JP2016152155A - 表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】発光層から出た光の利用効率を向上できる表示装置の提供。
【解決手段】複数の画素を有する表示装置であって、複数の画素のそれぞれに配置されている画素電極と、少なくとも隣り合う画素の間に形成されるバンクと、複数の画素に亘って配置され、画素電極とバンクとを覆っている共通電極と、画素電極と共通電極との間に形成されている発光部を複数の画素のそれぞれに有している発光層と、を備え、複数の画素のうちの少なくとも一の画素は、発光部が形成されている領域である発光領域と、発光領域に隣接している非発光領域とを有し、バンクは非発光領域に位置している部分を有し、一の画素の非発光領域に位置しているバンクの部分と、一の画素と隣り合う他の画素のうちの少なくとも一つの画素との間には、一の画素の発光部からの光を、一の画素の非発光領域に向けて反射する反射壁部が形成されている表示装置。
【選択図】図3
【解決手段】複数の画素を有する表示装置であって、複数の画素のそれぞれに配置されている画素電極と、少なくとも隣り合う画素の間に形成されるバンクと、複数の画素に亘って配置され、画素電極とバンクとを覆っている共通電極と、画素電極と共通電極との間に形成されている発光部を複数の画素のそれぞれに有している発光層と、を備え、複数の画素のうちの少なくとも一の画素は、発光部が形成されている領域である発光領域と、発光領域に隣接している非発光領域とを有し、バンクは非発光領域に位置している部分を有し、一の画素の非発光領域に位置しているバンクの部分と、一の画素と隣り合う他の画素のうちの少なくとも一つの画素との間には、一の画素の発光部からの光を、一の画素の非発光領域に向けて反射する反射壁部が形成されている表示装置。
【選択図】図3
Description
本発明は、表示装置に関する。
有機EL表示装置は、各画素に形成されている画素電極、複数の画素に亘って形成されている共通電極、及び画素電極と共通電極との間に形成されている有機層を含んでいる。ここで、有機層は、発光層、電荷輸送層、及び電荷注入層などを有している。
下記特許文献1〜4には有機EL表示装置あるいは有機EL素子が開示されている。特許文献1には、有機層の発光効率を向上するために、粗面を有している光散乱層を電極と基板との間に形成することが開示されている。
特許文献2には、発光層の界面で全反射してしまう光を低減するために、金属粒子を含む光散乱層を発光層と電極との間に形成することが開示されている。
特許文献3には、各画素に形成されているバンク(文献3においてバンク112a)の上面(文献3において上面112c)を粗面化し、発光層から水平方向に進む光を粗面化されたバンクの上面で視認方向に反射することが開示されている。
特許文献4には、光取り出し効率を向上するために、透明粒子を含む光散乱層(文献4において散乱層LS)の上側に電極及び有機層からなる発光素子(文献4においてOLED)を形成することが開示されている。
発光層から出る光は、基板に対して鉛直方向に進み表示装置から出る光と、基板に沿った水平方向に進み隣接する画素に向かう光とを含んでいる。基板に沿った水平方向の光はユーザに視認されず無駄なものとなっているため、発光層から出た光の利用効率が低下する要因となる。
本発明の目的の1つは、発光層から出た光の利用効率を向上できる表示装置を提供することにある。
また、本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかにする。
本発明の実施形態に係る表示装置は、複数の画素を有する表示装置であって、前記複数の画素のそれぞれに配置されている画素電極と、少なくとも隣り合う画素の間に形成されるバンクと、前記複数の画素に亘って配置され、前記画素電極と前記バンクとを覆っている共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に形成されている発光部を前記複数の画素のそれぞれに有している発光層と、を備え、前記複数の画素のうちの少なくとも一の画素は、前記発光部が形成されている領域である発光領域と、前記発光領域に隣接している非発光領域とを有し、前記バンクは前記非発光領域に位置している部分を有し、前記一の画素の前記非発光領域に位置している前記バンクの前記部分と、前記一の画素と隣り合う他の画素のうちの少なくとも一つの画素との間には、前記一の画素の前記発光部からの光を、前記一の画素の前記非発光領域に向けて反射する反射壁部が形成されている、ことを特徴とする。
また、本発明の他の実施形態に係る表示装置は、複数の画素を有する表示装置であって、絶縁表面上に、前記複数の画素を区画するように設けられた隔壁と、前記隔壁の内壁と前記絶縁表面とで形成された凹部に、光を反射する材料を用いて形成された画素電極と、前記隔壁、及び前記画素電極上に形成され、前記絶縁表面上に位置する前記画素電極を一部露出する開口を有するバンクと、前記開口を覆うように設けられ、発光部を形成する発光層と、前記発光層と前記バンクとを覆う共通電極と、を備えることを特徴とする。
[第1実施形態]
はじめに、本発明の第1実施形態に係る表示装置の概略について、図1〜4を参照して説明する。
はじめに、本発明の第1実施形態に係る表示装置の概略について、図1〜4を参照して説明する。
図1は、第1実施形態に係る表示装置を模式的に示す斜視図である。また、図2は、図1の破線IIで囲まれる領域を拡大して示す図である。また、図3は、図2の切断線III‐IIIにおける断面を示す図であり、第1実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。また、図4は、図2の切断線IV‐IVにおける断面を示す図であり、第1実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
図1に示されるように、第1実施形態に係る表示装置10は、例えば、回路層106や素子層107を含む第一基板100を有する。第一基板100には、画像を表示するための素子を駆動するための集積回路チップ103が搭載されている。
また、第1実施形態に係る表示装置10は、第一基板100と対向する対向基板200を備える。対向基板200は、例えばRGB(R:Red,G:Green、B:Blue)のカラーフィルタ201を含む、カラーフィルタ基板であることとしてもよい。対向基板200については後に詳細に説明する。
また、図1に示すように第一基板100には、外部との電気的接続のために、フレキシブル配線基板104が接続されていることとしてもよい。
また、図2に示されるように、第1実施形態に係る表示装置10は、マトリクス状に設けられた複数の画素Pxを有する。ここで、本発明における画素とは、表示装置によって表示される画像における、R(Red),G(Green)、B(Blue)若しくはW(White)いずれかの色情報を持つ最小単位をいうこととする。
なお、表示装置よって表示される画像において、R、G、Bのそれぞれ一つずつをまとめ、一単位として画素とよび、R,G,B各々を副画素とよぶこともある。この場合において、本発明における画素は、副画素に相当するものである。
図3、4に示すように、第一基板100は、例えば基材105上に回路層106や素子層107を形成して構成されている。
そして、図2に示されるように、第1実施形態に係る表示装置における各画素Pxは、発光領域ERと、該発光領域ERと隣接している非発光領域NERとを有している。また、図2に示されるように、第1実施形態に係る表示装置10は、平面視において各画素Pxの発光領域ERが、各々の画素における略中央に位置するように配置されていることとしてもよい。
発光領域ERより発光される光は、基板に対して鉛直方向に進み表示装置から出る光L1のみならず、基板に沿った水平方向に進み隣接する画素に向かう光L2を含んでいる。第1実施形態に係る表示装置は、この基板に沿った水平方向に進み隣接する画素に向かう光L2が、非発光領域において散乱し、ユーザに視認される光として表示装置の外部に照射され、結果、発光層から出た光の利用効率の向上が図れるものである。
次に、図3、4を参照して第1実施形態に係る表示装置10の構成について詳細に説明する。第1実施形態に係る表示装置10は、その上に回路層106等が積層される基材105を含んで構成されている。この回路層106等が積層される基材105は、例えばポリイミド等の有機樹脂で形成されることとしてもよいし、ガラスで形成されることとしてもよい。
図3、4に示されるように第1実施形態に係る表示装置は、基材105上に下地層108を形成したのち、回路層106を積層することとしてもよい。回路層106は、配線や、電極及び絶縁膜などで構成される薄膜トランジスタ1061(thin film transistor : TFT)を含む。なお、下地層108は、酸化ケイ素や、窒化ケイ素で形成されることとしてもよい。
また、回路層106は、図3、4に示されるように基材105と対向する側とは反対側に形成される有機平坦化膜109を含むこととしてもよい。有機平坦化膜109は、回路層106を構成する配線1062や、電極(図示なし)等に起因する凹凸を平坦化し、回路層106の上面における他の層の形成を容易なものとする。なお、有機平坦化膜109は絶縁体で形成される。
有機平坦化膜109の形成は、有機樹脂のワニス(有機樹脂を溶媒に溶かした液状物)を凹凸表面に塗布し、該ワニスに含まれる溶媒を揮散させることによって形成することとしてもよい。このように形成することによって回路層の表面の凹部に優先的にワニスが流れ込むこととなり、回路層106の表面の凹凸を効果的に平坦化することとなる。
なお、有機平坦化膜109をポリイミド樹脂で構成する場合、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸を、溶媒にとかした液状物を凹凸表面に塗布し、その後イミド化の処理を行うこととしてもよい。
また、熱硬化性の有機樹脂で有機平坦化膜109を構成する場合、凹凸面に有機樹脂のワニスを塗布後、加熱処理を行い、熱硬化を促進させることとしてもよい。また、光硬化性の有機樹脂で有機平坦化膜109を構成する場合、凹凸面に有機樹脂のワニスを塗布後、光照射処理を行い、光硬化を促進させることとしてもよい。
なお、有機平坦化膜109の材料、及び形成方法は、上記のものに限られるものではない。
また、第一基板に備えられる素子層107は、複数の画素のそれぞれに配置されている画素電極1071と、少なくとも隣り合う画素の間に形成されるバンク1072と、複数の画素に亘って配置され、前記画素電極1071と前記バンク1072とを覆っている共通電極1073と、画素電極1071と共通電極1073との間に形成されている発光部LEP(light-emitting part)を複数の画素のそれぞれに有している発光層と、を含んで構成されている。
また、第一基板100に備えられる素子層107は、有機層1074(有機エレクトロルミネッセンス層ともいう)を含む。有機層1074は、少なくとも前述の発光層を含むものであり、さらに、電子輸送層、正孔輸送層、電子注入層、及び正孔注入層のうち少なくとも一層を含むこととしてもよい。
ここで、発光層は、一色(例えば白色)の光のみを発することとしてもよい。この場合、表示装置は、発光層から発せされた光が、有機層1074の回路層106と対向する側とは反対側に備えられる対向基板200に設置されたRGBいずれかの色の着色層(カラーフィルタともいう)を介して外部に様々な色を視認させることとなる。
また、発光層は複数色の光を発するように構成してもよい。この場合、図1、2に示される対向基板の着色層は不要である。
発光層の画素電極1071と共通電極1073との間に形成されている発光部LEPが存在する場所は、平面視における発光領域ERに相当する。そして、発光領域ERを取り囲む非発光領域NERは、平面視において発光領域ERを挟んで互いに反対側に位置する2つの部分を、一つの画素内に含んでいることとしてもよい。
また、発光部LEPから発光され第一基板100に対して鉛直方向に進む光は、発光部LEPから対向基板200に向かう光L1(すなわち、共通電極1073に向かう光)と、発光部LEPから対向基板200に向かう側とは反対側に向かう光L3(すなわち、画素電極1071に向かう光)とを含むものである。
ここで、素子層を構成する画素電極1071は、発光部LEPから発せられた光L3を反射する材料を含むこととしてもよい。このように、素子層107を構成する画素電極1071が、発光部LEPから発せられた光L3を反射する材料を含むことによって、発光部LEPから対向基板200に向かう側とは反対側に向かう光L3を、発光部LEPから対向基板200に向かう光L1に変換することとなり、発光層から出た光の利用効率が向上し、本願発明の効果を更に高めることとなる。
画素電極1071は、例えば可視光を反射させるものであればよく、より具体的にはAl、Ag、Au、Cr等の金属、ITO/Ag/ITO、又はTi/Al/Tiの三層構造のものによって形成されることとしてもよい。
また、第1実施形態に係る表示装置10を構成する、少なくとも隣り合う画素の間に形成されるバンク1072は、非発光領域NERに位置している部分P1を有し、バンク1072の少なくとも該部分P1の内部は、発光部からの光を散乱するように形成されている。
上記のような光を散乱するバンクを備えることによって、発光層から基板に沿った水平方向に進み隣接する画素に向かう光L2の少なくとも一部は、基板に対して鉛直方向に進み表示装置から出る光L1に変換されることとなるため、発光層から出た光の利用効率が向上することとなる。
また、第1実施形態に係る表示装置10の非発光領域NERには、バンク1072の少なくとも一部によって覆われ且つ光を反射する膜が形成されていることとしてもよい。図3、4においては、上述の画素電極1071が、光を反射する膜として、非発光領域NERと発光領域ERとに形成されている。
このように、第1実施形態に係る表示装置10においては、画素電極1071の延伸した部分P2が、バンク1072の少なくとも一部によって覆われ且つ光を反射する膜として用いられているが、画素電極1071と別体のものが備えられることとしてもよい。この場合、非発光領域NERには、画素電極1071は形成されないこととなる。
また、バンク1072の非発光領域NERに位置している部分P1は、発光部からの光を散乱する樹脂材料を含んで形成されていることとしてもよい。また、バンク1072は例えば絶縁材料によって形成される、絶縁体であることとしてもよい。より具体的には、バンク1072はアクリル樹脂を含んで形成されていることとしてもよい。
また、バンク1072は、発光部LEPからの光を散乱する、屈折率の異なる少なくとも2種類の材料を含んで形成されていることとしてもよい。より具体的には、バンク1072は、第1の屈折率を有する材料によって形成された粒子と、該第1の屈折率とは異なる第2の屈折率を有する材料によって形成された該粒子同士の間隔を埋める母材とで構成されることとしてもよい。このように、バンク1072の内部に該バンクの母材と屈折率の異なる領域を設けることによって、バンク1072はバンク内部を伝播する光を散乱する構造を有することとなる。
より具体的には、例えばバンク1072を形成する母材の内部に分散される粒子は、酸化チタンによって形成された粒子であることとしてもよい。また、バンク1072を形成する母材の内部に分散される粒子は、平均粒子径が200nm以上、500nm以下の酸化チタンであることとしてもよい。なお平均粒子径は、レーザ回折・散乱法によって算出された数値である。
あるいは、バンク1072の母材内部に分散される粒子は、数nm〜数100nmの粒径を有することとしてもよく、また、屈折率が1.7以上の無機微粒子が固定化されたコア・シェルマイクロ粒子であることとしてもよい。
あるいは、バンク1072の母材内部に分散される粒子は、アクリル樹脂ビーズであることとしてもよい。また、バンク1072の母材内部に分散される粒子は、平均粒子径が100nm以上、500nm以下のアクリル樹脂ビーズであることとしてもよい。
また、バンク1072は、発光層からの光を反射する粒子(particle)と、該粒子同士の間隔を埋める母材(base material)とで構成されることとしてもよい。このように、バンク1072の母材内部に光を反射する粒子を設けることによって、バンク1072はバンク内部を伝播する光を散乱する構造を有することとなる。
また、バンク1072の母材内部に設けられる粒子は、ボイド(void)であることとしてもよい。この場合、バンク1072の内部には気泡が存在することとなる。このように、バンク1072の母材内部に空隙部を設けることによって、バンク1072はバンク内部を伝播する光を散乱する構造を有することとなる。
また、図3、4に示されるように、第1実施形態に係る表示装置は、画素(図3、4における画素Px1)の非発光領域に位置している部分と、隣り合う他の画素(図3、4における画素Px2、Px3、Px4、Px5)のうちの少なくとも一つの画素との間に、画素(図3、4における画素Px1)の発光部LEPからの光を、画素(図3、4における画素Px1)の非発光領域NERに向けて反射する反射壁部Wを更に備えることとしてもよい。
図3において、反射壁部Wは、有機平坦化膜109上に形成された隔壁1076の側壁部分に画素電極1071を延在させることで形成している。すなわち、第1実施形態に係る表示装置10においては、隔壁1076の内壁と、有機平坦化膜109すなわち絶縁表面とで形成された凹部に、光を反射する材料を用いて形成された画素電極が備えられている。なお、隔壁1076は、有機平坦化膜109上すなわち絶縁表面上に、複数の画素を区画するように設けられたものである。
反射壁部W若しくは隔壁1076は、特に上述の態様に限定するものではなく、同様に発光領域よりも外側に配置され、発光部LEPからの光を非発光領域NERに向けて反射できる面が形成されていれば、画素電極1071とは別層で形成されても良い。
また、図3を参照すると、バンク1072は、隔壁1076、及び画素電極1071上に形成され、有機平坦化膜109上である絶縁表面上に位置する画素電極1071を一部露出する開口を有する。そして、発光部LEPを形成する発光層は、該開口を覆うように設けられ、共通電極1073は発光層とバンク1072とを覆っている。
このように、反射壁部Wを備えることによって、発光層から基板に沿った水平方向に進み隣接する画素に向かう光L2のうち、散乱せずにバンク1072を通過してしまった光を、再度バンク1072側に反射することとなる。そして、反射した光の少なくとも一部は、基板に対して鉛直方向に進み表示装置から出る光L1に変換されることとなり、結果、発光層から出た光の利用効率を更に向上することとなる。
また、反射壁部Wは、図3に示されるように、一の画素の非発光領域NERに位置しているバンク1072の部分と、該一の画素と隣り合い、該一の画素とは発光色が異なる他の画素との間に、該一の画素の発光部LEPからの光を、該一の画素の非発光領域NERに向けて反射するように備えられることとしてもよい。
ここで、第1実施形態に係る表示装置10は、発光部LEPからの光を散乱するバンク1072と、発光部LEPからの光を、画素の非発光領域NERに向けて反射する反射壁部Wとの両方を備えるものであるが、仮にバンク1072が発光部LEPからの光を散乱するものでなかったとし、表示装置10が画素の非発光領域NERに向けて反射する反射壁部Wのみを備えるものであっても、該表示装置10の発光層から出た光の利用効率は向上することとなる。
また、反射壁部Wの少なくとも表面は、例えば可視光を反射させるものであればよく、より具体的にはAl、Ag、Au、Cr等の金属、ITO/Ag/ITO、又はTi/Al/Tiの三層構造のものによって形成されることとしてもよい。
また、反射壁部Wの少なくとも表面と上述の画素電極1071とは、同じ材料で形成されていることとしてもよい。すなわち、反射壁部Wの少なくとも表面は画素電極1071と同じ材料で形成され、それぞれAl、Ag、Au、Cr等の金属、ITO/Ag/ITO、又はTi/Al/Tiの三層構造のものによって形成されることとしてもよい。
また、反射壁部Wの対向基板200と対向する側の面は、有機層1074の対向基板200と対向する側の面よりも対向基板200に近い位置に備えられることとしてもよい。また、反射壁部Wの対向基板200と対向する側とは反対側の面は、有機層1074の対向基板200と対向する側とは反対側の面よりも対向基板200に遠い位置に備えられることとしてもよい。
また平面視において、反射壁部Wは、後述する隣り合う画素の間に形成された光遮蔽部LSPと少なくとも一部が重なるように備えられることとしてもよいし、反射壁部Wの全部が該光遮蔽部LSPと重なるように備えられることとしてもよい。
また、第1実施形態に係る表示装置10は、有機層1074を覆う、バリア層1075を含んで構成されていることとしてもよい。バリア層1075は外部からの水分を遮断する機能を有し、防湿性に優れた層である。すなわち、バリア層1075は水分透過性が低い性質を有する材料によって形成される。
具体的にはバリア層1075は、例えば無機材料によって形成されることとしてもよい。また、バリア層1075は、CVD(化学蒸着法:Chemical Vapor Deposition)、ALD(原子層堆積法:Atomic Layer Deposition)によって形成されることとしてもよい。
また、バリア層1075を形成する無機材料とは、例えば、窒化ケイ素、酸化ケイ素によって形成されることとしてもよい。
また、第1実施形態に係る表示装置10に備えられる対向基板200は、図3、4に示されるようにRGB(R:Red,G:Green、B:Blue)のカラーフィルタ201の他に、隣り合う画素の間に形成された光遮蔽部LSPを更に備えることとしてもよい。また、第1実施形態に係る表示装置の光遮蔽部LSPは、平面視において発光領域ERと非発光領域NERと重なっていない領域に配置されていることとしてもよい。光遮蔽部LSPは、所謂ブラックマトリックスによって実現されることとしてもよい。
また、第1実施形態に係る表示装置に備えられる対向基板200は、RGB(R:Red,G:Green、B:Blue)のカラーフィルタ201を備え、隣り合う画素の間で隣接する異なる色のカラーフィルタ同士を重ねることによって形成された光遮蔽部LSPを備えることとしてもよい。また、隣接する異なる色のカラーフィルタを重ね、光の透過を低下させることによって実現された光遮蔽部LSPは、平面視において発光領域ERと非発光領域NERと重なっていない領域に配置されていることとしてもよい。
また、図3、図4に示されるように、第1実施形態に係る表示装置10の第一基板100と対向基板200との間には、充填材300が備えられていることとしてもよい。
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Aを参照して説明する。
次に、本発明の第2実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Aを参照して説明する。
図5は、本発明の実施形態に係る表示装置の表示領域の一部を拡大して示す図であり、発光領域と非発光領域との配置関係を示す図である。
図6Aは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第2実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
第2実施形態に係る表示装置20は、平面視における発光領域ERと非発光領域NERとの配置が異なる以外は、前述の第1実施形態に係る表示装置10と同様のものである。
第1実施形態に係る表示装置10は、発光領域ERが画素Pxの略中央に配置され、中央に配置された発光領域ERの周囲を囲むように非発光領域NERが配置されるものである。これに対し、第2実施形態に係る表示装置20は、発光領域ERと非発光領域NERとが画素の一方に偏って配置されている。
そして図5に示されるように、第2実施形態に係る表示装置20の一の画素Pxの発光領域ERは、該一の画素Pxと隣り合う他の画素Pxの非発光領域NERと隣り合うように配置されている。また、第2実施形態に係る表示装置20の一の画素Pxの発光領域ERは、該一の画素Pxとは異なる色を発光する隣り合う他の画素Pxの非発光領域NERと隣り合うように配置されていることとしてもよい。
このように、発光領域ERと非発光領域NERとが配置されることによって、第2実施形態に係る表示装置20は、第1実施形態に係る表示装置10と比較して、発光時各色の混色が低減できるという効果を奏することとなる。
なお、本発明の第2実施形態に係る表示装置20の平面視における発光領域ERと非発光領域NERとの配置関係は、後に説明する第3〜第8実施形態に係る表示装置の平面視における発光領域ERと非発光領域NERとの配置関係と共通するものである。したがって、図5で示される図は、本発明の第2〜第8実施形態に係る表示装置の表示領域の一部を拡大して示す図であり、発光領域ERと非発光領域NERとの配置関係を示す図として、以後説明に用いることとする。
また、図5においては、光遮光部LSPは図示を省略している。図5に示される表示装置における光遮光部LSPは、上述の第1実施形態の光遮光部LSPと同様のものが備えられることとしてもよいし、隣り合う画素の間で隣接する異なる色のカラーフィルタ同士を重ねることによって形成されることとしてもよい。また、各実施形態に係る表示装置に備えられる光遮光部LSPに特徴がある場合、その実施形態に係る表示装置の説明においてその都度説明することとする。
[第3実施形態]
次に、本発明の第3実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Bを参照して説明する。図6Bは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第3実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
次に、本発明の第3実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Bを参照して説明する。図6Bは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第3実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
第3実施形態に係る表示装置は、一の画素Pxにおいて、発光領域ERに配置される第1のカラーフィルタ201Aと、非発光領域NERに配置され且つ第1のカラーフィルタ201Aの光の透過率と異なる光の透過率を有する第2のカラーフィルタ201Bとを備える点で、第2実施形態に係る表示装置と異なる。第3実施形態に係る表示装置の他の構成は、第2実施形態に係る表示装置のそれと同様のものである。
前述の第2実施形態に係る表示装置において、一の画素から視認される光は、発光領域ERからの光と、非発光領域NERからの光が混在することとなる。ところで非発光領域NERから発せられる光は、発光部LEPからの光の一部を散乱させた後、外部に照射される光であるため、発光部LEPからの光を直接外部に照射される光である発光領域ERからの光と比較して、色純度が自ずと小さいものとなりやすくなる。
すなわち、第2実施形態に係る表示装置において、一の画素から照射される光は、画素内において色純度にムラが生じる虞がある。
これに対し、第3実施形態に係る表示装置20は、発光領域ERに配置される第1のカラーフィルタ201Aの光の透過率と、非発光領域NERに配置される第2のカラーフィルタ201Bの光の透過率を調整することにより、一の画素Pxから照射される光の画素内における色純度のムラを低減することが可能となる。
[第4実施形態]
次に、本発明の第4実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Cを参照して説明する。図6Cは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第4実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
次に、本発明の第4実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Cを参照して説明する。図6Cは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第4実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
第4実施形態に係る表示装置20は、各画素Pxに対応した色を発光する発光層を含む有機層1074が、それぞれの画素に備えられている。すなわち、第4実施形態に係る表示装置20には、カラーフィルタを備える必要がなく、カラーフィルタの有無と、有機層1074(有機層に含まれる発光層)の構成とにおいて前述の第1実施形態に係る表示装置10と異なっている。
第4実施形態に係る表示装置20の他の構成は、第1実施形態に係る表示装置10のそれと同様のものである。
第4実施形態の表示装置20は、発光層から出た光の利用効率を向上できるとともに、カラーフィルタを省略できることから薄型化、軽量化を実現することが可能となる。
[第5実施形態]
次に、本発明の第5実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Dを参照して説明する。図6Dは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第5実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
次に、本発明の第5実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Dを参照して説明する。図6Dは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第5実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
第5実施形態に係る表示装置は、第4実施形態同様、各画素Pxに対応した色を発光する発光層を含む有機層1074が、それぞれの画素に備えられている。
そして、第5実施形態に係る表示装置は、一の画素の非発光領域NERに位置しているバンク1072の部分P1と、該一の画素と隣り合う他の画素のうちの少なくとも一つの画素との間に、該一の画素の発光部LEPからの光を、該一の画素の非発光領域に向けて反射する反射壁部を設けない点において、第4実施形態に係る表示装置と異なっている。
これは、各色別発光を採る第4、第5実施形態に係る表示装置20は、画素間で異なる光同士が混ざっても問題がないからである。
このように、反射壁部を設けないことによって、第5実施形態に係る表示装置は、第4実施形態に係る表示装置と比較して製造工程が短縮できるという利点を有する。
[第6実施形態]
次に、本発明の第6実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Eを参照して説明する。図6Eは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第6実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
次に、本発明の第6実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Eを参照して説明する。図6Eは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第6実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
第6実施形態に係る表示装置は、第4実施形態同様、各画素Pxに対応した色を発光する発光層を含む有機層1074が、それぞれの画素に備えられている。
そして、第6実施形態に係る表示装置の発光部LEPの位置は、図6Eに示されるように表示装置20の断面において、バンク1072の上面よりも低く、バンク1072の下面よりも高い。すなわち、発光層は、表示装置の断面において、バンク1072の下面の延長線以上、バンク1072の上面の延長線以下の領域に形成されている。
図6Eに示されるような断面形状のバンク1072を設けることによって、よりバンク1072の容積が増えることとなる。バンク1072の容積が増えることは、発光部LEPからの光を散乱する部分の容積が増えることとなるため、結果、発光層から出た光の利用効率が更に高まることとなる。
[第7実施形態]
次に、本発明の第7実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Fを参照して説明する。図6Fは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第7実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
次に、本発明の第7実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Fを参照して説明する。図6Fは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第7実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
第7実施形態に係る表示装置は、第4実施形態同様、各画素Pxに対応した色を発光する発光層を含む有機層1074が、それぞれの画素に備えられている。
また、第7実施形態に係る表示装置の発光部の位置は、第6実施形態同様、図6Fに示されるように表示装置の断面において、バンク1072の上面よりも低く、バンク1072の下面よりも高い。すなわち、発光層は、表示装置の断面において、バンク1072の下面の延長線以上、バンク1072の上面の延長線以下の領域に形成されている。
そして、画素電極1071は有機平坦化膜109上に形成され、有機平坦化膜109は非発光領域NERに凹部を有し、バンク1072が有機平坦化膜109の凹部に形成されている。
第7実施形態に係る表示装置は、一の画素の非発光領域NERに位置しているバンク1072の部分と、該一の画素と隣り合う他の画素のうちの少なくとも一つの画素との間に、該一の画素の発光部LEPからの光を、該一の画素の非発光領域NERに向けて反射する反射壁部Wが、有機平坦化膜109を形成する材料と同じ材料で形成されている点において、第6実施形態に係る表示装置と異なっている。
このように、反射壁部を、有機平坦化膜109を形成する材料と同じ材料で形成することによって、反射壁部Wの形成を有機平坦化膜109の形成と同じタイミングで行うことができ、第7実施形態に係る表示装置は、第6実施形態に係る表示装置と比較して製造工程が短縮できるという利点を有する。
[第8実施形態]
次に、本発明の第8実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Gを参照して説明する。図6Gは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第8実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
次に、本発明の第8実施形態に係る表示装置の概略について、図5、6Gを参照して説明する。図6Gは、図5の切断線VI‐VIにおける断面を示す図であり、第8実施形態に係る表示装置の構成を示す図である。
第8実施形態に係る表示装置は、第4実施形態同様、各画素Pxに対応した色を発光する発光層を含む有機層1074が、それぞれの画素に備えられている。また、第8実施形態に係る表示装置の発光部LEPの位置は、第6実施形態同様、図6Gに示されるように表示装置の断面において、バンク1072の上面よりも低く、バンク1072の下面よりも高い。すなわち、発光層は、表示装置の断面において、バンク1072の下面の延長線以上、バンク1072の上面の延長線以下の領域に形成されている。
そして、第8実施形態に係る表示装置は、一の画素の非発光領域NERに位置しているバンク1072の部分と、該一の画素と隣り合う他の画素のうちの少なくとも一つの画素との間に、該一の画素の発光部LEPからの光を、該一の画素の非発光領域NERに向けて反射する反射壁部を設けない点において、第6及び第7実施形態に係る表示装置と異なっている。
このように、反射壁部を設けないことによって、第8実施形態に係る表示装置は、第6及び第7実施形態に係る表示装置と比較して製造工程が短縮できるという利点を有する。
10,20 表示装置、100 第一基板、101 回路層、102 素子層、103 集積回路チップ、104 フレキシブル配線基板、105 基材、106 回路層、107 素子層、108 下地層、109 有機平坦化膜、1062 配線、1071 画素電極、1072 バンク、1073 共通電極、1074 有機層、1075 バリア層、1076 隔壁、200 対向基板、201 カラーフィルタ、300 充填材、Px 画素、ER 発光領域、NER 非発光領域、LEP 発光部、W 反射壁部、LSP 光遮蔽部。
Claims (13)
- 複数の画素を有する表示装置であって、
前記複数の画素のそれぞれに配置されている画素電極と、
少なくとも隣り合う画素の間に形成されるバンクと、
前記複数の画素に亘って配置され、前記画素電極と前記バンクとを覆っている共通電極と、
前記画素電極と前記共通電極との間に形成されている発光部を前記複数の画素のそれぞれに有している発光層と、を備え、
前記複数の画素のうちの少なくとも一の画素は、前記発光部が形成されている領域である発光領域と、前記発光領域に隣接している非発光領域とを有し、
前記バンクは前記非発光領域に位置している部分を有し、
前記一の画素の前記非発光領域に位置している前記バンクの前記部分と、前記一の画素と隣り合う他の画素のうちの少なくとも一つの画素との間には、前記一の画素の前記発光部からの光を、前記一の画素の前記非発光領域に向けて反射する反射壁部が形成されている、
ことを特徴とする表示装置。 - 隣り合う画素の間に形成された光遮蔽部を更に備え、
前記発光領域と前記非発光領域とは、平面視において前記光遮蔽部配置された領域と重なっていない領域である、
ことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 前記非発光領域には、前記バンクの前記部分によって覆われ且つ光を反射する膜が形成されている、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の表示装置。 - 前記画素電極は、前記光を反射する膜として、前記非発光領域と前記発光領域とに形成されている、
ことを特徴とする請求項3に記載の表示装置。 - 前記一の画素は、前記発光領域に配置される第1のカラーフィルタと、前記非発光領域に配置され且つ前記第1のカラーフィルタの光の透過率と異なる光の透過率を有する第2のカラーフィルタとを備える、
ことを特徴とする請求項1乃至4いずれか一項に記載の表示装置。 - 前記画素電極は前記発光部からの光を反射する材料を含み、
前記反射壁部の少なくとも表面は前記画素電極と同じ材料で形成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至5いずれか一項に記載の表示装置。 - 前記画素電極は前記発光部からの光を反射する材料を含み、
前記反射壁部の少なくとも表面は前記発光部からの光を反射する材料を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至5いずれか一項に記載の表示装置。 - 複数の画素を有する表示装置であって、
絶縁表面上に、前記複数の画素を区画するように設けられた隔壁と、
前記隔壁の内壁と前記絶縁表面とで形成された凹部に、光を反射する材料を用いて形成された画素電極と、
前記隔壁、及び前記画素電極上に形成され、前記絶縁表面上に位置する前記画素電極を一部露出する開口を有するバンクと、
前記開口を覆うように設けられ、発光部を形成する発光層と、
前記発光層と前記バンクとを覆う共通電極と、を備える
ことを特徴とする表示装置。 - 前記発光層は、前記表示装置の断面において、前記バンクの下面の延長線以上、前記バンクの上面の延長線以下の領域に形成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至8いずれか一項に記載の表示装置。 - 前記バンクは、前記発光部からの光を散乱する樹脂材料を含んで形成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至9いずれか一項に記載の表示装置。 - 前記バンクは、前記発光部からの光を散乱する、屈折率の異なる少なくとも2種類の材料を含んで形成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至10いずれか一項に記載の表示装置。 - 前記バンクは、第1の屈折率を有する材料によって形成された粒子と、該第1の屈折率とは異なる第2の屈折率を有する材料によって形成された該粒子同士の間隔を埋める母材とを含んで構成される、
ことを特徴とする請求項1乃至10いずれか一項に記載の表示装置。 - 前記バンクは、内部にボイドを備える、
ことを特徴とする請求項1乃至12いずれか一項に記載の表示装置。
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-
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