JP2016156061A - Method for manufacturing metal or metal oxide laminated plastic film - Google Patents

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飯島 俊和
Toshikazu Iijima
俊和 飯島
植田 征典
Yukinori Ueda
征典 植田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a metal or metal oxide laminated plastic film capable of enduring use in electronic paper, organic EL display and lighting application, etc., and extremely high in gas barrier performance.SOLUTION: A method for manufacturing a metal or metal oxide laminated plastic film 55 includes continuously depositing a metal or metal oxide film on a plastic film 2 using a vacuum film deposition apparatus having means 3 for feeding the plastic film 2, means 6 and 60 for depositing a metal or metal oxide film and winding means 10 in a vacuum vessel 1. The vacuum film formation apparatus has exhaust speed control means for controlling an exhaust time until a pressure in the vacuum vessel 1 reaches a pressure of 1kPa from the atmospheric pressure, and the exhaust time is 270 sec/mor more to the volume of the vacuum vessel 1. The film deposition surface on the plastic film 2 is subjected to foreign matter removal treatment before the plastic film 2 enters into the film deposition means 6 and 60 and enters into the winding means 10.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、食品、医薬品などの包装用途や、太陽電池、電子ペーパー、有機ELディスプレイ・照明などの電子デバイス用部材に使用される極めて優れたガスバリア性能を有する金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造法に関する。   The present invention relates to a metal or metal oxide laminated plastic film having extremely excellent gas barrier performance used for packaging for food, pharmaceuticals, etc., and for electronic devices such as solar cells, electronic paper, organic EL displays and lighting. It relates to the manufacturing method.

プラスチックフィルムの表面に、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法(PVD法)、あるいはプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(CVD法)等を利用して、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム等の金属酸化物や、窒化アルミニウム、窒化ケイ素などの窒化物、炭化ケイ素などの炭化物などの無機化合物薄膜を形成してなるガスバリア性フィルムは、水蒸気や酸素などの遮断を必要とする食品や医薬品などの包装材料、および太陽電池、電子ペーパー、有機ELディスプレイ、照明などの電子デバイス用部材として用いられている。   On the surface of a plastic film, a physical vapor deposition method (PVD method) such as a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a plasma chemical vapor deposition method, a thermal chemical vapor deposition method, a photochemical vapor deposition method, etc. Inorganic compounds such as metal oxides such as aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide, nitrides such as aluminum nitride and silicon nitride, and carbides such as silicon carbide, using the chemical vapor deposition method (CVD method) of The gas barrier film formed by forming a thin film is used as a packaging material for foods and pharmaceuticals that needs to be blocked from water vapor and oxygen, and as a member for electronic devices such as solar cells, electronic paper, organic EL displays, and lighting. ing.

優れたガスバリア性を有するガスバリア性フィルムの製造技術としては、例えばプラスチックフィルム上に有機ケイ素化合物の蒸気と酸素を含有するガスを用いてプラズマCVD法によりケイ素酸化物を主体とし、炭素、水素、ケイ素及び酸素を少なくとも1種類含有した化合物を形成することによって、透明性を維持しつつガスバリア性を向上させる方法が用いられている(特許文献1)。   As a technology for producing a gas barrier film having excellent gas barrier properties, for example, a gas containing an organic silicon compound vapor and oxygen on a plastic film is mainly used for silicon oxide by a plasma CVD method, and carbon, hydrogen, silicon And a method of improving gas barrier properties while maintaining transparency by forming a compound containing at least one kind of oxygen (Patent Document 1).

これらガスバリア性フィルムを製造する加工工程の多くは真空プロセスを用いており、真空排気による急激な気流により真空容器内に付着していた無機化合物の粉塵やチリなどの異物が舞い上がり、プラスチックフィルム基材の表面にこれら異物が付着すると、無機化合物薄膜の成膜時にプラスチックフィルム上には均一な厚さの無機化合物薄膜が形成されず、凹凸などの表面欠陥が生じやすい。また、無機化合物薄膜層が形成される面と反対側のプラスチックフィルム表面に異物が付着すると、その面に対向して無機化合物薄膜層形成面が巻き取られるため、巻き取られたロールには積み重ねられた突起状の変形が形成され、無機化合物薄膜層にクラックや傷の欠点が発生し、ガスバリア性の低下が問題となっている。   Many of the processing steps to manufacture these gas barrier films use a vacuum process, and foreign substances such as dust and dust of inorganic compounds adhering to the vacuum vessel rise by the sudden air flow by evacuation, and the plastic film substrate If these foreign substances adhere to the surface, the inorganic compound thin film having a uniform thickness is not formed on the plastic film when the inorganic compound thin film is formed, and surface defects such as irregularities are likely to occur. In addition, if a foreign substance adheres to the surface of the plastic film opposite to the surface on which the inorganic compound thin film layer is formed, the inorganic compound thin film layer forming surface is wound up facing the surface, so that it is stacked on the wound roll. The protrusion-like deformation thus formed is formed, the defect of cracks and scratches occurs in the inorganic compound thin film layer, and the deterioration of the gas barrier property becomes a problem.

特開2011−201302号公報JP 2011-201302 A

本発明は、従来技術では困難であった電子ペーパー、有機ELディスプレイ、照明用途などの使用に耐えうる極めて高いガスバリア性能を有する金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide a method for producing a metal or metal oxide laminated plastic film having extremely high gas barrier performance that can withstand the use of electronic paper, organic EL displays, lighting applications, etc., which has been difficult with the prior art. To do.

上記課題を解決するために、本発明は以下の構成をとる。   In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration.

第1の発明は、真空容器内にプラスチックフィルムの巻出し手段、金属または金属酸化物の成膜手段、および巻取り手段を有する真空成膜装置を用いてプラスチックフィルムに連続的に金属または金属酸化物を成膜する金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法であって、前記真空成膜装置が、前記真空容器内の圧力が大気圧から1kPaの圧力になるまでの排気時間を調整する排気速度調整手段を有し、前記排気時間が前記真空容器の容積に対し270秒/m以上であり、前記プラスチックフィルムの成膜面を、前記プラスチックフィルムが前記成膜手段に入る前および前記巻取り手段に入る前に異物除去処理することを特徴とする金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法である。 In the first invention, a metal or metal oxide is continuously formed on a plastic film by using a vacuum film forming apparatus having a plastic film unwinding means, a metal or metal oxide film forming means, and a winding means in a vacuum vessel. A method of manufacturing a metal or metal oxide laminated plastic film for forming a film, wherein the vacuum film forming apparatus adjusts an exhaust time until the pressure in the vacuum vessel is changed from atmospheric pressure to 1 kPa. A speed adjusting means, wherein the evacuation time is 270 seconds / m 3 or more with respect to the volume of the vacuum vessel, and the film-forming surface of the plastic film is disposed before the plastic film enters the film-forming means and the winding It is a manufacturing method of the metal or metal oxide laminated plastic film characterized by carrying out a foreign substance removal process before entering the removing means.

第2の発明は、前記プラスチックフィルムの金属または金属酸化物の成膜面と反対側の表面を前記プラスチックフィルムが前記金属または金属酸化物成膜手段を通過した後に、異物除去処理することを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, a foreign matter removing process is performed on the surface of the plastic film opposite to the metal or metal oxide film forming surface after the plastic film has passed through the metal or metal oxide film forming means. And

第3の発明は、前記異物除去処理が、微粘着ロールを接触させて異物を除去する方法からなることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, the foreign matter removing process comprises a method of removing foreign matter by bringing a slightly adhesive roll into contact therewith.

第4の発明は、前記金属または金属酸化物の成膜手段がスパッタリングであることを特徴とする。   The fourth invention is characterized in that the metal or metal oxide film forming means is sputtering.

第5の発明は、前記金属または金属酸化物が、亜鉛、珪素、アルミニウム、銅、錫、酸化亜鉛、酸化珪素、および酸化アルミニウムの少なくとも1種からなることを特徴とする。   The fifth invention is characterized in that the metal or metal oxide comprises at least one of zinc, silicon, aluminum, copper, tin, zinc oxide, silicon oxide, and aluminum oxide.

第6の発明は、第5の発明において、金属または金属酸化物が、酸化亜鉛、酸化珪素、および酸化アルミニウムの混合物からなることを特徴とする。   A sixth invention is characterized in that, in the fifth invention, the metal or the metal oxide comprises a mixture of zinc oxide, silicon oxide, and aluminum oxide.

従来技術では困難であった電子ペーパー、有機ELディスプレイ、照明用途などの使用に耐えうる極めて高いガスバリア性能を有する金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法を提供することができる。   It is possible to provide a method for producing a metal or metal oxide laminated plastic film having extremely high gas barrier performance that can withstand the use of electronic paper, organic EL displays, lighting applications, and the like, which has been difficult with conventional techniques.

本発明における真空成膜装置の真空槽内の構造の一例を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows an example of the structure in the vacuum chamber of the vacuum film-forming apparatus in this invention. 本発明における真空成膜装置内の巻き取り機構の別の一例を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows another example of the winding mechanism in the vacuum film-forming apparatus in this invention. 本発明における異物除去処理方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the foreign material removal processing method in this invention. 本発明における真空容器の排気系統図である。It is an exhaust system diagram of the vacuum vessel in the present invention.

以下に、本発明の金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法を、説明する。   Below, the manufacturing method of the metal or metal oxide laminated plastic film of this invention is demonstrated.

本発明の金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法は、真空容器内にプラスチックフィルムの巻出し手段、金属または金属酸化物の成膜手段、および巻取り手段を有する真空成膜装置を用いてプラスチックフィルムに連続的に金属または金属酸化物を成膜する金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法であって、前記真空成膜装置が、前記真空容器内の圧力が大気圧から1kPaの圧力になるまでの排気時間を調整する排気速度調整手段を有し、前記排気時間が前記真空容器の容積に対し270秒/m以上であり、前記プラスチックフィルムの成膜面を、前記プラスチックフィルムが前記金属または金属酸化物成膜手段に入る前および前記巻取り手段に入る前に異物除去処理することを特徴とする。 The method for producing a metal or metal oxide laminated plastic film of the present invention uses a vacuum film forming apparatus having a plastic film unwinding means, a metal or metal oxide film forming means, and a winding means in a vacuum vessel. A method for producing a metal or metal oxide laminated plastic film in which a metal or metal oxide is continuously formed on a plastic film, wherein the vacuum film forming apparatus is configured such that the pressure in the vacuum container is from atmospheric pressure to 1 kPa. An evacuation speed adjusting means for adjusting an evacuation time until the evacuation time reaches 270 seconds / m 3 or more with respect to the volume of the vacuum vessel, and the plastic film is formed on the film forming surface. Foreign matter removal treatment is performed before entering the metal or metal oxide film forming means and before entering the winding means.

本発明における、プラスチックフィルムとは、有機高分子化合物からなるフィルムであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートあるいはポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール等の各種ポリマーからなるフィルムを使用することができる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンからなるフィルムである。プラスチックフィルムを構成するポリマーは、ホモポリマー、コポリマーのいずれでもよいし、また、単独またはブレンドして用いることができる。   In the present invention, the plastic film is not particularly limited as long as it is a film made of an organic polymer compound. For example, polyolefin such as polyethylene or polypropylene, polyester such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, polyamide, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl Films made of various polymers such as alcohol, saponified ethylene vinyl acetate copolymer, polyacrylonitrile, polyacetal, and the like can be used. A film made of polyethylene terephthalate or polypropylene is preferable. The polymer constituting the plastic film may be either a homopolymer or a copolymer, and may be used alone or in combination.

本発明における金属または金属酸化物は亜鉛、珪素、アルミニウム、銅、錫、酸化亜鉛、酸化珪素、および酸化アルミニウムの少なくとも1種からなるが、これら以外のものでも使用することができる。金属酸化物を用いるとガスバリア性フィルムを透明に形成することができ、透明なガスバリア性フィルムを得ることが必要な場合は、金属酸化物を用いることが、より好ましい。なお、金属酸化物が前記すべての金属化合物の混合物であることがガスバリア性の向上の観点から特に好ましい。なお、珪素は、半金属元素であるが、金属元素と本発明においては称する。   The metal or metal oxide in the present invention comprises at least one of zinc, silicon, aluminum, copper, tin, zinc oxide, silicon oxide, and aluminum oxide, but other than these can also be used. When a metal oxide is used, a gas barrier film can be formed transparently. When it is necessary to obtain a transparent gas barrier film, it is more preferable to use a metal oxide. The metal oxide is particularly preferably a mixture of all the metal compounds from the viewpoint of improving gas barrier properties. Silicon is a metalloid element, but is referred to as a metal element in the present invention.

本発明においては、図1に示すような真空成膜装置を用いることができる。図1は、本発明の真空成膜装置の真空槽内の構造の一例を示す概略側面図である。   In the present invention, a vacuum film forming apparatus as shown in FIG. 1 can be used. FIG. 1 is a schematic side view showing an example of the structure in the vacuum chamber of the vacuum film forming apparatus of the present invention.

図1において、真空容器1には、巻出し手段3、ガイドロール7、50、冷却ロール5、ガイドロール51,52,53、巻取り手段10の順でプラスチックフィルム2を巻き出し、搬送、巻取りできるように配置されている。また冷却ロール5、ガイドロール51、ガイドロール53の表面にはプラスチックフィルム2または、金属または酸化物積層プラスチックフィルムを挟み込むように接触する異物除去手段4、8、9がそれぞれ設置される。また冷却ロール5の周面に対向して成膜手段6、60が設置される。巻出し手段3に装着されたプラスチックフィルム2は、ガイドロール7,50を通過後、冷却ロール5の直前に金属または金属酸化物成膜面を異物除去装置4によって付着した異物が取去られ、その後冷却ロール5表面で搬送される間に成膜手段6、60によって、所望の金属または金属酸化物材料をスパッタリングあるいは反応性蒸着等によりプラスチックフィルム2に成膜加工する。   In FIG. 1, the plastic film 2 is unwound in the vacuum container 1 in the order of unwinding means 3, guide rolls 7 and 50, cooling roll 5, guide rolls 51, 52 and 53, and winding means 10. It is arranged so that it can be taken. Further, foreign matter removing means 4, 8, and 9 are provided on the surfaces of the cooling roll 5, the guide roll 51, and the guide roll 53 so as to contact the plastic film 2 or the metal or oxide laminated plastic film. Further, film forming means 6 and 60 are installed facing the peripheral surface of the cooling roll 5. After the plastic film 2 mounted on the unwinding means 3 passes through the guide rolls 7 and 50, the foreign matter adhered to the metal or metal oxide film forming surface by the foreign matter removing device 4 is removed immediately before the cooling roll 5, Thereafter, while being transported on the surface of the cooling roll 5, a desired metal or metal oxide material is formed into a film on the plastic film 2 by sputtering or reactive vapor deposition by the film forming means 6 and 60.

図1の例では、成膜手段は6、60と2基設置されており、ここに成膜すべき金属または金属酸化物材料を設置してプラスチックフィルム2の表面へ成膜を行う。成膜手段としてはスパッタリングが好ましい。金属または金属酸化物が成膜加工された金属または金属酸化物積層プラスチックフィルム55は、ガイドロール51で担持されながら成膜面の裏面を異物除去装置8によって異物を除去される。その後、金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムはガイドロール52を通過後、ガイドロール53の表面で異物除去装置9によって成膜面に付着した異物が取去られる。その後、金属または金属酸化物積層プラスチックフィルム55は巻取り手段10により巻取られる。   In the example of FIG. 1, two film forming units 6 and 60 are installed, and a metal or metal oxide material to be formed is installed here to form a film on the surface of the plastic film 2. Sputtering is preferable as the film forming means. The metal or metal oxide laminated plastic film 55 on which the metal or metal oxide film is processed is removed by the foreign substance removing device 8 on the back surface of the film formation surface while being supported by the guide roll 51. Thereafter, after the metal or metal oxide laminated plastic film passes through the guide roll 52, the foreign matter attached to the film formation surface is removed by the foreign matter removing device 9 on the surface of the guide roll 53. Thereafter, the metal or metal oxide laminated plastic film 55 is wound up by the winding means 10.

真空容器1内のプラスチックフィルム2および金属または金属酸化物積層プラスチックフィルム55の搬送は、モーター駆動により駆動するロールと、いくつかのガイドロールにより担持して行なうことができる。例えば巻出し手段3、巻取り手段10、冷却ロール5は駆動ロールであることが好ましく、ガイドロール7,50,51,52,53駆動ロールでも自由回転ロールとしても良い。   The plastic film 2 and the metal or metal oxide laminated plastic film 55 in the vacuum container 1 can be transported by a roll driven by a motor and several guide rolls. For example, the unwinding means 3, the winding means 10 and the cooling roll 5 are preferably drive rolls, and may be guide rolls 7, 50, 51, 52, 53 drive rolls or free rotating rolls.

次に、本発明における前記真空容器内の空気の排気時間の調整調整手段について説明する。前記真空成膜装置は、前記真空容器内の圧力が大気圧から1kPaの圧力になるまでの排気時間を調整する排気速度調整手段を有する。   Next, the adjustment / adjustment means for the exhaust time of the air in the vacuum vessel in the present invention will be described. The vacuum film forming apparatus includes an exhaust speed adjusting unit that adjusts an exhaust time until the pressure in the vacuum vessel is changed from atmospheric pressure to 1 kPa.

図4は真空容器の排気系統図である。一般的に真空排気はロータリーポンプ13(以下RPと表記)、メカニカルブースターポンプ14(以下MBPと表記)、油拡散ポンプ15(以下DPと表記)の順に使用し排気を進める。真空容器とDPの間には本引きバルブ16(以下MVと表記)が設置され、真空容器とMVPの間には粗引きバルブ17(以下RVと表記)が設置されている。DPとMBPの間には補助バルブ18(以下FVと表記)が設置され、本引き、粗引きを仕切っている。   FIG. 4 is an exhaust system diagram of the vacuum vessel. Generally, vacuum pumping is performed using a rotary pump 13 (hereinafter referred to as RP), a mechanical booster pump 14 (hereinafter referred to as MBP), and an oil diffusion pump 15 (hereinafter referred to as DP) in order. A main pulling valve 16 (hereinafter referred to as MV) is provided between the vacuum vessel and DP, and a roughing valve 17 (hereinafter referred to as RV) is provided between the vacuum vessel and MVP. An auxiliary valve 18 (hereinafter referred to as FV) is installed between DP and MBP to partition main pulling and roughing.

粗引きとはRPおよびMBPにより真空容器を減圧することをいい、本引きとはDPを使用して真空容器を減圧することを言う。   Roughing means depressurizing the vacuum container with RP and MBP, and main pulling refers to depressurizing the vacuum container with DP.

本発明において、粉塵を舞い上げずに排気するのが好ましい態様の一つは、排気バルブ19を設置する方法が挙げられる。真空容器を減圧し始める時、RVが開いた瞬間、真空槽内の空気が排気される衝撃で真空槽内に堆積していた金属または金属酸化物粉塵やチリが舞い上げられ、プラスチックフィルム2に異物が付着したり、微粘着ロール11、強粘着ロール12に付着し異物除去能力を落としてしまうが、MBPとRVの間に排気バルブ19を設置することにより、粉塵を舞い上げずにゆっくりと排気することができる。例えば、コバレントマテリアル(株)製可変型ソフバックフィルタ自動制御システムなど、排気速度を可変調節する装置を用いることが好適である。但し排気速度の可変調節機能が無くともゆっくり排気することが出来れば小さな内径の単管でもよく、内径の異なる単管を切り替えることでも良い。   In the present invention, one preferred embodiment of exhausting without raising dust is a method of installing an exhaust valve 19. When starting to depressurize the vacuum vessel, the moment the RV is opened, the metal or metal oxide dust or dust accumulated in the vacuum chamber is raised by the impact of exhausting the air in the vacuum chamber, and the plastic film 2 Foreign matter adheres to it, or adheres to the fine adhesive roll 11 and strong adhesive roll 12 and reduces the foreign matter removal capability. By installing the exhaust valve 19 between MBP and RV, it is possible to slowly raise the dust without raising it. Can be exhausted. For example, it is preferable to use a device that variably adjusts the exhaust velocity, such as a variable soft back filter automatic control system manufactured by Covalent Materials Corporation. However, a single pipe with a small inner diameter may be used as long as the exhaust can be performed slowly without a function for adjusting the exhaust speed, and a single pipe with a different inner diameter may be switched.

排気する速度については、真空容器の容量によって異なるが、270秒/m以上の時間で排気することが重要であり、より好ましくは300秒/m以上である。ただし、上限は540秒/mの範囲が好ましい。540秒/mを越える時間をかけることは粉塵巻上げが発生しないものの、成膜に利用する真空度へ到達するまで必要以上に排気時間がかかってしまうという状況となる。1kPa以下の圧力ではポンプの能力全開で排気をしても異物の舞い上がりは起こりにくく、プラスチックフィルム上や、粘着ロールに付着することはない。 About the speed | rate to exhaust, although it changes with the capacity | capacitance of a vacuum vessel, it is important to exhaust in time of 270 second / m < 3 > or more, More preferably, it is 300 second / m < 3 > or more. However, the upper limit is preferably in the range of 540 seconds / m 3 . When a time exceeding 540 seconds / m 3 is applied, although dust winding does not occur, it takes a longer time than necessary to reach the degree of vacuum used for film formation. At a pressure of 1 kPa or less, even if the pump is fully opened and exhausted, foreign matter hardly rises and does not adhere to the plastic film or the adhesive roll.

本発明においてプラスチックフィルム2の成膜面へ成膜する前には、異物除去装置4を用い、成膜後に成膜面の裏面と成膜面をそれぞれ異物除去装置8,9によって付着した異物が取去られることが、好ましい。   In the present invention, the foreign matter removing device 4 is used before film formation on the plastic film 2 deposition surface, and the foreign matter adhered to the back surface and the film formation surface by the foreign matter removal devices 8 and 9 after film formation is formed. It is preferred that it be removed.

本発明において、異物除去手段の好ましい態様の一つは、微粘着ロールを用いる方法が挙げられる。図2は、真空成膜装置内の巻き取り機構の別の一例を示す概略側面図である。図2は、異物除去手段としての微粘着ロール11が、金属または金属酸化物積層プラスチックフィルム55の異物を除去していく。微粘着ロールの材質は特に限定されないが、ブチルゴムやシリコンゴムなどをベースとしたものを使用することができる。例えば、宮川ローラー(株)製“MIMOSA”STや“MIMOSA”B−MT、およびTEKNEK社製XCH390、(株)加貫ローラ製作所ECクリーナーSなどが好適で、プラスチックフィルムの種類等に応じて選択することができる。微粘着ロールの径については、成膜装置に設置できる範囲でできる限り大きい方が良い。   In the present invention, one preferred embodiment of the foreign matter removing means includes a method using a slightly adhesive roll. FIG. 2 is a schematic side view showing another example of a winding mechanism in the vacuum film forming apparatus. In FIG. 2, the slightly adhesive roll 11 as the foreign matter removing means removes foreign matter from the metal or metal oxide laminated plastic film 55. The material of the slightly adhesive roll is not particularly limited, but a material based on butyl rubber or silicon rubber can be used. For example, “MIMOSA” ST and “MIMOSA” B-MT manufactured by Miyagawa Roller Co., Ltd., XCH390 manufactured by TEKNEK Co., Ltd., and EC Cleaner S, Kauki Roller Manufacturing Co., Ltd. are suitable. can do. The diameter of the slightly adhesive roll is preferably as large as possible within the range that can be installed in the film forming apparatus.

また微粘着ロールの異物除去性能を持続させる為に、後方に強粘着ロール12を設置し微粘着ロールに接触させ、微粘着ロールで除去した異物を転写することにより、微粘着ロール12の異物除去性能を持続させることが出来る。強粘着ロール12は微粘着ロールよりも粘着力の強いものが必要である。但し粘着力が強すぎると、微粘着ロールの粘着材を剥ぎ取ってしまう可能性が有るため注意が必要である。   Further, in order to maintain the foreign matter removal performance of the fine adhesive roll, the strong adhesive roll 12 is installed in the rear, brought into contact with the fine adhesive roll, and the foreign matter removed by the fine adhesive roll is transferred to remove the foreign matter from the fine adhesive roll 12. Performance can be sustained. The strong adhesive roll 12 needs to have a stronger adhesive force than the slightly adhesive roll. However, if the adhesive strength is too strong, care should be taken because the adhesive material of the slightly adhesive roll may be peeled off.

異物除去方法として図3に示すとおり、走行するプラスチックフィルム2あるいは金属または金属酸化物積層プラスチックフィルム55を微粘着ロールで上下挟み込み、両面の付着異物を同時に除去する方法でもよい。その場合も微粘着ロール後方に強粘着ロールを設置し微粘着ロールに接触させ、微粘着ロールで除去した異物を転写することにより、微粘着ロールの異物除去性能を持続させることが出来る。   As shown in FIG. 3, the foreign matter removing method may be a method in which the traveling plastic film 2 or the metal or metal oxide laminated plastic film 55 is vertically sandwiched between fine adhesive rolls and the adhered foreign matter on both sides is removed simultaneously. Also in that case, the foreign matter removal performance of the fine adhesive roll can be maintained by installing a strong adhesive roll behind the fine adhesive roll, contacting the fine adhesive roll, and transferring the foreign matter removed by the fine adhesive roll.

但し微粘着ロールを金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムに接触させる場合、接圧が高過ぎると、金属または金属酸化物薄膜を損傷させる可能性があるので注意が必要である。   However, when the slightly adhesive roll is brought into contact with the metal or metal oxide laminated plastic film, care should be taken because the metal or metal oxide thin film may be damaged if the contact pressure is too high.

微粘着ロール11のタイプとしては、(a)一本の微粘着ロール11を金属酸化物積層プラスチックフィルムにあてがい、バッチ毎に微粘着ロール11表面を清掃するタイプ、(b)粘着シートをロールに巻き付けその微粘着ロール11を金属または金属酸化物積層プラスチックフィルム表面にあてがいバッチ毎に粘着シートを交換するタイプ、(c)微粘着ロール11に別のロールをニップしそのニップロールに粘着シートを巻き付けバッチ毎にその粘着シートを交換するタイプなど、必要に応じて選択することができる。   As the type of the slightly adhesive roll 11, (a) a type in which one slightly adhesive roll 11 is applied to the metal oxide laminated plastic film and the surface of the slightly adhesive roll 11 is cleaned for each batch, and (b) the adhesive sheet is used as a roll. A type in which the slightly adhesive roll 11 is applied to the surface of the metal or metal oxide laminated plastic film, and the adhesive sheet is exchanged for each batch. (C) A separate roll is nipped on the slightly adhesive roll 11 and the adhesive sheet is wound around the nip roll. A type in which the pressure-sensitive adhesive sheet is replaced every time can be selected as necessary.

微粘着ロール11の粘着力は、金属または金属酸化物を成膜するプラスチックフィルムに対して適切な範囲を選択することが好ましい。また、微粘着ロール11、強粘着ロール12は、粘着面からの低分子物質のブリードアウトが極力少ない材質のものを選ぶことが好ましい。   It is preferable to select an appropriate range for the adhesive strength of the slightly adhesive roll 11 for a plastic film on which a metal or metal oxide is formed. Moreover, it is preferable to select the slightly adhesive roll 11 and the strong adhesive roll 12 that are made of a material that minimizes the bleed-out of low-molecular substances from the adhesive surface.

本発明の金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法の好ましい態様によれば、被着面に対する粘着力が極力小さい微粘着ロールを用いることが良い。粘着力については、後述する評価方法において200〜800hPaの範囲の粘着力のものが好適となる。粘着力の下限については、被着面に酸化マグネシウムなどの微粉末を少量散布し、その上に微粘着ロールを転がすことにより微粉末が概ね除去される程度のものが微粘着力(異物除去性)の下限ではないかと考えられる。   According to a preferred embodiment of the method for producing a metal or metal oxide laminated plastic film of the present invention, it is preferable to use a slightly adhesive roll having as little adhesive force as possible to the adherend surface. Regarding the adhesive strength, those having an adhesive strength in the range of 200 to 800 hPa are suitable in the evaluation method described later. As for the lower limit of adhesive strength, fine adhesive strength (foreign matter removal property) is such that a small amount of fine powder such as magnesium oxide is sprayed on the adherend surface, and the fine adhesive roll is rolled onto it. ).

また粘着力の測定は、以下のようにしても行なうことが出来る。上下2つの10mm角の平面を重ね合わせることのできるステンレス製の矩形の試料台を引っ張り試験器に装着し、一方に粘着材質の切片を張り付け、他方に被着体の切片を両面粘着テープを用いて貼り付け、常温常湿において3kgの荷重を10秒間かけた後、引っ張り試験を行い、粘着材質と被着体が剥離する際の最大応力を粘着力とする。このような強制試験による粘着力において、プラスチックフィルム2の成膜面または金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの成膜面または成膜面の裏面に対する粘着力の適性範囲は200〜800hPaであった。   Moreover, the measurement of adhesive force can also be performed as follows. Attach a stainless steel rectangular sample table that can be overlapped with two upper and lower 10 mm square planes to a tensile tester, and attach a piece of adhesive material on one side and a piece of adherend on the other side using double-sided adhesive tape After applying a load of 3 kg at room temperature and normal humidity for 10 seconds, a tensile test is performed, and the maximum stress when the adhesive material and the adherend peel off is defined as the adhesive strength. In the adhesive force by such a forced test, the suitable range of the adhesive force with respect to the film-forming surface of the plastic film 2 or the film-forming surface of the metal or metal oxide laminated plastic film or the back surface of the film-forming surface was 200 to 800 hPa.

また、微粘着ロールを搬送されるプラスチックフィルムまたは金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムに接触させる場合、抱き角度をあまり大きくするとシワや平面性不良の原因となる可能性がある。適正な抱き角度の範囲は好ましくは1〜50゜であり、より好ましくは5〜30゜である。   In addition, when the slightly adhesive roll is brought into contact with the plastic film to be transported or the metal or metal oxide laminated plastic film, if the holding angle is too large, wrinkles or poor flatness may be caused. The range of an appropriate holding angle is preferably 1 to 50 °, more preferably 5 to 30 °.

本発明において、金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムが微粘着ロール11に巻きつかないように、微粘着ロール11直後あるいはその後のロールに駆動をかけ、微粘着ロール11前に比べて微粘着ロール11後の金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの速度が若干速くなるようにドローをかけても良い。ドローの値としては、金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの搬送における一般的な値として、0.1%以下の程度である。   In the present invention, in order to prevent the metal or metal oxide laminated plastic film from being wound around the fine adhesive roll 11, the roll is driven immediately after the fine adhesive roll 11 or the subsequent roll, and the fine adhesive roll 11 is compared with before the fine adhesive roll 11. Draw may be applied so that the speed of the subsequent metal or metal oxide laminated plastic film is slightly increased. The draw value is about 0.1% or less as a general value in the conveyance of a metal or metal oxide laminated plastic film.

また、微粘着ロールの表面の好ましい形態の指標として、接触角の変化量がある。粘着ロールをプラスチックフィルム上で1往復転がし、その前後での純水との接触角の変化が30゜を超えないことが好ましい。   In addition, as an index of a preferable form of the surface of the slightly adhesive roll, there is a change amount of the contact angle. It is preferable that the adhesive roll is rolled back and forth on the plastic film, and the change in contact angle with pure water before and after that does not exceed 30 °.

以下、本発明の金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法の具体的な例を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[評価方法]
各実施例および比較例における評価方法を説明する。評価n数は、特に断らない限り、n=5とし平均値を求めた。
Hereinafter, although the specific example of the manufacturing method of the metal or metal oxide laminated plastic film of this invention is demonstrated, this invention is not limited to these Examples.
[Evaluation method]
An evaluation method in each example and comparative example will be described. The number of evaluation n was n = 5 and the average value was obtained unless otherwise specified.

(1)表面品位の確認
金属または金属酸化物積層プラスチックフィルム(300mm×500mm)の表面を実体顕微鏡(倍率40倍)で観察し、大きさが20μm以上の表面欠点にマーキングを行い、さらにそれら欠点をレーザ顕微鏡(キーエンス社製、VK8500)で凹凸を測定し、突起あるいは凹みであることを判定し、深さ2.0μm以上の凹みについてカウントした。0〜4個までは合格とし、5個以上は表面品位として凹凸が目立つ為、不合格とした。
(1) Confirmation of surface quality The surface of a metal or metal oxide laminated plastic film (300 mm x 500 mm) is observed with a stereomicroscope (magnification 40 times), and surface defects with a size of 20 μm or more are marked, and these defects are further observed. Was measured with a laser microscope (VK8500, manufactured by Keyence Corporation) to determine whether it was a protrusion or a dent, and the number of dents having a depth of 2.0 μm or more was counted. 0 to 4 pieces were accepted, and 5 or more pieces were judged unacceptable because the surface quality was uneven.

(2)積層金属または金属酸化物層の厚み
段面観察用サンプルをマイクロサンプリングシステム(日立製FB−2000A)を使用してFIB法により(具体的には「高分子表面加工学」(岩森暁著)p.118〜119に記載の方法に基づいて)作製した。透過型電子顕微鏡(日立製H−9000UHRII)により、加速電圧300kVとして、観察用サンプルの断面を観察し、金属または金属酸化物積層厚みを求めた。
(2) Thickness of laminated metal or metal oxide layer Samples for stepped surface observation using the microsampling system (Hitachi FB-2000A) by the FIB method (specifically “Polymer Surface Processing Studies” (Akira Iwamori) Author) Based on the method described in p. The cross section of the observation sample was observed with a transmission electron microscope (H-9000UHRII manufactured by Hitachi) at an acceleration voltage of 300 kV, and the metal or metal oxide laminate thickness was determined.

(3)水蒸気透過率(g/(m・24h))
温度40℃、相対湿度90%、測定面積50cmの条件で、英国テクノロックス(Technolox)社製の水蒸気透過率測定装置“DELTAPERM”を使用して測定した。サンプル数は水準当たり2検体とし、測定回数は各検体について5回とし、得られた10点の平均値を水蒸気透過率(g/(m・24h))とした。水蒸気透過率の値が金属酸化物積層フィルムは1×10−3g/(m・24h)未満、金属積層フィルムは1.0g/(m・24h)未満のものは合格とし、以上のものは不合格とした。
(3) Water vapor transmission rate (g / (m 2 · 24h))
The measurement was performed using a water vapor transmission rate measuring device “DELTAPERRM” manufactured by Technolox of England under the conditions of a temperature of 40 ° C., a relative humidity of 90%, and a measurement area of 50 cm 2 . The number of samples was 2 samples per level, the number of measurements was 5 for each sample, and the average value of the 10 points obtained was the water vapor transmission rate (g / (m 2 · 24 h)). Value metal oxide laminate film of water vapor permeability is 1 × 10 -3 g / (m 2 · 24h) below, the metal laminated film is evaluated as acceptable of less than 1.0g / (m 2 · 24h) , more Things were rejected.

(実施例1)
図1においてプラスチックフィルム2は厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ(株)製“ルミラー”(登録商標)U48)を使用した。真空容器1の容量は0.65mであり、巻出し手段3、冷却ロール5、巻取り手段10は駆動ロールとした。またガイドロール7、50、51、52、53は自由回転ロールとし、成膜手段6、60はスパッタリング装置を用いた。本真空装置を排気する排気系は図4の排気系統を用い、排気速度調整手段はコバレントマテリアル(株)製可変型ソフバックフィルタ自動制御システムを用いた。本装置は図示しない真空計で真空容器1内の真空度を測定し、排気口径を自動制御するシステムであり、大気圧から1kPaまで任意の排気時間に設定することが出来る。本実施例では大気圧から1kPaまで330秒かけて排気し、それ以降はポンプの能力全開で2.5×10−3Paまで排気した。異物除去手段として、スパッタリング成膜面にはスパッタリング前後、非スパッタリング面はスパッタリング後のみ宮川ローラー社製の微粘着ロール“MIMOSA”B−STを用いた。(粘着力:500hPa)スパッタリング装置には酸化亜鉛/二酸化ケイ素/酸化アルミニウムの混合物を焼結したターゲットを使用し、2×10−1Paとなるようにアルゴンガスおよび酸素ガス(酸素ガス分圧は10%)を導入した。直流電源により投入電力4000Wを印加することにより、アルゴン・酸素ガスプラズマを発生させ、スパッタリングにより前記プラスチックフィルム2の表面上に酸化物層を150nm形成し金属酸化物積層プラスチックフィルムを作製した。
Example 1
In FIG. 1, a polyethylene terephthalate film (“Lumirror” (registered trademark) U48 manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 100 μm was used as the plastic film 2. The capacity of the vacuum vessel 1 was 0.65 m 3 , and the unwinding means 3, the cooling roll 5, and the winding means 10 were drive rolls. The guide rolls 7, 50, 51, 52 and 53 were free rotating rolls, and the film forming means 6 and 60 were sputtering devices. The exhaust system of FIG. 4 was used as the exhaust system for exhausting the vacuum apparatus, and the variable-type soft back filter automatic control system manufactured by Covalent Materials was used as the exhaust speed adjusting means. This device measures the degree of vacuum in the vacuum vessel 1 with a vacuum gauge (not shown) and automatically controls the exhaust port diameter, and can be set to an arbitrary exhaust time from atmospheric pressure to 1 kPa. In this example, the exhaust was performed from atmospheric pressure to 1 kPa over 330 seconds, and thereafter, the pump was fully opened and exhausted to 2.5 × 10 −3 Pa. As a foreign matter removing means, a slightly adhesive roll “MIMOSA” B-ST manufactured by Miyagawa Roller Co., Ltd. was used for the sputtering film formation surface before and after sputtering, and for the non-sputtering surface only after sputtering. (Adhesive strength: 500 hPa) A sputtering apparatus uses a target obtained by sintering a mixture of zinc oxide / silicon dioxide / aluminum oxide, and argon gas and oxygen gas (oxygen gas partial pressure is 2 × 10 −1 Pa). 10%). Argon / oxygen gas plasma was generated by applying an applied power of 4000 W from a DC power source, and an oxide layer was formed to 150 nm on the surface of the plastic film 2 by sputtering to produce a metal oxide laminated plastic film.

酸化物層の厚さは、フィルム搬送速度により調整した。その結果、表面品位検査は凹み個数0で、水蒸気透過率は5×10−4g/(m・24h)と共に合格であった。 The thickness of the oxide layer was adjusted by the film conveyance speed. As a result, the surface quality inspection was 0 with the number of dents, and the water vapor transmission rate passed with 5 × 10 −4 g / (m 2 · 24 h).

(実施例2)
実施例1において大気圧から1kPaまでの排気時間のみ180秒へ変更し他の条件は同じとした。その結果、表面品位検査は凹み数4で水蒸気透過率は9×10−4g/(m・24h)と共に合格であったが、実施例1よりも品位の低下が確認された。
(Example 2)
In Example 1, only the exhaust time from atmospheric pressure to 1 kPa was changed to 180 seconds, and other conditions were the same. As a result, the surface quality inspection was acceptable with a number of dents of 4 and a water vapor transmission rate of 9 × 10 −4 g / (m 2 · 24 h), but a lower quality than in Example 1 was confirmed.

(実施例3)
実施例1において非スパッタリング面の微粘着ロールのみ取り外し、他は同様とした。その結果、表面品位検査は凹み数2で水蒸気透過率は6×10−4g/(m・24h)と共に合格であったが、実施例1よりも若干の品位の低下が確認された。
(Example 3)
In Example 1, only the slightly adhesive roll on the non-sputtering surface was removed, and the others were the same. As a result, the surface quality inspection was acceptable with a dent number of 2 and a water vapor transmission rate of 6 × 10 −4 g / (m 2 · 24 h), but a slight deterioration in quality was confirmed compared to Example 1.

(実施例4)
実施例1においてスパッタリング装置には純度99.99%のアルミニウムをターゲットとして使用し、導入ガスはアルゴンガスのみとした。スパッタリングにより前記プラスチックフィルム2の表面上に150nmのアルミニウム金属層を形成し金属積層プラスチックフィルムを作成した。
(Example 4)
In Example 1, aluminum having a purity of 99.99% was used as a target in the sputtering apparatus, and the only introduced gas was argon gas. A 150 nm aluminum metal layer was formed on the surface of the plastic film 2 by sputtering to produce a metal laminated plastic film.

金属層の厚さは、フィルム搬送速度により調整した。その結果、表面品位検査は凹み個数0で水蒸気透過率は0.6g/(m・24h)と共に合格であった。 The thickness of the metal layer was adjusted by the film conveyance speed. As a result, the surface quality inspection passed with 0 dents and a water vapor transmission rate of 0.6 g / (m 2 · 24 h).

(比較例1)
実施例1において、排気速度調整手段を排気口径全開状態で制御させず、大気圧から1kPaまで排気した。排気時間は100秒であった。また異物除去手段を用いず、微粘着ロールは取り外した状態で、他は変更せず成膜を行い、前記プラスチックフィルム2の表面上に酸化物層を150nm形成し金属酸化物積層プラスチックフィルムを作製した。
(Comparative Example 1)
In Example 1, the exhaust speed adjusting means was exhausted from atmospheric pressure to 1 kPa without being controlled in the exhaust port diameter fully opened state. The exhaust time was 100 seconds. Further, without using the foreign matter removing means, the fine adhesive roll was removed, and the film was formed without changing the others, and an oxide layer was formed on the surface of the plastic film 2 to produce a metal oxide laminated plastic film. did.

その結果、表面品位検査は凹み個数10個であり、水蒸気透過率は6×10−3g/(m・24h)となり共に不合格であった。 As a result, the surface quality inspection was 10 dents and the water vapor transmission rate was 6 × 10 −3 g / (m 2 · 24 h), both of which were unacceptable.

(比較例2)
実施例1において排気速度調整手段を排気口径全開状態で制御させず、大気圧から1kPaまで排気時間は100秒で排気した。しかし他の条件や異物除去手段は実施例1と同様とした。その結果、表面品位検査は凹み個数7個であり、水蒸気透過率は3×10−3g/(m・24h)となり共に不合格であった。
(Comparative Example 2)
In Example 1, the exhaust speed adjusting means was not controlled in the exhaust port diameter fully opened state, and the exhaust time was 100 seconds from atmospheric pressure to 1 kPa. However, other conditions and foreign matter removing means were the same as in Example 1. As a result, the surface quality inspection was 7 dents and the water vapor transmission rate was 3 × 10 −3 g / (m 2 · 24 h), both of which were unacceptable.

(比較例3)
実施例1において異物除去手段を用いず微粘着ロールは取り外した状態とした。他の条件や排気速度調整手段は実施例1と同様とした。その結果、表面品位検査は凹み個数8個であり、水蒸気透過率は5×10−3g/(m・24h)となり共に不合格であった。
(Comparative Example 3)
In Example 1, the fine adhesive roll was removed without using the foreign matter removing means. Other conditions and the exhaust speed adjusting means were the same as those in Example 1. As a result, the surface quality inspection had 8 dents and the water vapor transmission rate was 5 × 10 −3 g / (m 2 · 24 h), both of which were unacceptable.

実施例、比較例の実施結果を表1に示す。   Table 1 shows the results of the examples and comparative examples.

(比較例4)
実施例4において、排気速度調整手段を排気口径全開状態で制御させず、大気圧から1kPaまで排気した。排気時間は100秒であった。また異物除去手段を用いず、微粘着ロールは取り外した状態で、他は変更せず成膜を行い、前記プラスチックフィルム2の表面上にアルミニウム金属層を150nm形成し金属積層プラスチックフィルムを作製した。
(Comparative Example 4)
In Example 4, the exhaust speed adjusting means was exhausted from atmospheric pressure to 1 kPa without being controlled in the exhaust port diameter fully opened state. The exhaust time was 100 seconds. Further, without using the foreign matter removing means, the film was formed without changing the other with the slightly adhesive roll removed, and an aluminum metal layer having a thickness of 150 nm was formed on the surface of the plastic film 2 to produce a metal laminated plastic film.

その結果、表面品位検査は凹み個数9個であり、水蒸気透過率は1.8g/(m・24h)となり共に不合格であった。 As a result, the surface quality inspection was 9 dents and the water vapor transmission rate was 1.8 g / (m 2 · 24 h), both of which were unacceptable.

本発明による金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムは、水蒸気や酸素などのガスバリア性能に優れていることから、太陽電池や、有機ELディスプレイなどの表示体素子に用いることができる。例えば、有機薄膜太陽電池においては、発光層を片面、あるいは両面から本発明による金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムで挟み込む構成にすることにより、発電性能の低下が小さい有機薄膜太陽電池を提供することができる。また、有機ELディスプレイにおいては、発光層を片面、あるいは両面から本発明による金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムで挟み込む構成にすることにより発光特性の低下が小さい有機ELディスプレイを提供することができる。   Since the metal or metal oxide laminated plastic film according to the present invention is excellent in gas barrier performance such as water vapor and oxygen, it can be used for display elements such as solar cells and organic EL displays. For example, in an organic thin-film solar cell, an organic thin-film solar cell with a small decrease in power generation performance is provided by sandwiching a light-emitting layer from one side or both sides with a metal or metal oxide laminated plastic film according to the present invention. Can do. Further, in the organic EL display, an organic EL display with a small decrease in light emission characteristics can be provided by sandwiching the light emitting layer from one side or both sides with the metal or metal oxide laminated plastic film according to the present invention.

1 真空容器
2 プラスチックフィルム
3 巻出し手段
4 異物除去手段
5 冷却ロール
6 製膜手段
7 ガイドロール
8 異物除去手段
9 異物除去手段
10 巻取り手段
11 微粘着ロール
12 微粘着ロール
13 ロータリーポンプ(RP)
14 メカニカルブースターポンプ(MBP)
15 油拡散ポンプ(DP)
16 本引きバルブ(MV)
17 粗引きバルブ(RV)
18 補助バルブ(FV)
19 排気バルブ
50 ガイドロール
51 ガイドロール
52 ガイドロール
53 ガイドロール
55 金属または金属酸化物積層プラスチックフィルム
60 成膜手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum container 2 Plastic film 3 Unwinding means 4 Foreign matter removal means 5 Cooling roll 6 Film forming means 7 Guide roll 8 Foreign matter removal means 9 Foreign matter removal means 10 Winding means 11 Slightly adhesive roll 12 Slightly adhesive roll 13 Rotary pump (RP)
14 Mechanical booster pump (MBP)
15 Oil diffusion pump (DP)
16-pull valve (MV)
17 Roughing valve (RV)
18 Auxiliary valve (FV)
19 Exhaust valve 50 Guide roll 51 Guide roll 52 Guide roll 53 Guide roll 55 Metal or metal oxide laminated plastic film 60 Film forming means

Claims (6)

真空容器内にプラスチックフィルムの巻出し手段、金属または金属酸化物の成膜手段、および巻取り手段を有する真空成膜装置を用いてプラスチックフィルムに連続的に金属または金属酸化物を成膜する金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法であって、
前記真空成膜装置が、前記真空容器内の圧力が大気圧から1kPaの圧力になるまでの排気時間を調整する排気速度調整手段を有し、
前記排気時間が前記真空容器の容積に対し270秒/m以上であり、
前記プラスチックフィルムの成膜面を、前記プラスチックフィルムが前記成膜手段に入る前および前記巻取り手段に入る前に異物除去処理することを特徴とする金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法。
Metal that continuously deposits metal or metal oxide on a plastic film using a vacuum film forming apparatus having a plastic film unwinding means, a metal or metal oxide film forming means, and a winding means in a vacuum vessel Or a method for producing a metal oxide laminated plastic film,
The vacuum film-forming apparatus has an exhaust speed adjusting means for adjusting an exhaust time until the pressure in the vacuum container is changed from atmospheric pressure to a pressure of 1 kPa,
The evacuation time is 270 seconds / m 3 or more with respect to the volume of the vacuum vessel;
A method for producing a metal or metal oxide laminated plastic film, wherein the film-forming surface of the plastic film is subjected to foreign matter removal treatment before the plastic film enters the film forming means and before entering the winding means.
前記プラスチックフィルムの金属または金属酸化物の成膜面と反対側の表面を前記プラスチックフィルムが前記金属または金属酸化物成膜手段を通過した後に、異物除去処理することを特徴とする請求項1に記載の金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法。 2. The foreign matter removing treatment is performed on the surface of the plastic film opposite to the metal or metal oxide film forming surface after the plastic film passes through the metal or metal oxide film forming means. The manufacturing method of the metal or metal oxide laminated plastic film of description. 前記異物除去処理が、微粘着ロールを接触させて異物を除去する方法からなることを特徴とする請求項1または2に記載の金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法。 The method for producing a metal or metal oxide laminated plastic film according to claim 1 or 2, wherein the foreign matter removal treatment comprises a method of removing the foreign matter by contacting a slightly adhesive roll. 前記金属または金属酸化物の成膜手段がスパッタリングであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法。 The method for producing a metal or metal oxide laminated plastic film according to any one of claims 1 to 3, wherein the metal or metal oxide film forming means is sputtering. 前記金属または金属酸化物が、亜鉛、珪素、アルミニウム、銅、錫、酸化亜鉛、酸化珪素、および酸化アルミニウムの少なくとも1種からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法。 The metal according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal or metal oxide comprises at least one of zinc, silicon, aluminum, copper, tin, zinc oxide, silicon oxide, and aluminum oxide. Or the manufacturing method of a metal oxide laminated plastic film. 前記金属または金属酸化物が、酸化亜鉛、酸化珪素、および酸化アルミニウムの混合物からなることを特徴とする請求項5に記載の金属または金属酸化物積層プラスチックフィルムの製造方法。
6. The method for producing a metal or metal oxide laminated plastic film according to claim 5, wherein the metal or metal oxide comprises a mixture of zinc oxide, silicon oxide, and aluminum oxide.
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