JP2016157931A - 光誘起キャリヤライフタイム測定方法及び光誘起キャリヤライフタイム測定装置 - Google Patents
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Abstract
Description
出された強度に基づき実効キャリヤライフタイムを算出する処理部とを含み、前記処理部は、前記半導体基体に印加する電圧を変化させながら実効キャリヤライフタイムを算出し、一定値となったときの算出値を実効キャリヤライフタイムの測定値とすることを特徴とする。
図1は、本実施形態の測定装置(光誘起キャリヤライフタイム測定装置)の構成の一例を示す図である。本実施形態の測定装置1は、被測定試料である半導体基体Sに発生した光誘起キャリヤの実効キャリヤライフタイムを測定する装置として構成されている。半導体基体Sは、内蔵電位を持つ(空乏層を有する)半導体基体である。
波強度の一例)からマイクロ波の透過率を求め、求めた透過率に基づき、半導体基体Sの実効キャリヤライフタイムを算出する。
2−1.測定手法
抵抗率17Ωcm、基板厚500μm、結晶方位(100)のn型シリコン基板を用意し、高湿度雰囲気中で1100℃での加熱によりシリコン基板の表面に100nm厚の熱酸化SiO2膜を形成した。
iO2膜、シリコン界面でイオン濃度がピークとなるように加速エネルギーを25keVと設定した。ボロン原子の総ドーズ量は2.0×1015cm−2とし、シリコン基板に1.0×1015cm−2の実効濃度で注入した。同様に、シリコン基板の裏面(他方の表面)に75keVで1.0×1015cm−2の実効濃度のリン原子をイオン注入した。大部分のボロンとリン原子はシリコン基板の表面から60nm以内に位置した。
秒の範囲でτeffの高いダイナミックレンジをもっている。635nm光と980nm光の侵入長は、それぞれ約2.7μmと120μmであった。光誘起少数キャリヤ密度nmは、キャリヤ生成率Gとτeffを用いて、次式のように求めた。
図2に、初期試料の光反射率及び表面にボロンとリンイオンが注入された試料の光反射率(図2(a))と、表面にボロンとリンイオンが注入された後にマイクロ波加熱された試料の光反射率(図2(b))を示す。ここでは、正確な測定のために全ての試料のSiO2層を取り除いた。
。
eff(n+)は8.3×10−5sであり、開放状態のτeff(n+)に匹敵する。また、980nm光照射時のτeff(p+)とτeff(n+)はそれぞれ3.5×10−5s、8.0×10−5sであった。これらの結果は、短絡の電気状態がτeff(p+)を減少させることを示している。
る。τeffの低い値は、バイアス電圧が逆又は0の状態での各光照射条件において測定され、p+ドープ領域において形成された内蔵ポテンシャル障壁の高さと関連付けられた。特に、図4に示すように、635nm光照射時のτeff(p+)は1.2×10−5s以下であった。一方、正のバイアス電圧印加はτeffを増加させた。635nm光照射時のτeff(p+)は著しく1.4×10−4sまで増加させた。0.7V以上の正バイアス状態では4つの光照射条件においてτeffは1.4×10−4sから1.6×10−4sまでの似た値となった。0Vのバイアスにおいてp+n接合領域内で形成された内蔵ポテンシャルは0.83eVと見積もられた。空乏層内で正に荷電された領域があり、p+n界面に隣接しているp+領域内で負に荷電された領域があった。古典的理論によると、光誘起ホール少数キャリヤの擬フェルミ準位は殆ど一定であり、空乏層以上の0.006eVだけによって変化した。理由として、光誘起電流密度は0Vのバイアスにおいて1.4×10−3A/cm2と低かった。本測定条件では、635nm光照射時のキャリヤ生成率は2.45×1015cm−2s−1であった。0Vにおける1.2×10−5sのτeffは5.9×1011cm−3の平均的な光誘起ホールキャリヤ密度を与えた。全ての光誘起ホールキャリヤが光誘起電流に寄与しているとき、電流密度、ホールキャリヤ密度及び素電荷によってホールキャリヤ速度を1.5×104cm/sとして与えた。ホールキャリヤ速度と、450cm2/Vsのホール移動度と、2.8×1014cm−3のNMから得た2.0×10−4cmの空乏層から、ポテンシャルの変化を最大でも0.006eVとして見積もった。従って、光誘起ホール少数キャリヤはp+/n界面までの平坦なバンド状態の中での拡散が可能であった。
図中横方向に拡散して導波管40内の領域に拡散する。拡散量はAl或いはAu電極下のキャリヤ再結合速度に依存する。金属電極が無い場合の拡散量に基づき校正を行って、Al或いはAu電極下のキャリヤ再結合速度を求めた。そのときの結果を図10に示す。
Claims (5)
- 内蔵電位を持つ半導体基体に発生した光誘起キャリヤの実効キャリヤライフタイムを測定する光誘起キャリヤライフタイム測定方法において、
前記半導体基体に対して、電磁波と光誘起キャリヤを発生させるための光とを照射するとともに、前記半導体基体に対して電圧を印加し、
前記半導体基体を透過した電磁波の強度を検出し、
前記半導体基体に印加する電圧を変化させながら、検出された電磁波強度に基づき実効キャリヤライフタイムを算出し、一定値となったときの算出値を実効キャリヤライフタイムの測定値とする、光誘起キャリヤライフタイム測定方法。 - 内蔵電位を持つ半導体基体に発生した光誘起キャリヤの実効キャリヤライフタイムを測定する光誘起キャリヤライフタイム測定方法において、
前記半導体基体に対して、電磁波と光誘起キャリヤを発生させるための光とを照射し、
前記半導体基体を透過した電磁波の強度を検出し、
前記半導体基体に照射する光の強度を増加させながら、検出された電磁波強度に基づき実効キャリヤライフタイムを算出し、一定値となったときの算出値を実効キャリヤライフタイムの測定値とする、光誘起キャリヤライフタイム測定方法。 - 請求項1又は2において、
前記電磁波は、周波数が1GHz〜1THzの電磁波である、光誘起キャリヤライフタイム測定方法。 - 内蔵電位を持つ半導体基体に発生した光誘起キャリヤの実効キャリヤライフタイムを測定する光誘起キャリヤライフタイム測定装置において、
前記半導体基体に対して、光誘起キャリヤを発生させるための光を照射する光照射部と、
前記半導体基体に照射する電磁波を発生する電磁波発生部と、
前記半導体基体に対して電圧を印加する電圧印加部と、
前記半導体基体を透過した電磁波の強度を検出する検出部と、
前記検出部で検出された強度に基づき実効キャリヤライフタイムを算出する処理部とを含み、
前記処理部は、
前記半導体基体に印加する電圧を変化させながら実効キャリヤライフタイムを算出し、一定値となったときの算出値を実効キャリヤライフタイムの測定値とする、光誘起キャリヤライフタイム測定装置。 - 内蔵電位を持つ半導体基体に発生した光誘起キャリヤの実効キャリヤライフタイムを測定する光誘起キャリヤライフタイム測定装置において、
前記半導体基体に対して、光誘起キャリヤを発生させるための光を照射する光照射部と、
前記半導体基体に照射する電磁波を発生する電磁波発生部と、
前記半導体基体を透過した電磁波の強度を検出する検出部と、
前記検出部で検出された強度に基づき実効キャリヤライフタイムを算出する処理部とを含み、
前記処理部は、
前記半導体基体に照射する光の強度を増加させながら実効キャリヤライフタイムを算出し、一定値となったときの算出値を実効キャリヤライフタイムの測定値とする、光誘起キャリヤライフタイム測定装置。
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JP2016025808A Pending JP2016157931A (ja) | 2015-02-20 | 2016-02-15 | 光誘起キャリヤライフタイム測定方法及び光誘起キャリヤライフタイム測定装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016157907A (ja) * | 2015-02-26 | 2016-09-01 | 京セラ株式会社 | 過剰少数キャリアの実効ライフタイム測定方法および過剰少数キャリアの実効ライフタイム測定装置 |
US11041827B2 (en) | 2019-04-12 | 2021-06-22 | International Business Machines Corporation | Carrier-resolved photo-hall system and method |
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JP2000091393A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-03-31 | Kobe Steel Ltd | 半導体評価装置 |
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JP2013145868A (ja) * | 2011-12-16 | 2013-07-25 | Tokyo Univ Of Agriculture & Technology | 光誘起キャリヤライフタイム測定装置及び光誘起キャリヤライフタイム測定方法 |
-
2016
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