JP2016142722A - 微粒子サンプリング方法および微粒子分析方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】バーチャルインパクタを用い、捕集対象微粒子を捕集するフィルター部にフィルターを配置し捕集を行い、捕集が終わった後に、フィルターを回収し、表面洗浄を行った平滑基板の表面に上部からフィルターを重ね合わせて、その後フィルターを取り除くことにより、平滑基板上に微粒子を偏り無く採取する微粒子サンプリング方法。
【選択図】なし
Description
粒子群の元素の平均情報は、平均的な組成を明確に出来る。しかしながら、粒子群中にこの平均的な組成とは全く異なる組成元素の粒子が含まれる場合、粒子毎の元素組成がわからない課題があった。特に、少量ではあるが、ある発生源に特徴的な粒子が含まれる場合、元素の平均情報からだけではこの粒子の起源を推定できず、発生源の特定が困難となるという課題があった。
つまり、煤塵中の微粒子を正確に分級し、かつ分級した微粒子を元素や粒子サイズによる粒子依存による選択性が無いように均一に平滑基板に載せることが重要である。分級した微粒子を平滑基板上に載せる際に粒子が重なりあってしまうと、個々の粒子を分析することが出来ない。そのため、平滑基板上に均一に粒子がサンプリングされていることが必要である。
また収束イオンビーム等を利用して測定する際、平滑基板表面の面精度が低いと微粒子とのコントラストがつかないため、粒子測定が出来ないと言った課題があった。つまり、平滑基板表面において高い面精度が必要である。
また、平滑基板の材質はその採取の環境を考慮して、高温環境下や腐食ガスでも変質せず、測定法との組み合わせからチャージアップしない程度の導電性が必要となっている。そのような特徴を有する基板として、例えばシリコンウエハーを利用することが開示されている(特許文献2)。
(2)前記微粒子を前記平滑基板上に転写して捕集する際、前記平滑基板の捕集面を上に向くように前記平滑基板を配置し、前記捕集面の上方から前記フィルターの前記微粒子の採取面を下向きにして前記フィルターと前記平滑基板を重ね合わせ、その後前記フィルターを前記平滑基板に押しつけることによって転写することを特徴とする(1)に記載の微粒子サンプリング方法。
(3)前記平滑基板上に重ねた前記フィルターに、8g/cm2〜22g/cm2の圧を印加して転写することを特徴とする(2)に記載の微粒子サンプリング方法。
(4)前記平滑基板がシリコンウエハーであることを特徴とする、(1)〜(3)のいずれか一項に記載の微粒子サンプリング方法。
(5)前記特定の粒径が2.5μmであることを特徴とする(1)〜(4)のいずれか一項に記載の微粒子サンプリング方法。
(7)前記集束イオンビームを用いて前記試料を切断加工し、切断加工面が前記集束イオンビームに対して略垂直となるように前記試料台を回転させ、前記微粒子の切断面に前記集束イオンビームを照射して前記微粒子から二次イオンを放出させ、検出した前記二次イオンの結果に基づいて、前記微粒子内部の成分および空隙を評価することを特徴とする(6)に記載の微粒子分析方法。
また本発明の微粒子サンプリング方法によってサンプリングされた微粒子は、電子線や集束イオンビームを用いた微粒子分析手法によって、1粒子ごとに、元素組成の測定や空隙の評価、またそれらから比重を測定することが可能である。それにより、得られた分析結果から、平均的な元素組成からは得られない発生源固有の情報を取得することが可能となり、発生源の特定に有力な情報を提供することができ、効率のよい環境対策へ大きく貢献できる。
また、以下では、大気中の微粒子の中でも特にPM2.5粒子のサンプリングを例にとって説明する。
図1は、煙突内等の固定排出源からのPM2.5粒子を捕集する方法を示す概略図である。
固定排出源からのPM2.5粒子の排出は通常煙突から排出されるケースが多い。そのため、固定排出源からのPM2.5粒子の採取は、煙道に分級用のサンプラーを導入して行われる。サンプラーは煙道に導入された後に、温度が均一化するまで待った後に、サンプリングを開始することが一般的である。
そこで、本実施形態では図1に示すように、煙道でのサンプリングの際はバーチャルインパクタ101を煙道にいれる。
それぞれの捕集部での吸引ガスの吸引量を全て規定値に調整する必要があるため、最終捕集ポンプ104、中間捕集ポンプ103、粗捕集ポンプ102でそれぞれ独立して吸引する。
粒径10μm以下の粒子はその後、中間捕集部108に入り、分級部109でバーチャルインパクタ法により粒径2.5μm超のものと粒径2.5μm以下のものに分級され、粒径2.5μm超のものはフィルター110で捕集する。
粒径2.5μm以下の粒子は最終捕集部111に入り、粒径2.5μm以下の微粒子、つまりPM2.5粒子をフィルター112で捕集する。
なお、PM2.5粒子を捕集するフィルター112としては石英やテフロン(登録商標)製のものを用いることができる。
分級器109は、空気を噴出する円形のノズル401と、該ノズル401の軸線と同一の軸線を有する円形の対向ノズル(集気部)403とから概略構成される。ノズル401と対向ノズル403は、所定の長さの間隔で対向している。なお、分級器106についても略同等の構成である。
一方、粒径2.5μm以下の微粒子(PM2.5粒子)は、慣性力が小さいため、対向ノズル403の外周側を流れる気流に乗って曲げられるため仮想衝突面402に衝突することなく、最終捕集ポンプ104により吸引されてフィルター112上に捕集される構造となっている。
なお、分級器106の場合は粒径10μm超の粗大粒子が図1に示すフィルター107へ捕集され、粒径2.5μm超10μm以下の粒子は中間捕集部108へ送られる構造となる。
そのような個別粒子の測定の一例として、集束イオンビームを用いた2次イオン質量分析(SIMS)装置等を利用した方法や電子線を利用した評価方法などが考えられる。
PM2.5粒子を測定するためには、統計的な情報が必要であり、最低でも1000個程度の粒子を個別に測定する必要がある。そのため、装置に導入するためのPM2.5粒子は平滑基板表面に分散された状態で採取される必要がある。
これは、バーチャルインパクタ法が上述のように気流を制御する方法であることに起因すると思われる。つまり、バーチャルインパクタ法はガス流れが他の分級方法に比べ遅いため、シリコンウエハー等の風を通さない素材の平滑基板を用いると気流の流れを阻害してしまい、その影響により基板へ付着させるほどの衝突速度を稼ぐことが出来ず、微粒子が基板に乗らない可能性があると考えられる。そのため、ガス流れが遮断される基板上にPM2.5粒子を直接捕集することは困難であると考えられる。
転写する際は平滑基板の捕集面を上に向くように配置し、捕集面の上方からフィルターのPM2.5粒子の採取面を下向きにしてフィルターと平滑基板を重ね合わせ、その後フィルターを平滑基板に押しつけることにより、元素依存性が少なく平滑度が高い基板へのPM2.5粒子の捕集が可能となる。
なお、フィルターの採取面を上向きに置き、上方から平滑基板を押しつける方法を用いても基板への転写は可能であるが、前者と同等の力でおしつけた際に、平滑基板を下にした前者の捕集方法に比べ約2割程度粒子の捕集効率が減少した。そのため、効率的な捕集方法は平滑基板を下にしてフィルターを上部から押し付ける方法の方が好ましい。
平滑な基板表面に十分な個数の微粒子を再現性良く転写する方法として、平滑基板の上に重ねたフィルターの上に任意のおもりを載せて、8〜22g/cm2の圧を印加することが有効であることを見出した。これは、例えば、100gで底面積が37cm2程度の分銅を載せることによって実現できる。底面積が37cm2であり、重さ50gの分銅を載せた場合は、100gのときと比較して1/5程度しか微粒子が転写されなかった。一方、同じ底面積で重さ300gの場合は、押し付ける力が強すぎたことから、フィルターの繊維が平滑基板上に転写され、微粒子解析に対して妨害となった。
次に、本実施形態に係る微粒子分析方法について説明する。
本実施形態に係る微粒子分析方法は、試料を載置する試料台と、電子ビームを照射する電子ビーム照射器と、前記電子ビームの前記試料への照射により散乱された電子を検出する検出器と、集束イオンビームを照射する集束イオンビーム照射器と、前記集束イオンビームを前記試料に照射することにより前記試料から放出される二次イオンを検出する分析計と、を備える装置を用いる微粒子分析法であって、上述してきた微粒子サンプリング方法で表面上に微粒子を付着させた前記平滑基板を前記試料台に置き、前記平滑基板上の微粒子に電子ビームを照射し、前記電子ビームの照射により散乱された電子を前記検出器によって検出し、検出された前記電子の結果に基づいて、前記微粒子を特定し、前記微粒子に集束イオンビームを照射し、前記集束イオンビームの照射により前記微粒子から放出された二次イオンを検出し、検出された前記二次イオンの結果に基づいて、前記微粒子の成分を分析することを特徴とする。
以下、図面を用いて詳述する。
図示のとおり、微粒子分析装置は、主に、試料台1と、集束イオンビーム照射器3と、電子ビーム照射器4と、質量分析計(分析計)5と、二次電子検出器(検出器)6と、を備えている。試料台1は真空槽中にある。
平滑基板7は、原子レベルでフラット(平滑)な表面を持つことが理想的である。例えば、シリコンウエハーを平滑基板7として用いることが望ましい。シリコンウエハー以外でも、SiC、GaAs、サファイア、ガラス等の基板を平滑基板7として用いることができる。
電子ビーム照射器4から電子ビームを走査しながら照射することにより発生した二次電子、つまり、電子ビームの照射により散乱された電子は、二次電子検出器6にて検出され、その検出結果に基づいて、PM2.5サンプル2の二次電子像を観察することができる。
このとき、電子ビーム照射器4による電子ビームの照射により散乱された電子を検出して得られた二次電子像が観察されたときと同一の視野で、二次イオン像を観察する。尚、前述した集束イオン源の代わりに集束性の高いガスイオン源、液体金属イオン源等を利用することが可能である。
以下、図4を用いて説明するが、図3と同一の部分については、図3に付した符号と同一の符号を付す等して詳細な説明を省略する。
図4(a)の通り、本発明の別態様の分析装置は、主に試料台1と集束イオンビーム照射器3と電子ビーム照射器4と回転機構8と質量分析計5とからなる。試料台1は、その上に試料が置かれる台であり、水平に保たれることが好ましい。
このように回転機構8により試料台1を回転させることで、集束イオンビーム照射器3からの集束イオンビームを、切断された試料粒子2の断面に照射することが可能となる。
そして、前述したように、集束イオンビームの照射により試料粒子2から放出される二次イオンを検出し、その二次イオン像を観察した結果に基づいて、試料粒子2の内部の成分分析を行う。また、この二次イオン像を観察した結果に基づいて、試料粒子2の内部にある空隙の大きさ(面積)を求め、試料粒子2と空隙が球であると仮定して、空隙の体積を試料粒子2の体積で割ることにより試料粒子2の空隙率を求める。
20mg/m3程度の煤塵量が含まれる煙道から、10分間、図1および図2に示すようなバーチャルインパクタを用いてサンプリング、分級して、石英フィルター状にPM2.5粒子を採取した。
次に、PM2.5粒子が採取された石英フィルターを取り出し、石英フィルターの微粒子採取面を下向きにして、シリコンウエハー上に押し付けPM2.5粒子を転写した。
シリコンウエハー表面を光学顕微鏡で観察した結果を図5に示す。この顕微鏡写真より、50μm×50μm間に400個程度のPM2.5粒子の採取が確認された。さらに上記観察した場所とは異なる視野で別に4視野測定を行い、計5視野の測定を行ったところ、PM2.5粒子が合計約2000粒子が測定された。
粒子毎にNa、K、ならびにNaとKの両方が含まれているものがあるが、主要成分がそれぞれどちらかで区別すると各粒子数の比は、4:1になった。すなわち、シリコンウエハー上に転写された個々の粒子を測定することによって、組成の異なる粒子を区別できた。これは、ICP−MSによる分析では得られなかった情報である。
バーチャルインパクタ法でPM2.5粒子を捕集する石英やテフロン(登録商標)製のフィルターの上に予め、シリコンウエハーを設置して粒子をサンプリングした。
その結果、光学顕微鏡で確認したところ、フィルターにはPM2.5粒子は均一に捕集されたが、シリコンウエハー上にはフィルター上と比較して極少数しか捕集されなかった。
また、SIMS装置でサンプリングを行ったシリコンウエハーを確認したところ、フィルター上に捕集した粒子のICP−MS法による元素分析値から得られた存在比と合致しない結果となり、シリコンウエハー上にはPM2.5粒子群のうち一部が選択的に捕集されていることが確認された。
インパクタ法で採取されるPM2.5粒子を捕集する板に、シリコンウエハーを採用した。その結果、分級能が下がりサイズが大きい粒子が混入してしまった。また、導入する粒子の密度を下げて分級能力が下がらない条件とした場合においても、粒子は図7のように山のような形状で採取されてしまい、シリコンウエハーへの均一サンプリングが不可能であった。
2:PM2.5粒子群(PM2.5サンプル、試料粒子)
3:集束イオンビーム照射器
4:電子ビーム照射器
5:質量分析計(分析計)
6:二次電子検出器(検出器)
7:平滑基板
8:回転機構
101:バーチャルインパクタ
102:粗捕集ポンプ
103:中間捕集ポンプ
104:最終捕集ポンプ
105:粗捕集部
106:分級部
107:フィルター
108:中間捕集部
109:分級部
110:フィルター
111:最終捕集部
112:フィルター
113:粉塵採取口
401:ノズル
402:仮想衝突面
403:対向ノズル
Claims (7)
- 大気中の微粒子を平滑基板上に捕集する方法であって、大気中の微粒子を、バーチャルインパクタ法により分級して、特定の粒径未満の粒径を有する微粒子をフィルター上に捕集し、前記フィルターに前記平滑基板を押しつけることにより、前記微粒子を前記平滑基板上に転写して捕集することを特徴とする微粒子サンプリング方法。
- 前記微粒子を前記平滑基板上に転写して捕集する際、前記平滑基板の捕集面を上に向くように前記平滑基板を配置し、前記捕集面の上方から前記フィルターの前記微粒子の採取面を下向きにして前記フィルターと前記平滑基板を重ね合わせ、その後前記フィルターを前記平滑基板に押しつけることによって転写することを特徴とする請求項1に記載の微粒子サンプリング方法。
- 前記平滑基板上に重ねた前記フィルターに、8g/cm2〜22g/cm2の圧を印加して転写することを特徴とする請求項2に記載の微粒子サンプリング方法。
- 前記平滑基板がシリコンウエハーであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の微粒子サンプリング方法。
- 前記特定の粒径が2.5μmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の微粒子サンプリング方法。
- 試料を載置する試料台と、電子ビームを照射する電子ビーム照射器と、前記電子ビームの前記試料への照射により散乱された電子を検出する検出器と、集束イオンビームを照射する集束イオンビーム照射器と、前記集束イオンビームを前記試料に照射することにより前記試料から放出される二次イオンを検出する分析計と、を備える装置を用いる微粒子分析方法であって、
請求項1〜5のいずれか一項に記載の微粒子サンプリング方法で表面上に微粒子を付着させた前記平滑基板を前記試料台に置き、
前記平滑基板上の微粒子に電子ビームを照射し、
前記電子ビームの照射により散乱された電子を前記検出器によって検出し、
検出された前記電子の結果に基づいて、前記微粒子を特定し、
前記微粒子に集束イオンビームを照射し、
前記集束イオンビームの照射により前記微粒子から放出された二次イオンを検出し、
検出された前記二次イオンの結果に基づいて、前記微粒子の成分を分析することを特徴とする微粒子分析方法。 - 前記集束イオンビームを用いて前記試料を切断加工し、切断加工面が前記集束イオンビームに対して略垂直となるように前記試料台を回転させ、前記微粒子の切断面に前記集束イオンビームを照射して前記微粒子から二次イオンを放出させ、検出した前記二次イオンの結果に基づいて、前記微粒子内部の成分および空隙を評価することを特徴とする請求項6に記載の微粒子分析方法。
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