JP2016152322A - 固体撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】画素面積の増大を抑制しつつ混色を低減させることが可能な固体撮像装置を提供する。
【解決手段】光学分離層23は、互いに隣接する画素PC間において画素PCの隅を避けるようにして半導体基板21に配置され、画素PCの隅のアクティブ領域には、拡散層H1〜H8が配置され、拡散層H1〜H8は電源電位またはグランド電位に設定される。
【選択図】図4
【解決手段】光学分離層23は、互いに隣接する画素PC間において画素PCの隅を避けるようにして半導体基板21に配置され、画素PCの隅のアクティブ領域には、拡散層H1〜H8が配置され、拡散層H1〜H8は電源電位またはグランド電位に設定される。
【選択図】図4
Description
本発明の実施形態は固体撮像装置に関する。
固体撮像装置では、混色を防止するため、1画素ずつ素子分離する構造があった。
本発明の一つの実施形態は、画素面積の増大を抑制しつつ混色を低減させることが可能な固体撮像装置を提供することを目的とする。
本発明の一つの実施形態によれば、半導体基板と、画素と、光学分離層と、拡散層とを備える。画素は、前記半導体基板に設けられ、ロウ方向およびカラム方向に配置されている。光学分離層は、前記画素の隅を避けるようにして隣接画素間に配置され、前記半導体基板内で光の透過を遮断する。拡散層は、前記画素の隅に配置されるようにして前記半導体基板に形成され、電源電位またはグランド電位に設定される。
以下に添付図面を参照して、実施形態に係る固体撮像装置を詳細に説明する。なお、これらの実施形態により本発明が限定されるものではない。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係る固体撮像装置の画素の構成例を示す回路図である。なお、図1では、4画素1セル構造を例にとった。
図1において、緑色画素GrにはフォトダイオードPD−Grが設けられ、フォトダイオードPD−Grは読み出しトランジスタTGgrを介してフローティングディフュージョンFDに接続されている。赤色画素RにはフォトダイオードPD−Rが設けられ、フォトダイオードPD−Rは読み出しトランジスタTGrを介してフローティングディフュージョンFDに接続されている。青色画素BにはフォトダイオードPD−Bが設けられ、フォトダイオードPD−Bは読み出しトランジスタTGbを介してフローティングディフュージョンFDに接続されている。緑色画素GbにはフォトダイオードPD−Gbが設けられ、フォトダイオードPD−Gbは読み出しトランジスタTGgbを介してフローティングディフュージョンFDに接続されている。各フォトダイオードPD−Gr、PD−R、PD−B、PD−Gbのアノードはグランド電位VSSに接続されている。
図1は、第1実施形態に係る固体撮像装置の画素の構成例を示す回路図である。なお、図1では、4画素1セル構造を例にとった。
図1において、緑色画素GrにはフォトダイオードPD−Grが設けられ、フォトダイオードPD−Grは読み出しトランジスタTGgrを介してフローティングディフュージョンFDに接続されている。赤色画素RにはフォトダイオードPD−Rが設けられ、フォトダイオードPD−Rは読み出しトランジスタTGrを介してフローティングディフュージョンFDに接続されている。青色画素BにはフォトダイオードPD−Bが設けられ、フォトダイオードPD−Bは読み出しトランジスタTGbを介してフローティングディフュージョンFDに接続されている。緑色画素GbにはフォトダイオードPD−Gbが設けられ、フォトダイオードPD−Gbは読み出しトランジスタTGgbを介してフローティングディフュージョンFDに接続されている。各フォトダイオードPD−Gr、PD−R、PD−B、PD−Gbのアノードはグランド電位VSSに接続されている。
そして、フローティングディフュージョンFDは、増幅トランジスタTampのゲートに接続され、増幅トランジスタTampのソースは垂直信号線Vlinに接続され、増幅トランジスタTampのドレインは行選択トランジスタTadrを介して電源電位VDDに接続されている。また、フローティングディフュージョンFDは、リセットトランジスタTrstを介して電源電位VADに接続されている。読み出しトランジスタTGgr、TGr、TGb、TGgbのゲートには読み出し信号ΦD1〜ΦD4をそれぞれ入力することができる。リセットトランジスタTrstのゲートにはリセット信号ΦRを入力することができる。行選択トランジスタTadrのゲートには行選択信号ΦAを入力することができる。
図2は、図1の画素の光学分離層のレイアウト例を示す平面図である。
図2において、半導体基板21には画素PCが設けられている。半導体基板21の材料は、例えば、Si、Ge、SiGe、GaAs、GaAlAs、InP、GaP、GaN、SiC、InGaAsPなどを用いることができる。また、半導体基板21には光学分離層23が埋め込まれている。光学分離層23は、半導体基板21の表面に露出させることができる。光学分離層23は、互いに隣接する画素PC間に配置され、半導体基板21内で光の透過を遮断することができる。ここで、光学分離層23は、画素PCの隅を避けるようにして半導体基板21に配置されている。この時、各画素PCのアクティブ領域は光学分離層23で分断されないようにすることができ、各画素PCのアクティブ領域を半導体基板21内で繋げることができる。アクティブ領域には、半導体基板21のチャネル領域または不純物拡散領域が設けられる。光学分離層23は、光を吸収する光吸収層であってもよいし、光を反射する光反射層であってもよい。この光反射層は、半導体基板21の入射光を全反射させる全反射層であってもよい。光学分離層23の材料は、Alなどの金属を用いるようにしてもよいし、酸化シリコン、窒化シリコンあるいは酸化アルミニウムなどの絶縁体を用いるようにしてもよい。
図2において、半導体基板21には画素PCが設けられている。半導体基板21の材料は、例えば、Si、Ge、SiGe、GaAs、GaAlAs、InP、GaP、GaN、SiC、InGaAsPなどを用いることができる。また、半導体基板21には光学分離層23が埋め込まれている。光学分離層23は、半導体基板21の表面に露出させることができる。光学分離層23は、互いに隣接する画素PC間に配置され、半導体基板21内で光の透過を遮断することができる。ここで、光学分離層23は、画素PCの隅を避けるようにして半導体基板21に配置されている。この時、各画素PCのアクティブ領域は光学分離層23で分断されないようにすることができ、各画素PCのアクティブ領域を半導体基板21内で繋げることができる。アクティブ領域には、半導体基板21のチャネル領域または不純物拡散領域が設けられる。光学分離層23は、光を吸収する光吸収層であってもよいし、光を反射する光反射層であってもよい。この光反射層は、半導体基板21の入射光を全反射させる全反射層であってもよい。光学分離層23の材料は、Alなどの金属を用いるようにしてもよいし、酸化シリコン、窒化シリコンあるいは酸化アルミニウムなどの絶縁体を用いるようにしてもよい。
図3は、図1の画素のゲート電極および配線のレイアウト例を示す平面図である。なお、図3では、裏面照射型CMOSイメージセンサを例にとった。また、図3では、4画素1セル構造を例にとった。また、図3では、2行2列の4画素分のゲート電極およびその周囲の拡散層のレイアウト例を示した。
図3において、各画素PCの四隅では光学分離層23が除去され、各画素PCの四隅にはアクティブ領域が設けられている。そして、2行2列の4個の画素PCの隅間のアクティブ領域にはフローティングディフュージョンFDが配置され、4個の画素PCにて1個のフローティングディフュージョンFDが共有されている。また、2行2列の4個の画素PCの周囲のアクティブ領域には、拡散層H1〜H8が配置されている。拡散層H1〜H8は電源電位またはグランド電位に設定することができる。例えば、拡散層H1〜H4は図1のグランド電位VSSに接続し、拡散層H5、H6は図1の電源電位VADに接続し、拡散層H7、H8は図1の電源電位VDDに接続することができる。ここで、各画素PCのアクティブ領域は半導体基板21内で繋がっているので、各拡散層H1〜H8は、互いに隣接する画素PC間で共有することができる。また、各画素PC内のアクティブ領域には拡散層H11〜H14が配置されている。拡散層H11〜H14はトランジスタのソースまたはドレインとして用いることができる。また、半導体基板21上には、画素PCに重なるようにゲート電極G1〜G9が配置されている。ゲート電極G1〜G4はフローティングディフュージョンFDに隣接するように配置されている。なお、ゲート電極G1〜G4は、図1の読み出しトランジスタTGgr、TGr、TGb、TGgbに用いることができる。ゲート電極G5、G6、G9は、図1の増幅トランジスタTampに用いることができる。ゲート電極G7は、図1の行選択トランジスタTadrに用いることができる。ゲート電極G8は、図1のリセットトランジスタTrstに用いることができる。ここで、拡散層H11〜H13は、配線W2、W3を介して接続されている。フローティングディフュージョンFD、拡散層H14およびゲート電極G5、G6、G9は、配線W1を介して接続されている。ここで、互いに隣接する画素PC間で各拡散層H1〜H8を共有することにより、画素PCごとに拡散層H1〜H8を設ける必要がなくなり、レイアウト面積を縮小することができる。また、画素PCに重なるようにゲート電極G1〜G9を配置することにより、画素PC間にゲート電極G1〜G9を配置した構成に比べて、増幅トランジスタTampなどの駆動力を向上させつつ、レイアウト面積を縮小することができる。このため、撮像画像の高品質化を図りつつ、固体撮像装置の小型化を図ることができる。なお、上述した実施形態では、4画素1セル構造を例にとったが、2画素1セル構造に適用するようにしてもよいし、8画素1セル構造に適用するようにしてもよい。
図3において、各画素PCの四隅では光学分離層23が除去され、各画素PCの四隅にはアクティブ領域が設けられている。そして、2行2列の4個の画素PCの隅間のアクティブ領域にはフローティングディフュージョンFDが配置され、4個の画素PCにて1個のフローティングディフュージョンFDが共有されている。また、2行2列の4個の画素PCの周囲のアクティブ領域には、拡散層H1〜H8が配置されている。拡散層H1〜H8は電源電位またはグランド電位に設定することができる。例えば、拡散層H1〜H4は図1のグランド電位VSSに接続し、拡散層H5、H6は図1の電源電位VADに接続し、拡散層H7、H8は図1の電源電位VDDに接続することができる。ここで、各画素PCのアクティブ領域は半導体基板21内で繋がっているので、各拡散層H1〜H8は、互いに隣接する画素PC間で共有することができる。また、各画素PC内のアクティブ領域には拡散層H11〜H14が配置されている。拡散層H11〜H14はトランジスタのソースまたはドレインとして用いることができる。また、半導体基板21上には、画素PCに重なるようにゲート電極G1〜G9が配置されている。ゲート電極G1〜G4はフローティングディフュージョンFDに隣接するように配置されている。なお、ゲート電極G1〜G4は、図1の読み出しトランジスタTGgr、TGr、TGb、TGgbに用いることができる。ゲート電極G5、G6、G9は、図1の増幅トランジスタTampに用いることができる。ゲート電極G7は、図1の行選択トランジスタTadrに用いることができる。ゲート電極G8は、図1のリセットトランジスタTrstに用いることができる。ここで、拡散層H11〜H13は、配線W2、W3を介して接続されている。フローティングディフュージョンFD、拡散層H14およびゲート電極G5、G6、G9は、配線W1を介して接続されている。ここで、互いに隣接する画素PC間で各拡散層H1〜H8を共有することにより、画素PCごとに拡散層H1〜H8を設ける必要がなくなり、レイアウト面積を縮小することができる。また、画素PCに重なるようにゲート電極G1〜G9を配置することにより、画素PC間にゲート電極G1〜G9を配置した構成に比べて、増幅トランジスタTampなどの駆動力を向上させつつ、レイアウト面積を縮小することができる。このため、撮像画像の高品質化を図りつつ、固体撮像装置の小型化を図ることができる。なお、上述した実施形態では、4画素1セル構造を例にとったが、2画素1セル構造に適用するようにしてもよいし、8画素1セル構造に適用するようにしてもよい。
図4は、図3のA−A線で切断した構成例を示す断面図、図5は、図3のB−B線で切断した構成例を示す断面図である。
図4および図5において、半導体基板21には、画素PCごとに光電変換層22が形成されている。光電変換層22の裏面側にはピンニング層24が形成され、光電変換層22の表面側にはピンニング層25が形成されている。半導体基板21はP型半導体を用いることができる。光電変換層22はn−型不純物拡散層を用いることができる。ピンニング層24、25はp+型不純物拡散層を用いることができる。フローティングディフュージョンFDはn+型不純物拡散層を用いることができる。ここで、図4に示すように、画素PCの辺方向には光学分離層23が設けられ、図5に示すように、画素PCの隅方向では光学分離層23が除去されている。そして、画素PCの隅方向において、光学分離層23が除去された領域には、フローティングディフュージョンFDおよび拡散層H1、H3が配置されている。また、半導体基板21の裏面側にはカラーフィルタ26が画素PCごとに設けられている。カラーフィルタ26上にはマイクロレンズ27が画素PCごとに設けられている。
そして、入射光LIがマイクロレンズ27にて集光された後、カラーフィルタ26にて波長選択が行われ、光電変換層22に入射する。そして、光電変換層22において入射光LIが電荷e−に変換され、光電変換層22に蓄積される。この時、光電変換層22に入射した入射光LIが光学分離層23に到達すると、その入射光LIが光学分離層23にて反射され、元の光電変換層22に戻される。このため、自分の画素PCと異なる色のカラーフィルタ26を通過した入射光LIが自分の画素PCに入射するのを防止することができ、混色を防止することができる。
図4および図5において、半導体基板21には、画素PCごとに光電変換層22が形成されている。光電変換層22の裏面側にはピンニング層24が形成され、光電変換層22の表面側にはピンニング層25が形成されている。半導体基板21はP型半導体を用いることができる。光電変換層22はn−型不純物拡散層を用いることができる。ピンニング層24、25はp+型不純物拡散層を用いることができる。フローティングディフュージョンFDはn+型不純物拡散層を用いることができる。ここで、図4に示すように、画素PCの辺方向には光学分離層23が設けられ、図5に示すように、画素PCの隅方向では光学分離層23が除去されている。そして、画素PCの隅方向において、光学分離層23が除去された領域には、フローティングディフュージョンFDおよび拡散層H1、H3が配置されている。また、半導体基板21の裏面側にはカラーフィルタ26が画素PCごとに設けられている。カラーフィルタ26上にはマイクロレンズ27が画素PCごとに設けられている。
そして、入射光LIがマイクロレンズ27にて集光された後、カラーフィルタ26にて波長選択が行われ、光電変換層22に入射する。そして、光電変換層22において入射光LIが電荷e−に変換され、光電変換層22に蓄積される。この時、光電変換層22に入射した入射光LIが光学分離層23に到達すると、その入射光LIが光学分離層23にて反射され、元の光電変換層22に戻される。このため、自分の画素PCと異なる色のカラーフィルタ26を通過した入射光LIが自分の画素PCに入射するのを防止することができ、混色を防止することができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
PC 画素、21 半導体基板、22 光電変換層、23 光学分離層、24、25 ピンニング層、26 カラーフィルタ、27 マイクロレンズ、H1〜H8 拡散層、G1〜G9 ゲート電極、W1〜W3 配線
Claims (5)
- 半導体基板と、
前記半導体基板に設けられ、ロウ方向およびカラム方向に配置された画素と、
前記画素の隅を避けるようにして隣接画素間に配置され、前記半導体基板内で光の透過を遮断する光学分離層と、
前記画素の隅に配置されるようにして前記半導体基板に形成され、電源電位またはグランド電位に設定される拡散層とを備える固体撮像装置。 - 前記光学分離層は前記画素の4隅で除去され、前記拡散層は前記画素の4隅に配置されている請求項1に記載の固体撮像装置。
- 前記拡散層は前記隣接画素間で共有される請求項1に記載の固体撮像装置。
- 4個の画素が2行2列に配置された4画素1セル構造を備え、
前記4個の画素の隅間に配置され、前記4個の画素で共有されるフローティングディフュージョンと、
前記フローティングディフュージョンに隣接するように前記画素ごとに前記半導体基板上に配置された4個のリードゲート電極と、
前記4個の画素で共有され、前記半導体基板上に配置されたリセットゲート電極と、
前記4個の画素で共有され、前記半導体基板上に配置されたアンプゲート電極とを備える請求項1に記載の固体撮像装置。 - 前記拡散層は前記4画素1セル構造の周囲のアクティブ領域に配置されている請求項4に記載の固体撮像装置。
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