JP2016169059A - 基材処理装置、塗膜形成システム、基材処理方法及び塗膜形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基材に対する処理の均一性の低下を抑制しつつ、基材の位置ずれを修正する技術を提供する。
【解決手段】乾燥装置３０Ａは、ロールｔｏロール方式で搬送される基材５に対して、乾燥処理を行う。乾燥装置３０Ａは、基材５の一方主面に対して、乾燥処理を行う複数の表面乾燥部３５を備えている。複数の表面乾燥部３５が配された乾燥処理区間１２Ａには、複数の傾動ローラ３３１が配列されている。制御部７は、位置検出器５１Ａによって検出された基材５の幅方向の位置に基づいて傾動機構４１を制御することによって、各傾動ローラ３３１を傾動させて基材５の位置ずれを修正する。
【選択図】図１

Description

この発明は、基材の表面に化学電池材料等の塗工液を塗工する技術に関する。

リチウムイオン電池等の化学電池の製造においては、金属箔等の基材をロールｔｏロール方式にて搬送しつつ、その基材の表面に電極材料の塗工液を吐出し、さらに当該方式で塗工液を乾燥させて塗膜を形成する装置が用いられている。このような装置では、処理を高速化するため、乾燥炉が長くなる傾向がある。このため、乾燥炉内で位置ずれが起こりやすくなっている。

例えば特許文献１には、ロールｔｏロール方式にて搬送されるフィルムの蛇行修正を行う技術が記載されている。具体的には、乾燥処理を行う乾燥炉の直後に配置された蛇行修正ローラによって、フィルムの蛇行を修正するものである。フィルムに蛇行が発生した場合、蛇行修正ローラの蛇行側端部を搬送方向上流側へ移動させ、その逆の端部を搬送方向下流側へ移動させることで、蛇行修正ローラの中心線を搬送方向の直角方向に対して傾斜させる。これによって、フィルムの蛇行が修正される。

特開平６−２７１１６２号公報

しかしながら、上記従来技術の場合、乾燥炉の外側で蛇行修正が行われるため、乾燥炉内の距離が長くなると、乾燥炉内で発生したフィルムの蛇行を蛇行修正ローラだけでは修正しきれず、乾燥炉内での幅方向における処理の均一性が低下するおそれがあった。また、乾燥炉内でのフィルムの蛇行幅が大きくなると、蛇行修正ローラの傾斜角度も大きくなり、その結果、フィルムにしわが発生するおそれがあった。

本発明は、基材に対する処理の均一性の低下を抑制しつつ、基材の位置ずれを修正する技術を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するため、第１の態様は、第１ローラから送り出された基材を第２ローラで巻き取ることによって所定の搬送方向に連続して搬送される基材に対して、規定処理を行う基材処理装置であって、前記搬送機構によって搬送される前記基材の両面のうち少なくとも一方主面に対して、規定処理を行う規定処理部と、前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記処理部が前記規定処理を行う処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラと、前記複数のローラのうちの２つ以上のローラの各回転軸の一方側端部を、他方側端部に対して相対的に、前記基材の前記他方主面に交差する方向に沿って移動させる傾動機構と、前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向の位置を検出する位置検出器と、前記位置検出器によって検出された前記基材の位置に基づいて、前記傾動機構を制御する制御部とを備える。

また、第２の態様は、第１の態様に係る基材処理装置であって、前記処理区間に存する前記基材の部分を収容する筐体部、をさらに備え、前記筐体部には、その内部に前記基材よりも幅広である進入口及び退出口が形成されており、前記進入口から前記基材が進入する際の進入方向が、前記退出口から前記基材が退出する際の退出方向と鈍角を成す。

また、第３の態様は、第１または第２の態様に係る基材処理装置であって、前記複数のローラが非直線状に配置されていることによって、前記処理区間に存する前記基材の部分がアーチ状に曲げられる。

また、第４の態様は、第１から第３の態様のいずれか１態様に係る基材処理装置であって、前記制御部は、前記処理区間に存する前記基材の幅方向の位置が、前記処理部が前記基材に対して前記規定処理を均一に実行可能とされる規定処理範囲内に含まれるように、前記傾動機構を制御する。

また、第５の態様は、第１から第４の態様のいずれか１態様に係る基材処理装置であって、前記傾動機構は、前記２つ以上のローラの各他方側の端部を固定する固定部を有する。

また、第６の態様は、第１から第５の態様のいずれか１態様に係る基材処理装置であって、前記規定処理が、前記基材の一方主面に塗布された処理液を乾燥させる乾燥処理である。

また、第７の態様は、基材に塗膜を形成する塗膜形成システムであって、第１ローラから送り出された基材を第２ローラで巻き取ることによって所定の搬送方向に連続して基材を搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送される前記基材の主面に対して、塗工液を吐出するノズルと、前記基材に形成された前記塗工液を乾燥させる乾燥処理を行う乾燥処理部と、前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記乾燥処理部が前記乾燥処理を行う乾燥処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラと、前記複数のローラのうちの２つ以上のローラの各回転軸の一方端を、他方端に対して相対的に、前記基材の他方主面に交差する方向に移動させる傾動機構と、前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向の位置を検出する位置検出器と、前記位置検出器によって検出された前記基材の位置に基づいて、前記傾動機構を制御する制御部とを備える。

また、第８の態様は、第１ローラから送り出された基材を第２ローラで巻き取ることによって所定の搬送方向に連続して搬送される基材に対して、規定処理を行う基材処理方法であって、（ａ）前記搬送機構によって搬送される前記基材の両面のうち少なくとも一方主面に対して、規定処理を行う工程と、（ｂ）前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向の位置を検出する工程と、（ｃ）前記（ｂ）工程にて検出された前記基材の位置に応じて、前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記規定処理が行われる処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラのうち、２つ以上のローラの各回転軸の一方側端部を、他方側端部に対して相対的に、前記基材の前記他方主面に交差する方向に沿って移動させる工程とを含む。

また、第９の態様は、基材に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、（Ａ）第１ローラから送り出された基材を第２ローラで巻き取る搬送機構によって所定の搬送方向に連続して前記基材を搬送する工程と、（Ｂ）前記搬送機構によって搬送される前記基材の主面に対して、塗工液を吐出する工程と、（Ｃ）前記基材に形成された前記塗工液を乾燥させる乾燥処理を行う工程と、（Ｄ）前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向の位置を検出する工程と、（Ｅ）前記（Ｄ）工程にて検出された前記基材の位置に応じて、前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記乾燥処理が行われる乾燥処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラのうち、２つ以上のローラの各回転軸の一方側端部を、他方側端部に対して相対的に前記基材の前記他方主面に交差する方向に沿って移動させる工程とを含む。

第１から第９の態様によると、搬送機構によって搬送される基材に位置ずれが発生した際、規定処理を行う処理区間に配された複数のローラを傾動させることによって、その位置ずれを修正できる。このため、処理区間で位置ずれが発生した場合でも、処理区間内で修正できる。したがって、処理の均一性を確保できる。また、複数のローラを傾動させることで、単一のローラのみで位置ずれを修正する場合よりも、各ローラの傾動量を小さくできる。したがって、位置ずれをより確実に修正できるとともに、基材にしわが生じることを抑制できる。

第２の態様によると、筐体部内で外部から仕切られた空間内で基材を処理できる。進入方向及び退出方向が鈍角を成すようにすることで、進入方向及び退出方向を平行とする場合と比べて、筐体部内の直線距離を同一としつつ、基材の搬送距離を長くすることができる。

第３の態様によると、処理区間において、基材をアーチ状に曲げて搬送することで、処理区間の直線距離を変えずに、基材の搬送距離を長くすることができる。また、複数のローラによって基材をアーチ状に支持するため、直線的に支持する場合よりも、各ローラの基材と接触する面の面積（抱き角）を大きくすることができる。したがって、各ローラを傾動させた際に、基材をより確実に引っ掛けることができる。よって、基材の位置ずれをより確実に修正できる。

第４の態様によると、均一な処理が実行可能とされる規定処理範囲内に収まるように、基材の位置ずれを修正できる。

第５の態様によると、他方側端部を固定しつつ、一方側端部を移動させることで、各ローラを傾動することができる。

第６の態様によると、乾燥処理区画における搬送距離が比較的長い場合であっても、基材の位置ずれを乾燥処理区画内で修正できるため、乾燥処理が不均一になることを抑制できる。

実施形態に係る乾燥処理装置を備えた塗膜形成システムを示す概略構成図である。 実施形態に係る乾燥処理部の一部を示す概略側面図である。 実施形態に係る傾動機構を説明するための概略正面図である。 実施形態に係る制御部と他の要素との電気的な接続を示すブロック図である。 実施形態に係る複数の傾動ローラの傾動駆動制御を説明するための概略図である。 実施形態に係る傾動機構制御部が実行する傾動駆動制御のフローを示す図である。

以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。また、図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。

＜１．実施形態＞
図１は、実施形態に係る乾燥処理部３０Ａ，３０Ｂを備えた塗膜形成システム１を示す概略構成図である。

この塗膜形成システム１は、例えば長尺状の金属箔である基材５をロールｔｏロール方式にて連続搬送しつつ、その基材５の両面に電極材量である活性質を含む塗工液を塗工する。そして、その塗工液の乾燥処理を行うことによって、リチウムイオン二次電池の電極製造を行う。

塗膜形成システム１は、塗工部１０Ａ，１０Ｂ、乾燥処理部３０Ａ，３０Ｂ、搬送機構６０及び制御部７を備えて構成される。制御部７は、システム全体を制御するように構成されている。

搬送機構６０は、巻出しローラ６１（第１ローラ）、巻き取りローラ６２（第２ローラ）及び複数の補助ローラ６３を備えている。長尺の基材５は、巻出しローラ６１から送り出されて複数の補助ローラに案内されつつ、巻き取りローラ６２によって巻き取られる。複数の補助ローラ６３は、連続搬送される基材５の搬送経路上の適宜の位置に配置されている。長尺の基材５は、塗工部１０Ａ、乾燥処理部３０Ａ、塗工部１０Ｂ、乾燥処理部３０Ｂの順にロールｔｏロール方式で連続搬送される。基材５が搬送機構６０によって搬送される方向（矢符ＤＲ１で示す方向）を、「搬送方向」と称する。なお、搬送方向は、固定の一方向に限定されるものではない。図１に示す例では、基材５の搬送方向は、複数の補助ローラ６３によって適宜変更される。補助ローラ６３の個数及び配置位置については、図１に示すものに限定されるものではなく、必要に応じて適宜に増減することができる。

塗工部１０Ａ，１０Ｂは、搬送機構６０によって搬送される基材５の表裏面に対して塗工液を塗工するように構成されている。塗工部１０Ａは、基材５の表裏面のうち一方側主面に向けて塗工液を吐出するノズル１１Ａを備えており、塗工部１０Ｂは、基材５の両面のうち他方側主面に向けて塗工液を吐出するノズル１１Ｂを備えている。各ノズル１１Ａ，１１Ｂは、基材５の幅方向（基材５の表面に平行な方向であって、上記搬送方向に直交する方向）に沿った延びるスリット状の吐出口を備えたスリットノズルとして構成されている。

ノズル１１Ａ，１１Ｂには、図示を省略する送液機構によって、所定の塗工液が送液される。ノズル１１Ａ，１１Ｂが吐出する塗工液は同一であってもよいが、これらは異なる種類の塗工液であってもよい。

ノズル１１Ａ，１１Ｂは、スリット状の吐出口に繋がる流路を規定するためのシム及びマニホールド等を備える。また、ノズル１１Ａ，１１Ｂには、それぞれの位置及び姿勢を調整するための不図示の機構が付設されている。送液機構から各ノズル１１Ａ，１１Ｂに送給された塗工液は、スリット状の吐出口から基材５の表面に吐出される。

乾燥処理部３０Ａ，３０Ｂは、搬送機構６０によって所定の搬送方向に連続して搬送される基材５に対して、乾燥処理を行う。乾燥処理部３０Ａ，３０Ｂは、規定処理を行う基材処理装置の一例である。

より具体的には、乾燥処理部３０Ａは、塗工部１０Ａの下流側に設けられている。乾燥処理部３０Ａは、塗工部１０Ａで塗工された基材５の一方側主面の塗工液を乾燥させることによって、当該一方側主面に塗膜を形成するように構成されている。乾燥処理部３０Ｂは、塗工部１０Ｂの下流側に設けられている。乾燥処理部３０Ｂは、塗工部１０Ｂで塗工された基材５の他方側主面の塗工液を乾燥させることによって、当該他方側主面に塗膜を形成するように構成されている。なお、乾燥処理部３０Ａ，３０Ｂの構成は略同一であるため、以下では、乾燥処理部３０Ａの構成について主に説明する。

乾燥処理部３０Ａは、筐体部３１と傾動ローラ群３３を備えている。

図２は、実施形態に係る乾燥処理部３０Ａの一部を示す概略側面図である。なお、図２では、筐体部３１が断面図で図示されている。図１または図２に示すように、筐体部３１は、複数のチャンバ３１１と、当該複数のチャンバ３１１間を連結する複数の連結部３１２とを備えている。各チャンバ３１１の上流側には基材５を内部に進入させるための入口３１３が形成されており、下流側には基材５を退出させるための出口３１４が形成されている。そして、隣どうしに配されたチャンバ３１１，３１１のうち、一方の出口３１４と他方の入口３１３とが、連結部３１２を介して連結されている。連結部３１２は、筒状に形成されており、基材５を通すための空間を形成しており、その開口面積は、各チャンバ３１１の開口面積よりも小さい。複数のチャンバ３１１の各々が連結部３１２によって接続されることによって、筐体部３１が乾燥処理を行うための１つの空間を形成している。そして、筐体部３１全体では、基材５の搬入口３１３Ａは、最も上流側に配されたチャンバ３１１の入口３１３となっており、基材５の搬出口３１４Ａは、最も下流側に配されたチャンバ３１１の出口３１４となっている。搬入口３１３Ａ及び搬出口３１４Ａは、基材５よりも幅広に形成されている。

各チャンバ３１１の内部には、表面乾燥部３５及び裏面乾燥部３７が付設されている。表面乾燥部３５は、塗工液が塗工された側の主面（一方側主面）に熱風を供給することによって加熱し、直接的に塗工液を乾燥させる。また、裏面乾燥部３７は、塗工液が塗工された一方主面とは逆側の他方主面に熱風を供給して、基材５を加熱することによって、間接的に塗工液を乾燥させる。

なお、表面乾燥部３５及び裏面乾燥部３７は、熱風を供給する代わりにチャンバ３１１内の雰囲気を加熱するヒータ（ハロゲンヒータ等）等で構成することもできる。また、裏面乾燥部３７は省略されてもよい。

傾動ローラ群３３は、基材５が搬送機構６０によって移動する方向に沿って所定間隔で配列されている。各傾動ローラ３３１は、各チャンバ３１１のそれぞれに配されている。図１または図２に示すように、本例では、チャンバ３１１毎に１つの傾動ローラ３３１が配されているが、数量はこれに限定されない。例えば、一部または全部のチャンバ３１１に、２本以上の傾動ローラ３３１が配されていてもよい。

各傾動ローラ３３１は、基材５の塗工液が塗布された一方主面とは反対側の他方主面に接触する位置に配されており、基材５の他方主面に接触してこれを支持する。本実施形態では、筐体部３１は側面視においてアーチ状（弧状）に湾曲しており、各傾動ローラ３３１もこの形状に対応して非直線状であるアーチ状に配列されている。すなわち、複数の傾動ローラ３３１の高さ位置が、搬送方向上流側から下流側に向けて、低い位置から次第に高くなり、そして再び低くなるように配置されている。

なお、全ての傾動ローラ３３１のうち一部の傾動ローラ３３１のみが他の傾動ローラ３３１とは異なる高さに配されていてもよい。例えば、中間付近の傾動ローラ３３１のみがアーチ状に配されており、その前後に配された２つ以上の傾動ローラ３３１が同じ高さに配されていてもよい。

各傾動ローラ３３１は、受動的に回転するフリーローラとして構成されている。ただし、搬送機構６０によって搬送される基材５の搬送速度に同期して、一部または全部の傾動ローラ３３１が能動的に回転するよう、回転駆動部を設けてもよい。

基材５は、筐体部３１内では、これらの傾動ローラ３３１によって支持されることで、幅方向から見た側面視においてアーチ状に湾曲する。このように基材５を湾曲させることによって、乾燥処理区間１２Ａの直線距離を変えずに、基材５の搬送距離を長くすることができる。

以上のように、本実施形態では、１つの筐体部３１内に配された複数の表面乾燥部３５及び複数の裏面乾燥部３７が、基材５の一方主面に塗工された塗工液を乾燥させる。このため、複数の表面乾燥部３５及び複数の裏面乾燥部３７が配置された区間が、基材５の搬送経路における一部の区間である乾燥処理区間１２Ａに相当する。この乾燥処理区間１２Ａにおいて、複数の傾動ローラ３３１がアーチ状に配列されている。そして、筐体部３１は、乾燥処理区間１２Ａに存する基材５の部分を収容する。乾燥処理区間１２Ａでは、筐体部３１によって、外気を遮断した空間内で乾燥処理が行われるため、乾燥処理の均一性をより一層高めることができる。なお、必ずしも筐体部３１内で乾燥処理が行われる必要はなく、筐体部３１を省略することも妨げられない。

また、筐体部３１内では、複数の傾動ローラ３３１がアーチ状に配されているため、当該複数の傾動ローラ３３１によって支持される基材５の中心軸がアーチ状に湾曲する。このため、図１に示すように、基材５が、進入口３１３Ａにおける基材５の搬送方向（進入方向。矢符ＤＲ２で示す。）と、退出口３１４Ａにおける基材５の搬送方向（退出方向。矢符ＤＲ３で示す。）とは、側面視において鈍角を成している。このように進入方向と波退出方向とが鈍角を成すように基材５の搬入及び搬出を行うことで、進入方向及び退出方向を平行とした場合と比べて、筐体部３１内の直線距離を同一としつつ、基材５の搬送距離を長くすることができる。

乾燥処理部３０Ｂにおいても、筐体部３１の各チャンバ３１１に、表面乾燥部３５及び裏面乾燥部３７が配されている。すなわち、複数の表面乾燥部３５及び複数の裏面乾燥部３７が配置された区間が、乾燥処理区間１２Ｂとなっている。そして、この乾燥処理区間１２Ｂにおいて、複数の傾動ローラ３３１がアーチ状に配列されている。

図３は、実施形態に係る傾動機構４１を説明するための概略正面図である。各傾動ローラ３３１、乾燥処理部３０Ａ，３０Ｂは、図３に示すように、各傾動ローラ３３１を傾動させる傾動機構４１を備えている。

傾動機構４１は、各傾動ローラ３３１の一端部に取付けられている移動部４１１と、各傾動ローラ３３１の他端部に取付けられている固定部４１３と、各移動部４１１を上下に移動させるための駆動源としてのモータ４１５とが設けられている。なお、移動部４１１の駆動源として、モータ４１５の代わりに、例えばシリンダ（空圧式、水圧式または油圧式のもの）等を採用してもよい。移動部４１１の移動方向は、傾動ローラ３３１によって支持される基材５の主面に交差する方向となっている。

固定部４１３は、傾動ローラ３３１の軸の他端部を、その高さ位置を変更しないで回動可能に支持する。このため、モータ４１５の駆動力によって移動部４１１が上下に昇降することで、傾動ローラ３３１が、図３中破線で示すように、固定部４１３周りに一端部が上下に回動する。これによって、傾動ローラ３３１の回転軸が、水平軸ＨＸ１に対して傾斜する。

なお、各チャンバ３１１に設けられた各傾動ローラ３３１のうち、一部が傾動しない通常のローラに置き換えられてもよい。ただし、１つの乾燥処理区間１２Ａ，１２Ｂのそれぞれについて、２つ以上の傾動ローラ３３１が配列されていることが好ましい。

傾動機構４１は、例えば乾燥処理区間１２Ａの傾動ローラ群３３を、単一のモータ４１５で傾動されるように構成されており、各傾動ローラ３３１を同一角度で傾斜するように傾動駆動する。ただし、傾動ローラ３３１毎、もしくは、複数の傾動ローラ３３１毎にモータ４１５が備えられていてもよい。この場合、傾動機構を、傾動ローラ３３１毎、もしくは複数の傾動ローラ３３１毎に個別に傾動させるように構成してもよい。

上述したように、各傾動ローラ３３１によって、基材５をアーチ状に湾曲させて支持するため、基材５を直線的に支持する場合よりも、各傾動ローラ３３１の基材５と接触する接触面の面積（抱き角θ）を大きくすることができる。したがって、各傾動ローラ３３１を傾動させた際に、基材５により確実に引っ掛けることができる。よって、基材５の位置ずれをより確実に修正できる。なお、抱き角θとは、傾動ローラ３３１の回転中心と上記接触面の搬送方向上流側端部とを結ぶ線と、上記回転中心と上記接触面の搬送方向下流側端部とを結ぶ線が成す角度をいう（図２参照）。

また、移動部４１１が設けられる側、及び、固定部４１３が設けられる側は、全ての傾動ローラ３３１で一致していてもよいし、異なっていてもよい。各傾動ローラ３３１において、同じ側に移動部４１１を設けた場合、モータ４１５の駆動を各移動部４１１に伝達する各駆動伝達機構が、搬送経路に対して同じ側に配されることとなるため、メンテナンスが容易となる。

なお、傾斜させる際の角度（水平軸ＨＸ１からの固定部４１３周りの回動角度）は、位置検出器５１Ａ，５１Ｂから送られてくる基材５の位置情報に基づき、制御部７の傾動機構制御部７１１によって決定される。

例えば、位置検出器５１Ａによって、乾燥処理区間１２Ａにおいて、基材５が固定部４１３側にずれていることが検出された場合、傾動機構４１は、移動部４１１を下方へ移動させる。これによって、傾動機構４１は、傾動ローラ３３１の移動部４１１側端部が、の固定部４１３側端部よりも低い位置となるように傾動させる。これによって、基材５を移動部４１１側にずらすことができ、位置ずれを修正することができる。また、基材５が反対側に位置ずれしている場合には、これとは反対方向に傾動するよう制御される。

なお、位置検出器５１Ａは、乾燥処理区間１２Ａの途中に設けられていてもよい。また、位置検出器５１Ｂについても、同様に乾燥処理区間１２Ｂの途中に設けられていてもよい。

図４は、実施形態に係る制御部７と他の要素との電気的な接続を示すブロック図である。制御部７は、演算装置としてのＣＰＵ７１、読み取り専用のＲＯＭ７２、主にＣＰＵ７１のワーキングエリアとして使用されるＲＡＭ７３及び不揮発性の記録媒体である記憶部７４を備えている。制御部７は、表示部７５、操作部７６、モータ４１５及び位置検出器５１Ａ，５１Ｂと接続されている。

ＣＰＵ７１は、記憶部７４に格納されているプログラムＰＧ１を読み取りつつ実行することによって、ＲＡＭ７３または記憶部７４に記憶されている各種データについての演算処理を行う。このように、制御部７は、ＣＰＵ７１、ＲＯＭ７２、ＲＡＭ７３及び記憶部７４を備えた一般的なコンピュータとして構成されている。

図４に示す傾動機構制御部７１１は、ＣＰＵ７１が記憶部７４に記憶されたプログラムＰＧ１にしたがって動作することによって実現される機能モジュールである。傾動機構制御部７１１は、位置検出器５１Ａまたは位置検出器５１Ｂから送られてくる基材５の幅方向の位置情報を取得し、所定の演算処理を行って、乾燥処理区間１２Ａに配された傾動機構４１のモータ４１５または乾燥処理区間１２Ｂに配されたモータ４１５を駆動するように構成されている。

図５は、実施形態に係る複数の傾動ローラ３３１の傾動駆動制御を説明するための概略図である。図５では、基材５のうち、乾燥処理区間１２Ａ内を移動する基材５の部分、及び、乾燥処理区間１２Ａよりも下流側の部分であって、位置検出器５１Ａで位置検出が行われる部分が図示されている。

図５に示すように、位置検出器５１Ａは、基材５の幅方向端部を検出するように構成されている。位置検出器５１Ａの構成としては、投光器と光検出器を組合わせたもの、超音波発生器と超音波検出器を組合わせたもの、気流の変化を検出するもの等、種々考えられる。

上述したように、傾動機構制御部７１１は、位置検出器５１Ａによって基材５の位置ずれが検出された場合、そのずれ量に応じて、各傾動ローラ３３１を傾動させる。ここでは、図５に示すように、基材５が、実線で示す規定の位置から、二点鎖線で示す位置にずれたとする。この場合、傾動機構制御部７１１は、乾燥処理範囲ＲＰ１内に収まるように、位置ずれを修正する。なお、乾燥処理範囲ＲＰ１は、乾燥処理区間１２Ａにおいて、基材５（より詳細には、塗工液が塗工された部分）に対して、ある一定基準の乾燥処理が実行可能である幅方向の範囲をいう。ある一定基準の乾燥処理とは、製品製造上最低限必要とされる乾燥処理をいい、より好ましくは、幅方向において均一な乾燥処理をいう。乾燥処理範囲ＲＰ１は、乾燥処理区間１２Ａに配された乾燥手段（ここでは、表面乾燥部３５及び裏面乾燥部３７）の乾燥処理性能や、チャンバ３１１の大きさ等によって決まる範囲である。

本実施形態では、乾燥処理範囲ＲＰ１は、規定の位置にある基材５よりも幅方向に広い。このため、二点鎖線にずれた基材５を、必ずしも実線で示す規定の位置まで戻す必要はなく、少なくとも乾燥処理範囲ＲＰ１に収まるように戻せればよい。なお、乾燥処理範囲が基材５の幅よりも狭くなることもあり得る。この場合、基材５の乾燥処理対象部分が、当該乾燥処理範囲に含まれるように、位置ずれが修正されればよい。

＜傾動駆動制御フロー＞
図６は、実施形態に係る傾動機構制御部７１１が実行する傾動駆動制御のフローを示す図である。なお、この傾動駆動制御は、搬送機構６０によって搬送される基材５が乾燥処理区間１２Ａまたは乾燥処理区間１２Ｂで乾燥処理されている際に実行される。

傾動機構制御部７１１は、傾動駆動制御を開始すると、位置検出器５１Ａ，５１Ｂによって、位置ずれが検出されたどうかを判定する（ステップＳ１１）。なお、基材５の位置が、図５で説明した、乾燥処理範囲ＲＰ１の内側でずれたものである場合は、傾動機構制御部７１１が位置ずれはないと判定するように構成されてもよい。傾動機構制御部７１１は、位置ずれが検出されるまで、ステップＳ１１の動作を繰り返し行う。

傾動機構制御部７１１は、ステップＳ１１において基材５の位置ずれを検出した場合（ステップＳ１１においてＹｅｓ）、各傾動ローラ３３１の傾動量を特定する（ステップＳ１２）。具体的には、傾動機構制御部７１１は、各移動部４１１の移動方向、及び移動量を特定する。なお、位置ずれの大きさに応じた各傾動ローラ３３１の傾動量については、演算によって取得されるようにしてもよい。あるいは、予め、各傾動ローラ３３１の傾動量を変えて、どの程度位置ずれを修正できるかを実験によって明らかにしておき、必要な修正量に対応した傾動量を特定するようにしてもよい。

続いて、傾動機構制御部７１１は、ステップＳ１２で特定した傾動量に基づき、傾動機構４１のモータ４１５を駆動することによって、各傾動ローラ３３１を傾動させる（ステップＳ１３）。

続いて、傾動機構制御部７１１は、基材５の位置ずれが修正されたかどうかを判定する（ステップＳ１４）。位置ずれが修正されていない場合は（ステップＳ１４においてＮｏ）、傾動機構制御部７１１は、ステップＳ１２に戻り、各傾動ローラ３３１の傾動量を再度特定する。そして、傾動機構制御部７１１は、当該再度特定された傾動量に合わせて、各傾動ローラ３３１を傾動させる（ステップＳ１３）。位置ずれが修正された場合は（ステップＳ１４においてＹｅｓ）、傾動機構制御部７１１は、各傾動ローラ３３１の傾動状態を維持させる。

続いて、傾動機構制御部７１１は、傾動駆動制御を終了するかどうか判定する（ステップＳ１５）。傾動機構制御部７１１は、例えば操作部７６を介してオペレータから終了命令を受け付けた場合には（ステップＳ１５においてＹｅｓ）、傾動駆動制御を終了する。傾動駆動制御を終了しない場合（ステップＳ１５においてＮｏ）、傾動機構制御部７１１は、ステップＳ１１に戻って、傾動駆動制御の処理を続行する。

なお、本フローでは、ステップＳ１２にて傾動量を特定してから、ステップＳ１３にて傾動ローラをその傾動量に合わせて傾動させている。しかしながら、ステップＳ１２では、移動部４１１を移動させるべき方向のみを特定し、ステップＳ１３でその方向に一定量移動させることで、各傾動ローラ３３１の傾動させるようにしてもよい。

以上のように、本実施形態によると、各乾燥処理区間１２Ａ，１２Ｂに配された複数の傾動ローラ３３１によって、基材５の位置ずれを修正することが可能である。このため、各乾燥処理区間１２Ａ，１２Ｂで発生した位置ずれを、各区間内で修正することができる。このため、各乾燥処理区間１２Ａ，１２Ｂの距離が延びても、各区間に配された複数の傾動ローラ３３１によって、位置ずれを修正できる。

また、乾燥処理区間１２Ａ，１２Ｂに配された複数の傾動ローラ３３１を傾動するため、個々の傾動ローラ３３１の傾動量が小さくても、基材５の大きな位置ずれを修正できる。このため、基材５の位置ずれをより確実に修正できるとともに、基材５にしわが発生することを効果的に抑制できる。したがって、乾燥処理区間１２Ａ，１２Ｂにおける乾燥処理の均一性が低下することを効果的に抑制できる。

＜２．変形例＞
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。

例えば、上記実施形態では、乾燥処理区間１２Ａ，１２Ｂにおいて、各傾動ローラ３３１がアーチ状に配列されている。しかしながら、各区間において、全ての傾動ローラ３３１が同じ高さに配列されていてもよい。

また、上記実施形態では、傾動ローラ３３１のうち、一方側端部を、固定された他方側端部に対して相対的に昇降させている。しかしながら、両端部を移動させてもよい。例えば、一方側端部を他方側端部に対して相対的に上昇させる場合、一方側端部を上昇させるとともに、他方側端部を下降させるようにしてもよい。

また、上記実施形態では、乾燥処理部３０Ａ，３０Ｂで乾燥処理される基材５の位置ずれが修正されている。しかしながら、本発明の適用範囲は、乾燥処理に限定されるものではなく、その他の規定処理においても有効である。例えば、ロールｔｏロール方式で搬送される基材に対して、液体を供給して処理するような場合にも、本発明は有効である。この場合、液体処理区間に複数の傾動ローラ３３１が配列される。

また、本発明の適用範囲は、リチウムイオン二次電池の電極材料を塗工液として、塗膜を形成する装置またはシステムに限定されるものではない。本発明は、例えばリチウムイオンキャパシタや太陽電池材料（電極材、封止材）の塗工液の塗膜、あるいは、電子材料の絶縁膜や保護膜の塗膜を形成する装置またはシステムにも適用可能である。さらには、本発明は、顔料や接着剤等の塗工液を塗布して塗膜を形成する装置またはシステムにも適用可能である。

この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。また、上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。

１ 塗膜形成システム
５ 基材
７ 制御部
１０Ａ，１０Ｂ 塗工部
１１Ａ，１１Ｂ ノズル
１２Ａ，１２Ｂ 乾燥処理区間
３０Ａ，３０Ｂ 乾燥処理部
３１ 筐体部
３１１ チャンバ
３１２ 連結部
３１３ 入口
３１３Ａ 搬入口
３１４ 出口
３１４Ａ 搬出口
３３ 傾動ローラ群
３３１ 傾動ローラ
３５ 表面乾燥部
３７ 裏面乾燥部
４１ 傾動機構
４１１ 移動部
４１３ 固定部
４１５ モータ
５１Ａ，５１Ｂ 位置検出器
６０ 搬送機構
６１ 巻出しローラ（第１ローラ）
６２ 巻き取りローラ（第２ローラ）
７１１ 傾動機構制御部
ＲＰ１ 乾燥処理範囲

Claims (9)

1. 第１ローラから送り出された基材を第２ローラで巻き取ることによって所定の搬送方向に連続して搬送される基材に対して、規定処理を行う基材処理装置であって、
   前記搬送機構によって搬送される前記基材の両面のうち少なくとも一方主面に対して、規定処理を行う規定処理部と、
   前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記処理部が前記規定処理を行う処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラと、
   前記複数のローラのうちの２つ以上のローラの各回転軸の一方側端部を、他方側端部に対して相対的に、前記基材の前記他方主面に交差する方向に沿って移動させる傾動機構と、
   前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向の位置を検出する位置検出器と、
   前記位置検出器によって検出された前記基材の位置に基づいて、前記傾動機構を制御する制御部と、
   を備える、基材処理装置。
2. 請求項１に記載の基材処理装置であって、
   前記処理区間に存する前記基材の部分を収容する筐体部、
   をさらに備え、
   前記筐体部には、その内部に前記基材よりも幅広である進入口及び退出口が形成されており、
   前記進入口から前記基材が進入する際の進入方向が、前記退出口から前記基材が退出する際の退出方向と鈍角を成す、基材処理装置。
3. 請求項１または請求項２に記載の基材処理装置であって、
   前記複数のローラが非直線状に配置されていることによって、前記処理区間に存する前記基材の部分がアーチ状に曲げられる、基材処理装置。
4. 請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の基材処理装置であって、
   前記制御部は、前記処理区間に存する前記基材の幅方向の位置が、前記処理部が前記基材に対して前記規定処理を均一に実行可能とされる規定処理範囲内に含まれるように、前記傾動機構を制御する、基材処理装置。
5. 請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の基材処理装置であって、
   前記傾動機構は、前記２つ以上のローラの各他方側の端部を固定する固定部を有する、基材処理装置。
6. 請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の基材処理装置であって、
   前記規定処理が、前記基材の一方主面に塗布された処理液を乾燥させる乾燥処理である、基材処理装置。
7. 基材に塗膜を形成する塗膜形成システムであって、
   第１ローラから送り出された基材を第２ローラで巻き取ることによって所定の搬送方向に連続して基材を搬送する搬送機構と、
   前記搬送機構によって搬送される前記基材の主面に対して、塗工液を吐出するノズルと、
   前記基材に形成された前記塗工液を乾燥させる乾燥処理を行う乾燥処理部と、
   前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記乾燥処理部が前記乾燥処理を行う乾燥処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラと、
   前記複数のローラのうちの２つ以上のローラの各回転軸の一方端を、他方端に対して相対的に、前記基材の他方主面に交差する方向に移動させる傾動機構と、
   前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向の位置を検出する位置検出器と、
   前記位置検出器によって検出された前記基材の位置に基づいて、前記傾動機構を制御する制御部と、
   を備える、塗膜形成システム。
8. 第１ローラから送り出された基材を第２ローラで巻き取ることによって所定の搬送方向に連続して搬送される基材に対して、規定処理を行う基材処理方法であって、
   （ａ）前記搬送機構によって搬送される前記基材の両面のうち少なくとも一方主面に対して、規定処理を行う工程と、
   （ｂ）前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向の位置を検出する工程と、
   （ｃ）前記（ｂ）工程にて検出された前記基材の位置に応じて、前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記規定処理が行われる処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラのうち、２つ以上のローラの各回転軸の一方側端部を、他方側端部に対して相対的に、前記基材の前記他方主面に交差する方向に沿って移動させる工程と、
   を含む、基材処理方法。
9. 基材に塗膜を形成する塗膜形成方法であって、
   （Ａ）第１ローラから送り出された基材を第２ローラで巻き取る搬送機構によって所定の搬送方向に連続して前記基材を搬送する工程と、
   （Ｂ）前記搬送機構によって搬送される前記基材の主面に対して、塗工液を吐出する工程と、
   （Ｃ）前記基材に形成された前記塗工液を乾燥させる乾燥処理を行う工程と、
   （Ｄ）前記基材の前記搬送方向に直交する幅方向の位置を検出する工程と、
   （Ｅ）前記（Ｄ）工程にて検出された前記基材の位置に応じて、前記搬送機構によって搬送される前記基材の搬送経路における一部の区間であって、前記乾燥処理が行われる乾燥処理区間において、前記基材が移動する方向に間隔をあけて配列されており、かつ、前記基材の他方主面に接触する位置に配置されている複数のローラのうち、２つ以上のローラの各回転軸の一方側端部を、他方側端部に対して相対的に前記基材の前記他方主面に交差する方向に沿って移動させる工程と、
   を含む、塗膜形成方法。

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