the content of alkali metal oxide in the glass composition of the glass base substrate. In the table, “-” means that such a component is not included, that is, the content of the component is 0.

得られた各ガラス基板について、実験例1の場合と同様にして擬弾性変形量Aの評価を行った。   For each of the obtained glass substrates, the pseudoelastic deformation amount A was evaluated in the same manner as in Experimental Example 1.

結果を表5に示す。   The results are shown in Table 5.

Figure 2016173873

表5に示した結果によるとアルカリ金属酸化物を1種類含み、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下の例11、13、14、18、19、21は擬弾性変形量Aが0.6μm未満となっていることを確認できた。
Figure 2016173873

According to the results shown in Table 5, Examples 11, 13, 14, 18, 19, and 21 containing one kind of alkali metal oxide and having an alkali metal oxide content of 0 mol% or more and 25 mol% or less are pseudoelastic deformation amounts A. Has been confirmed to be less than 0.6 μm.

また、アルカリ金属酸化物を2種類以上含み、アルカリ金属酸化物の含有量の合計が0mol%より多く20mol%以下の例12、15〜17、20は擬弾性変形量Aが2.0μm以下となっていることを確認できた。これに対して、比較例であり、アルカリ金属酸化物を2種類含有し、アルカリ金属酸化物の含有量の合計が20mol%を超える例22〜24では擬弾性変形量Aが、例11〜21と比較して非常に大きくなることを確認できた。
(磁気記録媒体の製造)
次に、例11〜例24の磁気記録媒体で用いるそれぞれのガラス基板に下地層、磁性層、保護層、潤滑層を順次設けて例11〜例24の磁気記録媒体を100枚ずつ製造した。
Examples 12, 15-17, and 20 containing two or more kinds of alkali metal oxides and having a total content of alkali metal oxides of more than 0 mol% and 20 mol% or less have a pseudoelastic deformation amount A of 2.0 μm or less. I was able to confirm that On the other hand, it is a comparative example and contains two types of alkali metal oxides, and in Examples 22 to 24 in which the total content of alkali metal oxides exceeds 20 mol%, the pseudoelastic deformation amount A is Examples 11 to 21. It was confirmed that it was very large compared to.
(Manufacture of magnetic recording media)
Next, an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer were sequentially provided on each glass substrate used in the magnetic recording media of Examples 11 to 24, and 100 magnetic recording media of Examples 11 to 24 were manufactured.

磁気記録媒体は実験例1と同様の手順により製造したため説明を省略する。   Since the magnetic recording medium was manufactured by the same procedure as in Experimental Example 1, description thereof is omitted.

製造した磁気記録媒体について実験例1と同様にしてシッピングカセット(エンテグリス社製)に収納し、400mmHgの真空度でAlラミネート袋に真空包装し、48時間放置した。そして、48時間後包装を開封し、磁気記録媒体を取出してHDD装置に組み上げ、254kTPIに対応する条件でサーボ情報を書き込んだ、サーボ情報書き込みは開封後5時間後に行い、サーボ情報書き込みから43時間後(開封後48時間後)にHDDのリード・ライトテストを実施した。   The manufactured magnetic recording medium was housed in a shipping cassette (manufactured by Entegris) in the same manner as in Experimental Example 1, vacuum packed in an Al laminate bag at a vacuum degree of 400 mmHg, and left for 48 hours. After 48 hours, the package is opened, the magnetic recording medium is taken out and assembled into an HDD device, and servo information is written under conditions corresponding to 254 kTPI. Servo information writing is performed 5 hours after opening, and 43 hours after writing servo information. Later (48 hours after opening), an HDD read / write test was performed.

リード・ライトテストを実施したところ、例11〜例21の磁気記録媒体はいずれにおいてもエラーは発生しなかったが、例22〜例24の磁気記録媒体おいては1%程度のエラーが外周部に集中して発生した。   When a read / write test was performed, no error occurred in any of the magnetic recording media of Examples 11 to 21, but an error of about 1% was observed in the outer peripheral portion of the magnetic recording media of Examples 22 to 24. Concentrated to occur.

例22〜例24の磁気記録媒体においてエラー発生率が大きくなった原因は以下のように考えられる。   The cause of the increased error rate in the magnetic recording media of Examples 22 to 24 can be considered as follows.

シッピングカセット内に保持された磁気記録媒体は、真空包装による大気からの圧力で座屈変形及び曲げ変形の少なくともいずれかにより変形し、開包後はそれぞれの磁気記録媒体に含まれるガラス基板の特性に従って徐々に元の形状に戻る。しかしながら、例22〜例24では上記ガラス基板の評価から明らかなように、擬弾性変形量Aが例11〜例21と比較して大きくなっている。このため、サーボ情報書き込み時にはガラス基板はまだ形状変化している途中であり、サーボ情報書き込み後さらに形状が変化し、サーボ情報書き込み後のリード・ライトテスト時にサーボ情報の位置ずれが発生したものと考えられる。   The magnetic recording medium held in the shipping cassette is deformed by at least one of buckling deformation and bending deformation due to pressure from the atmosphere by vacuum packaging, and after opening, the characteristics of the glass substrate contained in each magnetic recording medium Gradually return to the original shape. However, in Examples 22 to 24, as is apparent from the evaluation of the glass substrate, the pseudoelastic deformation amount A is larger than that of Examples 11 to 21. For this reason, the shape of the glass substrate is still changing when servo information is written, and the shape changes further after writing servo information, and the servo information is misaligned during the read / write test after writing servo information. Conceivable.

そして、形状の変化は外周ほど顕著なため、ガラス基板によっては外周部にエラーが集中したものと推認される。   And since the change of a shape is so remarkable that it is outer periphery, it is guessed that the error concentrated on the outer peripheral part depending on the glass substrate.

43 ガラス基板
44 両端部
45 荷重
43 Glass substrate 44 Both ends 45 Load

Claims (7)

磁気記録媒体用のガラス基板であって、
前記ガラス基板の直径方向の両端部を下面側から支持し、前記ガラス基板の中央部上面に荷重を48時間加えた後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、
荷重を加える前の平坦度との差の絶対値を擬弾性変形量Aとした場合に、
前記擬弾性変形量Aが2.0μm以下であり、
前記ガラス基板のガラスは、Alを5mol%以上含有しており、
の含有量が0.1mol%以上15mol%以下、または含有するアルカリ金属酸化物は1種類以下であり、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%以上25mol%以下、またはアルカリ金属酸化物を2種類以上含有し、アルカリ金属酸化物の含有量が0mol%より多く20mol%以下である磁気記録媒体用のガラス基板。
A glass substrate for a magnetic recording medium,
Supporting both ends in the diameter direction of the glass substrate from the lower surface side, removing the load after applying the load to the upper surface of the central portion of the glass substrate for 48 hours, flatness at the time of 5 hours after removing the load,
When the absolute value of the difference from the flatness before applying a load is the pseudoelastic deformation amount A,
The pseudoelastic deformation amount A is 2.0 μm or less,
The glass of the glass substrate contains 5 mol% or more of Al 2 O 3 ,
The content of B 2 O 3 is 0.1 mol% or more and 15 mol% or less, or the alkali metal oxide is contained in one or less, and the content of alkali metal oxide is 0 mol% or more and 25 mol% or less, or alkali metal oxidation A glass substrate for a magnetic recording medium, containing two or more kinds of substances and having an alkali metal oxide content of more than 0 mol% and no more than 20 mol%.
前記ガラス基板の直径方向の両端部を下面側から支持し、前記ガラス基板の中央部上面に荷重を48時間加えた後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後5時間経過時の平坦度と、
荷重を取り除いた後48時間経過時の平坦度との差の絶対値を擬弾性変形量Bとした場合に、
前記擬弾性変形量Bが1.5μm以下である請求項1に記載の磁気記録媒体用のガラス基板。
Supporting both ends in the diameter direction of the glass substrate from the lower surface side, removing the load after applying the load to the upper surface of the central portion of the glass substrate for 48 hours, flatness at the time of 5 hours after removing the load,
When the absolute value of the difference from the flatness after 48 hours after removing the load is the pseudoelastic deformation amount B,
The glass substrate for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the pseudoelastic deformation amount B is 1.5 μm or less.
前記ガラス基板の直径方向の両端部を下面側から支持し、前記ガラス基板の中央部上面に荷重を48時間加えた後に荷重を取り除き、荷重を取り除いた後、5時間経過時の平坦度である擬弾性変形量Cが2.5μm以下である請求項1または2に記載の磁気記録媒体用のガラス基板。   The both ends in the diameter direction of the glass substrate are supported from the lower surface side, the load is removed for 48 hours after the load is applied to the upper surface of the central portion of the glass substrate, and the flatness after 5 hours has elapsed after removing the load The glass substrate for a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the pseudoelastic deformation amount C is 2.5 μm or less. 熱アシスト磁気記録方式の磁気記録媒体用のガラス基板である請求項1〜3のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用のガラス基板。   The glass substrate for a magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 3, which is a glass substrate for a heat-assisted magnetic recording type magnetic recording medium. 前記ガラス基板のガラスが、Alを5mol%以上20mol%以下含有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用のガラス基板。 The glass substrate for magnetic recording media according to claim 1, wherein the glass of the glass substrate contains Al 2 O 3 in an amount of 5 mol% to 20 mol%. 前記ガラス基板のガラスが、
SiOを55mol%以上75mol%以下と、
アルカリ土類金属酸化物を0mol%以上30mol%以下と、
を含有する請求項1〜5のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用のガラス基板。
The glass of the glass substrate is
SiO 2 55 mol% or more and 75 mol% or less,
Alkaline earth metal oxide 0 mol% or more and 30 mol% or less,
The glass substrate for magnetic recording media as described in any one of Claims 1-5 containing this.
請求項1〜6のいずれか一項に記載のガラス基板上に熱アシスト磁気記録方式用の磁性層を設けてなる磁気記録媒体。   A magnetic recording medium comprising a glass layer according to any one of claims 1 to 6 and a magnetic layer for a heat-assisted magnetic recording system.
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